JP3525423B2 - Reflective optical system - Google Patents

Reflective optical system

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JP3525423B2 JP26219795A JP26219795A JP3525423B2 JP 3525423 B2 JP3525423 B2 JP 3525423B2 JP 26219795 A JP26219795 A JP 26219795A JP 26219795 A JP26219795 A JP 26219795A JP 3525423 B2 JP3525423 B2 JP 3525423B2
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は反射光学系に関し、 BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] [Technical Field of the Invention The present invention relates to reflective optical systems,
特に望遠鏡やモノクロメータ等の軸外し光学系におけるオフアクシスミラーに関する。 Particularly to off-axis mirrors in telescopes and off-axis optical system such as a monochromator. 【0002】 【従来の技術】図6は、従来の望遠鏡の反射光学系の構成を概略的に示す図である。 [0002] FIG. 6 is a diagram schematically showing a configuration of a reflection optical system of a conventional telescope. 図6の反射光学系(軸外し光学系)では、遠方からの光束14が第1反射鏡15、 In the reflection optical system (off-axis optical system) of FIG. 6, the light beam 14 from the distal first reflecting mirror 15,
第2反射鏡16および第3反射鏡17によって順次反射された後、基準光軸AXの軸外に良像18を形成する。 It is successively reflected by the second reflecting mirror 16 and third reflecting mirror 17, to form a good image 18 off-axis of the reference light axis AX.
なお、第1反射鏡15および第3反射鏡17は、光学系の基準光軸AXから外れて位置決めされているので、オフアクシスミラーと呼ぶ。 The first reflecting mirror 15 and third reflecting mirror 17, because it is positioned off the reference optical axis AX of the optical system, referred to as off-axis mirror. 【0003】図7は、従来のツェルニー・ターナー・マウントの分光器の反射光学系の構成を概略的に示す図である。 [0003] Figure 7 is a diagram schematically showing a configuration of a reflection optical system of the spectrometer of conventional Czerny-Turner mount. 図7の反射光学系(軸外し光学系)では、入射スリット19を介した光21が、第1オフアクシスミラー22を介して平行光となり、分光光学素子24に入射する。 In the reflection optical system (off-axis optical system) of FIG. 7, the light 21 through the entrance slit 19, becomes parallel light through a first off-axis mirror 22, is incident on the spectral optical element 24. 分光光学素子24で分光された光は、第2オフアクシスミラー23によって反射された後、基準光軸AXの軸外に位置決めされた射出スリット20上に集光する。 Light dispersed by the spectroscopic optical element 24 is reflected by the second off-axis mirror 23 is condensed on the exit slit 20 which is positioned off-axis of the reference optical axis AX.
こうして、分光された光が射出スリット20を介して検出される。 Thus, dispersed light is detected through the exit slit 20. 【0004】図8は、オフアクシスミラーの従来の成形方法の一例を示す図である。 [0004] Figure 8 is a diagram showing an example of a conventional molding method for off-axis mirror. 図6および図7に示すように、オフアクシスミラーは、基準光軸AXから外れて位置決めされる。 As shown in FIGS. 6 and 7, the off-axis mirror is positioned off the reference optical axis AX. したがって、図8に示すように、中心軸線Oに関して全体的に回転対称なミラー母材26(図中破線で示す)から、中心軸線Oを外れた部分25(図中斜線で示す)を切り出して、オフアクシスミラーを成形するのが一般的である。 Accordingly, as shown in FIG. 8, from the center axis O generally rotationally symmetrical mirror Hahazai 26 with respect to (indicated by a broken line in the drawing), is cut out portion 25 of off-center axis O (in the figure indicated by hatching) , it is common to mold the off-axis mirror. 【0005】 【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の反射光学系におけるオフアクシスミラーは、回転対称なミラー母材から中心軸線を外れた部分を切り出して成形していた。 [0005] [SUMMARY OF THE INVENTION] As mentioned above, off-axis mirrors of a conventional reflecting optical system has been formed by cutting a portion off the center axis of the rotation symmetrical mirror matrix. したがって、このような基準軸線のない形状を有する個々のオフアクシスミラーを反射光学系の基準光軸に対してそれぞれ正確にアライメント(位置合わせ)することは、非常に困難であり多大な時間を要するという不都合があった。 Thus, the precise alignment (positioning) be respectively such reference axis reflective optics individual off-axis mirror having a shape without a line reference optical axis is very difficult time-consuming there is a disadvantage that. 【0006】また、ミラー母材の中心軸線を外れた領域において、所望の形状を有するオフアクシスミラーを正確に切り出す加工に時間がかかり、製造コストも増大するという不都合があった。 Further, in the region outside the central axis of the mirror Hahazai, it takes time to accurately cut processed off-axis mirror having a desired shape, there is a disadvantage that also increases the manufacturing cost. 本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、成形が容易なオフアクシスミラーを備え、オフアクシスミラーのアライメントを正確に行うことのできる反射光学系を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-molding with an easy off-axis mirror, and an object thereof is to provide a reflective optical system capable of performing alignment of off-axis mirrors exactly. 【0007】 【課題を解決するための手段】前記課題を解決するために、本発明においては、基準光軸の軸外に位置決めされ且つ入射光を反射するための第1オフアクシスミラーと、該第1オフアクシスミラーからの光を反射するための反射部材と、前記基準光軸の軸外に位置決めされ且つ前記反射部材からの光を反射して射出するための第2オフアクシスミラーとを備えた反射光学系において、前記第1オフアクシスミラーおよび前記第2オフアクシスミラーは、共通の基板の同一面にそれぞれ形成されていることを特徴とする反射光学系を提供する。 [0007] In order to solve the above object, according to an aspect of, the present invention, the first off-axis mirror for reflecting positioned and incident light axis of the reference optical axis, said comprising a reflecting member for reflecting light from the first off-axis mirror, and a second off-axis mirror for injection by reflecting the light from and the reflection member are positioned outside the axis of the reference optical axis in the reflecting optical system, the first off-axis mirror and the second off-axis mirrors provide a reflective optical system, characterized by being formed respectively on the same surface of the common substrate. 【0008】本発明の好ましい態様によれば、前記基板は、前記基準光軸に対してほぼ回転対称な全体形状を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, the substrate has a substantially rotationally symmetrical overall shape with respect to the reference optical axis. また、前記第1オフアクシスミラーと前記第2オフアクシスミラーとは、前記基板上において前記基準光軸に対してほぼ対称な位置に形成されていることが好ましい。 Further, wherein the first off-axis mirror and the second off-axis mirror, it is preferably formed in substantially symmetrical positions with respect to the reference optical axis in the substrate. 【0009】 【発明の実施の形態】本発明では、2つのオフアクシスミラーが共通の基板の同一面にそれぞれ形成されている。 [0009] In DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention, two off-axis mirrors are formed on the same surface of the common substrate. したがって、2つのオフアクシスミラーをミラー母材から切り出すことなく容易に一体的に成形することが可能である。 Thus, readily without cutting out the two off-axis mirror from the mirror base material can be molded integrally. また、2つのオフアクシスミラーの偏心は成形時に許容誤差内に加工されているため、2つのオフアクシスミラーを光学系の基準光軸に対してそれぞれアライメントすることなく、基板を基準光軸に対して位置決め調整するだけでよい。 Also, since the eccentricity of the two off-axis mirrors are processed within tolerance during molding, without alignment respectively of two off-axis mirror with respect to the reference light axis of the optical system, with respect to the reference light axis of the substrate it is only necessary to positioning adjustment Te. その結果、アライメントに関するパラメータを減らして、オフアクシスミラーのアライメントを正確に行うことができる。 As a result, by reducing the parameters relating to alignment, alignment can be performed off-axis mirror accurately. 【0010】なお、オフアクシスミラーのアライメントをさらに正確に行うには、基板が基準光軸に対してほぼ回転対称な全体形状を有することが望ましい。 [0010] Incidentally, the more accurately performing alignment of off-axis mirror, it is desirable to have a substantially rotationally symmetrical overall shape substrate with respect to the reference optical axis. また、さらに正確なアライメントのために、2つのオフアクシスミラーが基板上において基準光軸に対してほぼ対称な位置に形成されているのが好ましい。 Still for accurate alignment, two off-axis mirror preferably formed substantially symmetrical positions with respect to the reference optical axis on the substrate. また、オフアクシスミラーの反射面を非球面状に形成するには、非球面状の反射面を有するプラスチックミラー部材を基板上に貼り合わせてもよい。 To form a reflecting surface of the off-axis mirrors aspheric shape, a plastic mirror member having an aspherical reflecting surface may be bonded on the substrate. 【0011】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明する。 [0011] The embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. 図1は、本発明の第1実施例にかかる反射光学系の構成を概略的に示す図である。 1, the configuration of the first according to the example reflective optical system of the present invention is a diagram schematically showing. 第1実施例は、遠方の対象物を観測するための望遠鏡の対物光学系に本発明の反射光学系を適用した例である。 The first embodiment is an example of applying the reflection optical system of the present invention to an objective optical system of the telescope for observing distant objects. 【0012】図1の反射光学系では、遠方の対象物からの光束1が、基板2上に形成された第1オフアクシスミラー4に入射する。 [0012] In the reflective optical system of FIG. 1, the light beam 1 from a distant object incident on the first off-axis mirror 4 formed on the substrate 2. 第1オフアクシスミラー4で反射された光は、凸面反射鏡3で反射された後、基板2上において第1オフアクシスミラー4と同じ側の面に形成された第2オフアクシスミラー5に入射する。 The light reflected by the first off-axis mirror 4 is reflected by the convex reflecting mirror 3, enters the second off-axis mirror 5 formed on the same side as the first off-axis mirror 4 on the substrate 2 to. 第2オフアクシスミラー5によって反射された光は、基準光軸AXの軸外に良像6を形成する。 The light reflected by the second off-axis mirror 5 forms a good image 6 to the off-axis of the reference light axis AX. 【0013】基準光軸AXの軸外に良像6を形成するために、第1オフアクシスミラー4、第2オフアクシスミラー5および凸面反射鏡3の面形状の加工誤差は小さいことが望ましい。 [0013] To form a good image 6 off the axis of the reference optical axis AX, the first off-axis mirror 4, a processing error of the surface shape of the second off-axis mirror 5 and convex reflecting mirror 3 is small it is desirable. また、基準光軸AXに対する偏心も設計上許容される誤差範囲に抑える必要がある。 Further, eccentric with respect to the reference optical axis AX is also necessary to suppress the error range allowed in design. 第1の実施例においては、2つのオフアクシスミラー4および5 In the first embodiment, the two off-axis mirrors 4 and 5
を共通の基板2の同一面上に形成しており、基準光軸A The forms on a common same plane of the substrate 2, reference optical axis A
Xに対する偏心が許容設計誤差内におさまるように、2 As eccentric with respect to X falls within the allowable design error, 2
つのオフアクシスミラー4および5を加工する際に偏心も制御されている。 One off eccentric when processing axis mirror 4 and 5 have also been controlled. 【0014】このように、第1実施例では、2つのオフアクシスミラー4および5を共通の基板2の同一面にそれぞれ形成している。 [0014] Thus, in the first embodiment, it is formed respectively two off-axis mirrors 4 and 5 in a common same surface of the substrate 2. したがって、2つのオフアクシスミラー4および5を、ミラー母材から切り出すことなく容易に一体的に成形することが可能である。 Thus, the two off-axis mirrors 4 and 5, easily without cutting from the mirror base member can be integrally molded. また、基板2と基準光軸AXとの相対位置、ひいては凸面反射鏡3 Further, the substrate 2 and the relative position between the reference optical axis AX, and hence convex reflector 3
との相対位置を調整するだけで、オフアクシスミラー4 Only by adjusting the relative position of the off-axis mirror 4
および5のアライメントを正確且つ迅速に行うことができる。 And alignment can be performed for 5 accurately and quickly. 【0015】図2は、本発明の第2実施例にかかる反射光学系の構成を概略的に示す図である。 [0015] Figure 2, the configuration of the second according to an embodiment reflecting optical system of the present invention is a diagram schematically showing. 第2実施例は、 The second embodiment,
ツェルニー・ターナー・マウントの分光器の軸外し光学系に本発明の反射光学系を適用した例である。 The spectroscope off-axis optical system of Czerny Turner mount is an example of applying the reflection optical system of the present invention. 【0016】図2の反射光学系では、入射スリット7を介した光9が、基板10上に形成された第1オフアクシスミラー11に入射する。 [0016] In the reflective optical system of FIG. 2, the light 9 through the entrance slit 7 is incident on the first off-axis mirror 11 which is formed on the substrate 10. 第1オフアクシスミラー11 The first off-axis mirror 11
で反射されて平行光となった光は、分光光学素子13を介して分光された後、基板10上において第1オフアクシスミラー11と同じ側の面に形成された第2オフアクシスミラー12に入射する。 Light becomes parallel light is reflected in, after being dispersed through the spectral optical element 13, the second off-axis mirror 12 which is formed on the same side as the first off-axis mirror 11 on the substrate 10 incident. 第2オフアクシスミラー1 The second off-axis mirror 1
2によって反射された光は、基準光軸AXから外れた射出スリット8上に集光する。 The light reflected by the 2 is focused on the exit slit 8 which deviates from the reference optical axis AX. こうして、分光された光が、射出スリット8を介して検出される。 Thus, dispersed light is detected through the exit slit 8. 【0017】このように、第2実施例においても、2つのオフアクシスミラー11および12は基板10の同一面にそれぞれ形成されており、2つのオフアクシスミラーの偏心も許容誤差内に抑えている。 [0017] Thus, also in the second embodiment, the two off-axis mirrors 11 and 12 are formed respectively on the same surface of the substrate 10, also the eccentricity of the two off-axis mirror is suppressed within tolerance . したがって、2つのオフアクシスミラー11および12を、ミラー母材から切り出すことなく容易に一体的に成形することが可能である。 Thus, the two off-axis mirrors 11 and 12, easily without cutting from the mirror base member can be integrally molded. また、基板10と基準光軸AXとの相対位置、 The relative position between the substrate 10 and the reference optical axis AX,
ひいては分光光学素子13、入射スリット7および射出スリット8との相対位置を調整するだけで、オフアクシスミラー11および12のアライメントを正確且つ迅速に行うことができる。 Hence the spectral optical element 13, by merely adjusting the relative position of the entrance slit 7 and the exit slit 8, alignment can be performed off-axis mirrors 11 and 12 accurately and quickly. 【0018】図3は、第1実施例および第2実施例におけるオフアクシスミラーの形成を説明するための図である。 [0018] FIG. 3 is a diagram for explaining the formation of off-axis mirrors in the first embodiment and the second embodiment. 図3では、基板29が中心軸線Oに関してほぼ回転対称な全体形状を有する。 In Figure 3, it has a substantially rotationally symmetrical overall shape with respect to the substrate 29 is the central axis O. そして、2つのオフアクシスミラー27および28が、基板29の同一面において中心軸線Oに対してほぼ対称な位置に形成されている。 The two off-axis mirrors 27 and 28 are formed in substantially symmetrical positions with respect to the central axis O in the same plane of the substrate 29. なお、基板29上においてオフアクシスミラー27および28が形成されていない領域(図中白抜きの部分)では、迷光等の発生を避けるためにマスキングが施されている。 In off-axis mirrors 27 and 28 are not formed region (a portion of the figure outline), masking to avoid the occurrence of stray light is applied on the substrate 29. 【0019】このように、基板29が中心軸線Oに関してほぼ回転対称な全体形状を有する場合、基準光軸AX [0019] In this way, having a substantially rotationally symmetrical overall shape substrate 29 with respect to the central axis O, the reference optical axis AX
と中心軸線Oとを一致させてアライメントを行うように構成すれば、オフアクシスミラー27および28のアライメントをさらに正確且つ迅速に行うことができる。 And if it is matched with the central axis O by configuring to perform the alignment, it can be performed more accurately and quickly the alignment of off-axis mirrors 27 and 28. また、2つのオフアクシスミラー27および28の形成位置が中心軸線Oに対してほぼ対称でオフアクシスミラー27および28の偏心が許容される誤差範囲内であれば、基板29上におけるオフアクシスミラーの形成位置の誤差を最小限に抑えてアライメントをさらに正確且つ迅速に行うことができる。 The formation positions of the two off-axis mirrors 27 and 28 is within the error range eccentricity of off-axis mirrors 27 and 28 are allowed in substantially symmetrical to the central axis O, the off-axis mirror on the substrate 29 the error of the formation position can be performed more accurately and rapidly the alignment minimized. 【0020】なお、上述の各実施例において、 2つのオ [0020] In each embodiment described above, 2 Tsunoo
フアクシスミラー27の光軸と28の光軸とが同じであ The optical axis is the same der the optical axis 28 of the off-axis mirror 27
れば、 2つのオフアクシスミラーの反射面の曲率半径は必ずしも同じではなく、互いに異なっていてもよい。 Lever, the curvature of the reflecting surface of the two off-axis mirror radius is not necessarily the same, it may be different from each other. すなわち、図4に示すように、第1オフアクシスミラー4 That is, as shown in FIG. 4, the first off-axis mirror 4
1の反射面の曲率半径R1と、第2オフアクシスミラー42の反射面の曲率半径R2とが異なっていてもよい。 The curvature radius R1 of the reflecting surface of the 1, may be different from the curvature radius R2 of the reflecting surface of the second off-axis mirror 42.
また、図4に示すように、第1オフアクシスミラー41 Further, as shown in FIG. 4, the first off-axis mirror 41
の頂点と第2オフアクシスミラー42の頂点とは一致していなくてもよい。 Vertices and vertices of the second off-axis mirrors 42 and may not match. 【0021】また、上述の各実施例において、オフアクシスミラーの反射面は必ずしも球面状ではなく、非球面状であってもよい。 Further, in the above-described embodiments, the reflecting surface of the off-axis mirrors are not necessarily spherical, but may be non-spherical. すなわち、図5に示すように、たとえば基板51上に形成された第1オフアクシスミラー5 That is, as shown in FIG. 5, for example, the first off-axis mirror 5 formed on the substrate 51
2の反射面は球面状で、第2オフアクシスミラー53の反射面が非球面状であってもよいし、第1オフアクシスミラー52および第2オフアクシスミラー53の反射面が双方とも非球面状であってもよい。 The reflecting surface 2 is spherical, to the reflecting surface of the second off-axis mirror 53 may be non-spherical, non-spherical reflecting surface both of the first off-axis mirror 52 and a second off-axis mirror 53 it may be Jo. 【0022】この場合、高精度な反射面が要求される場合には、基板としてガラス材料を選択し、たとえばNC [0022] In this case, when high precision reflective surface is required, select a glass material as a substrate, for example, NC
研削、スモールツール研磨等の使用により、それぞれの反射面を成形することが可能である。 Grinding, the use of small tools such as polishing, it is possible to mold the respective reflecting surfaces. また、反射面の面精度が厳しくない場合には、加工の容易性からプラスチック材料を選択し、プラスチック基板の圧縮成形や射出成形等によってオフアクシスミラー52および53を形成することもできる。 Further, when the surface accuracy of the reflecting surface is less strict, select a plastic material from the ease of processing, it is possible to form the off-axis mirrors 52 and 53 by compression molding or injection molding of a plastic substrate. あるいは、ガラス基板を選択し、 Alternatively, select the glass substrate,
予め成形されたプラスチックミラー部材54をカラス基板51に貼り合わせて加工してもよい。 The plastic mirror member 54 which is preformed may be processed by bonding the crow substrate 51. 【0023】さらに、上述の各実施例において、望遠鏡や分光器の反射光学系に本発明を適用した例を示している。 Furthermore, in the above-described embodiments, an example of applying the present invention to the reflective optical system of the telescope and the spectrometer. しかしながら、入射光を反射するための第1オフアクシスミラーと、第1オフアクシスミラーからの光を反射するための反射部材と、反射部材からの光を反射して射出するための第2オフアクシスミラーとを備えた一般系な反射光学系に対して、本発明を適用することができる。 However, the first off-axis mirror for reflecting incident light, a reflecting member for reflecting light from the first off-axis mirror, the second off-axis to the exit by reflecting light from the reflecting member for general system reflective optical system that includes a mirror, it is possible to apply the present invention. 【0024】 【効果】以上説明したように、本発明の反射光学系では、2つのオフアクシスミラーを共通の基板上に形成しているので、 2つのオフアクシスミラー同士が2つのオ [0024] As described, according to above, in the reflective optical system of the present invention, since the form of two off-axis mirror on a common substrate, the two off-axis mirror each other 2 Tsunoo
フアクシスミラーに共通の基準光軸に関して非同一形状 Non-identical shape with respect to a common reference light axis off-axis mirror
な面であっても、オフアクシスミラーの成形が容易であり、光学系の基準光軸に対する基板の位置調整をするだけでオフアクシスミラーのアライメントを正確且つ迅速に行うことができる。 Even a surface is easily molded off-axis mirror, it is possible to perform the alignment of the off-axis mirror accurately and quickly by simply adjusting the position of the substrate with respect to the reference light axis of the optical system.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の第1実施例にかかる反射光学系の構成を概略的に示す図である。 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [Figure 1] Configuration of the first according to the example reflective optical system of the present invention is a diagram schematically showing. 【図2】本発明の第2実施例にかかる反射光学系の構成を概略的に示す図である。 [2] The configuration of the second according to an embodiment reflecting optical system of the present invention is a diagram schematically showing. 【図3】第1実施例および第2実施例におけるオフアクシスミラーの形成を説明するための図である。 3 is a diagram for explaining the formation of off-axis mirrors in the first embodiment and the second embodiment. 【図4】第1オフアクシスミラーの反射面の曲率半径と、第2オフアクシスミラーの反射面の曲率半径とが異なる場合を示す図である。 [Figure 4] and the radius of curvature of the reflection surface of the first off-axis mirror, and the radius of curvature of the reflecting surface of the second off-axis mirror is a diagram showing a case different. 【図5】基板上に形成された一方のオフアクシスミラーの反射面が非球面状である場合の形成方法を示す図である。 [5] the reflective surface of one of the off-axis mirror formed on the substrate is a diagram showing a method of forming the case is a non-spherical shape. 【図6】従来の望遠鏡の反射光学系の構成を概略的に示す図である。 6 is a diagram schematically showing a configuration of a reflection optical system of a conventional telescope. 【図7】従来のツェルニー・ターナー・マウントの分光器の反射光学系の構成を概略的に示す図である。 7 is a diagram schematically showing a configuration of a reflection optical system of the spectrometer of conventional Czerny-Turner mount. 【図8】オフアクシスミラーの従来の成形方法の一例を示す図である。 8 is a diagram showing an example of a conventional molding method for off-axis mirror. 【符号の説明】 2,10 基板4,11 第1オフアクシスミラー5,12 第2オフアクシスミラー3 凸面反射鏡6 像7 入射スリット8 射出スリット13 分光光学素子AX 基準光軸 [EXPLANATION OF SYMBOLS] 2,10 substrate 4,11 first off-axis mirror 5,12 second off-axis mirror 3 convex reflector 6 image 7 entrance slit 8 exit slit 13 spectroscopic optical element AX reference optical axis

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) G02B 9/00 - 17/08 G02B 21/02 - 21/04 G02B 25/00 - 25/04 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (58) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) G02B 9/00 - 17/08 G02B 21/02 - 21/04 G02B 25/00 - 25/04

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 基準光軸の軸外に位置決めされ且つ入射光を反射するための第1オフアクシスミラーと、該第1 (57) Patent Claims 1. A first off-axis mirror for reflecting positioned and incident light axis of the reference optical axis, said first
    オフアクシスミラーからの光を反射するための反射部材と、前記基準光軸の軸外に位置決めされ且つ前記反射部材からの光を反射して射出するための第2オフアクシスミラーとを備えた反射光学系において、 前記第1オフアクシスミラーおよび前記第2オフアクシスミラーは、共通の基板の同一面にそれぞれ形成され 前記第1オフアクシスミラーと前記第2オフアクシスミ Reflection with off a reflecting member for reflecting light from the axis mirror, and a second off-axis mirror for injection by reflecting the light from and the reflection member are positioned outside the axis of the reference optical axis in the optical system, the first off-axis mirror and the second off-axis mirrors are formed respectively on the same surface of the common substrate, wherein the first off-axis mirror second Ofuakushisumi
    ラーはそれぞれ前記基準光軸に対して回転対称となる球 Ra is the respective rotational symmetry with respect to the reference optical axis spheres
    面の一部であって、前記基準光軸に対して回転対称な同 A part of the surface, rotationally symmetric same with respect to said reference optical axis
    一球面上にない ことを特徴とする反射光学系。 Reflective optical system, wherein no on one sphere. 【請求項2】 基準光軸の軸外に位置決めされ且つ入射 2. A is positioned off-axis of the reference optical axis and incident
    光を反射するための第1オフアクシスミラーと、該第1 A first off-axis mirror for reflecting light, said first
    オフアクシスミラーからの光を反射するための反射部材 Reflecting member for reflecting the light from off-axis mirror
    と、前記基準光軸の軸外に位置決めされ且つ前記反射部 When it is positioned off-axis of the reference optical axis and the reflective portion
    材からの光を反射して射出するための第2オフアクシス The second off-axis for injection to reflect light from wood
    ミラーとを備えた反射光学系において、 前記第1オフアクシスミラーおよび前記第2オフアクシ In the reflection optical system and a mirror, wherein the first off-axis mirror and said second Ofuakushi
    スミラーは、共通の基板の同一面にそれぞれ形成され、 前記第1オフアクシスミラーと前記第2オフアクシスミ Sumira are formed respectively on the same surface of the common substrate, the said first off-axis mirror second Ofuakushisumi
    ラーはそれぞれ前記基準光軸に対して回転対称となる非 Ra is the respective rotational symmetry with respect to the reference optical axis non
    球面の一部であって、前記基準光軸に対して回転対称な A part of a spherical surface, a rotationally symmetric with respect to the reference optical axis
    同一非球面上にないことを特徴とする反射光学系。 Reflecting optical system, characterized in that not on the same aspherical. 【請求項3】 前記オフアクシスミラー形成前の前記基 Wherein the off-axis mirror formed before the group
    板は、前記基準光軸に対してほぼ回転対称な全体形状を Plate, a substantially rotationally symmetrical overall shape with respect to the reference optical axis
    有することを特徴とする請求項1または2に記載の反射光学系。 Reflective optical system according to claim 1 or 2, characterized in that it has. 【請求項4】 前記第1オフアクシスミラーと前記第2 Wherein said the first off-axis mirror second
    オフアクシスミラーとは、前記基板上において前記基準 Off the axis mirror, the reference in the substrate
    光軸に対してほぼ対称な位置に形成されていることを特 Japanese that are formed in substantially symmetrical positions with respect to the optical axis
    徴とする請求項3に記載の反射光学系。 Reflective optical system according to claim 3, symptoms. 【請求項5】 前記第1オフアクシスミラーおよび前記第2オフアクシスミラーのうち少なくとも一方は、非球面状の反射面を有するプラスチックミラー部材を前記基 Wherein said at least one of the first off-axis mirror and the second off-axis mirror, the base plastic mirror member having an aspherical reflecting surface
    板上に貼り合わせて形成されていることを特徴とする請 請, characterized in that it is formed by bonding on a plate
    求項2に記載の反射光学系。 Reflective optical system according to Motomeko 2.
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