JP3510869B2 - Phenolic polymer, its production method and its use - Google Patents

Phenolic polymer, its production method and its use

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JP3510869B2 JP2001257744A JP2001257744A JP3510869B2 JP 3510869 B2 JP3510869 B2 JP 3510869B2 JP 2001257744 A JP2001257744 A JP 2001257744A JP 2001257744 A JP2001257744 A JP 2001257744A JP 3510869 B2 JP3510869 B2 JP 3510869B2
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、成形材、各種バイ
ンダー、コーティング材、積層材などに有用な新規フェ
ノール系重合体、その製造方法及びそれをエポキシ樹脂
硬化剤として用いた組成物ないしはその硬化物に関す
る。特には、エポキシ樹脂系半導体封止材における硬化
剤として有用な、低吸水性、低弾性率、低溶融粘度を兼
ね備えたフェノール系重合体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel phenolic polymer useful as a molding material, various binders, coating materials, laminated materials, etc., a method for producing the same, and a composition using the same as an epoxy resin curing agent or curing thereof. Regarding things. In particular, it relates to a phenolic polymer having low water absorption, low elastic modulus and low melt viscosity, which is useful as a curing agent in an epoxy resin type semiconductor encapsulating material.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の封止方法としては、経済性、生
産性、物性のバランスからエポキシ樹脂による樹脂封止
が一般的に使用されており、中でもオルソクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂とフェノールノボラック硬化剤
とシリカなどの無機充填材とからなる樹脂封止が広く使
用されてきた。しかし近年、LSIチップの大型化、パ
ッケージの薄型化/小型化、実装方式の変更などに伴
い、封止材に対する要求性能が大きく変わってきてお
り、従来のエポキシ樹脂封止材料では、耐湿性、耐熱
性、信頼性などの点で充分な対応が難しくなってきてい
る。例えば、半田付け時の熱処理時に、吸湿水分の急激
な気化膨張に伴うパッケージのクラックや剥離の発生が
問題になっている。
2. Description of the Related Art As a semiconductor encapsulation method, resin encapsulation with an epoxy resin is generally used from the viewpoint of economical efficiency, productivity and physical properties. Among them, orthocresol novolac type epoxy resin and phenol novolac curing agent are used. Resin encapsulations consisting of and an inorganic filler such as silica have been widely used. However, in recent years, the required performance of the encapsulant has changed significantly with the increase in the size of the LSI chip, the thinner / smaller package, and the change in the mounting method. It is becoming difficult to adequately respond in terms of heat resistance and reliability. For example, during heat treatment during soldering, cracking or peeling of the package due to rapid vaporization and expansion of moisture absorption becomes a problem.

【0003】このため吸湿性が低く、半田付け温度にお
ける弾性率が低いエポキシ樹脂や硬化剤の開発が望まれ
ている。このような要望に対して、硬化剤としてフェノ
ールアラルキル樹脂(特公昭47−13782号、特公
昭47−15111号など)を用いる方法が実用化され
ている。フェノールアラルキル樹脂は、フェノール化合
物をハロメチル基やアルコキシメチル基、ヒドロキシメ
チル基などを2個有する芳香族化合物と反応させること
によって得られるもので、OH基濃度が低下する効果で
低吸水化や熱時低弾性化を図るものであり、それなりの
効果は認められるが、未だ充分なものではなかった。
Therefore, it is desired to develop an epoxy resin or a curing agent which has a low hygroscopic property and a low elastic modulus at the soldering temperature. In response to such a demand, a method using a phenol aralkyl resin (Japanese Patent Publication No. 47-13782, Japanese Patent Publication No. 47-15111, etc.) as a curing agent has been put into practical use. Phenol aralkyl resin is obtained by reacting a phenol compound with an aromatic compound having two halomethyl groups, alkoxymethyl groups, hydroxymethyl groups, etc., and has the effect of lowering the OH group concentration, resulting in low water absorption and heat. It was intended to lower the elasticity, and some effects were recognized, but it was not yet sufficient.

【0004】最近、アルコキシメチル基を2個以上有す
る芳香族化合物としてビス(メトキシメチルビフェニ
ル)を用いたタイプのフェノールビフェニルアラルキル
樹脂が提案されており(特許第3122834号な
ど)、ある程度の改善はなされているが、この場合も充
分満足すべきものとは言えなかった。とくに大型、薄型
のパッケージの場合、鉛フリー半田対応で、半田付け温
度の上昇が避けられない状況では、さらなる低吸水化や
低弾性率化の材料が求められた。
Recently, a phenol biphenyl aralkyl resin of a type using bis (methoxymethyl biphenyl) as an aromatic compound having two or more alkoxymethyl groups has been proposed (Japanese Patent No. 3122834 etc.), and some improvement has been made. However, even in this case, it cannot be said to be sufficiently satisfactory. Particularly in the case of large and thin packages, materials that can support lead-free solder and have a lower water absorption and a lower elastic modulus are required in the situation where an increase in soldering temperature cannot be avoided.

【0005】このような状況の中で、ナフトールなど多
環芳香族化合物の利用なども提案されているが(特開平
9−176262号)、溶融粘度の上昇のためフェノー
ルを過剰に使用することが必須となっており、必ずしも
充分な改善が得られていない状況である。
Under these circumstances, it has been proposed to use polycyclic aromatic compounds such as naphthol (Japanese Patent Laid-Open No. 9-176262), but it is possible to use phenol excessively in order to increase the melt viscosity. It is indispensable and is not necessarily a sufficient improvement.

【0006】その他にも、ナフトールアラルキル樹脂や
石油ピッチをフェノールと共にホルムアルデヒドと共重
合したもの、ジビニルベンゼンとフェノールの付加反応
物、ジシクロペンタジエンとフェノールの付加反応物な
どが提案されているが、目標とする特性を満足するまで
には至っていない。
In addition to these, naphthol aralkyl resin and petroleum pitch copolymerized with formaldehyde together with phenol, addition reaction product of divinylbenzene and phenol, addition reaction product of dicyclopentadiene and phenol, etc. are proposed. It has not reached the point of satisfying the characteristics.

【0007】さらに特定のポリフェノール類をベンジル
化したものも提案されており(特開平8−120039
号)、耐熱性、低吸水性、機械的強度等に優れるエポキ
シ樹脂組成物が得られることが開示されているが、とく
に好ましいとされているフェノール骨格がメチレン基又
はチオエーテル結合で連結されたポリフェノール類をベ
ンジル化したものは、低吸水化や低弾性率化が不足して
おり、鉛フリー半田対応材としては全く不充分である。
Further, benzylated products of specific polyphenols have also been proposed (JP-A-8-120039).
No.), it is disclosed that an epoxy resin composition excellent in heat resistance, low water absorption, mechanical strength, etc. can be obtained, but a polyphenol in which a phenol skeleton, which is said to be particularly preferable, is linked by a methylene group or a thioether bond is disclosed. The benzylated products lack water absorption and elastic modulus, and are completely unsatisfactory as lead-free solder compatible materials.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、半導体封止用エポキシ樹脂硬化系において、硬化剤
として使用した場合に低粘度、低吸水で低弾性化を達成
できるような新規なフェノール系重合体を提供すること
にある。本発明の他の目的は、このようなフェノール系
重合体を効率よく製造する方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、このようなフェノール系重
合体のエポキシ樹脂硬化剤としての使用、及びエポキシ
樹脂に配合した硬化性組成物ならびにその硬化物を提供
することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a novel phenol capable of achieving low viscosity, low water absorption and low elasticity when used as a curing agent in an epoxy resin curing system for semiconductor encapsulation. The purpose is to provide a polymer. Another object of the present invention is to provide a method for efficiently producing such a phenolic polymer.
Still another object of the present invention is to provide use of such a phenolic polymer as an epoxy resin curing agent, and a curable composition blended with an epoxy resin and a cured product thereof.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下記
一般式(1)で表されるフェノール系重合体に関する。
That is, the present invention relates to a phenolic polymer represented by the following general formula (1).

【化8】 (式中、Arはアリール基、R、Rは、それぞれ水
素又はメチル基、R、R、Rはそれぞれ水素又は
炭素数1〜4のアルキル基、a、b、cは、0≦a≦
2、0≦b≦2、1≦c≦5で、(a+bc)/(1+
c)が0.2〜1.5の範囲にあり、c個のbは互いに
同一又は異なるものである。)
[Chemical 8] (In the formula, Ar is an aryl group, R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, R 3 , R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b and c are: 0 ≦ a ≦
2, 0 ≦ b ≦ 2, 1 ≦ c ≦ 5, (a + bc) / (1+
c) is in the range of 0.2 to 1.5, and c b's are the same or different from each other. )

【0010】本発明はまた、下記一般式(2)で示され
るフェノールビフェニルアラルキル樹脂と一般式(3)
で示されるベンジル化合物類を、酸触媒の存在下で反応
させることを特徴とする上記式(1)で示されるフェノ
ール系重合体の製造方法に関する。
The present invention also provides a phenol biphenylaralkyl resin represented by the following general formula (2) and a general formula (3).
The present invention relates to a method for producing a phenolic polymer represented by the above formula (1), which comprises reacting the benzyl compound represented by the formula (1) in the presence of an acid catalyst.

【化9】 (式中、R、R、Rはそれぞれ水素又は炭素数1
〜4のアルキル基、cは1≦c≦5)
[Chemical 9] (In the formula, R 3 , R 4 and R 5 are each hydrogen or carbon 1
To 4 alkyl groups, c is 1 ≦ c ≦ 5)

【化10】 (式中、Arはアリール基、R、Rは、それぞれ水
素又はメチル基、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキ
ル基)
[Chemical 10] (In the formula, Ar is an aryl group, R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and R 6 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)

【0011】本発明はまた、上記一般式(2)で示され
るフェノールビフェニルアラルキル樹脂と一般式(4)
で示されるベンジルハライド類を、水の存在下で反応さ
せることを特徴とする上記一般式(1)で示されるフェ
ノール系重合体の製造方法に関する。
The present invention also provides a phenol biphenylaralkyl resin represented by the above general formula (2) and the general formula (4).
The present invention relates to a method for producing a phenolic polymer represented by the above general formula (1), which comprises reacting a benzyl halide represented by the formula (1) in the presence of water.

【化11】 (式中、Arはアリール基、R、Rは、それぞれ水
素又はメチル基、Xは、Cl,Br又はI)
[Chemical 11] (In the formula, Ar is an aryl group, R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and X is Cl, Br or I).

【0012】上記一般式(2)で示されるフェノールビ
フェニルアラルキル樹脂は、一般式(5)で示されるビ
フェニル化合物と一般式(6)で示されるフェノール類
を酸触媒の存在下で反応させて得ることができるし、一
般式(7)で示されるジハロメチルビフェニル化合物と
一般式(6)で示されるフェノール類を水の存在下で反
応させることによっても得ることができる。
The phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) is obtained by reacting the biphenyl compound represented by the general formula (5) with the phenol represented by the general formula (6) in the presence of an acid catalyst. It can also be obtained by reacting the dihalomethylbiphenyl compound represented by the general formula (7) with the phenol represented by the general formula (6) in the presence of water.

【化12】 (式中、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、
、Rはそれぞれ水素又は炭素数1〜4のアルキル
基)
[Chemical 12] (In the formula, R is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)

【化13】 (式中、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基)[Chemical 13] (In the formula, R 3 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)

【化14】 (式中、Xは、Cl,Br又はI、R、Rはそれぞ
れ水素又は炭素数1〜4のアルキル基)
[Chemical 14] (In the formula, X is Cl, Br or I, R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)

【0013】本発明はまた、上記一般式(1)のフェノ
ール系重合体からなるエポキシ樹脂用硬化剤及び上記一
般式(1)のフェノール系重合体とエポキシ樹脂を含有
するエポキシ樹脂組成物、さらにはこれを硬化してなる
エポキシ樹脂硬化物に関する。
The present invention also provides a curing agent for an epoxy resin comprising a phenolic polymer of the above general formula (1) and an epoxy resin composition containing the phenolic polymer of the above general formula (1) and an epoxy resin. Relates to a cured epoxy resin obtained by curing the same.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】上記一般式(1)で示されるフェ
ノール系重合体において、Arはアリール基であり、例
えばフェニル、ナフチル、ビフェニル、メチルフェニ
ル、ベンジルフェニル、メチルナフチルなどの基を例示
することができる。またR、Rはそれぞれ水素又は
メチル基であり、好ましくは両者が水素の場合である。
さらにR ,R,Rはそれぞれ水素又は炭素数1〜
4のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピ
ル、n−プロピル、イソブチル、nーブチル、t−ブチ
ルなどのアルキル基である。また一般式(1)における
ビフェニル骨格部の重合単位としては、4,4’−型、
2,4'−型、2,2’−型など種々のものがあるが、
とくに4,4’−型のものが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
In the case of a nor polymer, Ar is an aryl group.
For example, phenyl, naphthyl, biphenyl, methylpheni.
Examples of groups such as benzyl, benzylphenyl, and methylnaphthyl
can do. Also R1, RTwoAre hydrogen or
It is a methyl group, and preferably both are hydrogen.
Furthermore R Three, RFour, R5Are hydrogen or 1 to 1 carbon atoms, respectively.
4 alkyl groups such as methyl, ethyl, isopropyl
, N-propyl, isobutyl, n-butyl, t-butyl
An alkyl group such as ru. In general formula (1)
As the polymerized units of the biphenyl skeleton, 4,4'-type,
There are various types such as 2,4'-type and 2,2'-type.
Particularly, 4,4'-type is preferable.

【0015】またcは1≦c≦5、好ましくは1≦c≦
4を満足する。この式の意味は、フェノール系重合体が
単一重合度のものであれば、cが5以下の整数であるこ
とを意味するが、フェノール系重合体が異なる重合度の
ものの混合物である場合、すなわちcが複数種のものの
混合物である場合は、その平均値が1〜5の値であるこ
とを意味しており、平均値がこの範囲となる限り部分的
にcが6以上、例えば6〜10のものが混合されていて
もよい。一般にはフェノール系重合体として重合度の異
なる混合物である場合の方が製造が容易で、しかも低溶
融粘度になるので好ましい。
Further, c is 1≤c≤5, preferably 1≤c≤.
4 is satisfied. The meaning of this formula means that c is an integer of 5 or less if the phenolic polymer has a single degree of polymerization, but when the phenolic polymer is a mixture of different degrees of polymerization, That is, when c is a mixture of a plurality of kinds, it means that the average value is a value of 1 to 5, and as long as the average value falls within this range, c is partially 6 or more, for example 6 to. The thing of 10 may be mixed. In general, a mixture of phenolic polymers having different degrees of polymerization is preferable because it is easier to produce and has a low melt viscosity.

【0016】上記一般式においてはまた、a及びbは、
それぞれ0≦a≦2及び0≦b≦2であって、(a+b
c)/(1+c)が0.2〜1.5、好ましくは0.4
〜1.2の範囲にあり、またc個のbは互いに同一又は
異なるものである。b個のベンジル基は、cが1より大
きい場合は、末端のフェノール骨格に結合しているもの
と分子鎖中のフェノール骨格に結合しているものがある
が、末端のフェノール骨格に結合しているものの方が平
均的に数が多いものと考えられる。
Also in the above general formula, a and b are
0 ≦ a ≦ 2 and 0 ≦ b ≦ 2, respectively, and (a + b
c) / (1 + c) is 0.2 to 1.5, preferably 0.4
Is in the range of 1.2, and the c b's are the same or different from each other. When c is larger than 1, some of the b benzyl groups are bound to the terminal phenol skeleton and some are bound to the phenol skeleton in the molecular chain. It is considered that there are more people on average.

【0017】上記一般式において、cが5より大きいフ
ェノール系重合体を使用すると溶融粘度が高くなり、成
形性を損なう傾向となるので、cが5以下となるような
上記範囲であることが好ましい。また(a+bc)/
(1+c)の値が上記範囲より小さいものは、吸水率の
低下及び半田付け温度域での弾性率の低下が充分でな
く、またその値が大きくなりすぎるとエポキシ樹脂の硬
化剤として使用するときに、硬化速度が遅くなり好まし
くない。
In the above general formula, when a phenolic polymer having a value of c larger than 5 is used, the melt viscosity tends to be high and the moldability tends to be impaired. Therefore, the range is preferably such that c is 5 or less. . Also (a + bc) /
When the value of (1 + c) is smaller than the above range, the water absorption rate and the elastic modulus in the soldering temperature range are not sufficiently reduced, and when the value becomes too large, the epoxy resin may be used as a curing agent. Moreover, the curing speed becomes slow, which is not preferable.

【0018】これらa、b、cの値によって決定される
べきものであるが、上記フェノール系重合体としてはま
た、150℃における溶融粘度が700mPa・s以
下、好ましくは500mPa・s以上の範囲にあり、ま
た水酸基価が220〜350g/eq、とくに230〜
330g/eqの範囲にあることが好ましい。
Although it should be determined by the values of a, b and c, the above-mentioned phenolic polymer also has a melt viscosity at 150 ° C. of 700 mPa · s or less, preferably 500 mPa · s or more. And a hydroxyl value of 220 to 350 g / eq, especially 230 to
It is preferably in the range of 330 g / eq.

【0019】上記フェノール系重合体の代表的なもの
は、一般式(1)におけるR、R、R、R、R
がそれぞれ水素であり、Arがフェニル基であり、ビ
フェニル骨格の重合単位が4,4’−型である一般式
(8)で示されるものを挙げることができる。
Typical examples of the above-mentioned phenolic polymer include R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R in the general formula (1).
5 is hydrogen, Ar is a phenyl group, and the polymer unit of the biphenyl skeleton is 4,4′-type, which is represented by the general formula (8).

【化15】 [Chemical 15]

【0020】このようなフェノール系重合体は、マスス
ペクトル分析(MS)、プロトンNMR(H−NM
R)、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)、水酸基
当量等により同定することができる。図1は実施例1で
得られ、上記(8)式によって示すことができるフェノ
ール系重合体のマススペクトルチャートである。マスス
ペクトルの分子量ピークと(8)式のc及びa+bcの
関係を表1に示す。
Such a phenolic polymer can be analyzed by mass spectrum analysis (MS), proton NMR (H-NM).
R), gel permeation chromatography (GPC), hydroxyl equivalent and the like. FIG. 1 is a mass spectrum chart of the phenolic polymer obtained in Example 1 and represented by the above formula (8). Table 1 shows the relationship between the molecular weight peak of the mass spectrum and c and a + bc in the formula (8).

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】図2は上記フェノール系重合体のプロトン
NMRのチャートであり、芳香族(フェノール核、ビフ
ェニル核、ベンジル基由来のフェニル核)が6.5〜
7.6ppm、メチレンが3.6〜4.1ppm、OH
基が8.2〜9.5ppmに検出され、フェノールがベ
ンジル基及びメチレン結合を介してビフェニル基と連結
された構造であることが判る。
FIG. 2 is a proton NMR chart of the above-mentioned phenolic polymer, in which aromatics (phenol nucleus, biphenyl nucleus, phenyl nucleus derived from benzyl group) are 6.5 to 5.
7.6 ppm, methylene 3.6-4.1 ppm, OH
A group was detected at 8.2 to 9.5 ppm, which shows that phenol has a structure in which it is linked to a biphenyl group through a benzyl group and a methylene bond.

【0023】図3は上記フェノール系重合体のGPCチ
ャートであり、図4はその原料であり、一般式(2)に
おいてR、R、Rがそれぞれ水素であり、ビフェ
ニル骨格部の重合単位が4,4’−型である次式(9)
で示されるフェノールビフェニルアラルキル樹脂のGP
Cチャートである。
FIG. 3 is a GPC chart of the above-mentioned phenolic polymer, and FIG. 4 is a raw material thereof, and in the general formula (2), R 3 , R 4 and R 5 are each hydrogen, and the polymerization of the biphenyl skeleton portion is carried out. The following formula (9) whose unit is 4,4′-type
GP of phenol biphenyl aralkyl resin represented by
It is a C chart.

【化16】 [Chemical 16]

【0024】図3と図4の対比から明らかなように、上
記フェノール系重合体は分子量分布を有しており、ベン
ジル化によって分子量が大きくなったこと、ベンジル化
されたことにより、フェノール核へベンジル基が置換す
る数の分布(ばらつき)によって、ピークがさらに増え
たことが判る。
As is clear from the comparison between FIG. 3 and FIG. 4, the above-mentioned phenolic polymer has a molecular weight distribution, and the benzylation increases the molecular weight, and the benzylation leads to the formation of a phenol nucleus. It can be seen that the number of peaks increased further due to the distribution (variation) of the number of benzyl groups substituted.

【0025】さらにフェノール系重合体のOH基を過剰
の無水酢酸でアセチル化し、その時に消費された無水酢
酸を定量することによって求められる水酸基当量303
g/eqという値は、一般式(8)においてc=2.
0、(a+bc)/(1+c)=1.0の場合の水酸基
当量(計算値)と極めてよい一致をする。
Further, the hydroxyl equivalent of 303 is obtained by acetylating the OH group of the phenolic polymer with an excess of acetic anhydride and quantifying the acetic anhydride consumed at that time.
In the general formula (8), the value of g / eq is c = 2.
It is in very good agreement with the hydroxyl group equivalent (calculated value) in the case of 0 and (a + bc) / (1 + c) = 1.0.

【0026】以上のことから、このフェノール系重合体
が、一般式(8)で示される構造を有するものであると
結論づけることができる。
From the above, it can be concluded that the phenolic polymer has a structure represented by the general formula (8).

【0027】上記一般式(1)で示されるフェノール系
重合体は、以下の方法によって効率的に製造することが
できる。第1の方法は、一般式(2)で示されるフェノ
ールビフェニルアラルキル樹脂と一般式(3)で示され
るベンジル化合物類を酸触媒の存在下で反応させること
によって得ることができる。
The phenolic polymer represented by the above general formula (1) can be efficiently produced by the following method. The first method can be obtained by reacting a phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) with a benzyl compound represented by the general formula (3) in the presence of an acid catalyst.

【0028】フェノールビフェニルアラルキル樹脂の一
般式(2)において、R,R,Rはそれぞれ水素
又は炭素数1〜4のアルキル基、例えばメチル、エチ
ル、イソプロピル、n−プロピル、イソブチル、nーブ
チル、t−ブチルなどのアルキル基である。またcは、
1≦c≦5、好ましくは1≦c≦4を満足する。この式
の意味は、フェノールビフェニルアラルキル樹脂が単一
重合度のものであれば、cが5以下の整数であることを
意味するが、フェノールビフェニルアラルキル樹脂が異
なる重合度のものの混合物である場合、すなわちcが複
数種のものの混合物である場合は、その平均値が1〜5
の値であることを意味しており、平均値がこの範囲にあ
る限り部分的にcが6以上、例えば6〜10のものが混
合されていてもよい。
In the general formula (2) of the phenolbiphenylaralkyl resin, R 3 , R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, isobutyl and n. Alkyl groups such as butyl and t-butyl. Also, c is
It satisfies 1 ≦ c ≦ 5, preferably 1 ≦ c ≦ 4. The meaning of this formula is that if the phenol biphenyl aralkyl resin is of a single degree of polymerization, c is an integer of 5 or less, but when the phenol biphenyl aralkyl resin is a mixture of different degrees of polymerization, That is, when c is a mixture of plural kinds, the average value is 1 to 5
It means that the average value is within this range, and partially c may be 6 or more, for example, 6 to 10 may be mixed.

【0029】また一般式(3)において、Arはアリー
ル基であり、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル、
メチルフェニル、ベンジルフェニル、メチルナフチルな
どの基を例示することができる。またR、Rはそれ
ぞれ水素又はメチル基であり、好ましくは両者が水素の
場合である。またRは、水素又は炭素数1〜4のアル
キル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プ
ロピル、イソブチル、nーブチル、t−ブチルなどのア
ルキル基である。一般式(3)で示されるベンジル化合
物類として具体的には、ベンジルアルコール、o−メチ
ルベンジルアルコール、m−メチルベンジルアルコー
ル、p−メチルベンジルアルコール、p−エチルベンジ
ルアルコール、p−イソプロピルベンジルアルコール、
p−t−ブチルベンジルアルコール、p−シクロヘキシ
ルベンジルアルコール、p−フェニルベンジルアルコー
ル、2−ナフチルカルビノール、7−メチル−2−ナフ
チルカルビノール及びこれらの核置換異性体、α−メチ
ルベンジルアルコール、α,α−ジメチルベンジルアル
コール、ベンジルメチルエーテル、o−メチルベンジル
メチルエーテル、m−メチルベンジルメチルエーテル、
p−メチルベンジルメチルエーテル、p−エチルベンジ
ルメチルエーテル及びこれらの核置換異性体、ベンジル
エチルエーテル、ベンジルイソプロピルエーテル、ベン
ジルn−プロピルエーテル、ベンジルイソブチルエーテ
ル、ベンジルn−ブチルエーテル、p−メチルベンジル
メチルエーテル及びその核置換異性体などを挙げること
ができる。
In the general formula (3), Ar is an aryl group, for example, phenyl, naphthyl, biphenyl,
Examples thereof include groups such as methylphenyl, benzylphenyl and methylnaphthyl. R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and preferably both are hydrogen. R 6 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, an alkyl group such as methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, isobutyl, n-butyl and t-butyl. Specific examples of the benzyl compound represented by the general formula (3) include benzyl alcohol, o-methylbenzyl alcohol, m-methylbenzyl alcohol, p-methylbenzyl alcohol, p-ethylbenzyl alcohol, p-isopropylbenzyl alcohol,
pt-butylbenzyl alcohol, p-cyclohexylbenzyl alcohol, p-phenylbenzyl alcohol, 2-naphthylcarbinol, 7-methyl-2-naphthylcarbinol and their nuclear substitution isomers, α-methylbenzyl alcohol, α , α-dimethylbenzyl alcohol, benzyl methyl ether, o-methylbenzyl methyl ether, m-methylbenzyl methyl ether,
p-Methylbenzyl methyl ether, p-ethylbenzyl methyl ether and their nuclear substitution isomers, benzyl ethyl ether, benzyl isopropyl ether, benzyl n-propyl ether, benzyl isobutyl ether, benzyl n-butyl ether, p-methyl benzyl methyl ether And nuclear substitution isomers thereof.

【0030】上記反応において使用可能な酸触媒として
は、リン酸、硫酸、塩酸などの無機酸、蓚酸、ベンゼン
スルホン酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、
フルオロメタンスルホン酸などの有機酸、塩化亜鉛、塩
化第2錫、塩化第2鉄、ジエチル硫酸などのフリーデル
クラフツ触媒を、単独又は併用して用いることができ
る。
As the acid catalyst usable in the above reaction, inorganic acids such as phosphoric acid, sulfuric acid and hydrochloric acid, oxalic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid,
Organic acids such as fluoromethanesulfonic acid, and Friedel-Crafts catalysts such as zinc chloride, stannic chloride, ferric chloride, and diethylsulfate can be used alone or in combination.

【0031】上記反応は、例えば、一般式(2)で示さ
れるフェノールビフェニルアラルキル樹脂中のフェノー
ル骨格1分子当たり、一般式(3)で表されるベンジル
化合物類を0.2〜1.5分子、好ましくは0.4〜
1.2分子となる量用い、酸触媒を添加して60〜18
0℃、好ましくは70〜160℃程度の温度で1〜10
時間程度維持することによって行うのがよい。ベンジル
化合物類は一括して添加して反応を行うことができる
が、例えばフェノールビフェニルアラルキル樹脂と酸触
媒からなる系に、攪拌下でベンジル化合物類を滴下しな
がら反応を行うこともできる。反応終了後は、必要に応
じ、触媒を蒸留や洗浄など一般的な手法で除去するか、
または塩基成分により触媒を失活させたのち、反応容器
から反応生成物を取り出し、冷却することにより、所望
のフェノール系重合体を得ることができる。
In the above reaction, for example, 0.2 to 1.5 molecules of the benzyl compound represented by the general formula (3) per one molecule of the phenol skeleton in the phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) is used. , Preferably 0.4-
Use the amount of 1.2 molecules and add 60 to 18 by adding an acid catalyst.
1-10 at a temperature of 0 ° C., preferably 70-160 ° C.
It is better to do this by maintaining the time. The benzyl compounds can be added all at once to carry out the reaction, but for example, the reaction can also be carried out while the benzyl compounds are added dropwise with stirring to a system consisting of a phenol biphenylaralkyl resin and an acid catalyst. After completion of the reaction, if necessary, the catalyst may be removed by a general method such as distillation or washing, or
Alternatively, after deactivating the catalyst with the base component, the reaction product is taken out from the reaction vessel and cooled to obtain the desired phenolic polymer.

【0032】一般式(1)で示されるフェノール系重合
体を得る第2の方法は、一般式(2)で示されるフェノ
ールビフェニルアラルキル樹脂と一般式(4)で示され
るベンジルハライド類とを、水の存在下に反応させる方
法である。
The second method for obtaining the phenolic polymer represented by the general formula (1) is to prepare a phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) and a benzyl halide represented by the general formula (4). This is a method of reacting in the presence of water.

【0033】一般式(4)において、Arはアリール基
であり、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル、メチ
ルフェニル、ベンジルフェニル、メチルナフチルなどの
基を例示することができる。またR、Rはそれぞれ
水素又はメチル基であり、好ましくは両者が水素の場合
である。またXは、Cl、BrまたIである。ベンジル
ハライド類として具体的には、ベンジルクロライド、ベ
ンジルブロマイド、ベンジルアイオダイト、o−メチル
ベンジルクロライド、m−メチルベンジルクロライド、
p−メチルベンジルクロライド、p−エチルベンジルク
ロライド、p−イソプロピルベンジルクロライド、p−
t−ブチルベンジルクロライド、p−シクロヘキシルベ
ンジルクロライド、p−フェニルベンジルクロライド、
2−ナフチルメチルクロライド、7−メチル−2−ナフ
チルメチルクロライド及びこれらの核置換異性体、α−
メチルベンジルクロライド、α,α−ジメチルベンジル
クロライドなどを例示することができる。
In the general formula (4), Ar is an aryl group, and examples thereof include phenyl, naphthyl, biphenyl, methylphenyl, benzylphenyl and methylnaphthyl groups. R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and preferably both are hydrogen. X is Cl, Br or I. Specific examples of benzyl halides include benzyl chloride, benzyl bromide, benzyl iodide, o-methylbenzyl chloride, m-methylbenzyl chloride,
p-methylbenzyl chloride, p-ethylbenzyl chloride, p-isopropylbenzyl chloride, p-
t-butylbenzyl chloride, p-cyclohexylbenzyl chloride, p-phenylbenzyl chloride,
2-naphthylmethyl chloride, 7-methyl-2-naphthylmethyl chloride and their nuclear substitution isomers, α-
Examples thereof include methylbenzyl chloride and α, α-dimethylbenzyl chloride.

【0034】この反応でもフェノールビフェニルアラル
キル樹脂中のフェノール骨格1分子当たり、一般式
(4)で表されるベンジルハライド類を0.2〜1.5
分子、好ましくは0.4〜1.2分子となる量用い、反
応開始剤である水の共存下で、60〜180℃、好まし
くは70〜160℃程度の温度で1〜10時間程度維持
することによって行うのがよい。共存させる水の量は、
フェノールビフェニルアラルキル樹脂とベンジルハライ
ド類の合計重量に対して100ppm以上程度で効果的
であり、一方あまり多量に存在させても無意味であるの
で、例えば0.5重量%以下程度とするのがよい。この
反応においては必要に応じ、前記したような酸触媒を併
用することができる。
Also in this reaction, the benzyl halide represented by the general formula (4) is contained in an amount of 0.2 to 1.5 per one molecule of the phenol skeleton in the phenol biphenylaralkyl resin.
The amount of the molecule, preferably 0.4 to 1.2 molecule, is used, and the temperature is maintained at 60 to 180 ° C., preferably 70 to 160 ° C. for about 1 to 10 hours in the coexistence of water as a reaction initiator. It is better to do it by The amount of water that coexists is
About 100 ppm or more is effective with respect to the total weight of the phenol biphenyl aralkyl resin and the benzyl halides, while it is meaningless to make it exist in a too large amount, it is preferable to set it to about 0.5% by weight or less. . In this reaction, an acid catalyst as described above can be used in combination if necessary.

【0035】尚、一般式(2)で示されるフェノールビ
フェニルアラルキル樹脂は、次の2方法により効率的に
製造することができる。第1の方法は、一般式(5)で
示されるビフェニル化合物と一般式(6)で示されるフ
ェノール類を、酸触媒の存在下で反応させる方法であ
る。
The phenol biphenyl aralkyl resin represented by the general formula (2) can be efficiently produced by the following two methods. The first method is a method of reacting a biphenyl compound represented by the general formula (5) with a phenol represented by the general formula (6) in the presence of an acid catalyst.

【0036】一般式(5)において、Rは水素又は炭素
数1〜4のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプ
ロピル、n−プロピル、イソブチル、n−ブチル、t−
ブチルなどの基であり、2個のRは互いに同一でも異な
っていてもよい。また、R、Rはそれぞれ水素又は
炭素数1〜4のアルキル基、例えば上記Rにおいて例示
したような基である。一般式(5)で示されるビフェニ
ル化合物として具体的には、4,4’−ジヒドロキシメ
チルビフェニル、2−メチル−4,4’−ジヒドロキシ
メチルビフェニル、2,2’−ジメチル−4,4’−ジ
ヒドロキシメチルビフェニル、4,4’−ジメキシメ
チルビフェニル、4,4’−ジエキシメチルビフェニ
ル、4,4’−ジイソプロポキシメチルビフェニル、
4,4’−ジ−t−ブトキシメチルビフェニル、2−メ
チル−4,4’−ジメトキシメチルビフェニル、2,
2’−ジヒドロキシメチルビフェニル、2,4’−ジヒ
ドロキシメチルビフェニルなどを例示することができ
る。とくに好ましいビフェニル化合物は、4,4’−ジ
ヒドロキシメチルビフェニル及び4,4’−ジメキシ
メチルビフェニルである。
In the general formula (5), R is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, isobutyl, n-butyl, t-.
It is a group such as butyl, and two Rs may be the same or different from each other. Further, R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a group as exemplified in the above R. Specific examples of the biphenyl compound represented by the general formula (5) include 4,4′-dihydroxymethylbiphenyl, 2-methyl-4,4′-dihydroxymethylbiphenyl and 2,2′-dimethyl-4,4′-. dihydroxymethyl biphenyl, 4,4'-dimethyl preparative carboxymethyl biphenyl, 4,4'-diethyl preparative carboxymethyl biphenyl, 4,4'-diisopropoxy-methylbiphenyl,
4,4'-di-t-butoxymethylbiphenyl, 2-methyl-4,4'-dimethoxymethylbiphenyl, 2,
Examples thereof include 2'-dihydroxymethylbiphenyl and 2,4'-dihydroxymethylbiphenyl. Particularly preferred biphenyl compounds is 4,4'-dihydroxy-methyl-biphenyl and 4,4'-dimethyl preparative carboxymethyl biphenyl.

【0037】一般式(6)で表されるフェノール類とし
ては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、o−エチルフェノール、p−エチルフ
ェノール、p−イソプロピルフェノール、p−n−ブチ
ルフェノール、p−イソブチルフェノール、p−t−ブ
チルフェノール及びこれらの核置換異性体などを挙げる
ことができる。
The phenols represented by the general formula (6) include phenol, o-cresol, m-cresol,
Examples thereof include p-cresol, o-ethylphenol, p-ethylphenol, p-isopropylphenol, pn-butylphenol, p-isobutylphenol, pt-butylphenol, and nuclear-substituted isomers thereof.

【0038】上記ビフェニル化合物とフェノール類の反
応に使用される酸触媒としては、一般式(2)のフェノ
ールビフェニルアラルキル樹脂と一般式(3)で示され
るベンジル化合物類の反応に使用できる上記例示の酸触
媒の中から選択することができる。
As the acid catalyst used for the reaction of the above-mentioned biphenyl compound and phenol, the above-mentioned examples which can be used for the reaction of the phenol-biphenylaralkyl resin of the general formula (2) and the benzyl compound of the general formula (3) are mentioned. It can be selected from among the acid catalysts.

【0039】一般式(5)のビフェニル化合物とフェノ
ール類の反応比率は、フェノールビフェニルアラルキル
樹脂の平均重合度cが1〜5の範囲となるような割合で
あり、フェノール類1モルに対し、上記ビフェニル化合
物を0.03〜0.70モル、とくに0.10〜0.5
0モルの割合とするのが好ましい。
The reaction ratio between the biphenyl compound of the general formula (5) and the phenols is such that the average degree of polymerization c of the phenol biphenylaralkyl resin is in the range of 1 to 5, and the above is based on 1 mol of the phenols. Biphenyl compound 0.03 to 0.70 mol, especially 0.10 to 0.5
A proportion of 0 mol is preferable.

【0040】反応は、ビフェニル化合物とフェノール類
の合計量に対して酸触媒を0.004〜6重量%程度添
加して、60〜180℃、好ましくは80〜160℃程
度の温度で1〜10時間程度維持することによって行う
のがよい。反応終了後は、未反応のフェノール類を留去
することによって、一般式(2)のフェノールビフェニ
ルアラルキル樹脂を得ることができる。この場合、酸触
媒を含有する場合にはそのまま一般式(3)のベンジル
化合物との反応に使用できる。また酸触媒を含有しない
場合には、新たに酸触媒を加えて一般式(3)のベンジ
ル化合物との反応に使用できるし、一般式(4)で示さ
れるベンジルハライド類との反応にも使用することがで
きる。
The reaction is carried out by adding an acid catalyst in an amount of about 0.004 to 6% by weight based on the total amount of the biphenyl compound and phenols, and at a temperature of about 60 to 180 ° C., preferably about 80 to 160 ° C., for 1 to 10%. It is better to do this by maintaining the time. After completion of the reaction, the phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) can be obtained by distilling off unreacted phenols. In this case, when an acid catalyst is contained, it can be used as it is for the reaction with the benzyl compound of the general formula (3). When it does not contain an acid catalyst, it can be used for the reaction with the benzyl compound represented by the general formula (3) by newly adding an acid catalyst, and can also be used for the reaction with the benzyl halides represented by the general formula (4). can do.

【0041】一般式(2)のフェノールビフェニルアラ
ルキル樹脂を製造する第2の方法は、一般式(7)で示
されるジハロメチルビフェニル化合物と一般式(6)で
示されるフェノール類を水の存在下で反応させる方法で
ある。一般式(7)において、R、Rはそれぞれ水
素又は炭素数1〜4のアルキル基、例えばメチル、エチ
ル、イソプロピル、n−プロピル、イソブチル、n−ブ
チル、t−ブチルなどの基である。ジハロメチルビフェ
ニル化合物として具体的には、4,4’−ジクロロメチ
ルジフェニル、4,4’−ジブロモメチルジフェニル、
4,4’−ジアイオノメチルジフェニル、2−メチル−
4,4’−ジクロロメチルジフェニル、2,2’−ジメ
チル−4,4’−ジクロロメチルジフェニル、2,2’
−ジクロロメチルジフェニル、2,4’−ジクロロメチ
ルジフェニルなどを挙げることができる。これらの中で
とくに好ましいのは、4,4’−ジクロロメチルジフェ
ニルである。
The second method for producing the phenol biphenyl aralkyl resin of the general formula (2) is the presence of dihalomethylbiphenyl compound of the general formula (7) and phenols of the general formula (6) in the presence of water. It is a method of reacting below. In the general formula (7), R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, groups such as methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, isobutyl, n-butyl and t-butyl. . Specific examples of the dihalomethylbiphenyl compound include 4,4′-dichloromethyldiphenyl, 4,4′-dibromomethyldiphenyl,
4,4'-diaionomethyldiphenyl, 2-methyl-
4,4'-dichloromethyldiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-dichloromethyldiphenyl, 2,2 '
-Dichloromethyldiphenyl, 2,4'-dichloromethyldiphenyl and the like can be mentioned. Of these, particularly preferred is 4,4'-dichloromethyldiphenyl.

【0042】ジハロメチルビフェニル化合物とフェノー
ル類の反応比率は、フェノールビフェニルアラルキル樹
脂の平均重合度cが1〜5の範囲となるような割合であ
り、フェノール類1モルに対し、上記ジハロメチルビフ
ェニル化合物を0.03〜0.70モル、とくに0.1
0〜0.50モルの割合とするのが好ましい。
The reaction ratio of the dihalomethylbiphenyl compound and the phenols is such that the average degree of polymerization c of the phenolbiphenylaralkyl resin is in the range of 1 to 5, and the above dihalomethyl is used for 1 mol of the phenols. Biphenyl compound in an amount of 0.03 to 0.70 mol, especially 0.1
The proportion is preferably 0 to 0.50 mol.

【0043】両者の反応は、反応開始剤である水の共存
下で、60〜180℃、好ましくは80〜160℃程度
の温度で1〜10時間程度維持することによって行うの
がよい。共存させる水の量は、100ppm以上程度で
効果的であり、一方あまり多量に存在させても無意味で
あるので、ジハロメチルビフェニル化合物とフェノール
類の合計量に対して、例えば0.5重量%以下程度とす
るのがよい。
The reaction between the two is preferably carried out in the coexistence of water as a reaction initiator, by maintaining the temperature at about 60 to 180 ° C., preferably about 80 to 160 ° C. for about 1 to 10 hours. The amount of water to coexist is effective when it is about 100 ppm or more, and it is meaningless to make it exist in a too large amount. Therefore, for example, 0.5 wt% relative to the total amount of the dihalomethylbiphenyl compound and phenols. It is good to set it to about% or less.

【0044】反応終了後は、未反応のフェノールを蒸留
除去することによって、一般式(2)で示されるフェノ
ールビフェニルアラルキル樹脂を得ることができる。フ
ェノールの蒸留除去に伴い、副生したハロゲン化水素も
除去されるので、この反応で得たフェノールビフェニル
アラルキル樹脂は、一般式(4)で示されるベンジルハ
ライド類と反応させるのに使用するのが好ましい。
After completion of the reaction, the phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) can be obtained by removing unreacted phenol by distillation. Since hydrogen halide produced as a by-product is also removed along with the removal of phenol by distillation, the phenol biphenylaralkyl resin obtained by this reaction is used for the reaction with the benzyl halides represented by the general formula (4). preferable.

【0045】本発明の上記一般式(1)のフェノール系
重合体は、成形材、各種バインダー、コーティング材、
積層材などに使用することができる。とりわけエポキシ
樹脂硬化剤として有用であり、エポキシ樹脂系半導体封
止材における硬化剤として使用すると、低吸水性、低弾
性率、低溶融粘度のエポキシ樹脂組成物を得ることがで
きる。
The phenolic polymer of the above general formula (1) of the present invention is a molding material, various binders, coating materials,
It can be used as a laminated material. In particular, it is useful as an epoxy resin curing agent, and when used as a curing agent in an epoxy resin-based semiconductor encapsulant, an epoxy resin composition having low water absorption, low elastic modulus and low melt viscosity can be obtained.

【0046】上記本発明のフェノール系重合体とともに
使用することができるエポキシ樹脂としては、例えばビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポ
キシ樹脂、フェノールビフェニルアラルキル型エポキシ
樹脂、フェノール、ナフトールなどのキシリレン結合に
よるアラルキル樹脂のエポキシ化物、ジシクロペンタジ
エン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタリン型エポキ
シ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリ
シジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エ
ポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂など、分子中にエ
ポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂が挙げられる。
これらエポキシ樹脂は単独で使用しても、2種類以上を
併用してもよい。
Examples of the epoxy resin which can be used together with the above-mentioned phenolic polymer of the present invention include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin and biphenyl type epoxy resin. Resin, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin, epoxide of aralkyl resin by xylylene bond such as phenol and naphthol, dicyclopentadiene type epoxy resin, glycidyl ether type epoxy resin such as dihydroxynaphthalene type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl Epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule, such as amine type epoxy resins and halogenated epoxy resins, can be mentioned.
These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

【0047】エポキシ樹脂の硬化に際しては、硬化促進
剤を併用することが望ましい。かかる硬化促進剤として
は、エポキシ樹脂をフェノール樹脂系硬化剤で硬化させ
るための公知の硬化促進剤を用いることができ、例えば
3級アミン、4級アンモニウム塩、イミダゾール類及び
そのテトラフェニルボロン塩、有機ホスフィン化合物お
よびそのボロン塩、4級ホスホニウム塩などを挙げるこ
とができる。より具体的には、トリエチルアミン、トリ
エチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,
6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,
8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセンー7など
の3級アミン、2−メチルイミダゾール、2,4−ジメ
チルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾー
ル、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリフェニル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチル
フェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフ
ィンなどの有機ホスフィン化合物、テトラフェニルホス
ホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホス
ホニウムテトラナフトエ酸ボレートなどを挙げることが
できる。中でも低吸水性や信頼性の点から、有機ホスフ
ィン化合物や4級ホスホニウム4級ボレート塩が好まし
い。
Upon curing the epoxy resin, it is desirable to use a curing accelerator together. As such a curing accelerator, a known curing accelerator for curing an epoxy resin with a phenol resin-based curing agent can be used. For example, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, an imidazole and its tetraphenylboron salt, An organic phosphine compound and its boron salt, a quaternary phosphonium salt, etc. can be mentioned. More specifically, triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, 2,4
6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,
Tertiary amines such as 8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, 2-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4- Imidazoles such as methylimidazole, organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetranaphthoic acid borate, etc. Can be mentioned. Among them, organic phosphine compounds and quaternary phosphonium quaternary borate salts are preferable from the viewpoint of low water absorption and reliability.

【0048】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて、無機充填剤、カップリング剤、離型剤、着色
剤、難燃剤、難燃助剤、低応力剤等を、添加または予め
反応して用いることができる。また他の硬化剤を併用す
ることもできる。このような硬化剤の例として、フェノ
ールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、フェ
ノールビフェニルアラルキル樹脂、フェノールナフチル
アラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェ
ノールメタン型ノボラック樹脂などを挙げることができ
る。
If necessary, an inorganic filler, a coupling agent, a mold release agent, a colorant, a flame retardant, a flame retardant aid, a low stress agent, etc. are added to the epoxy resin composition of the present invention or previously added. It can be used by reacting. Also, other curing agents can be used in combination. Examples of such a curing agent include a phenol novolac resin, a phenol aralkyl resin, a phenol biphenyl aralkyl resin, a phenol naphthyl aralkyl resin, a naphthol aralkyl resin, and a triphenol methane type novolac resin.

【0049】とくに半導体封止用に使用する場合は、無
機充填剤の添加は必須である.このような無機充填剤の
例として、非晶性シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、ガ
ラス、珪酸カルシウム、石膏、炭酸カルシウム、マグネ
サイト、クレー、タルク、マイカ、マグネシア、硫酸バ
リウムなどを挙げることができるが、とくに非晶性シリ
カ、結晶性シリカなどが好ましい。また優れた成形性を
維持しつつ、充填剤の配合量を高めるために、細密充填
を可能とするような粒度分布の広い球形の充填剤を使用
することが好ましい。
Especially when used for semiconductor encapsulation, the addition of an inorganic filler is essential. Examples of such inorganic fillers include amorphous silica, crystalline silica, alumina, glass, calcium silicate, gypsum, calcium carbonate, magnesite, clay, talc, mica, magnesia, barium sulfate and the like. However, amorphous silica and crystalline silica are particularly preferable. Further, in order to increase the compounding amount of the filler while maintaining excellent moldability, it is preferable to use a spherical filler having a wide particle size distribution that enables fine packing.

【0050】カップリング剤の例としては、ビニルシラ
ン系、アミノシラン系、エポキシシラン系などのシラン
系カップリング剤やチタン系カップリング剤を、離型剤
の例としてはカルナバワックス、パラフィンワックス、
ステアリン酸、モンタン酸、カルボキシル基含有ポリオ
レフィンワックスなど、また着色剤としては、カーボン
ブラックなどをそれぞれ例示することができる。難燃剤
の例としては、ハロゲン化エポキシ樹脂、ハロゲン化合
物、リン化合物など、また難燃助剤としては三酸化アン
チモンなどを挙げることができる。低応力化剤の例とし
ては、シリコンゴム、変性ニトリルゴム、変性ブタジエ
ンゴム、変性シリコンオイルなどを挙げることができ
る。
Examples of the coupling agent include vinylsilane-based, aminosilane-based, epoxysilane-based, and other silane-based coupling agents and titanium-based coupling agents, and examples of the release agent include carnauba wax, paraffin wax, and the like.
Examples include stearic acid, montanic acid, a polyolefin wax containing a carboxyl group, and carbon black as a colorant. Examples of flame retardants include halogenated epoxy resins, halogen compounds, phosphorus compounds and the like, and flame retardant aids such as antimony trioxide. Examples of the stress reducing agent include silicone rubber, modified nitrile rubber, modified butadiene rubber, modified silicone oil and the like.

【0051】本発明のフェノール系重合体とエポキシ樹
脂の配合比は、耐熱性、機械的特性などを考慮すると、
水酸基/エポキシ基の当量比が0.5〜1.5、とくに
0.8〜1.2の範囲にあることが好ましい。また他の
硬化剤と併用する場合においても水酸基/エポキシ基の
当量比が上記割合となるようにするのが好ましい。硬化
促進剤は、硬化特性や諸物性を考慮すると、エポキシ樹
脂100重量部に対して0.1〜5重量部の範囲で使用
するのが好ましい。さらに半導体封止用のエポキシ樹脂
組成物においては、無機充填剤の種類によっても若干異
なるが、半田耐熱性、成形性(溶融粘度、流動性)、低
応力性、低吸水性などを考慮すると、無機充填剤を組成
物全体の60〜93重量%を占めるような割合で配合す
ることが好ましい。
The blending ratio of the phenolic polymer of the present invention to the epoxy resin is, considering heat resistance and mechanical properties,
The hydroxyl group / epoxy group equivalent ratio is preferably 0.5 to 1.5, particularly preferably 0.8 to 1.2. Further, even when it is used in combination with another curing agent, it is preferable that the equivalent ratio of hydroxyl group / epoxy group be the above ratio. The curing accelerator is preferably used in the range of 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin in consideration of the curing characteristics and various physical properties. Further, in the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, although slightly different depending on the type of the inorganic filler, considering solder heat resistance, moldability (melt viscosity, fluidity), low stress, low water absorption, etc., The inorganic filler is preferably blended in such a proportion that it accounts for 60 to 93% by weight of the entire composition.

【0052】エポキシ樹脂組成物を成形材料として調製
する場合の一般的な方法としては、所定の割合の各原料
を、例えばミキサーによって充分混合後、熱ロールやニ
ーダーなどによって混練処理を加え、さらに冷却固化
後、適当な大きさに粉砕し、必要に応じタブレット化す
るなどの方法を挙げることができる。このようにして得
た成形材料は、例えば低圧トランスファー成形などによ
り半導体封止を行うことができる。エポキシ樹脂組成物
の硬化は、例えば100〜250℃の温度範囲で行うこ
とができる。
As a general method for preparing an epoxy resin composition as a molding material, the respective raw materials in a predetermined ratio are thoroughly mixed by, for example, a mixer, and then subjected to a kneading treatment with a hot roll or a kneader, followed by cooling. After solidification, a method of pulverizing to an appropriate size and forming into a tablet if necessary can be mentioned. The molding material thus obtained can be used for semiconductor encapsulation by, for example, low-pressure transfer molding. Curing of the epoxy resin composition can be performed, for example, in a temperature range of 100 to 250 ° C.

【0053】[0053]

【実施例】[実施例1]4つ口フラスコにフェノール9
6.7g(1.03モル)、4,4’−ジクロロメチル
ビフェニル103.3g(0.41モル)及び水0.5
gを仕込んで昇温させ、系内が均一になり、HClの発
生が始まった後、100℃で3時間保持し、さらに15
0℃で1時間熱処理を加えた。反応で出てくるHClは
そのまま系外へ揮散させ、アルカリ水でトラップした。
この段階で未反応4,4’−ジクロロメチルビフェニル
は残存しておらず、全て反応したことをガスクロマトグ
ラフィで確認した。反応終了後、減圧にして未反応フェ
ノールを系外へ除去し、最終的に約4000Paで15
0℃まで減圧処理することで、残存フェノールがガスク
ロマトグラフィで未検出になった。得られたフェノール
ビフェニルアラルキル樹脂は、一般式(9)で示される
もので、OH基当量は213g/eqであり、OH基当
量から計算したcの平均値は2.0であった。
[Example] [Example 1] Phenol 9 in a four-necked flask
6.7 g (1.03 mol), 4,4'-dichloromethylbiphenyl 103.3 g (0.41 mol) and water 0.5
After charging g and raising the temperature, the inside of the system became uniform, and after the generation of HCl started, the temperature was maintained at 100 ° C. for 3 hours, and then 15
Heat treatment was applied at 0 ° C. for 1 hour. The HCl generated in the reaction was volatilized out of the system as it was and trapped with alkaline water.
At this stage, unreacted 4,4′-dichloromethylbiphenyl did not remain, and it was confirmed by gas chromatography that all had reacted. After the reaction is completed, the pressure is reduced to remove the unreacted phenol out of the system, and finally at about 4000 Pa for 15
By performing a reduced pressure treatment to 0 ° C., residual phenol was not detected by gas chromatography. The obtained phenolbiphenylaralkyl resin was represented by the general formula (9), had an OH group equivalent of 213 g / eq, and had an average value of c calculated from the OH group equivalent of 2.0.

【0054】引き続きこのフェノールビフェニルアラル
キル樹脂を140℃に保持しながら、さらに塩化ベンジ
ル77.0g(0.61モル)及び水0.5gを1時間
かけて滴下し、さらに2時間保持した。反応で出てくる
HClはそのまま系外へ揮散させ、アルカリ水でトラッ
プした。このようにして目的とするフェノール系重合体
196.8gを得た。ICI溶融粘度計により測定した
150℃での溶融粘度は480mPa・sであり、アセ
チル化逆滴定法で求めたOH基当量は303g/eqで
あった。またマススペクトルチャートを図1に、プロト
ンNMRチャートを図2に、GPCチャートを図3に、
原料フェノールビフェニルアラルキル樹脂のGPCチャ
ートを図4に示す。すでに説明したように、これらのデ
ータにより、得られたフェノール系重合体が一般式
(8)で示されるものであり、式中のcの平均値が2.
0、(a+bc)/(1+c)が1.0のものであるこ
とがわかった。
Subsequently, while maintaining the phenolbiphenylaralkyl resin at 140 ° C., 77.0 g (0.61 mol) of benzyl chloride and 0.5 g of water were added dropwise over 1 hour, and the temperature was maintained for 2 hours. The HCl generated in the reaction was volatilized out of the system as it was and trapped with alkaline water. Thus, 196.8 g of the intended phenolic polymer was obtained. The melt viscosity at 150 ° C. measured by an ICI melt viscometer was 480 mPa · s, and the OH group equivalent determined by the acetylation back titration method was 303 g / eq. The mass spectrum chart is shown in FIG. 1, the proton NMR chart is shown in FIG. 2, the GPC chart is shown in FIG.
A GPC chart of the raw material phenolbiphenylaralkyl resin is shown in FIG. As described above, these data show that the obtained phenolic polymer is represented by the general formula (8), and the average value of c in the formula is 2.
It was found that 0 and (a + bc) / (1 + c) were 1.0.

【0055】[実施例2]塩化ベンジルの使用量を5
7.7g(0.46モル)とした以外は、実施例1と同
様にして行い、フェノール系重合体180.2gを得
た。150℃での溶融粘度は430mPa・sであり、
OH基当量は280g/eqであった。またこのGPC
のチャートを図5に示した。これらのデータにより、得
られたフェノール系重合体が一般式(8)で示され、c
の平均値が2.0、(a+bc)/(1+c)が0.7
4のものであることがわかった。
Example 2 The amount of benzyl chloride used was 5
The same procedure as in Example 1 was carried out except that the amount was changed to 7.7 g (0.46 mol) to obtain 180.2 g of a phenol-based polymer. The melt viscosity at 150 ° C. is 430 mPa · s,
The OH group equivalent was 280 g / eq. Also this GPC
Is shown in FIG. From these data, the obtained phenolic polymer is represented by the general formula (8), and c
Average value is 2.0, (a + bc) / (1 + c) is 0.7
It turned out to be four.

【0056】[実施例3]4つ口フラスコにフェノール
130.6g(1.39モル)と4,4’−ジメトキシ
メチルビフェニル67.8g(0.28モル)を仕込ん
で昇温させ、60℃になったときにパラトルエンスルホ
ン酸1水和物1.6gを20%水溶液にして加えた後、
135℃で3時間保持し、さらに150℃で1時間熱処
理を加えた。反応で出てくるメタノールはそのまま系外
へ揮散させ、冷却後トラップした。この段階で、未反応
4,4’−ジメトキシメチルビフェニルは残存しておら
ず、全て反応したことをガスクロマトグラフィで確認し
た。反応終了後、減圧にして未反応フェノールを系外へ
除去し、最終的に2660Paで140℃まで減圧処理
することで、残存フェノールがガスクロマトグラフィで
未検出になった。得られたフェノールビフェニルアラル
キル樹脂は、一般式(9)で示されるもので、cの平均
値が1.3のものであった。
Example 3 A four-necked flask was charged with 130.6 g (1.39 mol) of phenol and 67.8 g (0.28 mol) of 4,4'-dimethoxymethylbiphenyl and heated to 60 ° C. , 1.6 g of paratoluenesulfonic acid monohydrate was added as a 20% aqueous solution,
It was kept at 135 ° C. for 3 hours, and further heat-treated at 150 ° C. for 1 hour. The methanol generated in the reaction was volatilized out of the system as it was, and after cooling, it was trapped. At this stage, unreacted 4,4′-dimethoxymethylbiphenyl did not remain, and it was confirmed by gas chromatography that all had reacted. After completion of the reaction, unreacted phenol was removed to the outside of the system by reducing the pressure, and finally, the pressure was reduced to 140 ° C. at 2660 Pa, whereby residual phenol was not detected by gas chromatography. The obtained phenol biphenyl aralkyl resin was represented by the general formula (9), and the average value of c was 1.3.

【0057】このフェノールビフェニルアラルキル樹脂
を140℃に保持しながら、ベンジルアルコール24.
9g(0.23モル)を1時間かけて滴下し、さらに3
時間保持した。反応で出てくる水はそのまま系外へ揮散
させ、冷却後トラップした。このようにして目的とする
フェノール系重合体113.6gを得た。150℃での
溶融粘度は130mPa・sであり、OH基当量は24
8g/eqであった。これらのデータにより、フェノー
ル系重合体が一般式(8)で示され、cの平均値が1.
3、(a+bc)/(1+c)が0.50のものである
ことがわかった。
While maintaining this phenolbiphenylaralkyl resin at 140 ° C., benzyl alcohol 24.
9 g (0.23 mol) was added dropwise over 1 hour, and another 3
Held for hours. The water coming out from the reaction was volatilized out of the system as it was, and after cooling, it was trapped. In this way, 113.6 g of the intended phenolic polymer was obtained. The melt viscosity at 150 ° C. is 130 mPa · s, and the OH group equivalent is 24
It was 8 g / eq. From these data, the phenolic polymer is represented by the general formula (8), and the average value of c is 1.
3, it was found that (a + bc) / (1 + c) was 0.50.

【0058】[実施例4〜6]実施例1〜3で得たフェ
ノール系重合体、エポキシ樹脂(住友化学社製ESCN
−195、オルソクレゾールノボラック型、エポキシ当
量195g/eq)、溶融シリカ、トリフェニルホスフ
ィン、アミノシランカップリング剤及びカルナバワック
スを表2に示す割合で配合し、充分に混合した後、85
℃±3℃の2本ロールで3分混練し、冷却、粉砕するこ
とにより、成形用組成物を得た。トランスファー成形機
で成型用組成物を圧力100kgf/cmで175
℃、2分間成形後、180℃、6時間ポストキュアを行
い、吸水率用、曲げ弾性率用及びガラス転移温度(T
g)用のテストピースを得た。
[Examples 4 to 6] Phenolic polymers and epoxy resins (ESCN manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) obtained in Examples 1 to 3.
-195, orthocresol novolac type, epoxy equivalent 195 g / eq), fused silica, triphenylphosphine, aminosilane coupling agent and carnauba wax were mixed in the proportions shown in Table 2 and thoroughly mixed, then 85
A molding composition was obtained by kneading for 3 minutes with a two-roll roll of ℃ ± 3 ℃, cooling and pulverizing. 175 at a pressure of 100 kgf / cm 2 for the molding composition using a transfer molding machine
After molding for 2 minutes at 180 ° C, post cure for 6 hours at 180 ° C for water absorption, flexural modulus and glass transition temperature (T
A test piece for g) was obtained.

【0059】これら成形材料の物性を、次の方法により
測定した。
The physical properties of these molding materials were measured by the following methods.

【0060】(1)吸水率 サンプル形状50mm径×3mmの円盤を、85℃、相
対湿度85%RH雰囲気下で168時間吸水させたとき
の吸水率を測定。
(1) Water absorption rate A water absorption rate was measured when a disk having a 50 mm diameter × 3 mm sample shape was allowed to absorb water for 168 hours in an atmosphere of 85 ° C. and a relative humidity of 85% RH.

【0061】吸水率(%)=(処理後の重量増加分/処
理前の重量)×100 (2)曲げ弾性率 サンプル形状80×10×4mmの短冊を260℃雰囲
気で10分放置後、JIS K6911に準じて測定 (3)ガラス転移温度(Tg) TMAにより、線膨張係数を測定し、線膨張係数の変曲
点をTgとした。
Water absorption rate (%) = (weight increase after treatment / weight before treatment) × 100 (2) Flexural modulus Sample shape A strip of 80 × 10 × 4 mm was allowed to stand in a 260 ° C. atmosphere for 10 minutes and then JIS Measurement according to K6911 (3) Glass transition temperature (Tg) The linear expansion coefficient was measured by TMA, and the inflection point of the linear expansion coefficient was taken as Tg.

【0062】[比較例1]実施例1〜3のフェノール系
重合体の代りに市販のフェノールアラルキル樹脂(住金
ケミカル社製HE10C−10、OH基当量168g/
eq)を用いた以外は同様にして成型用組成物を作成
し、その評価を行った。
Comparative Example 1 Instead of the phenolic polymers of Examples 1 to 3, a commercially available phenol aralkyl resin (HE10C-10 manufactured by Sumikin Chemical Co., OH group equivalent 168 g /
A molding composition was prepared and evaluated in the same manner except that eq) was used.

【0063】[比較例2]実施例1〜3のフェノール系
重合体の代りに、市販のフェノールノボラック樹脂(昭
和高分子社製、OH基当量106g/eq)を用いた以
外は同様にして成型用組成物を作成し、その評価を行っ
た。
Comparative Example 2 Molding was carried out in the same manner except that a commercially available phenol novolac resin (Showa High Polymer Co., Ltd., OH group equivalent 106 g / eq) was used in place of the phenolic polymers of Examples 1 to 3. A composition for use was prepared and evaluated.

【0064】これらの評価結果を表2に併記する。The results of these evaluations are also shown in Table 2.

【0065】[0065]

【表2】 [Table 2]

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明によれば、成形材、各種バインダ
ー、コーティング材、積層材などに有用なフェノール系
重合体を提供することができる。このようなフェノール
系重合体は、とくにエポキシ樹脂硬化剤として有用であ
り、とりわけ半導体封止用として用いた場合に、低吸水
性、低弾性率、低溶融粘度のエポキシ樹脂組成物を形成
することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a phenolic polymer useful as a molding material, various binders, coating materials, laminated materials and the like. Such a phenolic polymer is particularly useful as an epoxy resin curing agent, and particularly when used as a semiconductor encapsulant, forms an epoxy resin composition having low water absorption, low elastic modulus and low melt viscosity. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1で得られたフェノール系重合体のマ
ススペクトルのチャートである。
FIG. 1 is a mass spectrum chart of the phenolic polymer obtained in Example 1.

【図2】 実施例1で得られたフェノール系重合体のプ
ロトンNMRのチャートである。
2 is a proton NMR chart of the phenolic polymer obtained in Example 1. FIG.

【図3】 実施例1で得られたフェノール系重合体のG
PCチャートである。
FIG. 3 G of the phenolic polymer obtained in Example 1
It is a PC chart.

【図4】 実施例1のフェノール系重合体の原料である
フェノールビフェニルアラルキル樹脂のGPCチャート
である。
FIG. 4 is a GPC chart of a phenol biphenyl aralkyl resin which is a raw material of the phenolic polymer of Example 1.

【図5】 実施例2で得られたフェノール系重合体のG
PCチャートである
FIG. 5: G of the phenolic polymer obtained in Example 2
It is a PC chart

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平11−71451(JP,A) 特開2001−64340(JP,A) 特開 平10−310632(JP,A) 特開 平8−120039(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 61/00 - 61/12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-11-71451 (JP, A) JP-A-2001-64340 (JP, A) JP-A-10-310632 (JP, A) JP-A-8-120039 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C08G 61/00-61/12

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式(1)で表されるフェノール系重
合体。 【化1】 (式中、Arはアリール基、R、Rは、それぞれ水
素又はメチル基、R、R、Rはそれぞれ水素又は
炭素数1〜4のアルキル基、a、b、cは、0≦a≦
2、0≦b≦2、1≦c≦5で、(a+bc)/(1+
c)が0.2〜1.5の範囲にあり、c個のbは互いに
同一又は異なるものである。)
1. A phenolic polymer represented by the general formula (1). [Chemical 1] (In the formula, Ar is an aryl group, R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, R 3 , R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b and c are: 0 ≦ a ≦
2, 0 ≦ b ≦ 2, 1 ≦ c ≦ 5, (a + bc) / (1+
c) is in the range of 0.2 to 1.5, and c b's are the same or different from each other. )
【請求項2】 一般式(1)において、R、R、R
、R、Rが全て水素である請求項1記載のフェノ
ール系重合体。
2. In the general formula (1), R 1 , R 2 , R
The phenolic polymer according to claim 1, wherein 3 , R 4 and R 5 are all hydrogen.
【請求項3】 一般式(2)で示されるフェノールビフ
ェニルアラルキル樹脂と一般式(3)で示されるベンジ
ル化合物類を、酸触媒の存在下で反応させることを特徴
とする請求項1記載のフェノール系重合体の製造方法。 【化2】 (式中、R、R、Rはそれぞれ水素又は炭素数1
〜4のアルキル基、cは1≦c≦5) 【化3】 (式中、Arはアリール基、R、Rは、それぞれ水
素又はメチル基、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキ
ル基)
3. The phenol according to claim 1, wherein the phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) and the benzyl compound represented by the general formula (3) are reacted in the presence of an acid catalyst. Of producing a base polymer. [Chemical 2] (In the formula, R 3 , R 4 and R 5 are each hydrogen or carbon 1
~ 4 alkyl groups, c is 1 ≤ c ≤ 5) (In the formula, Ar is an aryl group, R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and R 6 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
【請求項4】 一般式(2)で示されるフェノールビフ
ェニルアラルキル樹脂と一般式(4)で示されるベンジ
ルハライド類を、水の存在下で反応させることを特徴と
する請求項1記載のフェノール系重合体の製造方法。 【化4】 (式中、Arはアリール基、R、Rは、それぞれ水
素又はメチル基、Xは、Cl,Br又はI)
4. The phenolic system according to claim 1, wherein the phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) and the benzyl halides represented by the general formula (4) are reacted in the presence of water. Method for producing polymer. [Chemical 4] (In the formula, Ar is an aryl group, R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and X is Cl, Br or I).
【請求項5】 一般式(2)で示されるフェノールビフ
ェニルアラルキル樹脂が、一般式(5)で示されるビフ
ェニル化合物と一般式(6)で示されるフェノール類を
酸触媒の存在下で反応させて得られるものである請求項
3又は4記載の製造方法。 【化5】 (式中、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、
、Rはそれぞれ水素又は炭素数1〜4のアルキル
基) 【化6】 (式中、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基)
5. A phenol biphenylaralkyl resin represented by the general formula (2) is obtained by reacting a biphenyl compound represented by the general formula (5) with a phenol represented by the general formula (6) in the presence of an acid catalyst. The method according to claim 3 or 4, which is obtained. [Chemical 5] (In the formula, R is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. (In the formula, R 3 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
【請求項6】 一般式(2)で示されるフェノールビフ
ェニルアラルキル樹脂が、一般式(7)で示されるジハ
ロメチルビフェニル化合物と一般式(6)で示されるフ
ェノール類を水の存在下で反応させて得られるものであ
る請求項3又は4記載の製造方法。 【化7】 (式中、Xは、Cl,Br又はI、R、Rはそれぞ
れ水素又は炭素数1〜4のアルキル基)
6. A phenol biphenyl aralkyl resin represented by the general formula (2) reacts a dihalomethylbiphenyl compound represented by the general formula (7) with a phenol represented by the general formula (6) in the presence of water. The method according to claim 3 or 4, which is obtained by [Chemical 7] (In the formula, X is Cl, Br or I, R 4 and R 5 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
【請求項7】 請求項1又は2記載のフェノール系重合
体からなるエポキシ樹脂用硬化剤。
7. A curing agent for an epoxy resin, comprising the phenolic polymer according to claim 1 or 2.
【請求項8】 請求項1又は2記載のフェノール系重合
体とエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
8. An epoxy resin composition containing the phenolic polymer according to claim 1 and an epoxy resin.
【請求項9】 無機充填剤を含有する請求項8記載のエ
ポキシ樹脂組成物。
9. The epoxy resin composition according to claim 8, which contains an inorganic filler.
【請求項10】 半導体封止用に使用される請求項8又
は9記載のエポキシ樹脂組成物。
10. The epoxy resin composition according to claim 8, which is used for semiconductor encapsulation.
【請求項11】 請求項8〜10記載のエポキシ樹脂組
成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
11. An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102604512A (en) * 2005-03-15 2012-07-25 日本化药株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition, and utilizing the same, prepreg and laminated plate
JP5179194B2 (en) 2005-11-30 2013-04-10 日本化薬株式会社 Phenol resin, its production method, epoxy resin and its use
JP2008007537A (en) * 2006-06-27 2008-01-17 Idemitsu Kosan Co Ltd Manufacturing method of aromatic compound containing alicyclic substituent and low dielectric material
JP5488393B2 (en) * 2009-11-16 2014-05-14 住友ベークライト株式会社 Semiconductor sealing resin composition and semiconductor device
JP5488394B2 (en) * 2009-11-16 2014-05-14 住友ベークライト株式会社 Semiconductor sealing resin composition and semiconductor device
JP5626566B2 (en) * 2010-07-30 2014-11-19 Dic株式会社 Curable resin composition, cured product thereof, phenol resin, epoxy resin, and semiconductor sealing material
JP5686054B2 (en) * 2011-06-24 2015-03-18 Dic株式会社 Cyanate resin and curable resin composition containing the same
TWI595019B (en) * 2012-11-12 2017-08-11 Dic股份有限公司 Phenolic hydroxyl group-containing resin, epoxy resin, curable resin composition,cured product thereof and semiconductor encapsulating material
JP6476587B2 (en) * 2014-05-14 2019-03-13 Dic株式会社 Curable resin composition, cured product thereof, and semiconductor sealing material
MY196654A (en) * 2016-04-28 2023-04-27 Hitachi Chemical Co Ltd Epoxy Resin Composition and Electronic Component Device
JP6489270B2 (en) * 2018-06-04 2019-03-27 Dic株式会社 Epoxy resin, curable resin composition, cured product thereof, and semiconductor sealing material
JP7326708B2 (en) * 2018-07-06 2023-08-16 エア・ウォーター・パフォーマンスケミカル株式会社 Method for producing phenolic resin

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