JP3493663B2 - 「メタンジホスホン酸化合物の製造法」 - Google Patents
「メタンジホスホン酸化合物の製造法」Info
- Publication number
- JP3493663B2 JP3493663B2 JP50794896A JP50794896A JP3493663B2 JP 3493663 B2 JP3493663 B2 JP 3493663B2 JP 50794896 A JP50794896 A JP 50794896A JP 50794896 A JP50794896 A JP 50794896A JP 3493663 B2 JP3493663 B2 JP 3493663B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid compound
- producing
- reaction
- carbon atoms
- compound according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- -1 methanediphosphonic acid compound Chemical class 0.000 title claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 17
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 13
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 10
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 9
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 abstract description 15
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 8
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N diphosphonic acid Chemical compound OP(=O)OP(O)=O XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- GQDRLRHOCUEAII-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfanyl-4-[(4-methylsulfanylphenyl)disulfanyl]benzene Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1SSC1=CC=C(SC)C=C1 GQDRLRHOCUEAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ODTQUKVFOLFLIQ-UHFFFAOYSA-N 2-[di(propan-2-yloxy)phosphorylmethyl-propan-2-yloxyphosphoryl]oxypropane Chemical compound CC(C)OP(=O)(OC(C)C)CP(=O)(OC(C)C)OC(C)C ODTQUKVFOLFLIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- NBEPEFWJXDDCPD-UHFFFAOYSA-N CSC1=CC=C(C=C1)C(P(O)(=S)O)P(O)(=O)O Chemical compound CSC1=CC=C(C=C1)C(P(O)(=S)O)P(O)(=O)O NBEPEFWJXDDCPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 4
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTVQOGPKIYWIPY-UHFFFAOYSA-N [hydroxy-(4-methylsulfanylphenoxy)phosphinothioyl]methylphosphonic acid Chemical compound CSC1=CC=C(C=C1)OP(=S)(CP(=O)(O)O)O RTVQOGPKIYWIPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanamine Chemical compound CC(C)CN KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-L diphosphonate(2-) Chemical compound [O-]P(=O)OP([O-])=O XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIXXRXGPBFMPFD-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[(4-chlorophenyl)disulfanyl]benzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1SSC1=CC=C(Cl)C=C1 ZIXXRXGPBFMPFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCVZXAZPVGLBSG-UHFFFAOYSA-N P(=O)(O)OP(=O)O.CSC1=CC=C(C=C1)SC Chemical compound P(=O)(O)OP(=O)O.CSC1=CC=C(C=C1)SC GCVZXAZPVGLBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHYOQFBKAWLCEX-UHFFFAOYSA-N [(4-chlorophenyl)-dihydroxyphosphinothioylmethyl]phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C(P(O)(O)=S)C1=CC=C(Cl)C=C1 XHYOQFBKAWLCEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002260 anti-inflammatory agent Substances 0.000 description 1
- 229940121363 anti-inflammatory agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003435 antirheumatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N dichloromethane Substances ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSGHYHRLSWSLQ-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;propan-2-one Chemical compound ClCCl.CC(C)=O FDSGHYHRLSWSLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000016097 disease of metabolism Diseases 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 208000030159 metabolic disease Diseases 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3839—Polyphosphonic acids
- C07F9/3865—Polyphosphonic acids containing sulfur substituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4025—Esters of poly(thio)phosphonic acids
- C07F9/4043—Esters of poly(thio)phosphonic acids containing sulfur substituents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
マチ剤、骨代謝疾患剤等の医薬品として有用な、メタン
ジホスホン酸化合物の製造法に関する。
タンジホスホン酸の合成法は、例えば特公平4−29676
号公報に記載されている。ここに示されている方法はメ
タンジホスホン酸テトラアルキルを水素化ナトリウム等
により対応する金属誘導体に変換した後、各種ジスルフ
ィドを作用させることにより、目的の1−アルキルチオ
あるいは1−アリールチオメタンジホスホン酸テトラア
ルキルを合成するものである。この合成法は収率が低い
ため、反応粗生成物中に目的物の他に大量の未反応ジス
ルフィドならびにメタンジホスホン酸テトラアルキル
と、反応における副生成物であるチオールが混入してお
り、これらの除去にはシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー等の工業的には非常に高コストな精製操作が必要で
あった。目的物であるメタンジホスホン酸化合物が医薬
品等の分野において極めて有用であることを考慮する
と、化合物の大量供給という点で満足のいく製造法とは
言い難く、より簡便で低コストの製造法が望まれてい
た。
問題点は、原料であるメタンジホスホン酸テトラアルキ
ルが大量に残ることであり、この原料と目的物の分離精
製に非常な労力を要する点である。従って反応混合物に
残存するメタンジホスホン酸テトラアルキルを少なくす
ることができれば、1−アルキルあるいは1−アリール
チオメタンジホスホン酸化合物の優れた製造法となる。
本発明者らはメタンジホスホン酸テトラアルキルとジス
ルフィドの縮合反応を詳細に検討した結果、この縮合反
応によって目的物である1−アルキルチオメタンジホス
ホン酸テトラアルキルあるいは1−アリールチオメタン
ジホスホン酸テトラアルキルが生成する際に等モル副生
するアルキルチオラートまたはアリールチオラートを除
去することによって目的物が極めて高収率で得られるこ
とを見出した。さらにこの縮合反応に酸化マグネシウム
などの金属酸化物を添加することにより目的物である1
−アルキルチオメタンジホスホン酸テトラアルキルある
いは1−アリールチオメタンジホスホン酸テトラアルキ
ルが同様に高収率で得られることを見出した。
−アルキルチオメタンジホスホン酸化合物または1−ア
リールチオメタンジホスホン酸化合物の新規製造法を提
供するものである。
ルキル基であり、同一または異なっていてもよい、R3は
水素、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを表し、R4
は水素、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルキル基を
表す]と下記のジアルキルジスルフィドあるいはジアリ
ールジスルフィド R2S−SR2 [式中、R2は炭素数1〜20のアルキル基あるいは炭素数
3〜20のアリール基である]を反応溶媒として炭化水素
系溶媒を用い反応させてから、アルキルチオラートまた
はアリールチオラートを 不溶性物質または不溶性の塩として除去することを特徴
とする一般式(1)で示されるメタンジホスホン酸化合
物 [式中、R1は薬理学的に許容できる陽イオン、水素また
は炭素数1〜6の直鎖あるいは分岐鎖アルキル基であ
り、同一または異なっていてもよい、R2、R4は 前記定義に同じ]の製造法に関する。
あるいは1−アリールチオメタンジホスホン酸化合物の
製造法は、次の反応式(A)で例示される。なお、本方
法における反応温度および反応時間は使用される溶媒、
試薬、原料によって異なるので下記の条件は好ましい条
件を示したにすぎない。
ルキル基、R2はアルキルあるいはアリール基、R2は薬理
学的に許容できる陽イオン、水素または炭素数1〜6の
直鎖あるいは分岐鎖アルキル基を意味する。) 反応式Aに示す通り、本発明はメタンジホスホン酸テ
トラアルキルとジスルフィドの反応を、(a)塩基の存
在下、もしくは(b)塩基および金属酸化物の存在下行
い、副生するチオラートを不溶性の塩として除去しメタ
ンジホスホン酸化合物を得るものである。
タンジホスホン酸テトラアルキルとジスルフィドを反応
させた後、副生するチオラートを不溶性物質あるいは不
溶性の塩として除去することにより1−アルキルチオあ
るいは1−アリールチオメタンジホスホン酸テトラアル
キルが得られる。チオラートを除去しない場合、目的の
1−アルキルチオあるいは1−アリールチオメタンジホ
スホン酸テトラアルキルの収量は著しく低下し、そのか
わり原料のメタンジホスホン酸テトラアルキルならびに
ジスルフィドが大量に回収される。チオラートを不溶性
物質あるいは不溶性の塩として反応混合物あるいは反応
系から除去することが重要である。チオラートの不溶性
(溶解度)は、チオラートが副生するときの溶媒と副生
チオラート自身の性質、およびチオラートと塩を形成す
る陽イオンの種類などによって支配される。
リウム、カリウム、リチウムなどのイオン性の強い元素
が好ましい。これらは、縮合反応に用いた塩基から由来
するものか、別に後からまたはあらかじめ添加されたも
のである。
性の非プロトン性溶媒が好ましい。かかる溶媒としてベ
ンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ヘキサ
ン、ペンタンなどの炭化水素系溶媒が挙げられる。特に
トルエン、キシレンのような高沸点、低極性溶媒が好ま
しい。
は、不溶性の塩として折出してくるので、ろ過などによ
って反応系(反応混合物)から副生チオラートがほぼ完
全に除去される。しかる後通常の抽出あるいは蒸留など
の後処理を行なえば収率よく目的物が得られる。
またはアルカリ土類金属のヒドリド、アミド、アルキル
およびアルコラートからなる群より選ばれた少なくとも
1種であることが好ましい。中でも好ましくはナトリウ
ム、リチウム、カリウムのヒドリド、アミド、アルキル
あるいはアルコラートなどが用いられる。アルコラート
としては、メチラート、エチラート、プロピラート、ブ
チラートなどが挙げられるが、この時、副生するアルコ
ールは反応系からあらかじめ除去しても良い。アルコラ
ートとして特に好ましいのはカリウムt−ブトキシドの
ようにエステル交換反応を起こさない塩基である。用い
る塩基としてより具体的には、ナトリウムヒドリド、ナ
トリウムアミド、リチウムアミド、メチルリチウム、ブ
チルリチウム、カリウムt−ブトキシド、リチウムジイ
ソプロピルアミドなどが挙げられる。
量は2〜5等量が好ましく、ジスルフィドのメタンジホ
スホン酸テトラアルキルに対する当量は、1〜5当量が
好ましく、反応温度、反応時間は、好ましくは−20℃か
ら用いる溶媒の沸点、1〜5時間である。
の直鎖あるいは分岐鎖アルキル基とは特に限定されるも
のではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、メチルシク
ロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。二重結
合を含有するもの、ハロゲン、アルコキシ、ニトリル、
アミノ、エステル、ベンゼン環などを置換基として有す
るものも含まれる。
リールジスルフィドのアルキル部、アリール部は特に限
定されるものではなく、適宜選択できるが、アルキルと
しては、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖または(ヘテ
ロ)環状のもので、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられ
る。これらのアルキルに二重結合を含有するもの、ハロ
ゲン、アルコキシ、ニトリル、アミノ、エステル、ベン
ゼン環などを置換基として有するものも含まれる。アリ
ールとしては炭素数3〜20のものであり、さらに、窒
素,酸素,硫黄などのヘテロ原子を各々1〜3個有して
いても構わない。炭素数3,4,5からなるアリールとはヘ
テロ原子1−3個含むことを意味する。例えばピロー
ル、フラン、チオフェン、ピリジン、チアゾール、オキ
サゾール、イソオキサゾール、イミダゾール、ピラゾー
ル、ピリミジン、ピラジンなどが挙げられる。炭素数6
−20からなるアリールとは炭素のみからなるものおよび
炭素とヘテロ原子からなるものを意味する。例えばフェ
ニル、ナフチル、キノリン、イソキノリン、ベンゾフラ
ン、インドール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾチアゾールなどが挙げられる。またこれら
のアリールは無置換のもの、置換されているものが挙げ
られるが、置換基としてはハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、シロキシ、アルキルチオ、ニトロ、アミノなどを
含む。
ウムt−ブトキシド、ナトリウムヒドリドまたはn−ブ
チルリチウムとベンゼン、トルエン、ヘキサンまたはシ
クロヘキサンなどの組合わせが挙げられる。
に示されるように、塩基および金属酸化物の存在下メタ
ンジホスホン酸テトラアルキルとジスルフィドを反応さ
せた後、金属酸化物チオラート塩および/またはチオラ
ート塩などの不溶性物として除去し、1−アルキルチオ
あるいは1−アリールチオメタンジホスホン酸テトラア
ルキルが得られるものである。チオラートを不溶性の塩
として除去しない場合、目的物の収量は著しく低下す
る。
マグネシウム、酸化亜鉛、酸化銅が挙げられ、二種以上
用いても構わない。中でも酸化マグネシウムが好ましく
用いられる。金属酸化物はメタンジホスホン酸テトラア
ルキルに対する当量は1〜5当量である。
ン酸テトラアルキル、ジアルキルスルフィドあるいはジ
アリールジスルフィド、溶媒、塩基および反応条件は上
記反応式A(a)で示される製造法で使用されるものが
好ましく用いられる。
ては、塩基としてカリウムt−ブトキシド、ナトリウム
ヒドリドまたはn−ブチルリチウム、金属酸化物として
酸化マグネシウム、酸化亜鉛または酸化銅、溶媒として
はベンゼン、トルエン、ヘキサンまたはシクロヘキサン
の組合わせが挙げられる。
方法がより好ましく用いられる。
酸テトラアルキルあるいは1−アリールチオメタンジホ
スホン酸テトラアルキルから対応するジホスホン酸が加
水分解することによって得られる。これは一般的な公知
の方法によって可能であるが、例えばジホスホン酸エス
テルを塩酸で通常は室温から100℃で処理することによ
って行なうことができる。このときジホスホン酸エステ
ルは上記の反応で得られたジスルフィドとの混合物を用
いても加水分解後、抽出操作あるいはろ過によって容易
にジホスホン酸が分離できる。またこの様にして得られ
たジホスホン酸はその塩の1種に公知の方法により転化
される。
陽イオン、アンモニウムN(R3)4を表わし(ただしR3
は水素または炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖アルキル
基である。)、特に好ましい金属陽イオンは、アルカリ
金属類、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムなどお
よびアルカリ土類金属類、例えばマグネシウム、カルシ
ウムなどの陽イオンが挙げられる。しかし他の金属、例
えばアルミニウム、亜鉛、鉄などの陽イオンも本発明に
含まれる。アンモニウムとしては、アンモニア、一級ア
ミン、二級アミン、三級アミンのアンモニウムおよび四
級アンモニウムである。これらとしてはアンモニア、メ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピ
ルアミン、ジプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、
イソブチルアミン、t−ブチルアミン、モノエタノール
アミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンな
どのアンモニウムおよびテトラメチルアンモニウム、テ
トラエチルアンモニウムなどが挙げられる。中でもナト
リウム、カリウム、アンモニア、アルキルアミンの陽イ
オンが好ましい。
リールチオラートを不溶性の塩として除去することを特
徴とする1−アルキルチオあるいは1−アリールチオメ
タンジホスホン酸化合物の製造法は、従来の方法に比し
て収率が著しく向上し、それに伴ないその精製法がより
簡便なものになり、経済的および工業的観点において極
めて有用である。
あって、本発明を制限するものではない。
(一般式(1)中、R1=H、R2=4−MeSPh、R4=H) アルゴン気流下、カリウム−tert−ブトキシド1.00g
のトルエン10ml懸濁液を加熱還流し、そこにメタンジホ
スホン酸テトライソプロピル1.32mlを加える。このとき
共沸してくるtert−ブタノールは分留装置で除去し、減
った溶媒量だけ新たにトルエンを加えることによって反
応濃度を一定に保つ。30分この操作を行なった後、ビス
(4−メチルチオフェニル)ジスルフィド2.48gのトル
エン10ml溶液を加える。引き続き、tert−ブタノールを
共沸除去しながら4時間加熱還流する。その後、反応液
を室温まで冷却し、不溶物をろ別する。ろ液に1.5規定
塩酸50mlを加え激しく撹拌する。有機層を分離し、水層
をトルエン10mlで3回抽出する。有機層を合わせ、硫酸
マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去すると表題のジ
ホスホン酸のテトライソプロピルエステルがジスルフィ
ドとの混合物として得られる。この粗生成物を20mlの濃
塩酸中で5時間加熱還流した後、反応水溶液を1.5規定
塩酸で2倍に希釈する。この水溶液をトルエン8mlで3
回洗浄することによって残存するジスルフィドを除去
し、水溶液を濃縮乾固すると白色固体が得られる。これ
をアセトン−ジクロロメタンで再結晶すると表題の化合
物1.24gが得られる〔収率94%、m.p.215〜216℃(de
c)〕。また得られた白色固体を水に溶解し炭酸ナトリ
ウムにより二ナトリウム化し、活性炭処理、ろ過、濃縮
した後、エタノール水により再結晶すれば対応するジホ
スホン酸の二ナトリウム塩を調整できる(収率93%、m.
p.300℃以上)。
(m,2H)、7.51〜7.58(m,2H) 2Na塩IR(KBr,cm-1) 1479、1197、1158、1110、1071、928 2Na塩MASS(FAB)m/z 375(M+H)+ 元素分析:C8H10O6S2P2Na2として 計算値:C 25.68% H 2.70% 実測値:C 25.81% H 2.75% 実施例2 (4−メチルチオフェニル)チオメタンジホスホン酸テ
トライソプロピル〔一般式(1)中、R1=iPr、R2=4
−MeSPh、R4=H〕 実施例1と同様の方法により、カリウムt−ブトキシ
ド9.00g、メタンジホスホン酸テトライソプロピル13.5
g,ビス(4−メチルチオフェニル)ジスルフィド12.5g
を用いて縮合反応を行い、不溶物をろ別後、ろ液を同様
に処理して表題の化合物が粗生成物(黄色油状物)とし
て19.5g得られた。HPLCによる純度分析では純度95%で
あり、表題化合物の収率は92.6%である。
トライソプロピル(一般式(1)中、R1=iPr、R2=4
−MeSPh、R4=H) アルゴン気相下、ビス(4−メチルチオフェニル)ジ
スルフィド13.7g、カリウムt−ブトキシド9.43gのトル
エン120ml懸濁液を50℃に加熱し、メタンジホスホン酸
テトライソプロピル13.8gを添加し、70℃に加熱し1時
間反応させた。反応液を常温に冷却後沈殿をろ別し沈殿
をトルエン100mlで洗浄し洗浄液をろ液に合わせ、ろ液
を2N塩酸40mlで3回洗浄し、溶媒を留去すると表題の化
合物が粗生成物として20.9g得られる。HPLC分析による
純度89.4%、収率93.6%であった。
トライソプロピル(一般式(1)中、R1=iPr、R2=4
−MeSPh、R4=H〕 アルゴン気相下、メタンジホスホン酸テトライソプロ
ピル13.8g、ビス(4−メチルチオフェニル)ジスルフ
ィド13.7gのトルエン120ml懸濁液を0−10℃に冷却し、
カリウムt−ブトキシド9.43gを添加し、1時間反応さ
せた。以下反応液を実施例3と同様に処理すると表題の
化合物が粗生成物として21.3g得られる。HPLC分析によ
る純度91.5%、収率97.6%であった。
(一般式(1)中、R1=H、R2=4−MeSPh、R4=H)
[金属酸化物として酸化マグネシウムを用いる方法] アルゴン気流下、カリウム−tert−ブトキシド0.99g,
酸化マグネシウム0.48gのトルエン10ml懸濁液を加熱還
流し、そこにメタンジホスホン酸テトライソプロピル1.
32mlを加える。このとき共沸してくるtert−ブタノール
は分留装置で除去し、減った溶媒量だけ新たなトルエン
を加えることによって反応濃度を一定に保つ。30分この
操作を行った後、ビス(4−メチルチオフェニル)ジス
ルフィド2.48gのトルエン10ml溶液を加える。引き続
き、tert−ブタノールを共沸除去しながら4時間加熱還
流する。その後、反応液を室温まで冷却し酸化マグネシ
ウムを含む不溶性固体をろ過により除去する。得られた
ろ液を1.5規定温度50mlを加え激しく攪拌する。有機層
を分離し、水層からトルエン10mlで3回抽出する。有機
層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留
去すると表題のジホスホン酸のテトライソプロピルエス
テルがジスルフィドとの混合物として得られる。この粗
生成物を20mlの濃塩酸中で5時間加熱還流した後、反応
水溶液を1.5規定塩酸で2倍に希釈する。この水溶液を
トルエン8mlで3回洗浄することによって残存するジス
ルフィドを除去し、水溶液を濃縮乾固すると白色固体が
得られる。これをアセントン−ジクロロメタンで再結晶
すると表題の化合物1.23gが得られる(収率93%、m.p.2
15〜216℃(dec))。また乾燥後に得られた白色固体を
水中で炭酸ナトリウムにより2ナトリウム化し、活性炭
処理、濾過、濃縮した後、エタノール−水により再結晶
すれば対応するジホスホン酸の2ナトリウム塩を調整で
きる(収率93%、m.p.300℃以上)。
スホン酸(一般式(1)中、R1=H、R2=4−MeSPh、R
4=H)[金属酸化物として酸化亜鉛を用いる方法] 実施例5における酸化マグネシウムの代りに酸化亜鉛
0.98gを用い、同様の操作を施すことにより表題の化合
物が90%の収率で得られる。
スホン酸(一般式(1)中、R1=H、R2=4−MeSPh、R
4=H)[金属酸化物として酸化銅を用いる方法] 実施例5における酸化マグネシウムの代りに酸化銅0.
95gを用い、同様の操作を施すことにより表題の化合物
が85%の収率で得られる。
ン酸(一般式(1)中、R1=H、R2=4−Cl−Ph、R4=
H) 原料のジスルフィドとして4、4′−ジクロロジフェ
ニルジスルフィドを用い、実施例5と同様の操作を施す
ことにより表題の化合物が92%の収率で得られる。
トライソプロピル〔一般式(1)中、R1=iPr、R2=4
−MeSPh、R4=H〕 チオラートを不溶物としてろ別しない以外は実施例2
と全く同じ操作を施すことにより、表題化合物を含む反
応粗生成物が得られた。これをカラムクロマトグラフィ
ーで精製すると表題化合物が13.20g黄色油状物として得
られた。収率は65%であった。
ラートまたはアリールチオラートを不溶性の塩として除
去することを特徴とする1−アルキルチオメタンジホス
ホン酸化合物あるいは1−アリールチオメタンジホスホ
ン酸化合物の製造法は、従来の方法に比して収率が著し
く向上し、それに伴ないその精製法がより簡便なものに
なり、経済的および工業的観点において極めて有用であ
る。
Claims (9)
- 【請求項1】下記メタンジホスホン酸テトラアルキル [式中、R′1は炭素数1〜6の直鎖あるいは分岐鎖ア
ルキル基であり、同一または異なっていてもよい、R3は
水素、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを表し、R4
は水素、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルキル基を
表す]と下記のジアルキルジスルフィドあるいはジアリ
ールジスルフィド R2S−SR2 [式中、R2は炭素数1〜20のアルキル基あるいは炭素数
3〜20のアリール基である]を反応溶媒として炭化水素
系溶媒を用い反応させてから、アルキルチオラートまた
はアリールチオラートを不溶性物質または不溶性の塩と
して除去することを特徴とする一般式(1)で示される
メタンジホスホン酸化合物 [式中、R1は薬理学的に許容できる陽イオン、水素また
は炭素数1〜6の直鎖あるいは分岐鎖アルキル基であ
り、同一または異なっていてもよい、R2、R4は前記定義
に同じ]の製造法。 - 【請求項2】R3、R4が共に水素であり、反応を塩基の存
在下行うことを特徴とする請求の範囲第1項記載のメタ
ンジホスホン酸化合物の製造法。 - 【請求項3】反応を塩基および金属酸化物の存在下行う
ことを特徴とする請求の範囲第2項記載のメタンジホス
ホン酸化合物の製造法。 - 【請求項4】金属酸化物が酸化マグネシウム、酸化亜鉛
および酸化銅からなる群より選ばれた少なくとも1種で
あることを特徴とする請求の範囲第3項記載のメタンジ
ホスホン酸化合物の製造法。 - 【請求項5】金属酸化物をメタンジホスホン酸テトラア
ルキルに対し1−5等量用いることを特徴とする請求の
範囲第3項記載のメタンジホスホン酸化合物の製造法。 - 【請求項6】塩基がアルカリ金属またはアルカリ土類金
属のヒドリド、アミド、アルキルおよびアルコラートか
らなる群より選ばれた少なくとも1種であることを特徴
とする請求の範囲第2項記載のメタンジホスホン酸化合
物の製造法。 - 【請求項7】塩基をメタンジホスホン酸テトラアルキル
に対し2−5等量用いることを特徴とする請求の範囲第
2項記載のメタンジホスホン酸化合物の製造法。 - 【請求項8】炭化水素系溶媒がベンゼン、トルエン、キ
シレン、シクロヘキサン、ヘキサンまたはペンタンであ
る請求の範囲第2項記載のメタンジホスホン酸化合物の
製造法。 - 【請求項9】反応温度が−20℃以上溶媒の沸点以下であ
ることを特徴とする請求の範囲第2項記載のメタンジホ
スホン酸化合物の製造法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-199443 | 1994-08-24 | ||
JP19944394 | 1994-08-24 | ||
PCT/JP1995/001683 WO1996006100A1 (fr) | 1994-08-24 | 1995-08-24 | Procede d'elaboration d'un compose d'acide methanediphosphonique |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3493663B2 true JP3493663B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=16407907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50794896A Expired - Fee Related JP3493663B2 (ja) | 1994-08-24 | 1995-08-24 | 「メタンジホスホン酸化合物の製造法」 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5886206A (ja) |
EP (1) | EP0725070B1 (ja) |
JP (1) | JP3493663B2 (ja) |
KR (1) | KR100369929B1 (ja) |
CN (1) | CN1055476C (ja) |
AT (1) | ATE235499T1 (ja) |
AU (1) | AU699641B2 (ja) |
CA (1) | CA2174435A1 (ja) |
DE (1) | DE69530064T2 (ja) |
ES (1) | ES2196075T3 (ja) |
FI (1) | FI961749A (ja) |
NO (1) | NO961540D0 (ja) |
TW (1) | TW327173B (ja) |
WO (1) | WO1996006100A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030030075A (ko) * | 2001-10-06 | 2003-04-18 | 조한주 | 원심력을 이용한 휴대용 산소 방울 콘택트 렌즈 세척기 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2531088B1 (fr) * | 1982-07-29 | 1987-08-28 | Sanofi Sa | Produits anti-inflammatoires derives de l'acide methylenediphosphonique et leur procede de preparation |
CH675422A5 (ja) * | 1988-03-31 | 1990-09-28 | Symphar Sa | |
JPH0377894A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-04-03 | Toray Ind Inc | メチレンジホスホン酸化合物 |
JP3341303B2 (ja) * | 1991-07-11 | 2002-11-05 | 東レ株式会社 | メチレンジホスホン酸誘導体、その製造方法およびその医薬用途 |
ES2155446T3 (es) * | 1992-07-10 | 2001-05-16 | Toray Industries | Derivado de metanodifosfonato, su produccion y su uso farmaceutico. |
CN1038033C (zh) * | 1993-02-25 | 1998-04-15 | 东丽株式会社 | 甲基二膦酸化合物的制备方法 |
-
1995
- 1995-08-24 US US08/632,421 patent/US5886206A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-08-24 KR KR1019960702109A patent/KR100369929B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-08-24 CN CN95191046A patent/CN1055476C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-08-24 WO PCT/JP1995/001683 patent/WO1996006100A1/ja active IP Right Grant
- 1995-08-24 EP EP95929223A patent/EP0725070B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-08-24 JP JP50794896A patent/JP3493663B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-08-24 DE DE69530064T patent/DE69530064T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-08-24 AU AU32650/95A patent/AU699641B2/en not_active Ceased
- 1995-08-24 ES ES95929223T patent/ES2196075T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-08-24 CA CA002174435A patent/CA2174435A1/en not_active Abandoned
- 1995-08-24 AT AT95929223T patent/ATE235499T1/de not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-02-13 TW TW085101794A patent/TW327173B/zh active
- 1996-04-18 NO NO961540A patent/NO961540D0/no unknown
- 1996-04-23 FI FI961749A patent/FI961749A/fi unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2196075T3 (es) | 2003-12-16 |
FI961749A0 (fi) | 1996-04-23 |
CN1137276A (zh) | 1996-12-04 |
US5886206A (en) | 1999-03-23 |
TW327173B (en) | 1998-02-21 |
AU699641B2 (en) | 1998-12-10 |
AU3265095A (en) | 1996-03-14 |
WO1996006100A1 (fr) | 1996-02-29 |
CA2174435A1 (en) | 1996-02-29 |
NO961540L (no) | 1996-04-18 |
EP0725070A4 (en) | 1997-10-22 |
EP0725070A1 (en) | 1996-08-07 |
EP0725070B1 (en) | 2003-03-26 |
ATE235499T1 (de) | 2003-04-15 |
DE69530064D1 (de) | 2003-04-30 |
KR960705831A (ko) | 1996-11-08 |
NO961540D0 (no) | 1996-04-18 |
FI961749A (fi) | 1996-04-23 |
KR100369929B1 (ko) | 2003-04-08 |
CN1055476C (zh) | 2000-08-16 |
DE69530064T2 (de) | 2003-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6261595B2 (ja) | ||
JP3493663B2 (ja) | 「メタンジホスホン酸化合物の製造法」 | |
MXPA06015262A (es) | Proceso para preparar ((1(hidroximetil)-ciclopropil)oxi) metilfosfonato de di-isopropilo. | |
US5155257A (en) | Process for the preparation of acylaminomethanephosphonic acids | |
US4325886A (en) | Optical resolution of acylthiopropionic acid | |
JP2004511475A (ja) | ラセミ体チオクト酸の製造方法 | |
JP2546067B2 (ja) | メタンジホスホン酸化合物の製造方法 | |
KR100233068B1 (ko) | 2-치환된 4,6-디알콕시피리미딘의 제조방법 | |
US5684161A (en) | Process for preparing 1-substituted pyrrole-3-carboxylic acid derivatives | |
JPH0737440B2 (ja) | スルホニウム化合物の製造方法 | |
KR20120100977A (ko) | 2-티오히스티딘 및 이것의 유사체의 합성법 | |
EP0366149B1 (en) | Improved process for the synthesis of 3-chloro-2,4,5-trifluorobenzoic acid | |
EP0432898B1 (en) | Glutaric acid derivatives and preparation thereof | |
JPH10130284A (ja) | メタンジホスホン酸化合物の製造法 | |
JP4345095B2 (ja) | 銅塩を用いるアミド化合物の高選択的o−アルキル化方法 | |
JPH0623176B2 (ja) | 非対称ジチオアセタール及びジチオケタールの製造方法 | |
JP3740783B2 (ja) | 4−(2−アルケニル)−2,5−オキサゾリジンジオン類の製造法 | |
EP0066440B1 (en) | Chemical process | |
JP3013760B2 (ja) | 4−ヒドロキシ−2−ピロリドンの製法 | |
JP3272377B2 (ja) | 光学活性なグルタル酸エステル誘導体の光学分割法 | |
WO1995000470A1 (en) | Novel processes for preparing (s)-4-amino-hepta-5,6-dienoic acid and intermediates thereof | |
PT1436263E (pt) | Um processo para se preparar um composto beta-cetoéster | |
JP3605855B2 (ja) | α−デヒドロアミノ酸エステルの製造法 | |
JP3272170B2 (ja) | ピリジン誘導体の製造法 | |
NO300547B1 (no) | Fremgangsmåte for fremstilling av en metandifosfonatforbindelse |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101121 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101121 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |