JP3487699B2 - 超音波処理方法および装置 - Google Patents
超音波処理方法および装置Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/10—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing sonic or ultrasonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D21/00—Separation of suspended solid particles from liquids by sedimentation
- B01D21/28—Mechanical auxiliary equipment for acceleration of sedimentation, e.g. by vibrators or the like
- B01D21/283—Settling tanks provided with vibrators
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D21/00—Separation of suspended solid particles from liquids by sedimentation
- B01D21/30—Control equipment
- B01D21/34—Controlling the feed distribution; Controlling the liquid level ; Control of process parameters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D43/00—Separating particles from liquids, or liquids from solids, otherwise than by sedimentation or filtration
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流体中における微
粒子、溶質の濃縮並びに除去、分画、配列のための方法
および装置に関する。
粒子、溶質の濃縮並びに除去、分画、配列のための方法
および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】超音波の輻射圧を微粒子に作用させたと
き、微粒子が受ける輻射圧については例えば、ジョンル
ブが、ジャーナル オブ アクースティカル ソサエ
ティーオブ アメリカ 第89巻2140頁から214
3頁(1991年)に、集束超音波の集束点に直径27
0μmのポリスチレン球を捕獲することに成功したこと
を報告している。また、この超音波の輻射圧によって微
粒子が捕獲される原理に関しては、吉岡らがアコーステ
ィカ 第5巻167頁から178頁に、定在波、進行波
中で微粒子が受ける超音波輻射圧の完全流体中での大き
さを計算している。また、特開平7−47259に開示
されているように流体を流した管中に超音波を導入して
連続的に微粒子をある範囲に集束させる手法、あるい
は、集束させた微粒子を回収する方法も発明されてお
り、さらに、特開平6−241977に開示されている
ように超音波の輻射圧と静電場などの他の外力とを組み
合わせることで粒径の異なる微粒子や材質の異なる微粒
子を分画回収する微粒子分画装置も発明されている。
き、微粒子が受ける輻射圧については例えば、ジョンル
ブが、ジャーナル オブ アクースティカル ソサエ
ティーオブ アメリカ 第89巻2140頁から214
3頁(1991年)に、集束超音波の集束点に直径27
0μmのポリスチレン球を捕獲することに成功したこと
を報告している。また、この超音波の輻射圧によって微
粒子が捕獲される原理に関しては、吉岡らがアコーステ
ィカ 第5巻167頁から178頁に、定在波、進行波
中で微粒子が受ける超音波輻射圧の完全流体中での大き
さを計算している。また、特開平7−47259に開示
されているように流体を流した管中に超音波を導入して
連続的に微粒子をある範囲に集束させる手法、あるい
は、集束させた微粒子を回収する方法も発明されてお
り、さらに、特開平6−241977に開示されている
ように超音波の輻射圧と静電場などの他の外力とを組み
合わせることで粒径の異なる微粒子や材質の異なる微粒
子を分画回収する微粒子分画装置も発明されている。
【0003】また、異なる振動数の超音波を重ね合わせ
て照射することで、流体中の焦点位置で効果的に気泡を
発生させることに関しても、その原理に関して梅村らが
アイ・イー・イー・イー 1994 ウルトラソニック
シンポジウム プロシーディング 1843頁から1
846頁(1994年)に報告している。
て照射することで、流体中の焦点位置で効果的に気泡を
発生させることに関しても、その原理に関して梅村らが
アイ・イー・イー・イー 1994 ウルトラソニック
シンポジウム プロシーディング 1843頁から1
846頁(1994年)に報告している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は超音波
を微粒子に作用させることで微粒子を濃縮させたり、あ
るいは超音波と電場によって流体中の微粒子をその物理
特性に応じて各々特定の範囲に分画、回収させることが
できる装置に関する技術であり、超音波が作り出す位置
ポテンシャル分布の形状を自在に制御する技術に関する
配慮がなされていなかった。また、微粒子を周期的に配
列させる技術に関する配慮がなされていなかった。
を微粒子に作用させることで微粒子を濃縮させたり、あ
るいは超音波と電場によって流体中の微粒子をその物理
特性に応じて各々特定の範囲に分画、回収させることが
できる装置に関する技術であり、超音波が作り出す位置
ポテンシャル分布の形状を自在に制御する技術に関する
配慮がなされていなかった。また、微粒子を周期的に配
列させる技術に関する配慮がなされていなかった。
【0005】また、特に生物試料を扱う場合には試料を
含む流体の温度制御が重要であるが、従来の技術では溶
液温度制御に関する配慮がなされていなかった。
含む流体の温度制御が重要であるが、従来の技術では溶
液温度制御に関する配慮がなされていなかった。
【0006】本発明は、(1)超音波によって作り出さ
れる位置ポテンシャル分布の形状を自在に制御し、流体
中の微粒子の受ける輻射圧の強度分布を自在に制御する
こと、あるいは、(2)微粒子を濃縮することおよび濃
縮した微粒子を回収すること、あるいは、(3)流体中
の微粒子をその大きさ、あるいはその物性に応じて分画
すること、あるいは、(4)濃縮された微粒子あるいは
分画された微粒子を測定すること、あるいは、(5)前
記微粒子の濃縮の程度、分画の程度あるいは回収の程度
を調整すること、あるいは、(6)微粒子を周期的に配
列させること、あるいは、(7)微粒子を含む流体の温
度を制御すること、を容易に実現する微粒子の処理装置
を提供することを目的とする。
れる位置ポテンシャル分布の形状を自在に制御し、流体
中の微粒子の受ける輻射圧の強度分布を自在に制御する
こと、あるいは、(2)微粒子を濃縮することおよび濃
縮した微粒子を回収すること、あるいは、(3)流体中
の微粒子をその大きさ、あるいはその物性に応じて分画
すること、あるいは、(4)濃縮された微粒子あるいは
分画された微粒子を測定すること、あるいは、(5)前
記微粒子の濃縮の程度、分画の程度あるいは回収の程度
を調整すること、あるいは、(6)微粒子を周期的に配
列させること、あるいは、(7)微粒子を含む流体の温
度を制御すること、を容易に実現する微粒子の処理装置
を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は基本的に
は、超音波によって作り出される位置ポテンシャル分布
の形状を自在に制御するため、一つあるいは複数の音源
から異なる周波数の超音波を同時に発生させ、これらを
重ね合せることで自在な形状の位置ポテンシャル分布を
作り出す手段を有し、また、この位置ポテンシャル分布
を時間変化に応じて変化させる手段によって実現され
る。
は、超音波によって作り出される位置ポテンシャル分布
の形状を自在に制御するため、一つあるいは複数の音源
から異なる周波数の超音波を同時に発生させ、これらを
重ね合せることで自在な形状の位置ポテンシャル分布を
作り出す手段を有し、また、この位置ポテンシャル分布
を時間変化に応じて変化させる手段によって実現され
る。
【0008】
【発明の実施の形態】先にも述べたように、吉岡らがア
コースティカ 第5巻167頁から178頁に述べてい
る音波の与える輻射圧に関する理論解析によると、たと
えば波数ベクトルkの平面定在波p(x)
コースティカ 第5巻167頁から178頁に述べてい
る音波の与える輻射圧に関する理論解析によると、たと
えば波数ベクトルkの平面定在波p(x)
【0009】
【数1】
【0010】において、節の位置からの距離xの位置に
微粒子があるとき、この微粒子の受ける輻射圧は、
微粒子があるとき、この微粒子の受ける輻射圧は、
【0011】
【数2】
【0012】
【数3】
【0013】と置くことができる。ただし、ここでp
(x)は位置xでの音圧、p0は静水圧、p1は音圧振
幅、ωは超音波の角周波数、tは時間、Fは超音波が微
粒子に与える輻射圧、Rは微粒子の半径、kは超音波の
波数、Eは超音波の平均エネルギー密度、ρは微粒子の
密度、ρ’は分散媒の密度、γは微粒子の圧縮率、γ’
は分散媒の圧縮率である。そして、微粒子と溶媒との関
係においてAが正のとき微粒子は定在波の節へ、負のと
き腹へ集まろうとする。
(x)は位置xでの音圧、p0は静水圧、p1は音圧振
幅、ωは超音波の角周波数、tは時間、Fは超音波が微
粒子に与える輻射圧、Rは微粒子の半径、kは超音波の
波数、Eは超音波の平均エネルギー密度、ρは微粒子の
密度、ρ’は分散媒の密度、γは微粒子の圧縮率、γ’
は分散媒の圧縮率である。そして、微粒子と溶媒との関
係においてAが正のとき微粒子は定在波の節へ、負のと
き腹へ集まろうとする。
【0014】上記公知例は波数ベクトルkの平面定在波
中での微粒子が受ける超音波輻射圧であったが、本発明
の自在な形状の位置ポテンシャル分布を作り出す手段に
おいては、複数の異なる強度、位相、振動数の超音波を
重ね合せることで超音波の強度の空間分布を作り出し、
特定の空間分布を持った位置ポテンシャル分布が作り出
される。
中での微粒子が受ける超音波輻射圧であったが、本発明
の自在な形状の位置ポテンシャル分布を作り出す手段に
おいては、複数の異なる強度、位相、振動数の超音波を
重ね合せることで超音波の強度の空間分布を作り出し、
特定の空間分布を持った位置ポテンシャル分布が作り出
される。
【0015】図1に、本発明の超音波処理方法および装
置の概念図を示し、以下にこの図を用いて本発明の超音
波処理方法および装置を説明する。
置の概念図を示し、以下にこの図を用いて本発明の超音
波処理方法および装置を説明する。
【0016】 本発明にかかる装置の構成例は、濃縮、
排除あるいは配列させたい試料を含む試料溶液1、これ
を蓄えておく容器2、試料溶液に超音波を作用させる容
器5、超音波を作用させる容器5に接するように配置さ
れ、前記超音波を作用させる容器5中の微粒子に所定の
方向に向かう力、あるいは所定の領域に留まる力を作用
させる位置ポテンシャル勾配を作り出す超音波の強度分
布を作り出すために、特定の強度、特定の周波数、特定
の位相の超音波あるいはこれらを重ね合せた超音波を前
記超音波を作用させる容器5に導入させるべく配置した
照射超音波発生源6、7、超音波を作用させる容器5中
の微粒子の分布を測定する微粒子観測装置8、超音波の
輻射圧と、超音波以外の別の外力とを加えることで異な
る材質、あるいは粒径の微粒子を分画することができる
微粒子分画装置9、超音波を作用させる容器5中の溶液
を吸引する速度あるいは、前記容器5中の濃縮した微粒
子を吸引する速度を調節する流速制御装置16、17、
超音波を作用させる容器の温度を制御する温度制御装置
15、そして超音波発生源の発生超音波の制御、微粒子
分画装置の発生超音波の制御、微粒子分画装置部の別の
外力の制御、温度制御装置15の制御、流速制御装置1
6、17の制御、微粒子観測装置部の観測結果を解析
し、その結果をもとに発生超音波の制御、別の外力の制
御、温度制御、流速制御を行う制御装置10からなる。
なお、13は濃縮試料の流れ、14は溶液の流れを示
す。
排除あるいは配列させたい試料を含む試料溶液1、これ
を蓄えておく容器2、試料溶液に超音波を作用させる容
器5、超音波を作用させる容器5に接するように配置さ
れ、前記超音波を作用させる容器5中の微粒子に所定の
方向に向かう力、あるいは所定の領域に留まる力を作用
させる位置ポテンシャル勾配を作り出す超音波の強度分
布を作り出すために、特定の強度、特定の周波数、特定
の位相の超音波あるいはこれらを重ね合せた超音波を前
記超音波を作用させる容器5に導入させるべく配置した
照射超音波発生源6、7、超音波を作用させる容器5中
の微粒子の分布を測定する微粒子観測装置8、超音波の
輻射圧と、超音波以外の別の外力とを加えることで異な
る材質、あるいは粒径の微粒子を分画することができる
微粒子分画装置9、超音波を作用させる容器5中の溶液
を吸引する速度あるいは、前記容器5中の濃縮した微粒
子を吸引する速度を調節する流速制御装置16、17、
超音波を作用させる容器の温度を制御する温度制御装置
15、そして超音波発生源の発生超音波の制御、微粒子
分画装置の発生超音波の制御、微粒子分画装置部の別の
外力の制御、温度制御装置15の制御、流速制御装置1
6、17の制御、微粒子観測装置部の観測結果を解析
し、その結果をもとに発生超音波の制御、別の外力の制
御、温度制御、流速制御を行う制御装置10からなる。
なお、13は濃縮試料の流れ、14は溶液の流れを示
す。
【0017】まず、試料を含む溶液1は管3を通して矢
印4の方向に、超音波を作用させる容器5へと導入され
る。つぎに、容器5中に導入された試料に超音波を照射
し、この照射超音波によって作り出された特定の位置ポ
テンシャル分布によって、微粒子をポテンシャルの極小
点に集めることができる。また、このとき超音波を作用
させる容器5の温度を温度制御装置15で制御すること
で、容器5中の溶液温度を超音波照射中も一定に保つこ
とができる。また、生物試料を用いる場合にはその試料
に適した溶液温度に調節することもできる。試料の濃縮
効果は容器5中を観察する微粒子観察装置8で連続的に
観察させることもできる。この観測の結果、試料の濃縮
効果が十分ではなかった場合には、制御装置10より制
御することで、超音波発生源の発生超音波の強度、位置
ポテンシャル分布の形状を変化させたり、超音波を作用
させる容器5中の溶液を吸引する速度あるいは、前記容
器5中の濃縮した微粒子を吸引する速度を調節すること
もできる。
印4の方向に、超音波を作用させる容器5へと導入され
る。つぎに、容器5中に導入された試料に超音波を照射
し、この照射超音波によって作り出された特定の位置ポ
テンシャル分布によって、微粒子をポテンシャルの極小
点に集めることができる。また、このとき超音波を作用
させる容器5の温度を温度制御装置15で制御すること
で、容器5中の溶液温度を超音波照射中も一定に保つこ
とができる。また、生物試料を用いる場合にはその試料
に適した溶液温度に調節することもできる。試料の濃縮
効果は容器5中を観察する微粒子観察装置8で連続的に
観察させることもできる。この観測の結果、試料の濃縮
効果が十分ではなかった場合には、制御装置10より制
御することで、超音波発生源の発生超音波の強度、位置
ポテンシャル分布の形状を変化させたり、超音波を作用
させる容器5中の溶液を吸引する速度あるいは、前記容
器5中の濃縮した微粒子を吸引する速度を調節すること
もできる。
【0018】次に、超音波の輻射圧と、超音波以外の別
の外力とを加えることで異なる材質、あるいは粒径の微
粒子を分画することができる微粒子分画装置部9に導入
された微粒子は、おのおのの材質あるいは粒径に応じ
て、異なる釣合の位置を持つことから、それぞれの釣合
の位置に微粒子を集めることができる。したがって、容
器5中の微粒子分画装置9での微粒子の分布を測定する
ことで、材質、粒径分布などの微粒子の組成分析を行う
ことができる。また、それぞれの釣合の位置に集まった
微粒子を選択的に回収することで特定の組成の微粒子を
回収することもできる。
の外力とを加えることで異なる材質、あるいは粒径の微
粒子を分画することができる微粒子分画装置部9に導入
された微粒子は、おのおのの材質あるいは粒径に応じ
て、異なる釣合の位置を持つことから、それぞれの釣合
の位置に微粒子を集めることができる。したがって、容
器5中の微粒子分画装置9での微粒子の分布を測定する
ことで、材質、粒径分布などの微粒子の組成分析を行う
ことができる。また、それぞれの釣合の位置に集まった
微粒子を選択的に回収することで特定の組成の微粒子を
回収することもできる。
【0019】超音波を作用させる容器中において発生さ
せる位置ポテンシャル分布は、超音波発生源6、7から
容器中に照射する強度、振動数、位相の異なる複数の超
音波を重ね合わせることで、特定の位置ポテンシャル分
布を容器中に発生させることができる。たとえば図2
(a)に包絡線18、19で示したような三角波の定在
波を容器5中に起こすことで図2(b)で示したような
ポテンシャル勾配20を作り出すことができる。(数
2)で示されたような単純な正弦波中での勾配力場では
定在波の節あるいは腹の位置に近づくに従って微粒子が
受ける超音波輻射圧は減少し、これらの近傍では超音波
輻射圧は微粒子にほとんど作用しなくなるが、図2(b)
で示したような三角波の勾配力場の中では、座標に依存
した輻射圧の減衰は起こらず、微粒子の受ける輻射圧は
座標に依らずほぼ一定である。このような三角波型の勾
配力場を超音波でもたらすには、
せる位置ポテンシャル分布は、超音波発生源6、7から
容器中に照射する強度、振動数、位相の異なる複数の超
音波を重ね合わせることで、特定の位置ポテンシャル分
布を容器中に発生させることができる。たとえば図2
(a)に包絡線18、19で示したような三角波の定在
波を容器5中に起こすことで図2(b)で示したような
ポテンシャル勾配20を作り出すことができる。(数
2)で示されたような単純な正弦波中での勾配力場では
定在波の節あるいは腹の位置に近づくに従って微粒子が
受ける超音波輻射圧は減少し、これらの近傍では超音波
輻射圧は微粒子にほとんど作用しなくなるが、図2(b)
で示したような三角波の勾配力場の中では、座標に依存
した輻射圧の減衰は起こらず、微粒子の受ける輻射圧は
座標に依らずほぼ一定である。このような三角波型の勾
配力場を超音波でもたらすには、
【0020】
【数4】
【0021】のように、複数の振動数の超音波を、その
各々の振動数に応じて強度を調節した後に、これらを重
ね合せた超音波を超音波発生源6、7から容器5中に導
入すればよい。ただし、ここで、pは位置xでの音圧の
包絡線を示し、p0は容器中の静水圧、p1は超音波の圧
力振幅、kは超音波の基本波数ベクトル、ωは超音波の
基本角周波数、δは、複数の超音波振動子から発生した
複数の超音波の間の位相のずれである。
各々の振動数に応じて強度を調節した後に、これらを重
ね合せた超音波を超音波発生源6、7から容器5中に導
入すればよい。ただし、ここで、pは位置xでの音圧の
包絡線を示し、p0は容器中の静水圧、p1は超音波の圧
力振幅、kは超音波の基本波数ベクトル、ωは超音波の
基本角周波数、δは、複数の超音波振動子から発生した
複数の超音波の間の位相のずれである。
【0022】定在波を容器5中に起こす場合には基本波
数ベクトルkが、管内壁の幅Lに対してk=(2π/
L)・(m+1/2)と等しくなることが望ましい。た
だし、ここでmは整数である。また、(数4)では角周
波数ωからnωまでの正弦波を重ね合わせたが、ここで
nは整数の値で∞となることが理想であるが、実際の装
置構成ではnは有限の値でよい。実際に、たとえばn=
10の場合には図3(a)のような重ね合わせの波形が
作られ、n=100の場合には図3(b)のような重ね
合せの波形が形成され、どちらも図2(a)で示したよ
うな三角波を近似的に作り出すことができている。
数ベクトルkが、管内壁の幅Lに対してk=(2π/
L)・(m+1/2)と等しくなることが望ましい。た
だし、ここでmは整数である。また、(数4)では角周
波数ωからnωまでの正弦波を重ね合わせたが、ここで
nは整数の値で∞となることが理想であるが、実際の装
置構成ではnは有限の値でよい。実際に、たとえばn=
10の場合には図3(a)のような重ね合わせの波形が
作られ、n=100の場合には図3(b)のような重ね
合せの波形が形成され、どちらも図2(a)で示したよ
うな三角波を近似的に作り出すことができている。
【0023】また、(数4)のような圧力振動を超音波
発生源6、7に発生させるためには、たとえば超音波発
生源が圧電素子であった場合には、
発生源6、7に発生させるためには、たとえば超音波発
生源が圧電素子であった場合には、
【0024】
【数5】
【0025】のような電圧振動Vを圧電素子に与えれば
よい。ただし、ここでV0はオフセット電圧、V1は電圧
振幅、ωは超音波の基本角周波数、B(ω)は異なる角
周波数ωでの電圧振幅の圧電素子の厚み振動振幅への変
換効率の不均一性を補正する補正項、αは複数の超音波
振動子を用いた場合の、各振動子の振動の位相を補正す
るオフセットである。この場合も同様にnは整数であり
∞となることが望ましいが、実際には有限の値でよい。
よい。ただし、ここでV0はオフセット電圧、V1は電圧
振幅、ωは超音波の基本角周波数、B(ω)は異なる角
周波数ωでの電圧振幅の圧電素子の厚み振動振幅への変
換効率の不均一性を補正する補正項、αは複数の超音波
振動子を用いた場合の、各振動子の振動の位相を補正す
るオフセットである。この場合も同様にnは整数であり
∞となることが望ましいが、実際には有限の値でよい。
【0026】また、十分に濃縮された微粒子を取り扱う
場合には、図4(a)に矩形波となる包絡線21、22
で示したような定在波を容器5中に起こして図4(b)
で示したようなポテンシャル勾配23を作り出すことが
できる。超音波の輻射圧で微粒子を濃縮する場合、定常
状態に達した時の濃縮された微粒子の濃度分布は、微粒
子が受ける超音波輻射圧と拡散力との釣合で決まる。し
たがって、図4(b)で示されたようなポテンシャル勾
配中では、定在波の節の位置で微粒子が受ける超音波の
輻射圧は最大となり、微粒子の濃縮効率は最大となる。
このような矩形波型の勾配力場を超音波でもたらすに
は、
場合には、図4(a)に矩形波となる包絡線21、22
で示したような定在波を容器5中に起こして図4(b)
で示したようなポテンシャル勾配23を作り出すことが
できる。超音波の輻射圧で微粒子を濃縮する場合、定常
状態に達した時の濃縮された微粒子の濃度分布は、微粒
子が受ける超音波輻射圧と拡散力との釣合で決まる。し
たがって、図4(b)で示されたようなポテンシャル勾
配中では、定在波の節の位置で微粒子が受ける超音波の
輻射圧は最大となり、微粒子の濃縮効率は最大となる。
このような矩形波型の勾配力場を超音波でもたらすに
は、
【0027】
【数6】
【0028】のように、複数の振動数の超音波を、その
各々の振動数に応じて強度を調節した後に、これらを重
ね合せた超音波を超音波発生源6、7から容器5中に導
入すればよい。ただし、ここで、pは位置xでの音圧の
包絡線を示し、p0は容器中の静水圧、p1は超音波の圧
力振幅、kは超音波の基本波数ベクトル、ωは超音波の
基本角周波数、δは、複数の超音波振動子から発生した
複数の超音波の間の位相のオフセットである。定在波を
容器5中に起こす場合には基本波数ベクトルkが、管内
壁の幅Lに対してk=(2π/L)・(m+1/2)と等
しくなることが望ましい。ただし、ここでmは整数であ
る。
各々の振動数に応じて強度を調節した後に、これらを重
ね合せた超音波を超音波発生源6、7から容器5中に導
入すればよい。ただし、ここで、pは位置xでの音圧の
包絡線を示し、p0は容器中の静水圧、p1は超音波の圧
力振幅、kは超音波の基本波数ベクトル、ωは超音波の
基本角周波数、δは、複数の超音波振動子から発生した
複数の超音波の間の位相のオフセットである。定在波を
容器5中に起こす場合には基本波数ベクトルkが、管内
壁の幅Lに対してk=(2π/L)・(m+1/2)と等
しくなることが望ましい。ただし、ここでmは整数であ
る。
【0029】また、(数6)では角周波数ωからnωま
での正弦波を重ね合わせたが、ここでnは整数の値で∞
となることが理想であるが、実際の装置構成ではnは有
限の値でよい。実際に、たとえばn=10の場合には図
5(a)のような重ね合わせの波形が作られ、n=10
0の場合には図5(b)のような重ね合せの波形が形成
され、図4(a)で示したような矩形波を近似的に作り
出すことができており、特に定在波の節の位置の近傍で
は三角波と比べても十分に大きな超音波強度変化の勾配
を持つことができることがわかる。
での正弦波を重ね合わせたが、ここでnは整数の値で∞
となることが理想であるが、実際の装置構成ではnは有
限の値でよい。実際に、たとえばn=10の場合には図
5(a)のような重ね合わせの波形が作られ、n=10
0の場合には図5(b)のような重ね合せの波形が形成
され、図4(a)で示したような矩形波を近似的に作り
出すことができており、特に定在波の節の位置の近傍で
は三角波と比べても十分に大きな超音波強度変化の勾配
を持つことができることがわかる。
【0030】従って、同様に複数の異なる強度、位相、
波長の超音波を重ね合せることで目的とする位置ポテン
シャル分布を作り出すことができる。(数4)から(数
6)の例では目的とする位置ポテンシャル分布を作り出
すために複数の正弦波を重ね合せることでフーリエ合成
を行ったが、実際には目的のポテンシャル形状を実現可
能であれば、超音波発生源からの容器5への入力超音波
波形は何でもよい。
波長の超音波を重ね合せることで目的とする位置ポテン
シャル分布を作り出すことができる。(数4)から(数
6)の例では目的とする位置ポテンシャル分布を作り出
すために複数の正弦波を重ね合せることでフーリエ合成
を行ったが、実際には目的のポテンシャル形状を実現可
能であれば、超音波発生源からの容器5への入力超音波
波形は何でもよい。
【0031】また、濃縮の効果を高めるために容器5中
に発生させる超音波の形状を連続的に変化させ、濃縮の
程度に応じてポテンシャル形状を漸次変化させてもよ
い。例えば、濃縮の初期の段階では図2(b)で示した
ような三角波型の位置ポテンシャル勾配を作り、徐々に
微粒子が濃縮されるに従って位置ポテンシャル極小点近
傍のポテンシャル勾配の傾きを急にしてゆき、最終的に
図4(b)で示したようなポテンシャル勾配が最大とな
るようなポテンシャル勾配を作り出すことで微粒子を効
果的に濃縮することもできる。
に発生させる超音波の形状を連続的に変化させ、濃縮の
程度に応じてポテンシャル形状を漸次変化させてもよ
い。例えば、濃縮の初期の段階では図2(b)で示した
ような三角波型の位置ポテンシャル勾配を作り、徐々に
微粒子が濃縮されるに従って位置ポテンシャル極小点近
傍のポテンシャル勾配の傾きを急にしてゆき、最終的に
図4(b)で示したようなポテンシャル勾配が最大とな
るようなポテンシャル勾配を作り出すことで微粒子を効
果的に濃縮することもできる。
【0032】また、濃縮後あるいは濃縮過程の途中で、
梅村らがアイ・イー・イー・イー1994 ウルトラソ
ニック シンポジウム プロシーディング 1843頁
から1846頁(1994年)で述べているように、基
本振動数の超音波とその2倍振動数の超音波とを重ね合
せることで、その重ね合せた場所でキャビテーションを
発生させることもできる。
梅村らがアイ・イー・イー・イー1994 ウルトラソ
ニック シンポジウム プロシーディング 1843頁
から1846頁(1994年)で述べているように、基
本振動数の超音波とその2倍振動数の超音波とを重ね合
せることで、その重ね合せた場所でキャビテーションを
発生させることもできる。
【0033】図6(a)に、本発明を用いた第1の実施
例として微粒子連続濃縮装置の濃縮装置の横からの断面
の摸式図を示す。また、図6(b)に本実施例の装置構
成の模式図を示す。
例として微粒子連続濃縮装置の濃縮装置の横からの断面
の摸式図を示す。また、図6(b)に本実施例の装置構
成の模式図を示す。
【0034】この装置では、まず、微粒子を含む流体を
流す管26の両側壁261、262と、この壁面に貼付
られ、管の中に定在波27を発生させる超音波振動子2
41、242とからなっており、液体中の微粒子25等
の溶質を超音波によって集めることができる。流体が水
である場合、超音波振動子241、242から発生する
超音波の振動数が1MHzの時、水中での波長λは1.
5mmとなり管の幅29がλ/2あるいは(λ/2+n
λ)であれば、(数1)で示されたような定在波27が
管26中に発生する。ただし、ここでnは整数である。
定在波27中で微粒子25は、(数3)で示されたよう
な微粒子と水の音速および密度の関係に依存して定在波
の節の部分に集まる微粒子と腹の部分に集まる微粒子に
分かれ、定在波の節の位置あるいは腹の位置に濃縮する
ことができる。また、本実施例の濃縮装置は、管26中
の微粒子を濃縮する時、管26中の流体は静止していて
も、流れていてもよい。
流す管26の両側壁261、262と、この壁面に貼付
られ、管の中に定在波27を発生させる超音波振動子2
41、242とからなっており、液体中の微粒子25等
の溶質を超音波によって集めることができる。流体が水
である場合、超音波振動子241、242から発生する
超音波の振動数が1MHzの時、水中での波長λは1.
5mmとなり管の幅29がλ/2あるいは(λ/2+n
λ)であれば、(数1)で示されたような定在波27が
管26中に発生する。ただし、ここでnは整数である。
定在波27中で微粒子25は、(数3)で示されたよう
な微粒子と水の音速および密度の関係に依存して定在波
の節の部分に集まる微粒子と腹の部分に集まる微粒子に
分かれ、定在波の節の位置あるいは腹の位置に濃縮する
ことができる。また、本実施例の濃縮装置は、管26中
の微粒子を濃縮する時、管26中の流体は静止していて
も、流れていてもよい。
【0035】つぎに、濃縮した微粒子の回収について記
す。流体中で微粒子を濃縮した後、可動式の固定棒31
で管26内に固定された細管30を、管内での移動量を
モニターする機能を持った細管駆動部32によって矢印
の方向351、352に動かすことで管26内の適当な
位置に移動させ、その位置の流体を吸引させることで、
定在波の節に集束した微粒子や、腹の位置に集束した微
粒子を含む流体を選択的に吸引させたり、微粒子を含ま
ない流体を選択的に吸引させることができる。また、本
実施例では光源39より照射した光の微粒子による散乱
光あるいは微粒子の蛍光を観測窓37から観測装置38
を用いて観測することで管26中で定在波の節あるいは
腹の位置に濃縮された微粒子の数を計測することもでき
る。また、本実施例のような1次元の定在波中では微粒
子はその長軸方向が定在波の節に沿うように配向するの
で、その形状判別を行うこともできる。
す。流体中で微粒子を濃縮した後、可動式の固定棒31
で管26内に固定された細管30を、管内での移動量を
モニターする機能を持った細管駆動部32によって矢印
の方向351、352に動かすことで管26内の適当な
位置に移動させ、その位置の流体を吸引させることで、
定在波の節に集束した微粒子や、腹の位置に集束した微
粒子を含む流体を選択的に吸引させたり、微粒子を含ま
ない流体を選択的に吸引させることができる。また、本
実施例では光源39より照射した光の微粒子による散乱
光あるいは微粒子の蛍光を観測窓37から観測装置38
を用いて観測することで管26中で定在波の節あるいは
腹の位置に濃縮された微粒子の数を計測することもでき
る。また、本実施例のような1次元の定在波中では微粒
子はその長軸方向が定在波の節に沿うように配向するの
で、その形状判別を行うこともできる。
【0036】また、管26中に超音波振動子241、2
42に沿って2枚の平板電極を挿入し、これに電位差を
与えることで、流路29に静電場を発生させることもで
きる。このとき、管26中の微粒子25は、それらの持
っている表面電荷による静電力と超音波の輻射圧とが釣
り合った場所に各々濃縮される。
42に沿って2枚の平板電極を挿入し、これに電位差を
与えることで、流路29に静電場を発生させることもで
きる。このとき、管26中の微粒子25は、それらの持
っている表面電荷による静電力と超音波の輻射圧とが釣
り合った場所に各々濃縮される。
【0037】さらに、本実施例では、前プロセスからの
溶媒の輸送を閉鎖管で行い、外界から導入する溶液は全
て殺菌工程あるいはろ過工程を導入させることで、外界
からの不純物の混入がない濃縮分画プロセスを実現する
ことができる。また、観測手段によって得られた微粒子
の流体中での分布をもとに、超音波発生源の強度、位
相、周波数、あるいはこれらの重ね合せの程度を調節し
たり、あるいは、溶液の流れの速度を調節したり、ある
いは、抽出する細管の吸引位置、吸引速度を調節した
り、先に述べた電場等の別の外力の強度を制御装置36
で調節すればよい。
溶媒の輸送を閉鎖管で行い、外界から導入する溶液は全
て殺菌工程あるいはろ過工程を導入させることで、外界
からの不純物の混入がない濃縮分画プロセスを実現する
ことができる。また、観測手段によって得られた微粒子
の流体中での分布をもとに、超音波発生源の強度、位
相、周波数、あるいはこれらの重ね合せの程度を調節し
たり、あるいは、溶液の流れの速度を調節したり、ある
いは、抽出する細管の吸引位置、吸引速度を調節した
り、先に述べた電場等の別の外力の強度を制御装置36
で調節すればよい。
【0038】また、本実施例では管26の温度を制御す
ることで管26中を流れる溶液の温度を制御することも
できる。本実施例では断面が長方形の管を用いたが、管
の形状にあわせて管壁に配置した複数の超音波振動子か
ら、適当に複数の周波数および位相を重ね合わせた超音
波を照射することで、管中に任意の位置ポテンシャル分
布を作り出すこともできる。
ることで管26中を流れる溶液の温度を制御することも
できる。本実施例では断面が長方形の管を用いたが、管
の形状にあわせて管壁に配置した複数の超音波振動子か
ら、適当に複数の周波数および位相を重ね合わせた超音
波を照射することで、管中に任意の位置ポテンシャル分
布を作り出すこともできる。
【0039】図7に本発明を用いた第2の実施例を示
す。本実施例では図4(b)に示すような超音波の輻射圧
によって作り出した位置ポテンシャルの極小点に微粒子
を周期的に配列させる装置を説明する。図7(a)は位置
ポテンシャルを示し、図7(b)に溶液槽42を断面の形
で示す。溶液槽42中に満たした微粒子46を含む溶液
43中に、超音波振動子駆動部47で制御された超音波
振動子411、412から矢印の方向441、442
に、例えば矩形超音波を発生させ、図7(a)40のよ
うな位置ポテンシャル分布を基板45上に作り出すこと
で、基板45上に発生したポテンシャル極小点に微粒子
46を配列させることができる。図7(c)に基板45上
に配列させた微粒子46の例の斜視図を示す。この微粒
子が導体であってもよいし、光学的に不透明な物質であ
ってもよいし、絶縁体であってもよい。超音波振動子駆
動部47からは、超音波振動子に矩形波を発生させても
良いし、その他目的の位置にポテンシャル極小点が存在
するポテンシャル分布が実現可能であれば、超音波振動
子411、412から発生させる超音波はどのようなも
のでもよい。振動子から超音波を発生させ重ね合せても
よい。
す。本実施例では図4(b)に示すような超音波の輻射圧
によって作り出した位置ポテンシャルの極小点に微粒子
を周期的に配列させる装置を説明する。図7(a)は位置
ポテンシャルを示し、図7(b)に溶液槽42を断面の形
で示す。溶液槽42中に満たした微粒子46を含む溶液
43中に、超音波振動子駆動部47で制御された超音波
振動子411、412から矢印の方向441、442
に、例えば矩形超音波を発生させ、図7(a)40のよ
うな位置ポテンシャル分布を基板45上に作り出すこと
で、基板45上に発生したポテンシャル極小点に微粒子
46を配列させることができる。図7(c)に基板45上
に配列させた微粒子46の例の斜視図を示す。この微粒
子が導体であってもよいし、光学的に不透明な物質であ
ってもよいし、絶縁体であってもよい。超音波振動子駆
動部47からは、超音波振動子に矩形波を発生させても
良いし、その他目的の位置にポテンシャル極小点が存在
するポテンシャル分布が実現可能であれば、超音波振動
子411、412から発生させる超音波はどのようなも
のでもよい。振動子から超音波を発生させ重ね合せても
よい。
【0040】本実施例では1次元方向のポテンシャル分
布を作り、1次元に微粒子を配列させたが、同様に複数
の超音波発信源を用いて、これらの音源から発生する超
音波を重ね合せることで3次元のポテンシャル分布を作
り出すことができる。
布を作り、1次元に微粒子を配列させたが、同様に複数
の超音波発信源を用いて、これらの音源から発生する超
音波を重ね合せることで3次元のポテンシャル分布を作
り出すことができる。
【0041】図8に、基板上に微粒子を配列させる第2
の方法を示した本発明の第3の実施例を示す。基板49
の下に取り付けた超音波振動子48によって基板49表
面にSAWあるいはLamb波を作り出し、その基板上
から漏れ出す超音波の強度に分布を持たせることで微粒
子50を配列させることができる。
の方法を示した本発明の第3の実施例を示す。基板49
の下に取り付けた超音波振動子48によって基板49表
面にSAWあるいはLamb波を作り出し、その基板上
から漏れ出す超音波の強度に分布を持たせることで微粒
子50を配列させることができる。
【0042】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明を用いるこ
とによって、流体中の微粒子を効果的に濃縮、ろ過、回
収、あるいは分画することができるという効果を奏す
る。また、流体中に存在する微粒子を周期的に配列させ
ることができるという効果を奏する。
とによって、流体中の微粒子を効果的に濃縮、ろ過、回
収、あるいは分画することができるという効果を奏す
る。また、流体中に存在する微粒子を周期的に配列させ
ることができるという効果を奏する。
【図1】本発明の基本構成を示す概念図。
【図2】三角波を導入した場合の超音波輻射圧の空間分
布を示すグラフ。
布を示すグラフ。
【図3】有限個の正弦波を重ね合せて作った三角波の空
間分布を示すグラフ。
間分布を示すグラフ。
【図4】矩形波を導入した場合の超音波輻射圧の空間分
布を示すグラフ。
布を示すグラフ。
【図5】有限個の正弦波を重ね合せて作った矩形波の空
間分布を示すグラフ。
間分布を示すグラフ。
【図6】本発明の第1の実施例にかかわる微粒子連続濃
縮装置を示す摸式図。
縮装置を示す摸式図。
【図7】本発明の第2の実施例にかかわる微粒子配列装
置を示す摸式図。
置を示す摸式図。
【図8】本発明の第3の実施例にかかわる微粒子配列装
置を示す摸式図。
置を示す摸式図。
1…試料溶液、2…容器、3…管、4…溶液の流れ、5
…超音波を作用させる容器、6、7…超音波発生源、8
…微粒子観測装置、9…微粒子分画装置、10…制御装
置、11、12…管、13…濃縮試料の流れ、14…溶
液の流れ、15…温度制御装置、16、17…流速制御
装置、18、19…三角波状の定在波の音圧分布の包絡
線、20…三角波状の定在波の音圧分布によって作り出
された位置ポテンシャル分布、21、22…矩形波状の
定在波の音圧分布の包絡線、23…矩形波状の定在波の
音圧分布によって作り出された位置ポテンシャル分布、
241、242…超音波振動子、25…微粒子、26、
261、262…管壁、27…定在波、28…溶液の流
れ、29…流路の幅、30…細管、31…細管固定棒、
32…細管駆動部、331、332…溶液の流れ、34
…濃縮溶液の流れ、351、352…固定棒の動き、3
6…制御装置、37…観測窓、38…観測装置、39…
光源、40…矩形波状の定在波の音圧分布によって作り
出された基板上での位置ポテンシャル分布、、411、
412…超音波振動子、42…溶液槽、43…溶液、4
41、442…超音波振動子で発生させた超音波の向
き、45…基板、46…微粒子、47…超音波振動子駆
動部、48…超音波振動子、49…基板、50…微粒
子。
…超音波を作用させる容器、6、7…超音波発生源、8
…微粒子観測装置、9…微粒子分画装置、10…制御装
置、11、12…管、13…濃縮試料の流れ、14…溶
液の流れ、15…温度制御装置、16、17…流速制御
装置、18、19…三角波状の定在波の音圧分布の包絡
線、20…三角波状の定在波の音圧分布によって作り出
された位置ポテンシャル分布、21、22…矩形波状の
定在波の音圧分布の包絡線、23…矩形波状の定在波の
音圧分布によって作り出された位置ポテンシャル分布、
241、242…超音波振動子、25…微粒子、26、
261、262…管壁、27…定在波、28…溶液の流
れ、29…流路の幅、30…細管、31…細管固定棒、
32…細管駆動部、331、332…溶液の流れ、34
…濃縮溶液の流れ、351、352…固定棒の動き、3
6…制御装置、37…観測窓、38…観測装置、39…
光源、40…矩形波状の定在波の音圧分布によって作り
出された基板上での位置ポテンシャル分布、、411、
412…超音波振動子、42…溶液槽、43…溶液、4
41、442…超音波振動子で発生させた超音波の向
き、45…基板、46…微粒子、47…超音波振動子駆
動部、48…超音波振動子、49…基板、50…微粒
子。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 田村 充
埼玉県比企郡鳩山町赤沼2520番地 株式
会社日立製作所基礎研究所内
(56)参考文献 特開 平3−21340(JP,A)
特開 平7−47259(JP,A)
特開 平6−241977(JP,A)
特開 平1−135515(JP,A)
特開 昭52−24201(JP,A)
特表 昭61−500278(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
B01J 19/10
B01D 43/00
Claims (6)
- 【請求項1】濃縮、排除あるいは配列させる微粒子を含
む容器内の流体に、超音波振動子から発生する超音波の
周波数、強度及び位相差を経時的に変化させて作用さ
せ、前記微粒子に加える力の作用を、前記微粒子を所定
の方向に向かわせる力の作用から所定の領域に留まらせ
る力の作用に変化させることを特徴とする超音波処理方
法。 - 【請求項2】濃縮、排除あるいは配列させる微粒子を含
む流体を収納する容器と、 前記流体に直接又は間接に接するように配置され定在波
を発生させる超音波発生源と、 特定の周波数、特定の強度、特定の位相差をもつ超音波
を重畳させるように前記超音波発生源を制御する制御装
置とを有し、 前記制御装置は前記超音波の周波数、強度及び位相差を
経時的に変化させて前記微粒子に所定の方向に向かう力
又は所定の領域に留まる力を作用させることを特徴とす
る超音波処理装置。 - 【請求項3】請求項2に記載の超音波処理装置におい
て、前記流体の温度を制御する手段を有することを特徴
とする超音波処理装置。 - 【請求項4】濃縮、排除あるいは配列させる微粒子を含
む流体を収納する容器と、 前記流体に直接又は間接に接するように配置され定在波
を発生させる複数の超音波発生源と、 特定の周波数、特定の強度、特定の位相差の超音波を重
畳させるように前記各超音波発生源を制御する制御装置
と、 電場あるいは磁場あるいはそれら双方による外力を前記
微粒子に及ぼす手段とを有し、 前記制御装置は前記超音波の周波数、強度及び位相差を
経時的に変化させて前記微粒子に所定の方向に向かう力
又は所定の領域に留まる力を作用させることを特徴とす
る超音波処理装置。 - 【請求項5】請求項2から請求項4の何れかに記載の超
音波処理装置において、前記濃縮された微粒子を前記容
器の下流側で前記流体と共に吸引する管、あるいは、前
記微粒子が濃縮された位置から離れた前記容器の下流側
で前記流体を吸引する手段を有することを特徴とする超
音波処理装置。 - 【請求項6】請求項2から請求項4の何れかに記載の超
音波処理装置において、前記微粒子が濃縮された位置あ
るいはこれより前記容器の下流側で前記微粒子を観察す
る手段を有し、前記観察する手段は、前記微粒子の前記
流体内での分布を観察し、前記制御装置は前記観察の結
果に基づき、前記超音波発生源から発生される、前記特
定の周波数、前記特定の強度、前記特定の位相差をもつ
前記超音波、あるいは前記重畳の程度を制御することを
特徴とする超音波処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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