JP3475533B2 - Thin-film magnetic disk - Google Patents

Thin-film magnetic disk

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JP3475533B2
JP3475533B2 JP31786694A JP31786694A JP3475533B2 JP 3475533 B2 JP3475533 B2 JP 3475533B2 JP 31786694 A JP31786694 A JP 31786694A JP 31786694 A JP31786694 A JP 31786694A JP 3475533 B2 JP3475533 B2 JP 3475533B2
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magnetic
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magnetic disk
thin
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好洋 松野
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はコンピュータの磁気記憶
装置等に用いられる高密度記録に適した薄膜型磁気ディ
スクに関する。特に、持ち運び可能な小型のコンピュー
タに内蔵され、高度な耐衝撃性が要求される薄膜型磁気
ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic disk suitable for high density recording used in a magnetic storage device of a computer. In particular, the present invention relates to a thin-film magnetic disk built in a portable small computer and requiring a high degree of shock resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータの小型化、高速化に
より、持ち運び可能なタイプのコンピュータに対する市
場が拡大している。このようなタイプのコンピュータに
対しては、高度な耐衝撃性が要求される。このためこの
ようなコンピュータの外部記憶装置の記憶媒体として用
いられる磁気ディスクに対しては高度な耐衝撃性が要求
される。高密度磁気ディスクにおいては、非磁性ディス
ク基板上に形成される磁気記録媒体が、従来の磁性粉を
樹脂で結合した塗布膜から、磁性金属をディスク基板上
めっき法や蒸着法、スパッタリング法等で形成する薄
膜磁性金属膜に移ってきている。そして一般に、磁気デ
ィスク稼働時には磁気ヘッドがディスク面より浮上し、
停止時にはディスク面に接触するいわゆるCSS(コン
タクト・スタート・ストップ)方式が採用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, the market for portable computers has been expanding due to the miniaturization and speeding up of computers. A high degree of shock resistance is required for these types of computers. Therefore, the magnetic disk used as the storage medium of the external storage device of such a computer is required to have high impact resistance. In a high-density magnetic disk, a magnetic recording medium formed on a non-magnetic disk substrate is a conventional coating film in which magnetic powder is bound with resin, and a magnetic metal is plated on the disk substrate by a plating method, an evaporation method, a sputtering method, or the like. It has been transferred to the thin magnetic metal film formed by. And in general, when the magnetic disk is operating, the magnetic head floats above the disk surface,
A so-called CSS (contact start stop) method of contacting the disk surface when stopped is adopted.

【0003】図3は公知の磁気ディスクの一例の断面図
である。図3中1は非磁性基板で、例えばアルミ合金円
板と、その上に無電解めっき法等で形成されたNi−P
合金層等の下地層からなる。この下地層表面には磁気ヘ
ッドの吸着を防止するため、一般に、回転する周方向に
テクスチャーと呼ばれる微細な溝状の凹凸が形成されて
いる。基板の上には下地膜2が形成されているが、この
両者の間には真空蒸着法、スパッタリング法等で島状構
造を形成したり、塗布法等で微細な粒子を配置させたり
して、テクスチャーを形成することがある。下地膜2
は、一般に磁性膜の磁気特性向上や磁性膜の密着性向上
のため形成するものであり、例えば、めっき法、イオン
プレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法など
の手法によって形成された、CrあるいはCrを主成分
とする合金、化合物からなる膜が用いられる。
FIG. 3 is a sectional view of an example of a known magnetic disk. In FIG. 3, reference numeral 1 is a non-magnetic substrate, for example, an aluminum alloy disc and a Ni-P formed thereon by electroless plating or the like.
It is composed of a base layer such as an alloy layer. In order to prevent the magnetic head from adsorbing, fine groove-like irregularities called texture are generally formed in the rotating circumferential direction on the surface of the underlayer. The base film 2 is formed on the substrate, and an island structure is formed between them by a vacuum deposition method, a sputtering method, or fine particles are arranged by a coating method or the like. , May form texture. Base film 2
Is generally formed to improve the magnetic characteristics of the magnetic film and the adhesion of the magnetic film. For example, Cr or Cr formed by a method such as a plating method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a sputtering method is used. A film made of an alloy or compound containing Cr as a main component is used.

【0004】下地膜2の上には磁性膜3が形成されてい
る。磁性膜3は、例えば、めっき法、イオンプレーティ
ング法、真空蒸着法、スパッタリング法などの手法によ
って形成された、Co,Fe,Ni等の強磁性金属また
はこれらの元素を主成分とする強磁性合金からなる膜が
一般に用いられる。この磁性膜3は、磁性膜の膜厚中心
と磁気ヘッドとの間隔を小さくする必要から、要求され
る磁気特性を満足する範囲内において、より薄いほど望
ましい。
A magnetic film 3 is formed on the base film 2. The magnetic film 3 is formed of, for example, a plating method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like, and is a ferromagnetic metal such as Co, Fe, or Ni, or a ferromagnetic material containing these elements as a main component. Membranes made of alloys are commonly used. Since it is necessary to reduce the distance between the center of the thickness of the magnetic film and the magnetic head, it is desirable that the magnetic film 3 be as thin as possible within the range that satisfies the required magnetic characteristics.

【0005】上記の磁性膜3は空気中で酸化腐食を起こ
し易く、また耐摩耗性も劣るため、磁性膜3の上には保
護膜4が形成されている。この保護膜4には例えばスパ
ッタリング法で作製したカーボン系保護膜、スパッタリ
ングによる成膜時に水素や炭化水素等を導入して作製し
た水素化カーボン系保護膜、SiO2系保護膜等が一般
的に用いられている。この保護膜4は、磁性膜3と磁気
ヘッドの間隔を小さくする必要から、より薄いほど望ま
しい。しかし、磁性膜に対する腐食防止や、磁気ヘッド
との摺動時の耐摩耗性向上の観点からは、ある程度以上
の膜厚が必要である。この保護膜4自体にイオンプレー
ティング法、スパッタリング法等により凹凸を形成した
り、塗布法を用いて保護膜4中に微細な粒子を分散させ
たりして、テクスチャーを形成することがある。
A protective film 4 is formed on the magnetic film 3 because the magnetic film 3 is susceptible to oxidative corrosion in air and has poor wear resistance. As the protective film 4, for example, a carbon-based protective film produced by a sputtering method, a hydrogenated carbon-based protective film produced by introducing hydrogen or hydrocarbon during film formation by sputtering, a SiO 2 -based protective film, etc. are generally used. It is used. The protective film 4 is preferably thinner as it is necessary to reduce the distance between the magnetic film 3 and the magnetic head. However, from the viewpoint of preventing corrosion of the magnetic film and improving wear resistance when sliding with the magnetic head, a film thickness of a certain amount or more is required. Texture may be formed by forming irregularities on the protective film 4 itself by an ion plating method, a sputtering method or the like, or by dispersing fine particles in the protective film 4 by using a coating method.

【0006】保護膜4上には磁気ヘッドとの接触時の耐
摺動特性を向上させる目的で潤滑剤層5が形成されてい
る。この潤滑剤層5には、例えばイタリアのモンテフル
オス(Montefluos)社のFOMBLIN A
M2001,FOMBLINZ−DOLや、デュポン社
のKRYTOX 143、ダイキン社のデムナムシリー
ズ等のパーフロロアルキルエーテル系潤滑剤が一般に用
いられる。このような金属あるいは金属化合物からなる
連続磁性薄膜である磁性膜3を有する磁気ディスクは、
塗布型の磁気ディスクに比較して磁性膜をきわめて薄い
薄膜にでき、高記録密度化に適した磁気ディスクとして
広く使用されている。
A lubricant layer 5 is formed on the protective film 4 for the purpose of improving the sliding resistance at the time of contact with the magnetic head. The lubricant layer 5 is, for example, FOMBLIN A manufactured by Montefluos of Italy.
Perfluoroalkyl ether type lubricants such as M2001, FOMBLINZ-DOL, KRYTOX 143 manufactured by DuPont, and Demnum series manufactured by Daikin are generally used. A magnetic disk having a magnetic film 3 which is a continuous magnetic thin film made of such a metal or a metal compound is
The magnetic film can be made extremely thin as compared with a coating type magnetic disk, and is widely used as a magnetic disk suitable for high recording density.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の磁気ディスクを持ち運び可能な小型コンピュータ内
蔵の磁気ディスク装置に適用した場合、落下等の衝撃を
受けることにより記録した情報の一部が失われるという
問題が生じることが知られている。この情報の欠損は、
落下等の衝撃により磁気ヘッドが磁気ディスクにたたき
つけられ、基板が塑性変形することにより発生する。こ
のため最近、耐衝撃性を向上させる目的で、基板の種類
を、同一の応力が作用した場合により変形の生じにく
いガラス等の材料に変更することが検討されはじめてい
る。しかしながら、これに関して、発明者らが検討を行
ったところ、基板をガラス等の変形の生じにくい材料に
変更することにより磁気ディスクの耐衝撃性は相当程度
向上するものの、これだけでは、落下等の衝撃に耐える
のに十分な耐衝撃性が得られないことが明らかになっ
た。本発明の目的は、耐衝撃性に優れた薄膜型磁気ディ
スクを提供することにある。
However, when the conventional magnetic disk is applied to a portable magnetic disk device with a built-in small computer, some of the recorded information is lost due to an impact such as a drop. It is known to cause problems. This missing information is
The magnetic head is struck against the magnetic disk by an impact such as dropping, and the substrate is plastically deformed. Therefore recently, for the purpose of improving the impact resistance, the type of substrate, when the same stress acts, has begun to be studied to change to a more materials such as glass hardly occurs deformation. However, as a result of investigations by the inventors regarding this, although the impact resistance of the magnetic disk is considerably improved by changing the substrate to a material such as glass that does not easily deform, the impact of dropping or the like is not sufficient. It was revealed that the impact resistance was not sufficient to withstand. An object of the present invention is to provide a thin film magnetic disk having excellent impact resistance.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも
ラス基板と該ガラス基板表面上に形成された下地膜と該
下地膜上に形成された磁性膜と該磁性膜上に形成された
保護膜と該保護膜上に形成された潤滑剤層とを有してな
る薄膜型磁気ディスクにおいて、該ガラス基板表面のビ
ッカース硬度が1200以上(但し1200を除く)
あり、かつ、該ガラス基板の表面と該磁性膜の間に介在
する該下地膜を含む膜厚と該磁性膜の膜厚の総和が80
nm以下であることを特徴とする薄膜型磁気ディスクで
ある。
Means for Solving the Problems The present invention, at least moth
A lath substrate, a base film formed on the surface of the glass substrate, a magnetic film formed on the base film, a protective film formed on the magnetic film, and a lubricant layer formed on the protective film. A thin-film magnetic disk having the Vickers hardness of the glass substrate surface of 1200 or more (excluding 1200) and including the underlayer film interposed between the glass substrate surface and the magnetic film. The sum of the film thickness and the film thickness of the magnetic film is 80
It is a thin-film magnetic disk characterized by having a thickness of nm or less.

【0009】磁気デスクを組み込んだ磁気ディスク装
置を高い位置から落下させた場合は、磁気ディスクはか
なりの確率でエラーが発生してしまうことがある。これ
は図4において、磁気ヘッドの衝突による基板自体の変
形量aが大きく、この基板上に形成された下地膜及び磁
性膜が塑性変形を起こしてしまうときである。すなわち
保護膜表面での窪み量bが大きくなり、そのため、衝突
痕領域においては磁気ディスクの通常駆動時において、
磁気膜の膜厚中心と磁気ヘッドの間隔が初期の設計値よ
りも拡大することになり、出力が減少し、エラーとなっ
てしまう。本発明者は上記の現象を考察検討し、本発明
をなすに至った理由を以下に述べる。従来より図3に示
すような構成の磁気ディスクが用いられている。このよ
うな構成の磁気ディスクを用いた磁気ディスク装置に対
して、特に磁気ディスク稼働時に落下等の衝撃を与えた
場合、磁気ヘッドが磁気ディスクに対して激しくたたき
つけられる。これにより、磁気ディスク表面に衝突痕が
形成される。図4に、この衝突痕の断面図を概念的に示
す。図中、1は無電解めっき法等でNi−P合金層を形
成したAl合金基板、2は下地膜、3は磁性膜、4は保
護膜、5は潤滑層である。磁気ヘッドの衝突により、磁
気ディスク基板が主として変形し、これによりその上部
に形成されている磁気膜等も陥没する。このような衝突
痕領域においては、磁気ディスクの通常駆動時におい
て、磁気膜の膜厚中心と磁気ヘッドの間隔が初期の設計
値よりも拡大することになり、出力が減少し、エラーと
なる。
[0009] If it is dropped the magnetic disk apparatus incorporating the magnetic to Disk from a high position, the magnetic disk may sometimes an error occurs with considerable probability. This is when the amount of deformation a of the substrate itself due to the collision of the magnetic head in FIG. 4 is large, and the base film and the magnetic film formed on this substrate are plastically deformed. That is, the amount of depression b on the surface of the protective film becomes large, so that in the collision mark area during normal driving of the magnetic disk,
The distance between the center of the thickness of the magnetic film and the magnetic head becomes larger than the initial design value, the output decreases, and an error occurs. The present inventor has studied and considered the above phenomenon, and the reason why the present invention has been achieved will be described below. Conventionally, a magnetic disk having a structure as shown in FIG. 3 has been used. When a shock such as a drop is applied to the magnetic disk device using the magnetic disk having such a structure, especially when the magnetic disk is in operation, the magnetic head is strongly struck against the magnetic disk. As a result, collision marks are formed on the surface of the magnetic disk. FIG. 4 conceptually shows a cross-sectional view of this collision mark. In the figure, 1 is Al alloy substrate formed with the Ni-P alloy layer in electroless solution plating or the like, 2 base film, 3 is a magnetic film, the protective film 4, and 5 is a lubricating layer. Due to the collision of the magnetic head, the magnetic disk substrate is mainly deformed, so that the magnetic film and the like formed on the magnetic disk substrate are also depressed. In such a collision mark area, when the magnetic disk is normally driven, the distance between the center of the thickness of the magnetic film and the magnetic head becomes larger than the initial design value, and the output decreases and an error occurs.

【0010】本発明者は、非磁性基板として表面硬度が
大きく変形が生じにくいガラス基板を用いるとともに、
下地膜と磁性膜の膜厚をある値以下にすることによっ
て、これらの膜の変形量を小さくできることを見出し
た。すなわち磁気ディスクを組み込んだ磁気デスク装
置の動作中に、種々の加速度を作用させる衝撃試験を行
ったところ、驚くべきことに下地膜と磁性膜の膜厚の和
が小さくなるにしたがってエラーの発生確率は減少して
いくということを見出したのである。このとき衝突痕が
生じた領域では、磁気ディスクの通常駆動時において、
磁気膜の膜厚中心と磁気ヘッドの間隔が初期の設計値に
対する拡大幅が小さくなり、したがって出力の減少幅が
小さくなり、エラーが生ずる確率が小さくなることを見
い出したのである。
The present inventor uses a glass substrate having a large surface hardness and hardly deforming as the non-magnetic substrate, and
It has been found that the amount of deformation of these films can be reduced by making the film thicknesses of the underlayer film and the magnetic film below a certain value. I.e. during operation of the magnetic to Disk device incorporating a magnetic disk was subjected to impact test for applying a variety of acceleration, surprisingly error accordance sum of the thickness of the base film and the magnetic film is reduced We have found that the probability of occurrence is decreasing. At this time, in the area where the collision mark is generated, when the magnetic disk is normally driven,
It has been found that the distance between the center of the magnetic film thickness and the magnetic head has a smaller expansion width with respect to the initial design value, and hence has a smaller decrease in output and a smaller error probability.

【0011】本発明におけるガラス基板としては、表面
のビッカース硬度が600以上であることが必要であ
る。ビッカース硬度が600より小さいと、衝撃により
磁気ヘッドが磁気ディスクにたたきつけられたときに、
基板表面が変形してしまい、耐衝撃性を十分向上させる
ことができない。基板自体の変形量をできるだけ小さく
するために、基板自体の表面硬度はより高いことが好ま
しい。基板自体の表面硬度としては、ビッカース硬度で
800以上であることがより好ましく、1200以上で
あることが特に好ましい。このような材料としては、ガ
ラス、結晶化ガラス、アモルファスカーボン、SiC等
挙げられる。このような材料の中で特に、磁気ヘッド
の浮上高さをできるだけ小さくするための表面平坦性、
材料コスト、加工性等からガラスが好ましく使用され
る。ガラスの組成は特に限定されないが、耐候性に優れ
たアルミノシリケートガラス、低コストなソーダライム
シリケートガラスが好まれて使用される。これらのガラ
ス基板は、その機械的強度を向上させる目的で、化学強
化処理がほどこされる。
The glass substrate in the present invention must have a surface Vickers hardness of 600 or more. If the Vickers hardness is less than 600, when the magnetic head is struck by the impact on the magnetic disk,
The surface of the substrate is deformed, and the impact resistance cannot be sufficiently improved. The surface hardness of the substrate itself is preferably higher in order to minimize the amount of deformation of the substrate itself. The surface hardness of the substrate itself is more preferably 800 or more in Vickers hardness, and particularly preferably 1200 or more. Examples of such a material include glass, crystallized glass, amorphous carbon, and SiC . Among these materials, especially the surface flatness to minimize the flying height of the magnetic head,
Glass is preferably used in terms of material cost and workability. The composition of the glass is not particularly limited, but aluminosilicate glass excellent in weather resistance and low cost soda lime silicate glass are preferably used. These glass substrates are chemically strengthened for the purpose of improving their mechanical strength.

【0012】本発明の磁気ディスクにおいては、非磁性
基板であるガラス基板上に下地膜が形成されている。下
地膜は、一般に磁性膜の磁気特性向上や磁性膜の密着性
向上のため形成するものであり、例えば、めっき法、イ
オンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法
などの手法によって形成された、CrあるいはCrを主
成分とする合金、化合物からなる膜あるいはW膜が用い
られる。特に、磁気特性向上の面から、Crを主成分と
する合金が好まれて使用される。さらに、従来一般的に
知られている研磨テープ或いは研磨砥粒を用いた方法に
よりテクスチャーを形成することが困難であるガラス
等の非磁性基板の採用時には、該非磁性基板と下地膜の
間に、真空蒸着法、スパッタリング法等で島状構造を形
成したり、塗布法等で微細な粒子を配置させたりして、
テクスチャーを形成することが好んで行われる。また、
テクスチャー形成を容易にする目的で、あるいは磁気特
性を向上させる目的で下地膜と前記非磁性基板との間に
さらに中間膜を形成してもよい。
In the magnetic disk of the present invention, a base film is formed on a glass substrate which is a non-magnetic substrate. The base film is generally formed to improve the magnetic properties of the magnetic film and the adhesion of the magnetic film, and is formed by a method such as a plating method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like. A film made of Cr or an alloy containing Cr as a main component, a compound, or a W film is used. In particular, an alloy containing Cr as a main component is preferably used from the viewpoint of improving magnetic properties. Further, the method using a polishing tape or a polishing abrasive grains known conventionally generally, upon adoption of the non-magnetic substrate such as glass it is difficult to form a texture, while the non-magnetic substrate and the base film , Forming an island structure by a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or arranging fine particles by a coating method,
It is performed Nde good to form the texture. Also,
For purposes to facilitate the texture formation, or magnetic properties may be further formed intermediate film between the base film and the non-magnetic substrate for the purpose of improving.

【0013】本発明においては、下地膜上に磁性膜が形
成されている。該磁性膜は、例えば、めっき法、イオン
プレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法など
の手法によって形成された、Co,Fe,Ni等の強磁
性金属またはこれらの元素を主成分とする強磁性合金か
らなる膜が一般に用いられる。
In the present invention, a magnetic film is formed on the base film. The magnetic film is formed of, for example, a plating method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like, which is a ferromagnetic metal such as Co, Fe, or Ni, or a ferromagnetic material containing these elements as a main component. Membranes made of alloys are commonly used.

【0014】本発明において、上記の磁性膜は空気中で
酸化腐食を起こし易く、また耐摩耗性も劣るため、磁性
膜の上には保護膜が形成される。この保護膜には例えば
スパッタリング法で作製したカーボン系保護膜、スパッ
タリングによる成膜時に水素や炭化水素等を導入して作
製した水素化カーボン系保護膜、SiO2系保護膜等が
一般的に用いられる。この保護膜は、磁性膜と磁気ヘッ
ドの間隔を小さくする必要から、より薄いほど望まし
い。しかし、磁性膜に対する腐食防止や、磁気ヘッドと
の摺動時の耐摩耗性向上の観点からは、ある程度以上の
膜厚が必要である。この保護膜自体にスパッタリング法
により凹凸を形成したり、塗布法を用いて保護膜中に微
細な粒子を分散させたりして、テクスチャーを形成して
もよい。
In the present invention, the above-mentioned magnetic film is prone to oxidative corrosion in air and has poor wear resistance, so that a protective film is formed on the magnetic film. As this protective film, for example, a carbon-based protective film produced by a sputtering method, a hydrogenated carbon-based protective film produced by introducing hydrogen or hydrocarbon during film formation by sputtering, a SiO 2 -based protective film, etc. are generally used. To be The thickness of this protective film is preferably thinner because it is necessary to reduce the distance between the magnetic film and the magnetic head. However, from the viewpoint of preventing corrosion of the magnetic film and improving wear resistance when sliding with the magnetic head, a film thickness of a certain amount or more is required. The texture may be formed by forming irregularities on the protective film itself by a sputtering method or by dispersing fine particles in the protective film by a coating method.

【0015】本発明においては、保護膜上に磁気ヘッド
との接触時の耐摺動特性を向上させる目的で潤滑剤層が
形成される。この潤滑剤層には、例えばイタリアのモン
テフルオス(Montefluos)社のFOMBLI
N AM2001,FOMBLIN Z−DOLや、デ
ュポン社のKRYTOX 143、ダイキン社のデムナ
ムシリーズ等のパーフロロアルキルエーテル系潤滑剤が
好まれて用いられる。
In the present invention, a lubricant layer is formed on the protective film for the purpose of improving the sliding resistance when it comes into contact with the magnetic head. This lubricant layer is, for example, FOMBLI of Montefluos of Italy.
Perfluoroalkyl ether type lubricants such as NAM2001, FOMBLIN Z-DOL, KRYTOX 143 of DuPont, and Demnum series of Daikin are preferably used.

【0016】本発明においては、ガラス基板の表面か
ら、ガラス基板上に存在する磁性膜までの間に存在する
全ての膜の膜厚と、磁性膜の膜厚の総和が80nm以下
であることが必要である。ガラス基板の表面から、該
ラス基板上に存在する磁性膜までの間に存在する全ての
膜の膜厚と、前記磁性膜の膜厚の総和が80nmより大
きくなると、耐衝撃性が低下する。耐衝撃性を大きくす
る観点から、ガラス基板の表面から、該ガラス基板上に
存在する磁性膜までの間に存在する全ての膜の膜厚と、
磁性膜の膜厚の総和が50nm以下であることがさらに
好ましく、30nm以下であることがさらに好ましい。
磁性膜の磁気特性を確保する上から磁性膜の厚みは1
5nm以上とするのが好ましく、磁性膜の結晶構造を向
上させ磁気特性をよくする上で下地膜の厚みは5nm
以上とするのが好ましい。従ってガラス基板の表面か
ら、磁性膜までの間に介在する下地膜の膜厚を含む厚み
と、磁性膜の膜厚の総和を20〜80nmとするのが好
ましく、さらに20〜50nmとするのが好ましく、2
0〜30nmとするのが最も好ましい。
In the present invention, that the surface of the glass substrate, the thickness of all films that exist until magnetic layer present on the glass substrate, the total thickness of the magnetic film is 80nm or less is necessary. From the surface of the glass substrate, the moth
If the sum of the film thicknesses of all the films existing up to the magnetic film existing on the lath substrate and the film thickness of the magnetic film exceeds 80 nm, the impact resistance decreases. From the viewpoint of increasing the impact resistance, the surface of the glass substrate, the thickness of all films that exist until magnetic film present on the glass substrate,
The total thickness of the magnetic film is more preferably 50 nm or less, further preferably 30 nm or less.
To ensure the magnetic properties of the magnetic film, the thickness of the magnetic film is 1
The thickness of the underlayer film is preferably 5 nm or more in order to improve the crystal structure of the magnetic film and improve the magnetic characteristics.
The above is preferable. Therefore, it is preferable that the total thickness of the magnetic film and the thickness including the thickness of the underlayer film interposed between the surface of the glass substrate and the magnetic film is 20 to 80 nm, and more preferably 20 to 50 nm. Preferably 2
Most preferably, it is from 0 to 30 nm.

【0017】[0017]

【作用】本発明では、表面のビッカース硬度が1200
以上(但し1200を除く)であるガラス基板を用い、
かつ、ガラス基板の表面から、磁性膜までに存在する全
ての膜の膜厚と磁性膜の膜厚との総和を80nm以下と
している。このため、落下等の衝撃により磁気ヘッドが
磁気ディスクにたたきつけられて発生する衝突痕の深さ
が最小限になり、エラーの発生確率がきわめて小さくな
る。
In the present invention, the surface Vickers hardness is 1200.
Using the above glass substrate (excluding 1200) ,
In addition, the total thickness of all the films existing from the surface of the glass substrate to the magnetic film and the film thickness of the magnetic film is set to 80 nm or less. Therefore, the depth of the collision mark generated when the magnetic head is struck against the magnetic disk by an impact such as a drop is minimized, and the error occurrence probability is extremely reduced.

【0018】[0018]

【実施例】次に本発明の実施例について説明する。 実施例1 図1は本発明による磁気ディスクの実施例の拡大された
一部断面図である。ディスク基板11として、内径20
mm、外径64mmのアルミノシリケートガラス板を用
い、表面粗さ(Rmax)を1nm以下に平滑研磨し
た。次いで化学強化し、洗浄した基板上に、厚さ約10
nmのCrV系金属下地膜12、厚さ約30nmのCo
PtCr系の磁性膜13をそれぞれスパッタリング法で
順次形成した。この上に、塗布法を用いて厚さ約20n
mのSiO2保護膜14と高さ約40nmのSiO2から
なる半球状突起部を多数有するテクスチャー層15を形
成した。さらにこの上に潤滑層16として厚さ3nmの
有機高分子フッ素化合物(商品名AM2001)をディ
ッピング法を用いて形成した。ここで、化学強化を施し
たアルミノシリケートガラス製の基板表面のビッカース
硬度は約1400(但し、ビッカース硬度は、NEC
(株)製超薄膜用微小硬度計NECMHA−400によ
り荷重1mNで測定した結果より換算した。)であっ
た。実施例1の比較例として、CrV系金属下地膜12
の膜厚を100nmとした以外は実施例1と同一の構成
の磁気ディスクを作製し比較例1のサンプルを得た。さ
らに、実施例1の比較として、基板として無電解めっき
法により表面にNi−P合金層を形成したアルミ合金板
を用いた以外は実施例1と同一の構成の磁気ディスクを
作製し比較例2のサンプルを得た。ここで、表面にNi
−P合金層を形成したアルミ合金基板表面のビッカース
硬度は、約400(但し、測定方法は実施例1と同一で
ある)であった。
EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described. ( Embodiment 1 ) FIG. 1 is an enlarged partial sectional view of an embodiment of a magnetic disk according to the present invention. The inner diameter of the disk substrate 11 is 20
Using an aluminosilicate glass plate having an outer diameter of 64 mm and an outer diameter of 64 mm, the surface roughness (Rmax) was smooth-polished to 1 nm or less. Then, a thickness of about 10 is obtained on the chemically strengthened and cleaned substrate.
nm CrV-based metal underlayer 12, Co about 30 nm thick
The PtCr-based magnetic films 13 were sequentially formed by the sputtering method. On top of this, a coating method of about 20n thick is used.
A SiO 2 protective film 14 of m and a texture layer 15 having a large number of hemispherical projections made of SiO 2 having a height of about 40 nm were formed. Further, a 3 nm-thick organic polymer fluorine compound (product name AM2001) was formed thereon as a lubricating layer 16 by a dipping method. Here, the Vickers hardness of the surface of the chemically strengthened aluminosilicate glass substrate is about 1400 (however, the Vickers hardness is NEC.
It was converted from the result of measurement with a micro hardness meter NECMHA-400 manufactured by Ultra Co., Ltd. under a load of 1 mN. )Met. As a comparative example of Example 1, CrV-based metal base film 12
A magnetic disk having the same structure as in Example 1 was prepared except that the film thickness was 100 nm, and a sample of Comparative Example 1 was obtained. Further, as a comparison with Example 1, a magnetic disk having the same configuration as in Example 1 was prepared except that an aluminum alloy plate having a Ni-P alloy layer formed on the surface thereof by an electroless plating method was used as a substrate. Then, a sample of Comparative Example 2 was obtained. Here, Ni on the surface
The Vickers hardness of the surface of the aluminum alloy substrate on which the -P alloy layer was formed was about 400 (however, the measuring method is the same as in Example 1).

【0019】この3種類の磁気ディスクを用いて磁気デ
ィスク装置を構成し、この装置全体をディスク稼働状態
で種々の高さから所定の回数だけ落下させることによ
種々の加速度を作用させる衝撃試験を行った。この
とき作用した加速度と、衝撃により発生したエラー個数
の関係を表1に示す。
[0019] constitute a magnetic disk device using the three types of magnetic disks, by falling from various heights predetermined number of times the disk operating state the entire device, the impact test for applying a variety of acceleration went. Table 1 shows the relationship between the acceleration applied at this time and the number of errors generated by the impact.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】但し、エラーはその大きさの大小にかかわ
らず連続しているものは、1つとカウントした。これよ
り、比較例1の磁気ディスクにおいては150Gの加速
度で、比較例2の磁気ディスクにおいては100G以下
の加速度で、すでにエラーの発生がみられるのに対し、
実施例1の磁気ディスクでは250Gの加速度において
もエラーの発生がなく、良好な耐衝撃性が実現できてい
ることがわかる。特に、比較例2の結果から明らかなよ
うに、基板表面から磁性膜までの間に存在する膜の厚さ
を薄くしても基板表面の硬度が低ければ耐衝撃性は向上
しないことが明確に認識される。
However, the error is counted as one if it is continuous regardless of the size of the error. From this, it can be seen that an error has already occurred at an acceleration of 150 G in the magnetic disk of Comparative Example 1 and at an acceleration of 100 G or less in the magnetic disk of Comparative Example 2.
It can be seen that in the magnetic disk of Example 1, no error occurred even at an acceleration of 250 G, and good impact resistance could be realized. In particular, as is clear from the results of Comparative Example 2, it is clear that impact resistance is not improved if the hardness of the substrate surface is low even if the thickness of the film existing between the substrate surface and the magnetic film is reduced. Be recognized.

【0022】実施例2 図2は本発明による磁気ディスクの他の実施例の拡大さ
れた一部断面図である。ディスク基板21として、内径
20mm、外径64mmのソーダライムシリケートガラ
ス板を用い、表面粗さ(Rmax)を25nm以下に平
滑研磨した。次いで化学強化し、表面粗さ(Rmax)
を1nm以下に精密研磨し洗浄した基板上に、スパッタ
リング法により厚さ約5nmのTi膜22を形成し、そ
の上に高さ約40nmの島状のAl粒23を形成しテク
スチャーとした。このときAl膜の、スパッタリング量
から換算される平均的な厚さは2nmであった。この上
に、厚さ約20nmのCr系金属下地膜24、厚さ約2
0nmのCoPtCr系の磁性膜25、厚さ約20nm
のカーボン保護膜26をそれぞれスパッタリング法で順
次形成した。さらにこの上に潤滑膜27として厚さ3n
mのAM2001をディッピング法を用いて形成し実施
例2のサンプルを得た。ここで、化学強化を施したソー
ダライムシリケートガラス製の基板表面のビッカース硬
度は約1300(但し、ビッカース硬度は、NEC製
超薄膜用微小硬度計NECMHA−400により荷重1
mNで測定した結果より換算した。)であった。実施例
2の比較として、Cr系金属下地膜12の膜厚を100
nmとした以外は実施例2と同一の膜構成の磁気ディ
スクの比較例3のサンプルを作製した。この実施例2と
比較例3の2種類の磁気ディスクのサンプルに対して実
施例1と同様の衝撃試験を行った。このとき作用した加
速度と、衝撃により発生したエラー個数の関係を表2に
示す。これより、比較例3の磁気ディスクにおいては1
50Gの加速度条件でエラーの発生がみられるのに対
し、実施例2の磁気ディスクは250Gの加速度におい
てもエラーの発生がなく、良好な耐衝撃性が実現できて
いることがわかる。
( Embodiment 2 ) FIG. 2 is an enlarged partial sectional view of another embodiment of the magnetic disk according to the present invention. As the disk substrate 21, a soda lime silicate glass plate having an inner diameter of 20 mm and an outer diameter of 64 mm was used, and the surface roughness (Rmax) was smoothed to 25 nm or less. Then chemically strengthened and surface roughness (Rmax)
A Ti film 22 having a thickness of about 5 nm was formed on a substrate which had been precisely polished to 1 nm or less and washed, and island-shaped Al grains 23 having a height of about 40 nm were formed on the Ti film 22 to form a texture. At this time, the average thickness of the Al film calculated from the amount of sputtering was 2 nm. On top of this, a Cr-based metal base film 24 having a thickness of about 20 nm and a thickness of about 2
0 nm CoPtCr magnetic film 25, thickness about 20 nm
The carbon protective film 26 of 1 was sequentially formed by the sputtering method. Furthermore, a lubricating film 27 having a thickness of 3 n
AM2001 of m was formed by the dipping method to obtain the sample of Example 2. Here, the Vickers hardness of the soda lime silicate glass substrate surface subjected to chemical strengthening is about 1300 (however, the Vickers hardness, the load 1 by the NEC ultra thin films for micro hardness meter NECMHA-400
It was converted from the result measured in mN. )Met. As a comparison with the second embodiment, the thickness of the Cr-based metal base film 12 is set to 100.
except that the nm, to prepare a sample of Comparative Example 3 of the magnetic disk of the same film structure as in Example 2. The same impact test as in Example 1 was performed on the two types of magnetic disk samples of Example 2 and Comparative Example 3. Table 2 shows the relationship between the acceleration applied at this time and the number of errors generated by the impact. Therefore, in the magnetic disk of Comparative Example 3, 1
It can be seen that, while an error occurred under the acceleration condition of 50 G, the magnetic disk of Example 2 did not generate an error even under the acceleration of 250 G, and good impact resistance was realized.

【0023】[0023]

【表2】 [Table 2]

【0024】実施例3 ディスク基板11として、内径20mm、外径64mm
のアルミノシリケートガラス板を用い、表面粗さ(Rm
ax)を1nm以下に平滑研磨した。次いで化学強化
し、洗浄した基板上に、種々の厚さのCrV系金属下地
膜12、厚さ約20nmのCoPtCr系の磁性膜13
をそれぞれスパッタリング法で順次形成した。この上
に、塗布法を用いて厚さ約20nmのSiO2保護膜1
4と高さ約40nmのSiO2半球状突起部を多数有す
るテクスチャー層15を形成した。さらにこの上に潤滑
層16として厚さ3nmのAM2001をディッピング
法を用いて形成した。ここで、化学強化を施したアルミ
ノシリケートガラス製の基板表面のビッカース硬度は約
1400(但し、ビッカース硬度は、NEC製超薄膜用
微小硬度計NECMHA−400により荷重1mNで測
定した結果より換算した。)であった。CrV系金属下
地膜の膜厚は、5,10,20,50,100nmと変
化させた。この5種類の磁気ディスクを用いて磁気ディ
スク装置を構成し、実施例1と同一の衝撃試験を行っ
た。このとき作用した加速度と、衝撃により発生したエ
ラー個数の関係を表3に示す。これより、下地膜と磁性
膜の膜厚の和が25nmのものでは300Gと最も優れ
た耐衝撃性を示し、膜厚の和が30、40nmのもので
は250G、70nmのものでは、200Gの比較的優
れた耐衝撃性を示した。これに対し、膜厚の和が120
nmのものでは100Gとかなり劣化している。通常こ
のような可搬性の要求される磁気ディスクに対して要求
される稼働時の耐衝撃性が200G程度であることを考
えると、膜厚の和が80nm以下とすることにより実用
し得る耐衝撃性が得られる。
[0024] (Example 3) disc substrate 11, an inner diameter of 20 mm, an outer diameter of 64mm
Surface roughness (Rm
ax) was smooth-polished to 1 nm or less. Then, on the chemically strengthened and washed substrate, a CrV-based metal underlayer film 12 having various thicknesses and a CoPtCr-based magnetic film 13 having a thickness of about 20 nm are provided.
Were sequentially formed by the sputtering method. On top of this, a SiO 2 protective film 1 having a thickness of about 20 nm is formed by a coating method.
4 and a texture layer 15 having a large number of SiO 2 hemispherical protrusions having a height of about 40 nm were formed. Further, an AM2001 having a thickness of 3 nm was formed thereon as a lubricating layer 16 by a dipping method. Here, the Vickers hardness of the surface of the chemically strengthened aluminosilicate glass substrate was about 1400 (however, the Vickers hardness was calculated from the result of measurement with a load of 1 mN using NEC's ultra-thin film microhardness meter NECMHA-400. )Met. The thickness of the CrV-based metal base film was changed to 5, 10, 20, 50, 100 nm. A magnetic disk device was constructed using these five types of magnetic disks, and the same impact test as in Example 1 was performed. Table 3 shows the relationship between the acceleration applied at this time and the number of errors generated by the impact. From this, it is shown that the best impact resistance is 300 G when the sum of the film thicknesses of the underlayer and the magnetic film is 25 nm, and 250 G when the sum of film thicknesses is 30 and 40 nm and 200 G when the film thickness is 70 nm. It showed excellent impact resistance. On the other hand, the sum of the film thickness is 120
In the case of nm, it is considerably deteriorated to 100G. Considering that the shock resistance during operation required for a magnetic disk that normally requires such portability is about 200 G, a shock resistance that can be practically applied by setting the sum of film thicknesses to 80 nm or less. Sex is obtained.

【0025】[0025]

【表3】 [Table 3]

【0026】実施例4 ディスク基板11として、内径20mm、外径64mm
の種々の表面硬度を有する基板を用い、表面粗さ(Rm
ax)を1nm以下に平滑研磨した。次いで、洗浄した
基板上に、スパッタリング法により厚さ約5nmのTi
膜22を形成し、その上に高さ約40nmの島状のAl
粒23を形成しテクスチャーとした。このときAl膜
の、スパッタリング量から換算される平均的な厚さは2
nmであった。この上に、厚さ約6nmのCr系金属下
地膜24、厚さ約20nmのCoPtCr系の磁性膜2
5、厚さ約20nmの水素化カーボン保護膜26をそれ
ぞれスパッタリング法で順次形成した。さらにこの上に
潤滑層27として厚さ3nmのAM2001をディッピ
ング法を用いて形成した。ここで、各種基板表面のビッ
カース硬度は、NEC製超薄膜用微小硬度計NECMH
A−400により荷重1mNで測定し、その結果を換算
して求めた。この各種基板を用いて作製した磁気ディス
クに対して実施例1と同様の衝撃試験を行った。このと
き作用した加速度と、衝撃により発生したエラー個数の
関係を表4に示す。これより、基板のビッカース硬度が
600以上の場合に十分な耐衝撃性を有することがわか
る。
( Embodiment 4 ) The disk substrate 11 has an inner diameter of 20 mm and an outer diameter of 64 mm.
Of the surface roughness (Rm
ax) was smooth-polished to 1 nm or less. Then, on the cleaned substrate, Ti with a thickness of about 5 nm is formed by a sputtering method.
A film 22 is formed, and island-shaped Al having a height of about 40 nm is formed on the film 22.
Grain 23 was formed and used as a texture. At this time, the average thickness of the Al film converted from the amount of sputtering is 2
was nm. On top of this, a Cr-based metal base film 24 having a thickness of about 6 nm and a CoPtCr-based magnetic film 2 having a thickness of about 20 nm are formed.
5. The hydrogenated carbon protective film 26 having a thickness of about 20 nm was sequentially formed by the sputtering method. Further, an AM2001 having a thickness of 3 nm was formed thereon as a lubricating layer 27 by a dipping method. Here, the Vickers hardness of the surface of each substrate is NECMH, a microhardness meter for ultra-thin films NECMH
The load was measured with A-400 at a load of 1 mN, and the results were converted to obtain. The same impact test as in Example 1 was conducted on magnetic disks manufactured using these various substrates. Table 4 shows the relationship between the acceleration applied at this time and the number of errors generated by the impact. From this, it is understood that the substrate has sufficient impact resistance when the Vickers hardness of the substrate is 600 or more.

【0027】[0027]

【表4】 [Table 4]

【0028】以上の検討結果より、磁気ディスクの耐衝
撃性を向上させるためには、ガラス基板の表面から薄膜
磁性膜までの間に介在する下地膜の膜厚を含む厚みと薄
膜磁性膜の膜厚の総和を80nmより小さくし、ガラス
基板としてビッカース硬度1200以上(但し1200
を除く)のものを用いればよいことが分かる。
From the above examination results, in order to improve the impact resistance of the magnetic disk, the thickness including the thickness of the underlayer film interposed between the surface of the glass substrate and the thin film magnetic film and the film of the thin film magnetic film. The total thickness is set to be less than 80 nm, and the glass substrate has a Vickers hardness of 1200 or more (however, 1200
It is understood that it is sufficient to use the ones other than () .

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば、持ち運び可能なコンピ
ューターへの応用に適した、耐衝撃性に極めて優れた磁
気ディスクを提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a magnetic disk having excellent impact resistance, which is suitable for portable computer applications.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の膜構成を説明するための拡
大された一部断面図である。
FIG. 1 is an enlarged partial cross-sectional view for explaining a film structure of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例の膜構成を説明するための
拡大された一部断面図である。
FIG. 2 is an enlarged partial sectional view for explaining a film structure of another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例の一部断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of an embodiment of the present invention.

【図4】衝撃により受けた磁気デスクの変形を説明す
るために模式的に示した磁気デスクの拡大された一部
断面図である。
4 is an enlarged partial sectional view of a magnetic to Disk schematically shown in order to explain the deformation of the magnetic to Disk that received by the impact.

【符号の説明】 1、11、21・・・ガラス基板、2、12、24・・
・下地膜、3、13、25・・・磁性膜、4、14、2
6・・・保護膜、5、16、27・・・潤滑膜、15・
・・テクスチャー層、22・・・Ti膜、23・・・島
状のAl粒子からなるテクスチャー
[Explanation of reference numerals] 1, 11, 21 ... Glass substrate, 2, 12, 24 ...
-Underlayer film, 3, 13, 25 ... Magnetic film, 4, 14, 2
6 ... Protective film, 5, 16, 27 ... Lubrication film, 15 ...
..Texture layer, 22 ... Ti film, 23 ... Texture composed of island-shaped Al particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/82 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/82

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少なくともガラス基板と、該ガラス基板上
に形成された下地膜と、該下地膜上に形成された磁性膜
と、該磁性膜上に形成された保護膜と、該保護膜上に形
成された潤滑剤層とを有してなる薄膜型磁気ディスクに
おいて、 該ガラス基板表面のビッカース硬度が1200以上(但
し1200を除く)であり、かつ、該ガラス基板の表面
と該磁性膜の間に介在する該下地膜を含む膜厚と該磁性
膜の膜厚の総和が80nm以下であることを特徴とする
薄膜型磁気ディスク。
And 1. A least a glass substrate, an underlying film formed on the glass substrate, and a magnetic film formed on the lower ground layer, and a protective film formed on the magnetic film, the protective film In a thin film magnetic disk having a lubricant layer formed on the glass substrate, the glass substrate surface has a Vickers hardness of 1200 or more (however,
And 1200 is the exception), and wherein the total thickness of the film thickness and magnetic film comprising a lower fabric layer interposed between the surface and the magnetic film of the glass substrate is 80nm or less Thin film magnetic disk.
【請求項2】該膜厚の総和が20nm以上である請求項
1に記載の薄膜型磁気デスク。
2. A thin-film magnetic to Disk according to claim 1 sum of the film thickness is 20nm or more.
【請求項3】該膜厚の総和が50nm以下である請求項
2に記載の薄膜型磁気デスク。
3. A thin-film magnetic to Disk according to claim 2 sum of the film thickness is 50nm or less.
【請求項4】該膜厚の総和が30nm以下である請求項
2に記載の薄膜型磁気デスク。
4. A thin-film magnetic to Disk according to claim 2 sum of the film thickness is 30nm or less.
【請求項5】該磁性膜の膜厚が15nm以上、該下地膜
の膜厚が5nm以上である請求項1乃至4のいずれかの
項に記載の薄膜型磁気デスク。
5. The film thickness of the magnetic film is 15nm or more, the thin film magnetic to Disk according to any one of claims 1 to 4 the thickness of the lower fabric layer is 5nm or more.
【請求項6】該下地膜がCrまたはCrを主成分とする
金属からなる膜である請求項1乃至5のいずれかの項に
記載の薄膜型磁気デスク。
6. The thin film type magnetic to Disk according to any one of claims 1 to 5 lower land film is a film made of a metal mainly composed of Cr or Cr.
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