JP3418663B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device and inspection method thereof - Google Patents

Manufacturing method of liquid crystal display device and inspection method thereof

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JP3418663B2
JP3418663B2 JP30539596A JP30539596A JP3418663B2 JP 3418663 B2 JP3418663 B2 JP 3418663B2 JP 30539596 A JP30539596 A JP 30539596A JP 30539596 A JP30539596 A JP 30539596A JP 3418663 B2 JP3418663 B2 JP 3418663B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法及びその検査方法に関し、より詳しくはTFT基板
側にカラーフィルタを形成した液晶表示装置の製造方法
及びその検査方法に関する。
The present invention relates to a manufacturing method and a testing method thereof of the liquid crystal display equipment BACKGROUND OF THE INVENTION, and more particularly to a manufacturing method and a testing method thereof of the liquid crystal display equipment in which a color filter is formed on the TFT substrate side.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、薄膜トランジスタを液晶駆動用の
スイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型
液晶表示装置の開発が活発に行われている。
2. Description of the Related Art In recent years, active matrix type liquid crystal display devices using thin film transistors as switching elements for driving liquid crystal have been actively developed.

【0003】一例として、液晶表示装置の平面模式図を
図6に示す。ガラス基板または石英基板31上にゲート
ドライバ32、ソースドライバ33、及びTFT(Th
inFilm Transistor)アレイ部34が
配置されている。ゲートドライバ32は、シフトレジス
タ32a及びバッファ32bから構成される。ソースド
ライバ33は、シフトレジスタ33aと、バッファ33
bと、ビデオライン38のサンプリングを行うアナログ
スイッチ39とから構成される。TFTアレイ部34に
は、ゲートドライバ32から延びる複数の平行するゲー
トバスライン116が配設されている。ソースドライバ
33からは複数のソースバスライン120がゲートバス
ライン116に直交して配設されている。そしてゲート
バスライン116に平行して付加容量共通配線114が
配設されている。2本のゲートバスライン116、ソー
スバスライン120、及び付加容量共通配線114に囲
まれた矩形の領域には、TFT35、画素36、及び付
加容量37が設けられている。TFT35のゲート電極
は、ゲートバスライン116に接続され、ソース電極は
ソースバスライン120に接続されている。TFT35
のドレイン電極に接続された画素電極と対向基板上の対
向電極との間に液晶が封入され、画素36が構成されて
いる。また、付加容量共通配線114は対向電極と同じ
電位の電極に接続されている。
As an example, a schematic plan view of a liquid crystal display device is shown in FIG. A gate driver 32, a source driver 33, and a TFT (Th
The inFilm Transistor) array unit 34 is arranged. The gate driver 32 includes a shift register 32a and a buffer 32b. The source driver 33 includes a shift register 33a and a buffer 33.
b and an analog switch 39 for sampling the video line 38. In the TFT array section 34, a plurality of parallel gate bus lines 116 extending from the gate driver 32 are arranged. From the source driver 33, a plurality of source bus lines 120 are arranged orthogonal to the gate bus lines 116. An additional capacitance common line 114 is arranged in parallel with the gate bus line 116. The TFT 35, the pixel 36, and the additional capacitance 37 are provided in a rectangular area surrounded by the two gate bus lines 116, the source bus line 120, and the additional capacitance common wiring 114. The gate electrode of the TFT 35 is connected to the gate bus line 116, and the source electrode is connected to the source bus line 120. TFT35
The liquid crystal is sealed between the pixel electrode connected to the drain electrode of the pixel and the counter electrode on the counter substrate to form the pixel. Further, the additional capacitance common wiring 114 is connected to an electrode having the same potential as the counter electrode.

【0004】通常、対向基板の内面には、画素電極の隙
間からの光漏れを防止するためのブラックマトリクス
と、それぞれの画素電極に対応して赤色カラーフィル
タ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタとが形成
され、その上部には透明導電膜によって対向電極が形成
されている。このように、対向基板にブラックマトリク
ス及びカラーフィルタを形成した場合には、TFT基板
と対向基板との貼り合わせにおいて貼り合わせずれが生
じるため、その分ブラックマトリクスを大きく形成して
おく必要が有り、開口率が低下する。また、対向基板に
カラーフィルタを形成する場合、寸法精度が良いカラー
フィルタを形成する必要が有るため、例えばフォトリソ
グラフィ工程が必要となりコスト高となってしまう。
Usually, on the inner surface of the counter substrate, a black matrix for preventing light leakage from the gaps between the pixel electrodes and a red color filter, a green color filter and a blue color filter corresponding to each pixel electrode are provided. The counter electrode is formed by a transparent conductive film on the upper surface thereof. As described above, when the black matrix and the color filter are formed on the counter substrate, there is a displacement in bonding when the TFT substrate and the counter substrate are bonded together, so that it is necessary to form the black matrix larger by that amount. The aperture ratio decreases. Further, when forming a color filter on the counter substrate, it is necessary to form a color filter having a high dimensional accuracy, so that, for example, a photolithography process is required, resulting in a high cost.

【0005】この問題を解決するために、特開平5−5
874号公報に示されるようにTFT基板側にカラーフ
ィルタを形成することが考えられている。これは、フォ
トリソグラフィ工程を用いず画素電極上にR(赤)、
G、(緑)、B、(青)の電着カラーフィルタを形成す
るものである。この従来例は、画素電極に電圧を印加す
るためにゲートバスラインに順次走査電圧を印加し、こ
れに同期させて所定の画素電極に対応するデータ配線に
電着カラーフィルタを形成するための電圧を印加してい
る。このようにして、各ゲートバスラインを順次選択す
るごとに、選択したゲートバスラインに接続された画素
電極のうち所定の画素電極のみにソースバスラインから
電圧が印加され、電圧の印加された画素電極上には電着
カラーフィルタが形成される。
In order to solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 5-5
It is considered to form a color filter on the TFT substrate side as shown in Japanese Patent Publication No. 874. This is because R (red) on the pixel electrode without using the photolithography process,
G, (green), B, and (blue) electrodeposition color filters are formed. In this conventional example, a scanning voltage is sequentially applied to a gate bus line to apply a voltage to a pixel electrode, and in synchronization with this, a voltage for forming an electrodeposition color filter on a data line corresponding to a predetermined pixel electrode. Is being applied. In this way, each time the gate bus lines are sequentially selected, the voltage is applied from the source bus line to only a predetermined pixel electrode among the pixel electrodes connected to the selected gate bus line, and the pixel to which the voltage is applied is applied. An electrodeposition color filter is formed on the electrodes.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来例において
は、ゲートバスライン及びソースバスラインに信号を順
次印加する必要が有り、このためにゲートドライバ及び
ソースドライバを動作させる必要があった。そのため、
多くの信号をこれらのドライバに入力する必要があっ
た。
In the above-mentioned conventional example, it is necessary to sequentially apply signals to the gate bus line and the source bus line, and therefore it is necessary to operate the gate driver and the source driver. for that reason,
Many signals had to be input to these drivers.

【0007】特に、ドライバをTFTアレイと同一基板
上に形成したドライバ一体型液晶表示装置においては、
ドライバが単結晶に比べて移動度が低い多結晶シリコン
で形成されているため、特公平5−22917号公報に
示されるように、シフトレジスタを複数系列設けてそれ
ぞれのシフトレジスタの動作周波数を低減し、多結晶シ
リコンにおいてもドライバ一体型液晶表示装置を実現し
ている。例えば、多結晶シリコンの移動度が100〜1
50(cm2/v.sec)程度の素子で信号線800
本以上の液晶表示装置を駆動するためには、少なくとも
シフトレジスタを4系列、望ましくは8系列以上設ける
必要が有る。図7はソースドライバ33において4系列
のシフトレジスタ331〜334を設けて、それぞれの
シフトレジスタの動作周波数を低減した例である。図7
において、TFTアレイ部34にゲートドライバ32及
びソースドライバ33が接続されている。ソースドライ
バ33に設けられたそれぞれのシフトレジスタ331〜
334は、4本おきにアナログスイッチ39を介してソ
ースバスラインに接続されている。さらに、アナログス
イッチ39には、例えば3本のビデオライン38が接続
されている。4系列のシフトレジスタ331〜334に
おいて、例えばシフトレジスタ331には、少なくとも
スタートパルスSP、クロック信号CK1、該クロック
信号CK1の反転信号である/CK1を入力する必要が
有り、シフトレジスタ332には、少なくともスタート
パルスSP、クロック信号CK2、該クロック信号CK
2の反転信号である/CK2を入力する必要が有り、そ
の他のシフトレジスタについても同様である。従って、
シフトレジスタ8系列の場合には、シフトレジスタ用の
クロック信号だけでも2×8=16(本)の信号を入力
する必要があり、信号入力のための装置が煩雑なものと
なる。また、ゲートドライバ32も同様にスタートパル
スSPG及びクロック信号GCK、該クロック信号GC
Kの反転信号/GCKが入力される。
Particularly, in the driver integrated liquid crystal display device in which the driver is formed on the same substrate as the TFT array,
Since the driver is formed of polycrystalline silicon, which has a lower mobility than single crystal, a plurality of series of shift registers are provided to reduce the operating frequency of each shift register as disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-22917. However, a driver integrated liquid crystal display device has been realized even with polycrystalline silicon. For example, the mobility of polycrystalline silicon is 100 to 1
Signal line 800 with an element of about 50 (cm2 / v.sec)
In order to drive more than one liquid crystal display device, it is necessary to provide at least 4 series, preferably 8 series or more shift registers. FIG. 7 shows an example in which four series of shift registers 331 to 334 are provided in the source driver 33 to reduce the operating frequency of each shift register. Figure 7
In, the gate driver 32 and the source driver 33 are connected to the TFT array section 34. Each of the shift registers 331 to 331 provided in the source driver 33
Every four lines 334 are connected to the source bus line via the analog switch 39. Further, for example, three video lines 38 are connected to the analog switch 39. In the four series of shift registers 331 to 334, for example, at least the start pulse SP, the clock signal CK1, and / CK1 which is an inverted signal of the clock signal CK1 need to be input to the shift register 331. At least the start pulse SP, the clock signal CK2, and the clock signal CK
It is necessary to input / CK2 which is an inverted signal of 2, and the same applies to other shift registers. Therefore,
In the case of the shift register 8 series, it is necessary to input 2 × 8 = 16 (pieces) signals only with the clock signal for the shift register, and the device for signal input becomes complicated. Similarly, the gate driver 32 also has a start pulse SPG, a clock signal GCK, and the clock signal GC.
The inverted signal / GCK of K is input.

【0008】また、液晶表示装置駆動用のドライバによ
りカラーフィルタの形成を行った場合は、高価なドライ
バを基板に接続した後、後の工程、例えばラビング工程
でドライバが静電気によりダメージを受けるため、ドラ
イバを取りはずす必要があり、このドライバが実際の液
晶表示装置に使用できなくなるという問題点があった。
When a color filter is formed by a driver for driving a liquid crystal display device, after the expensive driver is connected to the substrate, the driver is damaged by static electricity in a subsequent process, for example, a rubbing process. There is a problem that the driver needs to be removed, and this driver cannot be used in an actual liquid crystal display device.

【0009】本発明は、このような従来技術の課題を解
決するためになされたものであり、本来液晶表示装置を
駆動するためのドライバを使用せずに、少ない信号入力
によって簡便にカラーフィルタを形成した液晶表示装
製造方法及びその検査方法を提供するものである。
The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and a color filter can be simply provided by a small signal input without using a driver for driving a liquid crystal display device. formed a liquid crystal display equipment was
And a method for inspecting the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項記載の
液晶表示装置の製造方法は、少なくともゲートバスライ
ンと、ソースバスラインと、スイッチング素子アレイ
と、画素電極と、前記スイッチング素子アレイを動作さ
せるためのソースドライバ及びゲートドライバと、を備
えた第1の基板及び対向電極が形成された第2の基板を
備え、該第1及び第2の基板間に液晶を挟持してなる液
晶表示装置の製造方法において、前記スイッチング素子
アレイを形成する工程と前記ソースドライバと前記ゲー
トドライバとカラーフィルタ形成用ドライバとを第1の
基板上に同一工程で形成する工程と、前記カラーフィル
タ形成用ドライバに信号の入力を行って前記画素電極上
にカラーフィルタの形成を行う工程を含むことを特徴と
している。
Method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the SUMMARY OF THE INVENTION The present invention includes at least a gate bus line, a source bus line, a switching element array, and the pixel electrode, the switching element array A liquid crystal display including a first substrate including a source driver and a gate driver for operating and a second substrate on which a counter electrode is formed, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates. In the method of manufacturing a device, the step of forming the switching element array, the step of forming the source driver, the gate driver, and the color filter forming driver in the same step on the first substrate, and the color filter forming driver. And a step of inputting a signal to form a color filter on the pixel electrode.

【0011】本発明の請求項記載の液晶表示装置の検
査方法は、少なくともゲートバスラインと、ソースバス
ラインと、スイッチング素子アレイと、画素電極と、前
記スイッチング素子アレイを動作させるためのソースド
ライバ及びゲートドライバと、を備えた第1の基板及び
対向電極が形成された第2の基板を備え、該第1及び第
2の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の検査方
法において、前記バスラインの一方端に前記スイッチン
グ素子アレイを動作させるためのドライバが配置される
とともに、前記バスラインの他方端にはカラーフィルタ
形成用ドライバが配置され、前記カラーフィルタ形成用
ドライバにより前記スイッチング素子アレイを動作させ
るためのドライバの欠陥を検査することを特徴としてい
る。
A method for inspecting a liquid crystal display device according to a second aspect of the present invention includes at least a gate bus line, a source bus line, a switching element array, a pixel electrode, and a source driver for operating the switching element array. And a gate driver, and a second substrate having a counter electrode formed thereon, wherein a liquid crystal is sandwiched between the first and second substrates. A driver for operating the switching element array is arranged at one end of the bus line, and a color filter forming driver is arranged at the other end of the bus line, and the switching element is formed by the color filter forming driver. It is characterized by inspecting a driver for operating the array for defects.

【0012】以下、上記構成による作用を説明する。The operation of the above configuration will be described below.

【0013】本発明は、少なくともゲートバスライン
と、ソースバスラインと、スイッチング素子アレイと、
画素電極と、前記スイッチング素子アレイを動作させる
ためのソースドライバ及びゲートドライバと、を備えた
第1の基板及び対向電極が形成された第2の基板を備
え、該第1及び第2の基板間に液晶を挟持してなる液晶
表示装置の製造方法において、前記スイッチング素子ア
レイを形成する工程と前記ソースドライバと前記ゲート
ドライバとカラーフィルタ形成用ドライバとを第1の基
板上に同一工程で形成する工程と、前記カラーフィルタ
形成用ドライバに信号の入力を行って前記画素電極上に
カラーフィルタの形成を行う工程を含むことを特徴とす
るので、カラーフィルタを形成するためのドライバIC
を基板に配置する必要はなく、さらに簡便にカラーフィ
ルタの形成を行うことができる。また、カラーフィルタ
形成用ドライバを基板に接続する工程を削除することが
できるので、工程の簡略化とともに、カラーフィルタ形
成用ドライバを接続する際の不良をなくすことができ
る。また、カラーフィルタ形成用の外付けのドライバI
Cを必要としないのでその分コスト削減を図ることがで
きる。
According to the present invention, at least a gate bus line, a source bus line, a switching element array,
A first substrate having a pixel electrode and a source driver and a gate driver for operating the switching element array; and a second substrate having a counter electrode formed between the first substrate and the second substrate. In a method of manufacturing a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between two, the step of forming the switching element array, the source driver, the gate driver, and the color filter forming driver are formed in the same step on a first substrate. The method is characterized by including a step and a step of inputting a signal to the color filter forming driver to form a color filter on the pixel electrode. Therefore, a driver IC for forming a color filter is provided.
It is not necessary to dispose on the substrate, and the color filter can be formed more easily. Further, since the step of connecting the color filter forming driver to the substrate can be omitted, it is possible to simplify the process and eliminate defects when connecting the color filter forming driver. In addition, an external driver I for forming a color filter
Since C is not required, the cost can be reduced accordingly.

【0014】本発明は、少なくともゲートバスライン
と、ソースバスラインと、スイッチング素子アレイと、
画素電極と、前記スイッチング素子アレイを動作させる
ためのソースドライバ及びゲートドライバと、を備えた
第1の基板及び対向電極が形成された第2の基板を備
え、該第1及び第2の基板間に液晶を挟持してなる液晶
表示装置の検査方法において、前記バスラインの一方端
に前記スイッチング素子アレイを動作させるためのドラ
イバが配置されるとともに、前記バスラインの他方端に
はカラーフィルタ形成用ドライバが配置され、前記カラ
ーフィルタ形成用ドライバにより前記スイッチング素子
アレイを動作させるためのドライバの欠陥を検査するこ
とを特徴とするので、ドライバの欠陥を検査するため
の、特別の検査装置を必要としないで、カラーフィルタ
形成用ドライバにより代用することができ、欠陥の検査
を容易にしかも迅速に行うことができる。もしソースド
ライバまたはゲートドライバに欠陥があった場合は、こ
れを後の工程にまわす必要がないため工程のロスをなく
すことができる。また、欠陥の種類によっては欠陥を修
正しこれを良品とすることもできる。
According to the present invention, at least a gate bus line, a source bus line, a switching element array,
A first substrate having a pixel electrode and a source driver and a gate driver for operating the switching element array; and a second substrate having a counter electrode formed between the first substrate and the second substrate. In a method for inspecting a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between, a driver for operating the switching element array is arranged at one end of the bus line, and a color filter is formed at the other end of the bus line. Since a driver is arranged and the driver for operating the switching element array is inspected by the color filter forming driver, a special inspection device for inspecting the driver defect is required. Instead, a color filter forming driver can be used instead, making defect inspection easy and quick. Ukoto can. If there is a defect in the source driver or the gate driver, it is not necessary to send this to a subsequent process, so that the process loss can be eliminated. In addition, depending on the type of defect, the defect can be corrected and made good.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

【0016】(実施の形態1) 図1に本発明の実施の形態1における画素1個分のレイ
アウト図を、図2に図1におけるA−A線の断面図を示
す。以下、図1及び図2に従って、本発明を説明する。
(Embodiment 1) FIG. 1 shows a layout diagram of one pixel in Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 shows a sectional view taken along the line AA in FIG. Hereinafter, the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

【0017】従来例と同様に、絶縁性基板10上に活性
層となる多結晶シリコン薄膜11を40nm〜80nm
の厚さで形成した。次に、スパッタリング法またはCV
D法を用いて、ゲート絶縁膜13をSiO2 またはSi
Nxにより80nmの厚さで形成した。次に、斜線部の
付加容量領域11Aにリンイオンを1×1015(c
-2)で注入し、この部分の低抵抗化を行った。この斜
線部は付加容量下部電極となる。次に、付加容量上部電
極14及びゲート電極16をAlまたは多結晶シリコン
を用いて形成した。
As in the conventional example, a polycrystalline silicon thin film 11 serving as an active layer is formed on the insulating substrate 10 at a thickness of 40 nm to 80 nm.
Formed with a thickness of. Next, sputtering method or CV
The gate insulating film 13 is formed of SiO2 or Si by using the D method.
It was formed with Nx to a thickness of 80 nm. Next, 1 × 10 15 (c
m −2 ) to reduce the resistance of this portion. The shaded area serves as the lower electrode of the additional capacitor. Next, the additional capacitance upper electrode 14 and the gate electrode 16 were formed using Al or polycrystalline silicon.

【0018】次に、この薄膜トランジスタの導電型を決
定するために、ゲート電極16上方からゲート電極16
をマスクとして、リンイオンを1×1015(cm-2)で
注入し、ゲート電極16下部の活性層にノンドープのチ
ャンネル部12を形成し、チャンネル部12以外の領域
は高濃度の不純物領域とした。TFTの活性層におい
て、チャンネル部12近傍に低濃度不純物領域またはノ
ンドープ領域を設けてTFTのオフ時にリーク電流が少
ない構造としてもよい。次に、第1の層間絶縁膜15を
全面に形成後、コンタクトホール18及びコンタクトホ
ール19を設けた。次に、ソースバスライン20、また
はソースバスライン20から延設されたソース電極及び
ドレイン電極21をAlなどの低抵抗の金属を用いて形
成した。次に、第2の層間絶縁膜24を形成するが、本
実施の形態においては透明な感光性の有機膜をスピンコ
ート法により形成した。また、本実施の形態1において
は、この液晶パネルを透過型液晶表示装置として使用す
るため、第2の層間絶縁膜24の材質としては着色のあ
る有機材料ではなく、透明なアクリル樹脂を使用した。
この第2の層間絶縁膜24の比誘電率は4以下と小さ
く、膜厚は2μm以上あるため、絶縁膜下方からの電界
の影響を受けない。このことにより、液晶層に電圧を印
加した際に、液晶材料のリバースチルトを抑制すること
ができる。
Next, in order to determine the conductivity type of this thin film transistor, the gate electrode 16 is arranged from above the gate electrode 16.
Using as a mask, phosphorus ions are implanted at 1 × 10 15 (cm −2 ) to form a non-doped channel portion 12 in the active layer below the gate electrode 16, and a region other than the channel portion 12 is made as a high-concentration impurity region. . In the active layer of the TFT, a low-concentration impurity region or a non-doped region may be provided in the vicinity of the channel portion 12 so that the leak current is small when the TFT is off. Next, after forming the first interlayer insulating film 15 on the entire surface, contact holes 18 and contact holes 19 were provided. Next, the source bus line 20 or the source and drain electrodes 21 extended from the source bus line 20 were formed using a low-resistance metal such as Al. Next, the second interlayer insulating film 24 is formed. In this embodiment, a transparent photosensitive organic film is formed by spin coating. Further, in the first embodiment, since this liquid crystal panel is used as a transmissive liquid crystal display device, a transparent acrylic resin is used as the material of the second interlayer insulating film 24, not a colored organic material. .
Since the relative permittivity of the second interlayer insulating film 24 is as small as 4 or less and the film thickness is 2 μm or more, it is not affected by the electric field from below the insulating film. This makes it possible to suppress reverse tilt of the liquid crystal material when a voltage is applied to the liquid crystal layer.

【0019】次に、ドレイン電極21上にコンタクトホ
ール23を形成し、コンタクトホール23を覆って画素
電極25をITOなどの透明導電膜材料によって形成し
た。この画素電極25は少なくとも液晶パネルの開口部
に形成される。
Next, a contact hole 23 was formed on the drain electrode 21, and a pixel electrode 25 was formed of a transparent conductive film material such as ITO so as to cover the contact hole 23. The pixel electrode 25 is formed at least in the opening of the liquid crystal panel.

【0020】次に、この基板をR(赤)用の電着溶液に
浸漬し、R用の画素電極に電着電圧を印加することによ
り画素電極上部にRの電着カラーフィルタ30Rを形成
し、続いて、同じようにしてG(緑)の電着カラーフィ
ルタ30G、B(青)の電着カラーフィルタ(図示せ
ず)を形成するが、本実施の形態1においてはカラーフ
ィルタ形成用のドライバICによってカラーフィルタの
形成を行った。
Next, this substrate is dipped in an R (red) electrodeposition solution, and an electrodeposition voltage is applied to the R pixel electrode to form an R electrodeposition color filter 30R on the pixel electrode. Then, similarly, the G (green) electrodeposition color filter 30G and the B (blue) electrodeposition color filter (not shown) are formed. A color filter was formed by the driver IC.

【0021】図3は、実施の形態1において、ストライ
プ配列のカラーフィルタを形成するためにカラーフィル
タ形成用ドライバ40を配置した例である。最終工程に
おいて、TFTアレイ部34に、ゲートドライバ32と
ソースドライバ33が接続されるが、本実施の形態1に
おいてTFTアレイ部34のソースドライバ33と反対
側にカラーフィルタ形成用ドライバ40が接続されてい
る。なお、TFTアレイ部34には、ゲートドライバ3
2から延びる複数の平行するゲートバスライン116が
配設され、ソースドライバ33からは、複数のソースバ
スライン120がゲートバスライン116に直交して配
設されている。カラーフィルタ形成用ドライバ40は、
1系列のシフトレジスタ41とR、G、Bの3系列のカ
ラーフィルタを形成するための信号入力端子43(R
用)、44(G用)、45(B用)とカラーフィルタ形
成用信号のサンプリングスイッチ42とを備えている。
それぞれの信号入力端子は3本おきにサンプリングスイ
ッチ42を介してソースバスラインに接続されている。
FIG. 3 shows an example in which the color filter forming driver 40 is arranged in order to form the color filters of the stripe arrangement in the first embodiment. In the final step, the gate driver 32 and the source driver 33 are connected to the TFT array section 34. In the first embodiment, the color filter forming driver 40 is connected to the TFT array section 34 on the side opposite to the source driver 33. ing. The TFT array unit 34 includes a gate driver 3
A plurality of parallel gate bus lines 116 extending from 2 are arranged, and from the source driver 33, a plurality of source bus lines 120 are arranged orthogonal to the gate bus lines 116. The color filter forming driver 40 is
One series of shift registers 41 and signal input terminals 43 (R for forming three series of R, G, B color filters
, 44 (for G), 45 (for B), and a sampling switch 42 for the color filter forming signal.
Every three signal input terminals are connected to the source bus line via the sampling switch 42.

【0022】Rのカラーフィルタを形成する場合は、T
FTアレイ部34の画素TFTのゲート電極に、順次オ
ン電圧が印加される。TFTアレイ部34の画素配列が
ストライプ配列のように同一バスラインに単色のカラー
フィルタが接続されている場合は、画素TFTのゲート
電極に一斉にオン電圧を印加してもよい。またこの時、
カラーフィルタ形成用ドライバ40のシフトレジスタ4
1を動作させるとともに、R用の信号入力端子43には
例えば5V、他の2本の信号入力端子44、45には0
Vが印加されている。順次この動作をG、Bについても
行いR、G、Bの電着カラーフィルタの形成を行ってい
る。
When forming an R color filter, T
The ON voltage is sequentially applied to the gate electrodes of the pixel TFTs of the FT array section 34. When the pixel array of the TFT array section 34 is connected to the same bus line with a single color filter like a stripe array, the ON voltage may be simultaneously applied to the gate electrodes of the pixel TFTs. Also at this time,
Shift register 4 of color filter forming driver 40
1 is operated, 5V is applied to the R signal input terminal 43, and 0 is applied to the other two signal input terminals 44 and 45.
V is being applied. This operation is sequentially performed for G and B to form R, G and B electrodeposited color filters.

【0023】このカラーフィルタ形成用ドライバ40は
液晶表示装置を駆動するために必要な性能を備える必要
はなく、例えば低速度でしか動作しないものであっても
かまわない。従って、安価なドライバを使用してカラー
フィルタの形成を行うことができる。カラーフィルタ形
成用ドライバ40としては基板に着脱すること、複数回
使用することを考えて耐圧の高いものが望ましい。さら
に、ゲートドライバと反対側にカラーフィルタ形成用ド
ライバ40を配置してもよい。カラーフィルタ形成用ド
ライバ40は、ソース側またはゲート側に単独に配置し
てもよく、両方に配置してもよい。また、カラーフィル
タ形成用ドライバ40を配置したバスラインの反対側に
各バスライン駆動用のドライバが配置されていてもよ
い。
The color filter forming driver 40 does not have to have the performance required to drive the liquid crystal display device, and may operate at a low speed, for example. Therefore, the color filter can be formed using an inexpensive driver. It is desirable that the color filter forming driver 40 has a high breakdown voltage in consideration of being attached to and detached from the substrate and being used multiple times. Further, the color filter forming driver 40 may be arranged on the side opposite to the gate driver. The color filter forming driver 40 may be arranged independently on the source side or the gate side, or may be arranged on both sides. Further, a driver for driving each bus line may be arranged on the opposite side of the bus line on which the color filter forming driver 40 is arranged.

【0024】一方、対向基板には少なくともITOによ
る対向電極が形成される。その後、TFT基板及び対向
基板に配向処理が行われ、貼り合わされた後、基板間に
液晶が封入され液晶パネルとなる。
On the other hand, at least a counter electrode made of ITO is formed on the counter substrate. After that, the TFT substrate and the counter substrate are subjected to alignment treatment and bonded, and then liquid crystal is sealed between the substrates to form a liquid crystal panel.

【0025】このように、電着によってカラーフィルタ
を形成するので、画素電極に対するカラーフィルタの位
置ずれは起こらない。小型高精細の液晶パネルのように
バスラインの幅が狭くなったとしても、この電着カラー
フィルタは画素電極25と同一のパターンで形成するこ
とができるので、隣り合うカラーフィルタ間の分離をバ
スライン上で行うことが可能であることにより、液晶パ
ネルの開口部にカラーフィルタが配置されないために生
じる表示品位の低下は起こらない。また、このTFT基
板に断線や薄膜トランジスタの動作不良があった場合、
画素電極に正常なカラーフィルタが形成されない。従っ
て、カラーフィルタを形成した後、このカラーフィルタ
を調べればTFT基板の欠陥の有無がわかるので、カラ
ーフィルタの検査はTFT基板の検査工程を兼ねること
ができる。ここで、欠陥の見つかったTFT基板は後の
工程にまわす必要がないため、従来行われていた液晶パ
ネルの組立て後の検査よりも早く欠陥の有無が判明する
ので、工程のロスがなく優れている。
As described above, since the color filter is formed by electrodeposition, the color filter is not displaced with respect to the pixel electrode. Even if the width of the bus line is narrowed as in a small and high-definition liquid crystal panel, this electrodeposition color filter can be formed in the same pattern as the pixel electrode 25, so that separation between adjacent color filters can be prevented. Since it can be performed on the line, the display quality is not deteriorated because the color filter is not arranged in the opening of the liquid crystal panel. Also, if there is a disconnection or malfunction of the thin film transistor on this TFT substrate,
A normal color filter is not formed on the pixel electrode. Therefore, after the color filter is formed, the presence or absence of a defect in the TFT substrate can be known by examining the color filter, so that the inspection of the color filter can also serve as the inspection step of the TFT substrate. Here, since it is not necessary to send the TFT substrate in which a defect is found to a subsequent process, it is possible to detect the presence or absence of a defect earlier than the conventional inspection after the liquid crystal panel is assembled, which is excellent in that there is no process loss. There is.

【0026】(実施の形態2) 図4は、ストライプ配列のカラーフィルタを形成するた
めにカラーフィルタ形成用ドライバ40を配置したドラ
イバ一体型液晶表示装置である。ドライバ一体型液晶表
示装置においては、画素電極形成時にはモノリシックド
ライバ及びカラーフィルタ形成用ドライバ40は完成し
ており、カラーフィルタ形成用ドライバを用いてカラー
フィルタを形成することが可能である。TFTアレイ部
34の上部に従来例と同じく4系列のシフトレジスタ3
31〜334によってソースドライバ33が構成されて
いると同時に、TFTアレイ部34の下部にカラーフィ
ルタ形成用ドライバ40が配置されている。カラーフィ
ルタ形成用ドライバ40は1系列のシフトレジスタ41
とR、G、Bの3系列のカラーフィルタ形成用の信号入
力端子43(R用)、44(G用)、45(B用)とカ
ラーフィルタ形成用信号のサンプリングスイッチ42と
を備えている。それぞれの信号入力端子は3本おきにサ
ンプリングスイッチ42を介してソースバスライン12
0に接続されている。
Embodiment 2 FIG. 4 shows a driver-integrated liquid crystal display device in which a color filter forming driver 40 is arranged to form a stripe-arranged color filter. In the driver integrated liquid crystal display device, the monolithic driver and the color filter forming driver 40 are completed at the time of forming the pixel electrode, and the color filter can be formed using the color filter forming driver. Above the TFT array section 34, four series of shift registers 3 as in the conventional example.
The source driver 33 is configured by 31 to 334, and at the same time, the color filter forming driver 40 is disposed below the TFT array section 34. The color filter forming driver 40 is a series of shift registers 41.
And signal input terminals 43 (for R), 44 (for G) and 45 (for B) for forming color filters of three series of R, G and B, and a sampling switch 42 for the signal for forming color filters. . Every three signal input terminals are connected to the source bus line 12 via the sampling switch 42.
It is connected to 0.

【0027】Rのカラーフィルタを形成する場合、TF
Tアレイ部34の画素TFTのゲート電極に、順次オン
電圧が印加される。TFTアレイ部34の画素配列がス
トライプ配列のように、同一バスラインに単色のカラー
フィルタが接続されている場合は、画素TFTのゲート
電極に一斉にオン電圧を印加してもよい。またこの時、
シフトレジスタ41を動作させるとともに、R用の信号
入力端子43には例えば5V、他の2本の信号入力端子
44、45には0Vが印加されている。順次この動作を
G、Bについても行いR、G、Bの電着カラーフィルタ
の形成を行っている。
When forming an R color filter, TF
The ON voltage is sequentially applied to the gate electrodes of the pixel TFTs of the T array section 34. When the pixel array of the TFT array unit 34 is a stripe array and a single color filter is connected to the same bus line, the ON voltage may be simultaneously applied to the gate electrodes of the pixel TFTs. Also at this time,
While operating the shift register 41, 5V is applied to the R signal input terminal 43, and 0V is applied to the other two signal input terminals 44 and 45. This operation is sequentially performed for G and B to form R, G and B electrodeposited color filters.

【0028】このようにカラーフィルタの形成には本
来、液晶表示装置を駆動するためのシフトレジスタの動
作速度は必要がなく、低速度でシフトレジスタの動作を
行えばよいので、カラーフィルタ形成用として複数系列
のシフトレジスタは必要なく、1系列のシフトレジスタ
を設ければよい。よって、シフトレジスタを1系列のみ
動作させればよいので、クロック信号もクロック信号C
LK、クロック信号CLKの反転信号/CLKの2本で
すみ、カラーフィルタ形成用ドライバ40を設けること
で、大幅な入力信号数の削減を図ることができる。
As described above, since the operation speed of the shift register for driving the liquid crystal display device is not required to form the color filter, the operation of the shift register may be performed at a low speed, and therefore, it is used for forming the color filter. A plurality of series of shift registers is not necessary, and one series of shift registers may be provided. Therefore, since it is necessary to operate the shift register only for one series, the clock signal is also the clock signal C.
Only two lines, LK and an inverted signal / CLK of the clock signal CLK are required. By providing the color filter forming driver 40, the number of input signals can be significantly reduced.

【0029】また、このカラーフィルタ形成用ドライバ
40によってソースドライバ及びソースバスラインの検
査を行うことも可能である。検査法の一例を図4及び図
5を用いて説明する。
It is also possible to inspect the source driver and the source bus line by the color filter forming driver 40. An example of the inspection method will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

【0030】ソースドライバ33を動作させて1番目の
ソースバスライン120に信号S1、2番目のソースバ
スライン120に信号S2、3番目のソースバスライン
120に信号S3、4番目のソースバスライン120に
信号S4を順次出力する。これと同時にカラーフィルタ
形成用ドライバ40のシフトレジスタ41を動作させ
て、信号S1〜S4と同じタイミングでサンプリングス
イッチ42のゲート電極に信号を出力する。
By operating the source driver 33, the signal S1 is applied to the first source bus line 120, the signal S2 is applied to the second source bus line 120, the signal S3 is applied to the third source bus line 120, and the fourth source bus line 120 is applied. Then, the signal S4 is sequentially output. At the same time, the shift register 41 of the color filter forming driver 40 is operated to output a signal to the gate electrode of the sampling switch 42 at the same timing as the signals S1 to S4.

【0031】ここでソースドライバ33及びソースバス
ライン120に欠陥が無い場合には、信号入力端子43
には信号43Pの波形で出力され、信号入力端子44に
は信号44Pの波形で出力される。
If there is no defect in the source driver 33 and the source bus line 120, the signal input terminal 43 is used.
To the signal input terminal 44 with the waveform of the signal 44P.

【0032】一方、例えば、ソースドライバ33から信
号S4のパルスが出力されなかった場合には、信号43
Pに出力される2個目のパルスが出力されず、信号入力
端子43には43P′に示されるような波形で出力され
るため、欠陥のある個所を特定することができる。さら
に、画素電極上へのカラーフィルタの形成状態を調べる
ことにより、バスラインに欠陥があるのか、ソースドラ
イバに欠陥があるのか、さらに特定することができる。
On the other hand, for example, when the pulse of the signal S4 is not output from the source driver 33, the signal 43
Since the second pulse output to P is not output and is output to the signal input terminal 43 in the waveform as shown by 43P ', the defective portion can be specified. Furthermore, by examining the formation state of the color filter on the pixel electrode, it is possible to further identify whether the bus line is defective or the source driver is defective.

【0033】また、本実施の形態2では、カラーフィル
タ形成用ドライバ40は、ソースバスラインに形成した
場合について説明を行ったが、これに限られず、ゲート
バスラインに形成してもよく、さらに、ソースバスライ
ン及びゲートバスラインの両方に形成してもよい。
In the second embodiment, the case where the color filter forming driver 40 is formed on the source bus line has been described, but the present invention is not limited to this, and may be formed on the gate bus line. It may be formed on both the source bus line and the gate bus line.

【0034】実施の形態1と実施の形態2においては、
半導体層として多結晶シリコンを使用し、TFTの構造
としてはコプラナ型のものを使用したが、本発明はこれ
に限るものではなく、半導体層として他の半導体材料を
使用してもよく、TFTの構造として逆スタガ型など他
の構造を採用してもよい。また、実施の形態1と実施の
形態2におけるカラーフィルタの形成方法として電着法
を利用したが、他の方法として例えばミセル電解法が利
用できる。
In the first and second embodiments,
Although polycrystalline silicon is used as the semiconductor layer and the coplanar type is used as the structure of the TFT, the present invention is not limited to this, and other semiconductor materials may be used as the semiconductor layer. Other structure such as an inverted stagger type may be adopted as the structure. Further, although the electrodeposition method is used as the color filter forming method in the first and second embodiments, for example, the micelle electrolysis method can be used as another method.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明は、少なくともゲートバスライン
と、ソースバスラインと、スイッチング素子アレイと、
画素電極と、前記スイッチング素子アレイを動作させる
ためのソースドライバ及びゲートドライバと、を備えた
第1の基板及び対向電極が形成された第2の基板を備
え、該第1及び第2の基板間に液晶を挟持してなる液晶
表示装置の製造方法において、前記スイッチング素子ア
レイを形成する工程と前記ソースドライバと前記ゲート
ドライバとカラーフィルタ形成用ドライバとを第1の基
板上に同一工程で形成する工程と、前記カラーフィルタ
形成用ドライバに信号の入力を行って前記画素電極上に
カラーフィルタの形成を行う工程を含むことを特徴とす
るので、カラーフィルタを形成するためのドライバIC
を基板に配置する必要はなく、さらに簡便にカラーフィ
ルタの形成を行うことができる。また、カラーフィルタ
形成用ドライバを基板に接続する工程を削除することが
できるので、工程の簡略化とともに、カラーフィルタ形
成用ドライバを接続する際の不良をなくすことができ
る。また、カラーフィルタ形成用の外付けのドライバI
Cを必要としないのでその分コスト削減を図ることがで
きる。
According to the present invention, at least a gate bus line, a source bus line, a switching element array,
A first substrate having a pixel electrode and a source driver and a gate driver for operating the switching element array; and a second substrate having a counter electrode formed between the first substrate and the second substrate. In a method of manufacturing a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between two, the step of forming the switching element array, the source driver, the gate driver, and the color filter forming driver are formed in the same step on a first substrate. The method is characterized by including a step and a step of inputting a signal to the color filter forming driver to form a color filter on the pixel electrode. Therefore, a driver IC for forming a color filter is provided.
It is not necessary to dispose on the substrate, and the color filter can be formed more easily. Further, since the step of connecting the color filter forming driver to the substrate can be omitted, it is possible to simplify the process and eliminate defects when connecting the color filter forming driver. In addition, an external driver I for forming a color filter
Since C is not required, the cost can be reduced accordingly.

【0036】本発明は、少なくともゲートバスライン
と、ソースバスラインと、スイッチング素子アレイと、
画素電極と、前記スイッチング素子アレイを動作させる
ためのソースドライバ及びゲートドライバと、を備えた
第1の基板及び対向電極が形成された第2の基板を備
え、該第1及び第2の基板間に液晶を挟持してなる液晶
表示装置の検査方法において、前記バスラインの一方端
に前記スイッチング素子アレイを動作させるためのドラ
イバが配置されるとともに、前記バスラインの他方端に
はカラーフィルタ形成用ドライバが配置され、前記カラ
ーフィルタ形成用ドライバにより前記スイッチング素子
アレイを動作させるためのドライバの欠陥を検査するこ
とを特徴とするので、ドライバの欠陥を検査するため
の、特別の検査装置を必要としないで、カラーフィルタ
形成用ドライバにより代用することができ、欠陥の検査
を容易にしかも迅速に行うことができる。もしソースド
ライバまたはゲートドライバに欠陥があった場合は、こ
れを後の工程にまわす必要がないため工程のロスをなく
すことができる。また、欠陥の種類によっては欠陥を修
正しこれを良品とすることもできる。
The present invention includes at least a gate bus line, a source bus line, a switching element array,
A first substrate having a pixel electrode and a source driver and a gate driver for operating the switching element array; and a second substrate having a counter electrode formed between the first substrate and the second substrate. In a method for inspecting a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between, a driver for operating the switching element array is arranged at one end of the bus line, and a color filter is formed at the other end of the bus line. Since a driver is arranged and the driver for operating the switching element array is inspected by the color filter forming driver, a special inspection device for inspecting the driver defect is required. Instead, a color filter forming driver can be used instead, making defect inspection easy and quick. Ukoto can. If there is a defect in the source driver or the gate driver, it is not necessary to send this to a subsequent process, so that the process loss can be eliminated. In addition, depending on the type of defect, the defect can be corrected and made good.

【0037】また、カラーフィルタ形成用ドライバによ
って形成されるカラーフィルタは電着カラーフィルタで
あるので、高価なフォトリソグラフィによるプロセスを
用いることなく、極めて単純なプロセスで正確に画素電
極上にカラーフィルタの形成を行うことができる。さら
に、画素欠陥を容易に検査することができる。
Further, since the color filter formed by the color filter forming driver is an electrodeposition color filter, the color filter can be accurately formed on the pixel electrode by an extremely simple process without using an expensive photolithography process. Forming can take place. Furthermore, pixel defects can be easily inspected.

【0038】したがって、生産工程の簡略化とともに、
製品のスループットの向上、さらには生産歩留まりを向
上させることができる。
Therefore, with simplification of the production process,
It is possible to improve the product throughput and further improve the production yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1による液晶表示装置の画
素1個分の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of one pixel of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1による液晶表示装置の画
素1個分の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of one pixel of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1の液晶表示装置の構成を
示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態2の液晶表示装置の構成を
示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態2の液晶表示装置において
欠陥の検査を行う場合の信号波形図である。
FIG. 5 is a signal waveform diagram when a defect is inspected in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention.

【図6】従来の液晶表示装置の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional liquid crystal display device.

【図7】従来の液晶表示装置の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 絶縁性基板 11 多結晶シリコン薄膜 12 チャネル部 13 ゲート絶縁膜 14 付加容量上部電極 15 第1の層間絶縁膜 16 ゲート電極 18 コンタクトホール 19 コンタクトホール 20 ソースバスライン 21 ドレイン電極 23 コンタクトホール 24 第2の層間絶縁膜 25 画素電極 26 カラーフィルタ 40 カラーフィルタ形成用ドライバ 10 Insulating substrate 11 Polycrystalline silicon thin film 12 channel section 13 Gate insulating film 14 Additional capacitance upper electrode 15 First interlayer insulating film 16 gate electrode 18 contact holes 19 contact holes 20 Source bus line 21 drain electrode 23 Contact holes 24 Second interlayer insulating film 25 pixel electrodes 26 color filters 40 Color filter forming driver

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少なくともゲートバスラインと、ソースバ
スラインと、スイッチング素子アレイと、画素電極と、
前記スイッチング素子アレイを動作させるためのソース
ドライバ及びゲートドライバと、を備えた第1の基板及
び対向電極が形成された第2の基板を備え、該第1及び
第2の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造
方法において、前記スイッチング素子アレイを形成する工程と前記ソー
スドライバと前記ゲートドライバとカラーフィルタ形成
用ドライバとを第1の基板上に同一工程で形成する工程
と、 前記カラーフィルタ形成用ドライバに信号の入力を行っ
て前記画素電極上にカラーフィルタの形成を行う工程と
を含む ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法
1. A gate bus line, a source bus line, a switching element array, a pixel electrode,
A first substrate having a source driver and a gate driver for operating the switching element array and a second substrate having a counter electrode formed thereon are provided, and liquid crystal is sandwiched between the first and second substrates. Manufacture of liquid crystal display devices
In the method, the a step of forming the switching element array saws
Driver, gate driver, and color filter formation
Of forming the driver for the same on the first substrate in the same step
And input signals to the color filter forming driver.
And forming a color filter on the pixel electrode.
A method of manufacturing a liquid crystal display device , comprising:
【請求項2】少なくともゲートバスラインと、ソースバ
スラインと、スイッチング素子アレイと、画素電極と、
前記スイッチング素子アレイを動作させるためのソース
ドライバ及びゲートドライバと、を備えた第1の基板及
び対向電極が形成された第2の基板を備え、該第1及び
第2の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の検査
方法において、 前記バスラインの一方端に前記スイッチング素子アレイ
を動作させるためのドライバが配置されるとともに、前
記バスラインの他方端にはカラーフィルタ形成用ドライ
バが配置され、 前記カラーフィルタ形成用ドライバにより前記スイッチ
ング素子アレイを動作させるためのドライバの欠陥を検
査する ことを特徴とする液晶表示装置の検査方法
2. A gate bus line and a source bus
A spline, a switching element array, a pixel electrode,
Source for operating the switching element array
A first substrate including a driver and a gate driver, and
And a second substrate on which a counter electrode is formed.
Inspection of liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between second substrates
In the method, the switching element array is provided at one end of the bus line.
Driver is placed to operate the
At the other end of the bus line, dry for color filter formation
The color filter forming driver and the switch
The driver for operating the array.
Method of inspecting a liquid crystal display device you characterized by査.
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