JP3390053B2 - 無電解法でブラックマトリックスを製造する方法 - Google Patents

無電解法でブラックマトリックスを製造する方法

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US8046506B2 (en) 2006-03-21 2011-10-25 Mediatek Inc. FIFO system and operating method thereof
TWI499691B (zh) * 2011-08-17 2015-09-11 羅門哈斯電子材料有限公司 用於無電金屬化之安定無錫催化劑
JP6066396B2 (ja) * 2011-08-17 2017-01-25 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ 無電解金属化のための安定な触媒
JP6066397B2 (ja) * 2011-08-17 2017-01-25 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ 無電解金属化のための安定な触媒
KR102115561B1 (ko) * 2013-09-16 2020-05-27 삼성디스플레이 주식회사 폴리이미드 기판의 제조 방법 및 이를 이용하는 표시장치의 제조 방법
JP6177670B2 (ja) * 2013-11-21 2017-08-09 東京エレクトロン株式会社 めっきの前処理方法、無電解めっき方法および記憶媒体
JP6466182B2 (ja) * 2015-01-19 2019-02-06 国立研究開発法人産業技術総合研究所 無電解めっき用パラジウムヒドロゾル触媒液とその調製方法
JP6660116B2 (ja) * 2015-08-03 2020-03-04 東京応化工業株式会社 シランカップリング剤水溶液、単分子膜製造方法及びめっき造形方法

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