JP3375389B2 - 電荷検出素子 - Google Patents
電荷検出素子Info
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Description
の構造に関し、特にCCDイメージセンサ等のような微
少な信号電荷を高い感度で検出する必要のある素子の素
子製造に関する。 【0002】 【従来の技術】例えば、固体撮像素子の電荷検出部を説
明する。図5は株式会社東芝のS.Oosawaらによ
って1988年International Conf
erence on Solid State Dev
ice and Materials(Fxtende
d Abstractspp.355−358)にて発
表されたフローティング表面検出器の断面図を示すもの
で、n型基板1の表面にp- ウェル層2を形成し、基板
より高濃度のn型領域であるセンシングチャネル5とp
+ 領域のソース及びドレイン領域20,21と、前記セ
ンシングチャネル5上に形成されたゲート酸化膜4と、
ゲート酸化膜4上に形成されたフローティングゲート1
2と、フローティングゲート12上に形成された厚い絶
縁層15と、厚い絶縁膜15上に形成されたバイアスゲ
ート14と、からなる。 【0003】前記センシングチャネル5は、断面図平面
に垂直な方向に電荷を電送するCCDに接続され、埋込
チャネル(図示せず)内を信号電荷が転送されて来る。
転送された来た信号電荷がセンシングチャネル5内に蓄
積されると、センシングチャネル5内の電位分布が変化
されてゲート酸化膜4とセンシングチャネル5との界面
電位およびフローティングゲート12電位が変化する。
この電位変化により、ホールをキャリアとし、ゲート酸
化膜4およびセンシングチャネル5界面をp型表面チャ
ネルとするトランジスタが動作する。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】このトランジスタは、
センシング容量を非常に小さくできるうえ、寄生容量が
ほとんど無いので、高感度の動作が可能となる。また、
センシングチャネルは、完全に空乏化させる条件で信号
転送するから、信号電荷の完全転送が可能となり、1/
fノイズなどが非常に低く抑えられる。 【0005】東芝は、76μV/e- 高感度64μV.
rms(雑音等価信号〜1.2エレクトロンrms)以
下という低雑音を両立したと報告しているが、図5に示
すように、このトランジスタのソースとドレインがp-
ウェルのような導電性であり、キャリアが信号電荷とは
反対符号という問題点がある。p- ウェルは、通常接地
されるからソースとかドレインには、ウェル内の全ての
領域からホールが拡散することとなる。したがって、こ
のホールによる暗電流のショートノイズの影響が問題に
なると考えられる。 【0006】また、入射光のある場合に、ホールは電子
の数と同じ数だけ発生するが、電子についてはオーバー
フロードレインがあるのに対し、ホールについては確実
に機能するドレインの構造がない。周辺部にp- ウェル
の接触があるが、画素部からの距離は非常に長くなるの
で、強い入射光が入る場合などに、一時的に増加したホ
ールの漏れ電流により信号電流が上昇する現象が発生す
る可能性がある。 【0007】このような問題を解決するために、基板を
p+ 型として電子の水平オーバーフロードレイン構造を
止めるとか、電荷検出部のウェルを画素部に独立させる
とか、といった方法があるが、これらはほとんど不能で
ある。本発明の目的は、上述した従来技術の問題を解決
するためのもので、キャリアがエレクトロンであるトラ
ンジスタを用いて電子の電荷量を検出することができる
電荷検出装置を提供することである。それによって暗電
流によるショートノイズを低下させ、感度を改善しよう
とするものである。 【0008】 【課題を解決するための手段】本発明はp型チャネルト
ランジスタを用いた表面領域にキャリアとして電子を用
いたn型チャネルトランジスタを用い、n型センシング
チャネルの表面にp型チャネルのトランジスタが形成さ
れ、センシングチャネルとそれぞれのソース・ドレイン
との間のn+ 領域の表面部分がpウェル層で形成される
反転可能なチャネル分離領域を形成している。センシン
グチャネル表面に、センシングチャネルとは反対導電型
の領域を形成することにより、フローティングゲート下
方に、電子の表面チャネルが形成され、センシングチャ
ネルへ転送される電荷量に対応して表面チャネルが変形
される。また、センシングチャネルとソース、およびセ
ンシングチャネルとドレイン間の表面反転可能なチャネ
ル分離領域を設けることで、ソースおよびドレインから
表面チャネル領域に電流が流れ、埋込チャネル領域には
流れない構造となる。 【0009】このように検出される電荷と同じ導電型の
キャリアが流れるトランジスタを用いることで、ウェル
層からの暗電流の問題が解決され、暗電流に起因するシ
ョートノイズが低減されて、さらに高感度の電荷検出素
子が提供されるようになる。また、強い光が入射される
場合の信号出力の上昇現象等を心配する必要がない。ソ
ース,ドレイン領域を形成するために、追加したp+ 領
域の形成工程も省略できる。 【0010】 【実施例】以下、添付図面に基づいて本発明の一実施例
をCCDのイメージセンサの電荷検出部に利用する場合
を例として説明する。図1は、CCDにより信号電荷が
転送される方向の断面構造図である。n型Si基板1の
表面にp- ウェル層2が形成され、前記p- ウェル層2
の表面部位にn型埋込チャネル3とn型センシングチャ
ネル5、p型表面チャネル6およびリセットドレイン7
がそれぞれ所定領域上に形成され、その上部にはゲート
酸化膜4が形成され、リセットゲート13およびCCD
転送電極8,9,10,出力ゲート11,フローティン
グゲート12が前記ゲート酸化膜4上に形成され、前記
フローティングゲート12上に厚い絶縁層15とバイア
スゲート14がそれぞれ形成された構造となっている。 【0011】これらのうち、本発明に直接的に関係され
る部分は、参照符号5,6,12,14,15で示した
部分で構成される領域であり、これらの部分の垂直方向
断面図を図3に示した。これらの領域はCCDにより転
送電荷を検出して動作するn型表面チャネルトランジス
タに対応する。CCDイメージセンサの場合、入射光に
より各画素のフォトダイオードから発生した信号電荷
は、CCDにより埋込チャネル3内に転送されて図1の
右方からセンシングチャネル5へ流入する。 【0012】この時、リセットドレイン7,リセットゲ
ート13,バイアスゲート14,出力ゲート11および
CCD転送電荷8,9,10は、それぞれ適当な電圧に
バイアスされ、信号電荷を転送するチャネルの電位形状
は図2に示すようなものとなる。センシングチャネル5
に信号電荷が流入すれば、センシングチャネル5内の電
位が変化し、表面チャネル6の表面電位も変化する。 【0013】センシングチャネルを含む基板深さの方向
の断面構造と、これに対応する電位分布を図4(a),
(b)に示す。センシングチャネル5内に電荷の無い場
合の電位分布を実線で、飽和される時まで電荷の流入さ
れた場合の電位分布を破線で示した。 【0014】埋込チャネルとセンシングチャネルとのチ
ャネル分離領域の断面構造と、これに対応する電位分布
を図4(c),(d)に示した。このような信号電荷に
対応する表面チャネル6の電位分布変化により信号電荷
の検出が行われる。この構造の特徴は、センシングチャ
ネル5の表面に、センシングチャネルとは反対導電型で
あるp型表面チャネル6があるので、これにより表面が
電子についての表面チャネルとなることである。また、
センシングチャネル5とソース16およびドレイン17
間には、p- ウェル領域2が存在するので、埋込チャネ
ル3に対するチャネル分離帯としての役割をする。この
領域は、基板表面は反転されて表面チャネルとして動作
するので、チャネル分離帯の表面電位をセンシングチャ
ネル上の表面チャネル表面電位より深い電位になるよう
に設計すれば、ソースからドレインへの電流の流れを防
げることはない。 【0015】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電子の電荷量を、電子をキャリアとするトランジスタに
より検出する素子が実現できる。前述した実施例におい
て信号電荷が電子である場合について説明したが、信号
電荷がホールである場合においても、同様に本発明を実
施できる。また、センシングチャネルまで信号を転送す
る素子もCCDのみならず低い転送損失によって電荷を
転送する素子であれば、本発明が目的とする効果を得る
事が可能となる。
の素子断面構造図である。 【図2】図1の素子構造に相応するシリコン基板内の電
位分布図である。 【図3】本発明の電荷検出素子の電荷が転送される方向
に垂直な方向の素子断面構造図である。 【図4】本発明の電荷検出素子の部分的な断面構造及び
これに対応する電位分布図である。 【図5】従来の電荷検出素子の断面構造図である。 【符号の説明】 1 n型基板 2 p- ウェル層 3 n型埋込チャネル層 4 ゲート酸化膜 5 センシングチャネル領域(n型) 6 表面チャネル領域(p型) 7 リセットドレイン(n+) 8,9,10 CCD転送電極 11 出力ゲート 12 フローティングゲート 13 リセットゲート 14 バイアスゲート 15 厚い絶縁層 16 ソース(n+) 17 ドレイン(n+)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 一方の導電型の基板の表面に前記一方の
導電型とは反対の導電型のウェル層を形成し、このウェ
ル層に前記一方の導電型の埋込チャネルおよび埋込型の
電荷センシングチャネルを形成し、この電荷センシング
チャネルと立体交差するように表面型のフローティング
表面チャネルを形成し、前記電荷センシングチャネル内
の電荷量に対応して前記フローティング表面チャネルの
表面電位が変動する構造を有する電荷検出素子におい
て、 前記電荷センシングチャネルの表面に前記反対の導電型
のフローティング表面チャネルがあり、かつ前記ウェル
層に形成されたソースとドレインのそれぞれと前記電荷
センシングチャネルとの間に存在するウェル層部分が前
記埋込チャネルに対するチャネル分離帯として働き、前
記フローティング表面チャネルと前記電荷センシングチ
ャネルのキャリアが同一符号の電荷であることを特徴と
する電荷検出素子。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP23926193A JP3375389B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 電荷検出素子 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP23926193A JP3375389B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 電荷検出素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH07106551A JPH07106551A (ja) | 1995-04-21 |
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ID=17042138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP23926193A Expired - Fee Related JP3375389B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 電荷検出素子 |
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JP2666928B2 (ja) * | 1987-07-13 | 1997-10-22 | 株式会社東芝 | 電荷転送素子の出力検出器 |
-
1993
- 1993-09-01 JP JP23926193A patent/JP3375389B2/ja not_active Expired - Fee Related
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