JP3348642B2 - セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents

セラミック電子部品の製造方法

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JP3348642B2 JP36961497A JP36961497A JP3348642B2 JP 3348642 B2 JP3348642 B2 JP 3348642B2 JP 36961497 A JP36961497 A JP 36961497A JP 36961497 A JP36961497 A JP 36961497A JP 3348642 B2 JP3348642 B2 JP 3348642B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本願発明は、セラミック素子
の表面に、Cuなどの卑金属からなる外部電極が形成さ
れた構造を有するセラミック電子部品の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、チップ型の積層セラミックコンデンサなどのセラミ
ック電子部品には、銅(Cu)などの卑金属を用いて外
部電極を形成したものがある。そして、このような外部
電極は、通常、Cuなどの卑金属粉末を導電材料として
含有する導電ペーストを塗布して、焼き付けることによ
り形成されている。
【0003】また、積層セラミックコンデンサなどのセ
ラミック電子部品には、セラミック素子を構成するセラ
ミックとして、ニッケル(Ni)などの卑金属の酸化物
(NiOなど)を含有するセラミックが用いられる場合
がある。
【0004】ところで、Cuなどの卑金属からなる外部
電極の焼付けを行う場合、卑金属が酸化されて導電性を
損なうことを防止するため、低酸素分圧下で熱処理して
外部電極の焼付けを行っている。
【0005】しかし、上記のように、セラミック素子を
構成するセラミックが、NiOなどの卑金属酸化物を含
有している場合、低酸素分圧の雰囲気中で焼成を行う
と、セラミック中の卑金属酸化物の一部が金属状態にま
で還元されてしまう場合がある。
【0006】そして、このような状態で、例えば、外部
電極の表面にNi、スズ、はんだなどのメッキ膜を形成
しようとすると、メッキ工程で、図2に示すように、メ
ッキ部分51が、外部電極52a,52bの表面だけで
はなく、還元されたNiなどの金属を含有するセラミッ
ク素子53上にまで成長(メッキ成長)し、外観不良
や、耐圧性能の低下、さらには外部電極52a,52b
間の短絡などを招くという問題点がある。
【0007】本願発明は、上記問題点を解決するもので
あり、NiOを含むセラミック素子にCuからなる外部
電極が配設されたセラミック電子部品を効率よく製造す
ることが可能なセラミック電子部品の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願発明のセラミック電
子部品の製造方法は、NiOを含有するセラミックを用
いたセラミック素子と、セラミック素子の表面に形成さ
れたCuからなる外部電極とを備えたセラミック電子部
品の製造方法において、(a)NiOを含有する セラミック素子の表面、Cu粉
末を導電成分とする導電ペーストを塗布する工程と、 (b)酸素分圧:1.0×10 -7 MPa〜5.0×10 -5
MPa、 焼付時の最高温度:760〜920℃ の条件で前記導電ペーストを 焼き付けることにより、C
uからなる外部電極を形成する工程と、 (c)前記外部電極の表面にメッキを施す工程とを具備す
ることを特徴としている。
【0009】外部電極形成用の導電ペーストを塗布して
焼き付け外部電極を形成する際の、焼付時の酸素分圧
1.0×10 -7 MPa〜5.0×10 -5 MPaの範囲
とし、かつ、外部電極形成用の導電ペーストの焼付時の
最高温度を760〜920℃の範囲とすることにより、
セラミック素子中のNiOが還元されることを抑制し、
Niが弱酸化された状態とすることが可能になると同時
に、外部電極中のCuが酸化されることを防止して金属
状態に保持することが可能になる。したがって、セラミ
ック素子がNiOを含有し、かつ、Cuからなる外部電
を備えたセラミック電子部品を確実に製造することが
可能になる。
【0010】また、セラミック素子中のNiOが還元さ
れることを抑制できるため、外部電極にNi、スズ、は
んだなどのメッキを行った場合に、メッキが外部電極の
表面だけではなく、還元された金属(Ni)を含有する
セラミック素子上にまで成長することを確実に防止する
ことが可能になり、外観不良や耐圧性能の低下、あるい
は電極間の短絡などの発生を確実に防止して、信頼性を
向上させることが可能になる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態を示
して、その特徴とするところをさらに詳しく説明する。
なお、この実施形態では、図1に示すように、卑金属と
してニッケル(酸化ニッケル(NiO))を含むセラミ
ック1中に内部電極4を配設してなるセラミック素子3
の両端部に、銅(Cu)からなる外部電極2a,2bが
配設された構造を有する積層セラミックコンデンサ5を
製造する場合を例にとって説明する。
【0012】なお、この実施形態においては、酸化ニッ
ケル(NiO)を約0.2重量%の割合で含有するセラ
ミックを用い、内部電極(ニッケル電極)4がセラミッ
ク1中に配設された構造を有するセラミック素子3を作
製した。それから、このセラミック素子3の両端部に、
Cu粉末を導電成分とする導電ペーストを塗布し、焼付
時の最高温度、及び最高温度における雰囲気中の酸素分
圧を、表1に示すように変化させて、導電ペーストを焼
付けることにより外部電極2a,2bを形成した。
【0013】
【表1】
【0014】それから、外部電極に、ニッケルメッキを
行い、メッキ成長発生率を調べた。その結果を、表1に
併せて示す。
【0015】表1に示すように、焼付時の最高温度を7
40℃とした場合、外部電極が焼結不足となり、望まし
い外部電極を形成することができなかった。なお、外部
電極が焼結不足になると、外部電極が多孔質状になり耐
湿性が低下するという問題がある。
【0016】また、焼付時の最高温度を950℃とした
場合、外部電極が焼結過多となって、所望の外部電極を
形成することができなかった。なお、外部電極が焼結過
多になると、外部電極が収縮しすぎて、セラミック素子
の耐熱衝撃性が低下するという問題がある。
【0017】これに対して、焼付時の最高温度を760
℃〜920℃とした場合、外部電極の焼結不足や焼結過
多を招くことはなかった。
【0018】しかし、焼付時の最高温度を760℃〜9
20℃とした場合においても、酸素分圧が1.0×10
-7MPa未満になると、メッキ成長発生率が高くなり、
また、酸素分圧が5.0×10-5MPaを越えると静電
容量のばらつきが大きくなる傾向があり、好ましくない
ことがわかった。
【0019】したがって、この実施形態の場合において
は、外部電極形成用の導電ペーストの焼付時の条件を
焼付時の最高温度を760〜920℃の範囲とし、且
つ、最高温度における酸素分圧を1.0×10-7MPa
〜5.0×10-5MPaの範囲とすることが望ましいこ
とがわかる。但し、焼付時間なども外部電極の焼結状態
に影響する場合があるため、具体的な条件は、個々の場
合に即して適宜選択することが望ましい。
【0020】なお、上記実施形態では、酸化ニッケル
(NiO)を含むセラミック中に内部電極が配設された
セラミック素子の両端部に、銅(Cu)からなる外部電
極が形成された構造を有する積層セラミックコンデンサ
を製造する場合を例にとって説明したが、本願発明は、
積層セラミックコンデンサに限らず、外部電極を備えた
種々のセラミック電子部品を製造する場合に広く適用す
ることが可能である。
【0021】本願発明は、さらにその他の点においても
上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨の
範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能
である。
【0022】
【発明の効果】上述のように、本願発明(請求項1)の
セラミック電子部品の製造方法は、NiOを含有するセ
ラミック素子の表面に、Cuからなる外部電極が配設さ
れたセラミック電子部品を製造する場合において、Cu
粉末を導電成分とする外部電極形成用の導電ペースト
ける際の酸素分圧を1.0×10 -7 MPa〜5.
0×10 -5 MPaの範囲とし、かつ、外部電極形成用の
導電ペーストの焼付時の最高温度を760〜920℃の
範囲として、導電ペーストの焼き付けを行うようにして
いるので、セラミック素子中のNiOが還元されること
を抑制し、Niが弱酸化された状態とすることが可能に
なると同時に、外部電極中のCuが酸化されることを防
止して金属状態に保持することが可能になる。その結
果、NiOを含有するセラミック素子の表面に、Cuか
らなる外部電極が配設されたセラミック電子部品を確実
に製造することが可能になる。
【0023】また、セラミック素子中のNiOが還元さ
れることを抑制できるため、外部電極にNi、スズ、は
んだなどのメッキを行った場合に、メッキが外部電極の
表面だけではなく、セラミック素子上にまで成長するこ
とを確実に防止することが可能になり、外観不良や耐圧
性能の低下、あるいは電極間の短絡などの発生を確実に
防止して、信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明の一実施形態にかかるセラミック電子
部品の製造方法により製造した積層セラミックコンデン
サを示す断面図である。
【図2】従来の方法で製造されたセラミック電子部品を
示す斜視図である。
【符号の説明】
1 セラミック 2a,2b 外部電極 3 セラミック素子 4 内部電極 5 積層セラミックコンデンサ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】NiOを含有するセラミックを用いたセラ
    ミック素子と、セラミック素子の表面に形成されたCu
    からなる外部電極とを備えたセラミック電子部品の製造
    方法において、(a)NiOを含有する セラミック素子の表面、Cu粉
    末を導電成分とする導電ペーストを塗布する工程と、 (b)酸素分圧:1.0×10 -7 MPa〜5.0×10 -5
    MPa、 焼付時の最高温度:760〜920℃ の条件で前記導電ペーストを 焼き付けることにより、C
    uからなる外部電極を形成する工程と、 (c)前記外部電極の表面にメッキを施す工程とを具備す
    ることを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。
JP36961497A 1997-12-29 1997-12-29 セラミック電子部品の製造方法 Expired - Lifetime JP3348642B2 (ja)

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