JP3340596B2 - Optical member inspection apparatus and inspection method - Google Patents

Optical member inspection apparatus and inspection method

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JP3340596B2
JP3340596B2 JP18985395A JP18985395A JP3340596B2 JP 3340596 B2 JP3340596 B2 JP 3340596B2 JP 18985395 A JP18985395 A JP 18985395A JP 18985395 A JP18985395 A JP 18985395A JP 3340596 B2 JP3340596 B2 JP 3340596B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、主としてプラスチッ
ク製の透明な光学部材を検査する装置、および方法に関
し、特に画像処理技術を用いた装置および方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and a method for inspecting a transparent optical member mainly made of plastic, and more particularly to an apparatus and a method using an image processing technique.

【0002】[0002]

【従来の技術】近時、カメラの撮影レンズ系やファイン
ダーには、軽量化、低コスト化を図るため、プラスチッ
ク製の光学部材が多く利用される傾向がある。
2. Description of the Related Art In recent years, plastic optical members tend to be widely used in photographing lens systems and viewfinders of cameras in order to reduce the weight and cost.

【0003】プラスチック製の光学部材には、射出成形
の際に型に残って炭化したプラスチック等のゴミが内部
に入り込む可能性があると共に、ガラス製の光学部材と
比較して材質が柔らかいためにキズが付きやすく、製品
として組み立てる前の検査が重要となる。
[0003] The plastic optical member has a possibility that dust such as carbonized plastic remaining in the mold during the injection molding may enter the inside, and the material is softer than the glass optical member. It is easily scratched, and inspection before assembly as a product is important.

【0004】従来、レンズ、プリズム等の光学部材の検
査は、熟練者が光学部材を強い光で照明しながら行う目
視検査に依存していた。
Conventionally, inspection of optical members such as lenses and prisms has relied on a visual inspection performed by a skilled person while illuminating the optical members with strong light.

【0005】検査は、対象の光学部材が製品として使用
するに足る性能を満たしているか否か、すなわち良品と
して利用できるか不良品として廃棄されるかを判断する
ことを目的とする。
The purpose of the inspection is to determine whether or not the target optical member satisfies the performance required for use as a product, that is, whether it can be used as a non-defective product or discarded as a defective product.

【0006】ゴミが混入した場合にはそのゴミの大き
さ、光軸方向の深さ、光軸からの距離等の要素が判断材
料となる。一方、キズが付いた場合には、キズの大き
さ、いずれの面にキズが付いているか、ゴミの光軸から
の距離等の要素が判断材料となる。
When dust is mixed, factors such as the size of the dust, the depth in the optical axis direction, the distance from the optical axis, and the like are used as judgment data. On the other hand, when a flaw is present, factors such as the size of the flaw, which surface has the flaw, the distance of the dust from the optical axis, and the like can be used as judgment materials.

【0007】良品、不良品の判断に際して、ゴミが混入
した場合とキズが付いた場合とでは判断基準が異なり、
例えば同じ大きさでもゴミであれば許容されるがキズで
あれば許容されないといった場合があるため、検査者は
発生している不良がゴミであるかキズであるかの性状判
定を行いつつ、それぞれの不良の程度から良品、不良品
を判別する必要がある。
[0007] When judging a good product or a defective product, the judgment criteria are different between the case where dust is mixed and the case where the product is scratched.
For example, there is a case where dust is acceptable even if it is the same size, but it is not allowed if it is scratched.Therefore, the inspector determines whether the defect that has occurred is dust or a scratch while determining the property. It is necessary to discriminate non-defective products and defective products from the degree of failure.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の検査方法では、良否判別の多くを検査者の主観
的な判断に負っているため、検査者が違う場合はもとよ
り、同一の検査者であっても体調等の違いにより判別基
準が変化する可能性があり、判断の均一性を保つことが
困難である。
However, in the conventional inspection method described above, most of the quality judgments are based on the subjective judgment of the inspector, so that not only different inspectors but also the same inspector can be used. Even in such a case, there is a possibility that the determination criterion changes due to a difference in physical condition or the like, and it is difficult to maintain uniformity of the determination.

【0009】[0009]

【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、客観的な基準に基づいて光
学部材の良否を判断することができる光学部材検査装置
およびその方法の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and provides an optical member inspection apparatus and an optical member inspection method capable of judging the quality of an optical member based on an objective criterion. With the goal.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明にかかる光学部
材検査装置は、上記の目的を達成させるため、光源から
の光束を拡散透過率が低い中心領域と拡散透過率が高い
周辺領域とを有する拡散手段により拡散させて被検物に
入射させ、被検物を透過した光束が達する位置に設けら
れた撮影手段により被検物を撮影して被検物の性状の異
なる二種類の欠陥を検査するよう構成したことを特徴と
する。
In order to achieve the above object, an optical member inspection apparatus according to the present invention has a central region having a low diffuse transmittance of a light beam from a light source and a peripheral region having a high diffuse transmittance. The light is diffused by the diffusion means and made incident on the test object, and the test object is photographed by the photographing means provided at a position where the light beam transmitted through the test object reaches, and two kinds of defects having different properties of the test object are inspected. It is characterized in that it is configured to perform.

【0011】拡散手段の拡散透過率に上記のような分布
を持たせることにより、被検物には中心領域からの光
と、周辺領域からの光軸に対して斜めの光とが入射する
が、被検物の像は主として低輝度の中心領域からの光に
より形成され、斜めに入射した周辺領域からの光は結像
には関与しない。
By making the diffusion transmittance of the diffusion means have the above distribution, light from the central region and light oblique to the optical axis from the peripheral region enter the test object. The image of the test object is mainly formed by light from a low-luminance central region, and light from a peripheral region obliquely incident does not contribute to image formation.

【0012】そして、被検物に光を吸収する黒ゴミのよ
うな欠陥が存在すると、この欠陥に相当する部分は撮影
手段に到達する光量が減少するため、撮影画像内で周囲
の部品領域より低輝度の領域として現れる。一方、被検
物に光を散乱させるキズのような欠陥が存在すると、こ
の欠陥に相当する部分では中心領域からの低輝度の光は
散乱して減衰するものの、周辺領域からの高輝度の光が
散乱されて撮影手段に到達するため結果的に像面上での
欠陥部分の光量は増加し、撮影画像内で周囲の部品領域
より高輝度の領域として現れる。
If a defect such as black dust that absorbs light is present in the test object, the portion corresponding to the defect has a reduced amount of light reaching the photographing means, so that a part corresponding to the defect in the photographed image is smaller than the surrounding parts area. Appears as a low brightness area. On the other hand, if there is a defect such as a scratch that scatters light on the test object, low-intensity light from the central region is scattered and attenuated in the portion corresponding to this defect, but high-intensity light from the peripheral region. Are scattered and reach the photographing means, and consequently the amount of light at the defective portion on the image plane increases, and appears as a region of higher luminance than the surrounding component region in the photographed image.

【0013】したがって、一回の撮影で吸収性欠陥と散
乱性欠陥との性状の異なる欠陥を部品領域の原画像の平
均的な輝度であるベース輝度より輝度が低い領域、高い
領域として同時に検出できる。
Therefore, in one photographing operation, defects having different properties between the absorbing defect and the scattering defect can be simultaneously detected as a region having a luminance lower than the base luminance which is the average luminance of the original image of the component region and a region having a higher luminance. .

【0014】上記の構成で欠陥を判定するためには、被
検物の画像を入力するステップと、入力画像から部品領
域を分離するステップと、分離された部品領域の画像を
部品領域のベース輝度より低い第1の閾値を用いて2値
化するステップと、部品領域の画像を部品領域のベース
輝度より高い第2の閾値を用いて2値化するステップ
と、2つの2値化ステップで得られた信号をそれぞれ性
状の異なる欠陥として被検物の良否を判定するステップ
とが必要となる。
In order to judge a defect in the above configuration, a step of inputting an image of a test object, a step of separating a component region from the input image, and a step of separating the image of the separated component region from the base brightness of the component region Binarizing using a lower first threshold, binarizing the image of the component region using a second threshold higher than the base luminance of the component region, and performing two binarization steps. A step of judging the quality of the test object using the obtained signals as defects having different properties.

【0015】なお、光源と拡散手段とを1つの照明手段
として考えると、この照明手段は、被検物に対して輝度
の低い照明光を撮影手段の光軸方向から入射させると共
に、輝度の高い照明光を撮影手段の光軸に対して斜め方
向から入射させる手段として定義される。
When the light source and the diffusing means are considered as one illuminating means, the illuminating means allows the illumination light having a low luminance to enter the object from the direction of the optical axis of the photographing means and has the high luminance. It is defined as a means for causing illumination light to be incident obliquely with respect to the optical axis of the imaging means.

【0016】拡散手段は、撮影手段の光軸に対してほぼ
垂直な平板状の部材として設けられる。拡散手段は、1
枚の拡散板の中央に、これより面積が小さい他の拡散板
を重ね合わせることにより構成することができ、あるい
は拡散透過率に分布を有する1枚の拡散板として構成す
ることもできる。
The diffusing means is provided as a plate-like member substantially perpendicular to the optical axis of the photographing means. The diffusion means is 1
Another diffusion plate having a smaller area may be superimposed on the center of one diffusion plate, or a single diffusion plate having a distribution of diffuse transmittance may be formed.

【0017】また、拡散手段の中心領域は、この中心領
域から垂直に射出した光束の範囲が被検物にほぼ一致す
るよう設定することが望ましい。これにより、撮影画像
において被検物の像が含まれる部品領域は低輝度の中心
領域からの光束により形成され、被検物の像が含まれな
い背景領域は高輝度の周辺領域からの光束により形成さ
れるため、部品領域と背景領域とを輝度の異なる領域と
して明確に区別することができる。したがって、部品領
域を背景領域から分離する際の境界の判別が容易とな
る。
It is desirable that the central area of the diffusing means is set so that the range of the light beam emitted perpendicularly from the central area substantially matches the object. Thus, in the captured image, the component region including the image of the test object is formed by the light flux from the central region of low luminance, and the background region not including the image of the test object is generated by the light beam from the peripheral region of high luminance. Therefore, the component region and the background region can be clearly distinguished as regions having different luminances. Therefore, it is easy to determine the boundary when separating the component region from the background region.

【0018】さらに、拡散手段の中心領域と周辺領域と
は、共に被検物の平面形状と相似形とすることが望まし
い。上記のように中心領域から垂直に射出した光束の範
囲を被検物にほぼ一致させるためには、中心領域を被検
物と相似形にする必要がある。また、周辺領域について
は、被検物と相似形にすることにより、周辺領域から被
検物に斜めに入射する光の強度分布を一様にすることが
でき、欠陥の方向性によらずに検出精度を均一にするこ
とができる。
Further, it is desirable that both the central region and the peripheral region of the diffusion means have a shape similar to the planar shape of the test object. In order to make the range of the light beam emitted perpendicularly from the central region substantially coincide with the object as described above, the central region needs to have a similar shape to the object. In addition, by making the peripheral region similar in shape to the test object, the intensity distribution of light obliquely incident on the test object from the peripheral region can be made uniform, regardless of the directionality of the defect. The detection accuracy can be made uniform.

【0019】なお、撮影手段に取り込まれる光量を確保
するために、拡散手段と撮影手段との間には、拡散する
光束を集光させるコンデンサレンズを設けることが望ま
しい。被検物が正レンズである場合には、被検レンズに
コンデンサレンズとしての機能を持たせることができ
る。被検物が負レンズである場合には、正のパワーを有
する補正レンズをコンデンサレンズとして設けることが
望ましい。なお、被検物が正レンズであって正のパワー
が過大であるときには、補正レンズとして負レンズを用
いることもできる。
It is desirable to provide a condenser lens for condensing a light beam to be diffused between the diffusing means and the photographing means in order to secure the amount of light taken in by the photographing means. When the test object is a positive lens, the test lens can have a function as a condenser lens. When the test object is a negative lens, it is desirable to provide a correction lens having a positive power as a condenser lens. When the test object is a positive lens and the positive power is excessive, a negative lens can be used as a correction lens.

【0020】実際の光学部材検査装置としては、光源、
拡散手段、撮影手段から構成される検査光学系を複数組
設けて構成することができる。この場合、それぞれの検
査光学系で拡散板の中心領域から被検物に入射する光束
の強度と、周辺領域から被検物に入射する光束の強度と
の割合がそれぞれ異なるよう設定することができる。
As an actual optical member inspection apparatus, a light source,
A plurality of sets of inspection optical systems including a diffusion unit and an imaging unit can be provided. In this case, in each of the inspection optical systems, the ratio of the intensity of the light beam entering the test object from the central region of the diffuser plate and the intensity of the light beam entering the test object from the peripheral region can be set to be different from each other. .

【0021】[0021]

【実施例】以下、この発明にかかる光学部材検査装置の
実施例を説明する。実施例の装置は、プラスチック製の
光学部材を検査対象とする。まず、図1にしたがってこ
の発明にかかる光学部材検査装置の光学系の原理につい
て説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the optical member inspection apparatus according to the present invention will be described below. In the apparatus of the embodiment, a plastic optical member is inspected. First, the principle of the optical system of the optical member inspection apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0022】装置の光学系は、光源10と、この光源1
0から発した光束を拡散させる第1、第2の拡散板2
1,22から構成される拡散手段20と、拡散手段20
を透過して被検物である正レンズ1を透過した光束、お
よび被検レンズ1の周囲を通過した光束を取り込んで撮
影する撮影手段としてのCCDカメラ30とを備える。
The optical system of the apparatus comprises a light source 10 and this light source 1
First and second diffusion plates 2 for diffusing the light beam emitted from zero
A diffusing unit 20 composed of the diffusion unit 20 and the diffusion unit 20;
And a CCD camera 30 as a photographing means for taking in a light beam transmitted through the positive lens 1 as a test object and a light beam passed around the test lens 1 and taking an image.

【0023】光源10および被検レンズ1は、CCDカ
メラ30の光軸上に配置されている。CCDカメラ30
は、撮影レンズ31とCCDセンサ32とから構成さ
れ、被検レンズ1の厚さ方向の中心付近をピント面Pと
するよう調整されている。すなわち、ピント面PとCC
Dセンサ32の受像面とは撮影レンズ31を介して光学
的に共役であり、ピント面P上の被検レンズ1の像は、
CCDセンサ上の符号Oで示す範囲に形成される。
The light source 10 and the test lens 1 are arranged on the optical axis of the CCD camera 30. CCD camera 30
Is composed of a photographing lens 31 and a CCD sensor 32, and is adjusted so that the vicinity of the center in the thickness direction of the test lens 1 is set as the focus plane P. That is, the focus plane P and CC
The image receiving surface of the D sensor 32 is optically conjugate via the taking lens 31, and the image of the test lens 1 on the focus plane P is
It is formed in the range indicated by the symbol O on the CCD sensor.

【0024】なお、CCDカメラ30に取り込まれる光
量を確保するために、拡散手段20とCCDカメラ30
との間には、拡散する光束を集光させるコンデンサレン
ズを設けることが望ましい。この例では、被検物として
配置された正レンズ1がコンデンサレンズとしての機能
を果たしている。
In order to secure the amount of light taken in the CCD camera 30, the diffusing means 20 and the CCD camera 30
It is desirable to provide a condenser lens for condensing the divergent light flux between them. In this example, the positive lens 1 arranged as a test object functions as a condenser lens.

【0025】CCDカメラ30の画像出力は、被検レン
ズの欠陥を判定する判定手段を備える画像処理装置40
において処理され、測定された被検レンズ1の情報が表
示手段であるモニタディスプレイ50に表示される。
The image output from the CCD camera 30 is output to an image processing apparatus 40 having a judgment means for judging a defect of the lens to be inspected.
The information of the lens 1 to be measured, which has been processed and measured, is displayed on the monitor display 50 as a display means.

【0026】第1、第2の拡散板21,22は、共に被
検レンズ1の平面形状とほぼ相似形状であり、第2の拡
散板22の方が第1の拡散板21より面積が小さい。こ
れらの拡散板21,22は、光軸がそれぞれの中心を通
るように、光軸に対して垂直に設けられている。また、
これらの拡散板は、同一、あるいは互いに異なる拡散透
過率を有しており、したがって拡散手段20を全体とし
て考えると、第1、第2の拡散板が重なる中心領域は拡
散透過率が低く、重ならない周辺領域は拡散透過率が相
対的に高くなる。
Each of the first and second diffusion plates 21 and 22 has a shape substantially similar to the planar shape of the lens 1 to be measured, and the area of the second diffusion plate 22 is smaller than that of the first diffusion plate 21. . These diffusion plates 21 and 22 are provided perpendicular to the optical axis so that the optical axes pass through their respective centers. Also,
These diffusers have the same or different diffuse transmittances. Therefore, when the diffuser 20 is considered as a whole, the central region where the first and second diffusers overlap has a low diffuse transmittance, and the diffuser has a low diffuse transmittance. In the peripheral region where no light is transmitted, the diffuse transmittance becomes relatively high.

【0027】第2の拡散板22のサイズは、第2の拡散
板22から垂直に射出する光の範囲が被検レンズ1にほ
ぼ一致するよう定められている。これにより、中心領域
からの垂直射出成分は全て被検レンズ1に入射し、第1
の拡散板21を垂直に透過して第2の拡散板22を通ら
ない成分、すなわち周辺領域からの垂直射出成分は被検
レンズ1に入射しない。また、第1拡散板21の平面形
状を被検物の形状と相似に形成するのは、周辺領域から
の斜射出成分を被検物にあらゆる方向から均一に入射さ
せるためである。
The size of the second diffusing plate 22 is determined so that the range of light vertically emitted from the second diffusing plate 22 substantially matches the lens 1 to be measured. As a result, all the vertical emission components from the central region enter the lens 1 to be inspected, and the first
A component which vertically transmits through the diffusion plate 21 and does not pass through the second diffusion plate 22, that is, a vertical emission component from the peripheral region, does not enter the lens 1 to be measured. The reason why the planar shape of the first diffusion plate 21 is formed to be similar to the shape of the test object is to make oblique emission components from the peripheral region uniformly enter the test object from all directions.

【0028】図2は、被検レンズと拡散板21,22と
の平面形状の例を示す。図2(A-1)に示されるように被
検レンズが平面形状が矩形であるファインダー用レンズ
1aである場合には、第1、第2の拡散板21a,22
aの平面形状は図2(A-2)に示す通りの矩形とすること
が望ましい。また、図2(B-1)に示されるように被検レ
ンズが一般的な円形レンズ1bである場合には、各拡散
板21b,22bの平面形状は図2(B-2)に示される通
りの円形とすることが望ましい。
FIG. 2 shows an example of the planar shape of the test lens and the diffusion plates 21 and 22. As shown in FIG. 2 (A-1), when the test lens is a finder lens 1a having a rectangular planar shape, the first and second diffusing plates 21a and 22 are used.
It is desirable that the planar shape of a be a rectangle as shown in FIG. When the test lens is a general circular lens 1b as shown in FIG. 2 (B-1), the planar shape of each of the diffusion plates 21b and 22b is shown in FIG. 2 (B-2). It is desirable to make the street circular.

【0029】なお、実施例の検査装置は、多数個取り金
型により成形されたプラスチックレンズをランナから切
り放さずに検査する構成であるため、被検レンズには図
2に示されるようにゲートGを介してランナRが連結し
ている。
Since the inspection apparatus of the embodiment is configured to inspect a plastic lens formed by a multi-cavity die without cutting it off from a runner, a gate is provided on the lens to be inspected as shown in FIG. Runner R is connected via G.

【0030】図3は、被検レンズ1がセットされている
際の光源10とCCDセンサ32との間の光路の一例を
示す説明図であり、(A)が拡散板からの垂直射出成分、
(B)が斜射出成分の光路を示す。
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of an optical path between the light source 10 and the CCD sensor 32 when the lens 1 to be inspected is set. FIG.
(B) shows the optical path of the oblique emission component.

【0031】図3(A)に示されるように、図中二点鎖線
で示した中心領域からの垂直射出成分Lvcは、被検レン
ズ1および撮影レンズ31により屈折され、CCDセン
サ32上の範囲O内に達してレンズ像を形成する。一
方、図中破線で示した周辺領域からの垂直射出成分Lvp
は、被検レンズ1を透過せずに直進し、撮影レンズ31
により屈折されてCCDセンサ32上ではレンズ像の範
囲Oの外側に達する。
As shown in FIG. 3A, the vertical emission component Lvc from the central region shown by the two-dot chain line is refracted by the lens 1 to be inspected and the photographing lens 31, and O is reached to form a lens image. On the other hand, the vertical emission component Lvp from the peripheral area indicated by the broken line
Moves straight without passing through the lens 1 to be inspected, and
And reaches the outside of the range O of the lens image on the CCD sensor 32.

【0032】図3(B)に示されるように、図中二点鎖線
で示した中心領域からの斜射出成分Locは、被検レンズ
1および撮影レンズ31により屈折され、CCDセンサ
32上の範囲O内に達してレンズ像を形成する。一方、
図中破線で示した周辺領域からの斜射出成分Lopは、被
検レンズ1を透過した成分は撮影レンズ31に入射せ
ず、被検レンズ1を透過しない成分は撮影レンズ31に
より屈折されてCCDセンサ32上のレンズ像の範囲O
の外側に達する。
As shown in FIG. 3B, the oblique emission component Loc from the central region shown by the two-dot chain line is refracted by the lens 1 to be inspected and the photographing lens 31, and the area on the CCD sensor 32 O is reached to form a lens image. on the other hand,
In the oblique emission component Lop from the peripheral area shown by the broken line in the figure, the component transmitted through the lens 1 to be detected does not enter the photographing lens 31, and the component not transmitted through the lens 1 is refracted by the photographing lens 31 to be CCD. Range O of lens image on sensor 32
Reach outside.

【0033】すなわち、この例では、中心領域から発し
て被検レンズ1を透過した低輝度の成分は、CCDセン
サ32上でレンズ像の範囲O内に達し、周辺領域から発
して被検レンズ1の周囲を透過した高輝度の成分は、C
CDセンサ32上でレンズ像の範囲Oの周辺に達する。
したがって、撮影された画像には、図4に示されるよう
に、第2の拡散板22を透過せずに達する周辺領域の輝
度の高い成分により主として形成される高輝度の背景領
域Bと、2つの拡散板を透過した中心領域の輝度の低い
成分により主として形成される被検レンズの像(部品領
域)Sとが含まれる。
That is, in this example, the low-luminance component emitted from the central area and transmitted through the lens 1 reaches the range O of the lens image on the CCD sensor 32, and emitted from the peripheral area. The high-luminance component transmitted around the
It reaches the periphery of the range O of the lens image on the CD sensor 32.
Therefore, as shown in FIG. 4, the captured image includes a high-luminance background area B mainly formed by a high-luminance component in a peripheral area that does not pass through the second diffusion plate 22, and 2. And an image (component area) S of the test lens mainly formed by a low-luminance component in the central area transmitted through the two diffusion plates.

【0034】中心領域からの垂直射出成分Lvcの範囲を
被検レンズ1の形状に合わせておくことにより、すなわ
ち、第2の拡散板22の形状を被検レンズ1の平面形状
とを相似形とすることにより、上記のように画像内で被
検レンズが配置された部品領域と背景領域とを明瞭に区
分することができ、後述の画像処理における対象領域の
分離処理がきわめて容易となる。
By adjusting the range of the vertical emission component Lvc from the central region to the shape of the lens 1 to be inspected, that is, the shape of the second diffusion plate 22 is made similar to the planar shape of the lens 1 to be inspected. By doing so, the component region where the test lens is arranged and the background region can be clearly separated in the image as described above, and the separation process of the target region in the image processing described later becomes extremely easy.

【0035】第2の拡散板22が設けられていない場合
には、部品領域は部品による吸収や拡散により、背景領
域よりもいくぶん低輝度とはなるが、実施例のように明
瞭な輝度差は生じない。
When the second diffusion plate 22 is not provided, the component region has a somewhat lower luminance than the background region due to absorption and diffusion by the component, but a clear luminance difference as in the embodiment is obtained. Does not occur.

【0036】ここで、被検レンズ1の表面または内部に
光を吸収する欠陥、例えば光学部材中に含まれる黒いゴ
ミが存在すると、レンズ像を形成する中心領域からの透
過光Lvc、Locの一部が吸収されてCCDセンサ32に
光が達しないため、図5に示されるように中間輝度の部
品領域S内に部品領域より輝度が低い欠陥像DLが発生
する。
Here, if a defect that absorbs light, for example, black dust contained in the optical member, is present on the surface or inside of the lens 1 to be inspected, one of the transmitted light Lvc and Loc from the central area where the lens image is formed. Since the part is absorbed and the light does not reach the CCD sensor 32, a defect image DL having lower luminance than the component region is generated in the component region S of the intermediate luminance as shown in FIG.

【0037】また、被検レンズ1の表面に光を散乱させ
る欠陥、例えば光学部材の表面に白いゴミやキズが存在
すると、この欠陥により光が散乱し、欠陥がなければC
CDセンサ32上のレンズ像の範囲Oに達しない周辺領
域からの高輝度の斜射出成分Lopの一部がレンズ像の範
囲Oに達し、図6に示されるように中間輝度の部品領域
S内に部品領域より輝度が高い欠陥像DHが発生する。
If a defect that scatters light on the surface of the lens 1 to be measured, for example, white dust or scratches on the surface of the optical member, the light scatters due to the defect.
A part of the high-intensity oblique emission component Lop from the peripheral region that does not reach the lens image range O on the CD sensor 32 reaches the lens image range O, and as shown in FIG. In this case, a defective image DH having a higher luminance than the component area is generated.

【0038】例えば、あるX軸方向の走査線上に吸収性
の欠陥に基づく低輝度像DLと散乱性の欠陥に基づく高
輝度像DHとが存在する場合、この走査線に沿った画素
列の出力は図7(A)に示すとおりとなる。画像処理装置
40は、2つの閾値SH1,SH2を用いて2値化するこ
とにより、図7(B)(C)に示されるように性状の異なる2
種類の欠陥をそれぞれ独立して抽出することができる。
For example, when a low-luminance image DL based on an absorptive defect and a high-luminance image DH based on a scatterable defect exist on a scanning line in the X-axis direction, the output of a pixel row along this scanning line is output. Is as shown in FIG. 7 (A). The image processing device 40 performs binarization using the two thresholds SH1 and SH2, thereby obtaining two different values as shown in FIGS. 7B and 7C.
Each type of defect can be extracted independently.

【0039】上記のように、2枚の拡散板を用いて照明
光の光量分布を2段階に設定することにより、背景領域
Bより低輝度の部品領域S内で、吸収性の欠陥の場合に
は部品領域Sよりさらに低輝度の像DL、散乱性の欠陥
の場合には高輝度の像DHとして欠陥を認識することが
できるため、1つの画像データから性状の異なる欠陥を
同時に検出することができる。
As described above, by setting the light amount distribution of the illumination light in two stages using two diffusion plates, it is possible to reduce the absorption defect in the component area S having a lower brightness than the background area B. Can detect the defect as an image DL of lower luminance than the component area S, and in the case of a scattered defect, as a high luminance image DH. Therefore, it is possible to simultaneously detect defects having different properties from one image data. it can.

【0040】これに対して、例えば照明光の光量分布が
一様である場合には、散乱性の欠陥が存在すると、その
部分で光束が散乱するために光量が減衰し、CCDセン
サ32上では吸収性の欠陥と同様に低輝度の領域として
検出される。したがって、1つの画像データから欠陥の
性状まで判断することはできない。
On the other hand, for example, when the light amount distribution of the illumination light is uniform, if there is a scattering defect, the light amount is attenuated because the light flux is scattered at that portion, and the light amount is attenuated on the CCD sensor 32. Like the absorptive defect, it is detected as a low-luminance area. Therefore, it is impossible to determine the nature of the defect from one image data.

【0041】レンズの検査をする場合、欠陥の性状、大
きさ、発生位置により良品、不良品を判別する際の判定
基準が相違するため、性状の判定は必要である。実施例
のように一回の検査で欠陥の性状が判断できれば、欠陥
を検出した後にさらにその性状を特性するために検査す
るより検査の手順を簡略化することができる。
In the case of inspecting a lens, it is necessary to judge the properties because the criteria for judging a good product or a defective product differ depending on the nature, size and location of the defect. If the nature of the defect can be determined by one inspection as in the embodiment, the inspection procedure can be simplified as compared with the case where the defect is detected and then the characteristic is further inspected.

【0042】なお、被検レンズがセットされていない場
合には、垂直射出成分に関しては、図8(A)に示される
ように、図中二点鎖線で示した中心領域からの垂直射出
成分LvcがCCDセンサ32上の中央部に達し、図中破
線で示した周辺領域からの垂直射出成分Lvpが周辺部に
達する。しかしながら、斜射出成分に関しては、図8
(B)に示されるように、図中二点鎖線で示した中心領域
からの斜射出成分Locと、図中破線で示した周辺領域か
らの斜射出成分LopとがCCDセンサ32上のランダム
な位置に達する。
When the lens to be inspected is not set, the vertical emission component Lvc from the central region shown by the two-dot chain line in the figure is obtained as shown in FIG. Reaches the central part on the CCD sensor 32, and the vertical emission component Lvp from the peripheral area shown by the broken line in the figure reaches the peripheral part. However, with respect to the oblique injection component, FIG.
As shown in (B), the oblique emission component Loc from the central area shown by the two-dot chain line in the figure and the oblique emission component Lop from the peripheral area shown by the broken line in the figure are random on the CCD sensor 32. Reach position.

【0043】したがって、被検レンズがセットされない
状態では、CCDセンサ32上での光量分布に規則性は
生じず、巨視的に見るとほぼ一様な光量分布が得られ
る。
Therefore, when the lens to be inspected is not set, there is no regularity in the light quantity distribution on the CCD sensor 32, and a substantially uniform light quantity distribution is obtained when viewed macroscopically.

【0044】図9は、被検物として負のパワーを持つレ
ンズ2を検査する際の光学系の構成を示す。図1の例で
は、被検レンズとして正レンズ1を用いているため、こ
の正レンズがコンデンサレンズとしての機能を果たし、
第1、第2の拡散板21,22、および被検レンズ1を
透過した光束は集光しつつCCDカメラ30に取り込ま
れる。これに対して、被検レンズが負レンズである場合
には、上記と同一の構成では被検レンズを透過した光束
が発散し、被検レンズの情報を持つ光束がCCDカメラ
30に有効に取り込まれず、撮影光量が不足する可能性
がある。
FIG. 9 shows the configuration of an optical system for inspecting a lens 2 having a negative power as a test object. In the example of FIG. 1, since the positive lens 1 is used as the lens to be inspected, this positive lens functions as a condenser lens,
The light beams transmitted through the first and second diffusion plates 21 and 22 and the lens 1 to be measured are collected by the CCD camera 30 while being collected. On the other hand, when the test lens is a negative lens, the light beam transmitted through the test lens diverges in the same configuration as described above, and the light beam having the information of the test lens is effectively taken into the CCD camera 30. And there is a possibility that the amount of photographing light is insufficient.

【0045】そこで、図9に示すように拡散手段20と
被検レンズ2との間に、被検レンズ2を透過した光束が
CCDカメラ30に取り込まれるよう被検レンズ2に入
射する光束を予め集光させるコンデンサレンズとして正
の補正レンズ3を配置する。
Therefore, as shown in FIG. 9, between the diffusing means 20 and the lens 2 to be inspected, the light beam incident on the lens 2 to be inspected is preliminarily input so that the light transmitted through the lens 2 is captured by the CCD camera 30. A positive correction lens 3 is arranged as a condenser lens for focusing.

【0046】一般に、2枚の薄肉レンズにより構成され
るレンズ系の焦点距離fは、各レンズの焦点距離をf
1,f2、レンズ間の距離をdとして、以下の式で表され
る。
In general, the focal length f of a lens system composed of two thin lenses is represented by the focal length f of each lens.
1, f2, and the distance between the lenses is d, and is represented by the following equation.

【0047】f=(f1+f2−d)/(f1・f2)F = (f1 + f2-d) / (f1 · f2)

【0048】ここで、f1を被検レンズ2の焦点距離、
f2を補正レンズ3の焦点距離、dを補正レンズ3と被
検レンズ2との間の距離とすると、被検レンズ2を透過
した光束がCCDカメラ30に有効に取り込まれる範囲
に合成焦点距離fが設定されるように、補正レンズ3の
焦点距離f2とレンズ間距離dとを決定すればよい。
Here, f1 is the focal length of the lens 2 to be inspected,
Assuming that f2 is the focal length of the correction lens 3 and d is the distance between the correction lens 3 and the test lens 2, the combined focal length f is set within a range where the light flux transmitted through the test lens 2 is effectively captured by the CCD camera 30. Is set, the focal length f2 of the correction lens 3 and the distance d between the lenses may be determined.

【0049】拡散板21,22と被検レンズ2との距離
は、装置の操作性を考慮するとほぼ一定であることが望
ましいため、拡散板21,22と被検レンズ2との間に
補正レンズ3が位置するようにレンズ間距離dを限定し
つつ、焦点距離f2を決定する。
It is desirable that the distance between the diffusion plates 21 and 22 and the test lens 2 be substantially constant in consideration of the operability of the apparatus. The focal length f2 is determined while limiting the distance d between the lenses so that No. 3 is located.

【0050】なお、被検レンズ2の手前に補正レンズ3
を設ける場合、図1の例と同様に垂直射出成分の内第2
の拡散板22を透過した中心領域からの光束のみを被検
レンズ2に入射させるためには、第2の拡散板22のサ
イズを図1の例よりも大きく設定する必要がある。
The correction lens 3 is located in front of the lens 2 to be inspected.
Is provided, as in the example of FIG.
In order to make only the light flux from the central region transmitted through the diffusion plate 22 enter the lens 2 to be measured, the size of the second diffusion plate 22 needs to be set larger than that in the example of FIG.

【0051】次に、上記の原理に基づく検査光学系を左
右に2組有するレンズ検査装置の実施例について説明す
る。実施例の装置は、図10に示したように4個取り金
型で成形した被検レンズ1,1,…をスプルSpおよび
ランナRに接続されたままの状態で検査できるよう構成
されている。
Next, an embodiment of a lens inspection apparatus having two sets of inspection optical systems on the left and right based on the above principle will be described. The apparatus of this embodiment is configured so that the lenses 1, 1,... Formed by the four-piece mold as shown in FIG. 10 can be inspected while being connected to the sprue Sp and the runner R. .

【0052】図11、12に示されるように、装置本体
ユニット100には、光軸方向となるx軸方向に沿って
第1、第2、第3のガイドレール部材110,111,
112が配置されている。第1、第2のガイドレール部
材110,111には、それぞれCCDカメラ30と照
明ユニット120とがx軸方向に独立して変位可能に取
り付けられている。なお、これらの第1、第2のガイド
レール部材110,111は、本体ユニットに固定され
た位置調整手段113によりy軸方向に独立して調整可
能に支持されている。
As shown in FIGS. 11 and 12, the apparatus body unit 100 has first, second, and third guide rail members 110, 111, and 111 along the x-axis direction which is the optical axis direction.
112 are arranged. The CCD camera 30 and the illumination unit 120 are respectively mounted on the first and second guide rail members 110 and 111 so as to be independently displaceable in the x-axis direction. The first and second guide rail members 110 and 111 are supported so as to be independently adjustable in the y-axis direction by position adjusting means 113 fixed to the main unit.

【0053】さらに、第1、第2のガイドレール部材1
10,111には、補助レンズユニット130が着脱自
在に取り付けられると共に、性状が不良なレンズにマー
キングをするための印点ユニット140が取り付けられ
ている。
Further, the first and second guide rail members 1
Auxiliary lens unit 130 is detachably attached to 10, 111, and a marking unit 140 for marking a lens having poor properties is attached.

【0054】第3のガイドレール部材112には、測定
対象のランナに刻印されたキャビティ番号を読み取るた
めの読み取りユニットを構成する光源ユニット150と
CCDカメラ151とがx軸方向にスライド可能に取り
付けられている。
A light source unit 150 and a CCD camera 151 constituting a reading unit for reading a cavity number imprinted on a runner to be measured are mounted on the third guide rail member 112 so as to be slidable in the x-axis direction. ing.

【0055】本体ユニット100のベース側には、ラン
ナに接続された状態で被検レンズを保持するレンズ保持
ユニット160がz軸方向に配置されたレール161上
でスライド可能に設けられている。
On the base side of the main body unit 100, a lens holding unit 160 for holding the lens to be inspected while being connected to the runner is slidably provided on a rail 161 arranged in the z-axis direction.

【0056】照明ユニット120は、図13に示される
ように、ケーシング121の下側から図示せぬ光源から
の光を伝達する光ファイバー122が導入されると共
に、上側の開口には1枚の板状の拡散手段20が取り付
けられている。
As shown in FIG. 13, an optical fiber 122 for transmitting light from a light source (not shown) is introduced from the lower side of the casing 121 into the lighting unit 120, and a single plate-like Is attached.

【0057】光ファイバー122の射出端部は、止めネ
ジ123によりケーシング121に固定されており、こ
の止めネジを緩めることにより、挿入のストロークを変
更することができる。光ファイバーからの光の射出角度
は一定であるため、光ファイバーの挿入ストロークを変
更すると、光源と拡散手段20との距離を変更するのと
同一の効果があり、拡散板の中心領域からの射出光量と
周辺領域からの射出光量との比率を調整することができ
る。
The emission end of the optical fiber 122 is fixed to the casing 121 by a set screw 123. By loosening the set screw, the insertion stroke can be changed. Since the emission angle of light from the optical fiber is constant, changing the insertion stroke of the optical fiber has the same effect as changing the distance between the light source and the diffusing means 20. The ratio with the amount of light emitted from the peripheral area can be adjusted.

【0058】一方、拡散手段20は、拡散透過率が小さ
い中心領域と拡散透過率が大きい周辺領域とを有し、被
検物となる光学部材の平面形状に応じて用いられるよう
複数用意されている。
On the other hand, the diffusing means 20 has a central region having a small diffuse transmittance and a peripheral region having a large diffuse transmittance, and a plurality of diffusers are prepared so as to be used according to the planar shape of the optical member to be inspected. I have.

【0059】これらの拡散板は、図14(A)に示される
照明ユニット120の上側の開口に填め込まれる基準形
状の第1拡散板21を用意し、その上に(B)に示される
ように中心領域を規定するシート状の第2拡散板22を
接着し、(C)に示されるように周辺領域の外周より外側
を遮光する遮光マスク23を接着して構成される。
As these diffusion plates, a first diffusion plate 21 having a standard shape to be fitted into the upper opening of the illumination unit 120 shown in FIG. 14A is prepared, and as shown in FIG. And a light-shielding mask 23 that shields light from the outer periphery of the peripheral region as shown in FIG.

【0060】図15は、ランナRに接続された状態でレ
ンズ保持ユニット160にセットされた被検レンズ1
と、左右の検査光学系との位置関係を示す説明図であ
る。被検レンズ1は、スプルSpの先端をレンズ保持ユ
ニット160内に挿入して保持されており、左右の検査
光学系の光軸Ax1,Ax2と平行な回転軸Ax3を中心
に回転可能に支持されている。左右の検査光学系の光軸
Ax1,Ax2の間隔は、前記の位置調整手段113を走
査することにより調整することができ、図示されるよう
に各光軸が被検レンズ1の光軸にほぼ一致するよう調整
される。
FIG. 15 shows the test lens 1 set in the lens holding unit 160 while being connected to the runner R.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a positional relationship between the optical system and the left and right inspection optical systems. The test lens 1 is held by inserting the tip of the sprue Sp into the lens holding unit 160 and is rotatably supported about a rotation axis Ax3 parallel to the optical axes Ax1 and Ax2 of the left and right inspection optical systems. ing. The distance between the optical axes Ax1 and Ax2 of the left and right inspection optical systems can be adjusted by scanning the position adjusting means 113, and each optical axis is substantially aligned with the optical axis of the lens 1 to be inspected as shown in the figure. Adjusted to match.

【0061】次に、左右2組の検査光学系の設定につい
て説明する。左右の検査光学系は、検査対象となる光学
部材のゴミ、キズに対する判定基準が光軸方向の位置に
応じて異なる場合を想定し、互いに異なるピント条件で
検査できるよう設定される。
Next, the setting of the left and right inspection optical systems will be described. The left and right inspection optical systems are set so that inspection can be performed under different focus conditions, assuming that the determination criteria for dust and flaws on the optical member to be inspected are different depending on the position in the optical axis direction.

【0062】例えば、レンズの一方側が刻印が形成され
た平面であるファインダー用のレンズは、平面のキズに
対する判定基準が他の位置のゴミやキズに対する判定基
準より厳しい。このような場合には、一方の検査光学系
の焦点深度を浅くすることにより平面近傍のキズのみを
抽出するよう特化させ、この種の欠陥を他の欠陥とは独
立して検出するようにすることが望ましい。
For example, in the case of a finder lens in which one side of the lens is a plane on which a mark is formed, the criterion for determining scratches on the plane is stricter than that for dust and scratches at other positions. In such a case, by making the depth of focus of one inspection optical system shallow, it is specialized to extract only flaws near the plane, and to detect this type of defect independently of the other defects. It is desirable to do.

【0063】そこで、このようなファインダー用レンズ
を検査する場合には、左検査光学系の焦点深度を浅くし
て(絞り開放)平面にピントを合わせることにより左検査
光学系を専ら平面のキズの抽出に特化させ、右検査光学
系は焦点深度を深くして(Fナンバー=11)これにより
他の位置のゴミ、キズを抽出する。
Therefore, when inspecting such a finder lens, the depth of focus of the left inspection optical system is made shallow (aperture is open) to focus on the plane, so that the left inspection optical system is exclusively used for flat surface flaws. Specializing in extraction, the right inspection optical system increases the depth of focus (F number = 11), thereby extracting dust and scratches at other positions.

【0064】なお、上記のようなピント条件(絞り)の設
定により、左右の検査光学系で拡散板の周辺領域からの
高輝度の射出成分と、中心領域からの低輝度の射出成分
との割合が互いに異なる。すなわち、左検査光学系では
周辺領域からの高輝度の射出成分の割合が相対的に高く
なり、右検査光学系では逆に中心領域からの低輝度の射
出成分の割合が相対的に高くなる。
By setting the focus condition (aperture) as described above, the ratio of the high-luminance emission component from the peripheral region of the diffusion plate to the low-luminance emission component from the central region in the left and right inspection optical systems. Are different from each other. That is, in the left inspection optical system, the ratio of the high luminance emission component from the peripheral region is relatively high, and in the right inspection optical system, on the contrary, the ratio of the low luminance emission component from the central region is relatively high.

【0065】周辺領域の射出成分の割合が比較的大きく
中心領域の射出成分の割合が比較的小さい場合には、測
定画面内で部品領域のベース輝度が低くなり、光を散乱
させる欠陥があった場合にこの欠陥部分の高輝度領域と
ベース輝度との差が大きくなり、散乱性欠陥に対する検
出能力が高くなる。ただし、ベース輝度が低いため、光
を吸収する欠陥があった場合にもこの欠陥部分の低輝度
領域とベース輝度との差は小さく、吸収性の欠陥に対す
る検出能力は相対的に低くなる。
When the ratio of the emission component in the peripheral region is relatively large and the ratio of the emission component in the central region is relatively small, the base luminance of the component region becomes low in the measurement screen, and there is a defect that scatters light. In this case, the difference between the high luminance area of the defective portion and the base luminance increases, and the ability to detect a scattering defect increases. However, since the base luminance is low, even when there is a defect that absorbs light, the difference between the low luminance area of this defective portion and the base luminance is small, and the detection capability for the absorptive defect becomes relatively low.

【0066】周辺領域からの射出成分の割合が比較的小
さく中心領域からの出射成分の割合が比較的大きい場合
には、上記と逆にベース輝度が高くなるため、光を吸収
する欠陥があった場合にはこの欠陥部分の低輝度領域と
ベース輝度との差が大きくなり、吸収性欠陥に対する検
出能力が高くなる。ただし、この場合には散乱性の欠陥
に対する検出能力は相対的に低くなる。
When the ratio of the component emitted from the peripheral region is relatively small and the ratio of the component emitted from the central region is relatively large, the base luminance becomes high contrary to the above, and there is a defect that absorbs light. In this case, the difference between the low luminance area of the defective portion and the base luminance increases, and the ability to detect an absorptive defect increases. However, in this case, the detection capability for scattering defects is relatively low.

【0067】なお、上記のような中心領域の射出成分と
周辺領域の射出成分との割合は、ピント条件、すなわち
絞りの設定の違いによる他、照明ユニット120内のフ
ァイバーの端面の位置を変更することにより、あるい
は、照明ユニット120全体をx軸方向に移動させるこ
とによっても変更することができる。
The ratio between the emission component in the central region and the emission component in the peripheral region as described above depends on the focus condition, that is, the difference in the aperture setting, and also changes the position of the end face of the fiber in the illumination unit 120. Alternatively, it can be changed by moving the entire lighting unit 120 in the x-axis direction.

【0068】続いて、上記の装置を利用した測定の手順
をフローチャートにしたがって説明する。検査前の準備
として、検査対象となる光学部材に応じた部品に関する
情報をデータテーブルとしてロードする。また、情報に
したがって部品形状に適した拡散板を選択すると共に、
撮影倍率を設定する。
Next, the procedure of measurement using the above-described apparatus will be described with reference to a flowchart. As a preparation before inspection, information relating to a component corresponding to an optical member to be inspected is loaded as a data table. In addition to selecting a diffuser suitable for the part shape according to the information,
Set the shooting magnification.

【0069】[0069]

【検査フロー】検査全体の流れは図16のフローチャー
トに示される。CCDカメラから画像を入力し(ステッ
プA-1)、輝度の分布に基づいて被検レンズの像に対応す
る部品領域を分離する(ステップA-2、サブルーチンは図
17)。
[Inspection flow] The flow of the entire inspection is shown in the flowchart of FIG. An image is input from a CCD camera (step A-1), and a component region corresponding to the image of the lens to be inspected is separated based on the distribution of luminance (step A-2, a subroutine shown in FIG.
17).

【0070】部品領域の分離処理中に部品が所定の検査
位置になく欠損していると判断された場合には、部品領
域分離処理中で欠損フラグがセットされ、検査ループで
はこの欠損フラグがセットされているか否かにより検査
を続行するか否かを選択する(ステップA-3)。
If it is determined that the part is missing at the predetermined inspection position during the part area separation processing, a loss flag is set during the part area separation processing, and this loss flag is set in the inspection loop. It is determined whether or not to continue the inspection depending on whether or not the inspection has been performed (step A-3).

【0071】分離された部品領域の画像は、動的2値化
処理によりベース輝度より高輝度の散乱性の欠陥と、低
輝度の吸収性の欠陥とに分離され(ステップA-4、サブル
ーチンは図20)、必要に応じてファインダーマーク等の
刻印を分離し(ステップA-5,6、サブルーチンは図21)、
左右の検査光学系の別により異なる判定処理を実行す
る。
The image of the separated component region is separated into a scattering defect having a higher luminance than the base luminance and an absorbing defect having a lower luminance than the base luminance by the dynamic binarization processing (step A-4, subroutine: (Fig. 20), if necessary, separate the markings such as finder marks (steps A-5 and 6, subroutine is Fig. 21),
Different determination processes are performed depending on whether the left or right inspection optical system is used.

【0072】左検査光学系の画像に基づく検査はステッ
プA-8〜A-17、右検査光学系の画像に基づく検査はステ
ップA-18,19で実行される。いずれも分離された部品領
域内の2値画像から欠陥等の特徴量を抽出し、抽出され
た結果に基づいて被検レンズの良否を判定する。一方の
検査で不良が判定された場合には、他方の検査が終了し
ていなくとも結果を表示して対象となっているレンズの
検査を中止する(ステップA-20,21)。
The inspection based on the image of the left inspection optical system is performed in steps A-8 to A-17, and the inspection based on the image of the right inspection optical system is performed in steps A-18 and A-19. In each case, a feature amount such as a defect is extracted from the binary image in the separated component region, and the quality of the lens to be inspected is determined based on the extracted result. If a defect is determined in one of the inspections, the result is displayed and the inspection of the target lens is stopped even if the other inspection is not completed (steps A-20 and 21).

【0073】左右両方の検査でも不良が判定されない場
合には、双方の検査結果を総合して判定して結果を表示
し(A-22〜24)、検査対象となるレンズがなくなるまで検
査を続行する(ステップA-25,26)。なお、ステップA-21,
24では、判定結果を表示する際に、レンズが不良である
場合には印点ユニット140により被検レンズ1に不良
品であることを表示するマークをつける。
If no defect is detected in both the left and right inspections, the results of both inspections are integrated and the results are displayed (A-22 to 24), and the inspection is continued until there are no more lenses to be inspected. (Steps A-25, 26). Step A-21,
In 24, when displaying the determination result, if the lens is defective, the mark unit 140 marks the lens 1 to be inspected as defective.

【0074】左検査光学系における処理は、分離された
刻印自体の良否判定(ステップA9,10、サブルーチンは図
23)、成形型に発生した型キズの判定(ステップA-12〜1
6、サブルーチンは図24,25)である。型キズが発生し、
あるいは消滅した場合には、警報装置により直ちに検査
者に告知する。
The processing in the left inspection optical system is performed by judging the quality of the separated engraving itself (steps A9 and A10,
23), Judgment of mold flaws generated in the mold (steps A-12 to 1
6. The subroutine is shown in FIGS. Mold scratches occur,
Or, when it disappears, an alarm device notifies the inspector immediately.

【0075】続いて、上記検査フロー中に含まれる各サ
ブルーチンについて説明する。
Next, each subroutine included in the inspection flow will be described.

【0076】[0076]

【領域分離】領域分離処理は、入力された原画像から検
査対象となる部品領域を切り出して、背景領域と分離す
る処理である。入力データは、原画像、x,y各軸の走
査の閾値、背景と部品領域とを分離するための閾値、部
品サイズ、有効径設定値、判定エリア設定値である。
[Region Separation] The region separation process is a process of cutting out a component region to be inspected from an input original image and separating it from a background region. The input data includes an original image, a threshold for scanning in each of the x and y axes, a threshold for separating the background from the component region, a component size, an effective diameter setting value, and a determination area setting value.

【0077】図17に示されるように、まず、原画像を
高輝度の背景領域と中間輝度の部品領域との間の閾値を
用いて2値化する(ステップB-1)。
As shown in FIG. 17, first, the original image is binarized using a threshold between a high-luminance background area and a medium-luminance component area (step B-1).

【0078】続いて、2値化画像を互いに直交するx軸
方向とy軸方向とに順に走査し、各軸の投影分布を求
め、これに基づいて部品外形の境界点を検出すると共
に、検査によって外形が検出されたか否かを判断する
(ステップB-2〜B-7)。
Subsequently, the binarized image is sequentially scanned in the x-axis direction and the y-axis direction which are orthogonal to each other, the projection distribution of each axis is obtained, and based on this, the boundary point of the component outer shape is detected and the inspection is performed. To determine if an outline has been detected
(Steps B-2 to B-7).

【0079】投影分布は、同一のyまたはx座標を持つ
画素の明るさの総和である。実施例の装置の場合、被検
レンズがセットされていれば、図18(A)に示されるよ
うに高輝度の背景領域Bの中にハッチングで示した中輝
度の部品領域Sが1つ含まれる画像が得られるため、そ
れぞれ方向における2値化画像の投影分布は図18(B)
(C)に示されるようになり、分布の境界位置を検出する
ことにより、部品領域を図中破線で示すような矩形に切
り出すことができる。
The projection distribution is the sum of brightness of pixels having the same y or x coordinate. In the case of the apparatus of the embodiment, if the lens to be inspected is set, as shown in FIG. 18A, one high-luminance background region B includes one medium-luminance component region S indicated by hatching. 18B, the projection distribution of the binarized image in each direction is shown in FIG.
As shown in (C), by detecting the boundary position of the distribution, the component region can be cut out into a rectangle as shown by a broken line in the figure.

【0080】これに対して、被検レンズがセットされて
いない場合には、撮影画像およびその投影分布は図19
(A)(B)(C)に示されるようにほぼ一様となるため、分布
の境界位置を検出することができない。したがって、境
界位置が求められたか否かを判断することにより、部品
がセットされているのか、欠損によりセットされていな
いのかを判断することができる。
On the other hand, when the lens to be inspected is not set, the photographed image and its projection distribution are shown in FIG.
As shown in (A), (B), and (C), the distribution becomes almost uniform, so that the boundary position of the distribution cannot be detected. Therefore, by determining whether or not the boundary position has been determined, it is possible to determine whether a component is set or not set due to loss.

【0081】以上のステップB-1〜B-7の処理が、部品領
域の予備分離であり、これによりいずれか一方の検査で
境界点が検出されない場合には、欠損フラグをセットし
て検査ループに戻り(ステップB-8)、x,y軸の境界点
が共に検出された場合には、次の段階の本分離処理に入
る。
The processing of the above steps B-1 to B-7 is the preliminary separation of the component area. If the boundary point is not detected by any one of the inspections, the loss flag is set and the inspection loop is executed. (Step B-8), and if both the x- and y-axis boundary points are detected, the process proceeds to the next stage of the main separation process.

【0082】本分離処理では、予備分離で得られた各境
界点のデータとあらかじめ入力された被検レンズの形状
のデータとに基づき、予備分離された矩形領域から部品
形状に合致した実際の検査対象となる領域を分離する。
予備分離の段階で既に処理対象領域がほぼ部品領域のみ
を含む狭い領域に絞られているため、本分離を高速、高
精度で実行することが可能となる。
In the present separation processing, based on the data of each boundary point obtained by the preliminary separation and the data of the shape of the lens to be inspected previously input, an actual inspection matching the part shape from the rectangular region separated by the preliminary separation. Isolate the area of interest.
Since the processing target area has already been narrowed down to a narrow area including only the component area in the preliminary separation stage, the main separation can be performed at high speed and with high accuracy.

【0083】この領域分離処理では、実効部品外形、重
心を求めると共に、予め入力されていた部品サイズ、基
準有効径、基準判定エリアに基づいて倍率、実効有効
径、実効判定エリアを求める(ステップB-9〜B-13)。
In this region separation process, the effective component outer shape and the center of gravity are determined, and the magnification, the effective effective diameter, and the effective determination area are determined based on the previously input component size, reference effective diameter, and reference determination area (step B). -9 to B-13).

【0084】上記のように、実施例の部品領域分離処理
では、処理の負荷が本分離より低い予備分離の段階で部
品の欠損を判別することができるため、部品領域分離を
全て実行した後に欠損を判断する場合と比較して、欠損
を迅速に判定することができ、多数の被検レンズを検査
する場合の検査スピードを向上させることができる。
As described above, in the component region separation processing of the embodiment, the loss of the component can be determined at the stage of the preliminary separation in which the processing load is lower than the main separation. As compared with the case of judging, the defect can be determined more quickly, and the inspection speed when inspecting a large number of lenses to be inspected can be improved.

【0085】2値化抽出処理は、領域分離処理により設
定された部品領域の原画像から特徴量を抽出する処理で
ある。入力は、原画像、処理対象領域の実効有効径、吸
収性欠陥抽出用の2値化閾値、散乱性欠陥抽出用の2値
化閾値等である。
The binarization extraction process is a process for extracting a feature amount from an original image of a component region set by the region separation process. The input includes an original image, an effective effective diameter of a processing target area, a binarization threshold for extracting an absorptive defect, a binarization threshold for extracting a scattering defect, and the like.

【0086】2値化抽出処理は、領域分離処理により設
定された部品領域の原画像から特徴量を抽出する処理で
ある。入力は、原画像、処理対象領域の実効有効径、低
輝度側の輝度シフト値、高輝度側の輝度シフト値等であ
る。
The binarization extraction process is a process for extracting a feature amount from an original image of a component region set by the region separation process. The input is the original image, the effective effective diameter of the processing target area, the luminance shift value on the low luminance side, the luminance shift value on the high luminance side, and the like.

【0087】図20に示されるように、領域分離処理に
より求められた処理対象領域の画素のヒストグラムをと
り、そのピーク法による閾値を部品領域のベース輝度と
して求める(ステップC-1,2)。
As shown in FIG. 20, a histogram of the pixels of the processing target area obtained by the area separation processing is obtained, and the threshold value by the peak method is obtained as the base luminance of the component area (steps C-1, 2).

【0088】ステップC-3〜C-8では、光学部材の種類、
検査の内容に応じて部品領域内の輝度差が突出する領域
の輝度を必要に応じてベース輝度に置換する。この置換
は、平滑化により動的2値化に用いられる閾値画像を形
成する際の前処理として行われる。
In steps C-3 to C-8, the type of the optical member,
The luminance of the area where the luminance difference protrudes in the component area is replaced with the base luminance as necessary according to the content of the inspection. This replacement is performed as pre-processing when forming a threshold image used for dynamic binarization by smoothing.

【0089】この例では原画像を平滑化した画像を部品
毎に定められた輝度シフト値に応じてシフトして動的2
値化の閾値画像として用いる。ただし、原画像を単に平
滑化して得られた平滑化画像を閾値画像として用いる
と、原画像にピークの大きい欠陥がある場合に、その周
辺に位置するピークの小さい欠陥が抽出されない可能性
がある。例えば、原画像にベース輝度から高輝度側に突
出した欠陥が存在すると、平滑化画像では欠陥部分のピ
ーク輝度は低くなるものの欠陥の周囲の領域の輝度が押
し上げられる。そして、この平滑化画像を輝度シフトし
て閾値画像を形成すると、結果的に欠陥の周辺領域の閾
値が高くなり、周辺領域に位置するピークの低い高輝度
欠陥が抽出されなくなる可能性がある。これらの不具合
は、低輝度側でも同様に生じ得る。
In this example, an image obtained by smoothing an original image is shifted according to a brightness shift value determined for each
Used as a threshold image for binarization. However, if a smoothed image obtained by simply smoothing the original image is used as the threshold image, if the original image has a defect with a large peak, a defect with a small peak located around the defect may not be extracted. . For example, if a defect protruding from the base luminance to the higher luminance side is present in the original image, the peak luminance of the defective portion is reduced in the smoothed image, but the luminance of the area around the defect is increased. If the threshold image is formed by shifting the brightness of the smoothed image, the threshold value in the peripheral area of the defect becomes high as a result, and a high-luminance defect having a low peak located in the peripheral area may not be extracted. These disadvantages can also occur on the low luminance side.

【0090】ステップC-3〜C-8の処理は、上記の不具合
を防ぐための処理である。ただし、被検物である光学部
材の種類、判定基準によっては輝度の置換が全く必要な
い場合、低輝度側のみ必要となる場合、高輝度側のみ必
要となる場合、そして高低両側の置換が必要となる場合
がある。平滑化の前処理で輝度の置換を実行すれば、そ
の処理にかかる分だけ検査の所用時間が長くなるため、
必要とされる場合にのみ最小限の置換を実行する。
The processes of steps C-3 to C-8 are processes for preventing the above-mentioned problems. However, depending on the type of the optical member to be inspected and the criterion, there is no need to replace the brightness at all, only the low brightness side is needed, only the high brightness side is needed, and both high and low sides need to be replaced. It may be. If the luminance replacement is performed in the pre-processing of the smoothing, the time required for the inspection is increased by the time required for the processing,
Perform minimal replacement only when needed.

【0091】高輝度側、すなわち散乱性の欠陥が検査対
象とならない場合には、ステップC-5でベース輝度から
所定値αマイナスした値以下の低輝度側のみ置換し、低
輝度側、すなわち吸収性の欠陥が検査対象とならない場
合にはステップC-8でベース輝度より所定値αプラスし
た値以上の高輝度側のみ置換し、散乱性、吸収性の欠陥
の双方を検査対象とする場合には、±αの範囲外の高低
両側の輝度を置換する(C-6)。
If the high-luminance side, that is, the scattering defect is not to be inspected, only the low-luminance side that is equal to or less than a value obtained by subtracting a predetermined value α from the base luminance is replaced in step C-5, If the defect is not a defect to be inspected, replace only the high-luminance side that is equal to or more than the value obtained by adding the predetermined value α from the base luminance in step C-8. Replaces the luminance on both sides of the height outside the range of ± α (C-6).

【0092】なお、判定基準が非常に緩やかでベース輝
度から著しく突出した部分のみを欠陥として抽出できれ
ば足りる場合には、輝度シフト値を大きくとることによ
り抽出が可能となるため、輝度は置換されない。
If it is sufficient to extract only a portion that has a very loose judgment criterion and is significantly protruded from the base luminance as a defect, the luminance can be extracted by increasing the luminance shift value, and the luminance is not replaced.

【0093】上記の前処理の後、移動平均法による平滑
化により平滑化画像が形成され、これを低輝度側、高輝
度側にそれぞれ検査対象に応じて所定量シフトすること
により低輝度側、高輝度側の閾値画像が形成される。こ
れらの閾値画像を原画像と比較することにより、浮動閾
値法による動的2値化処理が実行され(ステップC-9,10,
11)、低輝度の欠陥、高輝度の欠陥がそれぞれ2値画像
として抽出される。
After the above preprocessing, a smoothed image is formed by smoothing by the moving average method, and this is shifted by a predetermined amount to the low luminance side and the high luminance side in accordance with the inspection object, thereby obtaining the low luminance side. A threshold image on the high luminance side is formed. By comparing these threshold images with the original image, dynamic binarization processing by the floating threshold method is executed (steps C-9, 10,
11) The low-luminance defect and the high-luminance defect are each extracted as a binary image.

【0094】上記の2種類の2値化処理により、前述の
図7(B)(C)に示されたように、2つの2値化画像が得ら
れる。それぞれの2値化画像から各性状の欠陥に相当す
る領域を図形として抽出し、それぞれの判定基準に基づ
いて抽出された各欠陥が許容できるか否かを判定する。
光学部材の良否の判定は、性状により異なる基準を有す
るため、上記のように性状別に独立して判断することに
より、正確な判定が可能となる。
By the above two types of binarization processing, two binary images are obtained as shown in FIGS. 7B and 7C. A region corresponding to a defect of each property is extracted as a graphic from each binarized image, and it is determined whether each of the extracted defects is acceptable based on each determination criterion.
Since the judgment of the quality of the optical member has different criteria depending on the properties, accurate judgment can be performed by independently judging the properties as described above.

【0095】なお、上記の動的2値化処理に用いられる
閾値の決定が適切でないと、感度が高すぎて欠陥として
扱う必要のない微小なキズ等の判定処理に必要のない情
報までが抽出されて後で実行される判定処理が複雑とな
り、あるいは、反対に感度が低すぎて欠陥として扱わな
ければならないキズ等の情報が抽出されずに正確な判定
ができないといった不具合が生じる。
If the threshold value used in the above-mentioned dynamic binarization processing is not properly determined, information that is too high in sensitivity and does not need to be treated as a defect and that is not necessary for the processing of judging minute scratches or the like is extracted. As a result, the judgment process executed later becomes complicated, or conversely, the sensitivity is too low, and information such as a flaw that must be treated as a defect cannot be extracted and accurate judgment cannot be performed.

【0096】そこで、この実施例では、動的2値化によ
り得られる抽出結果が後処理に適したレベルとなるよう
低輝度側、高輝度側の輝度シフト値が検査対象となる光
学部材の種類毎に予め登録されており、検査時には光学
部材の種類に応じて読み出されて使用される。
Therefore, in this embodiment, the luminance shift values on the low luminance side and the high luminance side are adjusted so that the extraction result obtained by dynamic binarization becomes a level suitable for post-processing. It is registered in advance every time, and is read and used according to the type of the optical member at the time of inspection.

【0097】[0097]

【刻印分離】刻印分離処理は、刻印が形成された光学部
材を検査する際に、予め刻印の位置、面積等の情報を記
憶しておき、この情報を用いて部品領域の2値原画像か
ら刻印領域を分離する処理である。
[Engraved separation] In the engraved separation process, when inspecting an optical member on which an engraved mark is formed, information such as the position and area of the engraved mark is stored in advance, and this information is used to convert the original binary image of the component area. This is a process for separating the engraved area.

【0098】カメラのファインダー用のレンズには、フ
ァインダー視野を規定する視野マーク、あるいはオート
フォーカスの範囲を規定するオートフォーカスマーク等
が形成される場合がある。これらのマークは、レンズ成
形用の型に形成された微細な凹部により、周囲の面に対
してわずかに突出した刻印として形成されている。被写
体からの光束はこの刻印の部分で散乱するため、マーク
が他の部分より暗くなり、ファインダー視野内の枠とし
て見ることができる。
A viewfinder lens of a camera may have a field mark defining a viewfinder field, an autofocus mark defining an autofocus range, or the like. These marks are formed as engraved marks slightly protruding from the surrounding surface by fine concave portions formed in a lens molding die. Since the light beam from the subject is scattered at the engraved portion, the mark becomes darker than other portions and can be seen as a frame in the viewfinder visual field.

【0099】刻印は、検査光学系にとっては散乱性の欠
陥と同一の性質を有するため、刻印が形成されたレンズ
の性能を他のレンズと同様の検査ルーチンで検査する場
合には、刻印部分の画像が僅かにでも残っていると、こ
れが欠陥として認識されてレンズが不良と判定される。
Since the marking has the same properties as the scattering defect for the inspection optical system, when the performance of the lens on which the marking is formed is to be inspected by the same inspection routine as that of the other lenses, the marking portion is formed. If any image remains, it is recognized as a defect and the lens is determined to be defective.

【0100】特に、刻印が形成されたファインダー用レ
ンズは、ファインダーとして組み立てられた際に刻印の
形成された面がピント面に配置され、僅かな欠陥であっ
ても目立って見えるため、良、不良を判定する際の規準
が厳しい。したがって、刻印付の光学部材を検査する際
には、事前に刻印部分の画像を残さず除去する必要があ
る。
In particular, in the case of a finder lens having an engraved mark, when the finder lens is assembled as a finder, the surface on which the engraved mark is formed is arranged on the focus surface, and even a slight defect looks conspicuous. The criteria for judging are strict. Therefore, when inspecting the optical member with the stamp, it is necessary to remove the image of the stamp portion without leaving any image in advance.

【0101】刻印分離処理での入力データは、2値化さ
れた原画像、原画像の重心、外径、設計値通りの刻印の
基準画像、その重心、マスクの膨張回数、刻印の個数で
ある。
The input data in the marking separation processing are the binarized original image, the center of gravity and the outer diameter of the original image, the reference image of the marking as designed, the center of gravity, the number of times of expansion of the mask, and the number of markings. .

【0102】図21のフローチャートと図22の画像の
説明図とを参照して刻印分離処理を説明する。まず、刻
印の基準画像をマスク画像として読み込み、これを膨張
させて膨張マスク画像を作成する(ステップD-1,D-2)。
図22(A)が2値化原画像、(B)が膨張マスク画像であ
る。
The engraving separation process will be described with reference to the flowchart of FIG. 21 and the illustration of the image of FIG. First, the reference image of the engraving is read as a mask image, and is expanded to create an expanded mask image (steps D-1 and D-2).
FIG. 22A shows a binary original image, and FIG. 22B shows an expanded mask image.

【0103】これらの画像を図22(C)に示すように重
心を一致させるよう重ね合わせて画素毎に論理積をとる
(AND演算する)ことにより、(D)に示すように膨張マ
スク画像に重複しない欠陥を取り除いた一次画像が得ら
れる(ステップD-3,4)。AND演算は、2つの対応する
2値化画像を画素単位で比較し、少なくとも一方の画素
の濃度が「1」である画素の濃度を「1」、両方の画素
の濃度が「0」である画素を「0」として新たな画像を
形成する処理である。マスク画像を膨張させることによ
り、撮影のズレ等による原画像中の刻印の位置誤差を吸
収させることができる。膨張は、図形の境界画素の周囲
の画素を図形と同一の濃度に変換する処理であり、ここ
では撮影誤差を考慮して3回程度膨張させる。
These images are superimposed so that the centers of gravity coincide with each other as shown in FIG.
By performing (AND operation), a primary image from which a defect that does not overlap with the dilated mask image is removed as shown in (D) is obtained (steps D-3 and D4). In the AND operation, two corresponding binarized images are compared on a pixel-by-pixel basis, and the density of at least one pixel whose density is “1” is “1”, and the density of both pixels is “0”. This is a process of forming a new image by setting the pixel to “0”. By expanding the mask image, it is possible to absorb a position error of a mark in the original image due to a shift in photographing or the like. The expansion is a process of converting pixels around the boundary pixel of the figure into the same density as the figure. Here, the expansion is performed about three times in consideration of a photographing error.

【0104】続いて、ラベリング処理により、一次画像
に含まれる図形をそれぞれグループ分けして番号を付す
(ステップD-6)。ラベリング数を予め入力されていた刻
印の数と比較し、ラベリング数の方が少ない場合には、
複数の刻印の少なくとも2つが連続した1つの図形とし
て認識されたことを意味するため、刻印不良フラグを立
てて検査ループに戻る(ステップD-7)。
Subsequently, figures included in the primary image are grouped and numbered by a labeling process.
(Step D-6). Compare the labeling number with the number of stamps entered in advance, and if the labeling number is smaller,
Since it means that at least two of the plurality of stamps are recognized as one continuous figure, a stamp failure flag is set and the process returns to the inspection loop (step D-7).

【0105】刻印数よりラベリング数の方が多い場合に
は、マスクされた領域内に欠陥が存在することを意味す
る。この場合には、ラベリングされた図形の面積をそれ
ぞれ求め、面積が大きい順に刻印数分の図形をマークす
る。刻印の領域は一次画像に残る欠陥の領域より大きい
と仮定できるため、この処理でマークされない図形を消
去することにより、図22(E)に示すように分離可能な
欠陥を含まない刻印画像が得られる(ステップD-8〜1
1)。
If the number of labeling is larger than the number of markings, it means that a defect exists in the masked area. In this case, the area of each of the labeled figures is obtained, and the figures corresponding to the number of stamps are marked in the order of larger area. Since it can be assumed that the area of the engraving is larger than the area of the defect remaining in the primary image, by erasing the unmarked figure in this process, an engraved image containing no separable defect is obtained as shown in FIG. (Steps D-8 to 1
1).

【0106】ただし、刻印と連続して分離できない欠陥
がある場合には、この欠陥を含めた領域が刻印として認
識されることとなる。後述の刻印判定処理では、抽出さ
れた刻印領域の面積を設計値と比較して良、不良を判断
するため、刻印に連続する欠陥の面積が大きい場合に
は、刻印自体の不良と判定される。
However, when there is a defect that cannot be separated from the mark continuously, the area including the defect is recognized as the mark. In the engraving determination process described below, the area of the extracted engraved area is compared with the design value to determine whether the engraving is good or defective. Therefore, if the area of the defect continuous to the engraving is large, it is determined that the engraving itself is defective. .

【0107】最後に、刻印の画像を原画像から差し引く
ことにより、刻印が分離された画像を得ることができる
(ステップD-12)。なお、刻印数とラベリング数が等しい
場合には、マスクされた領域内に分離可能な欠陥が存在
しないことを意味するため、一次画像がそのまま刻印画
像として用いられる(ステップD-8,12)。
Finally, by subtracting the engraved image from the original image, an image in which the engraved image is separated can be obtained.
(Step D-12). If the number of markings is equal to the number of labeling, it means that there is no separable defect in the masked area, and the primary image is used as it is as the marking image (steps D-8 and 12).

【0108】[0108]

【刻印判定】刻印判定処理は、光学素子の表面に形成さ
れた刻印の良否を正常な刻印との面積比に基づいて判定
する処理である。入力は、個々の刻印についての処理対
象領域、刻印分離処理で分離された刻印画像、刻印数、
正常な刻印の面積、許容される面積比の上限および下限
である。
[Engraving Judgment] The engraving judging process is a process of judging the quality of the engraving formed on the surface of the optical element based on the area ratio with the normal engraving. The input is the processing target area for each stamp, the stamp image separated by the stamp separation process, the stamp number,
The area of normal marking, the upper and lower limits of the allowable area ratio.

【0109】図23のフローチャートに示されるよう
に、まず、処理対象領域内から第i番目の刻印を抽出し
てその面積S1を求める(ステップE-3〜8)。面積を求め
る際に、処理対象領域内の図形をラベリングし、複数の
図形が含まれる場合にはその中の最大面積を有する図形
を刻印と認識する(ステップE-4〜7)。刻印分離処理にお
いて抽出された刻印画像に分離可能な他の欠陥要因が含
まれる場合にも、上記の処理により刻印以外の画像を除
くことができる。
As shown in the flowchart of FIG. 23, first, the i-th mark is extracted from the processing target area and its area S1 is obtained (steps E-3 to E-8). When calculating the area, the figure in the processing target area is labeled, and when a plurality of figures are included, the figure having the largest area among them is recognized as a stamp (steps E-4 to E-7). Even in the case where the engraved image extracted in the engraving separation process includes other defect factors that can be separated, images other than the engraving can be removed by the above processing.

【0110】第i番目の刻印の正常な場合の面積をS0
として、S1とS0との比が上限と下限との間となるか否
かを判定し、範囲から外れる場合には直ちに刻印不良フ
ラグをセットして検査ループに戻る(ステップE-9〜1
1)。
The area in the case where the ith mark is normal is S0
It is determined whether the ratio between S1 and S0 is between the upper limit and the lower limit. If the ratio is out of the range, the imprint failure flag is immediately set and the process returns to the inspection loop (steps E-9 to E-1).
1).

【0111】カウンタiをインクリメントしつつ、それ
ぞれの刻印について順に良否を判定し、全ての刻印が正
常と判定されると、検査ループに戻る(ステップE-2)。
While the counter i is incremented, pass / fail is determined for each of the stamps in order. When all the stamps are determined to be normal, the process returns to the inspection loop (step E-2).

【0112】複数の刻印が形成されている場合、1つで
も不良となる刻印があれば不良品となるため、不良が発
見された場合には未検査の刻印を判定することなくその
時点で判定処理を中断する。これにより、全ての刻印を
判定してから良否を判定するより判定にかかる時間を短
縮することができる。
When a plurality of stamps are formed, if at least one of the stamps is defective, it is a defective product. Therefore, when a defect is found, it is determined at that point in time without determining an uninspected stamp. Stop processing. As a result, it is possible to reduce the time required for the determination as compared with the determination of pass / fail after determining all the marks.

【0113】[0113]

【型キズ検知】プラスチック製の光学部材を型から取り
出す際、成形品が十分に硬化していないと型の側にプラ
スチックが付着して残る場合がある。型にプラスチック
が付着すると、型の中に凸部が形成されることとなり、
これを除去せずに成形を続けると成形品に不要な凹部が
型キズとして形成される。また、プラスチック片が型に
付着して長時間経過して硬化すると、これが離脱した後
にも型に凹状のキズが残る場合もある。さらに、型はレ
ンズ成形部分が単独で取り外せるように構成されてお
り、この部分を型本体に組み付ける際にキズがつく場合
もある。この明細書では、このように型に残ったプラス
チック片により生じた成型品の凹状の欠陥、あるいは型
自体が削られることにより成型品に生じた凸状の欠陥を
総称して型キズと呼ぶこととする。
[Mold flaw detection] When the plastic optical member is removed from the mold, if the molded product is not sufficiently cured, the plastic may adhere to the mold and remain. When plastic adheres to the mold, a convex part is formed in the mold,
If the molding is continued without removing this, unnecessary concave portions are formed in the molded product as mold flaws. Further, if the plastic piece adheres to the mold and hardens after a long period of time, a concave scratch may remain on the mold even after the plastic piece is detached. Further, the mold is configured so that the lens molding portion can be removed alone, and there are cases where the portion is scratched when this portion is assembled to the mold body. In this specification, a concave defect of a molded product caused by a plastic piece remaining in a mold in this way, or a convex defect generated in a molded product by shaving the mold itself is generally referred to as a mold flaw. And

【0114】成型品から製品として許容されない程度の
型キズが発見された際には、これを直ちに製造ラインに
フィードバックし、型に付着したプラスチックを除去
し、あるいは型自体を交換する必要がある。
When a mold flaw is found in a molded product that is not acceptable as a product, it is necessary to immediately feed it back to the production line to remove plastic adhered to the mold or replace the mold itself.

【0115】型キズは、光学部材の同一箇所に同一形状
で連続して発生するが、検査員の目視による検査では他
の欠陥との識別が困難であるため、製造ラインへのフィ
ードバックが遅れ、製品の歩留まりが悪くなる。
The mold flaws are continuously generated in the same location on the optical member in the same shape. However, it is difficult for the inspector to visually distinguish the defect from other defects, so that feedback to the production line is delayed. Product yields are poor.

【0116】そこで、実施例の装置では、画像処理技術
を用いて2値化画像から型キズを統計的な手法により判
定する。すなわち、図24に示す型キズ検知処理は、2
値化画像から型キズを統計的な手法により抽出し、原則
として同一箇所に所定の連続検知回数以上連続して出現
する図形を型キズとして検出する。ただし、同一箇所へ
の図形の出現が一時中断した場合にも、所定の不連続許
容回数内に再発した場合には、中断が検出漏れによるも
のと仮定して中断前の出現回数を用いてカウントを再開
する。
Therefore, in the apparatus according to the embodiment, a mold flaw is determined from the binarized image by an image processing technique by a statistical method. That is, the mold flaw detection process shown in FIG.
A pattern flaw is extracted from the digitized image by a statistical method, and a figure which appears in the same place continuously for a predetermined number of consecutive detection times or more is detected as a pattern flaw in principle. However, even if the appearance of a figure in the same place is temporarily interrupted, if it reoccurs within the specified allowable number of discontinuities, it is counted using the number of appearances before the interruption, assuming that the interruption was due to omission of detection. Resume.

【0117】なお、被検物が多数個取りの金型により成
形される場合には、型キズ候補のデータは各キャビティ
毎に保存しておき、検査対象となっている被検物が成形
されたキャビティに応じたデータを逐次読み出して利用
する。
When the test object is molded by a multi-cavity mold, the data of the mold flaw candidates are stored for each cavity, and the test object to be inspected is molded. The data corresponding to the cavity is read out and used sequentially.

【0118】入力は、2値化画像内の図形の重心座標、
図形の個数M、型キズ候補の重心座標、型キズ候補の個
数K、重心座標によって図形の異同を判定する際の位置
誤差マージンR、型キズとみなす連続検知回数S、不連
続許容回数Cの各データである(ステップF-1)。
The input is the coordinates of the center of gravity of the figure in the binarized image,
The number M of figures, the barycenter coordinates of pattern flaw candidates, the number K of pattern flaw candidates, the position error margin R when judging the difference of a figure based on the barycenter coordinates, the number of continuous detections S regarded as a type flaw, and the allowable number of discontinuities C Each data (step F-1).

【0119】なお、検査の開始時には、型キズ候補の数
Kは0であり、検査により型キズと考えられる性状の欠
陥が抽出されると、これらが全て型キズ候補として登録
される。
At the start of the inspection, the number K of mold flaw candidates is 0, and when a defect having a property considered to be a mold flaw is extracted by the examination, all of them are registered as mold flaw candidates.

【0120】以下の処理では、ステップF-2〜17におい
て型キズ候補を基準として一致する図形があるか否かを
判断して既存の型キズ候補の型キズとしての登録、ある
いは候補からの削除を行い、これが終了した後、ステッ
プF-18〜26において図形を基準として既存の型キズ候補
との重複を避けながら新規の型キズ候補の追加を行う。
なお、型キズ候補、図形の個数が共に「0」である場合
には、ステップF-1,2,3,18,19の処理、判断の後、実質
的な処理は行わずに検査ループに戻る。
In the following processing, in steps F-2 to F-17, it is determined whether there is a matching figure based on the pattern defect candidate, and an existing pattern defect candidate is registered as a pattern defect or deleted from the candidate. After this is completed, in steps F-18 to 26, a new mold flaw candidate is added based on the figure while avoiding overlapping with the existing mold flaw candidate.
If both the number of pattern flaw candidates and the number of figures are “0”, after the processing and determination of steps F-1, 2, 3, 18, and 19, the inspection loop is executed without performing substantial processing. Return.

【0121】型キズ候補が存在する場合には、この型キ
ズ候補に一致する図形が存在するか否かを型キズ候補の
重心座標と図形の重心座標との距離に基づいて判断する
(ステップF-2〜8)。型キズに一致する図形が存在する
場合には、出現頻度の指標となる連続出現回数をインク
リメントすると共に連続不出現回数を0にリセットする
(ステップF-9,10)。
If there is a pattern defect candidate, it is determined whether or not there is a pattern matching the pattern defect candidate based on the distance between the barycenter coordinates of the pattern defect candidate and the barycenter coordinates of the pattern.
(Steps F-2 to F-8). If there is a figure that matches the pattern flaw, the number of consecutive appearances, which is an index of the frequency of appearance, is incremented and the number of consecutive non-appearances is reset to zero.
(Step F-9,10).

【0122】連続出現回数が所定の型キズ認知回数S以
上となると、型キズが発生したものと判定し、型キズ検
知フラグをセットしてこの候補を型キズとして登録する
(ステップF-11〜14)。登録されるデータは、型キズの重
心の座標、発見された部品のキャビティ番号、左右いず
れの検査光学系による画像かの区別である。
When the number of continuous appearances is equal to or greater than the predetermined number of times of type defect recognition S, it is determined that a type defect has occurred, a type defect detection flag is set, and this candidate is registered as a type defect.
(Steps F-11 to 14). The registered data is the coordinates of the center of gravity of the mold flaw, the cavity number of the found part, and the distinction between the left and right inspection optical systems.

【0123】全ての図形と照合しても当該型キズ候補と
一致する図形が存在しない場合には、型キズ候補の連続
不出限界数をインクリメントし、これが所定の不連続許
容回数より大きければ型キズ候補を削除し、小さければ
そのまま次の型キズ候補の照合を続ける(ステップF-5,1
6,17,15)。
If there is no figure matching the pattern flaw candidate even after collation with all figures, the continuous non-appearance limit number of the pattern flaw candidate is incremented. The flaw candidates are deleted, and if they are smaller, the matching of the next type flaw candidate is continued as it is (step F-5, 1).
6,17,15).

【0124】全ての型キズ候補の照合が終了すると、次
に各図形について一致する型キズ候補があるか否かを判
断し(ステップF-18〜25)、一致する型キズ候補がない図
形については新規の型キズ候補として追加する(ステッ
プF-26)。
When the matching of all the pattern defect candidates is completed, it is determined whether or not there is a pattern defect candidate matching each figure (steps F-18 to 25). Is added as a new type defect candidate (step F-26).

【0125】上記の処理により、連続して発生する欠陥
を統計的に評価して型キズの発生を検知することができ
る。
According to the above-described processing, it is possible to statistically evaluate continuously occurring defects and detect the occurrence of mold flaws.

【0126】[0126]

【型キズ管理】型キズ管理処理は、発生していた型キズ
の消滅を検知するための処理である。型キズの原因とな
る型に付着したプラスチックは、成形を続ける間に成型
品に付着して型から剥離する場合もあり、型キズ検知処
理で型キズが発生した場合にも、その直後に型キズが消
滅すれば、製造ラインへのフィードバックは不要とな
る。
[Mold flaw management] The mold flaw management processing is processing for detecting disappearance of a generated mold flaw. The plastic that has adhered to the mold that causes the mold flaws may adhere to the molded product and peel off from the mold while molding continues, and even if mold flaws occur during the mold flaw detection process, the If the flaws disappear, no feedback to the production line is required.

【0127】図25に示される型キズ管理処理は、型キ
ズ検知処理を単純化して構成されており、全ての型キズ
について一致する図形があるか否かを判定し(ステップG
-2〜8)、一致する場合には連続不出現回数を0にリセッ
トし、次の型キズの判定を続ける(ステップG-9,10)。
The mold flaw management processing shown in FIG. 25 is configured by simplifying the mold flaw detection processing, and it is determined whether or not there is a matching figure for all the mold flaws (step G).
-2 to 8), if they match, the number of consecutive non-appearances is reset to 0, and the determination of the next pattern flaw is continued (steps G-9 and G10).

【0128】一致する図形が存在しない場合には、連続
不出現回数をインクリメントし(ステップG-11)、これが
所定の不連続許容回数C以上であれば、型キズの登録を
削除して型キズ消去フラグをセットする(ステップG-13,
14)。全ての型キズについての照合が終了すると、検査
ループに戻って処理が続けられる。
If there is no matching figure, the number of consecutive discontinuous occurrences is incremented (step G-11). If the number of discontinuous discontinuities is equal to or greater than the predetermined allowable number of discontinuities C, the registration of the type defect is deleted and the type defect is deleted. Set the erase flag (Step G-13,
14). When the collation for all the type flaws is completed, the process returns to the inspection loop and continues.

【0129】上記の型キズ管理処理により、型キズ検知
処理により検知された型キズが継続して出現している
か、あるいは消滅したかを監視することができ、型キズ
検知処理と組み合わせることにより型キズに関する統計
的な管理が可能となる。
By the above-described mold flaw management processing, it is possible to monitor whether or not the mold flaw detected by the mold flaw detection processing continuously appears or disappears. Statistical management of scratches becomes possible.

【0130】[0130]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、被検物を撮影した画像に基づいて画像処理の手法に
より被検物の欠陥を検出することができるため、光学部
材の客観的で安定した評価が可能となる。また、光軸に
近い中心領域と周辺領域とで拡散透過率が異なる拡散板
を用いることにより、一回の撮影で光学部材に含まれる
性状の異なる2種類の欠陥を同時に検出することができ
る。
As described above, according to the present invention, a defect of a test object can be detected by an image processing method based on an image of the test object. And stable evaluation is possible. In addition, by using a diffusion plate having different diffusion transmittances in the central region and the peripheral region near the optical axis, two types of defects having different properties included in the optical member can be simultaneously detected in one photographing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施例にかかる光学部材検査装置
を示す光学系の概略と処理系のブロックとを含む説明図
である。
FIG. 1 is an explanatory diagram including an outline of an optical system and a processing system block showing an optical member inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1の装置における被検物の形状と拡散手段
の形状とを対比して示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing the shape of a test object and the shape of a diffusion unit in the apparatus of FIG. 1 in comparison.

【図3】 図1の光学系の被検レンズがセットされた状
態での光路を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an optical path in a state where a test lens of the optical system of FIG. 1 is set.

【図4】 図1の装置により撮影される被検レンズに欠
陥がない場合の画像を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing an image in a case where there is no defect in a test lens captured by the apparatus of FIG. 1;

【図5】 図1の装置により撮影される被検レンズに吸
収性の欠陥がある場合の画像を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an image when the test lens captured by the apparatus of FIG. 1 has an absorptive defect.

【図6】 図1の装置により撮影される被検レンズに散
乱性の欠陥がある場合の画像を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an image when the test lens captured by the apparatus of FIG. 1 has a scattering defect.

【図7】 図1の装置により撮影された画像の1走査線
上の輝度分布の例を示し、(A)が原画像の信号、(B)が低
輝度成分を2値化した信号、(C)が高輝度成分を2値化
した信号である。
7 shows an example of a luminance distribution on one scanning line of an image photographed by the apparatus shown in FIG. 1, wherein (A) is a signal of an original image, (B) is a signal obtained by binarizing a low luminance component, and (C) ) Is a signal obtained by binarizing the high luminance component.

【図8】 図1の光学系の被検レンズがセットされない
状態での光路を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an optical path in a state where a test lens of the optical system in FIG. 1 is not set.

【図9】 実施例の装置において負レンズを検査する場
合の構成を示す図1と同様の説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view similar to FIG. 1, showing a configuration for inspecting a negative lens in the apparatus of the embodiment.

【図10】 被検物の例として4個取り金型により成形
された正レンズのランナにより接続された状態を示す斜
視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing an example of a test object connected by a runner of a positive lens formed by a four-piece mold.

【図11】 実施例の光学系を利用した装置の具体的な
構成を示す正面図である。
FIG. 11 is a front view showing a specific configuration of an apparatus using an optical system according to the embodiment.

【図12】 図11の装置の側面図である。FIG. 12 is a side view of the apparatus of FIG. 11;

【図13】 図11の装置の照明ユニットを示す断面図
である。
13 is a sectional view showing a lighting unit of the apparatus shown in FIG.

【図14】 図11の装置の拡散手段の構成を示す平面
図である。
FIG. 14 is a plan view showing a configuration of a diffusion unit of the apparatus of FIG.

【図15】 ランナに接続された状態で図11の装置の
レンズ保持ユニットにセットされた被検レンズ1と、左
右の検査光学系との位置関係を示す説明図である。
15 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a test lens 1 set in a lens holding unit of the apparatus in FIG. 11 in a state where the test lens 1 is connected to a runner, and left and right inspection optical systems.

【図16】 図11の装置の検査処理全体を示すフロー
チャートである。
FIG. 16 is a flowchart showing an entire inspection process of the apparatus of FIG. 11;

【図17】 検査フロー中の領域分離のサブルーチンを
示すフローチャートである。
FIG. 17 is a flowchart showing a subroutine for area separation in the inspection flow.

【図18】 被検レンズがセットされた状態での画像と
その投影分布とを示す説明図である。
FIG. 18 is an explanatory diagram showing an image in a state where a test lens is set and its projection distribution.

【図19】 被検レンズがセットされない状態での画像
とその投影分布とを示す説明図である。
FIG. 19 is an explanatory diagram showing an image in a state where the test lens is not set and its projection distribution.

【図20】 検査フロー中の2値化抽出のサブルーチン
を示すフローチャートである。
FIG. 20 is a flowchart showing a subroutine for binarization extraction in the inspection flow.

【図21】 検査フロー中の刻印分離のサブルーチンを
示すフローチャートである。
FIG. 21 is a flowchart showing a subroutine of engraving separation in the inspection flow.

【図22】 刻印分離処理の原理を示す2値画像の説明
図である。
FIG. 22 is an explanatory diagram of a binary image showing the principle of the marking separation process.

【図23】 検査フロー中の刻印判定のサブルーチンを
示すフローチャートである。
FIG. 23 is a flowchart illustrating a subroutine of marking determination in the inspection flow.

【図24】 検査フロー中の型キズ検知のサブルーチン
を示すフローチャートである。
FIG. 24 is a flowchart showing a subroutine of die flaw detection in the inspection flow.

【図25】 検査フロー中の型キズ管理のサブルーチン
を示すフローチャートである。
FIG. 25 is a flowchart showing a subroutine of die flaw management in the inspection flow.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被検レンズ(正レンズ) 2 被検レンズ(負レンズ) 3 補正レンズ 10 光源 20 拡散手段 21 第1拡散板 22 第2拡散板 23 遮光マスク 30 CCDカメラ 31 撮影レンズ 32 CCDセンサ 40 画像処理装置 50 モニタディスプレイ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Test lens (positive lens) 2 Test lens (negative lens) 3 Correction lens 10 Light source 20 Diffusion means 21 First diffusion plate 22 Second diffusion plate 23 Light shielding mask 30 CCD camera 31 Photo lens 32 CCD sensor 40 Image processing device 50 Monitor display

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木田 敦 東京都板橋区前野町2丁目36番9号 旭 光学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−141342(JP,A) 特開 平1−314955(JP,A) 特開 平7−113756(JP,A) 特開 平7−151704(JP,A) 特開 平6−82382(JP,A) 特開 平6−281588(JP,A) 特開 昭57−37253(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 21/84 - 21/958 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Atsushi Kida 2-36-9 Maeno-cho, Itabashi-ku, Tokyo Asahi Optical Industry Co., Ltd. (56) References JP-A-1-141342 (JP, A) JP-A 1-314955 (JP, A) JP-A 7-113756 (JP, A) JP-A 7-151704 (JP, A) JP-A 6-82382 (JP, A) JP-A 6-281588 (JP) , A) JP-A-57-37253 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01N 21/84-21/958

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光源と、 拡散透過率の高い周辺領域、および拡散透過率の低い中
心領域を有し、前記光源から発した光束を拡散させる拡
散手段と、 該拡散手段を透過して被検物である光学部材を透過した
光束を受光する位置に設けられ、前記周辺領域からの光
と前記中心領域からの光を同時に受光することにより前
記被検物を撮影する単一の撮影手段と、 該撮影手段から出力される画像信号に基づいて前記被検
物の性状の異なる二種類の欠陥を判定する判定手段と、
を備えることを特徴とする光学部材検査装置。
1. A light source, a peripheral region having a high diffuse transmittance and a central region having a low diffuse transmittance, and a diffusing means for diffusing a light beam emitted from the light source; A single photographing means provided at a position for receiving a light beam transmitted through the optical member being an object, and photographing the test object by simultaneously receiving light from the peripheral region and light from the central region, Determining means for determining two types of defects having different properties of the test object based on an image signal output from the imaging means;
An optical member inspection device comprising:
【請求項2】 前記撮影手段は、前記周辺領域からの光
により、前記被検物の含まれない背景領域も撮影するこ
とを特徴とする請求項1に記載の光学部材検査装置。
2. The optical member inspection apparatus according to claim 1, wherein the imaging unit also images a background area not including the test object by using light from the peripheral area.
【請求項3】 前記拡散手段は、前記撮影手段の光軸に
対してほぼ垂直な平板状の部材として設けられているこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学部
材検査装置。
3. The optical member inspection apparatus according to claim 1, wherein the diffusing unit is provided as a plate-like member substantially perpendicular to an optical axis of the photographing unit. .
【請求項4】 前記拡散手段の中心領域は、該中心領域
から垂直に射出した光束の範囲が前記被検物にほぼ一致
するよう設定されていることを特徴とする請求項1から
請求項3のいずれかに記載の光学部材検査装置。
4. The apparatus according to claim 1, wherein the central area of the diffusing means is set such that a range of a light beam emitted perpendicularly from the central area substantially coincides with the test object. The optical member inspection device according to any one of the above.
【請求項5】 前記拡散手段の周辺領域と中心領域と
は、共に前記被検物の平面形状と相似形であることを特
徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学
部材検査装置。
5. The optical member according to claim 1, wherein both the peripheral region and the central region of the diffusing unit have a shape similar to the planar shape of the test object. Inspection equipment.
【請求項6】 前記拡散手段と前記被検物との間に、前
記被検物を透過した光束が前記撮影手段に取り込まれる
よう光束を屈折させる補正レンズが配置されていること
を特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の
光学部材検査装置。
6. A correction lens for refracting a light beam so that a light beam transmitted through the object is taken into the photographing means, between the diffusion unit and the object. The optical member inspection device according to claim 1.
【請求項7】 前記被検物が負レンズである場合に、前
記補正レンズとして正レンズを用いることを特徴とする
請求項6に記載の光学部材検査装置。
7. The optical member inspection apparatus according to claim 6, wherein when the test object is a negative lens, a positive lens is used as the correction lens.
【請求項8】 前記光源、前記拡散手段、前記撮影手段
から構成される検査光学系を複数組備え、該検査光学系
は、前記拡散板の中心領域から前記被検物に入射する光
束の強度と、周辺領域から前記被検物に入射する光束の
強度との割合がそれぞれ異なるよう設定されていること
を特徴とする請求項1から請求項7のいずれかに記載の
光学部材検査装置。
8. An inspection optical system comprising a plurality of inspection optical systems each including the light source, the diffusion unit, and the imaging unit, wherein the inspection optical system has an intensity of a light beam incident on the test object from a central region of the diffusion plate. The optical member inspection apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein a ratio of the intensity of the light beam incident on the test object from a peripheral region is set to be different from each other.
【請求項9】 前記判定手段は、該撮影手段から出力さ
れる画像信号を二値化処理することにより、前記被検物
における性状の異なる二種類の欠陥を判定することを特
徴とする請求項1から請求項8のいずれかに記載の光学
部材検査装置。
9. The image processing apparatus according to claim 1, wherein the determining unit performs a binarization process on the image signal output from the photographing unit to determine two types of defects having different properties in the test object. An optical member inspection apparatus according to any one of claims 1 to 8.
【請求項10】 光源からの光束を拡散透過率が低い中
心領域と拡散透過率が高い周辺領域とを有する拡散手段
により拡散させて被検物に入射させるステップと、 該被検物を透過した光束が達する位置に設けられた単一
の撮影手段により前記被検物を一回だけ撮影するステッ
プと、 前記撮影手段により撮影された前記被検物の画像を入力
するステップと、 入力画像から前記被検物の像が含まれない背景領域と前
記被検物の像が含まれる部品領域とに分離するステップ
と、 分離された部品領域の画像を該部品領域のベース輝度よ
り低い第1の閾値を用いて2値化するステップと、 前記部品領域の画像を該部品領域のベース輝度より高い
第2の閾値を用いて2値化するステップと、 前記2つの2値化ステップで得られた信号をそれぞれ性
状の異なる欠陥として前記被検物の良否を判定するステ
ップと、を有する光学部材検査方法。
10. A step of diffusing a light beam from a light source by a diffusing means having a central region having a low diffuse transmittance and a peripheral region having a high diffuse transmittance and causing the light to enter a test object; and transmitting the light beam through the test object. Photographing the subject only once by a single photographing unit provided at a position where the light beam reaches; inputting an image of the subject photographed by the photographing unit; and Separating a background region not including the image of the test object into a component region including the image of the test object; and a first threshold lower than the base luminance of the separated component region. Binarizing the image of the component region with a second threshold higher than the base luminance of the component region; and a signal obtained in the two binarization steps. The characteristics of each Determining the quality of the test object as the defect.
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