JP3331566B2 - Method for forming terminal electrodes of chip-type electronic components - Google Patents

Method for forming terminal electrodes of chip-type electronic components

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JP3331566B2
JP3331566B2 JP17135293A JP17135293A JP3331566B2 JP 3331566 B2 JP3331566 B2 JP 3331566B2 JP 17135293 A JP17135293 A JP 17135293A JP 17135293 A JP17135293 A JP 17135293A JP 3331566 B2 JP3331566 B2 JP 3331566B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、チップコンデンサ、チ
ップインダクタ、チップ抵抗、チップサーミスタ等のチ
ップ型電子部品の端子電極を形成する方法に関する。更
に詳しくはチップ型電子部品の端子電極を構成する下地
電極形成後のめっき前処理する方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming terminal electrodes of chip-type electronic components such as chip capacitors, chip inductors, chip resistors, and chip thermistors. More specifically, the present invention relates to a method of performing a pre-plating treatment after forming a base electrode constituting a terminal electrode of a chip-type electronic component.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1に示すように、この種の従来のチッ
プ型電子部品、例えば積層セラミックコンデンサ10は
セラミック誘電体からなるベアチップ11と、この相対
向する両端部に形成された下地電極12と、下地電極1
2の表面に形成されためっき層14,15とから構成さ
れ、下地電極12とめっき層14,15は端子電極を形
成する。ベアチップ11の内部には一対の下地電極12
に交互に電気的に接続する内部電極13が設けられる。
下地電極12は金属粉末とガラスフリットと不活性有機
ビヒクルとを混練してつくられた導電性ペーストをベア
チップ11の両端部に塗布し乾燥した後、600〜85
0℃程度の温度で焼成することにより形成される。めっ
き層14,15は下地電極12が形成されたベアチップ
11を電解バレルめっき法又は無電解めっき法のNi,
Cu,Sn,Sn/Pb合金等を含有するめっき液に浸
漬することにより形成される。このような構造の積層セ
ラミックコンデンサ10はその端子電極を所定の基板に
はんだ付けして使用される。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 1, a conventional chip-type electronic component of this kind, for example, a multilayer ceramic capacitor 10 has a bare chip 11 made of a ceramic dielectric and a base electrode 12 formed on both opposite ends thereof. And the underlying electrode 1
2, the base electrode 12 and the plating layers 14, 15 form terminal electrodes. A pair of base electrodes 12 are provided inside the bare chip 11.
Are provided with internal electrodes 13 electrically connected alternately.
The base electrode 12 is coated with a conductive paste made by kneading a metal powder, a glass frit, and an inert organic vehicle on both ends of the bare chip 11, dried, and then subjected to 600 to 85.
It is formed by firing at a temperature of about 0 ° C. The plating layers 14 and 15 are formed by coating the bare chip 11 on which the base electrode 12 is formed with Ni by electrolytic barrel plating or electroless plating.
It is formed by dipping in a plating solution containing Cu, Sn, Sn / Pb alloy and the like. The multilayer ceramic capacitor 10 having such a structure is used by soldering its terminal electrodes to a predetermined substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】一般に、導電性ペース
トの焼成により焼結体となる下地電極には微視的に観察
すると多数のポア(細孔)が形成されている。このた
め、ベアチップをめっき液に浸漬した際には、めっき液
が下地電極のポアに侵入し、捕獲される。このような積
層セラミックコンデンサの端子電極を所定の基板にはん
だ付けするときには、ポア中に捕獲されていためっき液
が沸騰し、蒸発することがある。この場合、下地電極と
ベアチップの界面に空隙を生じて、内部電極に対する下
地電極の導電性が悪化し、この空隙が大きくなると、図
4に示すように、割れ目16となり、この割れ目16に
よって端子電極の部分がベアチップ11から剥離してし
まうという問題点があった。本発明の目的は、チップ型
電子部品の下地電極とめっき層とからなる端子電極を所
定の基板にはんだ付けするときに、端子電極がベアチッ
プから剥離することのないチップ型電子部品の端子電極
形成方法を提供することにある。
Generally, a base electrode which becomes a sintered body by firing a conductive paste has many pores when observed microscopically. For this reason, when the bare chip is immersed in the plating solution, the plating solution enters the pores of the base electrode and is captured. When soldering the terminal electrodes of such a multilayer ceramic capacitor to a predetermined substrate, the plating solution captured in the pores may boil and evaporate. In this case, a gap is formed at the interface between the base electrode and the bare chip, and the conductivity of the base electrode with respect to the internal electrode is deteriorated. When the gap is increased, a crack 16 is formed as shown in FIG. Is peeled off from the bare chip 11. An object of the present invention is to form a terminal electrode of a chip-type electronic component that does not peel off from a bare chip when a terminal electrode composed of a base electrode and a plating layer of the chip-type electronic component is soldered to a predetermined substrate. It is to provide a method.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の構成を図1に基づいて説明する。本発明
は、セラミック材料からなるベアチップ11の相対向す
る両端部に導電性ペーストを塗布し焼付けて一対の下地
電極12を形成し、これらの下地電極12の表面にそれ
ぞれめっき処理することによりめっき層14,15を形
成してチップ型電子部品の端子電極を形成する方法の改
良である。その特徴ある構成は、下地電極12を形成し
た後、めっき層14,15を形成する前にベアチップ1
1を有機溶剤と相溶性のある油中に浸漬し加圧すること
にある。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the configuration of the present invention will be described with reference to FIG. According to the present invention, a pair of base electrodes 12 are formed by applying and baking a conductive paste to opposite ends of a bare chip 11 made of a ceramic material, and the surfaces of the base electrodes 12 are plated. This is an improvement in the method of forming the terminal electrodes of the chip-type electronic component by forming 14 and 15. The characteristic configuration is that the bare chip 1 is formed after the base electrode 12 is formed and before the plating layers 14 and 15 are formed.
1 is immersed in an oil compatible with an organic solvent and pressurized.

【0005】本発明において、油は沸点が少なくとも1
00℃であって、ベアチップ11の浸漬時に60〜90
℃の範囲に維持されることが望ましい。油が下地電極の
ポアにより迅速に侵入するためである。このために油は
シリコーンオイル、アルキッド樹脂系オイル、フッ素樹
脂系オイル等が好適である。特にシリコーンオイルが容
易に入手でき取扱い易いため好ましい。まためっき層の
形成を容易にするために油中に浸漬したベアチップ11
を油中から取出した後、下地電極表面に付着した油を有
機溶剤で除去することが望ましい。このため油は有機溶
剤と相溶性があることが必要である。チップ型電子部品
としては、チップコンデンサ、チップインダクタ、チッ
プ抵抗、チップサーミスタ等が挙げられる。
In the present invention, the oil has a boiling point of at least 1
00 ° C. and 60 to 90 when the bare chip 11 is immersed.
Desirably, it is maintained in the range of ° C. This is because the oil quickly enters the pores of the base electrode. For this purpose, the oil is preferably silicone oil, alkyd resin-based oil, fluororesin-based oil, or the like. In particular, silicone oil is preferable because it is easily available and easy to handle. Also, a bare chip 11 immersed in oil to facilitate formation of a plating layer
It is desirable to remove the oil adhering to the surface of the base electrode with an organic solvent after extracting the oil from the oil. For this reason, the oil needs to be compatible with the organic solvent. Examples of the chip-type electronic component include a chip capacitor, a chip inductor, a chip resistor, and a chip thermistor.

【0006】[0006]

【作用】下地電極12を形成した後、めっき層14,1
5を形成する前にベアチップ11を有機溶剤と相溶性の
ある油中に浸漬し加圧すると、下地電極12のポアに油
が入り込む。めっき層形成のために下地電極を有機溶剤
により洗浄しても有機溶剤はポアに入り込んだ油を除去
しない。めっき時にめっき液がポアに侵入しようとして
もポアは油で充填されているため、めっき液は侵入でき
ない。
After forming the base electrode 12, the plating layers 14, 1
If the bare chip 11 is immersed in an oil compatible with an organic solvent and pressurized before forming 5, the oil enters the pores of the base electrode 12. Even if the base electrode is washed with an organic solvent to form a plating layer, the organic solvent does not remove the oil that has entered the pores. Even if the plating solution attempts to enter the pores during plating, the plating solution cannot enter because the pores are filled with oil.

【0007】[0007]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、め
っき層を形成する前に予め下地電極のポアに油を充填し
ておくので、下地電極をめっき液に浸漬しても、めっき
液は下地電極のポアに侵入できない。これにより、チッ
プ型電子部品の下地電極とめっき層とからなる端子電極
を所定の基板にはんだ付けする際に、下地電極のポア中
にはめっき液が存在しないため、端子電極とベアチップ
の界面に割れ目を生じることなく、端子電極がベアチッ
プから剥離しなくなる。
As described above, according to the present invention, since the pores of the base electrode are filled with oil before forming the plating layer, even if the base electrode is immersed in a plating solution, The liquid cannot enter the pores of the base electrode. With this, when the terminal electrode composed of the base electrode and the plating layer of the chip-type electronic component is soldered to a predetermined substrate, the plating solution does not exist in the pores of the base electrode. The terminal electrode does not peel off from the bare chip without generating a crack.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて比較
例とともに説明する。 <実施例1>図1に示すように、この例ではチップ型電
子部品はチップ型積層セラミックコンデンサ10であ
る。このコンデンサ10を製造するためには、図2に示
すように、先ずAg70/Pd30からなる内部電極1
3を有し、長さ3.2mm、幅1.6mm、厚み0.8
5mmの鉛ペロブスカイト系ベアチップ11を準備し
た。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings together with comparative examples. <Embodiment 1> As shown in FIG. 1, the chip type electronic component is a chip type multilayer ceramic capacitor 10 in this example. In order to manufacture this capacitor 10, as shown in FIG. 2, first, an internal electrode 1 made of Ag70 / Pd30 is used.
3, length 3.2 mm, width 1.6 mm, thickness 0.8
A 5 mm lead perovskite-based bare chip 11 was prepared.

【0009】図3に示すように、下地電極12を次の条
件により形成した。導電性ペースト100重量%とする
とき75重量%の金属粉末と、この金属粉末に対して1
0重量%のガラスフリットと、残部が不活性有機ビヒク
ルとを混練して導電性ペーストを調製した。ここで金属
粉末はAg100重量%からなり、ガラスフリットはP
bO(30重量%)−B23(30重量%)−SiO2
(40重量%)からなる。また有機ビヒクルはエチルセ
ルロースをブチルカルビトールとテルピネオールに混合
したものを用いた。このペーストを焼付け後の厚さが9
0μmになるようにベアチップ11の両端部にディップ
方式で塗布し、大気圧下、150℃で10分間乾燥し
た。このベアチップ11を25℃/分の速度で、大気圧
下、750℃まで昇温しそこで5分間保持した後、20
℃/分の速度で室温まで降温してAgからなる下地電極
12を得た。
As shown in FIG. 3, a base electrode 12 was formed under the following conditions. When the conductive paste is 100% by weight, 75% by weight of metal powder and 1
A conductive paste was prepared by kneading 0% by weight of a glass frit and the remainder being an inert organic vehicle. Here, the metal powder is composed of 100% by weight of Ag, and the glass frit is P
bO (30 wt%) - B 2 O 3 ( 30 wt%) - SiO 2
(40% by weight). The organic vehicle used was a mixture of ethyl cellulose and butyl carbitol and terpineol. The thickness after baking this paste is 9
It was applied to both ends of the bare chip 11 by a dip method so as to have a thickness of 0 μm, and dried at 150 ° C. for 10 minutes under atmospheric pressure. The temperature of the bare chip 11 was raised to 750 ° C. under the atmospheric pressure at a rate of 25 ° C./min.
The temperature was lowered to room temperature at a rate of ° C./min to obtain a base electrode 12 made of Ag.

【0010】このように下地電極12が形成されたベア
チップ11を80℃に昇温されたシリコーンオイルに浸
漬し、等方静水圧プレス機を用いて3kg/cm2の圧
力を5分間加えて、下地電極12のポアにシリコーンオ
イルを充填した。加圧処理されたベアチップ11をシリ
コーンオイル中から引上げてシリコーンオイルと相溶性
のあるトルエン中に浸漬した。ここで超音波洗浄を3分
間行って下地電極12表面に付着した余分なシリコーン
オイルを除去した。その後、トルエン中から引き上げた
ベアチップ11を60〜150℃で乾燥した。
The bare chip 11 on which the base electrode 12 is formed is immersed in a silicone oil heated to 80 ° C., and a pressure of 3 kg / cm 2 is applied for 5 minutes using an isostatic press. The pores of the base electrode 12 were filled with silicone oil. The pressure-treated bare chip 11 was pulled out of the silicone oil and immersed in toluene compatible with the silicone oil. Here, ultrasonic cleaning was performed for 3 minutes to remove excess silicone oil adhering to the surface of the base electrode 12. Thereafter, the bare chip 11 pulled up from the toluene was dried at 60 to 150 ° C.

【0011】このようにシリコーンオイルで処理された
下地電極12の表面にNiめっき層14及びSn/Pb
(はんだ)めっき層15を次の条件により順次形成し
た。pH4.0、温度25℃のスルファミン酸ニッケル
120g/Lの組成の浴を用い、電解バレルめっき法で
下地電極12の表面に2μm厚のNiめっき層14を形
成した。pH4.0、温度25℃の錫(Sn)と鉛(P
b)が9:1の組成の浴を用い、電解バレルめっき法で
Niめっき層の表面に6μm厚のSn/Pbめっき層1
5を形成した。これにより、下地電極12の上に更に2
層のめっき層を形成した積層セラミックコンデンサ10
を得た。Niめっき層14は積層セラミックコンデンサ
10を基板にはんだ付けするときに、はんだによる電極
食われを防止し、Sn/Pbめっき層15ははんだ付け
を容易にする。
On the surface of the base electrode 12 treated with the silicone oil, a Ni plating layer 14 and Sn / Pb
(Solder) plating layers 15 were sequentially formed under the following conditions. Using a bath having a composition of 120 g / L of nickel sulfamate having a pH of 4.0 and a temperature of 25 ° C., a Ni plating layer 14 having a thickness of 2 μm was formed on the surface of the base electrode 12 by electrolytic barrel plating. tin (Sn) and lead (P) at a pH of 4.0 and a temperature of 25 ° C.
b) Using a bath having a composition of 9: 1, the Sn / Pb plating layer 1 having a thickness of 6 μm was formed on the surface of the Ni plating layer by electrolytic barrel plating.
5 was formed. As a result, an additional 2
Ceramic Capacitor 10 with Multiple Plating Layers
I got The Ni plating layer 14 prevents electrode erosion due to solder when soldering the multilayer ceramic capacitor 10 to a substrate, and the Sn / Pb plating layer 15 facilitates soldering.

【0012】<実施例2>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を10kg/cm2にしたことを除いて
は実施例1と同様にして積層セラミックコンデンサを得
た。
Example 2 A multilayer ceramic capacitor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure applied by the isotropic isostatic press was set to 10 kg / cm 2 .

【0013】<実施例3>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を30kg/cm2、その加圧時間を1
0分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を5分間
にしたことを除いては実施例1と同様にして積層セラミ
ックコンデンサを得た。
<Embodiment 3> The pressure applied by an isotropic hydrostatic press is 30 kg / cm 2 , and the pressing time is 1
A multilayer ceramic capacitor was obtained in the same manner as in Example 1, except that the time for ultrasonic cleaning in toluene was set to 5 minutes, and the time for ultrasonic cleaning in toluene was set to 5 minutes.

【0014】<実施例4>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を50kg/cm2、その加圧時間を2
分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を5分間に
したことを除いては実施例1と同様にして積層セラミッ
クコンデンサを得た。
<Embodiment 4> The pressure applied by an isotropic hydrostatic press is 50 kg / cm 2 , and the pressing time is 2
A multilayer ceramic capacitor was obtained in the same manner as in Example 1, except that the time for the ultrasonic cleaning in toluene and the time for the ultrasonic cleaning in toluene were set to 5 minutes.

【0015】<実施例5>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を80kg/cm2、その加圧時間を2
分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を10分間
にしたことを除いては実施例1と同様にして積層セラミ
ックコンデンサを得た。
<Embodiment 5> The pressure applied by an isotropic isostatic press is 80 kg / cm 2 , and the pressing time is 2 kg / cm 2 .
A multilayer ceramic capacitor was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ultrasonic cleaning time in toluene for 10 minutes was changed to 10 minutes.

【0016】<実施例6>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を100kg/cm2、その加圧時間を
1分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を60分
間にしたことを除いては実施例1と同様にして積層セラ
ミックコンデンサを得た。
Example 6 Except that the pressure applied by an isotropic isostatic press was 100 kg / cm 2 , the pressurizing time was 1 minute, and the ultrasonic cleaning time in toluene was 60 minutes. In the same manner as in Example 1, a multilayer ceramic capacitor was obtained.

【0017】<実施例7>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を200kg/cm2、その加圧時間を
1分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を2分間
にしたことを除いては実施例1と同様にして積層セラミ
ックコンデンサを得た。
Example 7 Except that the pressure applied by an isotropic isostatic press was 200 kg / cm 2 , the pressurizing time was 1 minute, and the ultrasonic cleaning time in toluene was 2 minutes. In the same manner as in Example 1, a multilayer ceramic capacitor was obtained.

【0018】<実施例8>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を300kg/cm2、その加圧時間を
3分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を15分
間にしたことを除いては実施例1と同様にして積層セラ
ミックコンデンサを得た。
Example 8 Except that the pressure applied by an isotropic isostatic press was 300 kg / cm 2 , the pressurizing time was 3 minutes, and the ultrasonic cleaning time in toluene was 15 minutes. In the same manner as in Example 1, a multilayer ceramic capacitor was obtained.

【0019】<実施例9>等方静水圧プレス機によって
加えられる圧力を500kg/cm2、その加圧時間を
1分間、及びトルエン中での超音波洗浄の時間を30分
間にしたことを除いては実施例1と同様にして積層セラ
ミックコンデンサを得た。
Example 9 Except that the pressure applied by an isotropic isostatic press was 500 kg / cm 2 , the pressurizing time was 1 minute, and the ultrasonic cleaning time in toluene was 30 minutes. In the same manner as in Example 1, a multilayer ceramic capacitor was obtained.

【0020】<比較例1>下地電極12が形成されたベ
アチップ11をシリコーンオイルに含浸処理しなかった
ことを除いては実施例1と同様にして積層セラミックコ
ンデンサを得た。
Comparative Example 1 A multilayer ceramic capacitor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bare chip 11 on which the base electrode 12 was formed was not impregnated with silicone oil.

【0021】<測定と評価>上記実施例1〜9及び比較
例1で作製した積層セラミックコンデンサをピンセット
で掴んで、400℃に保持されたはんだ浴の中に3秒間
浸漬した後、引上げて、端子電極がベアチップから剥離
したか否かを積層セラミックコンデンサの容量値をはん
だ浴に浸漬する前後で測定することによって判定した。
その結果を表1に示す。表1において、数値nは試験し
た試料数である。
<Measurement and Evaluation> The multilayer ceramic capacitors produced in Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 were gripped with tweezers, immersed in a solder bath maintained at 400 ° C. for 3 seconds, and then pulled up. Whether or not the terminal electrode was separated from the bare chip was determined by measuring the capacitance value of the multilayer ceramic capacitor before and after immersion in the solder bath.
Table 1 shows the results. In Table 1, the numerical value n is the number of samples tested.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】表1から明かなように、本発明の実施例1
〜9の方法によって得られた積層セラミックコンデンサ
についてはいずれのシリコーンオイルの含浸条件でも容
量値が低下した試料はゼロであり、端子電極がベアチッ
プから剥離してしまうという不都合は生じない。これに
対して、シリコーンオイルを加圧含浸されていない比較
例1の積層セラミックコンデンサについては試験された
100個の試料のうち78個について容量値が低下して
おり、高い割合で端子電極がベアチップから剥離してい
ることが判明した。
As is clear from Table 1, Example 1 of the present invention
Regarding the multilayer ceramic capacitors obtained by the methods of Nos. 9 to 9, the sample whose capacitance value was reduced under any of the conditions of impregnation with silicone oil was zero, and there was no inconvenience that the terminal electrode was peeled off from the bare chip. On the other hand, with respect to the multilayer ceramic capacitor of Comparative Example 1 which was not impregnated with the silicone oil under pressure, the capacitance value of 78 out of 100 tested samples was reduced, and the terminal electrode was bare chipped at a high rate. It was found that the film had peeled off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】積層セラミックコンデンサの断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor.

【図2】その下地電極を形成する前のベアチップの断面
図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a bare chip before forming a base electrode.

【図3】その下地電極を形成した後のベアチップの断面
図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the bare chip after the base electrode is formed.

【図4】従来例の積層セラミックコンデンサの端子電極
がベアチップから剥離した状態を示す断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which terminal electrodes of a conventional multilayer ceramic capacitor are separated from a bare chip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 積層セラミックコンデンサ 11 ベアチップ 12 下地電極 13 内部電極 14,15 めっき層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Multilayer ceramic capacitor 11 Bare chip 12 Base electrode 13 Internal electrode 14, 15 Plating layer

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 セラミック材料からなるベアチップ(11)
の相対向する両端部に導電性ペーストを塗布し焼付けて
下地電極(12)を形成し、前記下地電極(12)の表面にめっ
き処理することによりめっき層(14,15)を形成してチッ
プ型電子部品の端子電極を形成する方法において、 前記下地電極(12)を形成した後、めっき層(14,15)を形
成する前に前記ベアチップ(11)を有機溶剤と相溶性のあ
る油中に浸漬し加圧することを特徴とするチップ型電子
部品の端子電極形成方法。
1. A bare chip (11) made of a ceramic material.
A conductive paste is applied to the opposite ends of the substrate and baked to form a base electrode (12), and a plating layer (14, 15) is formed by plating the surface of the base electrode (12) to form a chip. In the method of forming a terminal electrode of a die-type electronic component, after forming the base electrode (12) and before forming a plating layer (14, 15), the bare chip (11) is mixed with an organic solvent compatible oil. A method for forming a terminal electrode of a chip-type electronic component, wherein the terminal electrode is immersed and pressed.
【請求項2】 油の沸点が少なくとも100℃であっ
て、ベアチップ(11)の浸漬時に油が60〜90℃の範囲
に維持される請求項1記載のチップ型電子部品の端子電
極形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the oil has a boiling point of at least 100 ° C., and the oil is maintained in the range of 60 to 90 ° C. when the bare chip (11) is immersed.
【請求項3】 油がシリコーンオイルである請求項2記
載のチップ型電子部品の端子電極形成方法。
3. The method according to claim 2, wherein the oil is a silicone oil.
【請求項4】 油中に浸漬したベアチップ(11)を油中か
ら取出した後、下地電極(12)表面に付着した油を有機溶
剤で除去する請求項1記載のチップ型電子部品の端子電
極形成方法。
4. The terminal electrode of a chip-type electronic component according to claim 1, wherein after removing the bare chip (11) immersed in the oil from the oil, the oil adhering to the surface of the base electrode (12) is removed with an organic solvent. Forming method.
JP17135293A 1993-07-12 1993-07-12 Method for forming terminal electrodes of chip-type electronic components Expired - Fee Related JP3331566B2 (en)

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