JP3310434B2 - ホスホノカルボン酸およびホスフイノカルボン酸の弗素化されたカルボン酸エステル - Google Patents

ホスホノカルボン酸およびホスフイノカルボン酸の弗素化されたカルボン酸エステル

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、ホスホノカルボン酸およびホス
フィノカルボン酸の弗素化されたカルボン酸エステル並
びに表面活性剤としてのそれらの使用に関する。
【０００２】それらの高い表面活性度のために、ペルフ
ルオロアルキル基−含有化合物類はフルオロ−表面活性
剤として産業において多くの用途を有している。典型的
な用途には、フィルムコーテイング、塗料、食洗機用洗
剤およびクリーニング剤中での架橋結合剤および乳化剤
および流動性改良剤としての用途が包含される（例えば
「ウルマンス・エンツィクロペディ・デル・テクニッシ
ェン・ヘミイ(Ullmanns Enzyklopaedie der technische
n Chemie)、４版、１９８２、２２巻、５００頁」参
照）。表面処理および電気メッキが、例えば湿潤性問題
を解決し、担持および蒸発による損失を減少させ、そし
て表面仕上げを改良するために使用される別分の野であ
る（「Ｊ.Ｎ.メウスドエルフェル(Meuβdoerffer)およ
びＨ.ニエデルプルム(Niederpruem)、ヘミケルツァイツ
ング(Chemikerzeitung)、１０４（１９８０）、４５−
５２頁」参照）。
【０００３】そのようなフルオロ−表面活性剤の例は、
ペルフルオロカルボン酸またはスルホン酸の塩類および
ポリエーテル−置換されたペルフルオロアルキル化合物
である（「Ｈ.Ｇ.クライン(Klein)、Ｊ.Ｎ.メウスドエ
ルフェル(Meuβdoerffer)およびＨ.ニエデルプルム(Nie
derpruem)、メタロベルフレッヘ(Metalloberflaeche)２
９（１９７５）、５５９−５６７頁」参照）。「Ｊ.Ｎ.
メウスドエルフェル(Meuβdoerffer)およびＨ.ニエデル
プルム(Niederpruem)、ヘミケルツァイツング(Chemiker
zeitung)１０４（１９８０）、４５−５２頁」は合成工
程を記載している。上記のフルオロ−表面活性剤用の弗
素化された出発化合物は３種の合成工程： ａ）電気化学的弗素化、 ｂ）ペルフルオロオレフィン類、特にテトラフルオロエ
チレン、のテロマー化、 ｃ）テトラフルオロエチレンのオリゴマー化 により工業的に入手可能である。
【０００４】過弗素化された出発化合物の上記の製造方
法は費用のかかる技術を使用するため、ペルフルオロ基
−含有化学化合物の製造には非常に費用がかかる。
【０００５】目的は、表面活性物質として使用すること
ができそして容易に且つ安価に製造されるフルオロ基−
含有の有機−改質された表面活性剤を得ることである。
【０００６】この目的は、本発明に従うホスホノカルボ
ン酸またはホスフィノカルボン酸の弗素化されたカルボ
ン酸エステルにより達成された。
【０００７】本発明の目的は、一般式（Ｉ）
【０００８】
【化４】 ［式中、Ｒ1はヒドロキシル基、メチル基、エチル基ま
たはフェニル基であり、ＲFは炭素数１−１８の直鎖状
もしくは分枝鎖状のフルオロアルキル基または炭素数１
−１８の直鎖状もしくは分枝鎖状の弗素化されたモノエ
ーテルもしくはポリエーテルであり、ＲHは炭素数１−
１０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基であり、Ｙ
は であり、Ｚは炭素数１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状
のアルキレン基、またはそれ自体がＣ1−Ｃ10‐アルキ
ル基もしくはアリール基により置換されていてもよいア
ミノ基により中断されている炭素数１−２０の直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキレン基、または１個以上の構造
−ＣＯＲ2の基により置換されている炭素数１−２０の
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基、または１個以
上の構造−ＰＯ3ＨＲ1の基により置換されている炭素数
１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基であ
り、ここでＲ1は上記と同じ意味を有し、ｍは０または
１であり、ｎは０−６の整数であり、そしてＲ2はヒド
ロキシル基または 炭素数１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ
基であり、ここでｎ、ｍ、ＲH、ＲFおよびＹは上記と同
じ意味を有する］のホスホノカルボン酸またはホスフィ
ノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボン酸エ
ステル並びにそれらの塩である。
【０００９】ホスホノカルボン酸またはホスフィノカル
ボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボン酸エステル
は好適には、ＲFが炭素数３−１０の直鎖状もしくは分
枝鎖状のフルオロアルキル基であるものである。
【００１０】ＲHが炭素数１または２のアルキル基であ
るホスホノカルボン酸またはホスフィノカルボン酸のフ
ルオロアルキル基−含有カルボン酸エステルが好適であ
る。ｎが１または２であるホスホノカルボン酸またはホ
スフィノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボ
ン酸エステルが特に好適である。
【００１１】ｍが１であるホスホノカルボン酸またはホ
スフィノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボ
ン酸エステルが特に好適である。
【００１２】特に好適なホスホノカルボン酸のフルオロ
アルキル基−含有カルボン酸エステルは例えば下記の構
造を示す：
【００１３】
【化５】
【００１４】
【化６】
【００１５】下記のリスト中に示されている基が特に好
適である： ＲFの例： ＣＦ3−(ＣＦ2)2− ＣＦ3−(ＣＦ2)3− ＣＦ3−(ＣＦ2)5− ＣＦ3−(ＣＦ2)6− ＣＦ3−(ＣＦ2)7− ＣＦ3−(ＣＦ2)11− Ｃ6Ｆ5− ＣＦ3−Ｃ6Ｆ4− Ｈ−(ＣＦ2)6− Ｈ−(ＣＦ2)2−Ｏ− ＣＦ3−ＣＨＦ−ＣＦ2−Ｏ− ＣＦ3−ＣＦ2−ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ(ＣＦ3)− ＣＦ3−ＣＦ2−[ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ(ＣＦ3)]2− ＣＦ3−ＣＦ2−[ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ(ＣＦ3)]3−。
【００１６】Ｚの例： −ＣＨ2−、−ＣＨ(ＣＨ3)−、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ(ＣＨ3)−、−ＣＨ(ＣＨ3)−ＣＨ2−、−ＣＨ
2−ＣＨ2−ＣＨ2−、−ＣＨ(ＣＯＯＨ)−ＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ(ＣＨ2−ＣＯＯＨ)−、−ＣＨ(ＣＨ2−ＣＨ2
−ＣＯＯＨ)−ＣＨ2−、−ＣＨ[−ＣＨ(ＣＯＯＨ)(ＰＯ
3Ｈ2)]−、−ＣＨ(ＯＨ)−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＯＯＨ)(Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2−ＣＯＯＨ)−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＯＯＨ)(Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2)−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＯＯＨ)(−
ＣＨ(ＣＯＯＨ)−ＣＨ2−ＣＯＯＨ)−、−ＣＨ(ＣＨ2−
ＣＨ2−ＣＯＯＨ)−、−ＣＨ(ＣＨ2−ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2)
−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＯＯＨ)2−、−Ｃ(ＣＨ2−
ＣＨ2−ＣＯＯＨ)(ＣＨ2)−ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2)−、−Ｃ
(ＣＨ2−ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2)2−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＯＯＨ)
(ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＮ)−、−ＣＨ(ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＮ)
−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＮ)2−、−Ｃ(ＣＨ2−ＣＨ2
−ＣＮ)(ＣＨ2)−ＣＨ2)−ＰＯ3Ｈ2)−、−Ｃ(ＯＨ)(Ｃ
Ｈ3)−ＣＨ2−、−Ｃ(ＯＨ)(ＣＨ3)−ＣＨ2−、−Ｃ(Ｏ
Ｈ)(ＣＨ3)−ＣＨ(ＣＯＯＨ)−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｎ
(ＣＨ2−ＰＯ3Ｈ2)−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｎ(ＣＨ2−Ｃ
ＯＯＨ)−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＮＨ−(ＣＨ2−,−ＣＨ2
−ＮＨ−ＣＨ(ＣＨ3)−、−ＣＨ2−Ｎ(ＣＨ2−ＰＯ
3Ｈ2)(ＣＨ(ＣＨ3))−。
【００１７】本発明に従うホスホノカルボン酸またはホ
スフィノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボ
ン酸エステルは、例えば、対応するホスホノカルボン酸
またはホスフィノカルボン酸或いはそれらの塩類とフル
オロ基−含有アルコールとの間のエステル化反応におい
て一段階合成により製造することができる： [Ｒ1(ＨＯ)Ｐ(Ｏ)-Ｚ-ＣＯＯ]x -Ａx+ ＋ ｘＨＯ(ＣＨ2)n-[Ｎ(ＲH)]m-Ｙm-ＲF → Ｒ1(ＨＯ)Ｐ(Ｏ)-Ｚ-ＣＯＯ-(ＣＨ2)n-[Ｎ(ＲH)]m-Ｙm-ＲF ＋ (ＨＯ)xＡ ［式中、ＲF、ＲH、Ｙ、Ｚ、ｍおよびｎは上記と同じ意
味を有し、Ａは水素カチオン、アンモニウムカチオンま
たは１価もしくは多価の金属カチオンであり、ｘはカチ
オンＡの電荷に対応する整数である］。
【００１８】本発明の他の目的は、表面活性剤としての
ホスホノカルボン酸またはホスフィノカルボン酸のフル
オロアルキル基−含有カルボン酸エステルの使用であ
る。
【００１９】本発明に従うホスホノカルボン酸またはホ
スフィノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボ
ン酸エステルの高い表面活性度のために、高度に効率的
な表面活性剤として作用させることができ、例えば下記
の用途分野において有用となる：（例えばクロム、銅お
よびニッケル電気メッキ、陽極処理並びに電気分解脱脂
用の）電気分解方法、そこでは本発明に従う化合物類を
噴霧抑制剤としてそして担持による損失を防止するため
に加えることができる。
【００２０】（例えば化学的な銅もしくはニッケルメッ
キ、化学的な脱脂または錆除去、エッチングもしくは型
彫、浸漬式光沢コーテイング、酸洗い、ブロンズ光沢処
理もしくは受動加工、陽極酸化またはストリッピングに
おける）非−電気分解浴方法、そこでは本発明に従う化
合物を噴霧抑制剤としておよびクリーニング助剤として
加えることができる。
【００２１】本発明に従う化合物はクリーニング剤およ
びケア製品（例えば、ガラス、オーブン、車、建物、外
側もしくは金属表面用のクリーニング剤；汚れ除去剤；
シャンプー；家具、車などに対する使用のための磨き
剤；自己光沢性乳化剤中；またはワックス）に対して、
流動性改良剤、延展剤および架橋結合剤として並びに再
汚染を防止する性質を強化させるために加えることがで
きる。
【００２２】（例えばガラス、金属もしくはプラスチッ
ク上の）抗−沈着剤としてまたは曇りを防止するため
に、本発明に従う化合物をそのままで使用することもで
き或いはそれらを調合物において使用することもでき
る。
【００２３】（例えば重合反応中；充填剤、繊維、塩類
もしくは磁性固体用；塗料中；または血液代用製品中
の）腐食抑制剤または抗−腐食コーテイングとして、本
発明に従う化合物をそのままで使用することもでき或い
はそれらを調合物において使用することもできる。
【００２４】それらが気体−密封性遮蔽層を形成しそし
てその結果として流体の蒸発を防止するというそれらの
傾向のために、本発明に従う化合物類は消火添加物とし
ても適する。
【００２５】本発明に従う化合物は型潤滑剤として使用
できる。
【００２６】塗料およびワニスに対する本発明に従う化
合物の添加が、改良された流動性、架橋結合性および接
着性を与える。それらはさらに、空気の真空排気を促進
させることにより表面欠陥（例えばへこみまたは端部か
らの収縮）の生成も防止する。それらの添加により、改
良された顔料の分布も得られる。本発明に従う化合物類
の非−発泡性安定化作用は、水で薄めることができる塗
料の製造用工程において特に有利である。
【００２７】本発明に従う化合物が疎水性および疎油性
遮蔽層を生成する傾向のために、それらを建物の（環境
の影響から絶縁するための）保護用試薬において使用す
ることができる。
【００２８】本発明に従う化合物は（例えば鉱油もしく
は鉱物塩中、磁性コンベア上または建物材料中の）流動
剤または円滑剤として使用することができる。
【００２９】本発明に従う化合物は潤滑剤、切削油添加
物または水圧油として適する。
【００３０】本発明に従う化合物は（例えば油きりもみ
生産量を増加させるための）きりもみ助剤物質として使
用することができる。
【００３１】本発明に従う化合物は写真化学物質中また
はフィルム製造において（例えば架橋結合剤または静電
防止剤として）使用することができる。
【００３２】本発明に従う化合物はプラント保護製品に
おいて（例えば架橋結合剤または流動性改良剤として）
使用することができる。
【００３３】織物、皮革または紙仕上げ剤に対する本発
明に従う化合物の添加が、例えば、仕上げ剤の湿潤性も
しくは透過性を改良し、非発泡化をもたらし、または仕
上げ剤の疎水性／疎油性活性を強化させることができ
る。
【００３４】本発明に従う化合物は（例えばプラスチッ
ク中で）難燃剤として使用することができる。
【００３５】本発明に従う化合物はさらに液晶として使
用することもできる。
【００３６】本発明を以下の実施例によりさらに詳細に
説明する。
【００３７】
【実施例】実施例１ 撹拌装置および水分離器を有する三首フラスコ中で０.
５モル（１７８.５ｇ）のＮ−(２−ヒドロキシエチル)
−Ｎ−メチル−ペルフルオロブチルスルホンアミドを１
５０ｍｌの４−メチルペンタン−２−オン中に溶解さ
せ、その後に０.５ｍｌの濃硫酸を加えた。この溶液を
加熱還流した（１１６℃）。０.５モル（７７ｇ）の３
−ホスホノプロパン酸を次に還流下でゆっくり加えた。
全ての水（０.５モル）が反応混合物から蒸留されるま
で温度を還流温度（１００℃）に保ち、そして温度を再
び１１６℃に高めた。
【００３８】溶媒を次に１１６℃において蒸留除去し、
そして得られた生成物を５０℃および５０ミリバールに
おいて乾燥した。希望する３−ホスホノプロパン酸のフ
ルオロ基−含有カルボン酸の収量は２３８.６ｇ（理論
収率の９６.８％に相当する）であった。０.１％水溶液
の表面張力は２８.１ｍＮ／ｍであり、そして対応する
１％溶液のものは２０.４ｍＮ／ｍであった（環表面張
力計エクスラウダを用いて測定された）。
【００３９】実施例２ 撹拌装置および水分離器を有する三首フラスコ中で０.
５モル（２７８.５ｇ）のＮ−(２−ヒドロキシエチル)
−Ｎ−メチル−ペルフルオロオクチルスルホンアミドを
１５０ｍｌの４−メチルペンタン−２−オン中に溶解さ
せ、その後に０.５ｍｌの濃硫酸を加えた。この溶液を
加熱還流した（１１６℃）。０.５モル（７７ｇ）の３
−ホスホノプロパン酸を次に還流下でゆっくり加えた。
全ての水（０.５モル）が反応混合物から蒸留されるま
で温度を還流温度（１００℃）に保ち、そして温度を再
び１１６℃に高めた。
【００４０】溶媒を次に１１６℃において蒸留除去し、
そして得られた生成物を５０℃および５０ミリバールに
おいて乾燥した。希望する３−ホスホノプロパン酸のフ
ルオロ基−含有カルボン酸の収量は３４２.２ｇ（理論
収率の９８.８％に相当する）であった。０.１％水溶液
の表面張力は３１ｍＮ／ｍであった（環表面張力計エク
スラウダを用いて測定された）。
【００４１】実施例３ 撹拌装置および水分離器を有する三首フラスコ中で０.
４モル（２２２.８ｇ）のＮ−(２−ヒドロキシエチル)
−Ｎ−メチル−ペルフルオロオクチルスルホンアミドを
１５０ｍｌの４−メチルペンタン−２−オン中に溶解さ
せ、その後に０.５ｍｌの濃硫酸を加えた。この溶液を
加熱還流した（１１６℃）。０.２モル（３９.６ｇ）の
ホスホノエタン−１,２−ジカルボン酸を次に還流下で
ゆっくり加えた。全ての水（０.４モル）が反応混合物
から蒸留されるまで温度を還流温度（１００℃）に保
ち、そして温度を再び１１６℃に高めた。
【００４２】溶媒を次に１１６℃において蒸留除去し、
そして得られた生成物を５０℃および５０ミリバールに
おいて乾燥した。希望するホスホノエタン−１,２−ジ
カルボン酸のフルオロ基−含有カルボン酸の収量は２４
７ｇ（理論収率の９６.８％に相当する）であった。０.
１％水溶液の表面張力は３４.５ｍＮ／ｍであり、そし
て対応する１％溶液のものは２８.４ｍＮ／ｍであった
（環表面張力計エクスラウダを用いて測定された）。
【００４３】実施例４ 撹拌装置および水分離器を有する三首フラスコ中で３.
０モル（１０７１ｇ）のＮ−(２−ヒドロキシエチル)−
Ｎ−メチル−ペルフルオロブチルスルホンアミドを８５
０ｍｌのクロロベンゼン中に溶解させ、その後に３ｍｌ
の濃硫酸を加えた。この溶液を１２０℃に加熱した。
１.０モル（５４.０ｇ）の２−ホスホノブタン−１,２,
４−トリカルボン酸を次にゆっくり加えた。添加が完了
した時に、全ての水（０.６モル）が反応混合物から蒸
留されるまで温度を還流温度（１００℃）に保ち、そし
て温度を再び１１６℃に高めた。
【００４４】溶媒を次に７０℃および７０ミリバールに
おいて蒸留除去し、そして得られた生成物を完全に乾燥
した。希望する２−ホスホノブタン−１,２,４−トリカ
ルボン酸のフルオロ基−含有カルボン酸の収量は１２８
１ｇ（理論収率の９９.５％に相当する）であった。０.
１％水溶液の表面張力は２２.４ｍＮ／ｍであった（環
表面張力計エクスラウダを用いて測定された）。
【００４５】実施例５ 撹拌装置および水分離器を有する三首フラスコ中で０.
４モル（２２２.８ｇ）のＮ−(２−ヒドロキシエチル)
−Ｎ−メチル−ペルフルオロオクチルスルホンアミドを
１５０ｍｌの４−メチルペンタン−２−オン中に溶解さ
せ、その後に０.５ｍｌの濃硫酸を加えた。この溶液を
加熱還流した（１１６℃）。０.２モル（５４ｇ）の２
−ホスホノブタン−１,２,４−トリカルボン酸を次に還
流下でゆっくり加えた。全ての水（０.４モル）が反応
混合物から蒸留されるまで温度を還流温度（１００℃）
に保ち、そして温度を再び１１６℃に高めた。
【００４６】溶媒を次に１１６℃において蒸留除去し、
そして得られた生成物を５０℃および５０ミリバールに
おいて乾燥した。希望する２−ホスホノブタン−１,２,
４−トリカルボン酸のフルオロ基−含有カルボン酸の収
量は２６８ｇ（理論収率の９９.４％に相当する）であ
った。０.１％水溶液の表面張力は２８.２ｍＮ／ｍであ
り、そして対応する１％溶液のものは２７.６ｍＮ／ｍ
であった（環表面張力計エクスラウダを用いて測定され
た）。
【００４７】本発明の主なる特徴および態様は以下のと
おりである。
【００４８】１.一般式（Ｉ）
【００４９】
【化７】 ［式中、Ｒ1はヒドロキシル基、メチル基、エチル基ま
たはフェニル基であり、ＲFは炭素数１−１８の直鎖状
もしくは分枝鎖状のフルオロアルキル基または炭素数１
−１８の直鎖状もしくは分枝鎖状の弗素化されたモノエ
ーテルもしくはポリエーテルであり、ＲHは炭素数１−
１０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基であり、Ｙ
は であり、Ｚは炭素数１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状
のアルキレン基、またはそれ自体がＣ1−Ｃ10‐アルキ
ル基もしくはアリール基により置換されていてもよいア
ミノ基により中断されている炭素数１−２０の直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキレン基、または１個以上の構造
−ＣＯＲ2の基により置換されている炭素数１−２０の
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基、または１個以
上の構造−ＰＯ3ＨＲ1の基により置換されている炭素数
１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基であ
り、ここでＲ1は上記と同じ意味を有し、ｍは０または
１であり、ｎは０−６の整数であり、そしてＲ2はヒド
ロキシル基または 炭素数１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ
基であり、ここでｎ、ｍ、ＲH、ＲFおよびＹは上記と同
じ意味を有する］のホスホノカルボン酸またはホスフィ
ノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボン酸エ
ステル、並びに該フルオロアルキル基−含有カルボン酸
エステルの塩。
【００５０】２．ＲFが炭素数３−１０の直鎖状もしく
は分枝鎖状のフルオロアルキル基である、上記１のホス
ホノカルボン酸またはホスフィノカルボン酸のフルオロ
アルキル基−含有カルボン酸エステル。
【００５１】３．ＲHが炭素数１または２のアルキル基
である、上記１のホスホノカルボン酸またはホスフィノ
カルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボン酸エス
テル。 ４．ｎが１または２である、上記１のホスホノカルボン
酸またはホスフィノカルボン酸のフルオロアルキル基−
含有カルボン酸エステル。
【００５２】５．ｍが１である、上記１のホスホノカル
ボン酸またはホスフィノカルボン酸のフルオロアルキル
基−含有カルボン酸エステル。
【００５３】６．一段階合成において式（II）
【００５４】
【化８】
【００５５】［式中、Ａは水素カチオン、アンモニウム
カチオンまたは１価もしくは多価の金属カチオンであ
り、ｘはカチオンＡの電荷に対応する整数であり、そし
てＲ1およびＺは上記１中と同じ意味を有する］の対応
するホスホノカルボン酸またはホスフィノカルボン酸或
いはそれらの塩を式（III）
【００５６】
【化９】 ［式中、ｎ、ｍ、ＲH、ＹおよびＲFおよびＹは上記１中
と同じ意味を有する］の対応するフルオロ基−含有アル
コールを用いてエステル化する上記１のホスホノカルボ
ン酸またはホスフィノカルボン酸のフルオロアルキル基
−含有カルボン酸エステルの製造方法。
【００５７】７．表面活性剤として上記１のホスホノカ
ルボン酸またはホスフィノカルボン酸のフルオロアルキ
ル基−含有カルボン酸エステルをそれら自体で使用する
かまたは調合物に加えることを特徴とする該フルオロア
ルキル基−含有カルボン酸エステル類の使用方法。
【００５８】８．該エステルが下記の構造：
【００５９】
【化１０】
【００６０】
【化１１】
【００６１】の１種を有する、上記１のフルオロアルキ
ル基−含有カルボン酸エステル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｆ 17/42 Ｂ０１Ｆ 17/42 Ｃ０７Ｆ 9/30 Ｃ０７Ｆ 9/30 (73)特許権者 591063187 Ｄ−51368 Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇ ｅｒｍａｎｙ (72)発明者 コルネリア・デルツバツハ−ランゲ ドイツ連邦共和国デー51515キユルテン −ベヘン・アマーベーク31 (72)発明者 ハンス−ハインリヒ・モレツト ドイツ連邦共和国デー51375レーフエル クーゼン・ズユルダーシユトラーセ50 (56)参考文献 特開 昭62−205093（ＪＰ，Ａ) 米国特許4293441（ＵＳ，Ａ) 西独国特許出願公開2439281（ＤＥ, Ａ１) 西独国特許出願公開2424243（ＤＥ, Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1はヒドロキシル基、メチル基、エチル基ま
    たはフェニル基であり、ＲFは炭素数１−１８の直鎖状
    もしくは分枝鎖状のフルオロアルキル基または炭素数１
    −１８の直鎖状もしくは分枝鎖状の弗素化されたモノエ
    ーテルもしくはポリエーテルであり、ＲHは炭素数１−
    １０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基であり、Ｙ
    は であり、Ｚは炭素数１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状
    のアルキレン基、またはそれ自体がＣ1−Ｃ10‐アルキ
    ル基もしくはアリール基により置換されていてもよいア
    ミノ基により中断されている炭素数１−２０の直鎖状も
    しくは分枝鎖状のアルキレン基、または１個以上の構造
    −ＣＯＲ2の基により置換されている炭素数１−２０の
    直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基、または１個以
    上の構造−ＰＯ3ＨＲ1の基により置換されている炭素数
    １−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基であ
    り、ここでＲ1は上記と同じ意味を有し、ｍは０または
    １であり、ｎは０−６の整数であり、そしてＲ2はヒド
    ロキシル基または 炭素数１−２０の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ
    基であり、ここでｎ、ｍ、ＲH、ＲFおよびＹは上記と同
    じ意味を有する］のホスホノカルボン酸またはホスフィ
    ノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボン酸エ
    ステル、並びに該フルオロアルキル基−含有カルボン酸
    エステルの塩類。
  2. 【請求項２】 一段階合成において式（II） 【化２】 ［式中、Ａは水素カチオン、アンモニウムカチオンまた
    は１価もしくは多価の金属カチオンであり、ｘはカチオ
    ンＡの電荷に対応する整数であり、そしてＲ1およびＺ
    は請求項１におけると同じ意味を有する］の対応するホ
    スホノカルボン酸またはホスフィノカルボン酸或いはそ
    れらの塩類を式（III） 【化３】 ［式中、ｎ、ｍ、ＲH、ＹおよびＲFおよびＹは請求項１
    におけると同じ意味を有する］の対応するフルオロ基−
    含有アルコール類を用いてエステル化することを特徴と
    する請求項１に記載のホスホノカルボン酸またはホスフ
    ィノカルボン酸のフルオロアルキル基−含有カルボン酸
    エステルの製造方法。
  3. 【請求項３】 表面活性剤として請求項１に記載のホス
    ホノカルボン酸またはホスフィノカルボン酸のフルオロ
    アルキル基−含有カルボン酸エステルをそれら自体で使
    用するかまたは調合物に加えることを特徴とする該フル
    オロアルキル基−含有カルボン酸エステルの使用方法。
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