JP3288464B2 - Ultrasonic cleaning method of development residue - Google Patents

Ultrasonic cleaning method of development residue

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【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトエッチング、パターンエッチング等のフォトファブリケーションにおいて、ガラス板、金属板等の基板に塗布された感光膜を露光現像処理する場合に、基板面に現像除去できずに残留する感光膜等の不必要な残滓を超音波により洗浄除去するための現像残滓の超音波洗浄方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention, photo-etching, the photo-fabrication such as pattern etching, the glass plate, a photosensitive film coated on a substrate such as a metal plate in the case of exposure and development process, the development is removed to the substrate surface unnecessary residue of the photosensitive film or the like remaining unable to an ultrasonic cleaning method of development residue for washing is removed by ultrasonic waves.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、例えばフォトファブリケーションによるカラーフィルターの着色パターンのパターン形成として、ガラス基板上にスピンコーティング法(高速回転スピナーによる回転塗布法)等の回転塗布法、ディピング塗布法(引上げ塗布法)などにより感光性の着色剤を塗布して乾燥させた後に、該着色剤の乾燥塗布膜に所定のフィルターパターンを露光して現像処理することにより、着色パターンを形成することが行われている。 Conventionally, for example as a pattern formation of a colored pattern of a color filter by photo-fabrication, spin coating on a glass substrate (spin coating method with high speed spinner) spin coating method, such as, dipping coating method (pulling-up coating after drying by applying a photosensitive colorant due law), by developing and exposing a predetermined filter pattern in dry coating film of the colorant, it is practiced to form a colored pattern there.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】上記ガラス基板上に回転塗布法やディッピング塗布法によって感光性着色剤を塗布した場合には、そのガラス基板と感光性着色剤(カラーフォトレジスト液)の液体表面張力等の関係から特にガラス基板の端縁部における着色剤の膜厚が厚くなる傾向がある。 When coating the photosensitive coloring agent by a rotary coating method or dip coating method on the glass substrate [0005] is liquid surface of the glass substrate and the photosensitive colorant (color photoresist solution) the thickness of the colorant in the edge portion of the glass substrate, especially the relationship of such tension tends to become thicker.

【0004】これを適宜パターン露光した後に、現像液にて現像処理(水洗処理を含む)すると、図3に示すように、ガラス基板1面には、必要とする画像パターン4 [0004] After this the appropriate pattern exposure, developing with a developing solution (including water washing process) Then, as shown in FIG. 3, the glass substrate 1 side, the image pattern 4 which requires
の他に、ガラス基板1の周辺端部2に膜厚の厚い着色剤が現像除去しきれずに残滓3として残留する場合がある。 Besides, there are cases where a large thickness colorant in the peripheral edge 2 of the glass substrate 1 is left as a residue 3 without being completely removed by development in.

【0005】そのため従来は手作業によって、その残滓を研磨シートあるいは剃刀やカッターナイフで削り取ったり、小型ドリル等の回転研磨用工具を用いて研磨によって除去するのが実情であるが、残滓が完全には除去しきれなかったり、その削り滓が粉体となって飛散したり、基板側に再度付着するなどの不都合があった。 [0005] by this reason the conventional manual, or scraping the residue with an abrasive sheet or razor or knife, but to remove by polishing using a rotary polishing tool such as a small drill in actuality, residue completely or not removed, or scattered so that shavings are a powder, there is an inconvenience such as adhering to the substrate side again.

【0006】本発明は、ガラス板や金属板等の基板面に塗布された感光材の現像処理等において、処理後に基板面に残留する残滓を、残滓残りなく容易に除去することにある。 The present invention, in the development processing of the photosensitive material applied to the substrate surface such as a glass plate or metal plate, the residue remaining on the substrate surface after processing, is to residue remaining without easily removed.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、 感光膜を現像 Means for Solving the Problems The present invention, developing the photosensitive film
処理して必要とする画像パターンを形成したガラス基板 Glass substrate provided with the image pattern required to process
等の基板端部に現像除去できずに残留する感光膜等の残 Residual photosensitive film or the like remaining unable developing removed substrate end portion of equal
滓付着個所に、水、若しくは適宜溶媒を用いた仲介液を The dregs adhesion point, water, or an intermediary solution using an appropriate solvent
介して超音波発振ホーン先端部を接近させ、必要とする Through it is brought closer to the ultrasonic oscillation horn tip, requiring
画像パターン以外の現像除去できずに残留付着する前記 The remaining adhering unable development removability of the non-image pattern
残滓を超音波振動により除去することを特徴とする現像残滓の超音波洗浄方法である。 An ultrasonic cleaning method of developing residues, characterized in that the removal by the ultrasonic vibrations of the residue. また本発明は、 上記現像 The present invention is the development
残滓の超音波洗浄方法であって、必要とする前記画像パ An ultrasonic cleaning method of residue, the image path that requires
ターンが仲介液によって浸漬されず、前記残滓のみが仲 Turn is not immersed by mediation solution, only the residue is Zhong
介液に浸漬するように仲介液供給領域を設定して、水、 Set the mediation solution supply region to the immersion in through liquid, water,
若しくは適宜溶媒を用いた仲介液を介して超音波発振ホ Or through the intermediary solution using an appropriate solvent ultrasonic oscillator E
ーン先端部を接近させ、必要とする画像パターン以外の To approximate over emissions tip, other than the image pattern that requires
現像除去できずに残留付着する前記残滓を超音波振動に The residue which remains adhering to not be developed and removed to the ultrasonic vibration
より除去することを特徴とする現像残滓の超音波洗浄方 Ultrasonic cleaning side of development residue, characterized by further removal
法である。 It is the law.

【0008】 [0008]

【実施例】本発明の現像残滓の超音波洗浄方法を、以下に詳細に説明すれば、図1(a)は、本発明方法の一実施例を説明する側面図である。 The ultrasonic cleaning method of development residue of the embodiment of the present invention, will be described in more detail below, FIG. 1 (a) is a side view for explaining an embodiment of the present invention method.

【0009】適宜現像処理後のガラス基板1の上面には、必要とする所定の画像パターン4が形成されており、その基板1の端部2等には、現像処理によって現像除去しきれなかった残滓3が付着している。 [0009] On the upper surface of the glass substrate 1 after appropriate development, are formed a predetermined image pattern 4 which requires, in the end portion 2 or the like of the substrate 1, it has not been developed and removed by the development process residue 3 is attached.

【0010】この残滓3の発生している個所、例えば、 [0010] generated by that point of this residue 3, for example,
図1(a)においてはガラス基板1の端部2,2における残滓3発生個所に、まず、液供給ノズル等の液供給手段Bより、水若しくは適宜無機溶媒、又は、有機溶媒等の仲介液21を供給して、残滓3を仲介液21によって浸漬する。 The residue 3 generating points at the ends 2,2 of the glass substrate 1 in FIG. 1 (a), first, the liquid supply means B such as a liquid supply nozzle, water or appropriate inorganic solvents, or intermediary fluid such as an organic solvent 21 by supplying, immersing the residue 3 by mediation solution 21.

【0011】続いて、仲介液21の供給されている間に、ガラス基板1の前記端部2の近傍に超音波発振手段Aを用いてその超音波発振ホーン12を接近させ、その先端部にある超音波を発振する超音波発振ホーン先端部11を、前記端部2の残滓3を浸漬している仲介液21 [0011] Then, while being supplied mediation solution 21 in the vicinity of the end portion 2 of the glass substrate 1 using an ultrasonic oscillation means A to approximate the ultrasonic oscillation horn 12, at its distal end there ultrasonic oscillation horn tip 11 for oscillating the ultrasonic mediation solution is immersed the residue 3 of the end portion 2 21
内に差し入れて、残滓3の真上相当部に、例えば、0. It pledged within, just above corresponding portions of the residue 3, for example, 0.
3mm〜2.0mm程度(あるいは仲介液21の液面より超音波発振ホーン先端部11が離脱しない程度)の間隔(ギャップ)をあけて位置決め設定する。 3mm~2.0mm about positioning set at intervals (gap) (or the liquid level from the ultrasonic oscillation horn tip 11 of the intermediary fluid 21 is enough not to leave). なお超音波発振ホーン先端部11は、なるべく画像パターン4に対して十分距離をおいて位置決め設定する。 Note ultrasonic oscillation horn tip 11, the positioning set at a sufficient distance as possible to the image pattern 4.

【0012】なお、本発明方法に使用する超音波発振手段Aは、図1(a)に示すように、超音波発振ホーン1 [0012] Incidentally, the ultrasonic oscillating unit A for use in the present invention method, as shown in FIG. 1 (a), ultrasonic oscillation horn 1
2と、該超音波発振ホーン12の発振出力を増幅調整する発振ブースター13と、発振用の電気信号を音波に変換するコンバータ14と、該コンバータ14に発振用の電気信号を出力する発振回路部15とを備えた公知の発振手段を用いて行なうことができる。 2, an oscillation booster 13 for amplifying adjusting the oscillation output of the ultrasonic oscillation horn 12, a converter 14 for converting an electrical signal for oscillation wave oscillation circuit for outputting an electric signal for oscillation in the converter 14 it can be performed using a known oscillating means and a 15.

【0013】続いて、差し入れられた上記超音波発振ホーン先端部11より超音波振動sを発振させ、発振する超音波振動sは、該仲介液21を介して端部2の残滓3 [0013] Subsequently, to oscillate the ultrasonic vibration s from pledged the ultrasonic oscillator horn tip 11, the ultrasonic vibration s for oscillating the residue 3 of the end portion 2 via the intermediary liquid 21
に伝達され、固形状態の該残滓3を超音波振動させて、 Is transmitted to, the residue 3 of the solid state by ultrasonic vibration,
その振動sにより残滓3をガラス基板1面より剥離させ、又は、微粒子状態に粉砕して破壊し、ガラス基板1 Its residue 3 is peeled from the glass substrate 1 side by the vibration s, or, destroy and pulverized to fine particles state, the glass substrate 1
より遊離させて、ガラス基板1を洗浄除去する。 More by free, washing away the glass substrate 1. なお、 It should be noted that,
発振所要時間は3秒〜10秒程度が適当であるがこれに限定されるものではない。 Oscillation duration is not but about 3 to 10 seconds is suitable to be limited thereto.

【0014】下記に、本発明方法の一実施例における超音波振動手段Aの残滓洗浄除去における設定条件を記す。 [0014] below, mark the set conditions in the residue washed out of the ultrasonic vibration unit A in an embodiment of the present invention method. 条件; 発振ブースター出力 1:1 又は1:2 超音波発振ホーン出力音波周波数 20kHz,40kHz ギャップ 0.5〜1.5mm 発振所要時間 5秒 Conditions: oscillation booster Output 1: 1 or 1: 2 ultrasonic oscillation horn output wave frequency 20 kHz, 40 kHz gap 0.5~1.5mm oscillation duration 5 seconds

【0015】ガラス基板1より遊離した残滓3は、仲介液21中に分散あるいは溶解し、仲介液21とともに洗浄廃液として適宜排出される。 [0015] residue 3 liberated from the glass substrate 1 is dispersed or dissolved in a mediation solution 21, suitably it is discharged as waste wash liquid together with the mediation solution 21.

【0016】なお、超音波発振ホーン先端部11は画像パターン4部分より離間する位置に設定してあるため、 [0016] Incidentally, since the ultrasonic oscillation horn tip 11 is set at a position away from the image pattern 4 parts,
画像パターン4部分は超音波の振動sの影響は受けず剥離は生じない。 Image pattern 4 parts does not occur peeling not affected by the ultrasonic vibration s. 図1(b)は、端部2に残留していた残滓3を洗浄除去した後のガラス基板1の側断面である。 Figure 1 (b) is a side cross section of the glass substrate 1 after washing away residues 3 remaining in the end 2.

【0017】本発明方法においては、必要とする画像パターン4が超音波発振ホーン先端部11の振動sの影響を受けないように、仲介液21の浸漬領域を制御することが必要であるが、その浸漬領域は、できるかぎり画像パターン4に掛からないように設定して供給することがのぞましい。 [0017] In the method of the present invention, so that the image pattern 4 in need is not affected by vibration s of the ultrasonic oscillation horn tip 11, it is necessary to control the dipping region of the mediation solution 21, its immersion area, it is desirable to supply set to not applied to the image pattern 4 as possible.

【0018】また、本発明方法に使用する仲介液21 Further, intermediary liquid 21 used in the present invention the method
は、水溶媒若しくはアルカリ性溶媒、酸性溶媒等の水性無機溶媒、又は水性、油性の有機溶媒等が使用でき、残滓3を溶解可能な溶媒であることが適当である。 A water solvent or an alkaline solvent, an aqueous inorganic solvent such as an acidic solvent, or aqueous, can organic solvents such as the use of oil, it is appropriate that a solvent capable of dissolving residue 3.

【0019】図2(a)は、本発明方法における液供給手段Bによる仲介液21の供給領域設定の一実施例を示すもので、矩形状のガラス基板1の一辺の端部2に付着する残滓3のみが仲介液21によって浸漬するように、 [0019] FIG. 2 (a), shows an embodiment of a supply region setting mediation solution 21 by the liquid supply unit B in the method of the present invention, it adheres to the end portion 2 of rectangular glass substrate 1 side as only the residue 3 is immersed by mediation solution 21,
水平面(X−Y面)に対して、矩形状のガラス基板1の角隅部1aを他の角隅部より低く傾斜(X方向に対する傾斜角度θ x ,Y方向に対するθ y )するように配置し、該ガラス基板1の他の角隅部1bの上側に液供給手段Bを設定し、該角隅部1bから角隅部1aに向かって仲介液21を流下させて、画像パターン4が仲介液21 With respect to the horizontal plane (X-Y plane), tilt the rectangular corner portion 1a of the glass substrate 1 lower than the other corners (angle of inclination with respect to the X direction theta x, theta y the Y-direction) arranged so as to and, setting the liquid supply means B to the upper side of the other corner portion 1b of the glass substrate 1, an intermediary liquid 21 by flowing down toward the angular corner portion 1b to the corners 1a, an image pattern 4 mediated liquid 21
によって浸漬されないようにして液供給領域を設定した場合を示すものである。 It shows the case of setting the liquid supply region so as not immersed by.

【0020】図2(b)は、水平面(X−Y面)に対して、矩形状のガラス基板1の一辺の端部2に付着する残滓3のみが仲介液21によって浸漬するように、そのガラス基板1の一辺を挟む両角隅部1a,1bを平行に設定し、その他の角隅部より低く傾斜するようにガラス基板1を配置し、両角隅部1a,1bが挟む一辺に仲介液21を流下させるようにしたものである。 [0020] FIG. 2 (b), as with respect to the horizontal plane (X-Y plane), only residues 3 to adhere to the end portion 2 of rectangular glass substrate 1 side is immersed by mediation solution 21, the both corner corner 1a sandwiching the side of the glass substrate 1, and set parallel to 1b, arranged glass substrate 1 so as to be inclined lower than the other corners, both corner corners 1a, mediation solution one side 1b sandwich 21 it is obtained so as to flow down.

【0021】なお本発明方法における仲介液21の供給は、上記のような液供給ノズル等による送流供給方式による供給の他に、洗浄槽方式を採用することは可能であり、槽内に貯溜若しくは循環供給される仲介液21内に、ガラス基板1の端部2に付着する残滓3部分を浸漬した後、超音波発振ホーン先端部11を該仲介液21内に差し入れて洗浄除去するようにしてもよい。 [0021] Note that the supply of the intermediary liquid 21 in the process of the present invention is, in addition to supply by flow controlling supply method by the liquid supply nozzle or the like as described above, it is possible to employ a cleaning tank system, stored within the tank or the intermediary liquid 21 to be circulated and supplied, was immersed residue 3 portions attached to the end portion 2 of the glass substrate 1, an ultrasonic oscillation horn tip 11 so as to wash and remove pledged to the mediation solution 21 it may be.

【0022】次に、本発明の他の実施例を説明すれば、 Next, it will be described another embodiment of the present invention,
図3(a)、超音波発振手段Aの超音波発振ホーン12 FIG. 3 (a), ultrasonic oscillation horn of the ultrasonic wave oscillating means A 12
の振動するホーン先端部11の側面11aに、図3 The side surface 11a of the horn tip 11 vibrates in FIG. 3
(b)、ガラス基板1の端部2の側面部に付着する残滓3を仲介液21を介して当てがい、接触させることによって、ガラス基板1側面部に付着する残滓3を除去するものである。 (B), the residue 3 adhering to the side surface of the end 2 of the glass substrate 1 through the intermediary liquid 21 There are hit, by contacting, is to remove the residue 3 to adhere to the glass substrate 1 side portions . なお、ガラス基板1の端部2側面部に付着する残滓3は、図3(a)に示すように、ホーン先端部11の側面11aの領域11bに接触させる。 Note that residue 3 that adheres to the end portion 2 side portion of the glass substrate 1, as shown in FIG. 3 (a), contacting the region 11b of the side surface 11a of the horn tip 11.

【0023】 [0023]

【作用】本発明の現像残滓の超音波洗浄方法は、基板1 Ultrasonic cleaning method of development residue of the effects of the present invention, the substrate 1
における残滓3の付着する個所のみに、水若しくは適宜溶媒を用いた仲介液21を介して超音波発振ホーン先端部11を接近させて洗浄除去するようにしたので、現像除去しきれずに付着する固体状の残滓3部分のみが洗浄除去されて、基板1の必要とする画像パターン4は超音波振動によって破損することがなく、洗浄除去残りなく正確に短時間で能率的に洗浄できる。 Only the points of attachment of residues 3 in. Thus through the intermediary fluid 21 to approximate the ultrasonic oscillation horn tip 11 washed away by using water or an appropriate solvent, a solid which adheres to not completely removed by development only residue 3 portions of Jo is washed away, the image pattern 4 that require the substrate 1 without being damaged by the ultrasonic vibration can be efficiently cleaned without remaining washing removed accurately in a short time.

【0024】また、本発明方法における除去された残滓は仲介液中に取り込まれるので、従来のように粉体となって飛散したり、基板側に再度付着することがない。 Further, since the residue removed in the process of the present invention is incorporated into the intermediary liquid, or scattered in a conventional powder as, it does not adhere to the substrate side again.

【0025】 [0025]

【発明の効果】本発明の現像残滓の超音波洗浄方法は、 Ultrasonic cleaning method of development residue of the present invention exhibits,
ガラス、金属、プラスチック等の基板面に塗布された感光材の現像処理後において、基板面に残留する現像残滓を残滓残りなく、短時間で能率的に洗浄除去できる効果がある。 Glass, metal, after development of the photographic material applied to the substrate surface such as plastic, no residue remaining developing residue remaining on the substrate surface, there is an effect of a short time efficiently washed away.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】(a)は、本発明の現像残滓の超音波洗浄方法を説明する概要斜視図であり、(b)は、洗浄後の基板の側面図である。 1 (a) is a schematic perspective view for explaining the ultrasonic cleaning method of development residue of the present invention, (b) is a side view of a substrate after cleaning.

【図2】(a)は、本発明の現像残滓の超音波洗浄方法の一実施例を説明する概要斜視図であり、(b)は、他の実施例を説明する概要斜視図である。 2 (a) is a schematic perspective view illustrating an embodiment of an ultrasonic cleaning method of development residue of the present invention, (b) is a schematic perspective view illustrating another embodiment.

【図3】(a)は、本発明の現像残滓の超音波洗浄方法のその他の実施例を説明する概要斜視図であり、(b) 3 (a) is a schematic perspective view for explaining another embodiment of an ultrasonic cleaning method of development residue of the present invention, (b)
は、概要側面図である。 Is a schematic side view.

【図4】現像処理後において現像残滓の付着する一般的なガラス基板の平面図である。 4 is a plan view of a typical glass substrate which adheres the developer residue after development.

【符合の説明】 Description of the sign]

A…超音波発振手段 B…仲介液供給手段 s…超音波振動 1…基板 1a,1b…角隅部 2…端部 3…残滓 A ... ultrasonic oscillation means B ... mediating liquid supplier s ... ultrasonic vibration 1 ... substrate 1a, 1b ... corner portion 2 ... ends 3 ... residue
4…画像パターン 11…超音波発振ホーン先端部 11a…側面 11b 4 ... image pattern 11 ... ultrasonic oscillator horn tip 11a ... side surface 11b
…当接領域 12…超音波発振ホーン 13…発振ブースター 14 ... contact area 12 ... ultrasonic oscillation horn 13 ... oscillation booster 14
…コンバータ 15…発振回路部 21…仲介液 ... Converter 15 ... oscillation circuit 21 ... mediation solution

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 遠藤 謙一 (56)参考文献 特開 昭54−56255(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) B08B 3/12 G03F 7/40 521 ────────────────────────────────────────────────── ─── continued examiner Kenichi Endo of the front page (56) reference Patent Sho 54-56255 (JP, a) (58 ) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) B08B 3/12 G03F 7 / 40 521

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】 (57) [the claims]
  1. 【請求項1】 感光膜を現像処理して必要とする画像パタ 1. A image pattern that requires a photosensitive film is developed
    ーンを形成したガラス基板等の基板端部に現像除去でき It can be developed removed substrate end of the glass substrate formed with over emissions
    ずに残留する感光膜等の残滓付着個所に、水、若しくは The residue attachment point of the photosensitive film or the like remaining without water, or
    適宜溶媒を用いた仲介液を介して超音波発振ホーン先端 Ultrasonic oscillation horn tip via an intermediary solution using an appropriate solvent
    部を接近させ、必要とする画像パターン以外の現像除去 Parts to approximate, developed and removed other than the image pattern that requires
    できずに残留付着する前記残滓を超音波振動により除去 The residue which remains adhering to not be removed by ultrasonic vibration
    することを特徴とする現像残滓の超音波洗浄方法。 Ultrasonic cleaning method of developing residues, characterized by.
  2. 【請求項2】 請求項1記載の現像残滓の超音波洗浄方法 2. The ultrasonic cleaning method of development residue in claim 1, wherein
    であって、必要とする前記画像パターンが仲介液によっ A is, the image pattern required by the mediation solution
    て浸漬されず、前記残滓のみが仲介液に浸漬するように Not immersed Te, so that only the residue is immersed in the mediation solution
    仲介液供給領域を設定して、水、若しくは適宜溶媒を用 Use by setting the mediation solution supply region, water, or an appropriate solvent
    いた仲介液を介して超音波発振ホーン先端部を接近さ Through the stomach mediation solution is approaching the ultrasonic oscillation horn tip
    せ、必要とする画像パターン以外の現像除去できずに残 Allowed, remaining unable development removability of the non-image pattern required
    留付着する前記残滓を超音波振動により除去することを Removing the ultrasonic vibration to the residue to distillation attachment
    特徴とする現像残滓の超音波洗浄方法。 Ultrasonic cleaning method of developing residues, characterized.
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