JP3287345B2 - Particle monitoring device, particle monitoring method, and recording medium - Google Patents

Particle monitoring device, particle monitoring method, and recording medium

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JP3287345B2
JP3287345B2 JP25532099A JP25532099A JP3287345B2 JP 3287345 B2 JP3287345 B2 JP 3287345B2 JP 25532099 A JP25532099 A JP 25532099A JP 25532099 A JP25532099 A JP 25532099A JP 3287345 B2 JP3287345 B2 JP 3287345B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造時に発
生する粉塵等のパーティクルを、レーザ光を用いてモニ
タするパーティクルモニタ装置、パーティクルモニタ方
法、及び、記録媒体に関し、特に、レーザ光の散乱を利
用してリアルタイムでパーティクルをモニタするパーテ
ィクルモニタ装置、パーティクルモニタ方法、及び、記
録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a particle monitoring apparatus, a particle monitoring method, and a recording medium for monitoring particles such as dust generated during semiconductor manufacturing by using a laser beam. The present invention relates to a particle monitoring device, a particle monitoring method, and a recording medium that monitor particles in real time using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の製造時には、その製造室内に粉
塵等の粒子(パーティクル)が発生する。このような粒
子が半導体に付着すると、半導体の性能等を低下させる
原因となる。従って、半導体製造室内の粒子の発生原因
や発生メカニズム等を求め、又は、粒子の発生を抑える
ように半導体製造装置を制御するために、粒子を計測す
る多くの装置が開発されてきた。
2. Description of the Related Art When a semiconductor is manufactured, particles such as dust are generated in the manufacturing chamber. When such particles adhere to the semiconductor, they cause the performance and the like of the semiconductor to deteriorate. Therefore, many devices for measuring particles have been developed in order to determine the cause and mechanism of generation of particles in a semiconductor manufacturing chamber, or to control a semiconductor manufacturing apparatus to suppress generation of particles.

【0003】従来のパーティクルモニタシステムの一例
が、1991年に発行された「ジャーナル・オブ・バキ
ューム・サイエンス・アンド・テクノロジー(Journal o
f Vacuum Science and Technology)」誌の第B9巻、第
3487頁乃至第3492頁、及び、1996年に発行
された同誌の第A14巻、第649頁乃至第654頁に
掲載されたセルビン(Gary S. Selwyn)による論文に記載
されている。図9に示すように、プロセス装置の反応チ
ャンバ15の壁面には、レーザ光源11から出射される
レーザ光を導入するための導入窓16と、反応チャンバ
15内に導入されパーティクル19に当って散乱したレ
ーザ光を反応チャンバ15の外部から計測するための検
出窓17とが設けられている。
[0003] An example of a conventional particle monitor system is disclosed in "Journal of Vacuum Science and Technology" published in 1991.
f Vacuum Science and Technology), Vol. B9, pages 3487 to 3492, and the same magazine published in 1996, Vol. A14, pages 649 to 654. Selwyn). As shown in FIG. 9, an introduction window 16 for introducing a laser beam emitted from the laser light source 11 and a particle 19 introduced into the reaction chamber 15 and scattered on the wall surface of the reaction chamber 15 of the process apparatus. A detection window 17 for measuring the laser light from outside the reaction chamber 15 is provided.

【0004】このパーティクルモニタシステムはつぎの
ように動作する。レーザ光源11から出射されたレーザ
光は、振動ミラー13で反射された後、導入窓16を介
して反応チャンバ15内に導入される。反応チャンバ1
5内に導入されたレーザ光は粒子19に当ると散乱さ
れ、この散乱光は検出窓17を通してCCDカメラ等の
散乱光検出器12で検出される。検出された散乱光は動
画像として記録され、その動画像より散乱光の発生時
刻、強度変化が示され、結果として粒子19の発生状況
を知ることができる。なお、反応チャンバ15の、導入
窓16を通して導入されたレーザ光が到達する領域に
は、レーザ光を吸収するためのビームダンパ18が取り
付けられている。
[0004] The particle monitor system operates as follows. The laser light emitted from the laser light source 11 is reflected by the oscillating mirror 13 and then introduced into the reaction chamber 15 through the introduction window 16. Reaction chamber 1
The laser light introduced into 5 is scattered when striking particles 19, and the scattered light is detected by scattered light detector 12 such as a CCD camera through detection window 17. The detected scattered light is recorded as a moving image, and the time and intensity change of the scattered light are indicated from the moving image, and as a result, the generation state of the particles 19 can be known. A beam damper 18 for absorbing the laser light is attached to a region of the reaction chamber 15 where the laser light introduced through the introduction window 16 reaches.

【0005】以上の他にも、半導体を製造する製造室内
に発生する粒子に関する情報を検出する技術は、特開平
4−54440号公報、特開平5−273110号公
報、特開平6−82358号公報、及び、特開平9−2
43549号公報に開示されている。
[0005] Other than the above, techniques for detecting information on particles generated in a manufacturing chamber for manufacturing semiconductors are disclosed in JP-A-4-54440, JP-A-5-273110, and JP-A-6-82358. And JP-A-9-2
No. 43549.

【0006】特開平4−54440号公報に開示されて
いる技術は、二つのレーザ光を回転ミラーで扇形に走査
し、粒子によって散乱されたレーザ光を検出器で検出
し、粒子の有無とその移動速度を測定している。
In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-54440, two laser beams are scanned in a fan shape by a rotating mirror, laser beams scattered by particles are detected by a detector, and the presence / absence of particles is determined. The speed of movement is measured.

【0007】特開平5−273110号公報に開示され
ている技術は、レーザ光の波長に比べて十分小さい粒子
の大きさ(直径)を求めるための技術である。この技術
では、散乱光の画像データにおいて、各画素の散乱強度
を基に最大散乱強度を求め、公報に記されているように
積分散乱強度は最大散乱強度に比例し、また粒子の直径
の6乗にも比例するという関係を使用して、粒子の大き
さを求めている。
The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-273110 is a technique for obtaining the size (diameter) of a particle that is sufficiently smaller than the wavelength of laser light. In this technique, in image data of scattered light, the maximum scattered intensity is obtained based on the scattered intensity of each pixel. As described in the official gazette, the integrated scattered intensity is proportional to the maximum scattered intensity. We use the relationship that is also proportional to the power to determine the size of the particles.

【0008】特開平6−82358号公報に開示されて
いる技術は、赤、緑、及び、青の光を含むレーザ光を使
用し、波長の違いと粒子の大きさの違いによって、レー
ザ光の散乱が異なることを利用している。この技術で
は、散乱されたレーザ光の色をテレビモニタで見て、粒
子の大きさを測定している。
The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-82358 uses laser light including red, green, and blue light, and uses the laser light based on a difference in wavelength and a difference in particle size. It takes advantage of the different scattering. In this technique, the size of particles is measured by viewing the color of the scattered laser light on a television monitor.

【0009】特開平9−243549号公報に開示され
ている技術は、レーザ光を回転ミラーによって扇形に照
射し、粒子によって散乱されたレーザ光を検出するもの
である。この技術では、複数のレーザ光源と複数の散乱
光検出器を用いて、粒子の3次元分布に関する情報を得
ている。
The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-243549 is to irradiate a laser beam in a fan shape with a rotating mirror and detect the laser beam scattered by particles. In this technique, information on the three-dimensional distribution of particles is obtained using a plurality of laser light sources and a plurality of scattered light detectors.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】半導体の製造装置内で
発生する粒子を効率的に制御するためには、粒子の大き
さや数等の情報をリアルタイムで得る必要がある。
In order to efficiently control particles generated in a semiconductor manufacturing apparatus, it is necessary to obtain information such as the size and number of particles in real time.

【0011】しかし、上記した論文のパーティクルモニ
タシステムでは、検出された散乱光の動画像を使用して
いるので、画像中の粒子像が非常に複雑な場合は、粒子
の大きさ等に関する情報をリアルタイムで得るのは困難
であるという問題がある。
However, the particle monitor system described in the above-mentioned article uses a moving image of the detected scattered light. Therefore, when the particle image in the image is extremely complicated, information on the size of the particles is used. There is a problem that it is difficult to obtain in real time.

【0012】特開平4−54440号公報に開示されて
いる技術では、粒子の有無とその移動速度を求めること
はできるが、粒子の発生原因等を探る手がかりとなる、
個々の粒子の大きさ等に関する情報を得ることはできな
いという問題がある。
According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-54440, it is possible to determine the presence or absence of particles and the moving speed thereof.
There is a problem that it is not possible to obtain information on the size of each particle or the like.

【0013】特開平5−273110号公報に開示され
ている技術では、測定した最大散乱強度から粒子の大き
さを求めるために、最大散乱強度の6乗根を計算しなけ
ればならない。従って、計算のプログラムが複雑にな
り、計算に多くの時間を要し、リアルタイムで粒子に関
する情報を得るには時間がかかるという問題がある。
In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-273110, the sixth root of the maximum scattering intensity must be calculated in order to determine the size of the particles from the measured maximum scattering intensity. Therefore, there is a problem that a calculation program becomes complicated, a long time is required for the calculation, and a long time is required to obtain information on particles in real time.

【0014】特開平6−82358号公報に開示されて
いる技術では、テレビモニタに示される色の違いによっ
て粒子の大きさに関する情報を得ている。従って、得ら
れた粒子像が複雑な場合は、粒子の大きさを正しく把握
することが困難になるという問題がある。また、測定装
置によって粒子の大きさを解析する場合には、色を分析
するために装置が複雑になり、多くの分析時間を要する
ため、粒子に関する情報をリアルタイムで得られないと
いう問題がある。
In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-82358, information on the size of particles is obtained from the difference in color shown on a television monitor. Therefore, when the obtained particle image is complicated, there is a problem that it is difficult to correctly grasp the particle size. Further, when analyzing the size of particles using a measuring device, there is a problem in that the device for analyzing color becomes complicated and much analysis time is required, so that information on particles cannot be obtained in real time.

【0015】特開平9−243549号公報に開示され
ている技術では、複数のレーザ光源と複数の散乱光検出
器を用いているので、装置が大規模になるという問題が
ある。
In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-243549, a plurality of laser light sources and a plurality of scattered light detectors are used.

【0016】従って、本発明は、簡単な構成で、粒子の
様々な情報をリアルタイムで得ることのできるパーティ
クルモニタ装置、パーティクルモニタ方法、及び、記録
媒体を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a particle monitor device, a particle monitor method, and a recording medium capable of obtaining various kinds of information of particles in real time with a simple configuration.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明の第1の観点にかかるパーティクルモニタ
装置は、パーティクルモニタ対象領域にレーザ光を照射
するレーザ照射手段と、マトリックス状に配置された複
数の受光素子を備え、複数の前記パーティクルによって
散乱された前記レーザ光の散乱光を受光し、複数の画素
の輝度値を示す画像データ出力する受光手段と、前記
受光手段出力した前記画像データを使用して、予め設
定されたしきい値以上の輝度値を有する互いに隣接する
画素のひとまとまりの領域を、1つのパーティクルによ
って散乱された散乱光が入射した領域に対応する画素領
として検出し、該画素領域に含まれる各画素の輝度値
を示す高輝度画素情報を出力する領域検出手段と、前記
高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の最大輝度
値を検出する最大輝度値検出手段と、前記高輝度画素情
報を使用して、前記画素領域内の画素数を計数する画素
数計数手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画
素領域内の輝度値の総和を求める総和手段と、前記最大
輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそれぞれを、予
め設定された基準値と比較することにより、パーティク
ルの相対的な大きさを測定する大きさ測定手段と、を備
えることを特徴とする。この発明によれば、最大輝度値
を比較するだけで、粒子の相対的な大きさを求めること
ができる。従って、粒子の相対的な大きさを求める間で
の時間が短く、リアルタイムで粒子の大きさに関する情
報を得ることができる。
In order to achieve the above object, a particle monitoring apparatus according to a first aspect of the present invention comprises: a laser irradiating means for irradiating a laser beam to a particle monitoring target area; comprising a distributed multiple of light receiving elements, receiving scattered light scattered by a plurality of the particles the laser beam, a light receiving means for outputting the image data representing the luminance values of a plurality of pixels, said light receiving means outputs using said image data, previously set
Adjacent to each other with a brightness value above a defined threshold
A group of pixels is detected as a pixel region corresponding to a region where scattered light scattered by one particle is incident, and a luminance value of each pixel included in the pixel region is detected.
A region detecting means for outputting a high-luminance pixel information indicating the
A maximum luminance value detecting means for detecting a maximum luminance value in the pixel area using the high luminance pixel information;
Pixel using the information to count the number of pixels in the pixel area
Using the number counting means and the high-brightness pixel information,
Summing means for calculating the sum of the brightness values in the elementary region, and comparing the maximum brightness value , the number of pixels, and each of the sums with a preset reference value, thereby obtaining a relative size of the particles. And a size measuring means for measuring the According to the present invention, the relative size of the particles can be obtained only by comparing the maximum luminance values. Therefore, the time required to determine the relative size of the particles is short, and information on the size of the particles can be obtained in real time.

【0018】前記受光手段が出力した前記画像データが
示す前記輝度値の内、前記しきい値未満の輝度値をゼロ
にリセットする初期化手段をさらに備え、前記領域検出
手段は、前記初期化手段が輝度値をリセットした前記画
像データを使用して前記画素領域を検出してもよい。
The image data output by the light receiving means is
Among the luminance values shown, a luminance value less than the threshold value is set to zero.
Initialization means for resetting the area,
The means for resetting the brightness value by the initialization means;
The pixel area may be detected using image data.

【0019】前記領域検出手段は、前記画像データを使
用して画素を1つずつ走査し、前記しきい値以上の輝度
値を持つ第1画素を1つ検出すると、該第1画素に連続
して連なり、前記しきい値以上の輝度値を有する第2画
素を全て検出し、前記第1画素と前記第2画素のひとま
とまりの領域を前記画素領域として検出してもよい。
The area detecting means uses the image data.
The pixels are scanned one by one using the
When one first pixel having a value is detected, the first pixel is connected to the first pixel.
And a second image having a luminance value equal to or greater than the threshold value.
All the elements are detected, and the first pixel and the second pixel
A stop region may be detected as the pixel region.

【0020】前記領域検出手段が前記画素領域を1つ検
出する毎に、前記画像データが示す、該画素領域に含ま
れる画素の輝度値をゼロにリセットするリセット手段を
さらに備え、前記領域検出手段は、1つの前記画素領域
を検出した後、前記リセット手段が1つの該画素領域に
含まれる画素の輝度値をゼロにリセットする毎に、他の
前記画素領域を1つ検出してもよい。
The area detecting means detects one of the pixel areas.
Every time the image data is output,
Reset means to reset the brightness value of the pixel to be reset to zero.
In addition, the area detecting means may include one pixel area.
Is detected, the reset means sets one pixel area
Each time the brightness value of the included pixel is reset to zero, another
One pixel region may be detected.

【0021】前記大きさ測定手段は、前記最大輝度値、
前記画素数、及び、前記総和のそれぞれから得られたパ
ーティクルの大きさに、予め設定された重みをかけて平
均をとることによって、前記パーティクルの相対的な大
きさを求めてもよい。
The size measuring means includes the maximum luminance value,
The number of pixels and the parameters obtained from each of the sums
Multiply the size of the article by a preset weight
The relative size of the particles
You may ask for size.

【0022】前記大きさ測定手段が測定した前記パーテ
ィクルの相対的な大きさを表示する表示手段をさらに備
えてもよい。
The part measured by the size measuring means is
Display means for displaying the relative size of the vehicle.
You may get.

【0023】カウンタを備え、前記領域検出手段が前記
画素領域を1つ検出する度に、該カウンタのカウント値
を1増加することによって前記パーティクルの数を計数
する粒子数計数手段をさらに備え、前記領域検出手段
は、前記画像データに前記画素領域がない場合に、前記
画素領域がないことを示すゼロ情報を前記表示手段に出
力し、前記表示手段は、前記ゼロ情報に応答して、前記
粒子数計数手段が計数した前記パーティクルの数を表示
してもよい。
A counter, wherein the area detecting means includes
Each time one pixel area is detected, the count value of the counter
Count the number of particles by incrementing
Further comprising a particle number counting means,
When the image data does not have the pixel area,
The display means outputs zero information indicating that there is no pixel area.
The display means responds to the zero information in response to the zero information.
Displays the number of particles counted by the particle counting means
May be.

【0024】前記最大輝度値検出手段によって検出され
た前記最大輝度値から前記散乱光の強度を測定する強度
測定手段と、前記強度測定手段によって求められた前記
散乱光の強度と、散乱光の強度とパーティクルの絶対的
な大きさとの関係を示す関係式とを用いて、前記パーテ
ィクルの絶対的な大きさを求める実測手段と、をさらに
備えてもよい。
The maximum luminance value is detected by the maximum luminance value detecting means.
Measuring the intensity of the scattered light from the maximum luminance value.
Measuring means, the strength determined by the intensity measuring means
Scattered light intensity, absolutely scattered light intensity and particle
Using a relational expression showing the relationship with the
Measurement means for determining the absolute size of the vehicle
May be provided.

【0025】本発明の第の観点にかかるパーティクル
モニタ方法は、パーティクルモニタ対象領域にレーザ光
を照射するレーザ照射工程と、マトリックス状に配置さ
れた複数の受光素子を使用して、複数の前記パーティク
ルによって散乱された前記レーザ光の散乱光を受光し、
複数の画素の輝度値を示す画像データ出力する受光工
程と、前記受光工程で出力された前記画像データを使用
して、予め設定されたしきい値以上の輝度値を有する互
いに隣接する画素のひとまとまりの領域を、1つのパー
ティクルによって散乱された散乱光が入射した領域に対
応する画素領域として検出し、該画素領域に含まれる各
画素の輝度値を示す高輝度画素情報を出力する領域検出
工程と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域
内の最大輝度値を検出する最大輝度値検出工程と、前記
高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の画素数を
計数する画素数計数工程と、前記高輝度画素情報を使用
して、前記画素領域内の輝度値の総和を求める総和工程
と、前記最大輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそ
れぞれを、予め設定された基準値と比較することによ
、パーティクルの相対的な大きさを測定する大きさ測
定工程と、を備えることを特徴とする。本発明によって
も、最大輝度値を比較するだけで、粒子の相対的な大き
さを求めることができる。従って、粒子の相対的な大き
さを求めるまでの時間が短く、リアルタイムで粒子の大
きさに関する情報を得ることができる。
In a particle monitoring method according to a second aspect of the present invention, a laser irradiation step of irradiating a laser beam to a particle monitoring target area and a plurality of light-receiving elements arranged in a matrix are used. Receiving the scattered light of the laser light scattered by the particles,
Each other with a light receiving step of outputting the image data representing the luminance values of a plurality of pixels, using the image data outputted by the light receiving step, a preset threshold or more luminance values
A group of adjacent pixels is detected as a pixel region corresponding to a region where scattered light scattered by one particle is incident, and each of the pixels included in the pixel region is detected.
A region detecting step of outputting a high-luminance pixel information representing the luminance value of the pixels, using the high-luminance pixel information, the highest luminance value detection step of detecting a maximum luminance value of the pixel area, wherein
Using the high brightness pixel information, the number of pixels in the pixel area is calculated.
Using the high-brightness pixel information to count the number of pixels to be counted
Summing step of calculating a sum of brightness values in the pixel area
And the maximum luminance value , the number of pixels, and the sum of the sum.
Each is compared with a preset reference value .
And a size measuring step of measuring a relative size of the particles. According to the present invention, the relative size of the particles can be determined only by comparing the maximum luminance values. Therefore, the time required to determine the relative size of the particles is short, and information on the size of the particles can be obtained in real time.

【0026】本発明の第3の観点にかかるコンピュータ
読み取り可能な記録媒体は、コンピュータを、マトリッ
クス状に配置された複数の受光素子を備え、複数のパー
ティクルによって散乱された散乱光を受光する受光器が
出力する、複数の画素の輝度値を示す画像データを使用
して、予め設定されたしきい値以上の輝度値を有する互
いに隣接する画素のひとまとまりの領域を、1つのパー
ティクルによって散乱された散乱光が入射した領域に対
応する画素領域として検出し、該画素領域に含まれる各
画素の輝度値を示す高輝度画素情報を出力する領域検出
手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域
内の最大輝度値を検出する最大輝度値検出手段と、前記
高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の画素数を
計数する画素数計数手段と、前記高輝度画素情報を使用
して、前記画素領域内の輝度値の総和を求める総和手段
と、前記最大輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそ
れぞれを、予め設定された基準値と比較することによ
り、パーティクルの相対的な大きさを測定する大きさ測
定手段と、を備えるパーティクルモニタ装置として機能
させるためのプログラム及びデータを記録している。
Computer according to a third aspect of the present invention
The readable recording medium stores the computer
A plurality of light receiving elements arranged in a matrix
The receiver that receives the scattered light scattered by the
Uses image data that shows the brightness values of multiple pixels to be output
And has a luminance value equal to or higher than a preset threshold value.
A group of adjacent pixels is
The area where the scattered light scattered by the
Corresponding pixel area, and each pixel area
Area detection that outputs high-luminance pixel information indicating the luminance value of a pixel
Means and the pixel area using the high brightness pixel information.
Maximum luminance value detecting means for detecting the maximum luminance value in the
Using the high brightness pixel information, the number of pixels in the pixel area is calculated.
Uses the number-of-pixels counting means for counting and the high-brightness pixel information
Summing means for calculating a sum of brightness values in the pixel area
And the maximum luminance value, the number of pixels, and the sum of the sum.
Each is compared with a preset reference value.
Size measurement to measure the relative size of particles
Function as a particle monitor device comprising:
It records the program and data to be used.

【0027】[0027]

【0028】[0028]

【0029】[0029]

【0030】[0030]

【0031】[0031]

【0032】[0032]

【0033】[0033]

【0034】[0034]

【0035】[0035]

【0036】[0036]

【0037】[0037]

【発明の実施の形態】次に、本発明の第1の実施の形態
にかかるパーティクルモニタシステムについて、図面を
参照して説明する。
Next, a particle monitor system according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0038】図1は、パーティクルモニタシステムの構
成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a particle monitor system.

【0039】パーティクルモニタシステムは、コンピュ
ータ100と、レーザ光源装置110と、プロセス装置
120、散乱光検出器130と、から構成されている。
The particle monitor system includes a computer 100, a laser light source device 110, a process device 120, and a scattered light detector 130.

【0040】コンピュータ100は、中央処理装置、プ
ロセッサ、又は、データ処理装置と呼ばれる装置の機能
(データの転送、プログラムの制御、システムの管理
等)を有する。具体的には、コンピュータ100は、パ
ーティクルモニタシステムを制御し、モニタしたデータ
等を処理する。
The computer 100 has functions of a device called a central processing unit, a processor, or a data processing device (data transfer, program control, system management, etc.). Specifically, the computer 100 controls the particle monitor system and processes monitored data and the like.

【0041】レーザ光源装置110は、コンピュータ1
00からの制御信号に応答して、プロセス装置120内
にレーザ光140を照射する。このレーザ光140が照
射する領域は、レーザ光140の断面積に相当する領域
であるが、プロセス装置120内で発生した粒子のいく
つかは、必ずこのレーザ光140の照射領域に入る。従
って、レーザ光源装置110は、必ずしもレーザ光14
0を走査させる必要はない。また、プロセス装置120
内で発生した粒子数は、レーザ光140の断面積当たり
の粒子数に、レーザ光140の断面積とプロセス装置1
20の断面積の比(プロセス装置120の断面積/レー
ザ光140の断面積)をかけることによって求められ
る。なお、求められた粒子数はおおよその値であるの
で、レーザ光140の断面積は、必要な精度が得られる
ように調節されなければならない。
The laser light source device 110 is a computer 1
In response to the control signal from 00, the process device 120 is irradiated with the laser light 140. The region irradiated with the laser light 140 is a region corresponding to the cross-sectional area of the laser light 140, but some particles generated in the process device 120 always enter the irradiation region of the laser light 140. Therefore, the laser light source device 110 does not necessarily
There is no need to scan 0. In addition, the process device 120
The number of particles generated in the process apparatus is calculated by the number of particles per cross-sectional area of the laser beam 140 and the cross-sectional area of the laser beam 140.
It is determined by multiplying the ratio of the cross-sectional area of 20 (the cross-sectional area of the process apparatus 120 / the cross-sectional area of the laser beam 140). Since the obtained number of particles is an approximate value, the cross-sectional area of the laser beam 140 must be adjusted so as to obtain necessary accuracy.

【0042】プロセス装置120は、半導体を製造する
ための装置である。半導体製造時には、プロセス装置1
20内に粉塵等の粒子が発生し、半導体に性能不良等を
引き起こす原因となる。プロセス装置120は、レーザ
光140を入射させるための窓121と、装置内の粒子
(パーティクル)によって散乱されたレーザ光(散乱光
150)を出射するための窓122と、窓121と対向
した面に配置され、散乱されなかったレーザ光140を
吸収するための吸収器123と、を備えている。
The process device 120 is a device for manufacturing a semiconductor. At the time of semiconductor manufacturing, the process equipment 1
Particles such as dust are generated in the semiconductor device 20, and cause a performance defect or the like in the semiconductor. The process apparatus 120 has a window 121 for receiving a laser beam 140, a window 122 for emitting a laser beam (scattered light 150) scattered by particles (particles) in the apparatus, and a surface facing the window 121. And an absorber 123 for absorbing the laser light 140 that has not been scattered.

【0043】散乱光検出器130は、マトリックス状に
配置された複数の受光素子を有するCCD(Charge Cou
pled Device )カメラ等を備える。そして、散乱光検出
器130は、プロセス装置120から出射されたレーザ
光140の散乱光150を検出し、2次元画像データと
してコンピュータ100に出力する。この2次元画像デ
ータは、画素の位置を示す座標と、各画素の輝度値が対
応付けられたものである。例えば、CCDカメラで得ら
れた散乱光150の画像は、図2に示すように複数の画
素(図中の一つ一つの四角)から構成されている。そし
て、各画素の位置は(i,j)のような座標で示され
る。
The scattered light detector 130 is a CCD (Charge Cou) having a plurality of light receiving elements arranged in a matrix.
pled Device) Equipped with a camera. Then, the scattered light detector 130 detects the scattered light 150 of the laser light 140 emitted from the process device 120 and outputs the scattered light 150 to the computer 100 as two-dimensional image data. In the two-dimensional image data, coordinates indicating the position of a pixel are associated with the luminance value of each pixel. For example, an image of the scattered light 150 obtained by the CCD camera is composed of a plurality of pixels (each square in the figure) as shown in FIG. The position of each pixel is indicated by coordinates such as (i, j).

【0044】次に、上記したコンピュータ100の構成
についてさらに説明する。コンピュータ100は、図3
に示すように、機能的に、領域探索部101と、領域内
最大輝度値検出部102と、領域内輝度値総和計算部1
03、領域内画素数計数部104、パーティクル発生数
計数部105、パーティクル発生数/大きさ通知部10
6と、入力部107と、表示部108と、を備える。
Next, the configuration of the computer 100 will be further described. The computer 100 shown in FIG.
As shown in the figure, functionally, an area searching unit 101, an intra-area maximum luminance value detecting unit 102, and an intra-area luminance value sum calculating unit 1
03, the number-of-pixels-in-region counting section 104, the number-of-particles counting section 105, the number-of-particles generation / size notification section 10
6, an input unit 107, and a display unit 108.

【0045】領域探索部101は、メモリ等を備え、予
め入力部107から入力されたしきい値を記憶する。ま
た、領域探索部101は、散乱光検出器130から入力
された2次元画像データと記憶しているしきい値とを使
用して、後述する方法で2次元画像データを処理し、し
きい値以上の輝度値を持つひとまとまりの画素領域(高
輝度画素領域)を検出する。そして、領域探索部101
は、検出した高輝度画素領域の位置と光の輝度値とを取
り出し、高輝度画素情報として領域内最大輝度値検出部
102、領域内輝度値総和計算部103、領域内画素数
計数部104、及び、パーティクル発生数計数部105
に出力する。また、高輝度画素領域を検出できなかった
場合、領域探索部101は、高輝度画素領域が存在しな
いことを示すゼロ情報を、パーティクル発生数/大きさ
通知部106に出力する。
The area search unit 101 includes a memory or the like and stores a threshold value input from the input unit 107 in advance. Further, the area search unit 101 processes the two-dimensional image data by a method described later using the two-dimensional image data input from the scattered light detector 130 and the stored threshold value, and A group of pixel regions (high-luminance pixel regions) having the above-described luminance values is detected. Then, the area search unit 101
Takes out the detected position of the high-luminance pixel area and the luminance value of the light, and as the high-luminance pixel information, the maximum luminance value detection section 102 within the area, the total luminance value calculation section 103 within the area, the pixel number counting section 104 within the area, And a particle generation number counting unit 105
Output to If the high-luminance pixel area cannot be detected, the area search unit 101 outputs zero information indicating that no high-luminance pixel area exists to the particle occurrence number / size notification unit 106.

【0046】領域内最大輝度値検出部102は、領域探
索部101から入力された高輝度画素情報を使用して、
高輝度画素領域に含まれる最大の輝度値を検出し、最大
輝度値情報として、パーティクル発生数/大きさ通知部
106に出力する。
The maximum luminance value detection unit 102 within the area uses the high luminance pixel information input from the area search unit 101 to
The maximum luminance value included in the high luminance pixel area is detected and output to the particle generation number / size notification unit 106 as maximum luminance value information.

【0047】領域内輝度値総和計算部103は、領域探
索部101から入力された高輝度画素情報を使用して、
高輝度画素領域に含まれる輝度値の総和を求め、輝度値
総和情報として、パーティクル発生数/大きさ通知部1
06に出力する。
The intra-region total brightness value calculation unit 103 uses the high-luminance pixel information input from the region search unit 101 to calculate
The sum of the brightness values included in the high brightness pixel area is obtained, and the number of generated particles / size notification unit 1 is used as the brightness sum information.
06 is output.

【0048】領域内画素数計数部104は、領域探索部
101から入力された高輝度画素情報を使用して、高輝
度画素領域に含まれる画素数を計数し、粒子画素数情報
として、パーティクル発生数/大きさ通知部106に出
力する。
The intra-region pixel number counting unit 104 counts the number of pixels included in the high-luminance pixel region using the high-luminance pixel information input from the region search unit 101, and generates particle generation information as particle pixel number information. Output to the number / size notification unit 106.

【0049】パーティクル発生数計数部105は、カウ
ンタを備え、領域探索部101から高輝度画素情報が入
力される度に、カウンタのカウント値を1増加し、その
カウント値を粒子数情報として、パーティクル発生数/
大きさ通知部106に出力する。
The particle generation number counting unit 105 includes a counter. Each time high-luminance pixel information is input from the area search unit 101, the count value of the counter is increased by one, and the count value is used as particle number information. The number of occurrences/
Output to the size notification unit 106.

【0050】なお、上記した粒子によるレーザ光140
の散乱は、散乱する粒子の大きさによって異なる。従っ
て、領域内最大輝度値検出部102、領域内輝度値総和
計算部103、及び、領域内画素数計数部104のそれ
ぞれからの最大輝度値情報、輝度値総和情報、及び、粒
子画素数情報は、それぞれ粒子の大きさを示している。
また、パーティクル発生数計数部105からの粒子数情
報は、粒子発生数に関する情報を示している。
The laser light 140 generated by the above-described particles is used.
Scattering depends on the size of the scattering particles. Therefore, the maximum luminance value information, the luminance value total information, and the particle pixel number information from each of the intra-region maximum luminance value detection unit 102, the intra-region luminance value sum calculation unit 103, and the intra-region pixel number counting unit 104 are: , Respectively, indicate the size of the particles.
Further, the particle number information from the particle generation number counting unit 105 indicates information on the particle generation number.

【0051】パーティクル発生数/大きさ通知部106
は、メモリ等を備え、予め入力部106から入力された
基準となる最大輝度値、輝度値の総和、及び、画素数を
基準データとして記憶する。そして、パーティクル発生
数/大きさ通知部106は、領域内最大輝度値検出部1
02、領域内輝度値総和計算部103、及び、領域内画
素数計数部104から入力された情報を、それぞれ基準
データで示される値と比較して粒子の相対的な大きさを
求める。続いて、パーティクル発生数/大きさ通知部1
06は、各情報毎に求めた粒子の大きさに、入力部10
7から予め設定された重みをかけて平均をとり、粒子の
相対的な大きさを求め、大きさ情報として表示部108
に出力する。また、パーティクル発生数/大きさ通知部
106は、領域探索部101から入力されたゼロ情報に
応答して、パーティクル発生数計数部105から入力さ
れた粒子数情報を表示部108に出力する。
Particle generation number / size notification section 106
Has a memory or the like, and stores, as reference data, a maximum luminance value, a total sum of luminance values, and the number of pixels, which are input in advance from the input unit 106, as a reference. Then, the particle generation number / size notification unit 106 sets the maximum luminance value detection unit 1 in the area.
02, information input from the in-region luminance value sum calculation unit 103 and the in-region pixel number counting unit 104 are compared with the values indicated by the reference data to determine the relative size of the particles. Subsequently, the number of generated particles / size notification unit 1
06 is the size of the particle obtained for each information, and the input unit 10
7 is weighted in advance and averaged to obtain the relative size of the particles.
Output to Further, in response to the zero information input from area search section 101, particle generation number / size notification section 106 outputs the particle number information input from particle generation number counting section 105 to display section 108.

【0052】入力部107は、キーボード等を備え、領
域探索部101が、2次元画像データの処理で使用する
しきい値、及び、パーティクル発生数/大きさ通知部1
06が、粒子の相対的な大きさを求めるときに使用する
基準データ等を入力する。また、キーボードの所定キー
が押下されることにより、レーザ光源装置110や上記
した各部を制御する制御信号等が出力される。
The input unit 107 includes a keyboard and the like, and the area search unit 101 uses the threshold value used in processing of the two-dimensional image data and the number / size notification unit 1 of particle generation.
Reference numeral 06 inputs reference data or the like used when obtaining the relative size of the particles. In addition, when a predetermined key of the keyboard is pressed, a control signal or the like for controlling the laser light source device 110 and the above-described units is output.

【0053】表示部108は、パーティクル発生数/大
きさ通知部107から入力された、粒子の大きさや数等
に関する情報を出力する。この粒子の大きさや数等に関
する情報は、例えば、コンピュータ100の画面に表示
される。
The display unit 108 outputs information on the size and number of particles input from the particle generation number / size notification unit 107. Information on the size and number of the particles is displayed on the screen of the computer 100, for example.

【0054】次に、以上に示した構成のパーティクルモ
ニタシステムの動作について説明する。初めに、パーテ
ィクルモニタシステムの使用者が、コンピュータ100
の入力部107(キーボード)の所定キーを押下する。
この押下により、コンピュータ100からレーザ光源装
置110にレーザ光140の照射を指示する照射信号が
出力され、レーザ光源装置110は、プロセス装置12
0内へレーザ光140を照射する。
Next, the operation of the particle monitor system having the above configuration will be described. Initially, the user of the particle monitor system
Of the input unit 107 (keyboard) is pressed.
With this depression, an irradiation signal for instructing the laser light source device 110 to irradiate the laser light 140 is output from the computer 100, and the laser light source device 110
The laser light 140 is radiated into 0.

【0055】プロセス装置120に設けられた窓121
から入射されたレーザ光140は、その光路上に粒子が
存在すれば散乱される。レーザ光140の散乱光150
は、プロセス装置120に設けられた窓122から出射
され、散乱光検出器130に入射する。
The window 121 provided in the process device 120
The laser light 140 incident from the optical path is scattered if particles exist on the optical path. Scattered light 150 of laser light 140
Are emitted from the window 122 provided in the process apparatus 120 and enter the scattered light detector 130.

【0056】散乱光検出器130に入射した散乱光15
0は、CCDカメラ等で受光され、2次元画像データと
してコンピュータ100に出力される。
The scattered light 15 incident on the scattered light detector 130
0 is received by a CCD camera or the like and output to the computer 100 as two-dimensional image data.

【0057】コンピュータ100は、散乱光検出器13
0からの2次元画像データの入力に応答して、画素探索
処理を開始する。
The computer 100 includes a scattered light detector 13
In response to the input of two-dimensional image data from 0, a pixel search process is started.

【0058】図4は、コンピュータ100が行う画素探
索処理を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a pixel search process performed by the computer 100.

【0059】領域探索部101は、散乱光検出器130
からコンピュータ100に入力された2次元画像データ
を取得する(ステップS100)。
The area search unit 101 includes a scattered light detector 130
To obtain the two-dimensional image data input to the computer 100 (step S100).

【0060】領域探索部101は、2次元画像データで
示される各画素の輝度値を、入力部107から予め入力
されたしきい値と比較し、しきい値未満の画素の輝度値
をゼロにリセットする(ステップS101)。
The area search unit 101 compares the luminance value of each pixel represented by the two-dimensional image data with a threshold value previously input from the input unit 107, and sets the luminance value of a pixel less than the threshold value to zero. It is reset (step S101).

【0061】次に、領域探索部101は、処理した2次
元画像データを使用して画素を1つずつ走査し、しきい
値以上の輝度値を持つ画素を検出する(ステップS10
2)。この画素の走査方法は、例えば図2では、(1,
1)、(1,2)・・・(1,n)、(2,1)、・・
・、(2,n)、・・・という順に走査する。
Next, the area search unit 101 scans pixels one by one using the processed two-dimensional image data, and detects pixels having a luminance value equal to or higher than the threshold value (step S10).
2). This pixel scanning method is, for example, as shown in FIG.
1), (1, 2) ... (1, n), (2, 1), ...
.., (2, n),...

【0062】しきい値以上の輝度値を持つ画素を検出し
た場合(ステップS103;YES)、領域探索部10
1は、検出した画素に隣接する画素の中で、しきい値以
上の輝度値を持つ画素を検出する(ステップS10
4)。例えば、図2中の斜線部分が、しきい値以上の輝
度値を持つ画素であるとすると、領域探索部101は、
(1,1)の画素から順に走査していき、画素(2,
2)を一番初めに検出する。そして、(2,2)に隣接
する(1,2)、(2,1)、(2,3)、(3,2)
にある画素の内で、輝度値がしきい値以上である画素を
検出する。
When a pixel having a luminance value equal to or higher than the threshold value is detected (step S103; YES), the area search unit 10
1 detects a pixel having a luminance value equal to or higher than a threshold value among pixels adjacent to the detected pixel (step S10).
4). For example, assuming that a hatched portion in FIG. 2 is a pixel having a luminance value equal to or greater than a threshold value, the area searching unit 101
Scanning is performed in order from the pixel (1, 1), and the pixel (2,
2) is detected first. Then, (1,2), (2,1), (2,3), (3,2) adjacent to (2,2)
Of the pixels having the luminance value equal to or higher than the threshold value are detected.

【0063】しきい値以上の輝度値を持つ画素を検出し
た場合(ステップS105;YES)、領域探索部10
1は、ステップS104にリターンして、さらに検出し
た画素に隣接する画素の内で、輝度値がしきい値以上で
ある画素を検出する(ステップS104)。なお、領域
探索部101は、一度検出した画素を検索対象から除
く。図2では、ステップS104で(3,2)の画素を
検出し、ステップS104にリターンして(3,2)に
隣接する(3,1)、(3,3)、(4,2)の画素の
内で、輝度値がしきい値以上である画素を検出する。
When a pixel having a luminance value equal to or higher than the threshold value is detected (step S105; YES), the area search unit 10
1 returns to step S104, and among the pixels adjacent to the detected pixel, a pixel whose luminance value is equal to or larger than the threshold is detected (step S104). Note that the area search unit 101 excludes the pixel once detected from the search target. In FIG. 2, the pixel of (3, 2) is detected in step S104, and the process returns to step S104 to return to (3, 1), (3, 3), and (4, 2) adjacent to (3, 2). Among the pixels, a pixel whose luminance value is equal to or larger than a threshold value is detected.

【0064】しきい値以上の輝度値を持つ画素を検出で
きなかった場合(ステップS105;NO)、領域探索
部101は、検出したしきい値以上の輝度値を持つ画素
の位置(座標)及び輝度値を示す情報を高輝度画素情報
として、領域内最大輝度値検出部102、領域内輝度値
総和計算部103、領域内画素数計数部104、及び、
パーティクル発生数計数部105に出力する。なお、ス
テップS105でNOとなるまでに検出された隣接する
ひとまとまりの画素領域(高輝度画素領域)が、1つの
粒子によって散乱された散乱光150が入射した領域を
示す画素領域となる。
When a pixel having a luminance value equal to or higher than the threshold value cannot be detected (step S105; NO), the area search unit 101 determines the position (coordinate) of the pixel having the luminance value equal to or higher than the detected threshold value and Assuming that the information indicating the luminance value is high luminance pixel information, the maximum luminance value detection unit 102 within the region, the total luminance value calculation unit 103 within the region, the pixel number counting unit 104 within the region,
The number is output to the particle count counting unit 105. Note that a group of adjacent pixels (high-brightness pixel areas) detected until the result of the determination in step S105 becomes NO is a pixel area indicating an area where the scattered light 150 scattered by one particle is incident.

【0065】領域内最大輝度値検出部102は、入力さ
れた高輝度画素情報を使用して、高輝度画素領域にある
光の輝度値の内、最大の輝度値を求める(ステップS1
06)。
The maximum luminance value detection unit 102 in the area obtains the maximum luminance value among the luminance values of the light in the high luminance pixel area using the input high luminance pixel information (step S1).
06).

【0066】領域内輝度値総和計算部103は、入力さ
れた高輝度画素情報を使用して、高輝度画素領域にある
光の輝度値の総和を求める(ステップS107)。
The in-region brightness value sum calculation unit 103 calculates the sum of brightness values of light in the high brightness pixel region using the input high brightness pixel information (step S107).

【0067】領域内画素数係数部104は、入力された
高輝度画素情報を使用して、高輝度画素領域の画素数を
求める(ステップS108)。
The intra-region pixel number coefficient section 104 calculates the number of pixels in the high-luminance pixel region using the input high-luminance pixel information (step S108).

【0068】パーティクル発生数計数部105は、高輝
度画素情報の入力に応答して、カウンタのカウント値を
1増加する(ステップS109)。高輝度画素情報は、
1つの粒子によって散乱された散乱光150に関する情
報であるので、カウント値は検出された粒子数を表すこ
とになる。
The particle count counting unit 105 increases the count value of the counter by 1 in response to the input of the high luminance pixel information (step S109). High brightness pixel information is
Since the information is about the scattered light 150 scattered by one particle, the count value indicates the number of detected particles.

【0069】以上の領域内最大輝度値検出部102、領
域内輝度値総和計算部103、及び、領域内画素数計数
部104が求めた値は、それぞれ最大輝度値情報、輝度
値総和情報、粒子画素数情報として、パーティクル発生
数/大きさ通知部106に出力される。また、パーティ
クル発生数計数部105がカウントしたカウント値は、
粒子数情報としてパーティクル発生数/大きさ通知部1
06に出力される。この粒子数情報は、後述するよう
に、ステップS112で発生した粒子数として、表示部
108より出力される。
The values obtained by the intra-region maximum luminance value detection unit 102, the intra-region luminance value sum calculation unit 103, and the intra-region pixel number counting unit 104 are maximum luminance value information, luminance value total information, The number of generated particles / size notification unit 106 is output as pixel number information. Further, the count value counted by the particle generation number counting unit 105 is:
Particle number / size notification unit 1 as particle number information
06 is output. The particle number information is output from the display unit 108 as the number of particles generated in step S112, as described later.

【0070】パーティクル発生数/大きさ通知部106
は、入力された最大輝度値情報、輝度値総和情報、及
び、粒子画素数情報を基準データと比較し、各情報毎に
粒子の相対的な大きさを求める。そして、パーティクル
発生数/大きさ通知部106は、各情報毎に求めた大き
さに予め設定された重みをかけて平均をとり、平均をと
って得た粒子の大きさに関する情報を表示部108に出
力して、表示させる(ステップS110)。
The number of generated particles / size notifying section 106
Compares the input maximum luminance value information, luminance value sum information, and particle pixel number information with reference data, and obtains the relative size of the particles for each piece of information. Then, the particle generation number / size notification unit 106 multiplies the size obtained for each piece of information by a predetermined weight, takes an average, and displays information about the averaged particle size obtained by the display unit 108. To be displayed (step S110).

【0071】領域探索部101は、高輝度画素情報を出
力した後、検出した高輝度画素領域の輝度値をゼロにリ
セットして(ステップS111)、ステップS102に
リターンする。ステップS111において、検出した画
素の輝度値をゼロにリセットしたので、次にステップS
102で画素を走査したとき、最初にしきい値以上の輝
度値を持つ画素として検出されるのは、図2では(5,
6)の画素である。
After outputting the high luminance pixel information, the area search unit 101 resets the luminance value of the detected high luminance pixel area to zero (step S111), and returns to step S102. In step S111, the brightness value of the detected pixel is reset to zero.
When the pixel is scanned at 102, the pixel that is first detected as a pixel having a luminance value equal to or higher than the threshold value is (5, 5) in FIG.
6) Pixels.

【0072】以上の処理は、ステップS103でしきい
値以上の輝度値を持つ画素が存在しないと判断されるま
で繰り返される。
The above processing is repeated until it is determined in step S103 that there is no pixel having a luminance value equal to or larger than the threshold value.

【0073】ステップS103でしきい値以上の輝度値
を持つ画素を検出できなかった場合(ステップS10
3;NO)、領域探索部101は、しきい値以上の輝度
値を持つ画素が存在しないことを示すゼロ情報を、パー
ティクル発生数/大きさ通知部106に出力する。そし
て、パーティクル発生数/大きさ通知部106は、領域
探索部101からのゼロ情報の入力に応答して、記憶し
ているパーティクル発生数係数部105からの粒子数情
報を表示部108に出力して、コンピュータ100の画
面等に表示する(ステップS112)。
If no pixel having a luminance value equal to or higher than the threshold value is detected in step S103 (step S10)
3; NO), the area search unit 101 outputs to the particle generation number / size notification unit 106, zero information indicating that there is no pixel having a luminance value equal to or greater than the threshold value. Then, in response to the input of the zero information from region search section 101, particle generation number / size notification section 106 outputs the stored particle number information from particle generation number coefficient section 105 to display section 108. Then, it is displayed on the screen of the computer 100 (step S112).

【0074】領域探索部101は、パーティクルモニタ
システムの使用者が入力部107(キーボード)の所定
キーを押下して、入力部107から画素探索処理の終了
を示す終了信号が入力されたか否かを判断する(ステッ
プS113)。
The area search unit 101 determines whether or not the user of the particle monitor system has pressed a predetermined key of the input unit 107 (keyboard), and received an end signal indicating the end of the pixel search processing from the input unit 107. A determination is made (step S113).

【0075】終了信号が出力されなかった場合(ステッ
プS113;NO)、ステップS100にリターンし、
領域探索部101は、未処理の2次元画像データを取得
する(ステップS100)。
If the end signal has not been output (step S113; NO), the process returns to step S100.
The area search unit 101 acquires unprocessed two-dimensional image data (step S100).

【0076】終了信号が出力された場合(ステップS1
13;YES)、領域探索部101は、2次元画像デー
タを取得せず、画素探索処理を終了する。また、入力部
107から出力された終了信号は、レーザ光源装置11
0にも出力される。そして、レーザ光源装置110は、
終了信号の入力に応答して、レーザ光140の照射を終
了する。
When an end signal is output (step S1)
13; YES), the area search unit 101 ends the pixel search processing without acquiring the two-dimensional image data. The end signal output from the input unit 107 is the laser light source device 11
It is also output to 0. And the laser light source device 110
In response to the input of the end signal, the irradiation of the laser beam 140 ends.

【0077】以上のように、上記の処理(ステップS1
00から113までの処理)は、入力部107(キーボ
ード)の所定キーが押下され、終了信号が出力されるま
で繰り返される。
As described above, the above processing (step S1)
The processing from 00 to 113) is repeated until a predetermined key of the input unit 107 (keyboard) is pressed and an end signal is output.

【0078】また、以上のようにして、粒子の大きさに
関する情報が、リアルタイムでコンピュータ100の画
面等に表示されるので、どのような大きさの粒子が発生
しているかということを随時知ることができる。従っ
て、半導体製造装置内の粒子の発生が少なくなるよう
に、半導体製造装置を制御することができる。
Further, as described above, the information on the particle size is displayed on the screen of the computer 100 in real time, so that it is possible to know at any time what kind of particle is being generated. Can be. Therefore, the semiconductor manufacturing apparatus can be controlled such that generation of particles in the semiconductor manufacturing apparatus is reduced.

【0079】次に、本発明の第2の実施の形態にかかる
パーティクルモニタシステムについて図面を参照して説
明する。第2の実施の形態にかかるパーティクルモニタ
システムの物理的構成は、第1の実施の形態(図1)と
実質的に同一である。但し、第2の実施の形態にかかる
パーティクルモニタシステムの機能的構成は、第1の実
施の形態と異なる。具体的には、図5に示すように、コ
ンピュータ100は、第1の実施の形態で示した構成
(図3)に加えて、粒径計算部109をさらに備えてい
る。
Next, a particle monitor system according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The physical configuration of the particle monitor system according to the second embodiment is substantially the same as that of the first embodiment (FIG. 1). However, the functional configuration of the particle monitor system according to the second embodiment is different from that of the first embodiment. More specifically, as shown in FIG. 5, the computer 100 further includes a particle size calculation unit 109 in addition to the configuration (FIG. 3) described in the first embodiment.

【0080】また、コンピュータ100の領域探索部1
01は、検出した高輝度画素領域の位置と光の輝度値と
を示す高輝度画素情報を、領域内最大輝度値検出部10
2、領域内輝度値総和計算部103、領域内画素数計数
部104、及び、パーティクル発生数計数部105に出
力すると共に、粒径計算部109にも出力する。
The area search unit 1 of the computer 100
01, the high luminance pixel information indicating the position of the detected high luminance pixel area and the luminance value of the light,
2. Output to the in-region luminance value sum calculation unit 103, the in-region pixel number counting unit 104, and the particle generation number counting unit 105, and also output to the particle size calculation unit 109.

【0081】粒径計算部109は、メモリ等を備え、予
め入力されたパラメータやプログラム等を記憶する。具
体的には、粒径計算部109は、パーティクルの粒径を
レイリー散乱の公式を用いて求めるためのプログラム及
びパラメータと、求めた粒径を比較するための基準とな
る粒径(基準粒径)と、を記憶する。なお、基準粒径
は、製造される半導体(例えば超LSI)の設計寸法に
よって設定される。例えば、基準粒径は、半導体を構成
する配線等の最小寸法と同一の値又は若干小さい値に設
定される。
The particle size calculator 109 has a memory and the like, and stores parameters, programs and the like input in advance. Specifically, the particle size calculation unit 109 calculates a particle size (reference particle size) that is used as a reference for comparing the program and parameters for obtaining the particle size of the particles using the Rayleigh scattering formula with the obtained particle size. ). Note that the reference particle size is set according to the design dimensions of a semiconductor (for example, a super LSI) to be manufactured. For example, the reference particle size is set to the same value or a value slightly smaller than the minimum size of the wiring and the like constituting the semiconductor.

【0082】また、粒径計算部109は、領域探索部1
01からの高輝度画素情報で示される輝度値から散乱光
の強度を算出する。なお、輝度値と散乱光の強度との関
係は、強度が明らかな光源を用いた実験等によって求め
られ、粒径計算部109に予めセットされている。
Further, the particle size calculation unit 109 includes the area search unit 1
The intensity of the scattered light is calculated from the luminance value indicated by the high luminance pixel information from 01. Note that the relationship between the luminance value and the intensity of the scattered light is determined by an experiment or the like using a light source whose intensity is clear, and is set in the particle size calculation unit 109 in advance.

【0083】また、粒径計算部109は、算出した散乱
光の強度とレイリー散乱の式とを用いて、パーティクル
の粒径を計算する。そして、粒径計算部109は、求め
た粒径が基準粒径より大きいか否かを判別する。即ち、
粒径計算部109は、求めた粒径が、製造される半導体
に不良を発生させる大きさであるか否かを判別し、不良
を発生させる大きさであると判別した場合には、プロセ
ス装置120に製造中止信号を出力して、半導体の製造
を中止させる。なお、パーティクルモニタシステムの上
記以外の機能的構成及び動作は、第1の実施の形態と実
質的に同一である。
The particle size calculation unit 109 calculates the particle size of the particles using the calculated scattered light intensity and the Rayleigh scattering equation. Then, the particle size calculation unit 109 determines whether the obtained particle size is larger than the reference particle size. That is,
The particle size calculation unit 109 determines whether or not the obtained particle size is a size that causes a defect in a semiconductor to be manufactured. A production stop signal is output to 120 to stop the manufacture of the semiconductor. Note that the other functional configurations and operations of the particle monitor system are substantially the same as those of the first embodiment.

【0084】次に、上記粒径計算部109が粒径を計算
する際の、コンピュータ100の動作について説明す
る。始めに、第1の実施の形態と同様に、パーティクル
モニタシステムの使用者が、コンピュータ100の入力
部107(キーボード)の所定キーを押下する。この押
下により、コンピュータ100からレーザ光源装置11
0にレーザ光140の照射を指示する照射信号が出力さ
れ、レーザ光源装置110は、プロセス装置120内へ
レーザ光140を照射する。
Next, the operation of the computer 100 when the particle size calculator 109 calculates the particle size will be described. First, similarly to the first embodiment, the user of the particle monitor system presses a predetermined key of the input unit 107 (keyboard) of the computer 100. By this pressing, the computer 100 sends the laser light source device 11
An irradiation signal instructing the irradiation of the laser light 140 to 0 is output, and the laser light source device 110 irradiates the laser light 140 into the process device 120.

【0085】プロセス装置120内に照射されたレーザ
光140は、プロセス装置120内で発生したパーティ
クルによって散乱され、散乱光150としてプロセス装
置120の窓122から出射する。プロセス装置120
から出射した散乱光150は、散乱光検出器130によ
って受光され、2次元画像データとしてコンピュータ1
00に出力される。
The laser light 140 applied to the process device 120 is scattered by particles generated in the process device 120 and is emitted as scattered light 150 from the window 122 of the process device 120. Process device 120
Scattered light 150 emitted from the computer 1 is received by the scattered light detector 130 and is converted into two-dimensional image data by the computer 1.
Output to 00.

【0086】図6は、コンピュータ100が行う粒径計
算処理を示すフローチャートである。始めに、第1の実
施の形態と同様に、領域探索部101が、散乱検出器1
30からコンピュータ100に入力された2次元画像デ
ータを取得する(ステップS200)。
FIG. 6 is a flowchart showing the particle size calculation processing performed by the computer 100. First, as in the first embodiment, the area search unit 101 sets the scatter detector 1
The two-dimensional image data input to the computer 100 from the computer 30 is obtained (step S200).

【0087】そして、領域探索部101は、第1の実施
の形態と同様に、しきい値以上の輝度値を持つ画素の位
置(座標)及び輝度値を検出し、高輝度画素情報として
粒径計算部109に出力する。粒径計算部109は、領
域探索部101から入力された高輝度画素情報から散乱
光の強度を算出する(ステップS201)。
Then, as in the first embodiment, the area search unit 101 detects the position (coordinate) and luminance value of a pixel having a luminance value equal to or greater than the threshold value, and determines the particle size as high luminance pixel information. Output to calculation section 109. The particle size calculation unit 109 calculates the intensity of the scattered light from the high luminance pixel information input from the region search unit 101 (Step S201).

【0088】そして、粒径計算部109は、算出した散
乱光150の強度とレイリー散乱の公式とを使用し、パ
ーティクルの粒径を求める(ステップS202)。な
お、具体的な計算については、後述する。粒径計算部1
09は、求めた粒径が予め記憶した基準粒径より大きい
か否かを判別する。即ち、粒径計算部109は、プロセ
ス装置100内で発生したパーティクルが、製造される
半導体に不良を発生させるか否かを判別する(ステップ
S203)。
Then, the particle size calculation unit 109 obtains the particle size of the particles by using the calculated intensity of the scattered light 150 and the Rayleigh scattering formula (step S202). The specific calculation will be described later. Particle size calculator 1
In step 09, it is determined whether or not the obtained particle size is larger than a previously stored reference particle size. That is, the particle size calculation unit 109 determines whether or not particles generated in the process apparatus 100 cause a defect in a semiconductor to be manufactured (step S203).

【0089】求めた粒径が基準粒径以下、即ち、プロセ
ス装置120内で発生したパーティクルは製造される半
導体に不良を発生させないと判別した場合(ステップS
203;NO)、粒径計算部109は製造中止信号を出
力しないので、プロセス装置100は半導体の製造を継
続する。このため、散乱光検出器130からコンピュー
タ100に、次の2次元画像データが入力される。即
ち、コンピュータ100は、ステップS200にリター
ンして上記処理を行う。
When it is determined that the obtained particle size is equal to or smaller than the reference particle size, that is, the particles generated in the process apparatus 120 do not cause a defect in the semiconductor to be manufactured (Step S).
203; NO), since the particle size calculation unit 109 does not output the production stop signal, the process apparatus 100 continues the production of the semiconductor. Therefore, the following two-dimensional image data is input from the scattered light detector 130 to the computer 100. That is, the computer 100 returns to step S200 and performs the above processing.

【0090】求めた粒径が基準粒径よりも大きい、即
ち、プロセス装置120内で発生したパーティクルは製
造される半導体に不良を発生させると判別した場合(ス
テップS203;YES)、粒径計算部109は、プロ
セス装置120に製造中止信号を出力し(ステップS2
04)、半導体の製造を中止させる。以上で、コンピュ
ータ100が行う粒径計算処理が終了する。
If the determined particle size is larger than the reference particle size, that is, if it is determined that the particles generated in the process apparatus 120 cause a defect in the semiconductor to be manufactured (step S203; YES), the particle size calculation unit 109 outputs a production stop signal to the process device 120 (step S2).
04) Stop manufacturing the semiconductor. Thus, the particle size calculation process performed by the computer 100 ends.

【0091】次に、粒径計算部109が上記ステップS
202で行う粒径の計算について説明する。上記粒径の
計算で使用されるレイリー散乱の公式は、数式1で与え
られる。
Next, the particle size calculation unit 109 executes step S
The calculation of the particle size performed in 202 will be described. The Rayleigh scattering formula used in the above particle size calculation is given by Equation 1.

【0092】[0092]

【数1】I=[(1+cosθ)/2/r]・[2
π/λ]・|(m−1)/(m+2)|・[a
/2]・I
I 1 = [(1 + cos 2 θ) / 2 / r 2 ] · [2
π / λ] 4 · | (m 2 -1) / (m 2 +2) | 2 · [a
/ 2] 6 · I 0

【0093】なお、Iは入射レーザ光の強度、I
散乱光の強度、θは入射レーザ光と検出される散乱光と
がなす角、rは散乱光発生地点から散乱光の検出地点ま
での距離、λは入射レーザ光の波長、mは屈折率、aは
パーティクルの粒径である。
Here, I 0 is the intensity of the incident laser light, I 1 is the intensity of the scattered light, θ is the angle between the incident laser light and the detected scattered light, and r is the scattered light detection point from the scattered light generation point. , Λ is the wavelength of the incident laser light, m is the refractive index, and a is the particle size of the particles.

【0094】粒径計算部109に予め与えられているパ
ラメータは、I、θ、r、λ、及び、mである。そし
て、Iは、上記したように粒径計算部109によって
求められる。但し、散乱光検出器130によって検出さ
れる散乱光の輝度値、即ち、粒径計算部109によって
算出される散乱光の強度は、検出システム(散乱光検出
器130等)独自の感度によって、実際の散乱光強度と
は異なる。このため、検出システムの感度を補正するた
めの比例定数(S)が必要である。このSは、粒径が予
め分かっているパーティクルを測定し、実際の大きさと
測定した大きさとを比較することによって得られ、数式
2で表される。
The parameters given to the particle size calculator 109 in advance are I 0 , θ, r, λ, and m. Then, I 1 is obtained by the particle size calculation unit 109 as described above. However, the luminance value of the scattered light detected by the scattered light detector 130, that is, the intensity of the scattered light calculated by the particle size calculation unit 109 depends on the sensitivity of the detection system (such as the scattered light detector 130). Scattered light intensity. Therefore, a proportionality constant (S) for correcting the sensitivity of the detection system is required. This S is obtained by measuring a particle whose particle diameter is known in advance, and comparing the actual size with the measured size, and is represented by Expression 2.

【0095】[0095]

【数2】S=q・5/IS = q · 5 / I

【0096】なお、qは粒径が既知であるパーティクル
に照射された、強度が既知である標準光源(レーザ)の
散乱光の最大輝度値、Iは標準光源の散乱光の強度であ
る。
Here, q is the maximum luminance value of the scattered light of a standard light source (laser) having a known intensity, which is applied to particles having a known particle size, and I is the intensity of the scattered light of the standard light source.

【0097】以上の数式及びパラメータから、プロセス
装置120内で発生したパーティクルの粒径(a)を求
めることができる。この際、上記したように、粒径計算
部109は、実験等から求められた関係を用いて散乱光
の強度を算出し、その値を上記比例定数(S)で補正し
ている。このため、プロセス装置120内で発生したパ
ーティクルの相対的な大きさではなく絶対的な大きさ
(粒径)を求めることができる。
From the above formulas and parameters, the particle size (a) of the particles generated in the process apparatus 120 can be obtained. At this time, as described above, the particle size calculation unit 109 calculates the intensity of the scattered light using the relationship obtained from an experiment or the like, and corrects the value with the proportionality constant (S). Therefore, the absolute size (particle size) of the particles generated in the process apparatus 120 can be obtained instead of the relative size.

【0098】また、以上のようにして求められた粒径が
基準粒径より大きい場合、半導体の製造が中止されるた
め、不良な半導体を製造してしまうことを防止できる。
即ち、製造される半導体の高い歩留まりを実現すること
ができる。
If the particle size obtained as described above is larger than the reference particle size, the production of the semiconductor is stopped, so that the production of a defective semiconductor can be prevented.
That is, a high yield of the manufactured semiconductor can be realized.

【0099】実際に以上のようにして、プロセス装置1
20内に発生させたチタンのパーティクルにYAG(yt
trium alminum garnet)レーザの2倍高長波を照射し、
CCDカメラを備えた散乱光検出器130で粒径を測定
した結果を以下に示す。なお、各パラメータは、θ=9
0°、r=1m、λ=532nm、m=3.48+2.
27i、I=4298W/cm、S=6.2×10
14である。これらのパラメータと上記数式とから、プ
ロセス装置120内に発生したチタンのパーティクルの
粒径(a)は21nmであると得られた。
[0099] The process apparatus 1
YAG (yt)
irradiates twice as long wave as laser
The results of measuring the particle size with the scattered light detector 130 equipped with a CCD camera are shown below. Note that each parameter is θ = 9
0 °, r = 1 m, λ = 532 nm, m = 3.48 + 2.
27i, I 0 = 4298 W / cm 2 , S = 6.2 × 10
14 . From these parameters and the above formula, it was obtained that the particle size (a) of the titanium particles generated in the process apparatus 120 was 21 nm.

【0100】図7(a)及び図7(b)は、それぞれ以
上のような粒径の測定を半導体製造装置の稼働中に行
い、得られたパーティクルの粒径をプロットした例であ
る。なお、図7(a)及び図7(b)中で白丸が左縦軸
に示すパーティクルの粒径を表しており、実線や点線が
右縦軸に示す半導体製造装置の稼働状態を示すステータ
ス信号を表している。また、図7(a)及び図7(b)
中の横軸は、半導体製造プロセスの時間を表している。
FIGS. 7A and 7B are examples in which the above-described measurement of the particle size is performed during operation of the semiconductor manufacturing apparatus, and the particle size of the obtained particles is plotted. 7 (a) and 7 (b), white circles represent the particle diameters of the particles shown on the left vertical axis, and solid lines and dotted lines show the operating state of the semiconductor manufacturing apparatus shown on the right vertical axis. Is represented. FIG. 7A and FIG. 7B
The horizontal axis represents the time of the semiconductor manufacturing process.

【0101】図7(a)及び図7(b)から、半導体の
製造中にプロセス装置120内で発生するパーティクル
の粒径がどのように変化するかが分かる。このような測
定によって得られた粒径の情報は、パーティクルの発生
原因を調べるための手がかりとして利用することができ
る。
FIGS. 7A and 7B show how the particle size of the particles generated in the process apparatus 120 during the manufacture of the semiconductor changes. The information on the particle size obtained by such measurement can be used as a clue for examining the cause of the generation of particles.

【0102】また、大きさが既知である様々な種類のパ
ーティクルを用いて上記と同様の測定を行うことによ
り、パーティクルモニタシステム(散乱光検出器13
0)がどのような大きさのパーティクルまで検出可能で
あるかというパーティクル検出限界を得ることができ
る。
Further, the same measurement as described above is performed using various types of particles of which the size is known, so that the particle monitor system (scattered light detector 13
A particle detection limit can be obtained as to what size of particle can be detected by 0).

【0103】図8は、パーティクルモニタシステムのパ
ーティクル検出限界を示す図である。図8中で、縦軸は
散乱光によって散乱光検出器130を構成するCCD1
画素に発生する電子数を示している。また、横軸はパー
ティクルの大きさを示している。なお、パーティクルの
種類は、Al(アルミニウム)、Ti(チタン)、W
(タングステン)、Al(酸化アルミニウム)、
及び、SiO(二酸化ケイ素)である。また、CCD
1画素に発生した電子数は、画素の輝度値に比例してい
るので、輝度値又は散乱光強度から求められる。
FIG. 8 is a diagram showing a particle detection limit of the particle monitor system. In FIG. 8, the vertical axis indicates the CCD 1 constituting the scattered light detector 130 by the scattered light.
The number of electrons generated in the pixel is shown. The horizontal axis indicates the size of the particles. The types of particles are Al (aluminum), Ti (titanium), W
(Tungsten), Al 2 O 3 (aluminum oxide),
And SiO 2 (silicon dioxide). Also, CCD
Since the number of electrons generated in one pixel is proportional to the luminance value of the pixel, it can be obtained from the luminance value or the scattered light intensity.

【0104】パーティクルモニタシステムのパーティク
ル検出限界は、実際のパーティクルの大きさと、測定に
よって得られたパーティクルの大きさとが誤差の範囲内
で一致しなくなった所である。具体的には、図8に示す
ように、パーティクルの粒径が小さくなるにつれてCC
D1画素に発生する電子数が少なくなる。そして、電子
数がある値(図8では132)より少なくなると、散乱
光150が背景のノイズと区別されなくなったり、正確
な粒径が求められなかったりする。
The particle detection limit of the particle monitor system is where the actual particle size and the particle size obtained by measurement no longer match within an error range. Specifically, as shown in FIG.
The number of electrons generated in the D1 pixel decreases. If the number of electrons is smaller than a certain value (132 in FIG. 8), the scattered light 150 may not be distinguished from background noise, or an accurate particle size may not be obtained.

【0105】以上のように、パーティクルモニタシステ
ムのパーティクル検出限界が明らかになると、製造する
半導体の種類によって、最適な検出限界を有するパーテ
ィクルモニタシステムを構成することができる。また、
パーティクルモニタシステムのパーティクル検出限界に
合わせて、半導体製造の条件を変更したりすることがで
きる。
As described above, when the particle detection limit of the particle monitor system becomes clear, a particle monitor system having an optimum detection limit can be configured depending on the type of semiconductor to be manufactured. Also,
The semiconductor manufacturing conditions can be changed according to the particle detection limit of the particle monitor system.

【0106】なお、パーティクル発生数/大きさ通知部
106が粒子の相対的な大きさを求める時、入力部10
7から入力された基準データの代わりに、過去の測定で
得られた最大輝度値、輝度値の総和、及び、画素数を基
準値に設定して比較し、粒子の相対的な大きさを求めて
もよい。
When the particle generation number / size notifying unit 106 calculates the relative size of the particles, the input unit 10
Instead of the reference data input from step 7, the maximum brightness value obtained in the past measurement, the sum of the brightness values, and the number of pixels are set as reference values and compared to determine the relative size of the particles. You may.

【0107】さらに、パーティクル発生数/大きさ通知
部106が粒子の大きさを求める時、入力部107から
の基準データの代わりに、大きさが予めわかっている粒
子を使用して実験等で得られた最大輝度値、輝度値の総
和、及び、画素数を基準値に設定してもよい。この場
合、結果として得られる粒子の大きさは、実際の粒子の
大きさを表している。
Further, when the particle generation number / size notifying unit 106 calculates the particle size, the particle size is determined in advance by using particles whose size is known in advance instead of the reference data from the input unit 107. The obtained maximum luminance value, the sum of the luminance values, and the number of pixels may be set as reference values. In this case, the resulting particle size is representative of the actual particle size.

【0108】また、パーティクル発生数/大きさ通知部
106が、入力された最大輝度値情報、輝度値総和情
報、及び、画素数情報をデータとしてメモリ等に蓄積す
れば、ある期間内に発生した粒子の大きさと数を知るこ
とができる。従って、粒子の大きさやその数についての
統計を取ることができ、粒子の発生原因や発生メカニズ
ムを探る手がかりとして利用することもできる。
Further, if the number of generated particles / size notifying section 106 stores the input maximum luminance value information, total luminance value information, and information on the number of pixels as data in a memory or the like, it is generated within a certain period. You can know the size and number of particles. Therefore, statistics on the size and number of particles can be obtained, and can be used as clues to find out the cause and mechanism of generation of particles.

【0109】上記の画素探索処理において、入力部10
7から出力される終了信号は、入力部107がタイマー
機能も備え、予め設定された時間が経過すると自動的に
出力されるようにしてもよい。
In the above-described pixel search processing, the input unit 10
The end signal output from 7 may be configured such that the input unit 107 also has a timer function and is automatically output after a preset time has elapsed.

【0110】また、以上の実施の形態では、コンピュー
タ100が、領域内最大輝度値検出部102、領域内輝
度値総和計算部103、及び、領域内画素数計数部10
4の全ての機能を備える場合を示したが、これらの内の
1つ又は2つだけを備えるような構成にしてもよい。ま
たは、パーティクル発生数/大きさ通知部106が、粒
子の相対的な大きさを求める時に使用する重みの設定を
変更して、領域内最大輝度値検出部102、領域内輝度
値総和計算部103、及び、領域内画素数計数部104
の内の1つ又は2つだけが実質的に機能するようにして
もよい。ただし、上記のように領域内最大輝度値検出部
102、領域内輝度値総和計算部103、及び、領域内
画素数計数部104からの情報を互いに考慮して組み合
わせて使用した方が、より正確に粒子の相対的な大きさ
を求めることができる。
In the above embodiment, the computer 100 includes the maximum brightness value detecting section 102, the total brightness value calculating section 103, and the pixel number counting section 10.
Although the case where all four functions are provided is shown, a configuration in which only one or two of these functions are provided may be adopted. Alternatively, the number of generated particles / size notifying unit 106 changes the setting of the weight used when calculating the relative size of the particles, and the maximum luminance value detection unit 102 within the region and the total luminance value calculation unit 103 within the region , And the number-of-pixels-in-region counting unit 104
May be substantially functional. However, as described above, it is more accurate to use the information from the intra-region maximum luminance value detection unit 102, the intra-region luminance value sum calculation unit 103, and the intra-region pixel number counting unit 104 in combination with each other. The relative size of the particles can be determined.

【0111】また、パーティクル発生数/大きさ通知部
106が粒子の相対的な大きさを求める方法は、最大輝
度値、輝度値の総和、及び、画素数のそれぞれから得ら
れた大きさに重みをかけて平均をとる方法に限定されな
い。例えば、初めに最大輝度値から得られた相対的な大
きさと、輝度値の総和から得られた相対的な大きさとの
平均をとり、この平均値と画素数から得られた相対的な
大きさとの平均をとるという方法がある。このほかに
も、目的等に応じて適宜変更可能である。
The method by which the particle generation number / size notifying unit 106 obtains the relative size of the particles is based on the maximum brightness value, the sum of the brightness values, and the size obtained from each of the number of pixels. The method is not limited to the method of calculating the average by multiplying by. For example, first, the average of the relative size obtained from the maximum luminance value and the relative size obtained from the sum of the luminance values is calculated, and the relative size obtained from the average value and the number of pixels is calculated. There is a method of taking the average of In addition, it can be appropriately changed according to the purpose and the like.

【0112】さらに、レーザ光140の散乱光150
は、粒子の大きさだけでなくその形状によっても異なる
ので、予め粒子の形状を考慮して高輝度画素情報を処理
することにより、より正確な粒子の大きさを求めること
ができる。
Further, the scattered light 150 of the laser light 140
Varies depending not only on the size of the particle but also on its shape. Therefore, by processing the high-brightness pixel information in consideration of the shape of the particle in advance, a more accurate particle size can be obtained.

【0113】また、レーザ光源装置110は、駆動装置
を備えて、必要に応じてレーザ140をある領域内で走
査させてもよい。
The laser light source device 110 may be provided with a driving device to scan the laser 140 within a certain area as needed.

【0114】また、表示部108は、スピーカ等を備
え、粒子の数や大きさを画面等に表示すると共に、音声
によって、粒子の数や大きさを使用者に通知するように
してもよい。
The display unit 108 may include a speaker or the like, display the number and size of particles on a screen or the like, and notify the user of the number and size of particles by voice.

【0115】また、第2の実施の形態で、コンピュータ
100の領域内最大輝度値検出部102は、検出した最
大の輝度値を示す最大輝度値情報をパーティクル発生数
/大きさ通知部106及び粒径計算部109に出力し、
粒径計算部109は、パーティクル発生数/大きさ通知
部106から入力された最大輝度値情報で示される最大
の輝度値から散乱光150の強度を求めるようにしても
よい。但し、このような構成にする場合、予め最大輝度
値と散乱光強度との関係を実験や理論式等から求め、粒
径計算部109にセットしなければならない。このよう
に、実験や理論式等から得た関係を用いて散乱光強度を
求めることによって、パーティクルの絶対的な(実際
の)大きさを求めることができる。
In the second embodiment, the maximum luminance value detecting unit 102 in the area of the computer 100 transmits the maximum luminance value information indicating the detected maximum luminance value to the particle generation number / size notifying unit 106 and the particle Output to the diameter calculation unit 109,
The particle size calculation unit 109 may determine the intensity of the scattered light 150 from the maximum luminance value indicated by the maximum luminance value information input from the particle generation number / size notification unit 106. However, in the case of such a configuration, the relationship between the maximum luminance value and the scattered light intensity must be obtained in advance from experiments, theoretical expressions, and the like, and set in the particle size calculation unit 109. As described above, the absolute (actual) size of the particles can be obtained by obtaining the scattered light intensity using the relationship obtained from experiments, theoretical expressions, and the like.

【0116】また、粒径計算部109が求めた粒径や、
プロセス装置120に製造中止信号を出力した旨のメッ
セージ等を表示部108に表示し、パーティクルモニタ
システムの使用者に通知するようにしてもよい。
The particle size calculated by the particle size calculation unit 109,
A message or the like indicating that the production stop signal has been output to the process device 120 may be displayed on the display unit 108 to notify the user of the particle monitor system.

【0117】また、第2の実施の形態で、パーティクル
の粒径が基準粒径よりも大きくなって半導体の製造を中
止した後、炉内を加熱するなどして炉内の反応副生成物
を除去するようにしてもよい。このようにすると、炉内
に一定以上の反応副生成物が存在しないようにすること
ができ、パーティクルの発生を一定以下に抑えることが
できる。結果として、製造される半導体の高い歩留まり
を実現することができる。
In the second embodiment, after the particle size of the particles becomes larger than the reference particle size and the semiconductor production is stopped, the reaction by-products in the furnace are removed by heating the furnace. It may be removed. By doing so, a certain amount or more of reaction by-products can be prevented from being present in the furnace, and the generation of particles can be suppressed to a certain amount or less. As a result, a high yield of the manufactured semiconductor can be realized.

【0118】なお、コンピュータ100が備える上記の
機能は、例えば、上述の各処理を行うためのプログラム
及びデータを記録媒体(FD、CD−ROM、MO等)
に記録して配布し、これをインストールしてOS(Oper
ating System)上で実行することにより実現できる。
The above-described functions of the computer 100 include, for example, a program and data for performing the above-described processes stored in a recording medium (FD, CD-ROM, MO, etc.).
And distribute it, install it and install it on OS (Oper
ating System).

【0119】[0119]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
により、粒子に対応する画素領域の画素数、最大輝度
値、及び、輝度値の総和という単純な情報を基準値と比
較するだけで、粒子の相対的な大きさを求めることがで
きる。従って、簡単な構成で粒子の相対的な大きさを求
めることができ、さらに粒子の相対的な大きさを求める
までの時間を短縮することができる。また、散乱光の強
度からパーティクルの絶対的な大きさを求めることがで
きる。このため、測定したパーティクルが、半導体の製
造によって発生したものであれば、パーティクルの大き
さが製造中の半導体に不良を発生させる大きさである場
合は、半導体の製造を中止することができる。即ち、製
造される半導体の高い歩留まりを実現することができ
る。
As is clear from the above description, according to the present invention, simple information such as the number of pixels in the pixel area corresponding to the particle, the maximum luminance value, and the sum of the luminance values can be compared with the reference value. , The relative size of the particles can be determined. Therefore, the relative size of the particles can be obtained with a simple configuration, and the time required for obtaining the relative size of the particles can be reduced. Further, the absolute size of the particles can be obtained from the intensity of the scattered light. For this reason, if the measured particles are generated by the manufacture of the semiconductor, the manufacture of the semiconductor can be stopped if the size of the particles is large enough to cause a defect in the semiconductor being manufactured. That is, a high yield of the manufactured semiconductor can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態にかかるパーティクルモニタ
システムの構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a particle monitor system according to a first embodiment.

【図2】反射光を検出した画素の状態を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a state of a pixel that has detected reflected light.

【図3】第1の実施の形態にかかるパーティクルモニタ
システムを構成するコンピュータの構成を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a computer that configures the particle monitor system according to the first embodiment;

【図4】パーティクルモニタシステムを構成するコンピ
ュータが行う画素探索処理を示すフローチャートであ
る。
FIG. 4 is a flowchart illustrating a pixel search process performed by a computer constituting the particle monitor system.

【図5】第2の実施の形態にかかるパーティクルモニタ
システムを構成するコンピュータの構成を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of a computer that configures a particle monitor system according to a second embodiment;

【図6】パーティクルモニタシステムを構成するコンピ
ュータが行う粒径計算処理を示すフローチャートであ
る。
FIG. 6 is a flowchart illustrating a particle size calculation process performed by a computer configuring the particle monitor system.

【図7】半導体の製造プロセス中に粒径を測定した結果
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a result of measuring a particle diameter during a semiconductor manufacturing process.

【図8】パーティクルモニタシステムのパーティクル検
出限界を測定した結果を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a result of measuring a particle detection limit of the particle monitor system.

【図9】従来のパーティクルモニタシステムの構成を示
す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a conventional particle monitor system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 レーザ光源 12 散乱光検出器 13 振動ミラー 15 反応チャンバ 16 導入窓 17 検出窓 18 ビームダンパ 19 粒子 100 コンピュータ 101 領域探索部 102 領域内最大輝度値検出部 103 領域内輝度値総和計算部 104 領域内画素数計数部 105 パーティクル発生数計数部 106 パーティクル発生数/大きさ通知部 107 入力部 108 表示部 109 粒径計算部 110 レーザ光源装置 120 プロセス装置 121 窓 122 窓 123 吸収器 130 散乱光検出器 140 レーザ光 150 散乱光 REFERENCE SIGNS LIST 11 laser light source 12 scattered light detector 13 vibrating mirror 15 reaction chamber 16 introduction window 17 detection window 18 beam damper 19 particle 100 computer 101 area search unit 102 maximum brightness value detection unit 103 within area brightness value sum calculation unit 104 area pixel Number counting unit 105 Particle generation number counting unit 106 Particle generation number / size notification unit 107 Input unit 108 Display unit 109 Particle size calculation unit 110 Laser light source device 120 Process device 121 Window 122 Window 123 Absorber 130 Scattered light detector 140 Laser Light 150 Scattered light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 21/66 H01L 21/66 J Z (56)参考文献 特開 平5−273110(JP,A) 特開 平11−51622(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 15/00 G01B 11/00 G01N 15/14 H01L 21/66 G01N 21/956 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H01L 21/66 H01L 21/66 JZ (56) References JP-A-5-273110 (JP, A) JP-A-11-51622 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01N 15/00 G01B 11/00 G01N 15/14 H01L 21/66 G01N 21/956

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】パーティクルモニタ対象領域にレーザ光を
照射するレーザ照射手段と、 マトリックス状に配置された複数の受光素子を備え、複
数の前記パーティクルによって散乱された前記レーザ光
の散乱光を受光し、複数の画素の輝度値を示す画像デー
出力する受光手段と、 前記受光手段出力した前記画像データを使用して、
め設定されたしきい値以上の輝度値を有する互いに隣接
する画素のひとまとまりの領域を、1つのパーティクル
によって散乱された散乱光が入射した領域に対応する画
素領域として検出し、該画素領域に含まれる各画素の輝
度値を示す高輝度画素情報を出力する領域検出手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記 画素領域内の最大
輝度値を検出する最大輝度値検出手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の画素
数を計数する画素数計数手段と、 前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の輝度
値の総和を求める総和手段と、 前記 最大輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそれぞ
を、予め設定された基準値と比較することにより、パ
ーティクルの相対的な大きさを測定する大きさ測定手段
と、 を備えることを特徴とするパーティクルモニタ装置。
A laser irradiating means for irradiating a laser beam to a particle monitoring target area; and a plurality of light receiving elements arranged in a matrix, and receiving scattered light of the laser light scattered by the plurality of particles. a light receiving means for outputting the image data representing the luminance values of a plurality of pixels, using the image data which the receiving means is outputted, pre
Adjacent to each other with a brightness value above the set threshold
A group of pixels to be detected is detected as a pixel region corresponding to a region where scattered light scattered by one particle enters, and the brightness of each pixel included in the pixel region is detected.
Area detection means for outputting high-brightness pixel information indicating a degree value; maximum-brightness value detection means for detecting a maximum-brightness value in the pixel region using the high-brightness pixel information; and Use the pixels in the pixel area
Pixel number counting means for counting the number of pixels, and using the high-brightness pixel information, the brightness in the pixel area.
A summing means for obtaining the sum of the values, the maximum luminance value, the number of pixels, and that of the total
And a size measuring means for measuring the relative size of the particles by comparing this with a preset reference value.
【請求項2】前記受光手段が出力した前記画像データが2. The image data output by the light receiving means is
示す前記輝度値の内、前記しきい値未満の輝度値をゼロAmong the luminance values shown, a luminance value less than the threshold value is set to zero.
にリセットする初期化手段をさらに備え、Further comprising initialization means for resetting to 前記領域検出手段は、前記初期化手段が輝度値をリセッThe area detecting means resets the luminance value by the initialization means.
トした前記画像データを使用して前記画素領域を検出すDetecting the pixel area using the scanned image data
る、, ことを特徴とする請求項1に記載のパーティクルモニタThe particle monitor according to claim 1, wherein
装置。apparatus.
【請求項3】前記領域検出手段は、前記画像データを使3. The area detecting means uses the image data.
用して画素を1つずつ走査し、前記Scan the pixels one by one using しきい値以上の輝度Brightness above threshold
値を持つ第1画素を1つ検出すると、該第1画素に連続When one first pixel having a value is detected, the first pixel is connected to the first pixel.
して連なり、前記しきい値以上の輝度値を有する第2画And a second image having a luminance value equal to or greater than the threshold value.
素を全て検出し、前記第1画素と前記第2画素のひとまAll the elements are detected, and the first pixel and the second pixel
とまりの領域を前記画素領域として検出する、ことを特Detecting a stop area as the pixel area.
徴とする請求項1又は2に記載のパーティクルモニタ装The particle monitor device according to claim 1 or 2, wherein
置。Place.
【請求項4】前記領域検出手段が前記画素領域を1つ検4. The apparatus according to claim 1, wherein said area detecting means detects one of said pixel areas.
出する毎に、前記画像データが示す、該画素領域に含まEvery time the image data is output,
れる画素の輝度値をゼロにリセットするリセット手段をReset means to reset the brightness value of the pixel to be reset to zero.
さらに備え、In addition, 前記領域検出手段は、1つの前記画素領域を検出したThe area detecting means has detected one pixel area.
後、前記リセット手段が1つの該画素領域に含まれる画Thereafter, the reset unit outputs the image included in one of the pixel regions.
素の輝度値をゼロにリセットする毎に、他の前記画素領Each time the pixel luminance value is reset to zero, the other pixel area
域を1つ検出する、Detect one area, ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のThe method according to any one of claims 1 to 3, wherein
パーティクルモニタ装置。Particle monitor device.
【請求項5】前記大きさ測定手段は、前記最大輝度値、5. The apparatus according to claim 1, wherein said size measuring means comprises:
前記画素数、及び、前記総和のそれぞれから得られたパThe number of pixels and the parameters obtained from each of the sums
ーティクルの大きさに、予め設定された重みをかけて平Multiply the size of the article by a preset weight
均をとることによって、前記パーティクルの相対的な大The relative size of the particles
きさを求める、ことを特徴とする請求項1乃至4の何れ5. The method according to claim 1, wherein the magnitude is obtained.
か1項に記載のパーティクルモニタ装置。2. The particle monitor according to claim 1.
【請求項6】前記大きさ測定手段が測定した前記パーテ6. The partition measured by the size measuring means.
ィクルの相対的な大きさを表示する表示手段をさらに備Display means for displaying the relative size of the vehicle.
える、ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項にThe method according to any one of claims 1 to 5, wherein
記載のパーティクルモニタ装置。The particle monitor described in the above.
【請求項7】カウンタを備え、前記領域検出手段が前記7. An apparatus according to claim 7, further comprising a counter, wherein said area detecting means includes:
画素領域を1つ検出する度に、該カウンタのカウント値Each time one pixel area is detected, the count value of the counter
を1増加することによって前記パーティクルの数を計数Count the number of particles by incrementing
する粒子数計数手段をさらに備え、Further comprising a particle number counting means, 前記領域検出手段は、前記画像データに前記画素領域がThe area detection means includes a step of determining whether the pixel area is included in the image data.
ない場合に、前記画素領域がないことを示すゼロ情報をWhen there is no pixel information, zero information indicating that there is no pixel area is provided.
前記表示手段に出力し、Output to the display means, 前記表示手段は、前記ゼロ情報に応答して、前記粒子数The display means responds to the zero information,
計数手段が計数した前Before counting by counting means 記パーティクルの数を表示する、Display the number of particles, ことを特徴とする請求項6に記載のパーティクルモニタThe particle monitor according to claim 6, wherein
装置。apparatus.
【請求項8】前記最大輝度値検出手段によって検出され
た前記最大輝度値から前記散乱光の強度を測定する強度
測定手段と、 前記強度測定手段によって求められた前記散乱光の強度
と、散乱光の強度とパーティクルの絶対的な大きさとの
関係を示す関係式とを用いて、前記パーティクルの絶対
的な大きさを求める実測手段と、 をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のパー
ティクルモニタ装置。
8. An intensity measuring means for measuring the intensity of the scattered light from the maximum luminance value detected by the maximum luminance value detecting means; an intensity of the scattered light obtained by the intensity measuring means; 2. The particle according to claim 1, further comprising: an actual measurement unit that obtains the absolute size of the particle using a relational expression indicating a relationship between the intensity of the particle and the absolute size of the particle. Monitor device.
【請求項9】パーティクルモニタ対象領域にレーザ光を
照射するレーザ照射工程と、 マトリックス状に配置された複数の受光素子を使用し
て、複数の前記パーティクルによって散乱された前記レ
ーザ光の散乱光を受光し、複数の画素の輝度値を示す
像データ出力する受光工程と、 前記受光工程で出力された前記画像データを使用して、
予め設定されたしきい値以上の輝度値を有する互いに隣
接する画素のひとまとまりの領域を、1つのパーティク
ルによって散乱された散乱光が入射した領域に対応する
画素領域として検出し、該画素領域に含まれる各画素の
輝度値を示す高輝度画素情報を出力する領域検出工程
と、前記高輝度画素情報を使用して、前記 画素領域内の最大
輝度値を検出する最大輝度値検出工程と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の画素
数を計数する画素数計数工程と、 前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の輝度
値の総和を求める総和工程と、 前記 最大輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそれぞ
を、予め設定された基準値と比較することにより、パ
ーティクルの相対的な大きさを測定する大きさ測定工程
と、 を備えることを特徴とするパーティクルモニタ方法。
9. A laser irradiation step of irradiating a laser beam to a particle monitoring target area; and using a plurality of light receiving elements arranged in a matrix, the scattered light of the laser light scattered by the plurality of particles is used. receiving and using a light receiving step of outputting the image <br/> image data indicating the luminance values of a plurality of pixels, the image data outputted by the light receiving step,
Adjacent to each other having a brightness value equal to or higher than a preset threshold
A group of adjacent pixels is detected as a pixel region corresponding to a region where scattered light scattered by one particle is incident, and each pixel included in the pixel region is detected .
An area detection step of outputting high-brightness pixel information indicating a brightness value, a maximum-brightness value detection step of detecting a maximum brightness value in the pixel area using the high-brightness pixel information, Use the pixels in the pixel area
Using the high-brightness pixel information to count the number of pixels in the pixel area
A summing step of obtaining a sum of values, the maximum luminance value, the number of pixels, and that of the total
Les and by comparing with a predetermined reference value, the particle monitoring method characterized by comprising a size measuring step of measuring the relative size of the particles, the.
【請求項10】コンピュータを、10. A computer, マトリックス状に配置された複数の受光素子を備え、複Multiple light-receiving elements arranged in a matrix
数のパーティクルによって散乱された散乱光を受光するReceive scattered light scattered by a number of particles
受光器が出力する、複数の画素の輝度値を示す画像デーImage data output from the receiver and indicating the luminance values of a plurality of pixels
タを使用して、予め設定されたしきい値以上の輝度値をBrightness value above a preset threshold
有する互いに隣接する画素のひとまとまりの領域を、1A group of adjacent pixels having
つのパーティクルによって散乱された散乱光が入射したScattered light scattered by one particle is incident
領域に対応する画素領域として検出し、該画素領域に含Detected as a pixel area corresponding to the area, and included in the pixel area
まれる各画素の輝度値を示す高輝度画素情報を出力するOutput high-luminance pixel information indicating the luminance value of each pixel
領域検出手段と、Area detection means; 前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の最大Using the high brightness pixel information, the maximum within the pixel area
輝度値を検出する最大輝度値検出手段と、Maximum luminance value detecting means for detecting a luminance value, 前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の画素Using the high brightness pixel information, the pixels in the pixel area
数を計数する画素数計数手段と、Pixel number counting means for counting the number, 前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の輝度Using the high brightness pixel information, the brightness in the pixel area
値の総和を求める総和手段と、Summing means for calculating the sum of the values; 前記最大輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそれぞEach of the maximum luminance value, the number of pixels, and the sum
れを、予め設定された基準値と比較することにより、パBy comparing it with a preset reference value.
ーティクルの相対的な大きさを測定する大きさ測定手段Size measuring means for measuring the relative size of articles
と、When, を備えるパーティクルモニタ装置として機能させるためTo function as a particle monitor device equipped with
のプログラム及びデータを記録したコンピュータ読み取Computer with recorded programs and data
り可能な記録媒体。Recording media.
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