JP3253119B2 - Method for manufacturing printed circuit board using polyisoimide - Google Patents

Method for manufacturing printed circuit board using polyisoimide

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JP3253119B2
JP3253119B2 JP06707692A JP6707692A JP3253119B2 JP 3253119 B2 JP3253119 B2 JP 3253119B2 JP 06707692 A JP06707692 A JP 06707692A JP 6707692 A JP6707692 A JP 6707692A JP 3253119 B2 JP3253119 B2 JP 3253119B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性の複合材として
有用なプリント回路用基板の製造方法に関するものであ
り、さらに詳しくは、接着工程において高温を要さずに
強力な接着力を有するポリイソイミドを用いたプリント
回路用基板の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a printed circuit board useful as a heat-resistant composite material, and more particularly to a method for producing a printed circuit board having a strong adhesive force without requiring a high temperature in the bonding step. The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board using polyisoimide.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで、高分子化合物から成る構造用
接着剤あるいは積層成形体用プリプレグとして、ポリイ
ミド、シリコーン、エポキシ、フェノール、アクリレー
ト、ポリアミドイミド、ポリベンズイミダゾールなど種
々の樹脂系が知られている。しかしながら、これらの中
でも、エポキシ樹脂系などは耐熱性が劣り、また、低温
で保存しなければならないという短所が存在した。反対
に、耐熱性に優れたポリイミド樹脂系では、耐熱性は優
れるものの溶融流動性が乏しいという欠点を有してい
た。ポリイミド等においては、高耐熱性、高接着力を示
すものもあるが、それらは、接着工程において300℃以
上の高温を要するなどの問題が残されている。
2. Description of the Related Art Various resin systems such as polyimide, silicone, epoxy, phenol, acrylate, polyamide imide, and polybenzimidazole have been known as structural adhesives composed of high molecular compounds or prepregs for laminated molded articles. I have. However, among these, epoxy resin-based resins and the like have disadvantages in that they have poor heat resistance and must be stored at a low temperature. Conversely, a polyimide resin system having excellent heat resistance has a drawback that heat resistance is excellent but melt fluidity is poor. Some polyimides and the like exhibit high heat resistance and high adhesive strength, but they still have problems such as requiring a high temperature of 300 ° C. or more in the bonding step.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、耐熱性に
優れ、しかも接着工程において高温を要さずに優れた接
着力を示すポリイソイミド樹脂組成物を用いた新規なプ
リント回路用基板を得るべく研究した結果、本発明に至
ったものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has obtained a novel printed circuit board using a polyisoimide resin composition having excellent heat resistance and exhibiting excellent adhesive strength without requiring high temperatures in the bonding step. As a result of extensive research, the present invention has been accomplished.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族テトラ
カルボン酸二無水物成分と芳香族ジアミン成分とをジア
ミン成分過剰の状態で重合させた後、該両末端をジカル
ボン酸無水物および/またはその誘導体で封止したポリ
アミック酸をイソイミド化したポリイソイミド溶液を、
繊維状補強材に含浸し、150℃以下の温度で溶剤を除去
してプリプレグを得、次いでこれと導体箔とを重ね合わ
せ、加熱加圧するプリント回路用基板の製造方法であ
る。また、そのポリイソイミド溶液が、3,3',4,4'-ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下BTDAと
略す)と3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物(以下BPDAと略す)とのモル比(BTDA:BP
DA)が70:30〜10:90である芳香族テトラカルボン酸
二無水物成分と、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン(以下BAPPと略す)と1,3-ビス(3-
アミノフェノキシ)ベンゼン(以下APBと略す)との
モル比(BAPP:APB)が10:90〜90:10である芳
香族ジアミン成分とを、ジアミン成分過剰の状態で重合
させた後、該両末端をジカルボン酸無水物および/また
はその誘導体で封止したポリアミック酸をイソイミド化
したものであるプリント回路用基板の製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, an aromatic tetracarboxylic dianhydride component and an aromatic diamine component are polymerized in an excess of a diamine component, and then both ends are dicarboxylic anhydride and / or dicarboxylic acid. Or a polyisoimide solution obtained by isoimidizing a polyamic acid sealed with a derivative thereof,
This is a method for producing a printed circuit board in which a fibrous reinforcing material is impregnated, a solvent is removed at a temperature of 150 ° C. or less, a prepreg is obtained, and then a prepreg is laminated with a conductive foil and heated and pressed. In addition, the polyisoimide solution is composed of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BTDA) and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as BTDA). BPDA) (BTDA: BP)
DA) of 70:30 to 10:90, an aromatic tetracarboxylic dianhydride component, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter abbreviated as BAPP) and 1,3 -Bis (3-
An aromatic diamine component having a molar ratio (BAPP: APB) of 10:90 to 90:10 with (aminophenoxy) benzene (hereinafter abbreviated as APB) is polymerized in a diamine component excess state. Is a method for producing a printed circuit board obtained by isoimidizing a polyamic acid obtained by encapsulating a polyamic acid with a dicarboxylic anhydride and / or a derivative thereof.

【0005】[0005]

【作用】本発明において、反応は通常、テトラカルボン
酸二無水物またはジアミン類と反応しない有機極性溶媒
中で行われる。この有機極性溶媒は、反応系に対して不
活性であり、かつ生成物に対して良溶媒であること以外
に、反応成分の少なくとも一方、好ましくは両者に対し
て良溶媒でなければならない。この種の溶媒として代表
的なものは、テトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルム
アミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
ン、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン等
があり、これらの溶媒は単独または組み合わせて使用す
ることができる。この他にも溶媒として組み合わせて用
いられるものとして、ベンゼン、ジオキサン、キシレ
ン、トルエン、シクロヘキサン等の非極性溶媒が、原料
の分散媒、反応調節剤あるいは生成物からの揮散調節
剤、皮膜平滑剤等として使用される。
In the present invention, the reaction is usually carried out in an organic polar solvent which does not react with tetracarboxylic dianhydride or diamine. In addition to being inert to the reaction system and being a good solvent for the product, the organic polar solvent must be a good solvent for at least one of the reaction components, preferably both. Typical solvents of this type include tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, etc. They can be used in combination. In addition, non-polar solvents such as benzene, dioxane, xylene, toluene and cyclohexane may be used in combination as a solvent, such as a dispersion medium of a raw material, a reaction regulator or a volatilization regulator from a product, a film smoothing agent, and the like. Used as

【0006】反応は一般的に無水の条件下で行うことが
好ましい。これはテトラカルボン酸二無水物が水により
開環し、不活性化し、反応を停止させる恐れがあるため
である。このため仕込原料中の水分も溶媒中の水分も除
去する必要がある。しかし一方、反応の進行を調節し、
樹脂重合度をコントロールするためにあえて水を添加す
ることも行われる。また反応は不活性ガス雰囲気中で行
われることが好ましい。これはジアミン類の酸化を防止
するためである。不活性ガスとしては一般的に乾燥窒素
ガスが使用される。
It is generally preferred that the reaction be carried out under anhydrous conditions. This is because the tetracarboxylic dianhydride may be ring-opened by water, inactivated, and stop the reaction. Therefore, it is necessary to remove both the water in the raw materials and the water in the solvent. But on the other hand, it regulates the progress of the reaction,
Water is also added to control the degree of polymerization of the resin. The reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere. This is to prevent oxidation of diamines. Dry nitrogen gas is generally used as the inert gas.

【0007】本発明において用いられる酸二無水物の例
としては、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-2,3,
6,7-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,5,6-
テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,4,5-テト
ラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8-テトラカ
ルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,6,7-テトラカルボ
ン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒド
ロナフタレン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、4,8
-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロナフタレン-2,3,
6,7-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロロナフタレ
ン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,7-ジクロロ
ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,3,
6,7-テトラクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン
酸二無水物、1,4,5,8-テトラクロロナフタレン-2,3,6,7
-テトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ジフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ジフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、3,3",4,4"-p-テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2",3,3"-p-テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,3",4"-p-テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)
-プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニ
ル)-プロパン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニ
ル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)
メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)スル
ホン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホ
ン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタ
ン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタ
ン二無水物、ペリレン-2,3,8,9-テトラカルボン酸二無
水物、ペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸二無水物、
ペリレン-4,5,10,11-テトラカルボン酸二無水物、ペリ
レン-5,6,11,12-テトラカルボン酸二無水物、フェナン
スレン-1,2,7,8-テトラカルボン酸二無水物、フェナン
スレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物、フェナン
スレン-1,2,9,10-テトラカルボン酸二無水物、シクロペ
ンタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-
2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン-2,3,
4,5-テトラカルボン酸二無水物、チオフェン-2,3,4,5-
テトラカルボン酸二無水物、4,4'-オキシジフタル酸二
無水物などが挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。
Examples of the acid dianhydride used in the present invention include pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3 '-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, naphthalene-2,3,
6,7-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,5,6-
Tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,6,7 -Tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 4,8
-Dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-2,3,
6,7-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic Acid dianhydride, 2,3,
6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-tetrachloronaphthalene-2,3,6,7
-Tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ' , 4'-Diphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ", 4,4" -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ", 3,3" -p-terphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,3,3 ", 4" -p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl)
-Propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -propane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ) Methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl)
Methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane Dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, perylene-2,3,8,9-tetracarboxylic dianhydride, perylene-3,4,9,10- Tetracarboxylic dianhydride,
Perylene-4,5,10,11-tetracarboxylic dianhydride, perylene-5,6,11,12-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,7,8-tetracarboxylic dianhydride , Phenanthrene-1,2,6,7-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,9,10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride Anhydride, pyrazine-
2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3,
4,5-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-
Examples thereof include, but are not limited to, tetracarboxylic dianhydride and 4,4′-oxydiphthalic dianhydride.

【0008】本発明において用いられるジアミン成分の
例としては、3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノビフェニ
ル、4,6-ジメチル-m-フェニレンジアミン、2,5-ジメチ
ル-p-フェニレンジアミン、2,4-ジアミノメシチレン、
4,4'-メチレンジ-o-トルイジン、4,4'-メチレンジ-2,6-
キシリジン、4,4'-メチレン-2,6-ジエチルアニリン、2,
4-トルエンジアミン、m-フェニレン-ジアミン、p-フェ
ニレン-ジアミン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルプロパ
ン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルプロパン、4,4'-ジアミ
ノ-ジフェニルエタン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルエタ
ン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルメタン、3,3'-ジアミノ-
ジフェニルメタン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルスルフィ
ド、3,3'-ジアミノ-ジフェニルスルフィド、4,4'-ジア
ミノ-ジフェニルスルホン、3,3'-ジアミノ-ジフェニル
スルホン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルエーテル、3,3'-
ジアミノ-ジフェニルエーテル、ベンジジン、3,3'-ジア
ミノ-ビフェニル、3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノ-ビフ
ェニル、3,3'-ジメトキシ-ベンジジン、4,4"-ジアミノ-
p-テルフェニル、3,3"-ジアミノ-p-テルフェニル、ビス
(p-アミノ-シクロヘキシル)メタン、ビス(p-β-アミノ-
t-ブチルフェニル)エーテル、ビス(p-β-メチル-δ-ア
ミノペンチル)ベンゼン、p-ビス(2-メチル-4-アミノ-ペ
ンチル)ベンゼン、p-ビス(1,1-ジメチル-5-アミノ-ペン
チル)ベンゼン、1,5-ジアミノ-ナフタレン、2,6-ジアミ
ノ-ナフタレン、2,4-ビス(β-アミノ-t-ブチル)トルエ
ン、2,4-ジアミノ-トルエン、m-キシレン-2,5-ジアミ
ン、p-キシレン-2,5-ジアミン、m-キシリレン-ジアミ
ン、p-キシリレン-ジアミン、2,6-ジアミノ-ピリジン、
2,5-ジアミノ-ピリジン、2,5-ジアミノ-1,3,4-オキサジ
アゾール、1,4-ジアミノ-シクロヘキサン、ピペラジ
ン、メチレン-ジアミン、エチレン-ジアミン、プロピレ
ン-ジアミン、2,2-ジメチル-プロピレン-ジアミン、テ
トラメチレン-ジアミン、ペンタメチレン-ジアミン、ヘ
キサメチレン-ジアミン、2,5-ジメチル-ヘキサメチレン
-ジアミン、3-メトキシ-ヘキサメチレン-ジアミン、ヘ
プタメチレン-ジアミン、2,5-ジメチル-ヘプタメチレン
-ジアミン、3-メチル-ヘプタメチレン-ジアミン、4,4-
ジメチル-ヘプタメチレン-ジアミン、オクタメチレン-
ジアミン、ノナメチレン-ジアミン、5-メチル-ノナメチ
レン-ジアミン、2,5-ジメチル-ノナメチレン-ジアミ
ン、デカメチレン-ジアミン、1,10-ジアミノ-1,10-ジメ
チル-デカン、2,11-ジアミノ-ドデカン、1,12-ジアミノ
-オクタデカン、2,12-ジアミノ-オクタデカン、2,17-ジ
アミノ-アイコサン、1,3'-ビス(3-アミノフェノキシ)ベ
ンゼンなどが挙げられる。
[0008] Examples of the diamine component used in the present invention include 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,6-dimethyl-m-phenylenediamine, and 2,5-dimethyl-p-phenylene. Diamine, 2,4-diaminomesitylene,
4,4'-methylenedi-o-toluidine, 4,4'-methylenedi-2,6-
Xylidine, 4,4'-methylene-2,6-diethylaniline, 2,
4-toluenediamine, m-phenylene-diamine, p-phenylene-diamine, 4,4'-diamino-diphenylpropane, 3,3'-diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylethane, 3,3 '-Diamino-diphenylethane, 4,4'-diamino-diphenylmethane, 3,3'-diamino-
Diphenylmethane, 4,4'-diamino-diphenyl sulfide, 3,3'-diamino-diphenyl sulfide, 4,4'-diamino-diphenyl sulfone, 3,3'-diamino-diphenyl sulfone, 4,4'-diamino-diphenyl ether , 3,3'-
Diamino-diphenyl ether, benzidine, 3,3'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethoxy-benzidine, 4,4 "-diamino-
p-terphenyl, 3,3 "-diamino-p-terphenyl, bis
(p-amino-cyclohexyl) methane, bis (p-β-amino-
t-butylphenyl) ether, bis (p-β-methyl-δ-aminopentyl) benzene, p-bis (2-methyl-4-amino-pentyl) benzene, p-bis (1,1-dimethyl-5- (Amino-pentyl) benzene, 1,5-diamino-naphthalene, 2,6-diamino-naphthalene, 2,4-bis (β-amino-t-butyl) toluene, 2,4-diamino-toluene, m-xylene- 2,5-diamine, p-xylene-2,5-diamine, m-xylylene-diamine, p-xylylene-diamine, 2,6-diamino-pyridine,
2,5-diamino-pyridine, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, 1,4-diamino-cyclohexane, piperazine, methylene-diamine, ethylene-diamine, propylene-diamine, 2,2- Dimethyl-propylene-diamine, tetramethylene-diamine, pentamethylene-diamine, hexamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-hexamethylene
-Diamine, 3-methoxy-hexamethylene-diamine, heptamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-heptamethylene
-Diamine, 3-methyl-heptamethylene-diamine, 4,4-
Dimethyl-heptamethylene-diamine, octamethylene-
Diamine, nonamethylene-diamine, 5-methyl-nonamethylene-diamine, 2,5-dimethyl-nonamethylene-diamine, decamethylene-diamine, 1,10-diamino-1,10-dimethyl-decane, 2,11-diamino-dodecane, 1,12-diamino
-Octadecane, 2,12-diamino-octadecane, 2,17-diamino-eicosane, 1,3'-bis (3-aminophenoxy) benzene, and the like.

【0009】テトラカルボン酸二無水物成分、ジアミン
成分、酸無水物成分の反応は、酸二無水物成分/ジアミ
ン成分/酸無水物成分(モル比)=0.9/1.0/0.1〜0.9
9/1.0/0.01で行うのが好ましい。酸二無水物成分が0.
90より低いと、重合度が上がらず、硬化後の皮膜特性が
悪い。1.00より大きいと、硬化時にガスを発生し、平滑
な皮膜を得ることが出来ない。
The reaction of the tetracarboxylic dianhydride component, the diamine component and the acid anhydride component is carried out by the following formula: acid dianhydride component / diamine component / acid anhydride component (molar ratio) = 0.9 / 1.0 / 0.1-0.9.
It is preferably performed at 9 / 1.0 / 0.01. Acid dianhydride component is 0.
If it is lower than 90, the degree of polymerization does not increase, and the film properties after curing are poor. If it is larger than 1.00, gas is generated at the time of curing, and a smooth film cannot be obtained.

【0010】ジカルボン酸無水物としては、無水マレイ
ン酸、無水フタル酸、ナフタレンジカルボン酸無水物な
どが一般に用いられる。ジカルボン酸の添加時期は、ポ
リアミック酸の生成後が好ましい。これは、ジアミン成
分過剰で反応させたポリアミック酸の末端のアミンを消
失させるためである。末端にアミノ基が残存していると
N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミドの様な脱水閉環
剤を添加した際に、アミノ基の付加反応が起こり好まし
くない。
As the dicarboxylic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, naphthalenedicarboxylic anhydride and the like are generally used. The timing of adding the dicarboxylic acid is preferably after the generation of the polyamic acid. This is for eliminating the amine at the terminal of the polyamic acid reacted in excess of the diamine component. If the amino group remains at the terminal
When a dehydrating ring-closing agent such as N, N'-dicyclohexylcarbodiimide is added, an addition reaction of an amino group occurs, which is not preferable.

【0011】特に本発明で使用する樹脂組成物として
は、BTDAとBPDAとのモル比が70:30〜10:90で
ある芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と、BAPP
とAPBとのモル比が10:90〜90:10である芳香族ジア
ミン成分とを、ジアミン成分過剰の状態で重合させた
後、該両末端をジカルボン酸無水物および/またはその
誘導体で封止したポリアミック酸をイソイミド化したポ
リイソイミドが好ましい。
In particular, the resin composition used in the present invention includes an aromatic tetracarboxylic dianhydride component having a molar ratio of BTDA to BPDA of 70:30 to 10:90;
After polymerizing an aromatic diamine component having a molar ratio of 10:90 to 90:10 with APB in an excess of the diamine component, both ends are sealed with a dicarboxylic anhydride and / or a derivative thereof. Polyisoimide obtained by isoimidizing the obtained polyamic acid is preferable.

【0012】イソイミド化を行なう脱水剤としては、N,
N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、無水酢酸、塩化
チオニルなどが一般に用いられる。ただし、これらの脱
水剤は、溶媒や、触媒の種類によりイソイミド環とイミ
ド環の生成比率が異なるので溶媒などの選択には注意を
要する。尚、このようにして得られたポリイソイミド中
に物性に大きな影響を及ぼさない範囲内であれば、イミ
ド環および未環化のアミック酸部分が残存していてもさ
しつかえない。
As dehydrating agents for isoimidization, N,
N'-dicyclohexylcarbodiimide, acetic anhydride, thionyl chloride and the like are generally used. However, these dehydrating agents have different formation ratios of the isoimide ring and the imide ring depending on the type of the solvent and the type of the catalyst. In addition, as long as the physical properties are not significantly affected in the polyisoimide thus obtained, an imide ring and an uncyclized amic acid portion may remain.

【0013】繊維状補強材としては、炭素繊維、ガラス
繊維、芳香族ポリアミド繊維等が代表的な例として挙げ
られる。導体箔としては、銅、アルミニウム、ステンレ
ス等の箔が使用される。含浸方法としては、繊維状補強
材をポリイソイミド溶液に浸漬して含浸するのが一般的
である。加熱乾燥温度は溶媒の沸点程度であり、100〜1
50℃である。含浸させる樹脂含量は、プリント回路用基
板全体の20〜80重量%の範囲内であることが好ましい。
Typical examples of the fibrous reinforcing material include carbon fiber, glass fiber, and aromatic polyamide fiber. As the conductor foil, a foil of copper, aluminum, stainless steel or the like is used. As the impregnation method, it is general that the fibrous reinforcing material is immersed in a polyisoimide solution for impregnation. The heating and drying temperature is about the boiling point of the solvent, and
50 ° C. The resin content to be impregnated is preferably in the range of 20 to 80% by weight of the whole printed circuit board.

【0014】本発明のポリイソイミドは、ポリイミドと
比較して溶融流動性に優れるものであり、プリント回路
用基板の材料として好適なものである。加熱加圧に際し
ては、貼り合わす被接着物と1〜100kg/cm2の圧力、10
0〜250℃の温度で圧着することにより被接着物を強力に
接着することができる。ポリイソイミドのイミド化は、
加熱加圧の温度や時間を適宜選んで圧着と同時に行なっ
てもよいし、圧着後アフターベーキングにより行なって
もよい。
The polyisoimide of the present invention is superior in melt flowability as compared with polyimide, and is suitable as a material for printed circuit boards. In heating and pressing, the adherend which match stick and a pressure of 1 to 100 kg / cm 2, 10
By performing pressure bonding at a temperature of 0 to 250 ° C., the adherend can be strongly bonded. The imidization of polyisoimide is
The heating and pressurization may be performed at the same time as the pressing by appropriately selecting the temperature and time, or may be performed by after-baking after the pressing.

【0015】[0015]

【実施例】(実施例1)撹拌機、温度計、還流冷却管を
備えた4ッ口フラスコへ、ジアミン成分として、APB
146.2g(0.5mol)、BAPP205.3g(0.5mol)を加
え、さらにテトラヒドロフラン(以下THFと略す)を
3000g加え、ジアミンが溶解するまでよく撹拌した。ジ
アミン成分が溶解した後、溶液を15℃以下まで冷却し、
BPDA223.6g(0.76mol)、BTDA61.2g(0.19mo
l)を系内の温度が15℃を越えないように徐々に添加
し、添加終了後、15℃で3時間撹拌を行った。続いて、
末端のアミンを封止するために、無水フタル酸14.8g
(0.1mol)を添加し、15℃で3時間さらに反応を行なっ
た。次いで、600gのTHF溶液に溶解したN,N'-ジシク
ロヘキシルカルボジイミド412.6gを8時間かけてゆっ
くりと滴下した。滴下終了後、20℃で24時間撹拌を行っ
た。撹拌終了後、反応混合物を濾過し、ジシクロヘキシ
ル尿素を除去し、ポリイソイミド溶液を得た。
EXAMPLES Example 1 A four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser was charged with APB as a diamine component.
146.2 g (0.5 mol) and 205.3 g (0.5 mol) of BAPP were added, and tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF) was further added.
3000 g was added, and the mixture was stirred well until the diamine was dissolved. After the diamine component is dissolved, the solution is cooled to 15 ° C or less,
223.6 g (0.76 mol) of BPDA, 61.2 g (0.19 mol) of BTDA
l) was gradually added so that the temperature in the system did not exceed 15 ° C, and after the addition was completed, stirring was performed at 15 ° C for 3 hours. continue,
14.8 g of phthalic anhydride to seal the terminal amine
(0.1 mol) was added, and the reaction was further performed at 15 ° C. for 3 hours. Next, 412.6 g of N, N'-dicyclohexylcarbodiimide dissolved in 600 g of a THF solution was slowly added dropwise over 8 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 20 ° C. for 24 hours. After completion of the stirring, the reaction mixture was filtered to remove dicyclohexylurea, thereby obtaining a polyisoimide solution.

【0016】(実施例2)撹拌機、温度計、還流冷却管
を備えた4ッ口フラスコへ、ジアミン成分として、AP
B204.6g(0.7mol)、BAPP123.2g(0.3mol)を加
え、さらにNMPを3000g加え、ジアミンが溶解するま
でよく撹拌した。ジアミン成分が溶解した後、溶液を15
℃以下まで冷却し、BPDA195.6g(0.66mol)、BT
DA93.4g(0.29mol)を系内の温度が15℃を越えない
ように徐々に添加し、添加終了後、15℃で3時間撹拌を
行った。続いて、末端のアミンを封止するために、無水
フタル酸14.8g(0.1mol)を添加し、15℃で3時間さら
に反応を行なった。次いで、600gのNMP溶液に溶解
したN,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド412.6gを8
時間かけてゆっくりと滴下した。滴下終了後、20℃で24
時間撹拌を行った。撹拌終了後、反応混合物を濾過し、
ジシクロヘキシル尿素を除去した。得られた溶液は、メ
タノール中に沈澱し、黄色のポリイソイミド粉末を得
た。この粉末50gを200gの1,4-ジオキサンに溶解し、
ポリイソイミド溶液とした。
Example 2 AP was added as a diamine component to a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser.
204.6 g (0.7 mol) of B and 123.2 g (0.3 mol) of BAPP were added, and 3000 g of NMP was further added, followed by sufficient stirring until the diamine was dissolved. After the diamine component has dissolved, the solution is
Cooled to below ℃, 195.6 g (0.66 mol) of BPDA, BT
93.4 g (0.29 mol) of DA was gradually added so that the temperature in the system did not exceed 15 ° C, and after the addition was completed, stirring was performed at 15 ° C for 3 hours. Subsequently, in order to seal the terminal amine, 14.8 g (0.1 mol) of phthalic anhydride was added, and the reaction was further performed at 15 ° C. for 3 hours. Next, 412.6 g of N, N'-dicyclohexylcarbodiimide dissolved in 600 g of NMP solution was added to 8
It was dripped slowly over time. After dropping, 24 ° C at 20 ° C
Stirring was performed for hours. After completion of the stirring, the reaction mixture was filtered,
Dicyclohexylurea was removed. The obtained solution was precipitated in methanol to obtain a yellow polyisoimide powder. Dissolve 50 g of this powder in 200 g of 1,4-dioxane,
A polyisoimide solution was used.

【0017】(比較例1)撹拌機、温度計、還流冷却管
を備えた4ッ口フラスコへ、ジアミン成分として、AP
B233.9g(0.8mol)、BAPP64.4g(0.2mol)を加
え、さらにNMPを3000g加え、ジアミンが溶解するま
でよく撹拌した。ジアミン成分が溶解した後、溶液を15
℃以下まで冷却し、BPDA223.6g(0.76mol)、BT
DA61.2g(0.19mol)を系内の温度が15℃を越えない
ように徐々に添加し、添加終了後、15℃で3時間撹拌を
行った。続いて、末端のアミンを封止するために、無水
フタル酸14.8g(0.1mol)を添加し、15℃で3時間さら
に反応を行なった。
Comparative Example 1 AP was added as a diamine component to a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser.
233.9 g (0.8 mol) of B and 64.4 g (0.2 mol) of BAPP were added, and 3000 g of NMP was further added, followed by sufficient stirring until the diamine was dissolved. After the diamine component has dissolved, the solution is
BPDA 223.6 g (0.76 mol), BT
61.2 g (0.19 mol) of DA was gradually added so that the temperature in the system did not exceed 15 ° C, and after the addition was completed, stirring was performed at 15 ° C for 3 hours. Subsequently, in order to seal the terminal amine, 14.8 g (0.1 mol) of phthalic anhydride was added, and the reaction was further performed at 15 ° C. for 3 hours.

【0018】以上、実施例1,2、比較例1で合成した
ポリイソイミド溶液をガラス繊維に含浸し、60℃、1時
間、100℃、2時間(比較例1については熱イミド化を
完結するために350℃、3時間)加熱を行った。得られ
たプリント回路基板を2枚の銅箔の間に挿入し、200
℃、40kg/cm2、30分加熱、圧着を行なった。得られた
試験片のピール強度を測定した値は、実施例1では2.5k
gf/cm、実施例2では2.4kgf/cmであった。これに対
し、比較例1では、イソイミド化を行なわなかったので
200℃では溶融しないため、ピール強度は0.1kgf/cmと
低く、殆ど得られなかった。
As described above, the glass fibers were impregnated with the polyisoimide solutions synthesized in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, and were heated at 60 ° C. for 1 hour, at 100 ° C. for 2 hours (Comparative Example 1 was used to complete thermal imidization. At 350 ° C. for 3 hours). Insert the resulting printed circuit board between the two copper foils, 200
℃, 40kg / cm 2, 30 minutes heating was carried out crimping. The value obtained by measuring the peel strength of the obtained test piece was 2.5 k in Example 1.
gf / cm, and 2.4 kgf / cm in Example 2. In contrast, in Comparative Example 1, no isoimidization was performed,
Since it did not melt at 200 ° C, the peel strength was as low as 0.1 kgf / cm, and almost no peel strength was obtained.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明により、加熱加圧工程において高
温を要さず、加熱硬化後はイソイミド環がイミド環へ転
位するために通常のポリイミドと同程度の耐熱性を示す
プリント回路用基板を得ることが可能である。
According to the present invention, there is provided a printed circuit board which does not require a high temperature in the heating and pressurizing step, and has the same heat resistance as ordinary polyimide because the isoimide ring is rearranged to the imide ring after heat curing. It is possible to get.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/38 C08J 5/24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 3/38 C08J 5/24

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と
芳香族ジアミン成分とをジアミン成分過剰の状態で重合
させた後、該両末端をジカルボン酸無水物および/また
はその誘導体で封止したポリアミック酸をイソイミド化
したポリイソイミド溶液を、繊維状補強材に含浸し、15
0℃以下の温度で溶剤を除去してプリプレグを得、次い
でこれと導体箔とを重ね合わせ、加熱加圧することを特
徴とするプリント回路用基板の製造方法。
1. A polyamic polymer in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride component and an aromatic diamine component are polymerized in an excess of a diamine component, and both ends are sealed with a dicarboxylic anhydride and / or a derivative thereof. The polyisoimide solution obtained by isoimidizing the acid is impregnated into the fibrous reinforcing material, and
A method for producing a printed circuit board, comprising: removing a solvent at a temperature of 0 ° C. or lower to obtain a prepreg;
【請求項2】 ポリイソイミド溶液が、3,3',4,4'-ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下BTDAと
略す)と3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物(以下BPDAと略す)とのモル比(BTDA:BP
DA)が70:30〜10:90である芳香族テトラカルボン酸
二無水物成分と、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン(以下BAPPと略す)と1,3-ビス(3-
アミノフェノキシ)ベンゼン(以下APBと略す)との
モル比(BAPP:APB)が10:90〜90:10である芳
香族ジアミン成分とを、ジアミン成分過剰の状態で重合
させた後、該両末端をジカルボン酸無水物および/また
はその誘導体で封止したポリアミック酸をイソイミド化
したものである請求項1記載のプリント回路用基板の製
造方法。
2. A polyisoimide solution comprising 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BTDA) and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (Hereinafter abbreviated as BPDA) (BTDA: BP)
DA) of 70:30 to 10:90, an aromatic tetracarboxylic dianhydride component, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter abbreviated as BAPP) and 1,3 -Bis (3-
An aromatic diamine component having a molar ratio (BAPP: APB) of 10:90 to 90:10 with (aminophenoxy) benzene (hereinafter abbreviated as APB) is polymerized in a diamine component excess state. 3. The method for producing a printed circuit board according to claim 1, wherein polyamic acid obtained by sealing with a dicarboxylic acid anhydride and / or a derivative thereof is isoimidized.
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