JP3240881B2 - Output buffer - Google Patents

Output buffer

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JP3240881B2
JP3240881B2 JP13483295A JP13483295A JP3240881B2 JP 3240881 B2 JP3240881 B2 JP 3240881B2 JP 13483295 A JP13483295 A JP 13483295A JP 13483295 A JP13483295 A JP 13483295A JP 3240881 B2 JP3240881 B2 JP 3240881B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、MOS集積回路にお
いて用いられる出力バッファに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an output buffer used in a MOS integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、従来のMOS集積回路における
出力バッファの構成を示す回路図である。入力信号IN
は、出力イネーブル信号OENにより制御されるNAN
DゲートG1及びNORゲートG2を介して出力段のP
MOSトランジスタ及びNMOSトランジスタに転送さ
れる。即ち、出力イネーブル信号OENがHレベルのと
き、入力信号INの“H”,“L”に応じてNANDゲ
ートG1,NORゲートG2のいずれか一方の出力が
“H”,他方が“L”となり、PMOSトランジスタ又
はNMOSトランジスタがオン駆動される。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of an output buffer in a conventional MOS integrated circuit. Input signal IN
Is the NAN controlled by the output enable signal OEN.
P of the output stage via D gate G1 and NOR gate G2
The data is transferred to the MOS transistor and the NMOS transistor. That is, when the output enable signal OEN is at the H level, one of the outputs of the NAND gate G1 and the NOR gate G2 becomes "H" and the other becomes "L" according to the "H" and "L" of the input signal IN. , The PMOS transistor or the NMOS transistor is turned on.

【0003】MOS集積回路内で、上述のような出力バ
ッファの複数個が同時にオン,オフしたとき、同時スイ
ッチングノイズが問題となる。その様子を図8を用いて
説明する。図8に示す3個の出力バッファ51〜53の
出力が同時に立ち下がった場合、それぞれの負荷からN
MOSトランジスタに電流が流れ込む。これらの電流
は、図8に示したように、集積回路内の共通接地線VSS
を通り、外部に流れ出す。このとき、パッケージのリー
ドやボンディングワイヤ等のインダクタンス成分によ
り、起電力が発生し、これがVSS電位の上昇をもたら
す。図9は、その電圧波形を示す。破線で示すVSS電位
の上昇により、出力電圧Vout の“L”レベル電位が持
ち上がる、いわゆるグランドバウンスが生じる。
When a plurality of output buffers as described above are simultaneously turned on and off in a MOS integrated circuit, simultaneous switching noise becomes a problem. This will be described with reference to FIG. When the outputs of the three output buffers 51 to 53 shown in FIG.
Current flows into the MOS transistor. These currents are applied to the common ground line V SS in the integrated circuit, as shown in FIG.
And flows out to the outside. At this time, the inductance component, such as package leads and the bonding wires, electromotive force is generated, which results in an increase in V SS potential. FIG. 9 shows the voltage waveform. The rise of the V SS potential indicated by the broken line raises the “L” level potential of the output voltage V out , that is, a so-called ground bounce occurs.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】同時スイッチングノイ
ズは前述のように、急峻な電流変化に起因する逆起電力
−Ldi/dtが原因であるから、これを解決するに
は、リードフレーム等のインダクタンスを小さくするこ
と、電流変化を緩やかにすることが望まれる。しかし、
浮遊インダクタンスを小さくすることには、限界があ
る。電流変化を単に緩くすることは、高速性能を損なう
ことになる。
As described above, simultaneous switching noise is caused by the back electromotive force -Ldi / dt caused by a steep current change. It is desired to reduce the current and make the current change gradual. But,
There are limits to reducing stray inductance. Simply slowing down the change in current will impair high speed performance.

【0005】この発明は、このような問題点に鑑みなさ
れたもので、高速性能を損なうことなく同時スイッチン
グノイズを抑制することができる出力バッファを提供す
ることを目的とする。
An object of the present invention is to provide an output buffer capable of suppressing simultaneous switching noise without impairing high-speed performance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る出力バッ
ファは、ドレインが信号出力端につながり、ゲートが信
号入力端につながるドライバMOSトランジスタを有す
る出力バッファにおいて、前記ドライバMOSトランジ
スタは、駆動能力の異なる少なくとも二つの要素トラン
ジスタを並設し且つ、駆動能力の小さい第1の要素トラ
ンジスタを駆動能力の大きい第2の要素トランジスタに
対して前記信号入力端に近い位置に配置して構成され、
前記第1、第2の要素トランジスタは、一つの活性層内
にゲート電極を連続的に形成し、ソース、ドレインをそ
れぞれ共有させて形成したものであって、前記第1の要
素トランジスタのゲート電極幅が第2の要素トランジス
タのそれより大に設定されて、ゲート電極での信号遅延
により第1、第2の要素トランジスタがこの順に駆動さ
れるようにしたことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided an output buffer having a driver MOS transistor having a drain connected to a signal output terminal and a gate connected to a signal input terminal. different that juxtaposed at least two elements transistors and is configured by arranging at a position closer to the signal input end of the small first element transistor driving capability for large second element transistor driving capability,
The first and second element transistors are formed in one active layer.
A gate electrode is formed continuously, and the source and drain are
Each of which is formed in a shared manner,
The gate electrode width of the elementary transistor is the second element transistor
Signal delay at the gate electrode
Drives the first and second element transistors in this order.
It is characterized by being made to be.

【0007】この発明において好ましくは、一つの活性
層内に形成される第1及び第2の要素トランジスタの駆
動能力を異ならせるために、(a)第1、第2の要素ト
ランジスタの間でゲート電極幅を階段状に変化させる
か、或いは(b)第1、第2の要素トランジスタの間で
ゲート電極幅を漸次変化させる。
In the present invention, preferably, one activity
The drive of the first and second element transistors formed in the layer
In order to make the dynamic ability different, (a) first and second element
Changing the gate electrode width stepwise between transistors
Or (b) between the first and second element transistors
The gate electrode width is gradually changed.

【0008】更にこの発明において好ましくは、ドライ
バMOSトランジスタは、一つの活性層内にインターデ
ィジタル型ゲート電極構造をもって、前記第1、第2の
要素トランジスタを複数個ずつ配置して構成されている
ものとする。
[0008] In the present invention, preferably, dry
A MOS transistor has an interconnect in one active layer.
The first and second gates have a digital gate electrode structure.
It is configured by arranging multiple element transistors
Shall be.

【0009】[0009]

【作用】この発明の出力バッファによれば、一つのドラ
イバMOSトランジスタが駆動能力の異なる要素トラン
ジスタの並設構造とされ、駆動能力の小さい第1の要素
トランジスタが、駆動能力の大きい第2の要素トランジ
スタに対して信号入力端に近い位置に配置される。従っ
て、このドライバMOSトランジスタがオン駆動された
とき、まず第1の要素トランジスタがオンし、ゲート電
極配線抵抗により所定時間遅れて第2の要素トランジス
タがオンする。これにより、電流変化の立上りを緩やか
にすることができる。
According to the output buffer of the present invention, one driver MOS transistor has a structure in which element transistors having different driving capacities are juxtaposed, and a first element transistor having a smaller driving capacity is replaced with a second element transistor having a larger driving capacity. It is arranged at a position near the signal input terminal with respect to the transistor. Therefore, when the driver MOS transistor is turned on, the first element transistor is turned on first, and the second element transistor is turned on after a predetermined time delay due to the gate electrode wiring resistance. Thus, the rise of the current change can be made gentle.

【0010】要素トランジスタの駆動能力を異ならせる
ことは、ゲート電極幅、従ってチャネル長を異ならせる
ことにより、可能である。チャネル長を大とすれば、g
mが小さく、駆動能力の小さいトランジスタとなる。従
って、信号入力端に近い方から順に、ゲート電極幅を階
段状に小さくすれば、駆動能力の小さい順に要素トラン
ジスタが並ぶことになる。ゲート電極幅が連続的に小さ
くなるようにすれば、要素トランジスタとしての境界は
なくなるが、これでもよい。
It is possible to vary the driving capability of the element transistors by varying the gate electrode width, and thus the channel length. If the channel length is large, g
A transistor having a small m and a small driving capability is obtained. Therefore, if the gate electrode width is reduced stepwise in order from the one closer to the signal input terminal, the element transistors will be arranged in ascending order of driving capability. If the gate electrode width is continuously reduced, there is no boundary as an element transistor, but this may be used.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して、この発明の実施例に
ついて説明する。図1は、この発明の一実施例に係る出
力バッファの構成を示すレイアウトである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a layout showing a configuration of an output buffer according to an embodiment of the present invention.

【0012】出力バッファは、ドレインが信号出力端に
つながり、ゲートが信号入力端につながる出力段のドラ
イバNMOSトランジスタ1及びドライバPMOSトラ
ンジスタ2を備えている。この出力段MOSトランジス
タ1,2は、インターディジタル型ゲート電極構造を有
している。即ち、出力段NMOSトランジスタ1は、く
し歯状の6個のゲート電極を一つの活性層に配置するこ
とにより、6個のNMOSトランジスタを並列接続した
構造となっている。出力段PMOSトランジスタ2も、
同様である。
The output buffer includes a driver NMOS transistor 1 and a driver PMOS transistor 2 in an output stage in which a drain is connected to a signal output terminal and a gate is connected to a signal input terminal. The output stage MOS transistors 1 and 2 have an interdigital gate electrode structure. That is, the output stage NMOS transistor 1 has a structure in which six NMOS transistors are connected in parallel by arranging six comb-shaped gate electrodes in one active layer. The output stage PMOS transistor 2 also
The same is true.

【0013】出力段NMOSトランジスタ1は、各くし
歯状のゲート電極に沿って見ると、ゲート電極幅の異な
る2個ずつの要素トランジスタQN11 〜QN61 ,QN12
〜QN62 からなる。第1の要素トランジスタQN11 〜Q
N61 は、第2の要素トランジスタQN12 〜QN62 に対し
て信号入力端に近い位置に配置されている。
The output stage NMOS transistor 1 has two element transistors Q N11 to Q N61 and Q N12 having different gate electrode widths when viewed along each comb-shaped gate electrode.
~ Q N62 . The first element transistors Q N11 to Q N
N61 is located closer to the signal input terminal to the second element transistor Q N12 to Q N62.

【0014】図2は、同実施例における出力段NMOS
トランジスタ1のA−A′断面図である。出力段NMO
Sトランジスタ1は、n型シリコン基板10にp型不純
物を拡散して活性層としてのpウェル11を形成し、次
にゲート酸化膜12を介して多結晶シリコン等によるゲ
ート電極13を形成し、更にイオン打ち込み法等によっ
てソース14及びドレイン15となるn型の領域を形成
して得られる。ソース14は共通にVSS、ドレイン15
は共通に信号出力端OUTに接続される。第1の要素ト
ランジスタQN11 〜QN61 のゲート電極幅、従ってチャ
ネル長L1は、第2の要素トランジスタQN12 〜QN62
のゲート電極幅L2より大に設定されているため、第1
の要素トランジスタQN11 〜QN61 の駆動能力は、第2
の要素トランジスタQN12 〜QN62 のそれより小さくな
る。
FIG. 2 shows an output stage NMOS according to the embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the transistor 1 along AA ′. Output stage NMO
The S transistor 1 diffuses a p-type impurity into an n-type silicon substrate 10 to form a p-well 11 as an active layer, and then forms a gate electrode 13 of polycrystalline silicon or the like via a gate oxide film 12, Further, it is obtained by forming an n-type region serving as the source 14 and the drain 15 by ion implantation or the like. The source 14 is commonly V SS and the drain 15
Are commonly connected to a signal output terminal OUT. The gate electrode width of the first element transistors Q N11 to Q N61 , that is, the channel length L1 is determined by the second element transistors Q N12 to Q N62.
Is larger than the gate electrode width L2 of
Of the element transistors Q N11 to Q N61 of the second
Of the element transistors Q N12 to Q N62 .

【0015】出力段PMOSトランジスタ2は、断面構
造を示さないが、一つのn型活性層に同様の構造をもっ
て形成される。出力段PMOSトランジスタ2も、第1
の要素トランジスタQP11 〜QP61 及び第2の要素トラ
ンジスタQP12 〜QP62 が上述した出力段NMOSトラ
ンジスタ1の場合と同様に構成されて、第1の要素トラ
ンジスタQP11 〜QP61 の駆動能力は、第2の要素トラ
ンジスタQP12 〜QP62 のそれより小さくなる。
The output stage PMOS transistor 2 does not show a sectional structure, but is formed with a similar structure in one n-type active layer. The output stage PMOS transistor 2 also has the first
For elements transistor Q P11 to Q P61 and the output stage NMOS transistor 1 second element transistor Q P12 to Q P62 is described above and is similarly constructed of the driving capability of the first element transistor Q P11 to Q P61 is , The second element transistors Q P12 to Q P62 .

【0016】図3は、同実施例の出力バッファの出力段
NMOSトランジスタ1の等価回路図である。それぞれ
対をなす第1の要素トランジスタQN11 〜QN61 と第2
の要素トランジスタQN12 〜QN62 のゲート間には、ポ
リシリコンゲート電極配線による抵抗Rが入る。
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the output stage NMOS transistor 1 of the output buffer of the embodiment. The first element transistors Q N11 to Q N61 forming a pair and the second
A resistor R formed by a polysilicon gate electrode wiring is provided between the gates of the element transistors Q N12 to Q N62 .

【0017】次に、このようにして構成された出力バッ
ファの動作について説明する。入力信号INが“H”に
なると、出力段NMOSトランジスタ1では、図3に示
す第1列の駆動能力の小さい第1の要素トランジスタQ
N11 〜QN61 がオンし、続いて抵抗Rで所定時間遅れて
第2列の駆動能力の大きい第2の要素トランジスタQ
N12 〜QN62 がオンになる。このため、引込む電流の立
上りが緩やかになる。入力信号INが“L”になって、
出力段PMOSトランジスタ2がオンするときも同様で
あり、供給電流の立上りが緩やかになる。
Next, the operation of the output buffer configured as described above will be described. When the input signal IN becomes “H”, in the output-stage NMOS transistor 1, the first element transistor Q having a small driving capability in the first column shown in FIG.
N11 to Q N61 are turned on, followed by a large second element transistor of the driving capability of the second row with a delay of a predetermined time, the resistor R Q
N12 to QN62 are turned on. For this reason, the rise of the drawn current becomes gentle. When the input signal IN becomes “L”,
The same applies when the output stage PMOS transistor 2 is turned on, and the rising of the supply current becomes gentle.

【0018】以上のように、この実施例によると、出力
バッファの電流立上りが緩やかになり、同時スイッチン
グノイズが低減される。出力変化は、駆動能力の小さい
要素トランジスタにより開始されるから、全体として高
速性能は損なわれない。
As described above, according to this embodiment, the rise of the current of the output buffer becomes gentle, and the simultaneous switching noise is reduced. Since the output change is initiated by an element transistor having a small driving capability, the high-speed performance is not impaired as a whole.

【0019】図4は、他の実施例における出力バッファ
の構成を示す出力段NMOSトランジスタのレイアウト
である。この実施例では、出力段NMOSトランジスタ
1を、ゲート電極幅の異なる3個の要素トランジスタ
(QN11 ,QN12 ,QN13 ),(QN21 ,QN22 ,Q
N23),…の併設構造としている。図5は、その等価回
路図である。
FIG. 4 is a layout of an output-stage NMOS transistor showing the configuration of an output buffer according to another embodiment. In this embodiment, the output-stage NMOS transistor 1 is composed of three element transistors (Q N11 , Q N12 , Q N13 ), (Q N21 , Q N22 , Q N3) having different gate electrode widths.
N23 ),…. FIG. 5 is an equivalent circuit diagram thereof.

【0020】この実施例によっても、先の実施例と同様
の効果が得られる。同様にしてゲート電極幅の異なるn
個の要素トランジスタを併設するようにしても良い。
According to this embodiment, the same effect as in the previous embodiment can be obtained. Similarly, n having different gate electrode widths
The element transistors may be provided in parallel.

【0021】図6は、更に他の実施例に係る出力バッフ
ァの構成を示すレイアウトである。この実施例では、出
力段NMOSトランジスタ1の各くし歯状ゲート電極に
沿うトランジスタQN1〜QN6のゲート電極幅を、ゲート
電極の信号入力端INに近い方から連続的に小さくなる
ようにしている。従って、各トランジスタは、先の実施
例のような要素トランジスタとしての境界はなくなる
が、先の実施例と同様に、電流立上りを緩やかにするこ
とができる。
FIG. 6 is a layout showing a configuration of an output buffer according to still another embodiment. In this embodiment, the gate electrode widths of the transistors Q N1 to Q N6 along each comb-shaped gate electrode of the output stage NMOS transistor 1 are continuously reduced from the side closer to the signal input terminal IN of the gate electrode. I have. Therefore, each transistor does not have a boundary as an element transistor as in the previous embodiment, but the rise of current can be made gentle like the previous embodiment.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上述べたように、この発明の出力バッ
ファによれば、駆動能力の異なる要素トランジスタを組
み合わせて、電流立上りを緩やかにすることで、高速性
を損なうことなく、同時スイッチングノイズを効果的に
低減することができる。
As described above, according to the output buffer of the present invention, simultaneous switching noise can be reduced without impairing high-speed performance by combining element transistors having different driving capacities and making the current rise slow. It can be reduced effectively.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の一実施例に係る出力バッファの構
成を示すレイアウトである。
FIG. 1 is a layout showing a configuration of an output buffer according to an embodiment of the present invention.

【図2】 同実施例における出力段NMOSトランジス
タの断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an output-stage NMOS transistor in the same embodiment.

【図3】 同実施例の出力バッファの出力段NMOSト
ランジスタの等価回路図である。
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of an output stage NMOS transistor of the output buffer of the embodiment.

【図4】 他の実施例における出力バッファの構成を示
す出力段NMOSトランジスタのレイアウトである。
FIG. 4 is a layout of an output-stage NMOS transistor showing a configuration of an output buffer in another embodiment.

【図5】 同実施例の出力バッファの出力段NMOSト
ランジスタの等価回路図である。
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of an output-stage NMOS transistor of the output buffer of the embodiment.

【図6】 更に他の実施例における出力バッファの構成
を示すレイアウトである。
FIG. 6 is a layout showing a configuration of an output buffer according to still another embodiment.

【図7】 従来の出力バッファの構成を示す回路図であ
る。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional output buffer.

【図8】 従来の出力バッファの適用例を示す回路図で
ある。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an application example of a conventional output buffer.

【図9】 同時スイッチングノイズの発生を説明するた
めの図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining the occurrence of simultaneous switching noise.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…出力段NMOSトランジスタ、2…出力段PMOS
トランジスタ、10…n型シリコン基板、11…pウェ
ル、12…ゲート酸化膜、13…ゲート電極、14…ソ
ース、15…ドレイン、51〜53…出力バッファ。G
1…NANDゲート、G2…NORゲート、IN…入力
信号、L1,L2…ゲート電極幅、QN11 〜QN61 ,Q
P11 〜QP61 …第1の要素トランジスタ、QN12 〜Q
N62 ,QP12 〜QP62 …第2の要素トランジスタ、R,
R1,R2…抵抗。
1: output stage NMOS transistor, 2: output stage PMOS
Transistors, 10: n-type silicon substrate, 11: p well, 12: gate oxide film, 13: gate electrode, 14: source, 15: drain, 51 to 53: output buffer. G
1 ... NAND gate, G2 ... NOR gate, IN ... input signal, L1, L2 ... gate electrode width, Q N11 ~Q N61, Q
P11 to Q P61 ... first element transistors, Q N12 to Q N
N62 , Q P12 to Q P62 ... second element transistors, R,
R1, R2 ... resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−357712(JP,A) 特開 平4−79371(JP,A) 特開 平2−188023(JP,A) 特開 平2−203618(JP,A) 特開 平3−204223(JP,A) 特開 平4−180310(JP,A) 特開 平4−165669(JP,A) 特開 平5−206810(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03K 17/00 - 17/70 H01L 27/04 H03K 19/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-357712 (JP, A) JP-A-4-79371 (JP, A) JP-A-2-18823 (JP, A) JP-A-2- 203618 (JP, A) JP-A-3-204223 (JP, A) JP-A-4-180310 (JP, A) JP-A-4-165669 (JP, A) JP-A-5-206810 (JP, A) (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H03K 17/00-17/70 H01L 27/04 H03K 19/00

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ドレインが信号出力端につながり、ゲー
トが信号入力端につながるドライバMOSトランジスタ
を有する出力バッファにおいて、 前記ドライバMOSトランジスタは、駆動能力の異な
少なくとも二つの要素トランジスタを並設し且つ、駆動
能力の小さい第1の要素トランジスタを駆動能力の大き
い第2の要素トランジスタに対して前記信号入力端に近
い位置に配置して構成され、 前記第1、第2の要素トランジスタは、一つの活性層内
にゲート電極を連続的に形成し、ソース、ドレインをそ
れぞれ共有させて形成したものであって、前記第1の要
素トランジスタのゲート電極幅が第2の要素トランジス
タのそれより大に設定されて、ゲート電極での信号遅延
により第1、第2の要素トランジスタがこの順に駆動さ
れるようにした ことを特徴とする出力バッファ。
1. A lead to a drain signal output terminal, the output buffer having a driver MOS transistor having a gate connected to the signal input terminal, said driver MOS transistor, that Do different driving capability
At least two factors transistors arranged side by side and is constructed by arranging at a position closer to the signal input end of the small first element transistor driving capability for large second element transistor driving capability, the first , The second element transistor is in one active layer
A gate electrode is formed continuously, and the source and drain are
Each of which is formed in a shared manner,
The gate electrode width of the elementary transistor is the second element transistor
Signal delay at the gate electrode
Drives the first and second element transistors in this order.
An output buffer characterized in that the output buffer is adapted to be used .
【請求項2】 前記第1、第2の要素トランジスタの間
でゲート電極幅を階段状に変化させたことを特徴とする
請求項1記載の出力バッファ。
2. The output buffer according to claim 1, wherein a gate electrode width is changed stepwise between the first and second element transistors.
【請求項3】 前記第1、第2の要素トランジスタの間
でゲート電極幅を漸次変化させたことを特徴とする請求
項1記載の出力バッファ。
3. The output buffer according to claim 1, wherein a gate electrode width is gradually changed between said first and second element transistors.
【請求項4】 前記ドライバMOSトランジスタは、一
つの活性層内にインターディジタル型ゲート電極構造を
もって、前記第1、第2の要素トランジスタを複数個ず
つ配置して構成されていることを特徴とする請求項1乃
至3のいずれかに記載の出力バッファ。
4. The driver MOS transistor according to claim 1, wherein a plurality of said first and second element transistors are arranged in an active layer with an interdigital gate electrode structure. The output buffer according to claim 1.
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