JP3234691B2 - Method of producing a color filter - Google Patents

Method of producing a color filter

Info

Publication number
JP3234691B2
JP3234691B2 JP26369893A JP26369893A JP3234691B2 JP 3234691 B2 JP3234691 B2 JP 3234691B2 JP 26369893 A JP26369893 A JP 26369893A JP 26369893 A JP26369893 A JP 26369893A JP 3234691 B2 JP3234691 B2 JP 3234691B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
black
resin layer
color filter
colored
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP26369893A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH07120610A (en
Inventor
守正 佐藤
増田  敏幸
Original Assignee
富士写真フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士写真フイルム株式会社 filed Critical 富士写真フイルム株式会社
Priority to JP26369893A priority Critical patent/JP3234691B2/en
Publication of JPH07120610A publication Critical patent/JPH07120610A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3234691B2 publication Critical patent/JP3234691B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Application status is Expired - Fee Related legal-status Critical

Links

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶カラーディスプレー等に使用するカラーフィルターの製造方法に関する。 The present invention relates to a process for the manufacture of color filters to be used in a liquid crystal color display or the like.

【0002】 [0002]

【従来の技術】液晶用カラーフィルターは、ガラス等の透明基板上に赤色、緑色及び青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、それぞれの境界をブラックマトリックスで区分した構造である。 BACKGROUND ART Color filters for liquid crystal is red on a transparent substrate such as glass, green and blue dot-like images respectively arranged in a matrix, a division structure each boundary black matrix. カラーフィルターの製造方法としては、染色法、印刷法、着色感光性樹脂の塗布、露光、現像の繰り返しによる着色レジスト法、予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、透明基板上にこの感光性着色樹脂層を転写し、露光、現像を繰り返す方法(ラミネート法)等が知られている。 As a method for producing a color filter, a dyeing method, a printing method, coating of the colored photosensitive resin, exposure, color resist method due to repeated development, a colored layer by applying a pre-colored photosensitive resin solution on a temporary support forming a sequentially directly transferred the photosensitive colored resin layer on the transparent substrate, the exposure is known and a method of repeating development (laminating method).

【0003】また、ブラックマトリックスを形成する方法としては金属薄膜を用いる方法や黒色感光性樹脂を用いる方法等が知られている。 [0003] Also, the method of using a method or black photosensitive resin using the metal thin film is known as a method for forming a black matrix.

【0004】金属薄膜を用いる場合は、赤色、緑色、青色の各色画素形成に先立って、透明基板上にスパッタリング等の手段によってCr等の金属薄膜を設け、その後フォトリソ工程によりパターニングを行うが、この方法は高価な真空成膜設備やレジスト塗布設備、フォトリソ設備、更にエッチング設備も必要とするため製造コストが極めて高くなるという欠点、また、ディスプレーにした時に、金属膜特有の反射のため見にくいという欠点を有する。 [0004] When a metal thin film, the red, green, prior to the blue color pixels formed, provided a metal thin film such as Cr by means of sputtering or the like on a transparent substrate, but then is patterned by photolithography, this method expensive vacuum deposition equipment and the resist coating equipment, disadvantage photolithography equipment, the manufacturing cost to further require the etching equipment is very high also, when the display, disadvantage hard to see because of the reflective metal film unique having.

【0005】一方黒色感光性樹脂を用いる方法は、赤色、緑色、青色の各色画素形成後、その上に黒色感光性樹脂層を設け、マスク露光、現像のフォトリソ工程により形成する。 On the other hand a method of using a black photosensitive resin, red, green, after blue color pixels formed, a black photosensitive resin layer provided thereon, mask exposure, formed by a photolithographic process of development. 黒色感光性樹脂層を設ける方法としては、 As a method of providing a black photosensitive resin layer,
スピンコート法、ロールコート法、及び前述したラミネート法等が適宜使用できる。 Spin coating, roll coating, and laminating method previously described may be used as appropriate. この方法は、金属薄膜を用いる方法に比べ、コスト的にも、また低反射率であるという点でも有利である。 This method, compared with the method using a metal thin film, cost and are also advantageous also in that it is low reflectivity.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、黒色感光性樹脂層側からのマスク露光、現像によりブラックマトリックスを形成する場合、図1(a)に示すように、 [SUMMARY OF THE INVENTION However, mask exposure of a black photosensitive resin layer side, when forming a black matrix by development, as shown in FIG. 1 (a),
既形成画素の存在によって黒色感光性樹脂5の膜厚が段階的に厚くなる部分6が生じ、更に各画素の位置ずれによる光漏れを防止する目的で各画素と黒色樹脂とを一部重ねるため(図1(b))、図1(c)に示すようにカラーフィルター表面に大きな突起9を形成してしまうという問題がある。 Portion 6 where the thickness of the black photosensitive resin 5 is gradually thick caused by the presence of the already formed pixels to overlay a portion of each pixel and a black resin in order to further prevent light leakage due to positional deviation of each pixel (FIG. 1 (b)), there is a problem that formation of large projections 9 on the color filter surface as shown in Figure 1 (c). カラーフィルター表面に大きな段差があると、その上に形成される透明電極の断線や液晶の配向乱れの原因になるため、研磨により突起を削り取ったり、平滑化層を設ける等の手段が用いられるが、コストアップや歩留り低下につながったりするため好ましくない。 If there is a large step in the color filter surface, since this may result in breakage and the liquid crystal alignment disorder of the transparent electrode formed thereon, or scraped off projection by polishing, but means such as providing the smoothing layer is used , which is not preferable or increase in cost and reduction in yield.

【0007】一方、着色画素に光吸収剤を添加する等の方法により光吸収性を付与し、黒色感光性樹脂層形成面の反対側からのフォトマスクを介さない露光によりブラックマトリックスを形成する、いわゆるセルフアライメント方式も提案されている。 On the other hand, the light absorption is imparted by a method such as adding a light absorber in the colored pixels, to form a black matrix by exposure without passing through the photomask from the opposite side of the black photosensitive resin layer formed surface, so-called self-alignment method has also been proposed. しかし、セルフアライメント方式の場合、黒色感光性樹脂層の濃度を高くした時、 However, if the self-alignment method, when increasing the concentration of the black photosensitive resin layer,
黒色感光性樹脂層自体の遮光性により、樹脂表面まで硬化させることが困難になるため、現像により表面側から樹脂が溶出し、結果として光学濃度の低いブラックマトリックスしか形成出来ないという問題がある。 The light-shielding black photosensitive resin layer itself, it becomes difficult to cure until the resin surface, the resin is eluted from the surface side by development, resulting in a problem that can not be formed only a low black matrix optical density.

【0008】本発明の目的は、黒色感光性樹脂を用いて、光学濃度が高く、表面凹凸の小さなブラックマトリックスを有するカラーフィルターを製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention, by using a black photosensitive resin, high optical density is to provide a method for manufacturing a color filter having a small black matrix surface irregularities.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、透明基板上に複数色の着色画素パターンを形成し、その後、該着色画素パターン以外の部分に黒色の遮光性膜を設けてなるカラーフィルターの製造方法において、該着色画素パターンを覆って該透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設ける工程、該黒色感光性樹脂層側からフォトマスクを介して各着色画素の間隔よりも狭い幅で露光する工程、 Means for Solving the Problems The object of the present invention is to form a colored pixel pattern of a plurality of colors on a transparent substrate, then, a color filter formed by providing a light-shielding film of the black portions other than the colored pixel pattern in the method of manufacturing, exposure over the colored pixel pattern to the transparent substrate over the entire surface step of providing a black photosensitive resin layer, a narrower width than the distance between the colored pixels through a photomask from said black photosensitive resin layer side the step of,
該透明基板を通して全面露光する工程、該黒色感光性樹脂層を現像してブラックマトリックスを形成する工程、 A step of overall exposure through the transparent substrate, forming a black matrix by developing the said black photosensitive resin layer,
を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法により達成された。 It was achieved by the method for producing a color filter, which comprises a.

【0010】更に、該着色画素に該黒色感光性樹脂の感光波長域に対する光吸収性が良好な化合物を含有させ、 Furthermore, by incorporating a light absorbing good compound for photosensitive wavelength region of said black photosensitive resin colored pixels,
好ましくは、該黒色感光性樹脂層の感光波長域における該着色画素の光透過率が2%以下とする方法により、或いは、該透明基板を通して、該黒色感光性樹脂層の感光波長域にあって、該着色画素の光透過率が2%以下である波長を有する光を照射する方法により、光学濃度が高いブラックマトリックスを形成せしめることができる。 Preferably, the method of light transmittance of the colored pixels is 2% or less in the photosensitive wavelength region of said black photosensitive resin layer, or through the transparent substrate, in the photosensitive wavelength region of said black photosensitive resin layer , by a method of irradiating light transmittance of the colored pixels have wavelength 2% or less, can be allowed to form a high optical density black matrix.
以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0011】先ず、透明基板上に赤色、緑色、青色等の、目的に合わせた着色画素を形成する。 [0011] First, a red, green, blue, etc., a colored pixel according to the purpose on a transparent substrate. 透明基板上に赤色、緑色、青色等の着色画素を形成する方法としては、前述した染色法、印刷法、または着色感光性樹脂液をスピンコーター等で塗布後、フォトリソ工程でパターニングする着色レジスト法、さらにはラミネート法等が適宜利用できる。 Red on a transparent substrate, a green, a method for forming a colored pixel such as blue, after coating dyeing method described above, a printing method, or the colored photosensitive resin solution by a spin coater or the like, colored resist method of patterning by photolithography news laminating method can be used appropriately.

【0012】黒色感光性樹脂を用いてブラックマトリクスを形成する場合は、上記着色画素を形成した後にするのが好ましい。 [0012] When forming a black matrix using a black photosensitive resin is preferably after the formation of the colored pixels. 最初にブラックマトリクスを形成すると、光学濃度の高い黒色感光性樹脂では、樹脂表面しか硬化しないため、次いで行われる現像処理、特に着色画素を形成するため繰り返し行う現像処理により未硬化の樹脂が溶け出し(サイドエッチと称する)、極端な場合には形成されたマトリクスが剥がれてしまうこともあるからである。 The first time to form a black matrix, a high optical density black photosensitive resin, since only the resin surface does not harden, developed, uncured resin melts by repeated development processing for forming a particular colored pixels followed performed (referred to as side etching), it is because in extreme cases may be peeled off is formed matrix.

【0013】これに対し、ブラックマトリクスを最後に形成すれば、ブラックマトリクスの周囲は着色画素で囲まれていて、断面からは現像液が浸透しにくいため、サイドエッチが起こりにくく、光学濃度の高いブラックマトリクスを形成できるという大きな利点がある。 [0013] In contrast, by forming a black matrix Finally, the periphery of the black matrix is ​​surrounded by colored pixels, since it is difficult developing solution permeates from sectional, side etching hardly occurs, a high optical density there is a great advantage that the black matrix can be formed.

【0014】更に、着色画素形成用の着色層の形成をラミネート法で行う場合は、先にブラックマトリクスを形成すると、着色画素が形成されるべき場所がブラックマトリクスでほぼ格子状に閉じられているため、ラミネート時に気泡を巻き込み易いという問題がある。 Furthermore, in the case of the formation of a colored layer for forming colored pixels by laminating method, to form a black matrix previously, the location where colored pixels are formed closed to nearly lattice-like black matrix Therefore, there is a problem that is easy entrainment of bubbles at the time of lamination.

【0015】黒色感光性樹脂の感光波長域に対する着色画素の光透過率が2%を超える場合は、予め着色画素の中に光吸収剤等を加え、その透過率を2%以下にすることが好ましい。 The light transmittance of the colored pixels to the photosensitive wavelength region of the black photosensitive resin when it exceeds 2%, the light absorbing agent added into a pre-colored pixels, be the transmittance of 2% or less preferable. この際使用する光吸収剤としては公知の種々の化合物を用いることが出来る。 At this time as the light-absorbing agent used can be used various known compounds. 例えば、ベンゾフェノン誘導体(ミヒラーズケトン等)、メロシアニン系化合物、金属酸化物、ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物等を挙げることが出来る。 For example, benzophenone derivatives (Michler's ketone, etc.), merocyanine compounds, metal oxides, benzotriazole compounds, may be mentioned coumarin compounds. その中でも、 Among them,
光吸収性が良好で、かつ200℃以上の熱処理の後でも25%以上の光吸収性能を保持するものが好ましく、具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物が挙げられる。 Light absorbing is good, and preferably those that retain 25% or more light absorbing performance even after 200 ° C. or more heat treatment, specifically titanium oxide, zinc oxide, benzotriazole compounds, coumarin based compounds It is. これらの中では、クマリン系化合物が耐熱性、光吸収性の両観点から特に好ましい。 Among these, coumarin-based compounds in heat resistance, particularly preferred from both the viewpoint of light absorption. 尚、上述の200℃以上の熱処理は、各画素を形成後、一層硬化させるために行われるものである。 Incidentally, 200 ° C. or more heat treatment described above, after forming each pixel, are intended to be performed in order to further cure.

【0016】次に画素パターンを覆って透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設けるが、これも黒色感光性樹脂液をスピンコーターやロールコーターで塗布する方法、また、予め黒色感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより画像形成材料を作成し、画素パターン上にこの黒色感光性樹脂層を転写する方法等が利用できる。 [0016] Next, cover the pixel pattern transparent substrate over the entire surface provided black photosensitive resin layer, but the way this is also coated with a black photosensitive resin solution by a spin coater or a roll coater, also previously black photosensitive resin solution create an image forming material by coating onto a temporary support, and a method of transferring the black photosensitive resin layer on the pixel pattern can be used.

【0017】次に、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層側から露光し、着色画素が存在しない遮光部(ブラックマトリックス)の黒色感光性樹脂層を硬化させる。 Next, exposure of a black photosensitive resin layer side through a photomask to cure a black photosensitive resin layer of the light blocking part which colored pixels is not present (black matrix).
着色画素は、露光機のアライメント誤差や基板の熱膨張の影響を受けて多少の位置ずれがあったり、画素自体の太りや細りがあって、設計寸法通りの間隔や大きさで配置されてはいないのが普通である。 Colored pixels, or there is some positional displacement under the influence of alignment errors and thermal expansion of the substrate as the exposure apparatus, there is a thickening or thinning of the pixel itself, is arranged at a spacing and size of the designed dimensions it is common not. 特に大サイズの基板ではこの傾向が強くなる。 In particular, this tendency is strong in a substrate of a large size. したがって、設計画素間隔通りのフォトマスクで露光した場合、ブラックマトリックスが画素と重なる部分や、逆に画素との間に隙間が出来る部分が発生する。 Thus, when exposed with a photomask as designed pixel interval, and the portion where the black matrix overlaps the pixel, a gap can be part between the pixel in the reverse occurs. 重なった部分は突起になり、隙間が出来た部分は光漏れになるので何れも好ましくない。 Overlapped portion becomes the projection, the portion could clearance is not preferable either since the light leakage.

【0018】そこで、本発明では黒色感光性樹脂層側からは図2(b)に示すように、各着色画素の間隔よりも狭い幅で露光をする。 [0018] Therefore, in the present invention as is a black photosensitive resin layer side shown in FIG. 2 (b), an exposure width narrower than the interval of the colored pixels. どの程度狭くするかは、ブラックマトリックスの幅、或いはアライメント精度や黒色感光性樹脂の感度等で決まる。 How much narrower, the black matrix width, or determined by the sensitivity or the like of the alignment accuracy and black photosensitive resin. ブラックマトリクスの幅は通常10〜50μm程度であり、露光幅の目安としてはブラックマトリクスの幅が10μmの場合で5〜8μm、 The width of the black matrix is ​​usually about 10~50μm, 5~8μm in the case where the width of the black matrix as a measure of exposure width of 10μm,
30μmの場合で15〜28μm、50μmの場合で3 15~28μm in the case of 30μm, 3 in the case of 50μm
0〜48μm程度である。 It is about 0~48μm. つまり、位置ずれが少々あっても、画素とブラックマトリックスが重ならない、最大幅で露光するということになる。 In other words, even misalignment little, do not overlap the pixel and the black matrix, it comes to be exposed with the maximum width. そして、図2(c)に示すように透明基板を通して全面露光する。 Then, the entire surface exposure through a transparent substrate as shown in Figure 2 (c). この際、後述する通り、着色画素部の上には黒色感光性樹脂の感度がある光は実質的に到達しないので、黒色感光性樹脂側からの露光で硬化しなかった基板近傍の黒色感光性樹脂(図2(b)10)と、隙間の部分(図2(b)11) At this time, as described later, since the light is sensitive black photosensitive resin on the color pixel unit does not substantially reach, black photosensitive near the substrate which has not cured with exposure from the black photosensitive resin side resin (FIG. 2 (b) 10), a clearance portion (FIG. 2 (b) 11)
だけが硬化される。 Only it is cured. ブラックマトリクスを形成したくない部分(通常、基板上には着色画素も、ブラックマトリクスも形成しない部分を作る)がある場合には、金属板等でできた露光枠(露光部のみ開口を設けた板)を光源と透明基板間、好ましくは透明基板に密着させて設置すればよい。 Black matrix do not want to form part (usually, also colored pixels on the substrate, a black matrix may make the portions not formed) when there is has an opening only in the exposed frame (exposed portion made of metal plate plate) between the light source and the transparent substrate, may be preferably placed in close contact to the transparent substrate. 次いで現像処理により未硬化部の黒色感光性樹脂を除去し、カラーフィルターを完成させる(図2 Then a black photosensitive resin uncured portion is removed by development processing, to complete the color filter (Fig. 2
(d))。 (D)).

【0019】この時、黒色感光性樹脂層の感光波長域に対する赤色、緑色、青色等の着色画素の光透過率が2% [0019] At this time, the red the photosensitive wavelength region of the black photosensitive resin layer, the green, the light transmittance of the colored pixels such as blue 2%
を超える場合は、着色画素上に光硬化した黒色感光性樹脂膜が残留して、カラーフィルターとしては使用困難となるので、この場合は、前述したように、予め着色画素中に光吸収剤を加えるか、或いは別の方法として、光学フィルターを用いて、着色画素の光透過率が2%以下であって、黒色感光性樹脂を硬化しうる所望の波長領域のみを選択的に取り出してもよい。 If more than, the light cured black photosensitive resin film is left on the color pixels, because it is difficult used as a color filter, in this case, as described above, the light absorbing agent in the precolored pixels as added or, or otherwise, by using an optical filter, the light transmittance of the colored pixels is 2% or less, only a desired wavelength region capable of curing the black photosensitive resin may be selectively taken out . また両者を組み合わせてもよい。 Or it may be a combination of both. この方法により、着色画素上に設けられた黒色感光性樹脂層は、透明基板を通して露光した際に、実質的に硬化せず、引き続く現像処理により除去することが可能になる。 In this way, the black photosensitive resin layer provided on the colored pixels, upon exposure through a transparent substrate, without substantially curing, it is possible to remove by subsequent development.

【0020】上述の説明では、黒色感光性樹脂層側からのマスクを介しての露光を先に、透明基板を通しての全面露光を後としたが、順序は逆としても良い。 [0020] In the above description, before the exposure through the mask from the black photosensitive resin layer side, it was later overall exposure through a transparent substrate, the order may be reversed. 以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Described below in more detail the present invention based on examples, the present invention is not limited thereto.

【0021】 [0021]

【実施例】 【Example】

実施例1 赤色、緑色、青色の各色画素形成及び、黒色樹脂によるブラックマトリックス形成は、種々の方法が利用できるが、本実施例ではラミネート法による形成を例に挙げて具体的に説明する。 Example 1 red, green, blue color pixels formed and a black matrix formed by the black resin, various methods are available, in the present embodiment will be specifically described by way of example formed by a laminate method. 先ず、ラミネート用画像形成材料を以下のようにして用意した。 First, the laminating imaging material was prepared as follows. 厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に下記の処方Aからなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。 Coating thickness 75μm polyethylene terephthalate film support on the coating solution consisting of Formula A of the following, dried, dry film thickness provide a thermoplastic resin layer of 20 [mu] m. この層は、複数色の画素を順次ラミネートにより形成する際、既形成画素の存在に起因する気泡の混入を防止する機能を有する。 This layer, when formed by sequentially laminating a plurality of colors of pixels, has a function of preventing the mixing of air bubbles due to the presence of the already formed pixels.

【0022】 熱可塑性樹脂層処方A: ・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリ レート/メタクリル酸共重合体〔共重合組成比(モル比) =55/11.7/4.5/28.8、重量平均分子量=80000〕 4.5重量部 ・スチレン/アクリル酸共重合体〔共重合組成比(重量比) =7/3、重量平均分子量=8000〕 10.5重量部 ・BPE−500(新中村化学社製) 7重量部 ・F177P(大日本インキ社製界面活性剤) 0.26重量部 ・メチルエチルケトン 18.6重量部 ・メタノール 30.6重量部 ・1−メトキシ−2−プロパノール 9.3重量部 The thermoplastic resin layer Formulation A: · Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate Rate / methacrylic acid copolymer [copolymer composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28. 8, the weight-average molecular weight = 80,000] 4.5 parts by weight styrene / acrylic acid copolymer [copolymer composition ratio (weight ratio) = 7/3, a weight average molecular weight = 8000] 10.5 parts by weight BPE-500 (Shin-Nakamura chemical Co., Ltd.) 7 parts by weight F177P (manufactured by Dainippon ink and chemicals, surfactant) 0.26 parts by weight Methyl ethyl ketone 18.6 parts by weight methanol 30.6 parts by weight 1-methoxy-2-propanol 9 .3 parts by weight

【0023】次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Bからなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm [0023] Then applying a coating solution having the following formulation B in the thermoplastic resin layer, dried, dry film thickness 1.6μm
の中間層を設けた。 It provided with an intermediate layer. この層は、次にこの層上に形成する着色感光性樹脂層と先に形成した熱可塑性樹脂層が混じり合わないようにするためのバリアー層として働くものである。 This layer, in which then acts as a barrier layer in order to thermoplastic resin layer formed on the colored photosensitive resin layer and before the formation of this layer on the not mixed.

【0024】 中間層処方B: ・ポリビニルアルコール(クラレ社製PVA205) 13重量部 ・ポリビニルピロリドン(五協産業社製PVP−K30) 6重量部 ・メタノール 173重量部 ・水 211.4重量部 [0024] Intermediate layer Formulation B: Polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd. PVA 205) 13 parts by weight Polyvinylpyrrolidone (Gokyo Sangyo PVP-K30) 6 parts by weight Methanol 173 parts by weight of water 211.4 parts by weight

【0025】上記中間層上に、それぞれ表1の処方を有する、赤色(R層用)、緑色(G層用)、青色(B層用)及び黒色(ブラックマトリックス用)の4色の感光性溶液を塗布乾燥させ、乾燥膜厚が2μmの着色感光性樹脂層を形成した。 [0025] The intermediate layer, having Table 1, respectively, of formulations, (for R layer) red (for G layer) green, (for B layer) blue and four colors photosensitive black (black matrix) the solution was applied dry, dry thickness thereby forming a colored photosensitive resin layer of 2 [mu] m. 但し、赤色着色層のi線(365n Where, i-ray of the red colored layer (365N
m)透過率が2%以下となるように、7−((4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリンを対固形分で10 As m) transmittance is 2% or less, 7 - ((4-chloro-6- (diethylamino) -s-triazin-2-yl) amino) -3-10 phenyl coumarin pair solids
%添加した。 % Was added. さらに上記感光性樹脂層の上にポリプロピレン(厚さ12μm)の被覆シートを圧着し、赤色、緑色、青色及び黒色の画像形成材料を作成した。 Further crimp the covering sheet of polypropylene (thickness 12 [mu] m) on the photosensitive resin layer was produced red, green, image forming materials of the blue and black.

【0026】また、表1に示す黒(黒色感光性樹脂層) Further, black shown in Table 1 (black photosensitive resin layer)
の感光波長は350nm〜420nmであり、光源に超高圧水銀灯を用いた場合の主感光波長は365nm(i The photosensitive wavelength is 350Nm~420nm, main sensitive wavelength in the case of using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source 365 nm (i
線)と405nm(h線)である。 Line) and a 405nm (h line).

【0027】 表1:着色感光層用塗布液の組成 赤 緑 青 黒 (g) (g) (g) (g) ──────────────────────────────────── ベンジルメタクリレート/ メタクリル酸共重合体 25.7 33.5 39.9 40.6 (モル比=72/28,分子量=30000) ──────────────────────────────────── ジペンタエリスリトールヘキサアクリ 27.0 25.2 31.9 30.5 レート(日本化薬製 DPHA) ──────────────────────────────────── F177P(大日本インキ製 フッ素 0.17 0.19 0.19 0.30 系界面活性剤) ──────────────────────────────────── 2,4−ビス(トリクロロメチル)− 6−〔4−(N,N−ジエトキシカル 1 [0027] Table 1: Composition of the colored light-sensitive layer coating solution for red green blue black (g) (g) (g) (g) ──────────────────── ──────────────── benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 25.7 33.5 39.9 40.6 (molar ratio = 72/28, molecular weight = 30000) ────────── ────────────────────────── dipentaerythritol hexaacrylate 27.0 25.2 31.9 30.5 rate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. DPHA) ─────── ───────────────────────────── F177P (manufactured by Dainippon ink fluorine 0.17 0.19 0.19 0.30 surfactant) ───── ─────────────────────────────── 2,4-bis (trichloromethyl) - 6- [4-(N, N - Jietokishikaru 1 .31 0 1.52 1.47 ボニルメチル)−3−ブロモフェニル〕 −s−トリアジン ──────────────────────────────────── 2−トリクロロメチル−5−(P−スチ リルスチリル)−1,3,4−オキサ 0 1.20 0 0 ジアゾール ──────────────────────────────────── フェノチアジン 0.022 0.020 0.026 0.015 ──────────────────────────────────── クロモフタルレッドA2B 27.0 0 0 0 ──────────────────────────────────── パリオトールイエローLY−1820 9.3 7.98 0 0 ──────────────────────────────────── モナストラルグリーン6Y 0 31.92 0 0 ───── .31 0 1.52 1.47 Bonirumechiru) -3-bromophenyl] -s- triazine ───────────────────────────────── ─── 2-trichloromethyl-5-(P- steel Rirusuchiriru) -1,3,4 0 1.20 0 0 diazole ───────────────────── ─────────────── phenothiazine 0.022 0.020 0.026 0.015 ────────────────────────────── ────── chromophthal Red A2B 27.0 0 0 0 ──────────────────────────────────── Paliotol yellow LY-1820 9.3 7.98 0 0 ──────────────────────────────────── Monastral green 6Y 0 31.92 0 0 ───── ────────────────────────────── ヘリオーゲンブルーL6700F 0 0 25.6 0 ──────────────────────────────────── リオノーゲンバイオレットVRL 0 0 0.8 0 ──────────────────────────────────── カーボンブラック 0 0 0 27.1 ──────────────────────────────────── メトキシプロピレングリコール 310 310 310 310 ──────────────────────────────────── メチルエチルケトン 460 460 460 460 ──────────────────────────────────── ────────────────────────────── Helio progestogen blue L6700F 0 0 25.6 0 ─────────── ───────────────────────── Rio no Gen violet VRL 0 0 0.8 0 ───────────────── ─────────────────── carbon black 0 0 0 27.1 ───────────────────────── ─────────── methoxy propylene glycol 310 310 310 310 ──────────────────────────────── ──── methyl ethyl ketone 460 460 460 460 ────────────────────────────────────

【0028】この画像形成材料を用いて、以下の方法でカラーフィルターを作成した。 [0028] Using the image forming material to prepare a color filter by the following method. 先ず、洗浄した厚さ1. First, it washed thickness 1.
1mm、400mm×300mmの透明ガラス基板(コーニング社製#7059)を用意した。 1mm, it was prepared a transparent glass substrate of 400mm × 300mm (Corning # 7059). 次に、R画像形成材料の被覆シートを剥離し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板にラミネーター(ソマール社製オートカットラミネーターASL−24)を用いて加圧(10kg/c Then peeling the cover sheet of the R image forming material, pressurized with a transparent glass substrate a photosensitive resin layer surface laminator (SOMAR Corp. automatic cutting laminator ASL-24) (10kg / c
m)、加熱して貼り合わせ、続いて支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、支持体を除去した。 m), heated to bonding, followed by peeling at the interface between the support and the thermoplastic resin layer was removed support. 次に所定のフォトマスクを介して露光、現像後、コンベクションオーブンでベークし、透明ガラス基板上にR画素パターンを形成した。 Then exposure through a predetermined photomask, developed, and baked in a convection oven to form a R pixel pattern on a transparent glass substrate. 続いて、R画素パターンが形成されたガラス基板上にG画像形成材料を上記と同様にして貼り合わせ、支持体剥離、露光、現像、ベークを行い、緑色画素パターンを形成した。 Subsequently, the G image forming material on the glass substrate which R pixel pattern is formed laminated in the same manner as described above, the support peeling, exposure, development, baked to form a green pixel pattern.

【0029】同様な工程をBでも繰り返した。 [0029] repeated the same process even B. ここで、 here,
R、G、B各画素の間隔はほぼ20μmであった。 R, G, B space of each pixel was almost 20 [mu] m. 得られた、各着色画素のi線及びh線の透過率は表2の通りであった。 Obtained, the transmittance of the i-line and h-line of each colored pixel were as shown in Table 2.

【0030】 [0030]

【0031】次に、黒色画像形成材料の被覆シートを剥離し、感光性樹脂層面を着色画素パターン面にラミネーター(ソマール社製オートカットラミネーターASL− Next, by peeling the cover sheet of the black image forming material, laminator photosensitive resin layer surface to the colored pixel pattern surface (SOMAR Corp. automatic cutting laminator ASL-
24)を用いて加圧(10kg/cm)、加熱して貼り合わせ、続いて支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、 Pressure by using 24) (10kg / cm), heated by bonding, followed by peeling at the interface between the support and the thermoplastic resin layer,
支持体を除去した。 The support was removed.

【0032】次に、黒色感光性樹脂層側から各着色画素の間隔よりも10μm(片側5μm)狭い幅の透光部を有するフォトマスクを介して、100mj/cm 2 (h Next, through a photomask having a light-transmitting portion of the 10 [mu] m (one side 5 [mu] m) having a width smaller than the spacing of the individual colored pixels of a black photosensitive resin layer side, 100mj / cm 2 (h
線測定)露光した。 And line measurement) exposure. 次に、透明ガラス基板を通して、超高圧水銀灯を用いて全面露光を行ったが、この場合、表2に示したように、B画素のh線の透過率が2%を超えているので、光源とガラス基板の間に、東芝ガラスフィルター(UVD36c)を設置した。 Then, through the transparent glass substrate, it was subjected to overall exposure by using an extra-high pressure mercury lamp, in this case, as shown in Table 2, since the transmittance of the h line B pixels exceeds 2%, the light source and between the glass substrate was placed Toshiba glass filter (UVD36c). 露光量は60mj Exposure amount 60mj
/cm 2 (i線測定)とした。 / Cm and the 2 (i-ray measurement). その後、現像して非硬化部を除去し、両面から1000mj/cm 2 (i線)のポスト露光を実施した後、ポストベークし、R、G、B Thereafter, development to the non-cured portion is removed, after performing the post-exposure of 1000 mj / cm 2 from both sides (i line), and post-baking, R, G, B
各画素の間隙にブラックマトリックスが形成されたカラーフィルターを完成させた。 A black matrix in a gap between each pixel to complete the color filter formed. 出来上がったカラーフィルターは、RGB画素とブラックマトリックスとの重なりも隙間もなく、表面凹凸を表面粗さ計(東京精密社製 The resulting color filter, without even the gap overlap between RGB pixel and the black matrix, the surface of the surface irregularities roughness meter (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
サーフコム1506A)で測定したところ0.2μm以下と、平滑性に優れ、さらに、RGB画素上には、実質的に黒色感光性樹脂の残留は無かった。 And 0.2μm or less was measured by SURFCOM 1506A), excellent smoothness, further, on the RGB pixel, remaining substantially black photosensitive resin did. また、ブラックマトリックス部の光学濃度は3.0であり、遮光膜として十分の濃度であった。 The optical density of the black matrix portion is 3.0, at a concentration sufficient as a light-shielding film. 転写、露光等の条件は表3に示す通りであった。 Transcription, conditions such as exposure were as shown in Table 3.

【0033】 表3:転写・露光・現像等の条件 ───────────────────────────────── 転写 転写 露光 現像1 現像2 ベーク ベーク 色 温度 速度 (405nm) 温度 時間 ℃ m/分 mj/cm 2秒 秒 ℃ 分 ───────────────────────────────── 赤 130 0.5 20 50 70 220 10 ───────────────────────────────── 緑 140 0.5 20 50 25 220 10 ───────────────────────────────── 青 150 0.5 20 50 40 220 10 ───────────────────────────────── 黒 130 0.5 前述 50 25 220 60 ──────────────── [0033] Table 3: Conditions ───────────────────────────────── transfer transfer exposure such as a transfer, exposure, development developing first developing two-bake bake color temperature rate (405 nm) temperature time ° C. m / min mj / cm 2 sec sec ° C. min ──────────────────────── ───────── red 130 0.5 20 50 70 220 10 ─────────────────────────────── ── green 140 0.5 20 50 25 220 10 ───────────────────────────────── blue 150 0.5 20 50 40 220 10 ───────────────────────────────── black 130 0.5 above 50 25 220 60 ── ────────────── ──────────────── ────────────────

【0034】その他の条件、表3の補足説明は次の通り。 [0034] Other conditions, are as follows supplement described in Table 3. 1. 1. 現像1は、熱可塑性樹脂層、中間層を溶解除去するための現像で、現像液としてトリエタノールアミン1% Development 1, the thermoplastic resin layer, in development for dissolving and removing the intermediate layer, triethanolamine 1% as a developing solution
水溶液を用い、33℃でシャワー現像した。 Using an aqueous solution, and shower development at 33 ° C.. 2. 2. 現像2では、着色感光性樹脂層を現像し、現像液としてカラーモザイク現像液CD(富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製)の1/10希釈水溶液を用い、33℃でシャワー現像した。 In the development 2, a colored photosensitive resin layer is developed, using a 1/10 dilute aqueous solution of a color mosaic developer CD (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co.) as a developing solution, and shower development at 33 ° C.. 3. 3. ベーク時間は、オーブン中で基板が設定時間(22 Baking time, the substrate is set time in an oven (22
0℃)に達してからの時間を示す。 0 ° C.) shows the time from reaching.

【0035】比較例1 透明基板を通しての露光時、東芝ガラスフィルター(U [0035] During exposure through Comparative Example 1 transparent substrate, Toshiba glass filter (U
VD36c)を設置しなかった以外は、実施例1と同じ方法でカラーフィルターを形成した。 VD36c) except that was not installed, to form a color filter in the same manner as in Example 1. この場合Bの画素上に黒色感光性樹脂層が残留し、カラーフィルターとしての使用は困難であった。 Black photosensitive resin layer is left on the pixels in this case B, used as a color filter has been difficult.

【0036】比較例2 実施例1の表1に示した組成の、R(赤)、G(緑)、 [0036] The composition shown in Table 1 Comparative Example 2 Example 1, R (red), G (green),
B(青)の画像形成材料を用いて、透明ガラス基板上にR、G、B画素パターンを形成した。 Using the image forming material B (blue) to form R, G, and B pixel pattern on a transparent glass substrate. 実施例1との違いはR層中に7−((4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリンを含まないことのみである。 The difference from the first embodiment 7 in R layer - only that it does not contain a ((4-chloro-6- (diethylamino) -s-triazin-2-yl) amino) -3-phenyl coumarin. この場合のi i in this case
線及びh線の透過率は表4のようになった。 Transmission line and h line were as shown in Table 4.

【0037】 [0037]

【0038】実施例1と同様に黒色画像形成材料を用いて、上記画素パターン上に黒色感光性樹脂層を設け、ブラックマトリックスを形成した。 [0038] Using the black image-forming material in the same manner as in Example 1, a black photosensitive resin layer provided on the pixel pattern, a black matrix was formed. この場合、R層のi線透過率が2%を超えているため、Rの画素上に黒色感光性樹脂層が残留し、カラーフィルターとしての使用は困難であった。 In this case, since the i-line transmittance of the R layer is greater than 2%, the black photosensitive resin layer is remained on the pixels of R, used as a color filter has been difficult.

【0039】比較例3 黒色感光性樹脂層側からのマスク露光をしないほかは実施例1と同じ方法でカラーフィルターを形成した。 [0039] In addition, not a mask exposure from Comparative Example 3 black photosensitive resin layer side to form a color filter in the same manner as in Example 1. この場合、黒色感光性樹脂層の表面まで十分に硬化していないため、現像工程で表面が溶出し、膜減りしてしまった。 In this case, because it is not fully cured until the surface of the black photosensitive resin layer, the surface of the developing step are eluted, had been reduced membrane. したがって、光学濃度も1.5程度であった。 Accordingly, the optical concentration was about 1.5.

【0040】比較例4 透明基板を通しての全面露光をしないほかは実施例1と同じ方法でカラーフィルターを形成した。 [0040] In addition, not the entire surface exposure through Comparative Example 4 transparent substrate to form a color filter in the same manner as in Example 1. この場合、 in this case,
R,G,Bの着色画素とブラックマトリックスとに僅かな間隙が出来て光漏れを生じ、カラーフィルターとしての使用は困難であった。 Resulting R, G, and light leakage can minute space and colored pixels and the black matrix B, used as a color filter has been difficult.

【0041】 [0041]

【発明の効果】本発明によれば、光学濃度が高く、表面凹凸が小さなブラックマトリックスを有するカラーフィルターを製造することが可能になる。 According to the present invention, the optical density is high, the surface irregularities is possible to manufacture a color filter having a small black matrix. したがって、本発明の方法で製造したカラーフィルターを使用することにより、透明電極の断線も、配向乱れもない液晶ディスプレーを得ることが出来る。 Thus, by using a color filter manufactured by the method of the present invention, breakage of the transparent electrode also can be obtained alignment disorder nor LCD.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 従来のカラーフィルターの製造方法の一例を示す工程図である。 1 is a process diagram showing an example of a conventional method for manufacturing a color filter.

【図2】 本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を示す工程図である。 2 is a process diagram showing an example of a method for manufacturing a color filter of the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 ガラス基板 2 赤色画素 3 緑色画素 4 青色画素 5 黒色感光性樹脂層 6 膜厚変化部 7 黒色感光性樹脂マスク露光部 8 フォトマスク 9 突起 10 マスク露光で硬化しない基板近傍 11 マスク露光で硬化しない間隙 Not cured in the vicinity of the substrate 11 a mask exposure not cured in 1 glass substrate 2 red pixel 3 green pixel 4 blue pixels 5 black photosensitive resin layer 6 thickness change section 7 black photosensitive resin mask exposure unit 8 photomask 9 projections 10 mask exposure gap

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) G02B 5/20 - 5/28 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (58) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) G02B 5/20 - 5/28

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】 (57) [the claims]
  1. 【請求項1】 透明基板上に複数色の着色画素パターンを形成し、その後、該着色画素パターン以外の部分に黒色の遮光性膜を設けてなるカラーフィルターの製造方法において、該画素パターンを覆って該透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設ける工程、該黒色感光性樹脂層側からフォトマスクを介して各着色画素の間隔よりも狭い幅で露光する工程、該透明基板を通して全面露光する工程、該黒色感光性樹脂層を現像してブラックマトリックスを形成する工程、を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 1. A forming a colored pixel pattern of a plurality of colors on a transparent substrate, then, in the manufacturing method of a color filter formed by providing a light-shielding film of the black portions other than the colored pixel pattern, covering the pixel pattern Te providing black photosensitive resin layer on the transparent substrate over the entire surface step, a step of exposing a narrower width than the distance between the colored pixels through a photomask from said black photosensitive resin layer side, a step of overall exposure through the transparent substrate the color filter manufacturing method which comprises a step, to form a black matrix by developing the said black photosensitive resin layer.
  2. 【請求項2】 該着色画素が、該黒色感光性樹脂の感光波長域に対する光吸収性が良好な化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法。 Wherein said colored pixels, a color filter manufacturing method according to claim 1, characterized in that the light-absorbing the photosensitive wavelength region of said black photosensitive resin contains a compound having good.
  3. 【請求項3】 該黒色感光性樹脂層の感光波長域における該着色画素の光透過率が2%以下であることを特徴とする請求項2に記載のカラーフィルターの製造方法。 3. A color filter manufacturing method according to claim 2, characterized in that said black photosensitive light transmittance of the colored pixels in the photosensitive wavelength range of the resin layer is not more than 2%.
  4. 【請求項4】 該透明基板を通して、該黒色感光性樹脂層の感光波長域にあって、該着色画素の光透過率が2% Through 4. A transparent substrate, in the photosensitive wavelength region of said black photosensitive resin layer, the light transmittance of the colored pixels is 2%
    以下である波長を有する光を照射することを特徴とする請求項1記載のカラーフィルターの製造方法。 Method for producing a color filter according to claim 1, wherein the irradiation of light having a at which wavelength less.
JP26369893A 1993-10-21 1993-10-21 Method of producing a color filter Expired - Fee Related JP3234691B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26369893A JP3234691B2 (en) 1993-10-21 1993-10-21 Method of producing a color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26369893A JP3234691B2 (en) 1993-10-21 1993-10-21 Method of producing a color filter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07120610A JPH07120610A (en) 1995-05-12
JP3234691B2 true JP3234691B2 (en) 2001-12-04

Family

ID=17393098

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26369893A Expired - Fee Related JP3234691B2 (en) 1993-10-21 1993-10-21 Method of producing a color filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3234691B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3963974B2 (en) 1995-12-20 2007-08-22 株式会社半導体エネルギー研究所 Liquid crystal electro-optical device
JP4601367B2 (en) * 2004-09-21 2010-12-22 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of color filter
JP2007093714A (en) * 2005-09-27 2007-04-12 Integrated Solutions:Kk Method for manufacturing color filter
KR100812078B1 (en) * 2006-09-26 2008-03-07 동부일렉트로닉스 주식회사 Image sensor and fabrication method thereof
TW200938892A (en) 2008-03-11 2009-09-16 E Pin Optical Industry Co Ltd Optical glass lens and its production method
TW201100900A (en) 2009-06-30 2011-01-01 E Pin Optical Industry Co Ltd Lens holder for stacked lens module and the method for manufacturing thereof
TW201104297A (en) 2009-07-28 2011-02-01 E Pin Optical Industry Co Ltd Lens holder with alignment for stacked lens module and the manufacturing method thereof
JP6186698B2 (en) 2012-10-29 2017-08-30 セイコーエプソン株式会社 Organic EL devices, electronic devices
WO2015072316A1 (en) * 2013-11-14 2015-05-21 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Color filter substrate, display device, and method for manufacturing color filter substrate

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07120610A (en) 1995-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2731516B2 (en) A resist pattern forming method
JP3878451B2 (en) Photosensitive resin transfer material, image forming method, color filter and manufacturing method thereof, photomask and manufacturing method thereof
KR970002977B1 (en) Color filter and method of manufacturing the same
EP0343984A2 (en) Color filter array for liquid crystal display device
US5578404A (en) Process for the production of liquid crystal display
US6881529B2 (en) Positive photoresist transfer material and method for processing surface of substrate using the transfer material
EP0570176B1 (en) Liquid crystal display panel and process for production thereof
US5516606A (en) Method for forming a light shielding pattern
EP0564168B1 (en) Pigment-dispersed color-filter composition
EP0921440A1 (en) Methods of forming raised and recessed patterns and use of the patterns in the manufacture of liquid crystal display color filters
US6140019A (en) Radiation sensitive composition
JP3067362B2 (en) A method of manufacturing a liquid crystal panel
EP0481827B1 (en) Color filters
US20100265439A1 (en) Color filter and method for manufacturing color filter
JP4290483B2 (en) Photosensitive resin composition for black resist and light-shielding film formed using the same
JP2002189280A (en) Gray tone mask and method for producing the same
US20050175930A1 (en) Photosensitive resin composition for black matrix
EP1855320B1 (en) Solid-state imaging device and method for manufacturing same
US5750292A (en) Ultraviolet absorber precursor compound, photosensitive resin composition comprising the same and image forming process
TWI308669B (en) Photosensitive resin composition for use in forming light-blocking layer, light-blocking layer and color filter
JP4146105B2 (en) Ultraviolet absorber and method for producing the same, composition containing ultraviolet absorber, and image forming method
EP1999514B1 (en) Photosensitive resist composition for color filters for use in electronic paper display devices
JP2005003861A (en) Method of manufacturing color filter
CN100533749C (en) Solid state image pickup device and manufacturing method thereof
KR20030048352A (en) Mask for photolithography, method of forming thin film, liquid crystal display device, and method of producing the liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070921

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070921

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees