JP3231537B2 - Method for manufacturing multilayer substrate - Google Patents

Method for manufacturing multilayer substrate

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JP3231537B2
JP3231537B2 JP3823594A JP3823594A JP3231537B2 JP 3231537 B2 JP3231537 B2 JP 3231537B2 JP 3823594 A JP3823594 A JP 3823594A JP 3823594 A JP3823594 A JP 3823594A JP 3231537 B2 JP3231537 B2 JP 3231537B2
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prepreg sheet
metal foil
double
epoxy
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貞雄 三田村
眞治 中村
利浩 西井
隆彦 岩城
秀行 石丸
誠一 中谷
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複数層の回路パターン
を接続してなる多層基板の製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer substrate formed by connecting a plurality of circuit patterns.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、高密度化に伴
い、産業用にとどまらず民生用の分野においても多層基
板が強く要望されるようになってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller and higher in density, multilayer substrates have been strongly demanded not only in industrial fields but also in consumer fields.

【0003】特に多層基板の高密度化は回路パターンの
微細化が進み、より複数層の回路パターンの間の積層精
度がその性能を左右するため、積層精度と同時に生産性
の高い積層方法が望まれている。
In particular, as the density of a multilayer substrate increases, circuit patterns become finer, and the lamination accuracy between circuit patterns of a plurality of layers affects the performance. Therefore, a lamination method having high productivity simultaneously with lamination accuracy is desired. It is rare.

【0004】以下従来の多層基板、ここでは4層基板の
製造方法について説明する。まず、多層基板のベースと
なる両面回路基板の製造方法を説明する。図8(a)〜
(f)は従来の両面回路基板の製造方法の工程断面図で
ある。
A method of manufacturing a conventional multilayer substrate, here, a four-layer substrate will be described. First, a method for manufacturing a double-sided circuit board serving as a base of a multilayer board will be described. FIG.
(F) is a process sectional view of a conventional method for manufacturing a double-sided circuit board.

【0005】1は250mm角、厚さ約150μmのプ
リプレグシートであり、例えば不織布の芳香族ポリアミ
ド繊維に熱硬化性エポキシ樹脂を含浸させた複合材から
なる基材(以下アラミド−エポキシシートと称する)が
用いられる。
Reference numeral 1 denotes a prepreg sheet having a size of 250 mm square and a thickness of about 150 μm, for example, a base material (hereinafter referred to as an aramid-epoxy sheet) made of a composite material obtained by impregnating a non-woven aromatic polyamide fiber with a thermosetting epoxy resin. Is used.

【0006】32は、片面にSi系の離型剤を塗布した
厚さ約10μmのプラスチックシートであり、例えばポ
リエチレンテレフタレート(以下PETシートと称す
る)が用いられる。33は貫通孔であり、アラミドーエ
ポキシシート1の両面に貼り付ける厚さ35μmのCu
などの金属箔4と電気的に接続する導電ペースト2が充
填されている。
Reference numeral 32 denotes a plastic sheet having a thickness of about 10 μm and coated with a Si-based release agent on one side. For example, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as a PET sheet) is used. Reference numeral 33 denotes a through hole, which is a 35 μm-thick Cu stuck on both surfaces of the aramid-epoxy sheet 1.
A conductive paste 2 electrically connected to a metal foil 4 such as a metal foil is filled.

【0007】まず、両面にPETシート32が接着され
たアラミド−エポキシシート1(図8(a))の所定の
箇所に、図8(b)に示すようにレーザ加工法などを利
用して貫通孔33が形成される。
First, as shown in FIG. 8 (b), a predetermined portion of the aramid-epoxy sheet 1 (FIG. 8 (a)) having PET sheets 32 adhered to both sides is penetrated by using a laser processing method or the like. A hole 33 is formed.

【0008】次に図8(c)に示すように、貫通孔33
に導電性ペースト2が充填される。導電性ペースト2を
充填する方法としては、貫通孔33を有するアラミド−
エポキシシート1を印刷機(図示せず)のテーブル上に
設置し、直接導電性ペースト2がPETシート32の上
から印刷される。
[0008] Next, as shown in FIG.
Is filled with a conductive paste 2. As a method of filling the conductive paste 2, an aramid having a through hole 33 may be used.
The epoxy sheet 1 is placed on a table of a printing machine (not shown), and the conductive paste 2 is directly printed on the PET sheet 32.

【0009】このとき、上面のPETシート32は印刷
マスクの役割と、アラミド−エポキシシート1の表面の
汚染防止の役割を果たしている。
At this time, the PET sheet 32 on the upper surface plays a role of a printing mask and a role of preventing contamination of the surface of the aramid-epoxy sheet 1.

【0010】次に図8(d)に示すように、アラミド−
エポキシシート1の両面からPETシート32を剥離す
る。
[0010] Next, as shown in FIG.
The PET sheet 32 is peeled off from both sides of the epoxy sheet 1.

【0011】そして、図8(e)に示すように、アラミ
ド−エポキシシート1の両面にCuなどの金属箔4を重
ねる。この状態で熱プレスで加熱加圧することにより、
図8(f)に示すように、アラミド−エポキシシート1
の厚みが圧縮される(t2=約100μm)とともにア
ラミド−エポキシシート1と金属箔4とが接着され、両
面の金属箔4は所定位置に設けた貫通孔33に充填され
た導電ペースト2により電気的に接続されている。
[0011] Then, as shown in FIG. 8 (e), a metal foil 4 such as Cu is laminated on both surfaces of the aramid-epoxy sheet 1. By heating and pressing with a hot press in this state,
As shown in FIG. 8 (f), aramid-epoxy sheet 1
Is compressed (t2 = about 100 μm), the aramid-epoxy sheet 1 and the metal foil 4 are adhered, and the metal foils 4 on both sides are electrically conductive by the conductive paste 2 filled in the through holes 33 provided at predetermined positions. Connected.

【0012】そして、両面の金属箔4を選択的にエッチ
ングして回路パターンが形成され(図示せず)て両面回
路基板が得られる。
Then, the metal foil 4 on both sides is selectively etched to form a circuit pattern (not shown), thereby obtaining a double-sided circuit board.

【0013】図9(a)〜(d)は、従来の多層基板の
製造方法を示す工程断面図あり、4層基板を例として示
している。
FIGS. 9A to 9D are process cross-sectional views showing a conventional method for manufacturing a multilayer substrate, and show a four-layer substrate as an example.

【0014】まず図9(a)に示すように、図8(a)
〜(f)によって製造された回路パターン11a、12
bを有する両面回路基板10と、貫通孔に導電ペースト
2を充填したアラミド−エポキシシート1a、1b(こ
のシート1a、1bは、図8の(a)〜(d)の工程に
より製造される)が準備される。
First, as shown in FIG. 9A, FIG.
To (f), the circuit patterns 11a and 12
b), and aramid-epoxy sheets 1a and 1b in which through holes are filled with conductive paste 2 (the sheets 1a and 1b are manufactured by steps (a) to (d) in FIG. 8). Is prepared.

【0015】そして、積層金型47に設けた位置決めピ
ン46に金属箔4、アラミド−エポキシシート1b、両
面回路基板10、プリプレグシート1a、金属箔4の順
で位置決め孔3を通して重ねる。
Then, the metal foil 4, the aramid-epoxy sheet 1b, the double-sided circuit board 10, the prepreg sheet 1a, and the metal foil 4 are stacked on the positioning pins 46 provided on the lamination mold 47 in this order through the positioning holes 3.

【0016】次に、図9(b)に示すように、上金型4
8を載せた状態で熱プレスで加熱加圧することにより、
図9(c)に示すように、アラミド−エポキシシート1
a、1bの厚みが圧縮(t2=約100μm)され、両
面回路基板10と金属箔4とが接着されるともに、回路
パターン11a、11bは導電性ペースト2により金属
箔4とインナビアホール接続される。
Next, as shown in FIG.
By heating and pressing with a hot press with 8 placed on it,
As shown in FIG. 9C, aramid-epoxy sheet 1
The thicknesses of a and 1b are compressed (t2 = about 100 μm), the double-sided circuit board 10 and the metal foil 4 are bonded, and the circuit patterns 11a and 11b are connected to the metal foil 4 and the inner via hole by the conductive paste 2. .

【0017】そして図9(d)に示すように、両面の金
属箔4を選択的にエチングして回路パターン12a、1
2bを形成することで4層基板が得られる。
Then, as shown in FIG. 9D, the metal foils 4 on both sides are selectively etched to form the circuit patterns 12a, 1a.
By forming 2b, a four-layer substrate is obtained.

【0018】一般的に熱プレスによる加熱加圧の工程は
バッチ式であり、回路基板に用いられるプリプレグシー
トの硬化時間は1〜3Hrと長時間となる。したがっ
て、生産性を高めるためには、1回のプレスでの回路基
板の処理数を多くするとともにプレス前後の作業性の効
率化を図ることが重要となる。
Generally, the heating and pressurizing step by a hot press is a batch type, and the curing time of a prepreg sheet used for a circuit board is as long as 1 to 3 hours. Therefore, in order to increase the productivity, it is important to increase the number of processes of the circuit board in one press and to improve the workability before and after the press.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の多層基板の製造方法においては、位置決めピンを設
けた金型を必要とするため、第1に、金型の位置決めピ
ンにクリアランスの小さい回路基板やプリプレグシート
の位置決め孔を通過させて位置決めし積層するため、加
熱加圧時に溶けたプリプレグシートの樹脂成分が位置決
めピンと接着して回路基板の取り外しが困難となり作業
効率が低下することや、取り外し時に位置決めピンを変
形させ積層精度を低下させるという問題があった。
However, the above-mentioned conventional method for manufacturing a multilayer board requires a mold provided with positioning pins. First, a circuit board having a small clearance on the positioning pins of the mold is required. And the positioning and lamination by passing through the positioning holes of the prepreg sheet, the resin component of the prepreg sheet melted at the time of heating and pressing adheres to the positioning pins, making it difficult to remove the circuit board, lowering the work efficiency, and There has been a problem that the positioning pins are deformed and the lamination accuracy is reduced.

【0020】第2に、金型は位置決めピンの精度確保の
ため、例えば300mm角の金型で板厚10mm程度の
ものが使用されているが、上下の金型の厚み分の回路基
板の処理数が減ることや、金型の重量も15Kg程度と
なり、作業性が低下するとともに基板サイズの大型化が
難しいという問題があった。
Secondly, in order to ensure the accuracy of the positioning pins, for example, a 300 mm square mold having a plate thickness of about 10 mm is used. There are problems that the number of molds is reduced and the weight of the mold is about 15 kg, so that workability is reduced and it is difficult to increase the substrate size.

【0021】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、積層精度が高く、生産性に優れた多層基板を実現す
るための多層基板の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a multilayer substrate for realizing a multilayer substrate having high lamination accuracy and excellent productivity.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の多層基板の製造方法は、回路基板とプリプ
レグシートを位置決めして重ね合わせ、プリプレグシー
トの任意の部位を部分的に加熱硬化させて回路基板と接
着固定した後、前記回路基板の両面に金属箔を貼り合わ
せ、熱プレスで加熱加圧して多層基板を得ようとするも
のである。ここで、前記部分的に硬化させるプリプレグ
シートの任意の部位は、前記回路基板の回路パターン上
の金属箔が除去された部位に相当する位置である。
In order to achieve the above-mentioned object, a method of manufacturing a multilayer board according to the present invention comprises positioning a circuit board and a prepreg sheet so as to overlap each other, and partially heating an arbitrary portion of the prepreg sheet. After curing and bonding and fixing to a circuit board, a metal foil is attached to both sides of the circuit board, and heated and pressed by a hot press to obtain a multilayer board. Here, the partially cured prepreg
Any part of the sheet is located on the circuit pattern of the circuit board.
This is a position corresponding to the portion from which the metal foil has been removed.

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【作用】上記のように構成された本発明によれば、位置
決めしたプリプレグシートの任意の部位を加熱加圧して
回路基板に接着して固定するため、プレス時に金型が不
要となり、金型使用特有の回路基板の取り外し性の悪さ
や位置決めピンの変形などの問題がなくなる。また、金
型の厚みに相当する回路基板の処理数が増え生産性が向
上するとともに、軽量化が図れるため基板サイズの大型
化への対応も容易となる。またプリプレグシートの部分
的な硬化により熱プレス時の金属箔、回路基板、プリプ
レグシートのずれが防止でき、高精度な多層基板が実現
できる。特に、接着部位に金属箔が残っている場合は、
残存量によって熱容量が変わるため加熱条件が変動する
が、本発明においては接着部位の金属箔を除去するよう
にしているため、一定の接着条件で安定して接着ができ
る。
According to the present invention constructed as described above, an arbitrary portion of the positioned prepreg sheet is heated and pressed to be adhered and fixed to a circuit board. Eliminating problems such as peculiar poor detachability of the circuit board and deformation of the positioning pin are eliminated. In addition, the number of processes of the circuit board corresponding to the thickness of the mold increases, the productivity is improved, and the weight can be reduced, so that it is easy to cope with an increase in the board size. In addition, due to partial curing of the prepreg sheet, displacement of the metal foil, circuit board, and prepreg sheet during hot pressing can be prevented, and a high-precision multilayer board can be realized. In particular, if metal foil remains at the bonding site,
Heating conditions fluctuate because the heat capacity changes depending on the remaining amount
However, in the present invention, it is necessary to remove the metal foil at the bonding site.
To ensure stable bonding under certain bonding conditions.
You.

【0026】[0026]

【実施例】以下本発明の一実施例における多層基板の製
造方法について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a multilayer substrate according to an embodiment of the present invention will be described below.

【0027】(実施例1)多層基板のベースとなる両面
回路基板の製造方法については従来例と同一であり、こ
こでは説明を省略する。
(Example 1) The method of manufacturing a double-sided circuit board serving as a base of a multilayer board is the same as that of the conventional example, and the description is omitted here.

【0028】図1(a)〜(f)は、本発明の第1の実
施例の多層基板の製造方法を示す工程断面図あり、4層
基板を例として示している。
FIGS. 1A to 1F are sectional views showing the steps of a method for manufacturing a multilayer substrate according to a first embodiment of the present invention, and show a four-layer substrate as an example.

【0029】図1において1a、1bは250mm角、
厚さ約150μmの不織布の芳香族ポリアミド繊維に熱
硬化性エポキシ樹脂を含浸させた複合材からなるアラミ
ド−エポキシシート(プリプレグシート)であり、レー
ザーなどによって加工した貫通孔に導電ペースト2を充
填している。
In FIG. 1, 1a and 1b are 250 mm square,
An aramid-epoxy sheet (prepreg sheet) made of a composite material in which a thermosetting epoxy resin is impregnated into a non-woven aromatic polyamide fiber having a thickness of about 150 μm, and a conductive paste 2 is filled in a through hole processed by a laser or the like. ing.

【0030】10は250mm角、厚さ約170μmの
両面回路基板であり、両面に形成した回路パターン11
a、11bは所定位置に設けた貫通孔に充填された導電
ペースト2よって電気的に接続している。また、両面回
路基板10の回路パターン11a、11bは、アラミド
−エポキシシート1a、1bとの接着部位40を図2
(a)、(b)に示すように金属箔4が除去されてい
る。
Numeral 10 designates a double-sided circuit board having a size of 250 mm square and a thickness of about 170 μm.
a and 11b are electrically connected by a conductive paste 2 filled in a through hole provided at a predetermined position. The circuit patterns 11a and 11b of the double-sided circuit board 10 are shown in FIG.
The metal foil 4 has been removed as shown in FIGS.

【0031】このとき使用した導電性ペーストは、導電
性のフィラーとして平均粒径2ミクロンのAg粉末を用
い、樹脂としては熱硬化型エポキシ樹脂(無溶剤型)、
硬化剤として酸無水物系の硬化剤をそれぞれ85重量
%、12.5重量%、2.5重量%となるように3本ロ
ールにて十分に混練したものである。
The conductive paste used at this time was an Ag powder having an average particle size of 2 μm as a conductive filler, and a thermosetting epoxy resin (solvent-free type) as a resin.
As the curing agent, acid anhydride-based curing agents were sufficiently kneaded with three rolls so as to be 85% by weight, 12.5% by weight, and 2.5% by weight, respectively.

【0032】アラミド−エポキシシート1a、1bと両
面回路基板10には、所定の位置にφ3mmの位置決め
孔3が180mmピッチで2個設けている。
The aramid-epoxy sheets 1a and 1b and the double-sided circuit board 10 are provided with two positioning holes 3 of φ3 mm at predetermined positions at a pitch of 180 mm.

【0033】5は先端がφ5mmのヒーターチップであ
り、7はφ2.97mmの位置決めピン6を180mm
ピッチで配置した200mm角の位置決めプレートであ
る。
Reference numeral 5 denotes a heater chip having a tip of φ5 mm. Reference numeral 7 denotes a positioning pin 6 having a diameter of 2.97 mm.
It is a positioning plate of 200 mm square arranged at a pitch.

【0034】また、位置決めプレート7には、アラミド
−エポキシシート1a、1bの貫通孔に充填された導電
ペースト2が付着しないように凹みを設けている。8は
アラミド−エポキシシート1a、1bを両面回路基板1
0に加熱硬化して接着した時の接着部位の凹みである。
The positioning plate 7 is provided with a recess so that the conductive paste 2 filled in the through holes of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b does not adhere. Reference numeral 8 denotes an aramid-epoxy sheet 1a, 1b for a double-sided circuit board 1.
This is a dent at the bonding site when bonding by heating to 0.

【0035】まず図1(a)に示すように、図9(a)
〜(f)によって製造した回路パターン11a、11b
を有する両面回路基板10と図5(a)〜(d)で製造
したアラミド−エポキシシート1a、1bを準備する。
First, as shown in FIG. 1A, FIG.
Circuit patterns 11a and 11b manufactured by (f)
And the aramid-epoxy sheets 1a and 1b manufactured in FIGS. 5 (a) to 5 (d).

【0036】そして、位置決めプレート7に設けた位置
決めピン6に、アラミド−エポキシシート1b、両面回
路基板10、アラミド−エポキシシート1aの順で位置
決め孔3を通して重ねる。この時、アラミド−エポキシ
シート1a、1bと両面回路基板10の四辺は位置決め
プレート7から25mmづつはみ出した状態となってい
る。
Then, the aramid-epoxy sheet 1b, the double-sided circuit board 10, and the aramid-epoxy sheet 1a are passed through the positioning holes 3 on the positioning pins 6 provided on the positioning plate 7 in this order. At this time, the four sides of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b and the double-sided circuit board 10 protrude from the positioning plate 7 by 25 mm.

【0037】次に、図1(b)に示すように、位置決め
プレート7からはみ出した両面回路基板10を挟持した
アラミド−エポキシシート1a、1bの所定の位置にお
いて、上下に設けた先端がφ5mmの300〜350℃
に加熱したヒーターチップ6で約500gの圧力を10
秒間加えて、アラミド−エポキシシート1a、1bの樹
脂成分を硬化させて両面回路基板10と接着する。
Next, as shown in FIG. 1B, at predetermined positions of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b sandwiching the double-sided circuit board 10 protruding from the positioning plate 7, the upper and lower ends provided with a φ5 mm 300-350 ° C
The heater chip 6 heated to about 500 g applies a pressure of about 500 g to 10
For 2 seconds, the resin components of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b are cured and adhered to the double-sided circuit board 10.

【0038】この接着における接着箇所は、積層時の位
置決め精度を保持するため最低2箇所必要であるが、実
施例では4角とそれぞれの中間点4箇所、計8箇所とし
た。
In order to maintain the positioning accuracy at the time of lamination, a minimum of two bonding points are required. In this embodiment, four bonding points and four intermediate points are used.

【0039】ヒーターチップ6をアラミド−エポキシシ
ート1a、1bから離した状態において、接着部位には
約50μmの凹み8が形成される。
When the heater chip 6 is separated from the aramid-epoxy sheets 1a and 1b, a recess 8 of about 50 μm is formed at the bonding site.

【0040】ヒーターチップ5の先端形状はここでは円
形状のものを用いたが、長方形や、楕円などであっても
よく、特に限定するものではない。
Although the tip shape of the heater chip 5 is circular here, it may be rectangular or elliptical, and is not particularly limited.

【0041】ここでは、両面回路基板10の接着部位の
金属箔4を除去した回路パターン11a、11bとして
いるが、両面回路基板10の接着部位に金属箔4が残っ
ている場合は、残存量によって熱容量が変わるため加熱
条件が変動する。
Here, the circuit patterns 11a and 11b are obtained by removing the metal foil 4 at the bonding portion of the double-sided circuit board 10. However, when the metal foil 4 remains at the bonding portion of the double-sided circuit board 10, the remaining amount depends on the remaining amount. Since the heat capacity changes, the heating conditions change.

【0042】例えば全面に残っている場合は上記加熱条
件でも20秒以上の時間が必要となる。つまり、接着部
位の金属箔4の残存量によって加熱条件を設定すること
になるが、接着部位の金属箔4を全て除去しておくこと
によって一定の接着条件で安定して接着ができる。
For example, if it remains on the entire surface, a time of 20 seconds or more is required even under the above heating conditions. In other words, the heating condition is set according to the remaining amount of the metal foil 4 at the bonding site. However, by removing all the metal foil 4 at the bonding site, stable bonding can be performed under certain bonding conditions.

【0043】また、このときヒータチップに加える圧力
と接着力との関係を調べると、4g/cm2以下の圧力
では固定後搬送時に剥がれてしまい製造上問題であっ
た。5g/cm2以上の圧力であれば問題なく搬送で
き、10g/cm2以上あればさらに望ましい。
Investigation of the relationship between the pressure applied to the heater chip and the adhesive force at this time revealed that, at a pressure of 4 g / cm 2 or less, the film was peeled off at the time of transportation after fixing, which was a problem in manufacturing. If the pressure is 5 g / cm 2 or more, it can be transported without any problem, and if it is 10 g / cm 2 or more, it is more desirable.

【0044】また温度は使用するプリプレグシートの樹
脂成分によって異なるが、一般に回路基板に使用される
樹脂(エポキシ樹脂)はその溶融温度が100℃前後で
あり、本願発明の主旨から、硬化が進む温度である15
0℃以上であれば問題ないことが判っている。しかし望
ましくはその処理時間の観点から250℃から350℃
の範囲が最適である。
Although the temperature varies depending on the resin component of the prepreg sheet to be used, the resin (epoxy resin) generally used for a circuit board has a melting temperature of about 100 ° C., and from the gist of the present invention, the temperature at which curing proceeds. 15
It has been found that there is no problem if the temperature is 0 ° C. or higher. However, desirably from 250 ° C. to 350 ° C. from the viewpoint of the processing time
Is optimal.

【0045】次に、図1(c)に示すように、両面にア
ラミド−エポキシシート1a、1bを接着して固定した
両面回路基板10を、位置決めプレート7の位置決めピ
ン6から抜き取り、両面に金属箔4を重ねた後、全面を
熱プレスにて圧力が50Kg/cm2、温度が200℃
で1時間を加熱加圧することにより、図1(e)に示す
ように、アラミド−エポキシシート1a、1bの厚みが
圧縮(t2=約100μm)するとともにアラミド−エ
ポキシシート1a、1bで両面回路基板10と金属箔4
とを接着し、回路パターン11a、11bは導電性ペー
スト34により金属箔4とインナビアホール接続する。
Next, as shown in FIG. 1 (c), the double-sided circuit board 10 having the aramid-epoxy sheets 1a and 1b adhered and fixed on both sides is pulled out from the positioning pins 6 of the positioning plate 7, and both sides are metallized. After laminating the foil 4, the whole surface is pressed with a hot press at a pressure of 50 kg / cm 2 and a temperature of 200 ° C.
1 hour, the thickness of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b is compressed (t2 = about 100 μm) and the two-sided circuit board is pressed by the aramid-epoxy sheets 1a and 1b as shown in FIG. 10 and metal foil 4
Then, the circuit patterns 11a and 11b are connected to the metal foil 4 and the inner via holes by the conductive paste.

【0046】そして図1(f)に示すように、両面の金
属箔4を選択的にエッチングして回路パターンを形成し
て4層基板が得られる。
Then, as shown in FIG. 1 (f), the metal foil 4 on both sides is selectively etched to form a circuit pattern, thereby obtaining a four-layer substrate.

【0047】4層以上の多層基板を得ようとすれば、上
記製造法で製造した多層基板を両面回路基板の代わりに
用い同じ工程を繰り返せばよい。
In order to obtain a multilayer substrate having four or more layers, the same process may be repeated using the multilayer substrate manufactured by the above manufacturing method instead of the double-sided circuit board.

【0048】つまり、図1(a)に示すように多層基板
の両面にアラミド−エポキシシートを位置決めして重
ね、図1(b)に示すようにアラミド−エポキシシート
の所定の位置を部分的に加熱硬化して接着した後、前記
アラミド−エポキシシートを任意の位置で部分的に接着
した多層基板を図1(c)のように位置決めプレートの
位置決めピンから抜き取り、図1(d)のように金属箔
を最外面に貼り合わせて、図1(e)に示すように熱プ
レスで加熱加圧してアラミド−エポキシシートで金属箔
と多層基板を接着するとともに多層基板の回路パターン
と金属箔を導電性ペーストにてインナービアホール接続
した後、図1(f)に示すように金属箔を加工して回路
パターンを形成する工程を繰り返すことで多層基板が得
られる。
That is, as shown in FIG. 1A, the aramid-epoxy sheet is positioned and overlapped on both sides of the multilayer substrate, and a predetermined position of the aramid-epoxy sheet is partially shifted as shown in FIG. 1B. After heat-curing and bonding, the multilayer board with the aramid-epoxy sheet partially bonded at an arbitrary position is pulled out from the positioning pin of the positioning plate as shown in FIG. 1 (c), and as shown in FIG. 1 (d). The metal foil is bonded to the outermost surface, and heated and pressed by a hot press as shown in FIG. 1 (e) to bond the metal foil and the multilayer board with the aramid-epoxy sheet and to conduct the circuit pattern of the multilayer board and the metal foil. After connecting the inner via holes with a conductive paste, as shown in FIG. 1 (f), a process of processing a metal foil to form a circuit pattern is repeated to obtain a multilayer substrate.

【0049】製造過程において金型が不要となったこと
で、金型使用時の特有の問題である溶融した接着剤位置
決め孔への流れ込みによる位置決めピンとの接着固定が
なくなり、何の支障もなく取り出し作業ができるように
なった。
The elimination of the need for a mold in the manufacturing process eliminates the problem of peculiar problems during use of the mold, which is caused by flowing into the molten adhesive positioning hole and is fixed to the positioning pin by adhesion. Now I can work.

【0050】そして、本実施例での位置決めピンは位置
決めのみを目的としたものであり、室温で位置決めピン
への抜き差しを行うため、プリプレグシートの接着剤成
分の溶融固着が原因となる取り外しによる変形がなくな
り、安定した積層精度を保つことができた。
The positioning pins in the present embodiment are intended only for positioning. Since the positioning pins are inserted and removed at room temperature, deformation due to removal of the adhesive component of the prepreg sheet caused by melting and fixing is caused. Disappeared, and stable lamination accuracy could be maintained.

【0051】また、金型厚相当の基板数を増やして(4
層基板で約4枚)プレスすることができたとともに、軽
量化が図れ、基板サイズの大型化にも容易に対応するこ
とが可能となった。完成した実施例1の4層基板の積層
精度は両面回路基板とプリプレグシートの位置決めに位
置決めピンを用いたことで、従来例の金型を用いた場合
と同等の積層精度(100μm以下)が得られた。
Further, by increasing the number of substrates corresponding to the mold thickness (4
It was possible to press (about 4 sheets with a layer substrate), reduce the weight, and easily cope with an increase in substrate size. The lamination accuracy of the completed four-layer substrate of Example 1 is the same as the lamination accuracy (100 μm or less) obtained by using the mold of the conventional example by using the positioning pins for positioning the double-sided circuit board and the prepreg sheet. Was done.

【0052】(参考例1) 図3(a)〜(f)は、本発明の参考例の多層基板の製
造方法を示す工程断面図あり、4層基板を例として示し
ている。
Reference Example 1 FIGS. 3A to 3F are sectional views showing steps of a method for manufacturing a multilayer substrate according to a reference example of the present invention, and show a four-layer substrate as an example.

【0053】図3において1a、1bは250mm角、
厚さ約150μmのガラスクロスに熱硬化性エポキシ樹
脂を含浸させた複合材からなるガラス−エポキシシート
(プリプレグシート)である。ここでは未加工のガラス
−エポキシシートを用いたが、レーザーなどによって加
工した貫通孔に導電ペーストを充填したガラス−エポキ
シシート1a、1bを用いてもよい。
In FIG. 3, 1a and 1b are 250 mm square,
It is a glass-epoxy sheet (prepreg sheet) made of a composite material in which a thermosetting epoxy resin is impregnated into a glass cloth having a thickness of about 150 μm. Although an unprocessed glass-epoxy sheet is used here, glass-epoxy sheets 1a and 1b in which a conductive paste is filled in through holes processed by a laser or the like may be used.

【0054】10は250mm角、厚さ約170μmの
両面回路基板であり、両面に形成した回路パターン11
a、11bは所定位置に設けた貫通孔に充填された導電
ペースト2よって電気的に接続している。
Reference numeral 10 denotes a double-sided circuit board having a size of 250 mm square and a thickness of about 170 μm, and has a circuit pattern 11 formed on both sides.
a and 11b are electrically connected by a conductive paste 2 filled in a through hole provided at a predetermined position.

【0055】ここでは層間を導体ペースト2で接続した
両面回路基板10を用いたが、層間にドリルで孔加工を
して電気メッキにて析出した金属で接続した(図示せ
ず)両面回路基板10を用いてもよい。
Although the double-sided circuit board 10 in which the layers are connected with the conductive paste 2 is used here, the double-sided circuit board 10 (not shown) is formed by drilling holes between the layers and connecting with a metal deposited by electroplating. May be used.

【0056】このとき使用した導電性ペースト2は、導
電性のフィラーとして平均粒径2ミクロンのCu粉末を
用い、樹脂としては熱硬化型エポキシ樹脂(無溶剤
型)、硬化剤として酸無水物系の硬化剤をそれぞれ85
重量%、12.5重量%、2.5重量%となるように3
本ロールにて十分に混練したものである。
The conductive paste 2 used at this time used a Cu powder having an average particle size of 2 μm as a conductive filler, a thermosetting epoxy resin (solvent-free type) as a resin, and an acid anhydride type as a curing agent. 85 curing agents each
3 wt%, 12.5 wt%, 2.5 wt%
It is kneaded sufficiently with this roll.

【0057】4は300mm角、厚さ35μmのCuな
どの金属箔であり、5は先端がφ5mmのヒーターチッ
プである。
Reference numeral 4 denotes a 300 mm square, 35 μm thick metal foil of Cu or the like, and 5 denotes a heater chip having a tip of φ5 mm.

【0058】まず図3(a)に示すように、作業ステー
ジ51上に金属箔4、ガラス−エポキシシート1b、両
面回路基板10、ガラス−エポキシシート1a、金属箔
4の順で外形で位置決めして重ねる。この時、ガラス−
エポキシシート1a、1bと両面回路基板10の四辺は
作業ステージ51から25mmづつはみ出した状態とな
っている。
First, as shown in FIG. 3A, the metal foil 4, the glass-epoxy sheet 1b, the double-sided circuit board 10, the glass-epoxy sheet 1a, and the metal foil 4 are positioned on the work stage 51 in the order of outer shape. And stack. At this time,
The four sides of the epoxy sheets 1a and 1b and the double-sided circuit board 10 are protruded from the work stage 51 by 25 mm.

【0059】次に、図3(b)に示すように、作業ステ
ージ51からはみ出した両面回路基板10を挟持したガ
ラス−エポキシシート1a、1bの所定の位置を、最外
面に配置した金属箔4を介して、上下に設けた先端がφ
5mmの300〜350℃に加熱したヒーターチップ6
で約500gの圧力を20秒間加えてガラス−エポキシ
シート1a、1bの樹脂成分を硬化させて両面回路基板
10と接着する。
Next, as shown in FIG. 3B, the predetermined positions of the glass-epoxy sheets 1a and 1b holding the double-sided circuit board 10 protruding from the work stage 51 are moved to the metal foil 4 arranged on the outermost surface. Through the tip provided on the top and bottom
5mm heater chip 6 heated to 300-350 ° C
Then, a pressure of about 500 g is applied for 20 seconds to cure the resin components of the glass-epoxy sheets 1a and 1b and adhere to the double-sided circuit board 10.

【0060】この場合、接着箇所は積層時の位置決め精
度を保持するため最低2箇所必要であるが、実施例では
4角とそれぞれの中間点4箇所、計8箇所とした。
In this case, at least two bonding points are required to maintain the positioning accuracy at the time of lamination, but in the present embodiment, eight bonding points were used, four corners and four intermediate points.

【0061】ヒーターチップ6をガラス−エポキシシー
ト1a、1bから離した状態において、接着部位の金属
箔4に若干の変形(図示せず)が生じた。金属箔4を同
時に接着することで、プレス時のセッティング時間の短
縮や、ガラス−エポキシシート1a、1bへのゴミ付着
を防止できる。
When the heater chip 6 was separated from the glass-epoxy sheets 1a and 1b, a slight deformation (not shown) occurred in the metal foil 4 at the bonding portion. By bonding the metal foils 4 at the same time, it is possible to reduce the setting time at the time of pressing and prevent dust from adhering to the glass-epoxy sheets 1a and 1b.

【0062】特に、ガラス−エポキシシート1a、1b
は静電気が帯電しておりゴミが付着しやすく除去しにく
い。金属箔4を接着することでガラス−エポキシシート
1a、1b内部へのゴミの侵入を防ぐとともに仮に金属
箔4にゴミが付着しても除去しやすい。
In particular, the glass-epoxy sheets 1a, 1b
Is charged with static electricity, so that dust easily adheres and is difficult to remove. Adhesion of the metal foil 4 prevents dust from entering the inside of the glass-epoxy sheets 1a and 1b and makes it easy to remove dust even if it adheres to the metal foil 4.

【0063】次に、両面にガラス−エポキシシート1
a、1bを接着して固定した両面回路基板10を作業ス
テージ51から取り出し、熱プレスにて圧力が50Kg
/cm 2、温度が200℃で1時間全面加熱加圧するこ
とにより、図3(c)に示すように、ガラス−エポキシ
シート1a、1bの厚みが圧縮(t2=約140μm)
するとともにガラス−エポキシシート1a、1bで両面
回路基板10と金属箔4とを接着する。
Next, a glass-epoxy sheet 1 was provided on both sides.
a, the double-sided circuit board 10 on which the
Take out from stage 51 and press with hot press at 50kg
/ Cm TwoHeat and press the whole surface at 200 ° C for 1 hour.
As a result, as shown in FIG.
The thickness of the sheets 1a and 1b is compressed (t2 = about 140 μm)
And both sides with glass-epoxy sheets 1a and 1b
The circuit board 10 and the metal foil 4 are bonded.

【0064】次いで図3(d)に示すように、両面回路
基板10の指定位置に、約φ0.4mmのドリルを用い
てスルホール60の孔加工をした後、図3(e)に示す
ように、基板表面の活性化処理を行ない、電気メッキに
て例えばCu等の金属を基板全面に析出64させる。
Next, as shown in FIG. 3D, a through hole 60 is formed at a designated position on the double-sided circuit board 10 by using a drill having a diameter of about 0.4 mm. Then, as shown in FIG. Then, the surface of the substrate is activated, and a metal such as Cu is deposited 64 on the entire surface of the substrate by electroplating.

【0065】この時、前記析出金属64の厚みは20μ
m以上であれば、スルホール接続の信頼性が得られる。
At this time, the thickness of the deposited metal 64 is 20 μm.
If m or more, the reliability of the through-hole connection can be obtained.

【0066】次いで図3(f)に示すように、多層化し
た基板の最外面にある析出金属と金属箔4を同時に選択
的にエッチングして回路パターン12a、12bの形成
と多層化した基板の最外層間、最外層と内層間などを電
気的に接続するメッキスルホール61を形成して、4層
基板が得られる。
Next, as shown in FIG. 3 (f), the deposited metal and the metal foil 4 on the outermost surface of the multilayered substrate are simultaneously selectively etched to form the circuit patterns 12a and 12b and to form the multilayered substrate. By forming plated through holes 61 for electrically connecting the outermost layer, the outermost layer and the inner layer, a four-layer substrate is obtained.

【0067】4層以上の多層基板を得ようとすれば上記
製造法で製造した多層基板を両面回路基板の代わりに用
い同じ工程を繰り返せばよい。
In order to obtain a multilayer substrate having four or more layers, the same process may be repeated using the multilayer substrate manufactured by the above manufacturing method instead of the double-sided circuit board.

【0068】つまり、図3(a)に示すように作業ステ
ージ上で多層基板の両面にガラス−エポキシシートと金
属箔を位置決めして重ね、図3(b)に示すようにガラ
ス−エポキシシートの所定の位置を部分的に加熱硬化し
て接着した後、図3(c)に示すように熱プレスで基板
全面を加熱加圧してガラス−エポキシシートで金属箔と
多層基板を接着し、図3(d)に示すように多層基板の
指定位置にドリルでスルホール孔加工を行い、図3
(e)に示すように多層基板全面にCuなどの金属を析
出させた後、図3(f)に示すように最外面の析出金属
と金属箔を同時に加工して回路パターンとメッキスルホ
ールとを形成する工程を繰り返すことで多層基板が得ら
る。
That is, as shown in FIG. 3A, the glass-epoxy sheet and the metal foil are positioned and overlapped on both surfaces of the multilayer board on the work stage, and as shown in FIG. After a predetermined position is partially heated and cured to bond, as shown in FIG. 3C, the entire surface of the substrate is heated and pressed by a hot press, and the metal foil and the multilayer substrate are bonded by a glass-epoxy sheet. As shown in FIG. 3D, through holes are drilled at designated positions on the multilayer substrate, and FIG.
After depositing a metal such as Cu on the entire surface of the multilayer substrate as shown in FIG. 3E, the deposited metal and the metal foil on the outermost surface are simultaneously processed as shown in FIG. multilayer substrate by repeating the step of forming the that Re obtain et <br/>.

【0069】(実施例) 図4(a)〜(c)は、本発明の第の実施例の多層基
板の製造方法を示す工程断面図あり、4層基板を例とし
て示している。
Embodiment 2 FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views showing a method of manufacturing a multilayer substrate according to a second embodiment of the present invention, and show a four-layer substrate as an example.

【0070】図4において1a、1bは250mm角、
厚さ約150μmの不織布の芳香族ポリアミド繊維に熱
硬化性エポキシ樹脂を含浸させた複合材からなるアラミ
ド−エポキシシート(プリプレグシート)であり、レー
ザーなどによって加工された貫通孔に導電ペースト2を
充填している。
In FIG. 4, 1a and 1b are 250 mm square,
An aramid-epoxy sheet (prepreg sheet) made of a composite material in which a thermosetting epoxy resin is impregnated into a non-woven aromatic polyamide fiber having a thickness of about 150 μm, and a conductive paste 2 is filled in a through hole processed by a laser or the like. are doing.

【0071】このとき使用した導電性ペーストは、導電
性のフィラーとして平均粒径2ミクロンのCu粉末を用
い、樹脂としては熱硬化型エポキシ樹脂(無溶剤型)、
硬化剤として酸無水物系の硬化剤をそれぞれ87.5重
量%、10重量%、2.5重量%となるように3本ロー
ルにて十分に混練したものである。
The conductive paste used at this time was a Cu powder having an average particle size of 2 μm as a conductive filler, and a thermosetting epoxy resin (solvent-free type) as a resin.
An acid anhydride-based curing agent was sufficiently kneaded with three rolls so as to be 87.5% by weight, 10% by weight and 2.5% by weight, respectively.

【0072】20a、20b、20cは、250mm
角、厚さ約170μmの両面回路基板であり、両面に形
成した回路パターン21aと21b、22aと22b、
23aと23bは所定位置に設けた貫通孔に充填された
導電ペースト2よって電気的に接続している。
20a, 20b and 20c are 250 mm
A double-sided circuit board having a corner and a thickness of about 170 μm, and circuit patterns 21a and 21b, 22a and 22b formed on both sides,
23a and 23b are electrically connected by a conductive paste 2 filling a through hole provided at a predetermined position.

【0073】アラミド−エポキシシート1a、1bと両
面回路基板20a、20b、20cには、φ3mmの位
置決め孔3が180μmピッチで2個設けている。5は
先端がφ5mmのヒーターチップである。
The aramid-epoxy sheets 1a and 1b and the double-sided circuit boards 20a, 20b and 20c are provided with two φ3 mm positioning holes 3 at a pitch of 180 μm. 5 is a heater chip having a tip of φ5 mm.

【0074】まず図4(a)に示すように、作業ステー
ジ51に両面回路基板20c、アラミド−エポキシシー
ト1b、両面回路基板20b、アラミド−エポキシシー
ト1a、両面回路基板20aの順で吸着加圧プレート7
0で吸着して回路パターン21aと21b、22aと2
2b、23aと23bを用いて画像認識などによって位
置決めして重ねる。
First, as shown in FIG. 4A, the work stage 51 is suction-pressed in the order of the double-sided circuit board 20c, the aramid-epoxy sheet 1b, the double-sided circuit board 20b, the aramid-epoxy sheet 1a, and the double-sided circuit board 20a. Plate 7
The circuit patterns 21a and 21b, 22a and 2
Using 2b, 23a and 23b, positioning and overlapping are performed by image recognition or the like.

【0075】この時、アラミド−エポキシシート1a、
1bと両面回路基板20a、20b、20c四辺4は作
業ステージ51から25mmづつはみ出した状態となっ
ている。
At this time, the aramid-epoxy sheet 1a,
1b and the four sides 4 of the double-sided circuit boards 20a, 20b, and 20c protrude from the work stage 51 by 25 mm.

【0076】次に、図4(b)に示すように、両面回路
基板20aの上から吸着加圧プレート70で両面回路基
板20a、20b、20cやアラミド−エポキシシート
1a、1bを約20g/cm2で加圧した状態で、作業
ステージ51からはみ出しアラミド−エポキシシート1
を挟持した両面回路基板20a、20cの接着部位を、
300〜350℃に加熱したヒーターチップ6で約50
0gの圧力を20秒間加えてアラミド−エポキシシート
1a、1bの樹脂成分を硬化させて両面回路基板20
a、20b、20cと接着する。接着箇所は実施例1と
同様4角とそれぞれの中間点4箇所、計8箇所でおこな
った。
Next, as shown in FIG. 4B, the double-sided circuit boards 20a, 20b, 20c and the aramid-epoxy sheets 1a, 1b are applied to the double-sided circuit board 20a by about 20 g / cm by the suction pressure plate 70. Aramid-epoxy sheet 1 protruding from work stage 51 under pressure in step 2
The bonding portions of the double-sided circuit boards 20a and 20c holding the
Approximately 50 with heater chip 6 heated to 300-350 ° C
A pressure of 0 g is applied for 20 seconds to cure the resin components of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b,
a, 20b, 20c. As in the case of Example 1, the bonding was performed at four corners and four intermediate points, that is, eight places in total.

【0077】吸着加圧プレート70で加圧することで、
アラミド−エポキシシート1a、1bと両面回路基板2
0a、20b、20cとの密着をよくし位置決めを安定
させるとともに接着時エポキシ樹脂の溶融によって発生
する位置ズレを防止することができる。
By applying pressure with the adsorption pressure plate 70,
Aramid-epoxy sheets 1a, 1b and double-sided circuit board 2
It is possible to improve the close contact with Oa, 20b, and 20c to stabilize the positioning, and to prevent the displacement caused by the melting of the epoxy resin at the time of bonding.

【0078】ヒーターチップ5を両面回路基板20a、
20cから離すと両面回路基板20a、20cの接着部
位はわずかに変形が見られる。
The heater chip 5 is connected to the double-sided circuit board 20a,
When separated from 20c, the bonded portions of double-sided circuit boards 20a and 20c are slightly deformed.

【0079】次に、アラミド−エポキシシー1a、1b
で接着して固定した両面回路基板20a、20b、20
cを作業ステージ51から取り出し全面を熱プレスにて
圧力が50Kg/cm2、温度が200℃で1時間加熱
加圧することにより、図4(c)に示すように、アラミ
ド−エポキシシート1a、1bの厚みが圧縮する(t2
=約100μm)とともにアラミド−エポキシシート1
a、1bが両面回路基板20a、、20b、20cと金
属箔4を接着し、両面回路基板20aの回路パターン2
1bと両面回路基板20bの回路パターン22a、両面
回路基板20bの回路パターン22bと両面回路基板2
0cの回路パターン23aは導電性ペースト2によりイ
ンナビアホール接続した6層基板が得られる。
Next, aramid-epoxy sea 1a, 1b
Double-sided circuit boards 20a, 20b, 20 bonded and fixed by
c was taken out from the work stage 51, and the entire surface was heated and pressed at 50 Kg / cm 2 at a temperature of 200 ° C. for 1 hour with a hot press, thereby obtaining the aramid-epoxy sheets 1a and 1b as shown in FIG. Is compressed (t2
= About 100 μm) and aramid-epoxy sheet 1
a and 1b adhere the double-sided circuit boards 20a, 20b and 20c to the metal foil 4, and form a circuit pattern 2 on the double-sided circuit board 20a.
1b and the circuit pattern 22a of the double-sided circuit board 20b, the circuit pattern 22b of the double-sided circuit board 20b and the double-sided circuit board 2
For the circuit pattern 23a of 0c, a six-layer substrate connected to the inner via hole by the conductive paste 2 is obtained.

【0080】ここでは6層基板を例に説明したが、6層
以上の基板の場合は層数に応じた両面回路基板とプリプ
レグシートを用意し、回路基板が最外層になるようにプ
リプレグシートとを位置決めして重ね(図4(a))、
回路基板とプリプレグシートを任意の部位で部分的に接
着(図4(b))した後、全面を熱プレスで加熱加圧し
てプリプレグシートで金属箔と両面回路基板を接着する
とともに多層基板の回路パターンと金属箔を導電性ペー
ストにてインナービアホール接続し、図4(d)に示す
ように金属箔を加工して回路パターンを形成することで
一括して多層基板が得られる。実施例2でも実施例1と
同様の効果が得られている。
Here, a six-layer board has been described as an example, but in the case of a board having six or more layers, a double-sided circuit board and a prepreg sheet corresponding to the number of layers are prepared, and the prepreg sheet is formed so that the circuit board becomes the outermost layer. Are positioned and overlapped (FIG. 4 (a)),
After the circuit board and the prepreg sheet are partially bonded at an arbitrary position (FIG. 4B), the entire surface is heated and pressed by a hot press to bond the metal foil and the double-sided circuit board with the prepreg sheet, and the circuit of the multilayer board. The pattern and the metal foil are connected to each other with an inner via hole using a conductive paste, and the metal foil is processed to form a circuit pattern as shown in FIG. In the second embodiment, the same effect as in the first embodiment is obtained.

【0081】(実施例3) 図5(a)〜(f)は、本発明の第3の実施例の多層基
板の製造方法を示す工程断面図あり、6層基板を例とし
て示している。
(Embodiment 3) FIGS. 5A to 5F are process sectional views showing a method of manufacturing a multilayer substrate according to a third embodiment of the present invention, and show a six-layer substrate as an example.

【0082】図5において1a、1b、1cは250m
m角、厚さ約150μmの不織布の芳香族ポリアミド繊
維に熱硬化性エポキシ樹脂を含浸させた複合材からなる
アラミド−エポキシシート(プリプレグシート)であ
り、レーザーなどによって加工された貫通孔にCu粉末
と熱硬化型エポキシ樹脂からなる導電ペースト2を充填
している。
In FIG. 5, 1a, 1b and 1c are 250 m
It is an aramid-epoxy sheet (prepreg sheet) made of a composite material in which a thermosetting epoxy resin is impregnated into a non-woven aromatic polyamide fiber of m square and a thickness of about 150 μm. And a conductive paste 2 made of a thermosetting epoxy resin.

【0083】20a、20bは250mm角、厚さ約1
70μmの第1、第2の両面回路基板であり、両面に形
成した回路パターン21aと21b、22aと22bは
所定位置に設けた貫通孔に充填された導電ペースト2よ
って電気的に接続している。
20a and 20b are 250 mm square and about 1 thickness.
70 μm first and second double-sided circuit boards, and circuit patterns 21a and 21b and 22a and 22b formed on both sides are electrically connected by conductive paste 2 filled in through holes provided at predetermined positions. .

【0084】さらに、アラミド−エポキシシート1a、
1b、1cと両面回路基板20a、20bにはφ3mm
の位置決め孔3が180μmピッチで2個と、両面回路
基板20a、20bにプリプレグシート1a、1b、1
cの指定した層の接着部位に先端が5φmmのヒーター
チップ5が通過できる開口部65a、65bをレーザー
やドリル、パンチなどを利用して設けている。
Further, an aramid-epoxy sheet 1a,
Φ3 mm for 1b, 1c and double-sided circuit boards 20a, 20b
Of the prepreg sheets 1a, 1b, 1 in the double-sided circuit boards 20a, 20b.
Openings 65a and 65b, through which the heater chip 5 having a tip of 5 mm can pass, are provided at the bonding portion of the layer designated by c using a laser, a drill, a punch, or the like.

【0085】開口部65a、65bはプリプレグシート
1a、1b、1cと両面回路基板20a、20bとを一
定の加熱条件で接着できる層数毎に順次接着するための
ものであり、開口部65a、65bは図6に示すように
切り欠いて設けてもよい。
The openings 65a and 65b are for sequentially bonding the prepreg sheets 1a, 1b and 1c and the double-sided circuit boards 20a and 20b for each number of layers that can be bonded under a constant heating condition. May be cut out as shown in FIG.

【0086】57はφ2.97mmの位置決めピン6を
180mmピッチで配置した200mm角の位置決めプ
レートである。
Reference numeral 57 denotes a 200 mm square positioning plate on which φ2.97 mm positioning pins 6 are arranged at a 180 mm pitch.

【0087】まず図5(a)に示すように、位置決めプ
レート7に設けた位置決めピン6にアラミド−エポキシ
シート1c、両面回路基板20b、アラミド−エポキシ
シート1b、両面回路基板20a、アラミド−エポキシ
シート1aの順で位置決め孔3を通して重ねる。この
時、アラミド−エポキシシート1a、1b、1cと両面
回路基板20a、20bの四辺4は位置決めプレート7
から25mmづつはみ出した状態となっている。
First, as shown in FIG. 5A, aramid-epoxy sheet 1c, double-sided circuit board 20b, aramid-epoxy sheet 1b, double-sided circuit board 20a, aramid-epoxy sheet are applied to positioning pins 6 provided on positioning plate 7. It overlaps through the positioning hole 3 in order of 1a. At this time, the four sides 4 of the aramid-epoxy sheets 1a, 1b, 1c and the double-sided circuit boards 20a, 20b are
From each other by 25 mm.

【0088】次に、図5(b)に示すように、位置決め
プレート7からはみ出したアラミド−エポキシシート1
cと両面回路基板20bに設けた開口部65bに、30
0〜350℃に加熱したヒーターチップ6を通過させ
て、両面回路基板20aを挟持するアラミド−エポキシ
シート1a、1bを約500gの圧力を10秒間加えて
アラミド−エポキシシート1a、1bの樹脂成分を硬化
させて、両面回路基板20aと接着する。
Next, as shown in FIG. 5B, the aramid-epoxy sheet 1 protruding from the positioning plate 7.
c and the opening 65b provided in the double-sided circuit board 20b,
After passing through the heater chip 6 heated to 0 to 350 ° C., a pressure of about 500 g is applied to the aramid-epoxy sheets 1a and 1b sandwiching the double-sided circuit board 20a for about 10 seconds to remove the resin components of the aramid-epoxy sheets 1a and 1b. It is cured and bonded to the double-sided circuit board 20a.

【0089】次に、図5(c)に示すように、位置決め
プレート7からはみ出したアラミド−エポキシシート1
aと両面回路基板20aに設けた開口部65aに、30
0〜350℃に加熱したヒーターチップ6を通過させ
て、両面回路基板20bを挟持するアラミド−エポキシ
シート1b、1cを約500gの圧力を10秒間加えて
アラミド−エポキシシート1b、1cの樹脂成分を硬化
させて両面回路基板20bと接着する。
Next, as shown in FIG. 5C, the aramid-epoxy sheet 1 protruding from the positioning plate 7.
a into the opening 65a provided in the double-sided circuit board 20a.
After passing through the heater chip 6 heated to 0 to 350 ° C., a pressure of about 500 g is applied to the aramid-epoxy sheets 1b and 1c holding the double-sided circuit board 20b for about 10 seconds to remove the resin components of the aramid-epoxy sheets 1b and 1c. It is cured and adhered to the double-sided circuit board 20b.

【0090】ここでは、アラミド−エポキシシート1
a、1b、1cと両面回路基板20a、20bを層毎に
順次接着を行ったが、実施例1,2に示すように一括接
着を行ってもよい。
Here, aramid-epoxy sheet 1
Although a, 1b, 1c and the double-sided circuit boards 20a, 20b are sequentially bonded for each layer, they may be collectively bonded as shown in the first and second embodiments.

【0091】図5(b)、(c)での接着箇所は実施例
1と同様4角とそれぞれの中間点4箇所、計8箇所でお
こなった。
As shown in FIG. 5 (b) and FIG. 5 (c), bonding points were made at four corners and four intermediate points, respectively, as in Example 1, for a total of eight points.

【0092】次に、中間のアラミド−エポキシシート1
a、1b、1cで接着して固定した両面回路基板20
a、20bを、位置決めプレート7の位置決めピン6か
ら抜き取った後、図5(d)に示すように、最外面に金
属箔4を貼り合わせて基板全面を熱プレスにて圧力が5
0Kg/cm2、温度が200℃で1時間加熱加圧する
ことにより、図5(e)に示すように、アラミド−エポ
キシシート1a、1b、1cの厚みが圧縮する(t2=
約100μm)とともに、アラミド−エポキシシート1
a、1b、1cが両面回路基板20a、20bと金属箔
4を接着するとともに両面回路基板20bの回路パター
ン21bと両面回路基板20bの回路パターン22a間
および回路基板20aの回路パターン21aと回路基板
20bの回路パターン22bと金属箔4間は導電性ペー
スト2によりインナビアホール接続する。
Next, the intermediate aramid-epoxy sheet 1
a, double-sided circuit board 20 bonded and fixed with 1b, 1c
After the a and 20b are removed from the positioning pins 6 of the positioning plate 7, as shown in FIG. 5 (d), a metal foil 4 is attached to the outermost surface, and the entire surface of the substrate is pressed with a pressure of 5 by a hot press.
By heating and pressing at 0 Kg / cm 2 at a temperature of 200 ° C. for 1 hour, the thickness of the aramid-epoxy sheets 1a, 1b, 1c is compressed as shown in FIG. 5 (e) (t2 =
Aramid-epoxy sheet 1 together with about 100 μm)
a, 1b, and 1c bond the double-sided circuit boards 20a, 20b and the metal foil 4, and also between the circuit pattern 21b of the double-sided circuit board 20b and the circuit pattern 22a of the double-sided circuit board 20b and between the circuit pattern 21a of the circuit board 20a and the circuit board 20b. The inner via hole connection is made by the conductive paste 2 between the circuit pattern 22b and the metal foil 4.

【0093】次に、図5(f)に示すように、両面の金
属箔4を選択的にエッチングして回路パターン23a、
23bを形成することで一括して6層基板が得られる。
Next, as shown in FIG. 5 (f), the metal foils 4 on both sides are selectively etched to form the circuit patterns 23a,
By forming 23b, a six-layer substrate can be obtained collectively.

【0094】ここでは6層基板を例に説明したが、6層
以上の基板の場合は層数に応じた両面回路基板とプリプ
レグシートを用意し、プリプレグシートが最外層となる
ように位置決めして重ね(図5(a))、一定の加熱条
件で接着できる層数毎に両面回路基板とプリプレグシー
トを順次接着し(図5(b)、(c))、最外面に金属
箔を貼り合わせ(図5(d))せた後、図5(e)に示
すように基板全面を熱プレスで加熱加圧してアラミド−
エポキシシートで金属箔と多層基板を接着するとともに
多層基板の回路パターンと金属箔を導電性ペーストにて
インナービアホール接続し、図5(f)に示すように金
属箔を加工して回路パターンを形成することで一括して
多層基板が得られる。
Here, a six-layer board has been described as an example, but in the case of a board having six or more layers, a double-sided circuit board and a prepreg sheet corresponding to the number of layers are prepared, and the prepreg sheet is positioned so as to be the outermost layer. The double-sided circuit board and the prepreg sheet are sequentially adhered (FIGS. 5 (b) and 5 (c)) for each of the number of layers that can be laminated (FIG. 5 (a)) and can be adhered under a constant heating condition (FIGS. 5 (b) and 5 (c)), and a metal foil is bonded to the outermost surface (FIG. 5D), the entire surface of the substrate is heated and pressed by a hot press as shown in FIG.
The circuit pattern is formed by bonding the metal foil and the multilayer board with an epoxy sheet, connecting the circuit pattern of the multilayer board and the metal foil with inner via holes using a conductive paste, and processing the metal foil as shown in FIG. 5 (f). By doing so, a multilayer substrate can be obtained at once.

【0095】(参考例) 図7(a)〜(d)は、本発明の参考例の多層基板の製
造方法を示す工程断面図あり、6層基板を例として示し
ている。
(Reference Example) FIGS. 7A to 7D are process cross-sectional views showing a method for manufacturing a multilayer substrate according to a reference example of the present invention , and show a six-layer substrate as an example.

【0096】図7において1a、1b、1cは250m
m角、厚さ約150μmのガラス織布に熱硬化性エポキ
シ樹脂を含浸させた複合材からなるアラミド−エポキシ
シート(プリプレグシート)であり、レーザーなどによ
って加工された貫通孔にCu粉末と熱硬化型エポキシ樹
脂からなる導電ペースト2を充填している。
In FIG. 7, 1a, 1b and 1c are 250 m
An aramid-epoxy sheet (prepreg sheet) made of a composite material in which a thermosetting epoxy resin is impregnated into a glass woven fabric with an m-square and a thickness of about 150 μm. The conductive paste 2 made of a mold epoxy resin is filled.

【0097】20a、20bは、250mm角、厚さ約
170μmの両面回路基板であり、両面に形成した回路
パターン21aと21b、22aと22bとは所定位置
に設けた貫通孔に充填された導電ペースト2よって電気
的に接続している。
Reference numerals 20a and 20b denote double-sided circuit boards of 250 mm square and a thickness of about 170 μm. Circuit patterns 21a and 21b and 22a and 22b formed on both sides are conductive paste filled in through holes provided at predetermined positions. 2 are electrically connected.

【0098】4は300mm角、厚さ35μmのCuな
どの金属箔であり、5は先端がφ5mmのヒーターチッ
プである。
Reference numeral 4 denotes a 300 mm square, 35 μm thick metal foil of Cu or the like, and 5 denotes a heater chip having a tip of φ5 mm.

【0099】まず図7(a)に示すように、作業ステー
ジ51に金属箔4、アラミド−エポキシシート1c、両
面回路基板20b、アラミド−エポキシシート1b、両
面回路基板20b、アラミド−エポキシシート1a、金
属箔4の順で吸着加圧プレート70で吸着して金属箔4
は外形で、アラミド−エポキシシート1a、1b、1c
と両面回路基板20a、20bは回路基板20a、20
bに設けた位置決めパターン66を用いて画像認識など
によって位置決めして重ねる。
First, as shown in FIG. 7A, a metal foil 4, an aramid-epoxy sheet 1c, a double-sided circuit board 20b, an aramid-epoxy sheet 1b, a double-sided circuit board 20b, an aramid-epoxy sheet 1a, The metal foil 4 is adsorbed in the order of the metal foil 4 by the adsorption and pressure plate 70.
Is the outer shape, aramid-epoxy sheets 1a, 1b, 1c
And the double-sided circuit boards 20a, 20b
Using the positioning pattern 66 provided in b, positioning is performed by image recognition or the like, and the layers are overlapped.

【0100】この時、アラミド−エポキシシート1a、
1b、1cと両面回路基板20a、20bの四辺4は位
置決めプレート7から25mmづつはみ出した状態とな
っている。
At this time, the aramid-epoxy sheet 1a,
The four sides 4 of 1b, 1c and the double-sided circuit boards 20a, 20b protrude from the positioning plate 7 by 25 mm.

【0101】次に、図7(b)に示すように、金属箔4
の上から吸着加圧プレート70で両面回路基板20a、
20bやアラミド−エポキシシート1a、1b、1cが
約20g/cm2で加圧した状態で作業ステージ51か
らはみ出したアラミド−エポキシシート1a、1b、1
cと両面回路基板20a、20bの接着部位を最外面の
金属箔4の上から、300〜350℃に加熱したヒータ
ーチップ6で約500gの圧力を20秒間加えてアラミ
ド−エポキシシート1a、1b、1cの樹脂成分を硬化
させて両面回路基板20a、20b、金属箔4と接着す
る。
Next, as shown in FIG.
, A double-sided circuit board 20a with a suction pressure plate 70,
20a and the aramid-epoxy sheets 1a, 1b, and 1c protruding from the work stage 51 in a state where they are pressed at about 20 g / cm 2.
c and the double-sided circuit boards 20a and 20b are applied from the outermost metal foil 4 to the aramid-epoxy sheets 1a and 1b by applying a pressure of about 500 g for 20 seconds with the heater chip 6 heated to 300 to 350 ° C. The resin component 1c is cured and bonded to the double-sided circuit boards 20a and 20b and the metal foil 4.

【0102】接着箇所は実施例1と同様4角とそれぞれ
の中間点4箇所、計8箇所でおこなった。
As in the case of Example 1, the bonding was performed at four corners and four intermediate points, that is, eight places in total.

【0103】吸着加圧プレート70で加圧することで、
アラミド−エポキシシート1a、1b、1cと両面回路
基板20a、20bとの密着をよくし位置決めを安定さ
せるとともに接着時エポキシ樹脂の溶融によって発生す
る位置ズレを防止することができる。
By applying pressure with the suction pressure plate 70,
The adhesion between the aramid-epoxy sheets 1a, 1b, 1c and the double-sided circuit boards 20a, 20b is improved to stabilize the positioning, and it is possible to prevent the displacement caused by the melting of the epoxy resin at the time of bonding.

【0104】このとき、加圧する吸着加圧プレート70
や作業ステージ51は、最外層のアラミド−エポキシシ
ート1a、1cに貫通口に導電ペースト2が充填されて
いる場合は、吸着加圧プレート70や作業ステージ51
に導電ペースト2が付着して抜ける場合があるので、導
電ペースト2充填部位を避ける構造、例えば導電ペース
ト2充填部位の一定範囲のプレート面に凹み設ければよ
い。
At this time, the suction pressurizing plate 70 for pressurizing
When the conductive paste 2 is filled in the through holes in the outermost aramid-epoxy sheets 1a and 1c, the work stage 51 and the work stage 51
In some cases, the conductive paste 2 may adhere to and come off of the conductive paste 2. Therefore, a structure that avoids the conductive paste 2 filling portion, for example, a concave portion may be provided on a plate surface within a certain range of the conductive paste 2 filling portion.

【0105】導電ペースト2が充填されていない場合や
導電ペースト2が充填されいても最外面に金属箔4があ
る場合は、平坦なプレートを用いてもよい。
A flat plate may be used when the conductive paste 2 is not filled or when the conductive paste 2 is filled but the metal foil 4 is on the outermost surface.

【0106】また、両面回路基板20a、20bが最外
面となる場合は回路パターン21a、21b、22a、
22bに傷などが付かないように弾性体などの保護材を
付加すればよい。ここでは金属箔4が最外面となってい
るため吸着加圧プレート70と作業ステージ51は平坦
なものを用いた。
When the double-sided circuit boards 20a, 20b are the outermost surfaces, the circuit patterns 21a, 21b, 22a,
A protective material such as an elastic body may be added so as not to damage the 22b. Here, since the metal foil 4 is the outermost surface, the suction pressure plate 70 and the work stage 51 are flat.

【0107】次に、熱プレスにて圧力が50Kg/cm
2、温度が200℃で1時間加熱加圧することにより、
図7(c)に示すように、アラミド−エポキシシート1
a、1b、1cの厚みが圧縮する(t2=約100μ
m)とともにアラミド−エポキシシート1a、1b、1
cが両面回路基板20a、20bと金属箔4を接着する
とともに、両面回路基板20bの回路パターン21bと
両面回路基板20bの回路パターン22a間、回路基板
20aの回路パターン21aと金属箔4間、回路基板2
0bの回路パターン22bと金属箔4間は導電性ペース
ト2によりインナビアホール接続する。
Next, the pressure is set to 50 kg / cm by a hot press.
2. By heating and pressing at 200 ° C for 1 hour,
As shown in FIG. 7C, aramid-epoxy sheet 1
The thicknesses of a, 1b, and 1c are compressed (t2 = about 100 μm).
m) with aramid-epoxy sheets 1a, 1b, 1
c adheres the double-sided circuit boards 20a, 20b and the metal foil 4, and also between the circuit pattern 21b of the double-sided circuit board 20b and the circuit pattern 22a of the double-sided circuit board 20b, between the circuit pattern 21a of the circuit board 20a and the metal foil 4, Substrate 2
An inner via hole connection is made between the circuit pattern 22b of Ob and the metal foil 4 by the conductive paste 2.

【0108】次に、図7(d)に示すように、両面の金
属箔4を選択的にエッチングして回路パターン23a、
23bを形成することで一括して6層基板が得られる。
Next, as shown in FIG. 7D, the metal foils 4 on both sides are selectively etched to form the circuit patterns 23a,
By forming 23b, a six-layer substrate can be obtained collectively.

【0109】ここでは6層基板を例に説明したが、6層
以上の基板の場合は層数に応じた両面回路基板とプリプ
レグシートを用意し、プリプレグシートが最外面の金属
箔と接するように位置決めして重ね、(図7(a))、
両面の金属箔の上から両面回路基板とプリプレグシート
とを接着し(図7(b))、図7(c)に示すように基
板全面を熱プレスで加熱加圧してプリプレグシートで金
属箔と両面回路基板群と接着するとともに、両面回路基
板の回路パターン間および両面回路基板と金属箔を導電
性ペーストにてインナービアホール接続した後、図7
(d)に示すように金属箔を加工して回路パターンを形
成することで一括して多層基板が得られる。
Here, a six-layer board has been described as an example, but in the case of a board having six or more layers, a double-sided circuit board and a prepreg sheet corresponding to the number of layers are prepared so that the prepreg sheet is in contact with the outermost metal foil. Position and overlap (FIG. 7 (a)),
The double-sided circuit board and the prepreg sheet are adhered from above the metal foils on both sides (FIG. 7 (b)), and as shown in FIG. After bonding with the double-sided circuit board group and connecting between the circuit patterns of the double-sided circuit board and between the double-sided circuit board and the metal foil with an inner via hole using a conductive paste, FIG.
By processing the metal foil to form a circuit pattern as shown in (d), a multilayer substrate can be obtained collectively .

【0110】以上述べたように、本発明は熱プレス前に
プリプレグシートを加熱硬化して両面回路基板と接着す
るものであり、金型が不要となるため、金型使用時の特
有の問題である取り外し性の悪さや位置決めピンの変形
などをなくすことができる。また、金型厚み相当の基板
数を増やしてプレスすることができるとともに、重量の
軽量化が図れ、基板サイズの大型化にも容易に対応でき
るものである。
As described above, according to the present invention, the prepreg sheet is heat-cured before hot pressing and adheres to the double-sided circuit board, and a mold is not required. It is possible to eliminate certain poor removability and deformation of the positioning pin. In addition, it is possible to increase the number of substrates corresponding to the thickness of the mold and to perform pressing, reduce the weight, and easily cope with an increase in the size of the substrate.

【0111】さらに、プリプレグシートの部分的な硬化
により熱プレス時の金属箔、回路基板、プリプレグシー
トのずれが防止でき、高精度な多層基板が実現できる。
Further, by partially curing the prepreg sheet, the displacement of the metal foil, the circuit board and the prepreg sheet during hot pressing can be prevented, and a high-precision multilayer board can be realized.

【0112】なお、実施例では有機材料を主材とした不
織布に熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグシート(ア
ラミド−エポキシシート)と無機材料を主材とした織布
に熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグシート(ガラス
エポキシシート)を用いたが、有機材料を主材とした布
に熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグシートや無機材
料を主材とした不織布に熱硬化性樹脂を含浸させたプリ
プレグシートを用いてもまた、実施例では加熱手段に常
時加熱ヒーターを用いたが、パルスヒーターや超音波、
レーザーを用いても同様の効果が得られる。
In the examples, a prepreg sheet (aramid-epoxy sheet) obtained by impregnating a thermosetting resin into a nonwoven fabric mainly composed of an organic material and a woven fabric mainly composed of an inorganic material impregnated with a thermosetting resin are used. A prepreg sheet (glass epoxy sheet) was used, but a thermosetting resin was impregnated in a prepreg sheet in which a cloth mainly composed of an organic material was impregnated with a thermosetting resin or a nonwoven fabric mainly composed of an inorganic material. In addition, although a prepreg sheet was used, the heater was always used as the heating means in the examples, but a pulse heater, an ultrasonic wave,
Similar effects can be obtained by using a laser.

【0113】[0113]

【発明の効果】以上述べたように、熱プレス前にプリプ
レグシートを加熱硬化して両面回路基板と接着すること
で、金型が不要となり、金型使用時の特有の問題である
取り外し性の悪さや位置決めピンの変形などがなくな
り、金型厚み相当の基板数をアップすることができると
ともに軽量化が図れ、基板サイズの大型化にも容易に対
応できる積層精度の高い生産性に優れた多層基板の製造
方法を提供できる。特に、接着部位に金属箔が残ってい
る場合は、残存量によって熱容量が変わるため加熱条件
が変動するが、本発明においては接着部位の金属箔を除
去するようにしているため、一定の接着条件で安定して
接着ができる。
As described above, by heating and curing the prepreg sheet before hot pressing and bonding the prepreg sheet to the double-sided circuit board, the need for a mold is eliminated. Eliminates badness, deformation of positioning pins, etc., increases the number of substrates equivalent to the thickness of the mold, reduces weight, and easily handles large substrate sizes. A method for manufacturing a substrate can be provided. In particular, metal foil remains
The heating capacity depends on the remaining amount.
However, in the present invention, the metal foil at the bonding site is removed.
So that it is stable under certain bonding conditions
Can be bonded.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における多層基板の製造
方法を示す工程断面図。
FIG. 1 is a process sectional view showing a method for manufacturing a multilayer substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施例におけるプリプレグシート接着部位の
両面回路基板の回路パターンの説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a circuit pattern of a double-sided circuit board at a prepreg sheet bonding portion in the embodiment.

【図3】本発明の参考例における多層基板の製造方法を
示す工程断面図。
Sectional views illustrating a method for manufacturing a multilayer substrate definitive in Reference Example of the present invention; FIG.

【図4】本発明の第の実施例における多層基板の製造
方法を示す工程断面図。
FIG. 4 is a process sectional view illustrating a method for manufacturing a multilayer substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第の実施例における多層基板の製造
方法を示す工程断面図。
FIG. 5 is a process sectional view illustrating a method for manufacturing a multilayer substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図6】同実施例におけるプリプレグシートと両面回路
基板の接着部位の開口部形状を示す平面図。
FIG. 6 is a plan view showing the shape of the opening of the bonding portion between the prepreg sheet and the double-sided circuit board in the embodiment.

【図7】本発明の参考例における多層基板の製造方法を
示す工程断面図。
FIG. 7 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the multilayer substrate in the reference example of the present invention.

【図8】従来の両面回路基板の製造方法の工程断面図。FIG. 8 is a process sectional view of a conventional method for manufacturing a double-sided circuit board.

【図9】多層基板の製造方法を示す工程断面図FIG. 9 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a multilayer substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a、1b アラミド−エポキシシート(プリプレグシ
ート) 2 導電ペースト 3 位置決め孔 4 金属箔 5 ヒーターチップ 6 位置決めピン 7 位置決めプレート 8 接着部位の凹み 10 両面回路基板 11a、11b、12a、12b 回路パターン
1a, 1b Aramid-epoxy sheet (prepreg sheet) 2 Conductive paste 3 Positioning hole 4 Metal foil 5 Heater chip 6 Positioning pin 7 Positioning plate 8 Adhesion site dent 10 Double-sided circuit board 11a, 11b, 12a, 12b Circuit pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三田村 貞雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 中村 眞治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 西井 利浩 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 岩城 隆彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 石丸 秀行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 中谷 誠一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−64193(JP,A) 特開 昭63−56995(JP,A) 特開 平2−241091(JP,A) 特開 昭60−178694(JP,A) 特表 平5−507388(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Sadao Mitamura 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Toshihiro Nishii 1006 Kadoma, Kazuma, Osaka Pref. Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Takahiko Iwaki 1006 Odaka, Kazuma, Kadoma, Osaka Pref. Hideyuki Ishimaru 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture (72) Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. JP-A-63-56995 (JP, A) JP-A-2-241091 (JP, A) JP-A-60-178694 (JP, A) -507388 (JP, A)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少なくとも2層以上の回路パターンを有す
る回路基板の両面にプリプレグシートを位置決めして挟
持する工程と、前記両面に挟持したプリプレグシートの
任意の部位を部分的に加熱加圧して硬化させて前記回路
基板に接着固定する工程と、さらに前記部分的に接着固
定した両面のプリプレグシートの最外面に金属箔を配し
全面を加熱加圧してプリプレグシートの硬化により金属
箔の接着と回路基板の接着を行う工程と、前記金属箔を
加工して両面に回路パターンを形成する工程を有し、前
記部分的に硬化させるプリプレグシートの任意の部位
は、前記回路基板の回路パターン上の金属箔が除去され
た部位に相当する位置であることを特徴とする多層基板
の製造方法。
1. A step of positioning and sandwiching a prepreg sheet on both sides of a circuit board having a circuit pattern of at least two layers, and partially heating and pressurizing an arbitrary portion of the prepreg sheet sandwiched on both sides to cure. Bonding the metal foil to the circuit board, and further arranging a metal foil on the outermost surface of the two-sided prepreg sheet partially bonded and fixed, and heating and pressing the entire surface to cure the prepreg sheet, thereby bonding the metal foil and the circuit. It includes a step of performing bonding of the substrate, a step of forming a circuit pattern on both sides by processing the metal foil, prior to
Any part of the prepreg sheet to be partially cured
The metal foil on the circuit pattern of the circuit board is removed
A method for manufacturing a multilayer substrate, the method comprising:
【請求項2】少なくとも2層以上の回路パターンを有す
る複数の回路基板と複数のプリプレグシートとを交互に
位置決めして重ねる工程と、前記位置決めされた回路基
板群とプリプレグシート群の任意の部位を部分的に加熱
加圧してプリプレグシートを硬化させて前記回路基板群
とプリプレグシート群を接着固定する工程と、さらに全
面を加熱加圧することで前記プリプレグシートを硬化さ
せ前記回路基板群とを接着させる工程を有し、前記部分
的に硬化させるプリプレグシートの任意の部位は、前記
回路基板の回路パターン上の金属箔が除去された部位に
相当する位置であることを特徴とする多層基板の製造方
法。
2. It has a circuit pattern of at least two layers.
Alternately with multiple circuit boards and multiple prepreg sheets
Positioning and stacking, and the positioned circuit board
Partially heat any part of plate group and prepreg sheet group
Pressing and hardening the prepreg sheet to form the circuit board group
And the step of bonding and fixing the prepreg sheet group and
The prepreg sheet is cured by heating and pressing the surface.
And bonding the circuit board group to the circuit board group.
Any part of the prepreg sheet to be cured
In the area where the metal foil on the circuit pattern of the circuit board has been removed
A method for manufacturing a multilayer substrate, wherein the method is a corresponding position .
【請求項3】少なくとも2層以上の回路パターンを有す
る複数の回路基板と複数のプリプレグシートとを交互に
位置決めして重ねる工程と、前記位置決めされた回路基
板群とプリプレグシート群の任意の部位を部分的に加熱
加圧してプリプレグシートを硬化させて前記回路基板群
とプリプレグシート群を接着固定する工程と、さらに全
面を加熱加圧することで前記プリプレグシートを硬化さ
せ前記回路基板群とを接着させる工程を有し、任意の部
位を部分的に加熱加圧するとき回路基板群とプリプレグ
シート群を複数枚重ねた後、接着する層以外の回路基板
とプリプレグシートに加熱手段が通過可能な開口部を設
け、順次接着層を移動して接着することを特徴とする多
層基板の製造方法。
3. It has a circuit pattern of at least two layers.
Alternately with multiple circuit boards and multiple prepreg sheets
Positioning and stacking, and the positioned circuit board
Partially heat any part of plate group and prepreg sheet group
Pressing and hardening the prepreg sheet to form the circuit board group
And the step of bonding and fixing the prepreg sheet group and
The prepreg sheet is cured by heating and pressing the surface.
And bonding the circuit board group to the circuit board group.
Circuit board group and prepreg
Circuit boards other than the layer to be bonded after stacking multiple sheets
The prepreg sheet has an opening through which heating means can pass.
A method of manufacturing a multilayer substrate, wherein the adhesive layers are sequentially moved and bonded .
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