JP3160184B2 - 育毛・発毛用真空含浸方法およびその方法に用いる真空含浸装置 - Google Patents
育毛・発毛用真空含浸方法およびその方法に用いる真空含浸装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、育毛・発毛用真空含浸
方法およびその方法に用いる真空含浸装置に関するもの
である。
方法およびその方法に用いる真空含浸装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】育毛剤の研究は、需要の高まりに対応し
て世界各国で活発に行われており、優れた育毛・発毛作
用をもった種々の育毛剤が開発されている。育毛剤は、
一般に、栄養補給剤、血管拡張剤、ホルモン剤等により
毛根を活性化するもので、これらの有効成分が溶剤で調
整されて薬液として使用されている。従来、これらの育
毛剤の薬液を使用する場合、頭皮に薬液を塗布し、指先
で頭皮を揉んだり、あるいは軽く叩くなどの処置を施し
て、薬液が毛穴に染み込むようにしている。
て世界各国で活発に行われており、優れた育毛・発毛作
用をもった種々の育毛剤が開発されている。育毛剤は、
一般に、栄養補給剤、血管拡張剤、ホルモン剤等により
毛根を活性化するもので、これらの有効成分が溶剤で調
整されて薬液として使用されている。従来、これらの育
毛剤の薬液を使用する場合、頭皮に薬液を塗布し、指先
で頭皮を揉んだり、あるいは軽く叩くなどの処置を施し
て、薬液が毛穴に染み込むようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに頭皮に薬液を直接塗布して使用する場合、頭皮の毛
穴に生じた皮脂肪が毛孔の小溝に皮膜層を形成すること
から、この皮膜層が゛バリヤー゛となって毛孔への薬液
の侵入を遮断し、育毛剤が毛根に達しにくい状況にあ
る。したがって、育毛剤の薬液を多量に塗布しても、毛
根に供給される量が少なく、育毛剤の作用が十分に生か
されないものになっている。これに対し、育毛剤に溶解
剤を配合して皮膜層を溶かして薬液の浸透を促進するよ
うにしたものがあるが、毛穴の奥まで十分に皮膜層を取
り除くことは困難で、また、十分に皮膜層を取り除いた
としても、薬液の表面張力が比較的大きいため、毛穴の
奥まで薬液が浸透しにくく、育毛剤が毛根に作用しにく
いものであった。そこで、本発明は、このような現状に
鑑みなされたもので、毛穴の奥まで育毛剤を十分に浸透
させることで、毛根に育毛剤を効率よく供給し、毛根の
活性化を促進するようにした育毛・発毛用真空含浸方法
およびその方法に用いる真空含浸装置を提供することを
目的とする。
うに頭皮に薬液を直接塗布して使用する場合、頭皮の毛
穴に生じた皮脂肪が毛孔の小溝に皮膜層を形成すること
から、この皮膜層が゛バリヤー゛となって毛孔への薬液
の侵入を遮断し、育毛剤が毛根に達しにくい状況にあ
る。したがって、育毛剤の薬液を多量に塗布しても、毛
根に供給される量が少なく、育毛剤の作用が十分に生か
されないものになっている。これに対し、育毛剤に溶解
剤を配合して皮膜層を溶かして薬液の浸透を促進するよ
うにしたものがあるが、毛穴の奥まで十分に皮膜層を取
り除くことは困難で、また、十分に皮膜層を取り除いた
としても、薬液の表面張力が比較的大きいため、毛穴の
奥まで薬液が浸透しにくく、育毛剤が毛根に作用しにく
いものであった。そこで、本発明は、このような現状に
鑑みなされたもので、毛穴の奥まで育毛剤を十分に浸透
させることで、毛根に育毛剤を効率よく供給し、毛根の
活性化を促進するようにした育毛・発毛用真空含浸方法
およびその方法に用いる真空含浸装置を提供することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決しようとする手段】そのために本発明の育
毛・発毛用真空含浸方法は、被施術者の頭部に界面活性
剤を散布して頭皮を洗浄する工程、前記頭部にヘヤキャ
ップを取り付けて頭皮を密閉する工程、前記頭皮と前記
ヘヤキャップとにより形成される密閉室の空気を排気
し、前記密閉室を真空状態に保持することで、前記頭皮
の毛穴の空気を吸い出す工程、前記密閉室を真空状態に
保ったまま、前記密閉室に育毛剤を供給して霧化させる
工程、前記密閉室の真空状態を開放し、前記密閉室の内
気圧を瞬間的に上昇させることにより、前記頭皮の毛穴
に霧化状態の前記育毛剤を吸い込ませる工程からなるこ
とを特徴とする。
毛・発毛用真空含浸方法は、被施術者の頭部に界面活性
剤を散布して頭皮を洗浄する工程、前記頭部にヘヤキャ
ップを取り付けて頭皮を密閉する工程、前記頭皮と前記
ヘヤキャップとにより形成される密閉室の空気を排気
し、前記密閉室を真空状態に保持することで、前記頭皮
の毛穴の空気を吸い出す工程、前記密閉室を真空状態に
保ったまま、前記密閉室に育毛剤を供給して霧化させる
工程、前記密閉室の真空状態を開放し、前記密閉室の内
気圧を瞬間的に上昇させることにより、前記頭皮の毛穴
に霧化状態の前記育毛剤を吸い込ませる工程からなるこ
とを特徴とする。
【０００５】また、本発明の育毛・発毛用真空含浸装置
は、被施術者の頭皮を密閉するヘヤキャップと、前記頭
皮と前記ヘヤキャップとにより形成される密閉室を真空
状態に保持し、前記頭皮の毛穴から空気を吸い出す真空
ポンプと、育毛剤の薬液を貯留する容器であって、真空
状態の前記密閉室に前記薬液を供給して霧化させる貯留
容器と、前記密閉室の真空状態を開放し、前記密閉室の
内気圧を瞬間的に上昇させることにより、前記頭皮の毛
穴に霧化状態の前記育毛剤を吸い込ませる真空開放バル
ブとを備えたことを特徴とする。
は、被施術者の頭皮を密閉するヘヤキャップと、前記頭
皮と前記ヘヤキャップとにより形成される密閉室を真空
状態に保持し、前記頭皮の毛穴から空気を吸い出す真空
ポンプと、育毛剤の薬液を貯留する容器であって、真空
状態の前記密閉室に前記薬液を供給して霧化させる貯留
容器と、前記密閉室の真空状態を開放し、前記密閉室の
内気圧を瞬間的に上昇させることにより、前記頭皮の毛
穴に霧化状態の前記育毛剤を吸い込ませる真空開放バル
ブとを備えたことを特徴とする。
【０００６】さらに、本発明の育毛・発毛用真空含浸方
法は、被施術者の体表面に界面活性剤を散布して毛穴を
洗浄する工程、前記体表面の所定位置に育毛剤を塗布す
る工程、前記育毛剤を塗布した体表面に通気孔付きの吸
盤を当てて、前記体表面と前記吸盤との間に密閉室を形
成する工程、前記通気孔を塞ぎながら前記吸盤を押すこ
とで前記密閉室から空気を抜き、前記密閉室を真空状態
にして前記体表面の毛穴から空気を吸い出す工程、前記
通気孔を開放することにより、前記密閉室の内気圧を瞬
間的に上昇させ、前記毛穴に前記育毛剤を吸い込ませる
工程からなることを特徴とする。
法は、被施術者の体表面に界面活性剤を散布して毛穴を
洗浄する工程、前記体表面の所定位置に育毛剤を塗布す
る工程、前記育毛剤を塗布した体表面に通気孔付きの吸
盤を当てて、前記体表面と前記吸盤との間に密閉室を形
成する工程、前記通気孔を塞ぎながら前記吸盤を押すこ
とで前記密閉室から空気を抜き、前記密閉室を真空状態
にして前記体表面の毛穴から空気を吸い出す工程、前記
通気孔を開放することにより、前記密閉室の内気圧を瞬
間的に上昇させ、前記毛穴に前記育毛剤を吸い込ませる
工程からなることを特徴とする。
【０００７】前記育毛・発毛用真空含浸方法に用いる
「界面活性剤」については、例えば市販の洗髪用シャン
プーを用いることができる。具体的には、界面活性剤と
して、陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、非イオ
ン性界面活性剤等を含むものが望ましい。特に、洗髪用
シャンプーに研磨剤を混入させたものを用いると、毛穴
周辺の皮膜層が研磨剤により剥がれやすくなり、育毛剤
の含浸効果がより高められる。
「界面活性剤」については、例えば市販の洗髪用シャン
プーを用いることができる。具体的には、界面活性剤と
して、陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、非イオ
ン性界面活性剤等を含むものが望ましい。特に、洗髪用
シャンプーに研磨剤を混入させたものを用いると、毛穴
周辺の皮膜層が研磨剤により剥がれやすくなり、育毛剤
の含浸効果がより高められる。
【０００８】また、「育毛剤」の種類については、特に
限定されないが、市販の液状のものであればはほとんど
使用することができる。特に、ペンタデカン酸グリセリ
ド（ＰＤＧ）を有効成分にしたものを用いると、極めて
優れた育毛効果が期待される。その他、育毛剤に配合可
能な有効成分は、栄養補給剤としては、ビタミン類のパ
ントテン酸カルシウム、ビタミンＡアセテート、バント
テニルアルコール、塩酸ピリドキシン、アミノ酸類のメ
チオニン、セリン等を使用することができ、また、血管
拡張剤としては、酢酸α−トコフェロール、塩化カルプ
ロニウム、スウェルチノーゲン（センブリエキス）、刺
激剤としては、トウガラシチンキ、ニコチン酸ベンジ
ル、ノニル酸バニリルアミド、ｌ−メントール、朝鮮人
参、ホルモン剤としては、女性ホルモン（エチニルエス
トラジオール、ジプロピオン酸エストラジオール）等を
用いることが可能である。なお、これらの有効成分の濃
度を調整する溶剤としては、例えばエタノール、精製水
等を用いるとよい。
限定されないが、市販の液状のものであればはほとんど
使用することができる。特に、ペンタデカン酸グリセリ
ド（ＰＤＧ）を有効成分にしたものを用いると、極めて
優れた育毛効果が期待される。その他、育毛剤に配合可
能な有効成分は、栄養補給剤としては、ビタミン類のパ
ントテン酸カルシウム、ビタミンＡアセテート、バント
テニルアルコール、塩酸ピリドキシン、アミノ酸類のメ
チオニン、セリン等を使用することができ、また、血管
拡張剤としては、酢酸α−トコフェロール、塩化カルプ
ロニウム、スウェルチノーゲン（センブリエキス）、刺
激剤としては、トウガラシチンキ、ニコチン酸ベンジ
ル、ノニル酸バニリルアミド、ｌ−メントール、朝鮮人
参、ホルモン剤としては、女性ホルモン（エチニルエス
トラジオール、ジプロピオン酸エストラジオール）等を
用いることが可能である。なお、これらの有効成分の濃
度を調整する溶剤としては、例えばエタノール、精製水
等を用いるとよい。
【０００９】また、本発明の真空含浸方法に用いる育毛
剤は、真空状態の密閉室に散布され、霧化した状態で頭
皮に供給されることとなる。しがたって、薬液の表面張
力が比較的大きくても、毛穴に薬液を浸透させることが
できることから、育毛剤の有効成分の濃度を高めたもの
を真空含浸専用の薬液とて使用することができ、育毛剤
の作用を格段に向上させることが可能になる。
剤は、真空状態の密閉室に散布され、霧化した状態で頭
皮に供給されることとなる。しがたって、薬液の表面張
力が比較的大きくても、毛穴に薬液を浸透させることが
できることから、育毛剤の有効成分の濃度を高めたもの
を真空含浸専用の薬液とて使用することができ、育毛剤
の作用を格段に向上させることが可能になる。
【００１０】前記「真空状態」については、被施術者の
個人差により異なるが、１０ｔｏｒｒ以下の中真空また
は高真空の状態にするのが望ましい。この程度の圧力ま
で低下させると、毛穴の大きさおよび頭皮の柔軟性との
関係で、薬液が毛穴に入りやすく、また、含浸時間を短
くすることができるからである。一般には、太毛の人の
場合には高真空の圧力に設定し、細毛の人の場合は、中
真空の圧力に設定するとよい。また、個々の髪質、頭皮
の状態に最も適した圧力状態をチェックして個人用のカ
ルテ等を作成するのもよい。
個人差により異なるが、１０ｔｏｒｒ以下の中真空また
は高真空の状態にするのが望ましい。この程度の圧力ま
で低下させると、毛穴の大きさおよび頭皮の柔軟性との
関係で、薬液が毛穴に入りやすく、また、含浸時間を短
くすることができるからである。一般には、太毛の人の
場合には高真空の圧力に設定し、細毛の人の場合は、中
真空の圧力に設定するとよい。また、個々の髪質、頭皮
の状態に最も適した圧力状態をチェックして個人用のカ
ルテ等を作成するのもよい。
【００１１】また、前記密閉室に育毛剤を供給する工程
については、育毛剤の薬液を密閉室に噴霧するか、点滴
針などで液滴として供給することが望ましい。頭部にヘ
ヤキャップをセットする前に予め頭皮に薬液を塗布して
おくことも可能である。
については、育毛剤の薬液を密閉室に噴霧するか、点滴
針などで液滴として供給することが望ましい。頭部にヘ
ヤキャップをセットする前に予め頭皮に薬液を塗布して
おくことも可能である。
【００１２】
【作用】一般に、毛髪は、図１に示すように、毛根２が
皮下組織に達しており、毛乳頭３から栄養分を吸収して
成長する。頭皮４からやや下層部に皮脂胞５があり、こ
の皮脂胞５から生じる脂肪分が毛穴の表層部に皮膜層Ｍ
を形成している。頭皮に育毛剤を供給する場合、この毛
乳頭３を刺激して毛根２を活性化することが望ましいと
考えられる。本発明によれば、まず、頭皮４を界面活性
剤で洗浄して図１に示す皮膜層Ｍを取り除き、次いで、
図２に示すように、頭皮４を真空状態に保持すること
で、毛孔Ｈの空気を外部に吸い出す。即ち、頭皮を吸い
上げて毛穴を開いた状態に保つ。次いで、頭皮４の表面
の空間に育毛剤を供給して霧状に拡散させた後、この真
空状態を開放すると、図３に示すように、毛孔Ｈに空気
が流入し、このとき、育毛剤がこの流入空気とともに毛
孔Ｈの奥まで浸透する。
皮下組織に達しており、毛乳頭３から栄養分を吸収して
成長する。頭皮４からやや下層部に皮脂胞５があり、こ
の皮脂胞５から生じる脂肪分が毛穴の表層部に皮膜層Ｍ
を形成している。頭皮に育毛剤を供給する場合、この毛
乳頭３を刺激して毛根２を活性化することが望ましいと
考えられる。本発明によれば、まず、頭皮４を界面活性
剤で洗浄して図１に示す皮膜層Ｍを取り除き、次いで、
図２に示すように、頭皮４を真空状態に保持すること
で、毛孔Ｈの空気を外部に吸い出す。即ち、頭皮を吸い
上げて毛穴を開いた状態に保つ。次いで、頭皮４の表面
の空間に育毛剤を供給して霧状に拡散させた後、この真
空状態を開放すると、図３に示すように、毛孔Ｈに空気
が流入し、このとき、育毛剤がこの流入空気とともに毛
孔Ｈの奥まで浸透する。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。まず、第１実施例による真空含浸装置を図４およ
び図５に示す。真空含浸装置１は、ヘヤキャップ２、真
空ポンプＰ1、Ｐ2、および薬液貯留容器３を備える。ヘ
ヤキャップ２の排気口１５、注入口１６および吸気口１
７にそれぞれ排気ホース４、薬液供給ホース５および吸
気ホース６が接続されている。ヘヤキャップ２内の空気
は、真空ポンプＰ1、Ｐ2により排気ホース４を介して排
出され、真空状態に保持される。ヘヤキャップ２内の気
圧は、圧力計１０により測定可能になっている。また、
各ホースの制御バルブについては、排気ホース４に真空
保持バルブ７が設けられ、吸気ホース６には、真空開放
バルブ８が設けられる。薬液供給ホース５には、薬液バ
ルブ９が設けられている。
する。まず、第１実施例による真空含浸装置を図４およ
び図５に示す。真空含浸装置１は、ヘヤキャップ２、真
空ポンプＰ1、Ｐ2、および薬液貯留容器３を備える。ヘ
ヤキャップ２の排気口１５、注入口１６および吸気口１
７にそれぞれ排気ホース４、薬液供給ホース５および吸
気ホース６が接続されている。ヘヤキャップ２内の空気
は、真空ポンプＰ1、Ｐ2により排気ホース４を介して排
出され、真空状態に保持される。ヘヤキャップ２内の気
圧は、圧力計１０により測定可能になっている。また、
各ホースの制御バルブについては、排気ホース４に真空
保持バルブ７が設けられ、吸気ホース６には、真空開放
バルブ８が設けられる。薬液供給ホース５には、薬液バ
ルブ９が設けられている。
【００１４】図５に示すように、ヘヤキャップ２は、ヘ
ルメット形のキャップ本体１２に環状の伸縮バンド１３
が固定されてなる。キャップ本体１２の頂部には、ジョ
イント１４が形成されており、このジョイント１４の軸
方向に、吸引口１５、注入口１６および脱気口１７がそ
れぞれ形成されている。各ホースの先端は、各口１５、
１６、１７にインサート成形により固定されている。ま
た、注入口１６の開口部には噴霧ノズル２０が取付けら
れる。噴霧ノズル２０は、円錐台形の板状のもので、板
面に貫通して細孔が多数形成されている。
ルメット形のキャップ本体１２に環状の伸縮バンド１３
が固定されてなる。キャップ本体１２の頂部には、ジョ
イント１４が形成されており、このジョイント１４の軸
方向に、吸引口１５、注入口１６および脱気口１７がそ
れぞれ形成されている。各ホースの先端は、各口１５、
１６、１７にインサート成形により固定されている。ま
た、注入口１６の開口部には噴霧ノズル２０が取付けら
れる。噴霧ノズル２０は、円錐台形の板状のもので、板
面に貫通して細孔が多数形成されている。
【００１５】キャップ本体１２の開口端部に固定される
伸縮バンド１３は、縦方向および横方向の肉厚が比較的
幅広にとられており、大きな弾性力をもって頭部に締め
付けられる。伸縮バンド１３の外周部には、気密性を高
めるために金属バンド２３を締め付けることも可能であ
る。ヘヤキャップ２の構成材料については、例えばキャ
ップ本体１２およびジョイント１４にはシリコン、ゴム
を用いることができ、また、伸縮バンド１３にはウレタ
ン等を用いることができる。
伸縮バンド１３は、縦方向および横方向の肉厚が比較的
幅広にとられており、大きな弾性力をもって頭部に締め
付けられる。伸縮バンド１３の外周部には、気密性を高
めるために金属バンド２３を締め付けることも可能であ
る。ヘヤキャップ２の構成材料については、例えばキャ
ップ本体１２およびジョイント１４にはシリコン、ゴム
を用いることができ、また、伸縮バンド１３にはウレタ
ン等を用いることができる。
【００１６】真空ポンプＰ1、Ｐ2は、低真空用と高真空
用の２種のポンプが採用され、排気ホース４の三方弁２
４により切り換え可能になっている。低真空用の真空ポ
ンプＰ1には、回転ポンプ、ピストンポンプ等が用いら
れ、また、高真空用の真空ポンプＰ2には、拡散ポン
プ、エジェクターポンプ、拡散エジェクターポンプ等が
用いられる。薬液貯留器３には、所定の育毛剤の薬液が
注入され、薬液バルブ９を操作することで、薬液供給ホ
ース５を介して薬液がヘヤキャップ２内に送られる。
用の２種のポンプが採用され、排気ホース４の三方弁２
４により切り換え可能になっている。低真空用の真空ポ
ンプＰ1には、回転ポンプ、ピストンポンプ等が用いら
れ、また、高真空用の真空ポンプＰ2には、拡散ポン
プ、エジェクターポンプ、拡散エジェクターポンプ等が
用いられる。薬液貯留器３には、所定の育毛剤の薬液が
注入され、薬液バルブ９を操作することで、薬液供給ホ
ース５を介して薬液がヘヤキャップ２内に送られる。
【００１７】次に、前記真空含浸装置の使用方法を説明
する。 まず、被施術者の頭部を研磨剤入りのシャンプーを塗
布してマッサージし、頭皮の皮脂肪を洗い落とす。研磨
剤を入れるのは、頭皮表面の毛穴に詰まった脂肪分を効
率よく剥すためである。洗浄後は、タオルなどで頭皮の
水分を拭き取っておく。 次に、被施術者の頭部にヘヤキャップ２を取り付けて
頭皮を密閉状態に保つ。このとき、額から後頭部にかけ
て伸縮バンド１３を巻いてキャップ内の密閉室Ｒの気密
性を高める。なお、伸縮バンド１３による締め付けが不
十分な場合は、伸縮バンド１３の上から補強用の金属バ
ンド２３で締め付けるとよい。
する。 まず、被施術者の頭部を研磨剤入りのシャンプーを塗
布してマッサージし、頭皮の皮脂肪を洗い落とす。研磨
剤を入れるのは、頭皮表面の毛穴に詰まった脂肪分を効
率よく剥すためである。洗浄後は、タオルなどで頭皮の
水分を拭き取っておく。 次に、被施術者の頭部にヘヤキャップ２を取り付けて
頭皮を密閉状態に保つ。このとき、額から後頭部にかけ
て伸縮バンド１３を巻いてキャップ内の密閉室Ｒの気密
性を高める。なお、伸縮バンド１３による締め付けが不
十分な場合は、伸縮バンド１３の上から補強用の金属バ
ンド２３で締め付けるとよい。
【００１８】次いで、真空ポンプＰ1、Ｐ2を順に作動
させて密閉室の空気を排気し、密閉室Ｒを真空状態にす
る。真空圧の設定値は、被施術者の毛髪、頭皮の状態に
より異なるが、１０ｔｏｒｒ以下に低下させることが望
ましい。このように密閉室Ｒが真空状態に保持される間
に、毛穴に詰まった皮脂肪等も外部に吸い出されること
になる。ここで、真空ポンプＰ1、Ｐ2の使用方法につい
ては、例えば、まず、真空ポンプＰ1で７６０ｔｏｒｒ
〜６０ｔｏｒｒ程度までの補助真空を行い、次いで、真
空ポンプＰ2に切り換えて１０ｔｏｒｒ以下の目標値ま
で圧力を低下させる。これにより、各真空ポンプに過大
な負荷を与えることなく、比較的容易に目標とする真空
状態を実現することができる。なお、真空圧の設定値が
１０ｔｏｒｒ程度と比較的高い場合については、真空ポ
ンプＰ1のみを作動させることで、十分に真空状態を保
持することが可能である。したがって、必要に応じて真
空ポンプＰ2を使用せずに、真空ポンプＰ1のみを使用す
るようにしてもよい。
させて密閉室の空気を排気し、密閉室Ｒを真空状態にす
る。真空圧の設定値は、被施術者の毛髪、頭皮の状態に
より異なるが、１０ｔｏｒｒ以下に低下させることが望
ましい。このように密閉室Ｒが真空状態に保持される間
に、毛穴に詰まった皮脂肪等も外部に吸い出されること
になる。ここで、真空ポンプＰ1、Ｐ2の使用方法につい
ては、例えば、まず、真空ポンプＰ1で７６０ｔｏｒｒ
〜６０ｔｏｒｒ程度までの補助真空を行い、次いで、真
空ポンプＰ2に切り換えて１０ｔｏｒｒ以下の目標値ま
で圧力を低下させる。これにより、各真空ポンプに過大
な負荷を与えることなく、比較的容易に目標とする真空
状態を実現することができる。なお、真空圧の設定値が
１０ｔｏｒｒ程度と比較的高い場合については、真空ポ
ンプＰ1のみを作動させることで、十分に真空状態を保
持することが可能である。したがって、必要に応じて真
空ポンプＰ2を使用せずに、真空ポンプＰ1のみを使用す
るようにしてもよい。
【００１９】次に、密閉室Ｒ内が所定の真空圧に達し
たことを圧力計１０で確認して真空保持バルブ７を閉じ
た後、すぐに薬液バルブ９を開いて薬液を密閉室Ｒに噴
霧する。このとき、密閉室Ｒ内は真空状態であるため、
薬液が瞬間的に密閉室Ｒで超微粒子となって拡散する。
薬液の供給量については、育毛剤の種類、濃度、密閉室
の容積等によって異なるが、有効成分が密閉室に十分に
充満する程度の量とする。例えば、１回の施術あたり薬
液の使用量は、５〜２０ｍｌ程度に使用するように調整
することが望ましい。なお、薬液の濃度については、表
面張力の影響が少ないため、通常の育毛剤の使用時より
も高い濃度で用いることができる。 次いで、真空開放バルブ８を開にして密閉室Ｒに外気
を送り、密閉室Ｒの内気圧を瞬間的に上昇させる。する
と、空気の流入にともなって密閉室Ｒに拡散した薬液の
一部が毛穴に吸い込まれ、毛根付近まで浸透する。 その後、密閉室Ｒを大気圧に戻した後、ヘヤーキャッ
プ２を取り外し、湿熱スチーマーにて頭皮を乾燥させ
る。望ましくは、水蒸気にＯ．１ｐｐｍ以下のオゾンを
含有させると、頭皮を刺激して毛根に刺激を与え、育毛
剤の育毛作用をさらに促進することができる。
たことを圧力計１０で確認して真空保持バルブ７を閉じ
た後、すぐに薬液バルブ９を開いて薬液を密閉室Ｒに噴
霧する。このとき、密閉室Ｒ内は真空状態であるため、
薬液が瞬間的に密閉室Ｒで超微粒子となって拡散する。
薬液の供給量については、育毛剤の種類、濃度、密閉室
の容積等によって異なるが、有効成分が密閉室に十分に
充満する程度の量とする。例えば、１回の施術あたり薬
液の使用量は、５〜２０ｍｌ程度に使用するように調整
することが望ましい。なお、薬液の濃度については、表
面張力の影響が少ないため、通常の育毛剤の使用時より
も高い濃度で用いることができる。 次いで、真空開放バルブ８を開にして密閉室Ｒに外気
を送り、密閉室Ｒの内気圧を瞬間的に上昇させる。する
と、空気の流入にともなって密閉室Ｒに拡散した薬液の
一部が毛穴に吸い込まれ、毛根付近まで浸透する。 その後、密閉室Ｒを大気圧に戻した後、ヘヤーキャッ
プ２を取り外し、湿熱スチーマーにて頭皮を乾燥させ
る。望ましくは、水蒸気にＯ．１ｐｐｍ以下のオゾンを
含有させると、頭皮を刺激して毛根に刺激を与え、育毛
剤の育毛作用をさらに促進することができる。
【００２０】このように前記〜による真空含浸方法
を行うと、毛穴に育毛剤が吸い込まれることになり、よ
り確実に薬液を毛根に供給することができる。したがっ
て、育毛剤の有効成分の作用を十分に引き出すことがで
き、より短期間で発毛・育毛効果を発揮させることがで
きる。また、前記〜の工程は、比較的短時間で行う
ことができるため、装置一台当たりで施術可能な人数が
比較的多いものとなる。したがって、施術者にとって
も、施術時間が短くなることから、定期的に行っても面
倒になりにくいものである。
を行うと、毛穴に育毛剤が吸い込まれることになり、よ
り確実に薬液を毛根に供給することができる。したがっ
て、育毛剤の有効成分の作用を十分に引き出すことがで
き、より短期間で発毛・育毛効果を発揮させることがで
きる。また、前記〜の工程は、比較的短時間で行う
ことができるため、装置一台当たりで施術可能な人数が
比較的多いものとなる。したがって、施術者にとって
も、施術時間が短くなることから、定期的に行っても面
倒になりにくいものである。
【００２１】次に、本発明の真空含浸装置の第２実施例
を図６に示す。第２実施例による真空含浸装置３０は、
排気ホース３１と吸気ホース３２とを通気ホース３３に
接続し、三方弁３４により空気通路を切り換え可能にし
たものである。ヘヤキャップ３５は、頂面に注入口３６
が形成され、側面に通気口３７が形成される。ヘヤキャ
ップ３５内の空気を排出する場合、三方弁３４を排気ホ
ース３１側にし、バルブ３９を開にして真空ポンプＰを
作動させる。ヘヤキャップ３５内の真空圧は、通気ホー
ス４１の圧力計で確認することができる。また、真空状
態を開放する場合は、三方弁３４を吸気ホース３２側に
切り換え、バルブ４０を開いて吸気ホース３２および通
気ホース３３を介してキャップ内に外気を送り込む。こ
のように第２実施例の真空含浸装置の場合、通気ホース
３３が脱気と吸気の兼用ホースとして用いられるため、
配管構成が簡単になり、ヘヤキャップの気密性がさらに
向上することになる。
を図６に示す。第２実施例による真空含浸装置３０は、
排気ホース３１と吸気ホース３２とを通気ホース３３に
接続し、三方弁３４により空気通路を切り換え可能にし
たものである。ヘヤキャップ３５は、頂面に注入口３６
が形成され、側面に通気口３７が形成される。ヘヤキャ
ップ３５内の空気を排出する場合、三方弁３４を排気ホ
ース３１側にし、バルブ３９を開にして真空ポンプＰを
作動させる。ヘヤキャップ３５内の真空圧は、通気ホー
ス４１の圧力計で確認することができる。また、真空状
態を開放する場合は、三方弁３４を吸気ホース３２側に
切り換え、バルブ４０を開いて吸気ホース３２および通
気ホース３３を介してキャップ内に外気を送り込む。こ
のように第２実施例の真空含浸装置の場合、通気ホース
３３が脱気と吸気の兼用ホースとして用いられるため、
配管構成が簡単になり、ヘヤキャップの気密性がさらに
向上することになる。
【００２２】次に、本発明の真空含浸装置の第３実施例
を図７および図８に示す。第３実施例による真空含浸装
置５０は、吊り下げ型の薬液供給容器５１と針付きチュ
ーブ５２とにより薬液の供給を行うようにしたものであ
る。図７に示すように、薬液供給容器５１は、支柱５３
の所定の高さ位置に吊り下げられ、ゴム栓５１ａが下方
に向けてセットされる。シリコン等からなる針付きチュ
ーブ５２は、両端に点滴針が取り付けられており、一端
の針５４が薬液貯留容器のゴム栓５１ａに挿入され、図
８に示す他端の針５５がヘヤキャップ５６のゴム栓５８
に挿入される。ゴム栓５８の形状は、先端部に筒体５８
ａが形成され、この筒体５８ａ内に針５５の先端が納ま
るようになっている。なお、筒体５８ａは、針５５が筒
体５８ａの下方に突出するのを防止するため、容易に変
形しない材質で形成される。ヘヤキャップへの薬液の供
給量は、チューブ５２の流量調節弁５９により調節可能
になっており、また、流量調節弁５９の上流側には、チ
ューブ５２の潰れを防止する負圧制御筒６０が設けられ
ている。第３実施例によると、薬液供給容器５１および
針付きチューブ５２の取付けおよび取替え作業が容易に
なるため、施術作業の効率化を図ることができる。ま
た、ヘヤキャップ内の気密性が良好になり、しかも、薬
液の供給量の調節を極めて容易に行うことができる。
を図７および図８に示す。第３実施例による真空含浸装
置５０は、吊り下げ型の薬液供給容器５１と針付きチュ
ーブ５２とにより薬液の供給を行うようにしたものであ
る。図７に示すように、薬液供給容器５１は、支柱５３
の所定の高さ位置に吊り下げられ、ゴム栓５１ａが下方
に向けてセットされる。シリコン等からなる針付きチュ
ーブ５２は、両端に点滴針が取り付けられており、一端
の針５４が薬液貯留容器のゴム栓５１ａに挿入され、図
８に示す他端の針５５がヘヤキャップ５６のゴム栓５８
に挿入される。ゴム栓５８の形状は、先端部に筒体５８
ａが形成され、この筒体５８ａ内に針５５の先端が納ま
るようになっている。なお、筒体５８ａは、針５５が筒
体５８ａの下方に突出するのを防止するため、容易に変
形しない材質で形成される。ヘヤキャップへの薬液の供
給量は、チューブ５２の流量調節弁５９により調節可能
になっており、また、流量調節弁５９の上流側には、チ
ューブ５２の潰れを防止する負圧制御筒６０が設けられ
ている。第３実施例によると、薬液供給容器５１および
針付きチューブ５２の取付けおよび取替え作業が容易に
なるため、施術作業の効率化を図ることができる。ま
た、ヘヤキャップ内の気密性が良好になり、しかも、薬
液の供給量の調節を極めて容易に行うことができる。
【００２３】次に、本発明の第４実施例を図９〜図１４
に示す。第４実施例は、頭皮の任意の位置に吸盤を用い
て真空含浸を行うようにしたものである。吸盤６１は、
ゴム、樹脂等の弾性体からなるもので、天井部６１ａに
通気孔６２を有する。円形の吸着部６１ｂの内部に密閉
室Ｒが形成される。真空含浸を行う場合、図１０に示す
ように、頭皮の所定位置に育毛剤を滴下し、育毛剤を密
閉するように頭皮に吸盤をセットする。次いで、通気孔
６２を掌で塞ぐようにして天井部６１ａを数回押してポ
ンプ動作を繰り返し、通気孔６２から密閉室Ｒ内の空気
を抜いて真空状態に保つ。その後、吸盤６１から手を離
すと、密閉室Ｒに通気孔６２から外気が流入し、真空状
態が開放され、頭皮に付着した育毛剤が毛穴に吸い込ま
れて浸透する。
に示す。第４実施例は、頭皮の任意の位置に吸盤を用い
て真空含浸を行うようにしたものである。吸盤６１は、
ゴム、樹脂等の弾性体からなるもので、天井部６１ａに
通気孔６２を有する。円形の吸着部６１ｂの内部に密閉
室Ｒが形成される。真空含浸を行う場合、図１０に示す
ように、頭皮の所定位置に育毛剤を滴下し、育毛剤を密
閉するように頭皮に吸盤をセットする。次いで、通気孔
６２を掌で塞ぐようにして天井部６１ａを数回押してポ
ンプ動作を繰り返し、通気孔６２から密閉室Ｒ内の空気
を抜いて真空状態に保つ。その後、吸盤６１から手を離
すと、密閉室Ｒに通気孔６２から外気が流入し、真空状
態が開放され、頭皮に付着した育毛剤が毛穴に吸い込ま
れて浸透する。
【００２４】ここで、前記吸盤６１による真空含浸方法
をより具体的に説明するため、ラバー板を用いた実験例
を図１１〜１４に示す。実験方法は、図１１に示すラバ
ー板６５に所定径の細孔６５ａを複数個形成し、この細
孔６５ａに前記吸盤６１を用いて育毛剤を真空含浸させ
ることにより行った。まず、図１１に示すように、ラバ
ー板６５に数ｍｍリットルの育毛剤の薬液Ｌをスポイト
で滴下する。このとき、薬液Ｌの表面張力によって各細
孔６５ａにはほとんど液は入らない。次に、図１２に示
すように、薬液Ｌを覆うようにラバー板６５の表面に吸
盤６１を押し当て、通気孔６２を手で塞ぎながら天井部
６１ａを数回押して密閉室Ｒの空気を抜く。このとき、
密閉室Ｒは真空状態に保持され、細孔６５ａの空気は、
気泡となって薬液表面に現れる。その後、図１３に示す
ように、通気孔６２を開放し、密閉室Ｒに外気を導入す
ると、薬液Ｌの一部が細孔６５ａに吸い込まれる。図１
４に示すように、ラバー板６５を撓ませて細孔６５ａを
開くと、細孔６５ａに吸い込まれた薬液Ｌを容易に確認
することができる。
をより具体的に説明するため、ラバー板を用いた実験例
を図１１〜１４に示す。実験方法は、図１１に示すラバ
ー板６５に所定径の細孔６５ａを複数個形成し、この細
孔６５ａに前記吸盤６１を用いて育毛剤を真空含浸させ
ることにより行った。まず、図１１に示すように、ラバ
ー板６５に数ｍｍリットルの育毛剤の薬液Ｌをスポイト
で滴下する。このとき、薬液Ｌの表面張力によって各細
孔６５ａにはほとんど液は入らない。次に、図１２に示
すように、薬液Ｌを覆うようにラバー板６５の表面に吸
盤６１を押し当て、通気孔６２を手で塞ぎながら天井部
６１ａを数回押して密閉室Ｒの空気を抜く。このとき、
密閉室Ｒは真空状態に保持され、細孔６５ａの空気は、
気泡となって薬液表面に現れる。その後、図１３に示す
ように、通気孔６２を開放し、密閉室Ｒに外気を導入す
ると、薬液Ｌの一部が細孔６５ａに吸い込まれる。図１
４に示すように、ラバー板６５を撓ませて細孔６５ａを
開くと、細孔６５ａに吸い込まれた薬液Ｌを容易に確認
することができる。
【００２５】このように第４実施例によれば、簡易型の
吸盤を用いることで、所望の位置に真空含浸を行うこと
が可能になる。したがって、頭皮の毛の少ない位置に部
分的に真空含浸を行ったり、また、頭部に限らず、体表
面の任意の位置に育毛剤を真空含浸させることができ
る。さらに、吸盤と育毛剤とをセットにして用いること
で、家庭などで手軽に真空含浸を行うこともできる。な
お、第４実施例では、吸盤の天井部に通気孔を設けて手
で塞ぐ構成としたが、その他の変形例としては、通気孔
に逆止弁等を設けてもよい。また、天井部に吸引ホース
を接続して真空ポンプにより真空状態を保つようにする
ことも可能である。
吸盤を用いることで、所望の位置に真空含浸を行うこと
が可能になる。したがって、頭皮の毛の少ない位置に部
分的に真空含浸を行ったり、また、頭部に限らず、体表
面の任意の位置に育毛剤を真空含浸させることができ
る。さらに、吸盤と育毛剤とをセットにして用いること
で、家庭などで手軽に真空含浸を行うこともできる。な
お、第４実施例では、吸盤の天井部に通気孔を設けて手
で塞ぐ構成としたが、その他の変形例としては、通気孔
に逆止弁等を設けてもよい。また、天井部に吸引ホース
を接続して真空ポンプにより真空状態を保つようにする
ことも可能である。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の育毛・発
毛用真空含浸方法およびその方法を用いる真空含浸装置
によれば、次のような効果を得ることができる。 ａ）育毛剤の薬液を毛穴に深く浸透させることができ、
毛根に育毛剤を確実に供給することができる。 ｂ）育毛剤の定期的な供給により、短期間で育毛剤の作
用を発揮させることができる。 ｃ）髪質、頭皮等の体質に影響されにくく、必要な育毛
剤の供給量を確実に頭皮に供給することができる。 ｄ）育毛剤の薬液の種類、濃度等の制限が少なく、使用
可能な育毛剤の幅が広範囲なものになる。
毛用真空含浸方法およびその方法を用いる真空含浸装置
によれば、次のような効果を得ることができる。 ａ）育毛剤の薬液を毛穴に深く浸透させることができ、
毛根に育毛剤を確実に供給することができる。 ｂ）育毛剤の定期的な供給により、短期間で育毛剤の作
用を発揮させることができる。 ｃ）髪質、頭皮等の体質に影響されにくく、必要な育毛
剤の供給量を確実に頭皮に供給することができる。 ｄ）育毛剤の薬液の種類、濃度等の制限が少なく、使用
可能な育毛剤の幅が広範囲なものになる。
【図１】本発明の育毛・発毛用真空含浸方法の作用を説
明するための毛根の式断面図である。
明するための毛根の式断面図である。
【図２】本発明の育毛・発毛用真空含浸方法の作用を説
明するための毛穴の真空状態を示す模式断面図である。
明するための毛穴の真空状態を示す模式断面図である。
【図３】本発明の育毛・発毛用真空含浸方法の作用を説
明するための育毛剤の含浸状態を示す模式断面図であ
る。
明するための育毛剤の含浸状態を示す模式断面図であ
る。
【図４】本発明の第１実施例による育毛・発毛用真空含
浸装置を示す概略構成図である。
浸装置を示す概略構成図である。
【図５】本発明の第１実施例による育毛・発毛用真空含
浸装置のヘヤキャップの使用状態を示す断面図である。
浸装置のヘヤキャップの使用状態を示す断面図である。
【図６】本発明の第２実施例による育毛・発毛用真空含
浸装置を示す概略構成図である。
浸装置を示す概略構成図である。
【図７】本発明の第３実施例による育毛・発毛用真空含
浸装置の部分構成図である。
浸装置の部分構成図である。
【図８】本発明の第３実施例による育毛・発毛用真空含
浸装置のヘヤキャップを示す部分拡大断面図である。
浸装置のヘヤキャップを示す部分拡大断面図である。
【図９】本発明の第４実施例の育毛・発毛用真空含浸方
法に用いる吸盤を示す半断面図である。
法に用いる吸盤を示す半断面図である。
【図１０】図９に示す吸盤の使用状態を示す斜視図であ
る。
る。
【図１１】本発明の第４実施例による育毛・発毛用真空
含浸方法を説明するための模式図である。
含浸方法を説明するための模式図である。
【図１２】本発明の第４実施例による育毛・発毛用真空
含浸方法を説明するための模式図である。
含浸方法を説明するための模式図である。
【図１３】本発明の第４実施例による育毛・発毛用真空
含浸方法を説明するための模式図である。
含浸方法を説明するための模式図である。
【図１４】本発明の第４実施例による育毛・発毛用真空
含浸方法を説明するための模式図である。
含浸方法を説明するための模式図である。
１ 育毛・発毛用真空含浸装置 ２ ヘヤキャップ ３ 貯留容器 ８ 真空開放バルブ １２ キャップ本体 １３ 伸縮バンド １５ 排気口 １６ 注入口 １７ 吸気口 ６１ 吸盤 ６２ 通気孔 Ｈ 毛孔 Ｌ 薬液 Ｍ 皮膜層 Ｐ1、Ｐ2 真空ポンプ Ｒ 密閉室 Ｖ 三方弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 茂幸 愛知県名古屋市中川区中郷三丁目41番地 (56)参考文献 特開 平１−146551（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−16955（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭57−41257（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A45D 19/00 - 19/16 A61K 7/06
Claims (3)
- 【請求項１】 被施術者の頭部に界面活性剤を散布して
頭皮を洗浄する工程、 前記頭部にヘヤキャップを取り付けて頭皮を密閉する工
程、 前記頭皮と前記ヘヤキャップとにより形成される密閉室
の空気を排気し、前記密閉室を真空状態に保持すること
で、前記頭皮の毛穴の空気を吸い出す工程、 前記密閉室を真空状態に保ったまま、前記密閉室に育毛
剤を供給して霧化させる工程、 前記密閉室の真空状態を開放し、前記密閉室の内気圧を
瞬間的に上昇させることにより、前記頭皮の毛穴に霧化
状態の前記育毛剤を吸い込ませる工程からなることを特
徴とする育毛・発毛用真空含浸方法。 - 【請求項２】 被施術者の頭皮を密閉するヘヤキャップ
と、前記頭皮と前記ヘヤキャップとにより形成される密閉室
を真空状態に保持し、前記頭皮の毛穴から空気を吸い出
す 真空ポンプと、 育毛剤の薬液を貯留する容器であって、真空状態の前記
密閉室に前記薬液を供給して霧化させる貯留容器と、 前記密閉室の真空状態を開放し、前記密閉室の内気圧を
瞬間的に上昇させることにより、前記頭皮の毛穴に霧化
状態の前記育毛剤を吸い込ませる真空開放バルブとを備
えたことを特徴とする育毛・発毛用真空含浸装置。 - 【請求項３】 被施術者の体表面に界面活性剤を散布し
て毛穴を洗浄する工程、 前記体表面の所定位置に育毛剤を塗布する工程、 前記育毛剤を塗布した体表面に通気孔付きの吸盤を当て
て、前記体表面と前記吸盤との間に密閉室を形成する工
程、前記通気孔を塞ぎながら前記吸盤を押すことで前記密閉
室から空気を抜き、前記密閉室を真空状態にして前記体
表面の毛穴から空気を吸い出す 工程、前記通気孔を開放することにより、前記密閉室の内気圧
を瞬間的に上昇させ、 前記毛穴に前記育毛剤を吸い込ま
せる工程からなることを特徴とする育毛・発毛用真空含
浸方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15012895A JP3160184B2 (ja) | 1995-05-18 | 1995-06-16 | 育毛・発毛用真空含浸方法およびその方法に用いる真空含浸装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11999095 | 1995-05-18 | ||
| JP7-119990 | 1995-05-18 | ||
| JP15012895A JP3160184B2 (ja) | 1995-05-18 | 1995-06-16 | 育毛・発毛用真空含浸方法およびその方法に用いる真空含浸装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0928448A JPH0928448A (ja) | 1997-02-04 |
| JP3160184B2 true JP3160184B2 (ja) | 2001-04-23 |
Family
ID=26457639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15012895A Expired - Lifetime JP3160184B2 (ja) | 1995-05-18 | 1995-06-16 | 育毛・発毛用真空含浸方法およびその方法に用いる真空含浸装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3160184B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101841147B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-03-22 | 조군자 | 모발 영양약물 공급가능한 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
| KR101841151B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-03-22 | 조군자 | 진동과 광조사 기능을 갖춘 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
| KR101841154B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-05-04 | 조군자 | 모발정리와 두피마사지를 겸한 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
| KR101841149B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-05-04 | 조군자 | 진동 마사지 기능을 갖춘 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1119221A (ja) * | 1997-06-30 | 1999-01-26 | Takayoshi Fukuyama | 育毛方法及びその装置 |
| JPWO2005061042A1 (ja) * | 2003-12-18 | 2007-12-13 | 株式会社シーエムエス | 育毛・発毛用真空含浸具 |
| US8571648B2 (en) | 2004-05-07 | 2013-10-29 | Aesthera | Apparatus and method to apply substances to tissue |
| KR101142267B1 (ko) * | 2009-01-23 | 2012-05-07 | (주)린채오투 | 네블라이저 어셈블리 |
| JP5777248B2 (ja) * | 2011-10-03 | 2015-09-09 | 株式会社リッツ・アーク | 液剤供給機能を備えた頭額部用空気圧マッサージ器 |
| JP6132417B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2017-05-24 | 株式会社シーエムエス | 毛髪修復方法および毛髪修復装置 |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP15012895A patent/JP3160184B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101841147B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-03-22 | 조군자 | 모발 영양약물 공급가능한 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
| KR101841151B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-03-22 | 조군자 | 진동과 광조사 기능을 갖춘 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
| KR101841154B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-05-04 | 조군자 | 모발정리와 두피마사지를 겸한 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
| KR101841149B1 (ko) | 2016-12-06 | 2018-05-04 | 조군자 | 진동 마사지 기능을 갖춘 헤어 석션 마사지용 석션컵 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0928448A (ja) | 1997-02-04 |
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