JP3115623B2 - スタティック型ram - Google Patents

スタティック型ram

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JP3115623B2
JP3115623B2 JP03053344A JP5334491A JP3115623B2 JP 3115623 B2 JP3115623 B2 JP 3115623B2 JP 03053344 A JP03053344 A JP 03053344A JP 5334491 A JP5334491 A JP 5334491A JP 3115623 B2 JP3115623 B2 JP 3115623B2
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厚 平石
英之 青木
聡 小口
禎幸 大熊
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、スタティック型RA
M(ランダム・アクセス・メモリ)に関し、例えば大記
憶容量化したものの欠陥救済技術に利用して有効な技術
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】スタティック型RAMの欠陥救済技術と
して、次のようなものが公知である。特開昭59−20
1298号公報においては、不良メモリセル、アクセス
トランジスタ、ビット線、プルアップトランジスタ、電
源ラインからなる電源電流経路の途中にヒューズ又はス
イッチなどの電力供給を遮断しうる電気的導通手段を設
けて、不良が発生したなら上記経路を遮断して無駄な直
流リークをなくすようにする。特開昭59−11010
0号公報においては、不良ビットを含む正規メモリセル
列又は正規メモリセル行への電力供給用経路をヒュー
ズ,スイッチなどの電気的導通手段でオフにして、不良
メモリセルのゲートリークやフィールドリークなどの直
流リーク電流の増加を防ぐようにする。また、特開昭5
9−178691号公報においては、ヒューズ手段を用
いて不良が発生したときには不良メモリセルを冗長用メ
モリセルで置換するとともに、不良メモリセルに対応す
るプリアップMOSFETを切断する。さらに、特開昭
59−188898号公報においては、不良救済時に負
荷MOSFET(プルアップMOSFET)の動作をY
デコーダの出力により禁止して不良データ線の電流消費
を制限する。特開昭61−222099号公報において
は、Yデコーダの出力により制御される不良ビット線の
プルアップ用MOSFETをオフにして電流消費を低減
させる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の欠陥救済技術に
おいては、ヒューズ手段の切断により正規回路と予備回
路との切り分けを行う。そのため、例えば約1Mビット
のような記憶容量を持つものでは、1024×1204
のメモリアレイを考えると、カラムデコーダの出力信号
を正規回路側か予備回路側のいずれかに伝えるために1
024×2個ものヒューズ手段を必要とし、不良メモリ
セル有無にかかわらずその半分である1024個もの
ヒューズ手段を切断しなければならない。また、前記の
ような直流リーク電流の発生を防ぐためには、相補ビッ
ト線対が1024×2個にもなるからそれに対応したヒ
ューズ手段が必要になる。約4Mビットもの記憶容量を
持つものでは、上記のようにカラム系だけでも上記の2
倍ものヒューズ手段が必要になる。実際のRAMでは、
ビット線長やワード線長が長くなりすぎないようにメモ
リアイレは複数に分割され、その分割数に対応して上記
ヒューズ手段もそれぞれに必要になるから、ヒューズ手
段の数が膨大になってしまうとともに、それを逐一切断
しなけばならないから製造上実際的ではない。また、ヒ
ューズ手段は、レーザー光線等の照射により選択的に切
断するものであるから比較的大きな専有面積を必要とし
集積化を妨げる。この発明の目的は、簡単な構成によ
り、大記憶容量化を図ったスタティック型RAMに適し
た欠陥救済技術を提供することにある。この発明の他の
目的は、簡単な構成により書き込み動作の高速化を実現
したスタティック型RAMを提供することにある。この
発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろ
う。
【0004】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、複数対の相補データ線(ビ
ット線又はディジット線ともいう)を1単位とし、複数
単位からなる相補データ線のうち上記1単位にそれぞれ
対応する相補データ線を共通相補データ線に接続するカ
ラム選択回路と、上記1単位に対応した予備相補データ
線対と予備カラム選択回路からなる冗長回路とを設ける
とともに上記カラム選択回路側に近接して相補データ線
の負荷MOSFET配置し、ヒューズ手段の切断によ
りデコーダ回路によるカラム選択動作を禁止するととも
に負荷MOSFETをオフ状態にし、ヒューズ手段の選
択的な切断により不良アドレスを記憶した冗長用デコー
ダにより不良アドレスへのアクセスを検出して冗長回路
のカラム選択回路の選択動作を行なわせる。また、上記
のような欠陥救済とともに又は別個にデコーダ回路に書
き込み制御信号を供給して書き込み動作のときに書き込
みが行われる相補データ線対の負荷MOSFETをオフ
状態にする。
【0005】
【作用】上記した手段によれば、複数対の相補データ線
1単位として欠陥救済を行うことにより、少ないヒュ
ーズ手段により正規回路と冗長回路との切り換えが可能
になる。また、高密度に形成されるデータ線ピッチには
制約されることなく効率よくヒューズ手段の実装スペー
スを確保することができ、しかも負荷MOSFETがカ
ラム選択回路に隣接して配置されるから直流電流不良を
防止するための回路が簡単にできるため大記憶容量化が
可能になる。さらに、負荷MOSFETがカラム選択回
路側に近接して設けられているからデコーダ回路による
制御が簡単となり、書き込み動作のときにそれをオフ状
態にすることにより高速書き込みも可能なる。
【0006】
【実施例】図1には、この発明に係るスタティック型R
AMの一実施例の要回路図が示されている。同図にお
いては、1単位としてのカラム系の欠陥救済回路(以
下、上記1単位をユニットと称する)が例示的に示され
ている。同図の各回路素子は、公知の半導体集積回路の
製造技術により、後述のような他の回路とともに1つの
半導体基板上において形成される。ユニットは8対の相
補データ線DL0,DL0〜DL7,DL7から構成さ
れる。同図では、そのうち相補データ線DL0,DL
、DL1,DL1及びDL7,DL7が代表として例
示的に示されている。これらの相補データ線DL0,
L0、DL1,DL1及びDL7,DL7は、カラム選
択回路を介して共通相補データ線CDL0,CDL0
CDL7,CDL7に接続される。データ線DL0,
L0に対応したカラム選択回路は、Nチャンネル型MO
SFETQ1とPチャンネル型MOSFETQ2及びN
チャンネル型MOSFETQ3とPチャンネル型MOS
FETQ4がそれぞれ並列形態にされた一対のCMOS
スイッチ回路から構成される。
【0007】例示的に示されている他の相補データ線D
L1,DL1及びDL7,DL7とそれぞれに対応した
共通相補データ線CDL1,CDL1及びCDL7,
DL7との間にも同様に並列形態にされたNチャンネル
型MOSFETとPチャンネル型MOSFETからなる
CMOSスイッチが設けられる。上記相補データ線DL
0,DL0のカラム選択回路に近接して、その負荷(又
はプルアップ用)MOSFETQ5,Q6が設けられ
る。特に制限されないが、これらの負荷MOSFETQ
5,Q6はPチャンネル型MOSFETが用いられる。
すなわち、これらのMOSFETQ5,Q6のソース側
には電源電圧VCCが接続れ、ドレイン側に相補データ
線DL0,DL0が接続される。例示的に示されている
他の相補データ線DL1,DL1及びDL7,DL7
も上記同様な負荷MOSFETが設けられる。これらの
負荷MOSFETのゲートは、共通化されて次に説明す
るデコーダ回路によりスイッチ制御される。
【0008】上記8対の相補データ線に対応したピッチ
に、単位のカラム(Y系)デコーダ回路UDCRが設け
られる。すなわち、横幅が相補データ線の8対分に対応
して単位デコーダ回路UDCRが配置される。相補デー
タ線は、大記憶容量化のためにメモリセルMCを構成す
る素子の微細化やレイアウトの工夫により、狭い間隔に
より高密度に配置される。それ故、相補データ線対に一
対一に対応してデコーダ回路を設けるようにすると、相
補データ線のピッチが比較的大きな専有面積を必要とす
るデコーダ回路側に合わせられるため高密度化が妨げら
れる。特に、欠陥救済を行うようにするためには、カラ
ム選択信号を形成するための論理回路の他、不良が発生
した相補データ線の選択を禁止するためのヒューズ回路
やゲート回路も必要になるためデコーダ回路の規模は益
々大きくなる。
【0009】この実施例では上記のように8対からなる
相補データ線をユニットとしてカラム選択動作を行わせ
るようにすることにより、それに対応したデコーダ回路
の横方向の間隔を相補データ線の8対分のように広く採
るものである。これにより、動作の有効/無効の制御を
行うヒューズ手段Fと、その切断の有無を検出して制御
信号INHを形成するMOSFETQ9及びインバータ
回路N3,N4を含めて上記カラム選択回路の選択信号
YS,YS及び負荷MOSFETの制御信号PLを形成
するゲート回路G1〜G4、インバータ回路N5,N6
等からなる比較的大きな回路規模のデコーダ回路UDC
Rを形成することができる。
【0010】特に制限されないが、アンドゲート回路G
1の入力には、図外のプリデコード回路により形成され
たプリデコード信号AY1と上記制御信号INHが供給
される。アンドゲート回路G2の入力には、ライトイネ
ーブル信号WEと図外のプリデコード回路により形成さ
れたプリデコード信号AY2が供給される。このゲート
回路G2の出力信号と上記ゲート回路G1の出力信号と
はナンドゲート回路G3に供給される。このゲート回路
G3の出力信号と、制御信号INHを受けるインバータ
回路N5の出力信号は、ノアゲート回路G4に入力され
その出力信号が上記負荷MOSFETQ5,Q6等のゲ
ートに供給される制御信号PLとして用いられる。上記
アンドゲート回路G1の出力信号とプリデコード信号A
Y2とはナンドゲート回路G5に入力され、その出力信
号がカラム選択回路を構成するPチャンネル型MOSF
ETQ2,Q4等のゲートに供給される選択信号YS
され、インバータ回路N6を通して反転された信号がカ
ラム選択回路を構成するNチャンネル型MOSFETQ
1,Q3等のゲートに供給される選択信号YSとされ
る。
【0011】ヒューズ手段Fは、それが切断されないと
きにはインバータ回路N3の入力に電源電圧VCCのよ
うなハイレベルの電圧を伝える。これにより、インバー
タ回路N3の出力信号がロウレベルになり、スイッチM
OSFETQ9をオフ状態にする。この結果、ヒューズ
手段FとMOSFETQ9との間で直流電流が消費され
てない。インバータ回路N3のロウレベルの出力信号は
インバータ回路N4を通してハイレベルの信号として出
力される。すなわち、ヒューズ手段Fが切断されないと
きには、上記デコーダ回路UDCRの動作が有効とさ
れ、プリデコード信号AY1,AY2やライトイネーブ
ル信号WEに対応して上記カラム選択回路や負荷MOS
FETの制御信号を形成する。これに対して、ヒューズ
手段Fが切断されると、インバータ回路N3の入力はリ
ーク等によりロウレベルになって出力信号をハイレベル
にする。これにより、MOSFETQ9がオン状態にな
るのでラッチがかかり電源が供給された状態では、イン
バータ回路N3の入力はロウレベルに固定される。した
がって、インバータ回路N4の出力信号INHはロウレ
ベルに固定される。ヒューズ手段Fが切断されたときに
は、上記デコーダ回路UDCRの動作が無効とされ、プ
リデコード信号AY1,AY2やライトイネーブル信号
WEに無関係に制御信号PLがハイレベルに、選択信号
YSがハイレベルに、YSがロウレベルに固定される。
これにより、カラム選択回路を構成するスイッチMOS
FETと負荷MOSFETとは共にオフ状態にされる。
これにより、相補データ線DL0,DL0〜DL7,
L7のいずれかに不良メモリセルがあっても、上記のよ
うに全相補データ線がフローティングにされるからメモ
リセルを通して直流電流が流れることが防止できる。
【0012】相補データ線DL0,DL0〜DL7,
L7は、メモリセルの入出力ノードが接続される。すな
わち、メモリセルMCは、入力と出力とが交差接続され
たCMOSインバータ回路N1,N2からなるラッチ回
路と、その入出力ノードを相補データ線に接続するアド
レス選択用のスイッチMOSFETQ7,Q8から構成
される。上記スイッチMOSFETQ7,Q8のゲート
は、ワード線WL0に接続される。上記ラッチ回路は、
CMOSインバータ回路N1とN2は、記憶用のNチャ
ンネル型MOSFETと、そのドレインと電源電圧との
間に設けられたポリシリコン等からなる高抵抗素子から
構成されてもよい。この抵抗素子は、記憶用MOSFE
Tのゲート容量に蓄積された情報電圧が、ドレインリー
ク電流等により失われない程度の極小さな電流供給能力
を持つようにされる。これにより、低消費電力化を図り
つつ、Nチャンネル型MOSFETとPチャンネル型M
OSFETからなるCMOSインバータ回路を用いる場
合に比べて、セルサイズを大幅に小さく形成することが
できる。
【0013】図2には、1つのメモリマットのレイアウ
ト図が示されている。特に制限されないが、ワード線は
WL0〜W511の512本から構成される。それ故、
1つのユニットに対応したメモリアレイは、8×512
の記憶容量を持つようにされる。同図のように1つのメ
モリマットは、8個のユニットから構成される。メモリ
セルアレイは、8×8×512(約32Kビット)のよ
うな記憶容量を持つ。カラムスイッチとメモリセルアレ
イとの間には、上記のようなDL(データ線)プルアッ
プ回路が設けられ、カラムスイッチの下側にはカラムデ
コーダが設けられる。特に制限されないが、メモリセル
アレイの512本のワード線は、サブワードドライバ
(ローカルドライバ)により選択動作が行われる。すな
わち、サブワードドライバは、主ワード線からの選択信
号とこのメモリマットに対応したカラム系の選択信号を
受けて、512本のワード線の中から1つのワード線を
選択状態にする。
【0014】図3は、メインワードドライバと、メモリ
マットの関係を示すレイアウト図である。メインワード
ドライバを中心にして、左右に8個ずつのメモリマット
が配置される。これにより、1つのメインワードドライ
バは、32K×16(約512Kビット)に対応したワ
ード線の選択を受け持つ。図4には、チップ全体のレセ
イアウト図が示されている。同図に示すように上記のメ
インワードドライバが全部で8個設けられるから、チッ
プ全体では約4Mビットのような記憶容量を持つように
される。チップは、長方形とされその長手方向の中央部
に間接周辺の各回路や端子が設けられる。すなわち、チ
ップのボンディングパッドとの接続はLOC技術により
行われる。この発明に直接関係がないので図示しない
が、例えば上記中央部に沿って延長される一対からなる
リードを設け、複数からなる電源用パッドと接地電位用
のパッドが設けられる。このようにリードフレームのよ
うな低抵抗値からなる配線材料により、チップに対して
複数箇所から電源電圧VCCや接地電位が与えられるか
ら、その電位が与えられる回路の電源インピーダンスを
小さく抑えることができる。これにより、回路の動作電
流による電源線や接地線には発生するノイズを小さく抑
えることができ、内部の回路の動作マージンや外部から
の入力信号のレベルマージンを大きくすることができ
る。
【0015】また、アドレス入力用のボンディングパッ
ドや制御入力用のボンディングパッドも上記のようにチ
ップの中央部に配置し、それに対応してアドレスバッフ
ァやプリデコーダ回路及びコントロール回路のような周
辺回路が近接して設けられる。この構成では、チップの
中央部から約放射状に信号線が延びるような構成にでき
るから、実質的な信号伝播距離をチップの大きさの約1
/2に短くすることができる。信号線の配線抵抗値は、
配線長に比例して大きくなり、配線容量も配線長に比例
して大きくなる。それ故、信号伝播遅延時間は、原理的
には信号伝播距離の二乗に比例して遅くなる。したがっ
て、上記のような信号伝播距離を実質的に1/2のよう
に短くすることにより、信号伝播遅延時間を1/4に減
らすことができる。
【0016】単位の冗長回路は、上記図2の1ユニット
に対応した回路から構成される。すなわち、8対の予備
相補データ線、予備プルアップ回路、予備カラムスイッ
チ及び冗長カラムデコーダから構成される。この構成
は、図1のものと対応している。ただし、冗長カラムデ
コーダは、不良アドレス記憶とその不良アドレスへのア
クセスを検出する機能を持。また、イネーブル用のヒ
ューズ手段が設けられ、前記正規のユニットとは逆に、
ヒューズ手段を切断すると上記不良アドレスへのアクセ
スを検出する機能や、カラムスイッチの選択信号を出力
する機能及びプルアップ用の負荷MOSFETをオン状
態にさせる機能が活性化される。このような冗長回路
は、前記図2のようなメモリマットの単位で設けられる
構成としてもよい。この構成では、対応するメモリマッ
トに不良があった場合には、そのメモリマット中の不良
メモリセルが存在するユニットの8対からな相補デー
タ線がカラムスイッチMOSFETのオフ状態、負荷M
OSFETのオフ状態により実質的切り離され、これ
に代わって冗長回路がアクセスされる。
【0017】上記のようにメモリマットに一対一に対応
して冗長回路を設ける構成では、冗長回路の使用効率が
悪くなる。そこで、図3のようなメインワードドライバ
を中心とする複数のメモリマットに対して複数からなる
冗長回路が設けられる。特に制限されないが、メインワ
ードドライバの左右に5ユニットずつの冗長回路が設け
られる。これらの5ユニットずつの冗長回路は、それぞ
れに対応する8個ずつのメモリマットに対して共通に使
用可能とされる。例えば、1つのメモリマットにおいて
2つのユニットに不良が発生した場合には、上記5ユニ
ットからなる冗長回路のうちの2つのユニットを用いて
救済が行われる。このような構成を採ることにより、1
つのメモリマットでの不良セルは最大5ユニットまで救
済可能になる。ただし、他のメモリマットでは不良が無
い場合である。
【0018】また、メインワードドライバが左右の8個
ずつのメモリマットに対して共通にワード線選択信号を
形成し、かつ上記8個ずつのメモリマットが共通の相補
データ線に接続される場合には、上記10個の冗長回路
を16個のメモリマットに対して共通に用いることがで
きる。なお、冗長回路のメモリセルアレイのワード線
は、メインワードドライバにより直接選択状態にされ
る。この他、冗長用のサブワードドライバを設け、メイ
ンワードドライバを中心とした左右のメモリマットに対
応したアドレスを利用し、5個ずつつ冗長回路のワード
線を選択するようにしてもよい。上記冗長回路の数は、
メインワードドライバの左右に1つのメモリマットに対
応した8ユニットずつを配置し、等価的に各メモリマッ
トに1個ずつの冗長回路を設けた場合と同じ構成にして
もよい。以上の実施例のように冗長回路の数とその配置
は、種々の実施形態を採ることができるものである。
【0019】図5には、1つのメモリマットに対応した
プリデコーダ回路と1つのユニットに対応した単位デコ
ーダ回路の他の一実施例の回路図が示されている。同図
の論理ゲートや、回路素子に付された回路記号は、前記
第1図に示したものと一部重複しているが、基本的には
それぞれは別個のものであると理解されたい。プリデコ
ーダ回路PDCRは、特に制限されないが、8つのメモ
リマットに共通に設けられる。前記のように約4Mビッ
トの記憶容量を持つ場合、カラム系のアドレス信号はA
0〜A10の11ビットから構成される。例えば、ロウ
系とカラム系の最上位の2ビットを用いて、図4のメモ
リチップは上下左右に4分割される。図4において、左
右の分割により相補データ線は等価的に1/2の長さに
分割される。この左又は右に分割された32個のメモリ
マットは、次位2ビットのアドレス信号A9、A8及び
A7、A6によりメインワードドライバを中心として左
右に配置される8個ずつのメモリマットに分割される。
【0020】図外のプリデコーダ回路では、上記4ビッ
トのアドレス信号A9〜A6を2ビットずつに分けて2
つのデコーダ回路により4本ずつのプリデコード出力信
号を形成する。このうの1/4ずつのデコード出力CA
3とCA2は、ナイドゲート回路G6に供給される。こ
れにより、8個のメモリマットに対応した選択信号が形
成される。この実施例では、各メモリマットにおける8
個のユニットに対応した多数のゲートが接続されること
による比較的大きな負荷を駆動するために、CMOSイ
ンバータ回路N8,N9とバイポーラ型トランジスタT
2からなる駆動回路が用いられる。すなわち、インバー
タ回路N8はエミッタフォロワトランジスタT2のベー
スに供給される駆動信号を形成する。インバータ回路N
9は、その出力端子が上記トランジスタT2のエミッタ
に接続される。トランジスタT2は、インバータ回路N
8のロウレベルからハイレベルへの変化を受けて、その
出力信号を高速にハイレベルに立ち上げる。ただし、ト
ランジスタT2のエミッタから出力される出力電圧は、
VCC−VBE(トランジスタT2のベース,エミッタ間
電圧)までとなる。この後は、そのエミッタに設けられ
たインバータ回路N9により電源電圧VCCまで立ち上
げられる。これにより、接地電位のようなロウレベルか
ら電源電圧VCCのようなハイレベルまで高速に立ち上
げることができる。
【0021】上記ナンドゲート回路G6の出力信号は、
CMOSインバータ回路N7を介してナンドゲート回路
G7の一方の入力に供給される。このナンドゲート回路
G7の他方のゲートにはライトイネーブル信号WEが供
給される。このナンドゲート回路G7の出力信号はイン
バータ回路N10を介して、次に説明するような8個か
らなるユニットにそれぞれ対応したデコーダ回路に共通
に供給される。
【0022】単位のデコーダ回路には、残りのアドレス
信号A5〜A3の3ビットのアドレス信号から形成され
る1/8のプリデコード出力CA1が供給される。この
プリデコード出力CA1は、ナンドゲート回路G1に供
給される。このナンドゲート回路G1の他方の入力に
は、前記同様なヒューズ手段とMOSFETQ1,Q2
及びインバータ回路N1,N2からなる制御回路により
形成れた制御信号INHが供給される。この実施例で
は、ヒューズ手段Fに対して高抵抗値を持つようにされ
たプルダンウMOSFETQ1が設けられる。このナン
ドゲート回路G1の出力信号はCMOSインバータ回路
N3を介してナンドゲート回路G2,G3の一方の入力
に供給される。これらナンドゲート回路G3,G2は、
インバータ回路N8,N9と対応しており、その出力信
号が出力トランジスタT1のベースとエミッタに供給さ
れる。このトランジスタT1のエミッタからNチャンネ
ル型のカラムスイッチトランジスタを制御する選択信号
YSが形成され、インバータ回路N4を通してPチャン
ネル型のカラムスイッチトランジスタを制御する選択信
YSが形成される。
【0023】この実施例では、CMOS回路にあっては
出力信号のハイレベルがPチャンネル型MOSFETの
導通により形成される。Pチャンネル型MOSFET
は、単位サイズ当たりの電流駆動能力が小さい。それ
故、上記のようなバイポーラ型トランジスタを用いてア
クティブレベルがハイレベルとされる選択信号YSの立
ち上がりを高速にする。これに対して、ロウレベルがア
クティブレベルとされる選択信号YSは、単位サイズ当
たりの電流駆動能力が大きなNチャンネル型MOSFE
Tにより形成されるから上記CMOSインバータ回路N
4により直接形成される。上記インバータ回路N3の出
力信号とプリデコーダ回路PDCRのインバータ回路N
10の出力信号とはアンドゲート回路G4に供給され
る。このアンドゲート回路G4の出力信号と、制御信号
INHを受けるインバータ回路N5の出力信号とはノア
ゲート回路G5の入力に供給される。このノアゲート回
路G5の出力信号は、インバータ回路N6を通して負荷
MOSFET(プルアップ)に供給される制御信号PL
して出力される。この場合でも、ロウレベルがアクティ
ブレベルにされる信号PLを出力するものであるから、
前記同様にCMOSインバータ回路N6により出力信号
が形成される。
【0024】上記プリデコーダPDCRにより形成され
たデコード出力は、上記1/8のプリデコード信号CA
1’を受ける他のデコーダ回路UDCR1等を含めて残
り7個のデコーダ回路に共通に供給される。1つのメモ
リマットにおける8個のデコーダ回路では、上記プリデ
コーダ回路PDCRの出力を共通とし、3ビットのアド
レス信号A5〜A3から形成される8通りのデコード出
力のいずれかが供給されることにより、1つのユニット
に対応したカラム選択信号YS,YS及びライトイネー
ブル信号WEにより、前記のように書き込みが行われる
ユニットの負荷MOSFETをオフ状態にする制御信号
PLを形成することができる。そして、上記ヒューズF
を切断すると、その制御信号INHのロウレベルによ
り、カラム選択信号YSがロウレベルに、YSがハイレ
ベルに固定されてカラムスイッチMOSFETがオフ状
態に維持されるとともに、信号PLがハイレベルに固定
されて負荷MOSFETがオフ状態に維持される。これ
により、不良セルにおいて相補データ線との間で直流電
流を流すような電流パスがあっても、上記のような相補
データ線を実質的に切り離すことにより直流電流が流れ
るのを阻止できるものとなる。残り3ビットのアドレス
信号A0〜A2は、上記ユニットの中の1つの相補デー
タ線を選択するために用いられる。例えば、8ビットの
単位でのメモリアクセスが行われるものでは、これらの
アドレス信号は縮退される。4ビットの単位でのメモリ
アクセスが行われるものでは下位2ビットのアドレス信
号A0,A1が縮退される。このようなビット構成は、
ボンディングオプション等により切り換え可能にされ
る。
【0025】図6には、冗長回路に設けられるデコーダ
回路の一実施例の回路図が示されている。この実施例
は、上記図5に示した正規回路のデコーダ回路に対応し
ている。それ故、同じ論理機能を持つゲート回路には同
じ回路記号が付加されている。冗長回路は、正規回路と
は逆にヒューズ手段Fの切断により回路が活性化され
る。このため、前記ようなヒューズ回路の出力にインバ
ータ回路N11を追加し、ヒューズ手段Fが切断される
と、ハイレベルのアクティブレベルにされる制御信号E
Nが形成される。不良ユニットのアドレスに対応したプ
リデコード出力信号が供給されるナンドゲート回路に
は、1/8のプリデコードのうちのいずれかを選択する
ための8個のヒューズ手段が設けられる。この8個のヒ
ューズ手段のうち不良ユニットのアドレスに対応したも
のを除く7個のヒューズが切断されることにより、その
アドレス記憶が行われる。この冗長回路を16個のメモ
リマットのいずれかの不良ユニットの救済に用いること
ができるようにするため、ナンドゲート回路G6の入力
には、前記プリデコード出力CA3,CA2に対応して
それぞれ1/4ずつのプリデコード出力の選択を行う4
個ずつのヒューズ手段が設けられる。これにより、不良
ユニットが存在するメモリマットのアドレス記憶が行わ
れる。
【0026】上記不良アドレス記憶を行うヒューズ手段
が切断されない状態において、前記プリデコード出力の
競合を防止するため、その入力側にスイッチが設けられ
る。このスイッチは、特に制限されないが、前記カラム
スイッチと同様にNチャンネル型MOSFETとPチャ
ンネル型MOSFETとを並列接続したCMOSスイッ
チ回路から構成される。このCMOSスイッチは上記制
御信号ENによりスイッチ制御される。上記ヒューズ手
段Fを切断しない状態では、制御信号ENがロウレベル
となって上記スイッチをオフ状態にする。これにより、
それぞれのプリデコード出力が不良アドレス記憶用のヒ
ューズ手段を介して競合してしまうこうとがない。そし
て、この冗長回路を欠陥救済に用いる場合には、上記ヒ
ューズ手段Fが切断されて制御信号ENがハイレベルに
される。これにより、上記スイッチはオン状態にされ
る。このときには、それぞれのプリデコード出力に対し
て1つのヒューズ手段を残して、他のヒューズ手段が切
断されてアドレス記憶とともにその不良アドレスへのア
クセスが検出される。なお、上記スイッチはヒューズ手
段の出力側(共通接続点側)に設ける構成としてもよ
い。
【0027】冗長回路を4個のメモリマットの何れかの
不良ユニットの救済に用いるようにする場合には、ナン
ドゲート回路G6の一方の入力には、アドレス信号A9
とA7により形成されたプリデコード出力が固定的に供
給される。この構成では、1つの冗長回路に設けられる
ヒューズ手段の数を4個減らすことができる。このよう
に冗長回路の使用効率と、必要なヒューズ手段の数とは
相反する関係にある。したがって、冗長回路をどの範囲
までのメモリマットまで欠陥可能にするかは、不良発生
率とヒューズ手段に割り当て可能な専有面積から最適値
が選ばれるようにされる。
【0028】不良ユニットに代えて使用される冗長回路
においても、ライトイネーブル信号WEを入力し、その
冗長回路に書き込みが行われるときには負荷MOSFE
Tをオフ状態にする。これにより、書き込みアンプによ
り形成された書き込み信号が共通相補データ線、カラム
スイッチを介して相補データ線に伝えられると、書き込
みアンプの出力インピーダンスをそれほど小さくするこ
となく、相補データ線の信号振幅を大きくできるから高
速書き込みが可能になる。また、書き込み後の相補デー
タ線のライトリカバリーは、負荷MOSFETのコンダ
クタンスを比較的大きく設定することにより書き込み終
了後の負荷MOSFETのオン状態により高速に行われ
る。このことは、正規回路の各ユニットにおいても同様
である。
【0029】上記のような書き込み方式は、前記のよう
な欠陥救済技術とは独立して用いることができる。すな
わち、カラムスイッチに近接して負荷MOSFETを配
置するという構成を採ることにより、負荷MOSFET
をカラムスイッチに供給される選択信号を形成するデコ
ーダの出力信号を利用して簡単に制御できるからであ
る。すなわち、前記実施例のようにデコーダ回路に書き
込み動作を指示するライトイネーブ信号WE等を供給
して上記カラム選択信号とを組み合わせることにより、
実際に書き込みが行われる相補データ線に対応した負荷
MOSFETをオフ状態にできる。これにより、相補デ
ータ線のそれぞれに1つの負荷MOSFETを用い、そ
のコンダクタンスを読み出しのみを考慮して比較的大き
く設定して読み出し時の信号振幅を制限して読み出しの
高速化を図りつつ、書き込み動作のときに負荷MOSF
ETをオフ状態にして高速書き込みが可能になる。ま
た、上記のように負荷MOSFETのコンダクタンスが
比較的大きく設定されることにより、格別なライトリカ
バリ回路を設けることなく、書き込み後の読み出し動作
も高速にできる。
【0030】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 複数対の相補データ線からなるユニット単位で
それぞれ対応する相補データ線を共通相補データ線に接
続するカラム選択回路と、上記ユニットに対応した相補
データ線対とカラム選択回路からなる冗長回路とを設け
るとともに上記カラム選択回路側に近接して相補データ
線の負荷MOSFET配置し、ヒューズ手段の切断によ
りデコーダ回路によるカラム選択動作を禁止するととも
に負荷MOSFETをオフ状態にし、ヒューズ手段の選
択的な切断により不良アドレスを記憶した冗長用デコー
ダにより不良アドレスへのアクセスを検出して冗長回路
のカラム選択回路の選択動作を行なわせる。この構成に
おいては、不良ユニットでは相補データ線が実質的に切
り離されるからそこでの直流リーク電流の発生を防止で
き、上記ユニット単位での冗長回路への切り換えを行う
ことにより、メモリアレイで相補データ線の配列を犠牲
にすることなく、上記のようなヒューズ手段を含む切り
換え回路を効率よく形成することができるという効果が
得られる。 (2) 冗長回路を複数のメモリマットに対して共通に
用いるようにすることより、冗長回路の使用効率、言い
換えるならば単位冗長回路による欠陥救済率を高くする
ことができるという効果が得られる。 (3) 不良発生時に負荷MOSFETをオフ状態にす
る信号線や論理回路を利用し、書き込み動作のときに実
際に書き込みが行われる負荷MOSFETをオフ状態に
することにより、書き込み動作の高速化が可能になると
いう効果が得られる。 (4) 負荷MOSFETをカラム選択回路側に近接し
て設けるとともにそのコンダクスタンスを読み出し動作
に対応して比較的大きく設定し、カラム選択を行うデコ
ーダ回路に書き込み制御信号も供給して書き込み動作の
ときに上記負荷MOSFETをオフ状態にすることによ
り、簡単な構成により書き込み/読み出しのメモリアク
セスの高速化が可能になるという効果が得られる。
【0031】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、
不良アドレスはヒューズ手段の切断の有無により情報保
持を行うラッチ回路と、その記憶情報とアドレス信号と
を排他的論理和回路や論理和回路を用いたコンパレータ
により比較する構成を採るものであってもよい。ヒュー
ズ手段は、ポリシリコン層や細いアルミニュウム配線を
用い、それをレーザー光線等のようなエネルギービーム
により切断するもの他、ポリシリコン層に比較的大きな
電流を流して溶断させるもの、アルイハポリシリコン層
にレーザーアルニール施してその抵抗値を変化させるこ
とにより等価的に切断と同様な電気的特性の変化を生じ
しめるようにするもの等種々の実施例形態を採ることが
できる。
【0032】スタティック型RAMの半導体チップ上の
レイアウトは前記実施例の他、メモリマット群をチップ
の中央部に配置し、周辺回路をチップの周辺に配置する
等種々の実施形態を採ることができる。スタティック型
RAMの周辺回路は、CMOS回路とバイポーラ型トラ
ンジスタを組み合わせたBi−CMOS回路から構成さ
れてもよい。入出力インターフェイスは、CMOSイン
ターフェイスの他、TTLインターフェイスあるいはE
CLインターフェイスを採るものであってもよい。な
お、ECLインターフェイスを採る場合には、動作電圧
としては負電圧−VEEが用いられる。低消費電力化と
高速化のために内部回路の動作電圧は3V程度に低く設
定するものであってもよい。この場合、5V系のスタテ
ィック型RAMとの互換性を持たせるために、外部から
は5V系の電源電圧を供給し、それを内部降圧回路で降
圧して上記約3V程度の電圧にするものであってもよ
い。この場合には、入力バッファや出力バッファには、
5V系の信号に変換するめたのレベル変換機能が付加さ
れる。この発明は、スタティック型RAMとして広く利
用できる。
【0033】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、複数対の相補データ線から
なるユニット単位でそれぞれ対応する相補データ線を共
通相補データ線に接続するカラム選択回路と、上記ユニ
ットに対応した相補データ線対とカラム選択回路からな
る冗長回路とを設けるとともに上記カラム選択回路側に
近接して相補データ線の負荷MOSFET配置し、ヒュ
ーズ手段の切断によりデコーダ回路によるカラム選択動
作を禁止するとともに負荷MOSFETをオフ状態に
し、ヒューズ手段の選択的な切断により不良アドレスを
記憶した冗長用デコーダにより不良アドレスへのアクセ
スを検出して冗長回路のカラム選択回路の選択動作を行
なわせる。この構成においては、不良ユニットでは相補
データ線が実質的に切り離されるからそこでの直流リー
ク電流の発生を防止でき、上記ユニット単位での冗長回
路への切り換えを行うことにより、メモリアレイで相補
データ線の配列を犠牲にすることなく、上記のようなヒ
ューズ手段を含む切り換え回路を効率よく形成すること
ができ、書き込み時に上記負荷MOSFETをオフ状態
にすることにより高速書き込みが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係るスタティック型RAMの一実施
例を示す要図回路図である。
【図2】この発明に係るスタティック型RAMにおける
メモリマットの一実施例を示すレイアウト図である。
【図3】この発明に係るスタティック型RAMにおける
メインワードドライバを中心にしたメモリマットの一実
施例を示すレイアウト図である。
【図4】この発明に係るスタティック型RAMの一実施
例を示すチップレイアウト図である。
【図5】この発明に係るスタティック型RAMにおける
メモリマットに対応したプリデコーダ回路とデコーダ回
路の他の一実施例を示す回路図である。
【図6】この発明に係るスタティック型RAMにおける
冗長回路に対応したデコーダ回路の一実施例を示す回路
図である。
【符号の説明】
UDCR,UDCR0,UDCR1…単位デコーダ回
路、PDCR…プリデコーダ回路、MC…メモリセル、
DL0,DL0〜DL7,DL7…相補データ線、CD
L0,CDL0〜CDL7,CDL7…共通相補データ
線、Q1〜Q8…MOSFET、G1〜G7 …ゲート回
路、N1〜N11…インバータ回路、T1,T2…バイ
ポーラ型トランジスタ、F…ヒューズ手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小口 聡 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日 立製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 大熊 禎幸 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日 立製作所デバイス開発センタ内 (56)参考文献 特開 昭59−135700(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 29/00 G11C 11/413 H01L 21/82 H01L 27/10

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のワード線と複数の相補データ線対
    との交点の各々に設けられた複数のメモリセルを備えた
    正規メモリアレイと、 前記 相補データ線対の複数を1単位とし、かかる複数の
    相補データ線対に一対一に対応して設けられた複数から
    なる共通相補データ線対に接続させるカラム選択回路
    と、前記カラム選択回路に隣接して設けられ、前記相補デー
    タ線と第1電圧端子との間に設けられた負荷 MOSFE
    Tと、前記1単位の相補データ線対に対応して設けられ、 第1
    のヒューズ手段を備え、前記第1のヒューズ手段の非切
    断又は切断状態の一方のときにY系のアドレス信号に対
    応して上記カラム選択回路を選択状態にする第1動作
    と、非切断又は切断状態の他方のときにY系のアドレス
    信号に無関係にカラム選択回路を非選択状態にするとと
    もに上記負荷MOSFETをオフ状態にさせる第2動作
    とを行うカラムデコーダ前記複数のワード線と前記複数の共通相補データ線対の
    数に対応された複数の予備相補データ線対との交点の各
    々に設けられた複数の予備メモリセルを備えた予備アレ
    イと、 前記予備アレイの複数の相補データ線対を一対一に対応
    して前記複数からなる共通相補データ線対に接続させる
    予備カラム選択回路と、前記予備カラム選択回路に隣接して設けられ、前記予備
    アレイの相補データ線と第1電圧端子との間に設けられ
    た予備負荷MOSFETと、 前記予備アレイに対応して設けられ、第2のヒューズ手
    段を備え、前記第2のヒューズ手段が非切断又は切断状
    態の一方のときに前記Y系のアドレス信号に無関係に上
    記カラム選択回路を非選択状態にする第3動作と、非切
    断又は切断状態の他方のときに前記Y系のアドレス信号
    と記憶された不良アドレスとを比較して、その一致信号
    に応答して上記予備カラム選択回路を選択状態にする第
    4動作とを行う 冗長用カラムデコーダを備えてなるこ
    とを特徴とするスタティック型RAM。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記予備アレイ、予備カラム選択回路、予備負荷MOS
    FET及び冗長用カラムデコーダは、前記正規メモリア
    レイの複数単位の相補データ線対、カラム選択回路、負
    荷MOSFET及びカラムデコーダのいずれか1単位に
    置き換え可能に設けられる ことを特徴とするスタティッ
    ク型RAM。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2において、上記冗長用カラムデコーダは、複数からなる第3のヒュ
    ーズを備え、上記予備カラム選択回路を選択状態にする
    ための前記Y系アドレスに対応した選択信号を伝えるヒ
    ューズ手段を残して他を切断することにより不良アドレ
    スの記憶を行ない、上記第3のヒューズ手段を伝達経路
    として前記Y系の選択信号を伝えることにより上記一致
    信号を形成する ことを特徴とするスタティック型RA
    M。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、 前記カラムデコーダ及び冗長用カラムデコーダは、前記
    メモリセルへのデータの書き込み動作のときに、書き込
    み制御信号に応答して選択される相補データ線の前記負
    荷MOSFETをオフ状態にするゲート回路を備えてな
    ことを特徴とするスタティック型RAM。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかにおいて、 前記1単位に対応した複数の相補データ線対、カラム選
    択回路、負荷MOSFET及びカラムデコーダの複数に
    より一つのメモリマットが構成され、 前記メモリマットに前記ワード線を選択するサブワード
    ドライバが設けられ、 前記メモリマット及びサブワードドライバの複数個に1
    つのメインワードドライバが設けられ、 前記複数のメモリマットの複数単位の相補データ線対、
    カラム選択回路、負荷MOSFET及びカラムデコーダ
    のいずれか1単位に置き換え可能に前記予備アレイ、予
    備カラム選択回路、予備負荷MOSFET及び冗長用カ
    ラムデコーダが設けられる ことを特徴とするスタティッ
    ク型RAM。
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