JP3107516B2 - 複合センサ - Google Patents

複合センサ

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JP3107516B2 JP08110731A JP11073196A JP3107516B2 JP 3107516 B2 JP3107516 B2 JP 3107516B2 JP 08110731 A JP08110731 A JP 08110731A JP 11073196 A JP11073196 A JP 11073196A JP 3107516 B2 JP3107516 B2 JP 3107516B2
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    • G01N33/18Water

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、工業計測の分野、
あるいは農業用水や浄水場等で水位、流量、温度、さら
に水質等を検出する複合センサに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の複合センサの例としては、インテ
リジェント差圧伝送器のセンシング部に用いられるピエ
ゾ抵抗式の複合センサがある。この複合センサは、差圧
センサ、静圧センサ及び温度センサが1つの基板上に形
成され、静圧センサ及び温度センサからの出力信号を用
いて、差圧センサの出力を補正し、高精度に差圧を計測
する構成となっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、貯水池にお
いては、酸性雨や周囲の地質のために水の酸性化が進
み、貯水池における水質の悪化が問題となってきてい
る。さらに、貯水池においては、季節によって河川の水
量が変動するため、水位を正確に検出し、一定となるよ
うに、制御する必要がある。
【0004】また、稲作では、人間がいくつもの給水バ
ルブ、排水バルブの開閉を行っているため、小雨期、多
雨期には、水田を適切な水位に保つのに多くの労力と経
費とを必要とし、少人数では大面積の水田を管理するこ
とが困難であった。
【0005】さらに、水田においては、水質の管理や水
田にとけ込む肥料の量の測定を行う場合は希であり、こ
のため、追肥時期の把握が遅れたり、あるいは過剰に肥
料を与えすぎて、稲の生育に悪影響を及ぼしてしまうと
いう問題もあった。また、大規模水田では、パイプライ
ンを用いて、水を水田に圧送するため、その給水量を正
確に検出し、調整する必要がある。
【0006】したがって、貯水池や水田においては、水
位又は流量と水質とを正確に検出する必要がある。
【0007】そこで、貯水池や水田において、水位、流
量、水質を上記複合センサを用いて検出することが考え
られるが、水位センサ、圧力センサ、水質センサとして
の単独の機能を有する複数のセンサを使用しなければな
らず、その取扱いや管理が非常に煩雑となってしまう。
【0008】このため、水位と水質又は流量と水質を一
つのセンサで測定可能な複合センサの実現が望まれてい
る。したがって、本発明の目的は、貯水池や水田等の貯
水系において、水位と水質又は流量と水質を、一つのセ
ンサで検出可能な複合センサを実現することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
(1)上記目的を達成するため、本発明は次のように構
成される。すなわち、複合センサにおいて、被測定体が
発生する圧力に応じて変位するダイアフラムを有する圧
力センサと、圧力センサに接合され、ダイアフラムに被
測定体が発生する圧力を導入する第1の圧力導入口を有
するとともに、その表面に第1の導電膜とを有する第1
の基板と、被測定体が発生する圧力を、第1の圧力導入
口を介してダイアフラムに導入する第2の圧力導入口を
有するとともに、第1の導電膜に対向する位置に第2の
導電膜を有し、第1の基板と所定の間隔だけ離間して配
置される第2の基板と、第1の導電膜と、第2の導電膜
との間に導入された被測定体の導電率及び誘電率を測定
するとともに、圧力センサからの出力信号から被測定流
体の圧力を測定する信号処理部とを備えるものとする。
【0010】導電率又は誘電率を水質として検出可能で
あるため、水位(圧力)と水質又は流量(圧力)と水質
を、一つのセンサで検出可能な複合センサを実現するこ
とができる。
【0011】(2)上記(1)において、好ましくは、
圧力センサが有するダイアフラムは、単結晶シリコンか
らなり、この単結晶シリコンからなるダイアフラムに感
温度素子が配置され、信号処理部は、感温度素子からの
出力信号から、圧力センサが配置された位置における温
度も測定する。
【0012】(3)上記(1)において、また、好まし
くは、圧力センサのダイアフラムの一方の面には感歪抵
抗素子が配置され、ダイアフラムの他方の面側に第1の
基板が接合される。
【0013】(4)上記(1)において、また、好まし
くは、圧力センサのダイアフラムの一方の面には感歪抵
抗素子が配置され、この感歪抵抗素子が配置されたダイ
アフラムの一方の面側に第1の基板が接合される。
【0014】(5)上記(1)において、また、好まし
くは、第1の基板のダイアフラムに対向する面には、第
1の電極板が配置され、ダイアフラムを間にして、第1
の電極板と対向する第2の電極が配置されるとともに、
圧力センサのダイアフラムは導電性の電極であって、信
号処理部は、第1の電極板とダイアフラムとの間の静電
容量と、第2の電極板とダイアフラムの間の静電容量と
の差に応じて、被測定体が発生する圧力を測定する。
【0015】
【0016】
【0017】(6)上記(1)において、また、好まし
くは、第1の基板と第2の基板との少なくとも一つの基
板には、一方の面に形成された導電膜と他方の面に形成
される導電膜とを電気的に接続するための貫通孔が形成
されている。
【0018】()上記(1)において、また、好まし
くは、第1の導電膜と第2の導電膜とは、信号処理部に
接続された端子と電気的配線を介して接続され、この電
気的配線と第1の導電膜、第2の導電膜及び端子との接
続部分を被測定体から保護するための上蓋部材が、少な
くとも第2の基板に接合される。 ()上記(1)において、また、好ましくは、第1の
圧力導入口及び第2の圧力導入口を介して導入される圧
力は、ダイアフラムの一方の面に導入され、ダイアフラ
ムの他方の面は、この他方の面を被測定体から隔離する
ための隔離室に配置される。
【0019】()上記()において、また、好まし
くは、隔離室には、被測定体の圧力を導入するための、
少なくとも一つの圧力導入路が形成される。
【0020】(10)上記()において、また、好ま
しくは、被測定体は、液体であり、第1及び第2の圧力
導入口を介して液体により発生される圧力が、ダイアフ
ラムの一方の面に導入され、隔離室には、ダイアフラム
の他方の面に大気の圧力を導入するための、圧力導入路
が形成される。
【0021】(11)上記()において、また、好ま
しくは、被測定体は、配管内に流れる流体であり、この
配管内に形成されたオリフィスの上流側の流体により発
生される圧力が、第1及び第2の圧力導入口を介して、
ダイアフラムの一方の面に導入され、隔離室には、オリ
フィスの下流側の流体により発生される圧力が、ダイア
フラムの他方の面に導入するための、圧力導入路が形成
される。
【0022】(12)上記(10)において、好ましく
は、信号処理部の少なくとも一部は液体の外に配置さ
れ、圧力センサと信号処理部とを接続する信号配線は防
水性の信号配線であり、信号処理部と圧力センサとが分
割されている。
【0023】(13)上記(10)において、また、好
ましくは、信号処理部の少なくとも一部は液体の外に配
置され、圧力導入路は、信号処理部と隔離室との間に接
続され、圧力センサと信号処理部とを接続する信号配線
が、圧力導入路に配置され、信号処理部と圧力センサと
が分割されている。
【0024】(14)また、流体を貯え得る貯水部と、
この貯水部に流体を流入させる調節弁を有する給水部
と、貯水部から流体を流出させる調節弁を有する排水部
と、貯水部の水位を給水部の調節弁及び排水部の調節弁
を調節して制御する制御部とを備える流体管理システム
において、貯水部には、上記複合センサが配置され、制
御部は、複合センサからの出力信号に基づいて、貯水部
の水位を調節弁を調節して制御するとともに、貯水部に
貯えられた流体の水質を導電率として検出し、検出した
導電率が、所定範囲外となったときは警報を発生する。
【0025】水位と温度と水質とが一つのセンサで測定
可能であるため、その取扱いや管理が容易であるととも
に、貯水部への設置及び配線等も容易となる。
【0026】(15)また、複合センサの製造方法にお
いて、絶縁性の第1の基板に、貫通孔である第1の圧力
導入口を形成するとともに、この第1の基板の少なくと
も一方の表面に第1の導電膜を形成する工程と、絶縁性
の第2の基板に、貫通孔である第2の圧力導入口を形成
するとともに、この第2の基板の少なくとも一方の表面
に第2の導電膜を形成する工程と、第1の基板の他方の
面に、圧力センサのダイアフラムが、第1の圧力導入口
と対向するように、圧力センサを接合する工程と、第1
の基板の一方の面に形成された第1の導電膜と第2の基
板の一方の面に形成された第2の導電膜とを対向させる
とともに、第1の圧力導入口と第2の圧力導入口とを対
向させて、絶縁性のスペーサを第1の基板と第2の基板
とに接合する工程と、接続端子と凹部とを有する密封部
材を、この凹部により圧力センサが包囲されるように、
第1の基板に接合する工程と、密封部材の接続端子と、
第1の導電膜、第2の導電膜及び圧力センサとを配線接
続する工程とを備える。
【0027】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1の実施形態
である複合センサの概略構成断面図である。図1におい
て、圧力センサ1は、ピエゾゲージ式や蒸着ゲージ式等
の単結晶シリコンからなるダイアフラム(加えられる圧
力に応じて変位する)を有し、そのダイアフラムの表面
にはゲージ抵抗が形成されている。そして、この圧力セ
ンサ1は、ダイヤフラムのゲージ抵抗が形成されていな
い面が、第1のガラス基板(下側基板(たとえば、ホウ
珪酸ガラス))2と対向するように、この第1ガラス基
板2に接合される。
【0028】また、第1ガラス基板2は、上記圧力セン
サ1が接合された面と反対側の面は、ガラスやセラミッ
ク等からなる厚みの均一な絶縁性のスペーサ4を挟んで
第2のガラス基板(上側基板)3と接合される。
【0029】これら第1ガラス基板2及び第2ガラス基
板とには、互いに対向する貫通孔である第1圧力導入口
21、第2の圧力導入口31が形成されている。そし
て、圧力導入口21と圧力センサ1のダイアフラムとが
対向するように、これら第1ガラス基板2と圧力センサ
1とが互いに接合されている。そして、これら圧力導入
口21及び31を介して、圧力センサの外界の圧力が圧
力センサ1に導かれる。圧力検出の原理については、図
2及び図3を参照して述べるので、ここでは、主に構成
について記載する。
【0030】図1において、圧力センサ1は、上述した
ように、ゲージ抵抗が形成されていない面側が第1ガラ
ス基板2に接合されているので、ゲージ抵抗が形成され
ていない面側に測定流体が導入される。このため、ゲー
ジ抵抗等は測定流体に接触することが無く、素子が測定
流体により汚染されることは無い。したがって、圧力検
出特性等の検出特性の劣化やドリフト等を防止すること
ができる。さらに、腐食性の流体の流量等を測定する場
合には、酸化膜、窒化膜、Au、Pt等の非腐食性膜を
パッシベーションとして圧力検出センサ1に成膜するこ
とにより、耐腐食性を向上することが可能である。
【0031】ガラス基板2と3とには、これらが互いに
対向する面に、金属等からなる第1の導電膜23と第2
の導電膜33とが形成されている。これらガラス基板2
及び3に用いる導電膜23、33も圧力センサ1のパッ
シベーションと同様に、Au、Pt等の非腐食性の材質
を用いることによって、酸、アルカリに強いセンサとす
ることができる。また、ITO(Indium tin oxide)の
ような透明の導電膜を用いれば、観察が可能となり、基
板の製造が容易となる。
【0032】導電膜23、33を電極板として、これら
の電極板23と33との間の電圧、静電容量を測定すれ
ば、電極板23と33との間に存在する被測定物の導電
率、誘電率を測定することができる。
【0033】以下に、導電率、誘電率の測定原理を述べ
る。導電率σは、次式(1)で表すことができる。 σ=d/(R・Sef) −−−(1) ただし、dは電極板間のギャップ長、Sefは有効電極面
積、Rは電極板間の液抵抗である。
【0034】図24に示すように、電極板23、33間
に電圧△Eを印加して、この間を流れる電流△Iを測定
し、△E/△Iを算出することにより液抵抗Rを測定す
ることができるので、導電率σは、電極板23、33等
の構造定数であるギャップ長d、有効電極面積Sefを上
記式(1)に代入すれば、算出できる。
【0035】一方、比誘電率εsは、次式(2)により
表すことができる。 εs=(C/Ca)・(St/Sef)−(St/Sef−1) −−−(2) ただし、Cは被測定液中での静電容量、Caは空気中で
の静電容量、Stは全電極面積、Sefは被測定液体に浸
る有効電極面積である。
【0036】また、εoを真空の誘電率とすると、空気
中での静電容量Caは、次式(3)出表すことができ
る。 Ca=εo・St/d −−−(3) 上記式(3)から明かなように、空気中の静電容量Ca
は構造から決定する定数である。したがって、極板23
と33との間の静電容量を測定することにより、被測定
液体の誘電率を計測することができる。
【0037】図1において、ガラス基板2は、エポキシ
系の接着剤や低融点ガラス等の接着物18によって、出
力取り出し用のハーメチック端子5に固着される。この
ハーメチック端子5は、凹部を有し、この凹部により上
記圧力センサ1が包囲され、この圧力センサ1の他方の
面(圧力導入口21に対向する面の反対側の面)を被測
定体から隔離する隔離室が形成される。
【0038】圧力センサ1の出力は、接続線10から導
電膜24を介して、ガラス基板2のガラス基板3に対向
する側の面(上面)に取り出される。つまり、導電膜2
4は、ガラス基板2に穿孔されたスルーホール22を介
して、ガラス基板2の上面と下面とを電気的に接続して
おり、これにより圧力センサ1の出力がガラス基板2の
上面に取り出される。そして、圧力センサ1の出力は、
ガラス基板2の上面から接続線11を介してハーチック
端子5のピン6に取り出される。また、ガラス基板2の
導電膜23は、接続線11Bを介して、ハーメチック端
子5のピン6Bに接続される。
【0039】ガラス基板3の導電膜33は、このガラス
基板3に穿孔されたスルーホール32を介して接続線1
1Aと接続される。そして、接続線11Aは、ハーメチ
ック端子5のピン6Aに接続される。
【0040】また、キャップ(上蓋部材)9がハーメチ
ック端子5に接着又は溶接されるとともに、ガラス基板
3にも接着される。そして、キャップ9の内面とハーメ
チック端子5等で囲われる部分は、シリコンオイル又は
ガス等で満たされる。これにより、上記接続線11、1
1A、11Bの接続部分が、被測定液体から隔離され、
保護される。なお、この図1の実施形態においては、圧
力センサ1は差圧センサとする例である。
【0041】ハーメチック端子5には、外部からの圧力
を、圧力センサ1のダイアフラムの上記圧力導入口21
に対向する面とは反対側の面に導入するための流路(圧
力導入路)7が形成されている。この流路7には、外部
配管と流路7とを接続するためのジョイント8が設けら
れている。そして、流路7により上記シリコンオイル等
を介して作用する圧力センサ1のダイアフラムへの圧力
と、圧力導入口31から圧力センサ1のダイアフラムに
作用する圧力との差にほぼ比例した出力が、圧力センサ
1から出力される。
【0042】次に、上述したようにして得られた差圧、
導電率、誘電率に、それぞれ対応する信号出力は、フレ
キシブル・プリント基板(FPC)12を介して信号増
幅器13に供給される。信号増幅器13に供給された信
号は、増幅された後、入出力回路・信号処理部(マイク
ロプロセッサ)14に供給され、適切な信号出力の形態
に変換される。そして、この変換された信号が出力端子
16から外部に取り出される。
【0043】この複合センサの動作電力は外部から供給
することも可能であるが、箱体17の内部に電池15を
備えることにより、携帯可能な複合センサとすることが
でき、使い勝手が良好となる。また、電源が存在しない
野外においても、使用することが可能となる。
【0044】図2は、図1に示した複合センサに使用さ
れるピエゾ抵抗式の圧力・温度センサ1の概略構成図を
示す図である。単結晶シリコンに拡散形成されたピエゾ
抵抗素子1a〜1eは、その配列方向によって、応力に
対する感度が非常に異なる(異方性が大きい)。(00
1)面に形成されたゲージ抵抗(感歪抵抗素子)は、<
110>方向を向いているときに、応力に対して最大の
感度を有し、<100>方向を向いているときには、応
力に対してほとんど感度がない。したがって、温度ゲー
ジ(感温度素子)1eを作るためには、<100>方向
に拡散抵抗を形成すればよい。
【0045】また、<110>方向を向いたゲージ抵抗
1a〜1dは、ダイアフラム1mに対して半径方向を向
いているか、接線方向を向いているかによって抵抗変化
の符号が異なる。ゲージ面から圧力が負荷された場合、
半径方向のゲージ1a、1cは、抵抗値が増加し、接線
方向のゲージ1b、1dは、抵抗値が減少する。そこ
で、これらのゲージをアルミニウム等からなる配線1k
で連結し、出力取り出し用のパッド部1f〜1jに接続
する。
【0046】この配線によって、ゲージ抵抗1a〜1e
は、図3に示すブリッジ回路を構成し、端子1gと1i
との間に励起電圧を印加することにより、端子1j−1
h間で図23に示すような圧力Pに比例する出力電圧e
が得られる。
【0047】ここで、4つのゲージ抵抗でブリッジ回路
が構成されるため、ゲージ抵抗の温度変化は相殺される
こととなる。一方、温度の検出は、温度係数が無視でき
る固定抵抗1n(Rref)を温度ゲージに直列に接続
し、中間の端子1fに、オフセット電圧と温度とを加え
たものに、ほぼ比例する出力電圧を発生させればよい。
この電圧を差動増幅し、オフセット分を差し引くことに
よって温度を測定することができる。
【0048】図4は、図1に示した例におけるガラス基
板2の上面(図4の(A))及び下面(図4の(B))
を示す図である。図4において、23は導電率・誘電率
測定用の電極であり、21は圧力導入口である。圧力セ
ンサ1の出力は、出力パッドに対応する5つのスルーホ
ール22を介して導電膜24により下面から上面側に引
き出される。
【0049】図5は、図1に示した例におけるガラス基
板3の上面(図5の(A))及び下面(図5の(B))
を示す図である。図5において、31は圧力導入口であ
り、33は導電率・誘電率測定用の電極である。この電
極33も、スルーホール32により上面側の導電膜34
に取り出される。
【0050】以上のように、本発明の第1の実施形態に
よれば、圧力センサの差圧を測定するためのダイアフラ
ムへ圧力を導入するための被測定液体導入路に、この被
測定液体の導電率・誘電率測定用の電極である互いに対
向する導電膜を配置するように構成したので、差圧(流
量)と水質とを一つのセンサで測定可能な複合センサを
実現することができる。
【0051】図6及び図7は、本発明の第2の実施形態
である複合センサの要部概略構成断面図である。この第
2の実施形態は、圧力・温度センサ1のピエゾ抵抗の面
を下ガラス基板2に直接接合した例である。つまり、図
1の例における圧力センサ1のダイアフラムと反対側の
面がガラス基板2に接合されている。ゲージ面を直接ガ
ラス基板2に接合するためには、その表面を平坦化する
必要があるため、図2に示した圧力センサ1の結線1k
及びパッド1f〜1jは、アルミニウム等を用いること
はできない。
【0052】そこで、低抵抗拡散層(P+層)1qを形
成し、導電膜24をガラス基板2との間に挟み込むよう
に陽極接合する。低抵抗層1qと24とは、これによっ
てオーミックコンタトがとれるので、ワイヤ接続なしに
電極を引き出すことが可能となる。ただし、上記構成で
は、ゲージ面が直接測定流体に接触するため、酸化膜、
窒化膜、あるいはこれらの絶縁膜上に、Au、Ptを成
膜した多層膜1rでパッシベーションする必要がある。
【0053】この第2の実施形態においては、第1の実
施形態と同様な効果を得ることができる他、圧力センサ
にワイヤ接続がないため、製作工程が削減でき、さらに
ハーメチック端子5との接着時に裏側ワイヤ10を切っ
てしまうという、不良の発生が有り得ないので、製造に
おける歩留まりを向上することができる。
【0054】図8及び図9は、本発明の第3の実施形態
である複合センサの要部概略構成断面図である。この第
3の実施形態は、圧力センサとして静電容量式のものを
用いた例である。図8及び図9において、上側固定電極
25が形成された下基板2と、単結晶シリコン等からな
る可動電極101aと、ホウ珪酸ガラス等からなる別個
の基板であって、可動電極101aを間にして下基板2
と対向する対向基板101bとが陽極接合されている。
【0055】可動電極101aは、その中心部にボスが
形成されており、基板2及び基板101bのそれぞれと
の距離は、通常、数ミクロン〜数十ミクロン程度になる
ようにエッチング加工される。また、基板101bに
は、下面側からの圧力を可動電極101aに導くための
小孔101cが形成され、この孔101cを介して下側
固定電極101dが基板101bの下面と上面とに形成
されている。
【0056】この第3の実施形態において、圧力測定
は、次のように行う。圧力導入口21と101cとから
可動電極101aの両面側に導かれた圧力の差に比例し
て、可動電極101aが変位する。そして、この変位量
にほぼ比例して上側固定電極25と可動電極101aと
の間の静電容量(C1)と、下側固定電極101dと可
動電極101aとの間の静電容量(C2)とに静電容量
の偏差△C(C1−C2)が発生する。
【0057】したがって、この静電容量の偏差△Cは、
図23に示すように、圧力Pにほぼ比例するので、偏差
△Cから圧力Pの値を算出することができる。このよう
な静電容量式の圧力センサは、ピエゾ抵抗式に比較し
て、構造は複雑となるが、感度の温度依存性が小さく、
使用温度範囲が広いという利点を有している。また、電
極25と電極101dとの間には電流がほとんど流れな
いので、消費電力が少ないという利点も有している。
【0058】図10は、静電容量式の圧力センサに用い
られる下基板2の上面(図10の(A))及び下面(図
10の(B))を示す図である。図10において、21
は圧力導入口であり、23は導電率・誘電率測定用の電
極である。また、25は上側固定電極及びそのパッド部
であり、22a、24aは下側固定電極101dの電位
を外部に引き出すためのスルーホール及び電極パッドで
ある。また、可動電極101aの電極を引き出すため
に、基板101bに切り欠きを形成し、可動電極101
aの一部を基板101bを介して、図の下方側に露出さ
せる。この可動電極101aの露出した一部にアルミニ
ウム等からなる電極パッド101eを形成し、この電極
パッド101eと、外部引き出し用のスルーホール22
bに渡り形成された電極パッド24bとをワイヤにより
接続する。
【0059】以上の構成により、電極25と電極パッド
24bとの間の静電容量を測定すれば、電極25と可動
電極101aとの間の静電容量C1を測定することがで
き、電極パッド24aと電極パッド24bとの間の静電
容量を測定すれば、可動電極101aと固定電極101
dとの間の静電容量C2を測定することができる。そし
て、測定した静電容量C1からC2を減算して、静電容
量の偏差△Cを算出し、この算出した静電容量偏差△C
から圧力Pを算出することができる。
【0060】以上のように、本発明の第3の実施形態に
よれば、第1の実施形態と同様な効果を得ることができ
る他、圧力センサは静電容量式としたので、感度の温度
依存性が小さく、使用温度範囲が広いという利点を有し
ている。さらに、電極25と電極101dとの間には電
流がほとんど流れないので、消費電力が少ないという利
点も有している。
【0061】図11は、本発明の第4の実施形態である
複合センサの要部概略構成断面図である。この第4の実
施形態は、圧力センサとしてピエゾ抵抗式の絶対圧セン
サと導電率・誘電率センサとの複合センサの例である。
【0062】つまり、この実施形態においては、圧力セ
ンサ1自身は、差圧センサであるが、ハーメチック端子
5には、図1の例のような流路7が形成されておらず、
圧力センサ1のダイアフラムの一方の面側には、外部の
被測定体の圧力は導入されない構成となっている。その
他の構成については、図1の例と同様となっている。
【0063】上述した圧力センサ1のダイアフラムの一
方の面側は、接着部18により、外部と遮断され、気密
に保持されており、一気圧程度の圧力が維持されるよう
に構成されている。
【0064】したがって、この第4の実施形態によれ
ば、圧力センサ1の一方の面側の圧力は一気圧であるこ
とが予め判明しているので、圧力センサ1により検出さ
れた差圧から外部の絶対圧力を測定することが可能とな
り、絶対圧と導電率・誘電率を測定可能な複合センサを
実現することができる。
【0065】図12は、本発明の第5の実施形態である
複合センサの要部概略構成断面図である。この第5の実
施形態は、圧力センサとしてピエゾ抵抗式の真空センサ
と導電率・誘電率センサとの複合センサの例である。
【0066】つまり、この第5の実施形態は、被測定体
の圧力が、例えば、100mmTorr程度の低い圧力を測定
する場合に適する例であり、圧力センサ1には高感度の
ものを使用する。そして、ハーメチック端子5の内部で
ある、圧力センサ1のダイアフラムの一方の面側をほぼ
真空とする。
【0067】このために、ハーメチック端子5には、製
造時に外部と連通される流路71が形成されており、こ
の流路71を介してハーメチック端子5の内部を所定の
真空度となるように減圧する。そして、ハーメチック端
子5の内部が所定の真空度となったときに、栓72で流
路71を封止して、ハーメチック端子5の内部である、
圧力センサ1のダイアフラムの一方の面側をほぼ真空と
する。
【0068】流路7に代えて流路71が形成され、この
流路71が栓72で封止されている部分以外は、この図
12の例は、図1の例と同様となっている。この第5の
実施形態によれば、圧力が低い被測定体の圧力及び導電
率・誘電率を測定可能な複合センサを実現することがで
きる。
【0069】図13〜図17は、図1に示した第1の実
施形態である複合センサの製造方法を説明する図であ
る。まず、図13の(A)において、上基板3に圧力導
入口31とスルーホール32とする孔を形成する。次
に、基板3の両面にAu、Pt等の非腐食性の導電膜3
3を蒸着、スパッタリング又はメッキ等の方法で成膜
し、パターニングする。そして、図13の(B)におい
て、下基板2についても、上基板3と同様に、圧力導入
口21及びスルーホール22を形成し、導電膜23、2
4を形成する。次に、図14に示すように、下基板2と
圧力センサ1とを300〜350℃に加熱し、約1kV
の電圧を印加して接合する(陽極接合)。
【0070】そして、図15に示すように、基板2と基
板3との間にガラス、セラミック等からなる絶縁性のス
ペーサ4を接合する。その後、圧力センサ1と導電膜2
4との配線(ワイヤ)10を接続する。
【0071】次に、図16に示すように、基板2、3と
圧力センサ1とを図15に示した状態から反転させ、基
板2とハーメチック端子(接続端子と凹部とを有する密
封部材)5とをエポキシ系の接着剤等の接着物18によ
り接合する。そして、最後に、図17に示すように、接
続線11、11A、11Bを導電膜24等とピン6等と
に接続し、キャップ9をハーメチック端子5に溶接し
(溶接部分9a)するとともに、キャップ9を上基板3
に接着(接着部分9b)する。図13〜図17に示した
製造方法は、図1の例の製造方法であるが、図6の例、
図8の例、図11の例及び図12の例も、図13〜図1
7に示した方法と同様な方法により製造される。
【0072】以上説明した実施形態は、上基板3が絶縁
物からなる例であるが、上基板を金属(導電体)からな
るように構成することもできる。図18は、本発明の第
6の実施形態である複合センサの要部概略構成断面図で
あり、上基板を金属の基板30とした例である。上基板
30は金属であるので、この基板30に特に導電膜を形
成しなくても、基板30そのものが電極として、機能可
能であるので、複合センサの構造が簡単となる。ただ
し、ハーメチック端子5のピンとの配線接続のために、
基板30の一部にボンディングパッド33を形成する必
要はある。
【0073】また、基板30が金属であるので、キャッ
プ9とこの基板30との接着部分9bは、溶接により接
着することが可能となり、接着剤を用いる場合に比較し
て、耐熱温度が高く、信頼性を向上することができる。
この第6の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な
効果が得られる他、構造が簡単となる効果も得られる。
【0074】なお、基板30の材質としては、使用環境
がこの基板30を酸化しにくい状況であれば、銅等の一
般の金属を使用することができる。また、金属が腐食し
やすい使用環境であれば、基板30として、金、白金等
の貴金属を使用する。
【0075】図19は、本発明の複合センサを水位及び
水質を測定する水質監視機能付水位計として用いる場合
の例を示す図である。そして、この例においては、被測
定液体の導電率を検出することにより被測定液体の水質
を監視する。
【0076】図19において、上記水位計は、センサ部
50を水底に配置し、信号処理部の箱体17を空気中に
配置するセパレート形となっており、センサ部50と信
号処理部とは、防水性の信号線200、アダプター20
1、202により電気的に接続されている。このように
構成すれば、信号処理部への浸水を防止することがで
き、外部入出力端子16も空気中に配置されるので、入
出力端子16と外部装置との配線が容易である。
【0077】ただし、防水性信号線200が長く、この
信号線200により入出力信号の減衰が大となる場合に
は、アダプター201に増幅部を配置する。また、セン
サ部50では、圧力流路7が封止されていると、大気圧
の変動と水位の変化との区別ができなくなってしまう
(誤差原因となる)。そこで、大気圧変動の影響を除去
するため、圧力流路7をパイプ203に接続し、このパ
イプ203を介して、大気に開放する。この複合センサ
を屋外で使用する場合には、パイプ203の先端部から
雨等の侵入が考えられる。このため、図19の例におい
ては、パイプ203の先端部付近は、水面側に屈曲さ
れ、雨等の侵入を防止するように構成されている。
【0078】図20は、本発明の複合センサを水質監視
機能付水位計として用いる場合の他の例である。この図
20の例においては、図19の例と同様のセパレート形
となっているが、箱体17に空気室205を設け、箱体
17を水上に浮遊させる構造となっている。こうするこ
とにより、水位の変動が激しい状況であっても、人手を
伴わずに常に信号処理部を空気中に配置することが可能
となる。
【0079】また、箱体17が強風等により、大きく移
動しないように、支柱207を設け、この支柱207
に、リング等の鉛直方向に摩擦の小さい部材208を架
け、この部材208に箱体17を接続する。この図20
の例においても、図19の例と同様に、センサ部50
は、大気圧変動の影響を除去するために圧力センサの一
方側を大気に開放する必要がある。
【0080】この例においては、センサ部50と箱体1
7とを接続する防水性信号線(ライン)200の中に大
気圧導入路204が形成されており、箱体17の一部分
に開放口206が形成されている。これにより、図19
の例のような特別なパイプ203を設ける必要なく、大
気圧をセンサ部50に導入することが可能となる。
【0081】なお、図20の例において、測定対象が監
視室等より遠隔地にある場合には、電源をバッテリ又は
太陽電池とし、箱体17に配置する。そして、センサ部
50によって検出されたデータ等は、アンテナ209に
より無線で監視室等に送信することができる。
【0082】図21は、本発明の複合センサを流量及び
水質を監視する水質監視機能付流量計として用いる場合
の例を示す図である。そして、この例においては、導電
率を検出することにより被測定流体の水質を監視する。
【0083】図21において、被測定流体が図の矢印の
方向に向かって流れているパイプライン300の一部に
オリフィス301が形成されており、このオリフィス3
01の上流側と下流側とで被測定流体による圧力差(差
圧)が発生する。被測定流体の体積流量は、差圧の1/
2乗に比例することから、差圧を計測することにより、
被測定流体の体積流量を測定することができる(差圧式
流量計の原理)。
【0084】工業計測では、数百気圧にも達する高い圧
力が発生するため、差圧・導電率センサは、強固な箱体
400の内部に溶接される。また、この箱体400の内
部は、フランジ402により、高圧室401aと低圧室
401bとに分割されている。
【0085】オリフィス301の上流側の圧力は、パイ
プライン300のポート302から圧力導入口403a
を介して高圧室401aに導かれる。また、オリフィス
301の下流側の圧力は、パイプライン300のポート
303から圧力導入口403bを介して低圧室401b
に導かれる。
【0086】また、図示は省略してあるが、信号処理部
は、箱体400の内部の紙面に直角な方向に取り付けら
れている。この図21の例は、被測定流体の流量を計測
できるとともに、導電率も測定できるので、水質以外に
も、例えば、電解液が流れる場合、組成の変化を捉える
ことが可能である。
【0087】図22は、本発明の複合センサを用いた流
体管理システムの模式図である。図22において、給水
ライン502に複数の貯水系が接続されたものであり、
貯水系は、水質監視機能付水位計500と、貯水部50
1と、給水バルブ503(V1、V2)と、排水バルブ
504(W1、W2)とから構成される。
【0088】制御室(制御部)505では、各貯水部5
01に設置された複合センサである水位・温度・導電率
計の測定値が伝送され、この伝送された測定値から給水
バルブ503及び排水バルブ504の開度を以下の
(A)、(B)、(C)に示すようにして調節する。
【0089】(A)i番目の貯水部501の被測定流体
の温度と導電率とが規定値内にある通常時には、i番目
の貯水部501の水位が決められた範囲内にあるよう
に、調節する。具体的には、i番目の貯水部501の水
位が最高水位に達したとき、給水バルブViを閉じ、排
水バルブWiを開く。また、i番目の貯水部501の水
位が最低水位に達したとき、給水バルブViを開き、排
水バルブWiを閉じる。
【0090】(B)i番目の貯水部501の被測定流体
の導電率が規定範囲から外れた場合、制御室505側で
アラームを発生し、水質不良の場所、時間及びその程度
をオペレータ等に伝達する。さらに、貯水部501への
流入、外部への流出を防ぐため、給水バルブViと排水
バルブWiを閉じる。
【0091】(C)i番目の貯水部501の被測定流体
の温度が規定範囲から外れた場合、これも制御室505
側でアラームを発生させ、温度異常の場所、時間及びそ
の異常温度をオペレータ等に伝達する。さらに、規定範
囲外の液温が、システムに影響を及ぼすような場合に
は、給水バルブViと排水バルブWiとを閉じる。
【0092】以上のように、本発明による複合センサを
流体管理システムに適用すれば、水位と温度と水質とが
一つのセンサで測定可能であるため、その取扱いや管理
が容易であるとともに、貯水部への設置及び配線等も容
易となる。
【0093】上述した例は、浄水場にも適用することが
できる。現在、浄水場等では、ある工程で塩素を水に投
入し、殺菌処理等を行っているが、その投入量が多い場
合には、塩素臭を発生する等の水質についての問題を抱
えている。したがって、浄水場において、本発明を適用
し、一つの複合センサで水位、温度、水質を測定可能と
すれば、その取扱いや管理が容易であるとともに、貯水
部への設置及び配線等も容易な、浄水管理システムを実
現することができる。
【0094】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、次のような効果がある。圧力センサのダイ
アフラムに被測定体の発生圧力を導入する第1の圧力導
入口及び第1の導電膜を有する第1の基板と、第1の圧
力導入口を介してダイアフラムに圧力を導入する第2の
圧力導入口及び第2の導電膜を有する第2の基板と、第
1の導電膜と、第2の導電膜との間に導入された被測定
体の導電率及び誘電率を測定し、圧力センサからの出力
信号から被測定流体の圧力を測定する信号処理部とを備
えるように構成したので、貯水池や水田等の貯水系にお
いて、水位と水質又は流量と水質を、一つのセンサで検
出可能な複合センサを実現することができる。
【0095】また、上記圧力センサに感温度素子を配置
するように構成すれば、水位と水質又は流量と水質のみ
ならず、温度も、一つのセンサで検出可能な複合センサ
を実現することができる。
【0096】流体を貯え得る貯水部と、この貯水部に流
体を流入させる給水部と、貯水部から流体を流出させる
排水部と、貯水部の水位を制御する制御部とを備える流
体管理システムにおいて、貯水部に、本発明による複合
センサを配置し、制御部が、複合センサからの出力信号
に基づいて、貯水部の水位を制御するとともに、貯水部
の流体の水質を導電率として検出し、検出した導電率
が、所定範囲外となったときは、警報を発生するように
構成する。
【0097】このように、構成すれば、水位と温度と水
質とが一つのセンサで測定可能であるため、その取扱い
や管理が容易であるとともに、貯水部への設置及び配線
等も容易な流体管理システムを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の概略構成断面図であ
る。
【図2】図1の例における圧力・温度センサの概略構成
図である。
【図3】図2のゲージ抵抗により構成されるブリッジ回
路の構成図である。
【図4】図1の例における下ガラス基板の上面及び下面
を示す図である。
【図5】図1の例における上ガラス基板の上面及び下面
を示す図である。
【図6】本発明の第2の実施形態である複合センサの要
部概略構成断面図である。
【図7】図6の要部拡大図である。
【図8】本発明の第3の実施形態である複合センサの要
部概略構成断面図である。
【図9】図8の要部拡大図である。
【図10】図8の例における下基板の上面及び下面を示
す図である。
【図11】本発明の第4の実施形態である複合センサの
要部概略構成断面図である。
【図12】本発明の第5の実施形態である複合センサの
要部概略構成断面図である。
【図13】第1の実施形態である複合センサの製造方法
を説明する図である。
【図14】第1の実施形態である複合センサの製造方法
を説明する図である。
【図15】第1の実施形態である複合センサの製造方法
を説明する図である。
【図16】第1の実施形態である複合センサの製造方法
を説明する図である。
【図17】第1の実施形態である複合センサの製造方法
を説明する図である。
【図18】本発明の第6の実施形態である複合センサの
要部概略構成断面図である。
【図19】本発明の複合センサを水位及び水質を測定す
る水質監視機能付水位計として用いる場合の例を示す図
である。
【図20】本発明の複合センサを水質監視機能付水位計
として用いる場合の他の例を示す図である。
【図21】本発明の複合センサを流量及び水質を監視す
る水質監視機能付流量計として用いる場合の例を示す図
である。
【図22】本発明の複合センサを用いた流体管理システ
ムの模式図である。
【図23】圧力とセンサの出力とを示すグラフである。
【図24】極板間の電圧と電流とを示すグラフである。
【符号の説明】
1 圧力・温度センサ 1a〜1d ピエゾゲージ抵抗 1e 温度検出用ゲージ抵抗 1m ダイアフラム 2 下基板 3 上基板 4 スペーサ 5 ハーメチック端子 6、6A、6B ピン 7 圧力導入流路 8 ジョイント 9 キャップ 10 配線 11、11A、11B 配線 12 フレキシブルプリント基板 13 信号増幅器 14 入出力回路・信号処理部 15 電池 16 入出力端子 17 箱体 21 下基板圧力導入口 23、24 導電膜 31 上基板圧力導入口 33 導電膜 71 流路 72 栓 101a 可動電極 101b 対向基板 101c 対向基板のスルーホール 101d 対向基板電極 101e 可動電極の電極端子 200 防水性信号線 201、202 アダプター 203 パイプ 204 大気圧導入路 205 空気室 206 開放口 207 支柱 208 リング 300 アンテナ 301 オリフィス 302、303 ポート 400 箱体 401a 高圧室 401b 低圧室 402 フランジ 403a、403b 圧力導入口 500 水質監視機能付水位計 501 貯水部 502 給水ライン 503 給水バルブ 504 排水バルブ 505 制御室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−4177(JP,A) 特開 昭63−305229(JP,A) 特表 平1−503001(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01D 21/00 - 21/02 G01F 23/14 G01N 27/06

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被測定体が発生する圧力に応じて変位する
    ダイアフラムを有する圧力センサと、 上記圧力センサに接合され、上記ダイアフラムに被測定
    体が発生する圧力を導入する第1の圧力導入口を有する
    とともに、その表面に第1の導電膜とを有する第1の基
    板と、 上記被測定体が発生する圧力を、上記第1の圧力導入口
    を介して上記ダイアフラムに導入する第2の圧力導入口
    を有するとともに、上記第1の導電膜に対向する位置に
    第2の導電膜を有し、第1の基板と所定の間隔だけ離間
    して配置される第2の基板と、 上記第1の導電膜と、第2の導電膜との間に導入された
    被測定体の導電率及び誘電率を測定するとともに、上記
    圧力センサからの出力信号から被測定流体の圧力を測定
    する信号処理部とを備えることを特徴とする複合セン
    サ。
  2. 【請求項2】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    圧力センサが有するダイアフラムは、単結晶シリコンか
    らなり、この単結晶シリコンからなるダイアフラムに感
    温度素子が配置され、上記信号処理部は、感温度素子か
    らの出力信号から、上記圧力センサが配置された位置に
    おける温度も測定することを特徴とする複合センサ。
  3. 【請求項3】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    圧力センサのダイアフラムの一方の面には感歪抵抗素子
    が配置され、上記ダイアフラムの他方の面側に上記第1
    の基板が接合されることを特徴とする複合センサ。
  4. 【請求項4】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    圧力センサのダイアフラムの一方の面には感歪抵抗素子
    が配置され、この感歪抵抗素子が配置されたダイアフラ
    ムの一方の面側に上記第1の基板が接合されることを特
    徴とする複合センサ。
  5. 【請求項5】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    第1の基板の上記ダイアフラムに対向する面には、第1
    の電極板が配置され、上記ダイアフラムを間にして、上
    記第1の電極板と対向する第2の電極が配置されるとと
    もに、上記圧力センサのダイアフラムは導電性の電極で
    あって、上記信号処理部は、上記第1の電極板とダイア
    フラムとの間の静電容量と、上記第2の電極板とダイア
    フラムとの間の静電容量との差に応じて、被測定体が発
    生する圧力を測定することを特徴とする複合センサ。
  6. 【請求項6】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    第1の基板と第2の基板との少なくとも一つの基板に
    は、一方の面に形成された導電膜と他方の面に形成され
    る導電膜とを電気的に接続するための貫通孔が、形成さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  7. 【請求項7】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    第1の導電膜と第2の導電膜とは、上記信号処理部に接
    続された端子と電気的配線を介して接続され、この電気
    的配線と第1の導電膜、第2の導電膜及び上記端子との
    接続部分を被測定体から保護するための上蓋部材が、少
    なくとも上記第2の基板に接合されることを特徴とする
    複合センサ。
  8. 【請求項8】請求項1記載の複合センサにおいて、上記
    第1の圧力導入口及び第2の圧力導入口を介して導入さ
    れる圧力は、上記ダイアフラムの一方の面に導入され、
    上記ダイアフラムの他方の面は、この他方の面を被測定
    体から隔離するための隔離室に配置されることを特徴と
    する複合センサ。
  9. 【請求項9】請求項8記載の複合センサにおいて、上記
    隔離室には、被測定体の圧力を導入するための、少なく
    とも一つの圧力導入路が形成されることを特徴とする複
    合センサ。
  10. 【請求項10】請求項8記載の複合センサにおいて、上
    記被測定体は、液体であり、上記第1及び第2の圧力導
    入口を介して上記液体により発生される圧力が、上記ダ
    イアフ ラムの一方の面に導入され、上記隔離室には、上
    記ダイアフラムの他方の面に大気の圧力を導入するため
    の、圧力導入路が形成されることを特徴とする複合セン
    サ。
  11. 【請求項11】請求項8記載の複合センサにおいて、上
    記被測定体は、配管内に流れる流体であり、この配管内
    に形成されたオリフィスの上流側の上記流体により発生
    される圧力が、上記第1及び第2の圧力導入口を介し
    て、上記ダイアフラムの一方の面に導入され、上記隔離
    室には、上記オリフィスの下流側の上記流体により発生
    される圧力が、上記ダイアフラムの他方の面に導入する
    ための、圧力導入路が形成されることを特徴とする複合
    センサ。
  12. 【請求項12】請求項10記載の複合センサにおいて、
    上記信号処理部の少なくとも一部は上記液体の外に配置
    され、上記圧力センサと信号処理部とを接続する信号配
    線は防水性の信号配線であり、上記信号処理部と圧力セ
    ンサとが分割されていることを特徴とする複合センサ。
  13. 【請求項13】請求項10記載の複合センサにおいて、
    上記信号処理部の少なくとも一部は上記液体の外に配置
    され、上記圧力導入路は、上記信号処理部と上記隔離室
    との間に接続され、上記圧力センサと信号処理部とを接
    続する信号配線が、上記圧力導入路に配置され、上記信
    号処理部と圧力センサとが分割されていることを特徴と
    する複合センサ。
  14. 【請求項14】流体を貯え得る貯水部と、この貯水部に
    流体を流入させる調節弁を有する給水部と、上記貯水部
    から流体を流出させる調節弁を有する排水部と、上記貯
    水部の水位を上記給水部の調節弁及び排水部の調節弁を
    調節して制御する制御部とを備える流体管理システムに
    おいて、 上記貯水部には、請求項10記載の複合センサが配置さ
    れ、上記制御部は、上記複合センサからの出力信号に基
    づいて、上記貯水部の水位を上記調節弁を調節して制御
    するとともに、上記貯水部に貯えられた流体の水質を導
    電率として検出 し、検出した導電率が、所定範囲外とな
    ったときは、警報を発生することを特徴とする流体管理
    システム。
  15. 【請求項15】絶縁性の第1の基板に、貫通孔である第
    1の圧力導入口を形成するとともに、この第1の基板の
    少なくとも一方の表面に第1の導電膜を形成する工程
    と、 絶縁性の第2の基板に、貫通孔である第2の圧力導入口
    を形成するとともに、この第2の基板の少なくとも一方
    の表面に第2の導電膜を形成する工程と、 上記第1の基板の他方の面に、圧力センサのダイアフラ
    ムが、上記第1の圧力導入口と対向するように、上記圧
    力センサを接合する工程と、 上記第1の基板の一方の面に形成された第1の導電膜と
    上記第2の基板の一方の面に形成された第2の導電膜と
    を対向させるとともに、上記第1の圧力導入口と第2の
    圧力導入口とを対向させて、絶縁性のスペーサを上記第
    1の基板と第2の基板とに接合する工程と、 接続端子と凹部とを有する密封部材を、この凹部により
    上記圧力センサが包囲されるように、上記第1の基板に
    接合する工程と、 上記密封部材の接続端子と、上記第1の導電膜、第2の
    導電膜及び圧力センサとを配線接続する工程とを備える
    ことを特徴とする複合センサの製造方法
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