JP3065233B2 - Organopolysiloxane fine particles, method for producing the same, and liquid crystal display device - Google Patents

Organopolysiloxane fine particles, method for producing the same, and liquid crystal display device

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JP3065233B2
JP3065233B2 JP7213800A JP21380095A JP3065233B2 JP 3065233 B2 JP3065233 B2 JP 3065233B2 JP 7213800 A JP7213800 A JP 7213800A JP 21380095 A JP21380095 A JP 21380095A JP 3065233 B2 JP3065233 B2 JP 3065233B2
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liquid crystal
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organopolysiloxane
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柳 嗣 雄 小
松 通 郎 小
井 満 中
尾 豊 光
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、オルガノポリシロキサン
微粒子、その製造方法および該オルガノポリシロキサン
微粒子を液晶セルの電極間にスペーサーとして介在させ
た液晶表示装置に関する。
The present invention relates to organopolysiloxane fine particles, a method for producing the same, and a liquid crystal display device in which the organopolysiloxane fine particles are interposed as spacers between electrodes of a liquid crystal cell.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】液晶表示装置用液晶セルに備えら
れた一対の電極間にはスペーサが介設され、かつ液晶物
質が封入されて液晶層を形成しているが、この液晶層の
厚さが均一でないと、液晶セルに表示された画像に色む
らや点灯時のコントラストの低下を引き起こす。また、
高速で表示画像を切り替える場合、あるいは視野角の広
い画像を表示する場合にも、液晶セル内部の液晶層の厚
さが均一であることが要求されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION A spacer is provided between a pair of electrodes provided in a liquid crystal cell for a liquid crystal display device, and a liquid crystal material is sealed to form a liquid crystal layer. If it is not uniform, the image displayed on the liquid crystal cell may cause color unevenness and decrease in contrast at the time of lighting. Also,
Even when switching the display image at a high speed or displaying an image with a wide viewing angle, the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell is required to be uniform.

【0003】さらに、現在用いられているSTNモード
の大画面液晶表示装置で色むらのない大画面を表示する
ためには、より一層液晶セル内部の液晶層の厚さを均一
にすることが要求されている。
Further, in order to display a large screen without color unevenness in a currently used STN mode large screen liquid crystal display device, it is necessary to further uniform the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell. Have been.

【0004】この液晶セル内部の液晶層の厚さを均一に
するため、従来より、粒径の揃った球状粒子を液晶セル
の電極間に散在して介在させること、すなわち液晶セル
の電極間スペーサとして用いることが行われ、このよう
な粒子としてポリスチレンなどのような有機樹脂粒子、
シリカ微粒子などが用いられている。
Conventionally, in order to make the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell uniform, spherical particles having a uniform particle size are interspersed and interposed between the electrodes of the liquid crystal cell, that is, a spacer between the electrodes of the liquid crystal cell. It is performed as, organic resin particles such as polystyrene as such particles,
Silica fine particles and the like are used.

【0005】しかしながら、ポリスチレンなどのような
有機樹脂粒子を液晶セルの電極間スペーサとして用いた
場合、これらの有機樹脂粒子は、柔らかすぎて液晶セル
内部の液晶層の厚さを均一に保持することが困難である
という問題点があった。たとえば、液晶セル内部の液晶
層に不均一な圧力が負荷されると、この圧力のばらつき
に応じてスペーサが変形し、液晶セル内部の液晶層の厚
さを均一に維持することはできない。
However, when organic resin particles such as polystyrene are used as inter-electrode spacers of a liquid crystal cell, these organic resin particles are too soft to maintain a uniform thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell. There was a problem that it was difficult. For example, when a non-uniform pressure is applied to the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell, the spacer is deformed in accordance with the variation in the pressure, and the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell cannot be maintained uniform.

【0006】また、シリカ微粒子を液晶セルの電極間ス
ペーサとして用いた場合、シリカ微粒子の粒度分布がシ
ャープでないと、シリカ微粒子の圧縮変形が小さいこと
に起因して、液晶セル内部の液晶層の厚さが不均一とな
るという問題点があった。さらに、液晶表示装置を低温
に曝した場合、液晶セル内部で液晶層の熱膨張係数とス
ペーサの熱膨張係数とが異なるため、液晶セルの電極と
液晶層との間に空隙が生じる、所謂、低温気泡が発生す
るという問題点があった。
When silica fine particles are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, if the particle size distribution of the silica fine particles is not sharp, the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell is reduced due to the small compression deformation of the silica fine particles. However, there is a problem that the non-uniformity is not uniform. Further, when the liquid crystal display device is exposed to a low temperature, since the coefficient of thermal expansion of the liquid crystal layer and the coefficient of thermal expansion of the spacer are different inside the liquid crystal cell, a gap is generated between the electrode of the liquid crystal cell and the liquid crystal layer. There is a problem that low-temperature bubbles are generated.

【0007】上記のような問題点を解決するため、特開
平6−250193号公報では、加水分解可能なシリコ
ン化合物、例えばテトラエトキシシランなどを加水分解
してシリカ微粒子を調製し、このシリカ微粒子表面のシ
ラノール基を有機化合物でエステル化する方法で製造し
たシリカ微粒子を液晶セルの電極間スペーサとして用い
ることが提案されている。
In order to solve the above problems, JP-A-6-250193 discloses a method of preparing silica fine particles by hydrolyzing a hydrolyzable silicon compound, for example, tetraethoxysilane. It has been proposed to use silica fine particles produced by a method of esterifying a silanol group with an organic compound as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell.

【0008】この方法で製造したシリカ微粒子は、適度
の硬さと機械的復元性とを有しているため、液晶セルの
電極間スペーサとして好適であるといわれているが、機
械的復元性の点で液晶セルの電極間スペーサとしては不
充分である。
[0008] The silica fine particles produced by this method are said to be suitable as spacers between electrodes of a liquid crystal cell because they have moderate hardness and mechanical resilience. However, it is insufficient as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell.

【0009】また、特開平7−140472号公報に
は、R’m Si(OR2 4-m (式中のR’、R2 は、
それぞれ特定の有機基を表す。mは、0〜3の整数であ
る。)で表される有機ケイ素化合物を加水分解、縮合し
て得られた粒子を100〜1000℃の温度で熱処理す
ることにより特定の圧縮弾性率を有する液晶セル用スペ
ーサ粒子が得られることが開示されている。このスペー
サ粒子の圧縮弾性率は、上記熱処理工程で粒子内部に存
在する有機基の一部を熱分解した後の残存有機基量で制
御されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-140472 discloses that R ' m Si (OR 2 ) 4-m (where R' and R 2 are
Each represents a specific organic group. m is an integer of 0 to 3. Is disclosed that by subjecting the particles obtained by hydrolyzing and condensing the organosilicon compound represented by the formula) to a heat treatment at a temperature of 100 to 1000 ° C., spacer particles for a liquid crystal cell having a specific compression elastic modulus can be obtained. ing. The compression elastic modulus of the spacer particles is controlled by the amount of residual organic groups after a part of the organic groups present inside the particles are thermally decomposed in the heat treatment step.

【0010】しかしながら、粒子径が異なると上記熱処
理工程後に粒子内部に残存する有機基量が異なることな
どから、この残存有機基量の制御は難しく、そのため、
粒子毎の圧縮変形率が同じにならず、したがって、粒子
内部に残存する有機基量で液晶セル用スペーサ粒子の圧
縮弾性率を所望の値に調整することは難しいといった問
題点があった。また、粒子の外側と内側とで残存有機基
量が異なることから粒子全体にわたって圧縮弾性率は一
様ではなく、さらに、上記熱処理工程で熱分解された粒
子内部の有機基部分にボイドが発生し、この結果、得ら
れた液晶セル用スペーサ粒子の圧縮強度が低下するとい
った問題点があった。
However, if the particle diameter is different, the amount of organic groups remaining inside the particles after the above heat treatment step is different, and it is difficult to control the amount of the remaining organic groups.
There is a problem that the compressive deformation rate of each particle is not the same, and therefore, it is difficult to adjust the compression elastic modulus of the liquid crystal cell spacer particles to a desired value by the amount of organic groups remaining inside the particles. Further, since the amount of residual organic groups is different between the outside and the inside of the particles, the compression elastic modulus is not uniform over the entire particles, and voids are generated in the organic groups inside the particles thermally decomposed in the heat treatment step. As a result, there is a problem that the compressive strength of the obtained spacer particles for a liquid crystal cell is reduced.

【0011】そこで、本発明者らは、特定の有機ケイ素
化合物を用いて特定の方法でオルガノポリシロキサン微
粒子を製造したところ、上記のような熱処理工程を経な
いでもオルガノポリシロキサン微粒子内部の有機基量が
制御され、この結果、高い弾性復元率を有し、かつ、粒
径の揃った微粒子が得られ、この微粒子は液晶セルの電
極間スペーサとして好適であることを見出し、本発明を
完成するに至った。
Therefore, the present inventors produced organopolysiloxane microparticles by a specific method using a specific organosilicon compound, and found that the organic group inside the organopolysiloxane microparticles did not undergo the above-mentioned heat treatment step. The amount is controlled, and as a result, fine particles having a high elastic recovery rate and a uniform particle size are obtained. The fine particles are found to be suitable as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, and the present invention is completed. Reached.

【0012】なお、特開平4−313727号公報およ
び特開平5−80343号公報には特定範囲の弾性を有
する球状粒子を液晶セルの電極間スペーサとして用いる
ことが記載されているが、この球状粒子は、ビニール系
プラスチックビーズ、あるいは無機質と有機質とのハイ
ブリッド粒子であり、オルガノポリシロキサン微粒子内
部の有機基量を制御することにより高い弾性復元率を有
し、かつ、粒径の揃った微粒子を得ることについては記
載されていない。
JP-A-4-313727 and JP-A-5-80343 describe the use of spherical particles having a specific range of elasticity as spacers between electrodes of a liquid crystal cell. Is a vinyl-based plastic bead or a hybrid particle of an inorganic material and an organic material, and has a high elastic recovery rate by controlling the amount of organic groups inside the organopolysiloxane fine particles, and obtains fine particles having a uniform particle size. It is not described.

【0013】[0013]

【発明の目的】本発明は、シリカ微粒子の弾性を改良す
るためになされたものであって、高い弾性復元率を有
し、かつ、粒径の揃ったオルガノポリシロキサン微粒
子、その製造方法、および該オルガノポリシロキサン微
粒子を液晶セルの電極間にスペーサーとして介在させた
液晶表示装置を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to improve the elasticity of silica fine particles, and has a high elastic recovery rate and a uniform particle size of organopolysiloxane fine particles, a process for producing the same, and It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device in which the organopolysiloxane fine particles are interposed as spacers between electrodes of a liquid crystal cell.

【0014】[0014]

【発明の概要】本発明に係るオルガノポリシロキサン微
粒子は、次式(I)および(II):
SUMMARY OF THE INVENTION The organopolysiloxane fine particles according to the present invention have the following formulas (I) and (II):

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】(上記式(I)中、Xは、水素原子、また
は周期律表第IB族、第IIA、B族、第III A、B族、
第IVA、B族、第VA、B族、第VIA族、第VII A族、
第VIII族から選ばれる元素であり、上記式(II)中、R
は、一価の有機基である。)で表されるシロキサン結合
を含むオルガノポリシロキサン微粒子であって、該微粒
子の29Si−NMRスペクトルを測定した際にケミカル
シフト0〜−120ppmの範囲内で観測される全ピー
クの合計面積ST と、前記式(I)で表されるシロキサ
ン結合に対応するピーク面積SI と、前記式(II)で表
されるシロキサン結合に対応するピーク面積SIIとが、
次式: SII/SI ≧2 かつ (SI +SII)/ST ≧0.3 を満たすことを特徴としている。
(In the above formula (I), X is a hydrogen atom, or a group IB, IIA, B, IIIA, B of the periodic table,
IVA, B, VA, B, VIA, VIIA,
An element selected from the group VIII;
Is a monovalent organic group. Are fine particles of an organopolysiloxane containing a siloxane bond represented by the formula (1), and the total area S T of all peaks observed within a chemical shift range of 0 to -120 ppm when a 29 Si-NMR spectrum of the fine particles is measured. And a peak area S I corresponding to the siloxane bond represented by the above formula (I) and a peak area S II corresponding to the siloxane bond represented by the above formula (II):
The following formulas are satisfied: S II / S I ≧ 2 and (S I + S II ) / S T ≧ 0.3.

【0017】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子の製造方法は、 (a) 式:Si(OR1 4 (式中、R1 は、水素原子またはアルキル基、アルコキ
シアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜1
0の有機基である。)で表される有機ケイ素化合物と、 式:R’Si(OR2 3 (式中、R2 は、前記R1 と同様の基であり、R’は、
置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜
10の基である。)で表される有機ケイ素化合物との混
合物を、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、縮重
合することによりシード粒子を調製する工程、 (b) 前記シード粒子の分散液に、下記式(1)〜
(3)で表される化合物の1種または2種以上を加えて
加水分解・縮重合し、これによりシード粒子を成長させ
て球状微粒子分散液を調製する工程(ただし(b)工程
の反応温度は(a)工程の反応温度よりも低い): (1)式:R’Si(OR2 3 (式中、R2 、R’は、前記と同様の基である。)で表
される有機ケイ素化合物; (2)式:R’R”Si(OR3 2 (式中、R’、R”は、互いに同一であっても異なって
いてもよく、置換または非置換の炭化水素基から選ばれ
る炭素数1〜10の基であり、R3 は、前記R1 と同様
の基である。)で表される有機ケイ素化合物; (3)式:
The method for producing the organopolysiloxane fine particles according to the present invention comprises the following steps: (a) Formula: Si (OR 1 ) 4 (where R 1 is selected from a hydrogen atom or an alkyl group, an alkoxyalkyl group and an acyl group) 1 to 1 carbon atoms
It is an organic group of 0. And an organosilicon compound represented by the formula: R′Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 is the same group as R 1, and R ′ is
1 to 1 carbon atoms selected from substituted or unsubstituted hydrocarbon groups
10 groups. A) preparing a seed particle by subjecting a mixture with an organosilicon compound represented by the formula (1) to hydrolysis and condensation polymerization in a mixed solvent of water and an organic solvent; Formula (1)-
A step of adding one or more of the compounds represented by (3) and subjecting them to hydrolysis and polycondensation to thereby grow seed particles to prepare a spherical fine particle dispersion ( the step (b))
Is lower than the reaction temperature of step (a)) : (1) Formula: R′Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 and R ′ are the same groups as described above). (2) Formula: R′R ″ Si (OR 3 ) 2 (wherein R ′ and R ″ may be the same or different from each other, and may be substituted or unsubstituted An organosilicon compound represented by the formula: (3) a group having 1 to 10 carbon atoms selected from a hydrocarbon group, wherein R 3 is the same group as R 1 above;

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】(式中、R4 は、プロピルまたはブチル基
であり、Yは、メチル基、メトキシ基、エチル基および
エトキシ基から選ばれる1種の有機基であり、Mは、周
期律表第IB族、第IIA、B族、第III A、B族、第IV
A、B族、第VA族、第VIA族、第VII A族、第VIII族
から選ばれる元素であり、また、mは0〜3の整数であ
り、nは1〜4の整数であり、m+nは2〜4の整数で
ある。)で表されるアセチルアセトナトキレート化合
物、 (c) 前記球状微粒子分散液を20〜80℃の温度に
維持して、球状微粒子を熟成させる工程、 (d) 前記球状微粒子分散液から球状微粒子を分離
し、次いで該微粒子を乾燥する工程からなることを特徴
としている。
Wherein R 4 is a propyl or butyl group, Y is one kind of organic group selected from a methyl group, a methoxy group, an ethyl group and an ethoxy group, and M is IB, IIA, B, IIIA, B, IV
An element selected from A, B, VA, VIA, VIIA, and VIII; m is an integer of 0 to 3; n is an integer of 1 to 4; m + n is an integer of 2 to 4. An acetylacetonato chelate compound represented by the formula (c), wherein the spherical fine particle dispersion is heated to a temperature of 20 to 80 ° C.
Maintaining and aging the spherical fine particles; and (d) separating the spherical fine particles from the spherical fine particle dispersion and drying the fine particles.

【0020】また、上記工程(b)、(c)または
(d)で得られたオルガノポリシロキサン微粒子を表面
処理してオルガノポリシロキサン微粒子表面に親水基を
導入することにより、親水性のオルガノポリシロキサン
微粒子を提供することができる。
Further, the above steps (b), (c) or
By subjecting the organopolysiloxane microparticles obtained in (d) to surface treatment to introduce a hydrophilic group on the surface of the organopolysiloxane microparticles, hydrophilic organopolysiloxane microparticles can be provided.

【0021】本発明に係る液晶表示装置は、一対の電極
を備えた液晶セルを有し、該電極間にスペーサーとして
上記本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子が介在
していることを特徴としている。
The liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal cell having a pair of electrodes, wherein the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are interposed as spacers between the electrodes.

【0022】このように本発明に係るオルガノポリシロ
キサン微粒子を液晶セルの電極間のスペーサとして用い
る場合、この微粒子の圧縮変形率が20〜60%であ
り、かつ該微粒子の変動係数が5%以下であることが好
ましい。
When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as spacers between electrodes of a liquid crystal cell, the fine particles have a compressive deformation rate of 20 to 60% and a coefficient of variation of 5% or less. It is preferred that

【0023】[0023]

【発明の具体的説明】オルガノポリシロキサン微粒子 まず、本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子につ
き具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Organopolysiloxane Fine Particles First, the organopolysiloxane fine particles according to the present invention will be specifically described.

【0024】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子は、次式(I)および(II):
The organopolysiloxane fine particles according to the present invention have the following formulas (I) and (II):

【0025】[0025]

【化5】 Embedded image

【0026】で表されるシロキサン結合を含んでいる。
上記式(I)中、Xは、水素原子、または周期律表第I
B族、第IIA、B族、第III A、B族、第IVA、B族、
第VA、B族、第VIA族、第VII A族、第VIII族から選
ばれる元素である。
And a siloxane bond represented by the formula:
In the above formula (I), X is a hydrogen atom, or I of the periodic table.
Group B, IIA, B, IIIA, B, IVA, B,
It is an element selected from VA, B, VIA, VIIA, and VIII.

【0027】また、上記式(II)中、Rは、一価の有機
基を表し、オルガノポリシロキサン微粒子を製造する際
に原料として用いられる式:R’Si(OR2 3 で表
される有機ケイ素化合物に含まれているR’に由来する
基である。なお、R’については、後で詳述する。
In the above formula (II), R represents a monovalent organic group, and is represented by the formula: R′Si (OR 2 ) 3 used as a raw material when producing organopolysiloxane fine particles. It is a group derived from R 'contained in the organosilicon compound. Note that R 'will be described later in detail.

【0028】オルガノポリシロキサン微粒子の29Si−
NMRスペクトルを測定すると、ケミカルシフト0〜−
120ppmの範囲内で上記式(I)および(II)で表
されるシロキサン結合を含む各種シロキサン結合に対応
したピークが観測される。例えば、約−99〜−110
ppmの位置には上記式(I)で表されるシロキサン結
合に対応したピークが観測され、上記式(II)中のRが
メチル基である場合には、約−65ppmの位置にピー
クが観測され、上記式(II)中のRがビニル基である場
合には、約−60ppmの位置にピークが観測される。
[0028] of the organopolysiloxane particles 29 Si-
When the NMR spectrum was measured, the chemical shift was 0-−.
Within the range of 120 ppm, peaks corresponding to various siloxane bonds including the siloxane bonds represented by the above formulas (I) and (II) are observed. For example, about -99 to -110
A peak corresponding to the siloxane bond represented by the above formula (I) is observed at the ppm position, and when R in the above formula (II) is a methyl group, a peak is observed at about -65 ppm. When R in the formula (II) is a vinyl group, a peak is observed at about -60 ppm.

【0029】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子では、これら29Si−NMRスペクトルのケミカルシ
フト0〜−120ppmの範囲内で観察される全ピーク
の合計面積ST と、前記式(I)で表されるシロキサン
結合に対応するピーク面積S I と、前記式(II)で表さ
れるシロキサン結合に対応するピーク面積SIIとが、次
式: SII/SI ≧2、好ましくは 5≦SII/SI ≦50 かつ (SI +SII)/ST ≧0.3、好ましくは 0.
5≦(SI +SII)/ST ≦0.99 を満たしている。
The organopolysiloxane fine particles according to the present invention
In the child, these29Chemical properties of Si-NMR spectrum
All peaks observed within the range of 0 to -120 ppm
Total area S ofTAnd a siloxane represented by the above formula (I)
Peak area S corresponding to the bond IAnd represented by the above formula (II)
Area S corresponding to the siloxane bondIIAnd the following
Formula: SII/ SI≧ 2, preferably 5 ≦ SII/ SI≦ 50 and (SI+ SII) / ST≧ 0.3, preferably 0.
5 ≦ (SI+ SII) / ST≤ 0.99.

【0030】また、本発明に係るオルガノポリシロキサ
ン微粒子中のケイ素含有量は、SiO2 換算で、好まし
くは50〜90重量%、より好ましくは60〜80重量
%であり、ケイ素以外の含有量は、オルガノポリシロキ
サン微粒子を製造する際に原料として用いられた有機ケ
イ素化合物の珪素原子と結合している有機基に由来して
いる。
The silicon content in the organopolysiloxane fine particles according to the present invention is preferably 50 to 90% by weight, more preferably 60 to 80% by weight in terms of SiO 2 , and the content other than silicon is preferably , Derived from an organic group bonded to a silicon atom of an organosilicon compound used as a raw material when producing organopolysiloxane fine particles.

【0031】上記したシロキサン結合の解析結果から、
本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子は、所謂、
ラダー構造を基本とした三次元網目構造を有していると
考えられる。
From the above analysis results of the siloxane bond,
The organopolysiloxane fine particles according to the present invention have a so-called
It is considered to have a three-dimensional network structure based on a ladder structure.

【0032】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子は、その原料に由来する有機基が粒子中に存在してお
り、弾性復元率が高く、しかも圧縮変形率が大きい。こ
れら弾性復元率および圧縮変形率の評価方法は下記の通
りである。
The organopolysiloxane fine particles according to the present invention have an organic group derived from the raw material in the particles, and have a high elastic recovery rate and a high compressive deformation rate. The methods for evaluating these elastic recovery rates and compression deformation rates are as follows.

【0033】測定器として微小圧縮試験機(島津製作所
製 MCTM−200)を用い、試料として粒径がDで
ある1個の微粒子を用いて、試料に一定の負荷速度で所
定の荷重値(反転荷重値)まで荷重を負荷し、粒子を変
形させると、図1に示すように荷重が増加するにつれて
曲線Aに従って変位がゼロから増大する。
Using a micro compression tester (MCTM-200 manufactured by Shimadzu Corporation) as a measuring device, using one fine particle having a particle size of D as a sample, applying a predetermined load value (reversal) to the sample at a constant load speed. When the load is applied up to the load value and the particles are deformed, the displacement increases from zero according to the curve A as the load increases as shown in FIG.

【0034】次いで、上記負荷速度と同じ除荷速度で一
定の荷重値(原点用荷重値)まで除荷すると曲線Bに従
って変位は徐々に減少する。負荷時の原点用荷重値の変
位量と反転荷重値の変位量との差をL1 とし、負荷時と
除荷時のそれぞれの原点用荷重値の変位量の差をL2
すると、上記試料の弾性復元率Rr および圧縮変形率C
r は、次式: Rr =〔(L1 −L2 )/L1 〕×100 Cr =(L1 /D)×100 で計算される。
Next, when the load is unloaded to a constant load value (the load value for the origin) at the same unloading speed as the above-mentioned load speed, the displacement gradually decreases according to the curve B. When the difference between the amount of displacement of the origin load value when the load and the displacement of the inverted load value and L 1, the difference in the amount of displacement of the load and each of the origin load value at the time of unloading and L 2, the Elastic recovery rate Rr and compressive deformation rate C of the sample
r is calculated by the following equation: R r = [(L 1 −L 2 ) / L 1 ] × 100 Cr = (L 1 / D) × 100

【0035】本明細書では、10個の粒子につき、原点
用荷重値を0.1gとし、反転荷重値を1.0gとし
て、それぞれの粒子の弾性復元率および圧縮変形率を上
記式に従って求め、これらの平均値で粒子の弾性復元率
および圧縮変形率を評価した。
In the present specification, the elastic recovery rate and the compressive deformation rate of each particle are determined according to the above equations, with the load value for the origin set to 0.1 g and the reversal load value set to 1.0 g per 10 particles. The elastic recovery rate and compressive deformation rate of the particles were evaluated using these average values.

【0036】また、上記反転荷重値を越えて荷重し、粒
子が破壊した時の荷重値を圧縮強度とした。本発明に係
るオルガノポリシロキサン微粒子の平均弾性復元率(R
r m は、通常、40〜90%であり、また、該微粒子
の平均圧縮変形率(Cr m は、通常、15%以上であ
る。
Further, a load was applied exceeding the above-mentioned reversal load value, and the load value when the particles were broken was defined as the compressive strength. The average elastic recovery (R) of the organopolysiloxane fine particles according to the present invention.
r ) m is usually 40 to 90%, and the average compressive deformation rate (C r ) m of the fine particles is usually 15% or more.

【0037】また、本発明に係るオルガノポリシロキサ
ン微粒子は、通常、1〜20μmの平均粒径を有してい
る。また、この粒径の変動係数CV〔=(標準偏差/平
均粒径)×100〕は、通常、5%以下、好ましくは3
%以下である。
The organopolysiloxane fine particles according to the present invention usually have an average particle size of 1 to 20 μm. The coefficient of variation CV of the particle size [= (standard deviation / average particle size) × 100] is usually 5% or less, preferably 3% or less.
% Or less.

【0038】このように、本発明に係るオルガノポリシ
ロキサン微粒子は極めて粒径分布がシャープである。オルガノポリシロキサン微粒子の製造方法 次いで、本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子の
製造方法につき具体的に説明する。
As described above, the particle diameter distribution of the organopolysiloxane fine particles according to the present invention is extremely sharp. Method for Producing Organopolysiloxane Fine Particles Next, the method for producing the organopolysiloxane fine particles according to the present invention will be specifically described.

【0039】(a)本発明に係るオルガノポリシロキサ
ン微粒子の製造方法では、まず、式:Si(OR1 4
で表される有機ケイ素化合物(以下、有機ケイ素化合物
(A)という。)と式:R’Si(OR2 3 で表され
る有機ケイ素化合物(以下、有機ケイ素化合物(B)と
いう。)との混合物を水と有機溶媒との混合溶媒に添加
して加水分解、縮重合し、これによりシード粒子を調製
する。このシード粒子の調製法としては、従来公知の方
法が採用できる。
(A) In the method for producing organopolysiloxane fine particles according to the present invention, first, the formula: Si (OR 1 ) 4
And an organosilicon compound represented by the formula: R'Si (OR 2 ) 3 (hereinafter referred to as organosilicon compound (B)). Is added to a mixed solvent of water and an organic solvent to effect hydrolysis and polycondensation, thereby preparing seed particles. As a method for preparing the seed particles, a conventionally known method can be employed.

【0040】上記式中のR1 およびR2 は、水素原子ま
たはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基
から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表し、互いに同
一であっても異なっていてもよいが、有機ケイ素化合物
Aと、有機ケイ素化合物Bとを、水と有機溶媒との混合
溶媒中で同時に加水分解し、これら加水分解物を共縮重
合させる点から、互いに同一の基であることが好まし
い。
R 1 and R 2 in the above formula represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from an alkyl group, an alkoxyalkyl group and an acyl group, and may be the same or different. It is preferable that the organic silicon compound A and the organic silicon compound B are the same groups because they are simultaneously hydrolyzed in a mixed solvent of water and an organic solvent and co-polymerize the hydrolysates. Is preferred.

【0041】また、上記式中のR’は、置換または非置
換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の炭化水素
基を表す。このうち、非置換炭化水素基としては、アル
キル基(鎖状アルキル基または環状アルキル基)、アル
ケニル基、アラルキル基、アリール基などが挙げられ、
置換炭化水素基とは、炭化水素の水素原子の一部または
全部が非炭化水素基または水素以外の元素で置換された
基で、具体的にはクロロアルキル基、γ−メタクリロキ
シプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、アミノプ
ロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基、
γ−メルカプトプロピル基、トリフルオロプロピル基、
フルオロカーボン基などが挙げられる。
R ′ in the above formula represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Among them, examples of the unsubstituted hydrocarbon group include an alkyl group (chain alkyl group or cyclic alkyl group), an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, and the like.
A substituted hydrocarbon group is a group in which part or all of the hydrogen atoms of a hydrocarbon is substituted with a non-hydrocarbon group or an element other than hydrogen, and specifically, a chloroalkyl group, a γ-methacryloxypropyl group, a γ -Glycidoxypropyl group, aminopropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group,
γ-mercaptopropyl group, trifluoropropyl group,
And a fluorocarbon group.

【0042】有機ケイ素化合物(A)の具体例として
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラプロポキシシラン、テトラメチルメトキシシラン、
テトラエチルエトキシシラン、テトラアセトキシシラン
などが挙げられる。
Specific examples of the organosilicon compound (A) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetramethylmethoxysilane,
Examples include tetraethylethoxysilane and tetraacetoxysilane.

【0043】有機ケイ素化合物(B)の具体例として
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリス
(メトキシエトキシ)シラン、エチルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシランなど
が挙げられる。
Specific examples of the organosilicon compound (B) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltris (methoxyethoxy) silane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and phenyltrimethoxysilane. Methoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane and the like can be mentioned.

【0044】上記工程(a)で用いられる有機ケイ素化
合物(A)と有機ケイ素化合物(B)との混合比率は、
有機ケイ素化合物(A)1モル当り有機ケイ素化合物
(B)0.1〜3.0モルが混合されていることが好ま
しい。
The mixing ratio of the organosilicon compound (A) and the organosilicon compound (B) used in the above step (a) is as follows:
It is preferable that 0.1 to 3.0 mol of the organosilicon compound (B) is mixed per 1 mol of the organosilicon compound (A).

【0045】上記工程(a)では、溶媒として水と有機
溶媒との混合溶媒が用いられ、有機溶媒100重量部に
対し、水が10〜100重量部の割合で含まれているこ
とが好ましい。
In the above step (a), a mixed solvent of water and an organic solvent is used as a solvent, and it is preferable that water is contained in a ratio of 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the organic solvent.

【0046】有機溶媒としては、水と相溶性の有機溶
媒、例えば、アルコール類、グリコール類、グリコール
エーテル類、ケトン類などから選ばれる1種または2種
以上が用いられる。
As the organic solvent, an organic solvent compatible with water, for example, one or more selected from alcohols, glycols, glycol ethers, ketones and the like is used.

【0047】上記工程(a)では、有機ケイ素化合物
(A)および(B)の加水分解用触媒として溶媒中にア
ンモニアなどのアルカリが添加され、これら化合物の加
水分解中に水と有機溶媒との混合溶媒がアルカリ性に保
持されていることが好ましい。
In the above step (a), an alkali such as ammonia is added to a solvent as a catalyst for hydrolysis of the organosilicon compounds (A) and (B), and water and an organic solvent are mixed during the hydrolysis of these compounds. It is preferable that the mixed solvent is kept alkaline.

【0048】有機ケイ素化合物(A)および(B)は、
水と有機溶媒との混合溶媒中で同時に加水分解し、これ
らの加水分解物が共縮重合してシード粒子が調製される
が、水と有機溶媒との混合溶媒がアルカリ性に保持され
ていると、これらの反応が促進される。
The organosilicon compounds (A) and (B)
Hydrolysis occurs simultaneously in a mixed solvent of water and an organic solvent, and these hydrolysates are co-condensed to prepare seed particles, but when the mixed solvent of water and the organic solvent is kept alkaline. , These reactions are promoted.

【0049】上記反応温度は、約10〜20℃であるこ
とが好ましい。また、上記のようにして得られるシード
粒子分散液中のシード粒子の濃度は、SiO2 換算で約
0.05〜5重量%であることが好ましい。
The above reaction temperature is preferably about 10 to 20 ° C. The concentration of the seed particles in the seed particle dispersion obtained as described above is preferably about 0.05 to 5% by weight in terms of SiO 2 .

【0050】また、得られるシード粒子の平均粒径は
0.05〜2.0μmであることが好ましい。 (b)次いで、上記工程(a)で得られたシード粒子の
分散液に、下記式(1)〜(3)で表される化合物の1
種または2種以上を加えて加水分解・縮重合することに
よりシード粒子を成長させて任意の粒径の球状微粒子分
散液を調製する。
The average particle size of the obtained seed particles is preferably 0.05 to 2.0 μm. (B) Next, the dispersion of the seed particles obtained in the above step (a) is added to the dispersion of the compound represented by the following formulas (1) to (3).
The seed particles are grown by adding a seed or two or more kinds and subjecting them to hydrolysis and polycondensation to prepare a spherical fine particle dispersion having an arbitrary particle diameter.

【0051】(1)式:R’Si(OR2 3 (式中、R2 、R’は、前記と同様の基である。)で表
される有機ケイ素化合物(以下、有機ケイ素化合物
(C)という。)、 (2)式:R’R”Si(OR3 2 (式中、R’、R”は、互いに同一であっても異なって
いてもよく、置換または非置換の炭化水素基から選ばれ
る炭素数1〜10の基であり、R3 は、前記R1 と同様
の基である。)で表される有機ケイ素化合物(以下、有
機ケイ素化合物(D)という。)、(3)式:
(1) An organosilicon compound represented by the formula: R′Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 and R ′ are the same groups as described above) (2) Formula: R′R ″ Si (OR 3 ) 2 (wherein R ′ and R ″ may be the same or different from each other, and may be a substituted or unsubstituted carbonized An organosilicon compound (hereinafter, referred to as an organosilicon compound (D)) represented by a group having 1 to 10 carbon atoms selected from a hydrogen group, and R 3 is the same group as R 1 above; Equation (3):

【0052】[0052]

【化6】 Embedded image

【0053】(式中、R4 は、プロピルまたはブチル基
であり、Yは、メチル基、メトキシ基、エチル基および
エトキシ基から選ばれる1種の有機基であり、Mは、周
期律表第IB族、第IIA、B族、第III A、B族、第IV
A、B族、第VA族、第VIA族、第VII A族、第VIII族
から選ばれる元素であり、また、mは0〜3の整数であ
り、nは1〜4の整数であり、m+nは2〜4の整数で
ある。)で表されるアセチルアセトナトキレート化合
物。
Wherein R 4 is a propyl or butyl group, Y is one kind of organic group selected from a methyl group, a methoxy group, an ethyl group and an ethoxy group, and M is IB, IIA, B, IIIA, B, IV
An element selected from A, B, VA, VIA, VIIA, and VIII; m is an integer of 0 to 3; n is an integer of 1 to 4; m + n is an integer of 2 to 4. The acetylacetonato chelate compound represented by).

【0054】この工程(b)で用いられる有機ケイ素化
合物(C)および(D)中のR’、有機ケイ素化合物
(D)中のR”は、いずれも炭素原子数が大きくなる
と、有機ケイ素化合物(C)および/または(D)をシ
ード粒子分散液に添加した際にシード粒子分散液にゲル
が生じ易く、また、シード粒子の成長が困難になる。
When R ′ in the organosilicon compounds (C) and (D) and R ″ in the organosilicon compound (D) used in this step (b) each have a large number of carbon atoms, the organosilicon compound When (C) and / or (D) are added to the seed particle dispersion, a gel is likely to be formed in the seed particle dispersion, and the growth of the seed particles becomes difficult.

【0055】このため、R’およびR”は、いずれもメ
チル基、ビニル基、トリフルオロメチル基、フェニルア
ミノ基などのような炭素原子数が小さな基であることが
好ましい。
For this reason, it is preferable that both R ′ and R ″ are groups having a small number of carbon atoms, such as a methyl group, a vinyl group, a trifluoromethyl group and a phenylamino group.

【0056】有機ケイ素化合物(C)としては、前記工
程(a)で用いられる有機ケイ素化合物(B)を用いる
ことができる。有機ケイ素化合物(D)の具体例として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジエチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、ジメチルアセトキシシランなどが挙げられ
る。
As the organosilicon compound (C), the organosilicon compound (B) used in the step (a) can be used. Specific examples of the organosilicon compound (D) include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, dimethylacetoxysilane, and the like.

【0057】また、上記式(3)で表されるアセチルア
セトナトキレート化合物の具体例としては、ジブトキシ
−ビスアセチルアセトナトジルコニウム、トリブトキシ
−モノアセチルアセトナトジルコニウム、トリイソプロ
ポキシ−モノアセチルアセトナトチタン、ジブトキシ−
ビスアセチルアセトナトチタン、ビスアセチルアセトナ
ト鉛、トリスアセチルアセトナト鉄、ジブトキシ−ビス
アセチルアセトハフニウム、トリブトキシ−モノアセチ
ルアセトナトハフニウムなどが挙げられる。
Specific examples of the acetylacetonatochelate compound represented by the above formula (3) include dibutoxy-bisacetylacetonatozirconium, tributoxy-monoacetylacetonatozirconium, and triisopropoxy-monoacetylacetonatotitanium. , Dibutoxy
Examples include titanium bisacetylacetonato, lead bisacetylacetonato, iron trisacetylacetonate, dibutoxy-bisacetylacetohafnium, and tributoxy-monoacetylacetonatohafnium.

【0058】上記工程(b)では、シード粒子分散液に
有機ケイ素化合物(D)またはアセチルアセトナトキレ
ート化合物のみを添加してもよいが、少なくとも約50
モル%以上の有機ケイ素化合物(C)を添加することが
好ましい。
In the above step (b), only the organosilicon compound (D) or the acetylacetonato chelate compound may be added to the seed particle dispersion, but at least about 50%
It is preferable to add at least mol% of the organosilicon compound (C).

【0059】上記工程(b)で、シード粒子分散液に前
記化合物を添加する場合、シード粒子分散液への添加速
度が速すぎると、シード粒子分散液中で粒子同士が凝集
したり、あるいはシード粒子の成長が不均一になり、最
終的に粒径分布がシャープなオルガノポリシロキサン微
粒子が得られないことがある。そこで、これら化合物の
添加速度を分散媒に含まれている水1g当り0.001
〜0.05g/時間とすることが好ましい。
In the step (b), when the compound is added to the seed particle dispersion, if the rate of addition to the seed particle dispersion is too high, the particles may aggregate in the seed particle dispersion or In some cases, the growth of the particles becomes non-uniform, and eventually, organopolysiloxane fine particles having a sharp particle size distribution cannot be obtained. Therefore, the addition rate of these compounds is set to 0.001 / g of water contained in the dispersion medium.
It is preferable to set it to 0.05 g / hour.

【0060】また、上記工程(b)において前記化合物
を添加してシード粒子を成長させる際には、必要に応じ
てシード粒子調製時と同様にこれらアルコキシシランの
加水分解触媒としてアンモニアなどのアルカリが用いら
れる。
In the step (b), when the compound is added to grow the seed particles, an alkali such as ammonia may be used as a hydrolysis catalyst for these alkoxysilanes, if necessary, as in the preparation of the seed particles. Used.

【0061】上記工程(b)で加水分解触媒としてアン
モニアを用いる場合、アンモニア水を添加したシード粒
子分散液に前記化合物を添加してもよく、シード粒子分
散液にアンモニア水と前記化合物とを同時に添加しても
よい。この際のシード粒子分散液中のアンモニアの濃度
は、上記工程(a)で調整された溶媒中の濃度に比較し
て低い方が好ましい。
When ammonia is used as the hydrolysis catalyst in the above step (b), the compound may be added to the seed particle dispersion to which ammonia water has been added, and the ammonia water and the compound may be simultaneously added to the seed particle dispersion. It may be added. At this time, the concentration of ammonia in the seed particle dispersion is preferably lower than the concentration in the solvent adjusted in the step (a).

【0062】このようにしてシード粒子分散液に上記式
(1)〜(3)で表される化合物の1種または2種以上
を添加するとこれらの化合物が加水分解し、次いでこの
加水分解物とシード粒子、あるいは加水分解物同士が縮
重合してシード粒子に付着し、これによりシード粒子が
成長する。
When one or more of the compounds represented by the above formulas (1) to (3) are added to the seed particle dispersion as described above, these compounds are hydrolyzed, and The seed particles or the hydrolysates are polycondensed and adhere to the seed particles, whereby the seed particles grow.

【0063】上記反応温度は、上記工程(a)における
反応温度よりも低い。具体的には約−10〜20℃であ
ることが好ましい。(c) この球状微粒子分散液を20〜80℃の温度で約
0.5〜24時間維持し、球状微粒子を熟成させる。
[0063] The reaction temperature is not lower than the reaction temperature in the step (a). Specifically, the temperature is preferably about -10 to 20C. (C) The spherical fine particle dispersion is maintained at a temperature of 20 to 80 ° C. for about 0.5 to 24 hours to mature the spherical fine particles.

【0064】(d)熟成後の球状微粒子は、遠心分離法
などで球状微粒子分散液から分離され、次いで乾燥され
る。さらに、前記化合物の縮重合を促進、完結させるた
め、必要に応じて熟成後の球状微粒子を焼成したり、あ
るいは該球状微粒子に紫外線などの電磁波を照射するな
どの処理が行われる。
(D) The matured spherical fine particles are separated from the spherical fine particle dispersion by a centrifugation method or the like, and then dried. Further, in order to promote and complete the polycondensation of the compound, if necessary, a treatment such as baking the aged spherical fine particles or irradiating the spherical fine particles with electromagnetic waves such as ultraviolet rays is performed.

【0065】以上のような工程を経ることにより、平均
粒径が約1〜20μmであり、粒径のCV値が5%以
下、好ましくは3%以下である本発明に係るオルガノポ
リシロキサン微粒子が製造される。
Through the above steps, the organopolysiloxane fine particles according to the present invention having an average particle diameter of about 1 to 20 μm and a CV value of the particle diameter of 5% or less, preferably 3% or less are obtained. Manufactured.

【0066】以上、本発明に係るオルガノポリシロキサ
ン微粒子の製造方法につき、その基本的構成について具
体的に説明してきたが、本発明に係るオルガノポリシロ
キサン微粒子の製造方法は、上記工程(a)〜(d)
含んで上記本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子
が製造されれば、特に制限はなく、たとえば、上記工程
(b)、(c)または(d)の後に次のような工程を含
んでいてもよい。
The basic structure of the method for producing the organopolysiloxane fine particles according to the present invention has been specifically described above. The method for producing the organopolysiloxane fine particles according to the present invention comprises the above steps (a) to (d). There is no particular limitation as long as the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are produced including (d) , and for example, the following steps are included after the above steps (b) , (c) or (d). You may go out.

【0067】上記工程を経て得られたオルガノポリシロ
キサン微粒子は、疎水性である。しかしながら、用途に
よっては親水性のオルガノポリシロキサン微粒子が必要
とされる場合もある。
The organopolysiloxane fine particles obtained through the above steps are hydrophobic. However, depending on the application, hydrophilic organopolysiloxane fine particles may be required.

【0068】このような場合には、たとえば、オルガノ
ポリシロキサン微粒子表面に親水性の基を導入するなど
の親水化処理が行なわれる。このような親水化処理とし
ては、特に制限されるものではなく、たとえば、テトラ
アルコキシランなどの加水分解性の有機ケイ素化合物、
その他の金属アルコキシド、あるいはこれらの混合物を
加水分解して得られる加水分解物でオルガノポリシロキ
サン微粒子表面を被覆するなどの方法が挙げられる。
In such a case, for example, a hydrophilic treatment such as introduction of a hydrophilic group on the surface of the organopolysiloxane fine particles is performed. Such a hydrophilization treatment is not particularly limited, for example, a hydrolyzable organosilicon compound such as tetraalkoxylan,
A method of coating the surface of the organopolysiloxane fine particles with another metal alkoxide or a hydrolyzate obtained by hydrolyzing a mixture thereof is exemplified.

【0069】本発明では、上記工程で得られたオルガノ
ポリシロキサン微粒子をケイフッ化水素酸−アルコール
混合水溶液に分散させ、得られた分散液にホウ酸または
水素化ホウ素ナトリウム水溶液を添加し、これにより得
られた酸化ケイ素でオルガノポリシロキサン微粒子表面
を被覆することが好ましい。このようにすると、さらに
優れた弾性率を有するか、少なくとも被覆前の弾性率を
維持した親水性のオルガノポリシロキサン微粒子が得ら
れる。
In the present invention, the organopolysiloxane fine particles obtained in the above step are dispersed in an aqueous solution of a mixture of hydrofluorosilicic acid and alcohol, and an aqueous solution of boric acid or sodium borohydride is added to the obtained dispersion. It is preferable to coat the surface of the organopolysiloxane fine particles with the obtained silicon oxide. By doing so, hydrophilic organopolysiloxane fine particles having a further excellent elastic modulus or at least maintaining the elastic modulus before coating can be obtained.

【0070】オルガノポリシロキサン微粒子をケイフッ
化水素酸−アルコール混合水溶液に分散させ、得られた
分散液に水素化ホウ素ナトリウム水溶液を添加すると、
下記反応式: 2H2 SiF6 +3NaBH4 +4H2 O→2SiO2
+3NaBF4 +12H2 に従って生成する酸化ケイ素(SiO2 )がオルガノポ
リシロキサン微粒子表面に被着する。
The organopolysiloxane fine particles are dispersed in an aqueous solution of a hydrofluoric acid-alcohol mixture, and an aqueous solution of sodium borohydride is added to the resulting dispersion.
The following reaction formula: 2H 2 SiF 6 + 3NaBH 4 + 4H 2 O → 2SiO 2
Silicon oxide (SiO 2 ) generated according to + 3NaBF 4 + 12H 2 adheres to the surface of the organopolysiloxane fine particles.

【0071】この方法により、オルガノポリシロキサン
微粒子表面が親水化できるが、オルガノポリシロキサン
微粒子表面に被着する酸化ケイ素の膜厚は任意にコント
ロールできる。したがって、この方法でオルガノポリシ
ロキサン微粒子の粒径を最終的に調整することもでき
る。
Although the surface of the organopolysiloxane fine particles can be made hydrophilic by this method, the thickness of the silicon oxide deposited on the surface of the organopolysiloxane fine particles can be arbitrarily controlled. Therefore, the particle size of the organopolysiloxane fine particles can be finally adjusted by this method.

【0072】液晶表示装置 最後に、本発明に係る液晶表示装置につき具体的に説明
する。本発明に係る液晶表示装置は、一対の電極を備え
た液晶セルを有し、前記電極間に上記本発明に係るオル
ガノポリシロキサン微粒子がスペーサとして介在してい
ることを特徴としている。
Finally, the liquid crystal display device according to the present invention will be specifically described. A liquid crystal display device according to the present invention includes a liquid crystal cell having a pair of electrodes, wherein the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are interposed between the electrodes as spacers.

【0073】上記液晶セルは、本発明に係るオルガノポ
リシロキサン微粒子が介在し、該微粒子により液晶セル
の電極間距離が一定に保持されていることを除いて、公
知の液晶セルと同様に構成されている。
The liquid crystal cell has the same structure as the known liquid crystal cell except that the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are interposed and the distance between the electrodes of the liquid crystal cell is kept constant by the fine particles. ing.

【0074】本発明に係る液晶表示装置では、オルガノ
ポリシロキサン微粒子は、液晶セルの電極間スペーサと
して、電極面全面にわたって介在していてもよいが、電
極間周縁部の接着剤層中に介在していてもよい。
In the liquid crystal display device according to the present invention, the organopolysiloxane fine particles may be interposed as a spacer between the electrodes of the liquid crystal cell over the entire surface of the electrode, but may be interposed in the adhesive layer at the peripheral portion between the electrodes. May be.

【0075】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子を液晶セルの電極間スペーサとして用いる場合、必要
とされるセルギャップの大きさ、均一性などに応じてオ
ルガノポリシロキサン微粒子の粒径およびCV値が選択
される。
When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the particle size and CV value of the organopolysiloxane fine particles are selected according to the required cell gap size and uniformity. Is done.

【0076】特に粒径の均一性が重要で、その指標であ
るCV値は、5%以下、特に3%以下であることが好ま
しい。また、液晶セルの電極間に粒状スペーサを用いた
場合に、スペーサ粒子の圧縮変形が小さいことに起因し
て発生する液晶セル内部液晶層における厚さの不均一
化、液晶セル内部で液晶層の熱膨張係数とスペーサの熱
膨張係数とが異なるために発生する低温気泡を防止する
点から、本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子を
液晶セルの電極間スペーサとして用いる場合、上記で定
義した平均弾性復元率(Rr m が、60〜90%であ
ることが好ましく、また、上記で定義した平均圧縮変形
率(Cr m が、30%以上であることが好ましい。
The uniformity of the particle size is particularly important, and the CV value as an index thereof is preferably 5% or less, particularly preferably 3% or less. Also, when granular spacers are used between the electrodes of the liquid crystal cell, the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell becomes uneven due to the small compression deformation of the spacer particles. When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as an inter-electrode spacer of a liquid crystal cell, in order to prevent low-temperature bubbles generated due to a difference between the thermal expansion coefficient and the thermal expansion coefficient of the spacer, the average elasticity recovery defined above. The rate (R r ) m is preferably 60 to 90%, and the average compressive deformation rate (C r ) m defined above is preferably 30% or more.

【0077】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子を液晶セルの電極間スペーサとして用いる場合、オル
ガノポリシロキサン微粒子を一方の電極面(電極面上に
保護膜が形成されている場合には保護膜の表面)に湿式
法または乾式法で均一に散布し、次いで一方の電極面
(または保護膜の表面)に散布されたオルガノポリシロ
キサン微粒子上に他方の電極面(または保護膜の表面)
を載置して重ね合わせ、これにより形成されたセルギャ
ップ中に液晶材料を充填し、両電極面の周縁部をシール
用樹脂で貼り合わせ、密閉することによって、本発明に
係る液晶表示装置で用いられる液晶セルが得られる。こ
の場合、シール用樹脂中に本発明に係るオルガノポリシ
ロキサン微粒子が混合されていてもよい。
When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the organopolysiloxane fine particles are applied to one of the electrode surfaces (the surface of the protective film when a protective film is formed on the electrode surface). ) Is uniformly dispersed by a wet method or a dry method, and then on the organopolysiloxane fine particles dispersed on one electrode surface (or the surface of the protective film), and on the other electrode surface (or the surface of the protective film).
The liquid crystal material is filled in the cell gap formed by this, and the peripheral portions of both electrode surfaces are bonded with a sealing resin, and sealed, thereby providing a liquid crystal display device according to the present invention. The liquid crystal cell used is obtained. In this case, the organopolysiloxane fine particles according to the present invention may be mixed in the sealing resin.

【0078】また、本発明に係る液晶表示装置で用いら
れる液晶セルは、本発明に係るオルガノポリシロキサン
微粒子が混合されているシール用樹脂を一方の電極面
(または保護膜の表面)の周縁部に液晶材料の注入口を
除いて塗布し、次いで他方の電極面(または保護膜の表
面)を載置して重ね合わせ、液晶材料の注入口から液晶
材料を注入した後、この液晶材料の注入口をシール用樹
脂で密閉する方法でも得られる。
In the liquid crystal cell used in the liquid crystal display device according to the present invention, the sealing resin in which the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are mixed is applied to the periphery of one electrode surface (or the surface of the protective film). Is applied except for the liquid crystal material injection port, and then the other electrode surface (or the surface of the protective film) is placed and overlapped. After the liquid crystal material is injected from the liquid crystal material injection port, the liquid crystal material is injected. It can also be obtained by sealing the inlet with a sealing resin.

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明によれば、粒度分布が極めてシャ
ープであって、しかも弾性復元率および圧縮変形率が高
いオルガノポリシロキサン微粒子が提供される。
According to the present invention, organopolysiloxane fine particles having an extremely sharp particle size distribution and a high elastic recovery rate and a high compressive deformation rate are provided.

【0080】この本発明に係るオルガノポリシロキサン
微粒子を液晶セルの電極間スペーサとして用いると、該
微粒子の粒度分布がシャープであるので、液晶セルのセ
ルギャップ、従って液晶セルの電極間に形成された液晶
層の厚さを均一に保持することができ、また、該微粒子
の弾性復元率および圧縮変形率が高いので、液晶セル内
部に発生する低温気泡が防止され、この結果、画像むら
などのない高性能の液晶表示装置が提供できる。
When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the particle size distribution of the fine particles is sharp. Since the thickness of the liquid crystal layer can be kept uniform and the fine particles have a high elastic recovery rate and a high compressive deformation rate, low-temperature bubbles generated inside the liquid crystal cell are prevented, and as a result, there is no image unevenness. A high-performance liquid crystal display device can be provided.

【0081】[0081]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0082】[0082]

【実施例1】メチルトリメトキシシラン8gと、テトラ
メトキシシラン8gとを、エタノール350gに溶解し
た溶液(A液)を調製した。他方、純水6gと、28%
アンモニア水78gと、エタノール350gの混合溶液
(B液)を調製した。
Example 1 A solution (solution A) was prepared by dissolving 8 g of methyltrimethoxysilane and 8 g of tetramethoxysilane in 350 g of ethanol. On the other hand, pure water 6g and 28%
A mixed solution (solution B) of 78 g of aqueous ammonia and 350 g of ethanol was prepared.

【0083】上記A液とB液とを混合し、室温で3時間
攪拌し、アルコキシシランを加水分解・縮重合すること
により、シード粒子分散液を得た。このシード粒子分散
液中のシード粒子の平均粒径は、遠心式粒度分布測定法
で測定した結果、0.15μmであった。
The above solution A and solution B were mixed, stirred at room temperature for 3 hours, and hydrolyzed and polycondensed alkoxysilane to obtain a seed particle dispersion. The average particle size of the seed particles in this seed particle dispersion was 0.15 μm as measured by a centrifugal particle size distribution measuring method.

【0084】得られたシード粒子分散液が160gにな
るまでシード粒子分散液を濃縮した後、濃縮されたシー
ド粒子分散液に純水5000gおよびブタノール250
gを加えた。こうして希釈されたシード粒子分散液に
0.28%アンモニア水100gを添加した後、このア
ンモニア水が添加されたシード粒子分散液を−5℃に冷
却し、この温度を保持しながら、このシード粒子分散液
にメチルトリメトキシシラン500gを0.005g/
純水−g・時間の添加速度で滴下し、メチルトリメトキ
シシランをシード粒子上に加水分解・縮重合させてシー
ド粒子を成長させた。
After the seed particle dispersion was concentrated until the obtained seed particle dispersion reached 160 g, 5000 g of pure water and 250 ml of butanol were added to the concentrated seed particle dispersion.
g was added. After adding 100 g of 0.28% aqueous ammonia to the seed particle dispersion thus diluted, the seed particle dispersion to which the aqueous ammonia was added was cooled to −5 ° C., and while maintaining this temperature, the seed particles were dispersed. 500 g of methyltrimethoxysilane was added to the dispersion at a rate of 0.005 g /
The solution was added dropwise at a rate of pure water-g · hour, and methyltrimethoxysilane was hydrolyzed and polycondensed on the seed particles to grow the seed particles.

【0085】滴下終了後の液を60℃まで加温し、この
温度で5時間攪拌して成長したシード粒子を熟成した。
得られた微粒子を液から分離し、乾燥後、300℃で焼
成した。
After completion of the dropwise addition, the liquid was heated to 60 ° C., and stirred at this temperature for 5 hours to ripen the grown seed particles.
The obtained fine particles were separated from the liquid, dried, and fired at 300 ° C.

【0086】上記のようにして得られたオルガノポリシ
ロキサン微粒子の29Si−NMRスペクトル、平均粒
径、CV値、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr m およ
び平均圧縮変形率(Cr m を測定した。なお、オルガ
ノポリシロキサン微粒子の平均粒径およびCV値は、オ
ルガノポリシロキサン微粒子の電子顕微鏡写真から測定
・算出し、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr m および
平均圧縮変形率(Cr m は、前記の方法で測定した。
The organopolicy obtained as described above
Loxane fine particles29Si-NMR spectrum, average grain
Diameter, CV value, compressive strength, average elastic recovery (Rr)mAnd
And average compressive deformation rate (Cr)mWas measured. In addition, Olga
The average particle size and CV value of
Measured from electron micrographs of luganopolysiloxane particles
・ Calculate, compressive strength, average elastic recovery (Rr)mand
Average compressive deformation rate (Cr) mWas measured by the method described above.

【0087】また29Si−NMRスペクトルから、上述
した全ピークの合計面積ST 、ピーク面積SI およびピ
ーク面積SIIを測定し、SII/SI および(SI
II)/ST の値を算出した。
From the 29 Si-NMR spectrum, the total area S T , peak area S I and peak area S II of all the peaks described above were measured, and S II / S I and (S I +
To calculate the value of the S II) / S T.

【0088】得られたオルガノポリシロキサン微粒子の
II/SI 、(SI +SII)/ST、平均粒径、CV
値、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr m および平均圧
縮変形率(Cr m を表1に示す。
S II / S I , (S I + S II ) / S T , average particle size, CV of the obtained organopolysiloxane fine particles
Table 1 shows the values, compressive strength, average elastic recovery (R r ) m and average compressive deformation (C r ) m .

【0089】[0089]

【実施例2】シード粒子を成長させる工程で実施例1の
メチルトリメトキシシランに代えてビニルトリメトキシ
シラン500gおよびトリイソプロポキシ−モノアセチ
ルアセトナトチタン70.3gを用いてシード粒子を成
長させた。このようにして得られた微粒子を熟成後分離
して乾燥した後、6000mJの紫外線を照射して表1
に示すSII/SI 、(SI +SII)/ST 、平均粒径、
CV値、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr m および平
均圧縮変形率(Cr m を有するオルガノポリシロキサ
ン微粒子を得た。
Example 2 In the step of growing the seed particles, the seed particles were grown using 500 g of vinyltrimethoxysilane and 70.3 g of titanium triisopropoxy-monoacetylacetonato in place of the methyltrimethoxysilane of Example 1. . The fine particles thus obtained were aged, separated and dried, and then irradiated with 6000 mJ of ultraviolet light.
SII / S I , (S I + S II ) / S T , average particle size,
Organopolysiloxane fine particles having a CV value, compressive strength, average elastic recovery (R r ) m and average compressive deformation (C r ) m were obtained.

【0090】得られたオルガノポリシロキサン微粒子の
29Si−NMRスペクトル(ケミカルシフト−50〜−
120ppm領域を含む)を図2に示す。
Of the obtained organopolysiloxane fine particles.
29 Si-NMR spectrum (chemical shift -50 to-
2 (including the 120 ppm region) is shown in FIG.

【0091】[0091]

【実施例3】シード粒子を成長させる工程でメチルトリ
メトキシシランに代えてN−フェニル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシランを用い、微粒子の焼成温度を2
70℃とした以外は、実施例1と同様にして、表1に示
すSII/SI 、(SI +SII)/ST 、平均粒径、CV
値、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr m および平均圧
縮変形率(Cr m を有するオルガノポリシロキサン微
粒子を得た。
Example 3 In the step of growing seed particles, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane was used instead of methyltrimethoxysilane, and the firing temperature of the fine particles was 2
S II / S I , (S I + S II ) / S T , average particle size and CV shown in Table 1 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the temperature was 70 ° C.
Thus, organopolysiloxane fine particles having values, compressive strength, average elastic recovery (R r ) m and average compressive deformation (C r ) m were obtained.

【0092】[0092]

【実施例4】シード粒子を成長させる工程でメチルトリ
メトキシシラン500gに代えてメチルトリメトキシシ
ラン400gとジメチルジメトキシシラン100gとを
用いた以外は、実施例1と同様にして、表1に示すSII
/SI 、(SI +SII)/S T 、平均粒径、CV値、圧
縮強度、平均弾性復元率(Rr m および平均圧縮変形
率(Cr m を有するオルガノポリシロキサン微粒子を
得た。
Embodiment 4 In the step of growing seed particles, methyl tri
Methyltrimethoxysilane instead of 500 g of methoxysilane
400 g of orchid and 100 g of dimethyldimethoxysilane
Except for using, the same as in Example 1II
/ SI, (SI+ SII) / S T, Average particle size, CV value, pressure
Shrinkage strength, average elastic recovery (Rr)mAnd average compression deformation
Rate (Cr)mOrganopolysiloxane fine particles having
Obtained.

【0093】[0093]

【実施例5】実施例1で得られたシード粒子分散液が1
60gになるまでシード粒子分散液を濃縮した後、濃縮
されたシード粒子分散液に純水5000gおよびイソプ
ロパノール500gを加えた。こうして希釈されたシー
ド粒子分散液に0.28%アンモニア水100gを添加
した後、このアンモニア水が添加されたシード粒子分散
液を0℃に冷却し、この温度を保持しながら、このシー
ド粒子分散液にメチルトリメトキシシラン500gおよ
びジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウム7
8.8gを0.01g/純水−g・時間の添加速度で滴
下し、シード粒子を成長させた。
Example 5 The seed particle dispersion obtained in Example 1 was 1
After the seed particle dispersion was concentrated to 60 g, 5000 g of pure water and 500 g of isopropanol were added to the concentrated seed particle dispersion. After 100 g of 0.28% ammonia water is added to the seed particle dispersion thus diluted, the seed particle dispersion to which the ammonia water has been added is cooled to 0 ° C., and while maintaining this temperature, the seed particle dispersion is dispersed. 500 g of methyltrimethoxysilane and dibutoxy-bisacetylacetonatozirconium 7
8.8 g was added dropwise at an addition rate of 0.01 g / pure water-g · hour to grow seed particles.

【0094】その後、実施例2と同様の条件で紫外線照
射し、表1に示すSII/SI 、(S I +SII)/ST
平均粒径、CV値、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr
m 、平均圧縮変形率(Cr m を有するオルガノポリシ
ロキサン微粒子を得た。
Thereafter, the ultraviolet irradiation was performed under the same conditions as in Example 2.
Shot and S shown in Table 1II/ SI, (S I+ SII) / ST,
Average particle size, CV value, compressive strength, average elastic recovery (Rr)
m, Average compressive deformation rate (Cr)mOrganopolicy with
Loxane fine particles were obtained.

【0095】[0095]

【実施例6】メチルトリメトキシシランの量を12gと
した以外は実施例1と同様にして、平均粒径0.43μ
mのシード粒子分散液を得た。
Example 6 The same procedure as in Example 1 was repeated except that the amount of methyltrimethoxysilane was changed to 12 g, and the average particle size was 0.43 μm.
m of the seed particle dispersion was obtained.

【0096】得られたシード粒子分散液が160gにな
るまでシード粒子分散液を濃縮した後、ブタノール50
0gに代えてエチレングリコール1000gを用い、メ
チルトリメトキシシランの添加速度を0.01g/純水
−g・時間とした以外は実施例1と同様にして、表1に
示すSII/SI 、(SI +SII)/ST 、平均粒径、C
V値、圧縮強度、平均弾性復元率(Rr m および平均
圧縮変形率(Cr mを有するオルガノポリシロキサン
微粒子を得た。
After the seed particle dispersion was concentrated until the obtained seed particle dispersion reached 160 g, butanol 50
In the same manner as in Example 1 except that 1000 g of ethylene glycol was used instead of 0 g and the addition rate of methyltrimethoxysilane was 0.01 g / pure water-g · hour, S II / S I shown in Table 1 was used. (S I + S II ) / S T , average particle size, C
Organopolysiloxane fine particles having V value, compressive strength, average elastic recovery (R r ) m and average compressive deformation (C r ) m were obtained.

【0097】[0097]

【実施例7】実施例6で得られたシード粒子分散液が1
60gになるまでシード粒子分散液を濃縮した後、ブタ
ノール250gに代えてテトラヒドロフラン500gを
用い、メチルトリメトキシシランに代えてトリクロロメ
チルトリメトキシシランを用いた以外は実施例1と同様
にして、表1に示すSII/SI 、(SI +SII)/
T 、平均粒径、CV値、圧縮強度、平均弾性復元率
(Rr m および平均圧縮変形率(Cr m を有するオ
ルガノポリシロキサン微粒子を得た。
Example 7 The seed particle dispersion obtained in Example 6 was 1
After concentrating the seed particle dispersion to 60 g,
500 g of tetrahydrofuran instead of 250 g of phenol
Used instead of methyltrimethoxysilane.
Same as Example 1 except that tyltrimethoxysilane was used
And S shown in Table 1II/ SI, (SI+ SII) /
S T, Average particle size, CV value, compressive strength, average elastic recovery
(Rr)mAnd average compressive deformation rate (Cr)mOh with
Luganopolysiloxane fine particles were obtained.

【0098】[0098]

【表1】 [Table 1]

【0099】[0099]

【実施例8〜14】実施例1〜7で得られたオルガノポ
リシロキサン微粒子10gを、それぞれ純水とメタノー
ルとの混合溶媒100g〔水/メタノール=50/50
(重量比)〕に分散した。
Examples 8 to 14 10 g of the organopolysiloxane fine particles obtained in Examples 1 to 7 were each mixed with 100 g of a mixed solvent of pure water and methanol [water / methanol = 50/50].
(Weight ratio)].

【0100】この分散液に、ケイフッ化水素酸33重量
%水溶液2gを添加した後、水素化ホウ素ナトリウム
0.6重量%水溶液50gを1時間かけて添加した。そ
の後、粒子を純水で洗浄し、乾燥した。
After adding 2 g of a 33% by weight aqueous solution of hydrosilicofluoric acid to this dispersion, 50 g of a 0.6% by weight aqueous solution of sodium borohydride was added over 1 hour. Thereafter, the particles were washed with pure water and dried.

【0101】得られた微粒子は、いずれも純水によく分
散した。また、上記のようにして表面処理されたオルガ
ノポリシロキサン微粒子の平均弾性復元率(Rr m
よび平均圧縮変形率(Cr m は、いずれも処理前とほ
とんど変化していなかった。
Each of the obtained fine particles was well dispersed in pure water. In addition, the average elastic recovery (R r ) m and the average compressive deformation (C r ) m of the organopolysiloxane fine particles surface-treated as described above hardly changed from those before the treatment.

【0102】[0102]

【実施例15】液晶表示装置の液晶セルに用いられる一
対の透明電極付透明基板を準備した。この透明電極付透
明基板は、ガラス基板の片面に透明電極としてのITO
薄膜、液晶材料に含まれている液晶性化合物分子を所定
方向に配向させる配向膜がこの順序で形成されている。
Example 15 A pair of transparent substrates with transparent electrodes used for a liquid crystal cell of a liquid crystal display device was prepared. This transparent substrate with a transparent electrode is made of ITO as a transparent electrode on one side of a glass substrate.
A thin film and an alignment film for aligning liquid crystal compound molecules contained in the liquid crystal material in a predetermined direction are formed in this order.

【0103】次いで、一方の透明電極付透明基板に形成
された配向膜面に実施例1〜7で得られたオルガノポリ
シロキサン微粒子をそれぞれ均一に散布し、次いでこの
オルガノポリシロキサン微粒子上に、他方の透明電極付
透明基板に形成された配向膜面を接触させ、両透明電極
付透明基板を重ね合わせた。
Next, the organopolysiloxane fine particles obtained in Examples 1 to 7 were uniformly spread on the alignment film surface formed on one of the transparent substrates provided with the transparent electrodes. The surfaces of the alignment films formed on the transparent substrates with transparent electrodes were brought into contact with each other, and the transparent substrates with transparent electrodes were overlapped.

【0104】こうして両透明電極付透明基板の配向膜間
に形成された隙間に液晶材料を充填し、両基板の周縁部
をシール用樹脂で貼り合わせ、密閉することにより液晶
セルを作成した。また、作成した液晶セルはSTNモー
ドで駆動されるようになっている。
The gap formed between the alignment films of the transparent substrates with the transparent electrodes was filled with a liquid crystal material, the peripheral portions of the two substrates were bonded together with a sealing resin, and sealed to form a liquid crystal cell. Further, the created liquid crystal cell is driven in the STN mode.

【0105】以上のようにして作成した液晶セルを室温
から−40℃に冷却したところ、いずれも液晶セルの内
部に低温気泡が観察されなかった。また、以上のように
して作成した液晶セルを液晶表示装置に取り付けて液晶
表示装置を駆動させたところ、いずれの液晶セルを取り
付けた場合も表示画像のむらが観察されなかった。
When the liquid crystal cells prepared as described above were cooled from room temperature to -40 ° C., no low-temperature bubbles were observed inside any of the liquid crystal cells. When the liquid crystal cell prepared as described above was mounted on a liquid crystal display and the liquid crystal display was driven, no unevenness of the displayed image was observed with any of the liquid crystal cells.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、弾性復元率および圧縮変形率を説明す
るための図面である。
FIG. 1 is a drawing for explaining an elastic recovery rate and a compressive deformation rate.

【図2】図2は、本発明に係るオルガノポリシロキサン
微粒子の代表的な29Si−NMRスペクトルを示す図面
である。
FIG. 2 is a drawing showing a typical 29 Si-NMR spectrum of the organopolysiloxane fine particles according to the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 光 尾 豊 福岡県北九州市若松区北湊町13番2号 触媒化成工業株式会社若松工場内 (56)参考文献 特開 平5−148364(JP,A) 特開 平6−248081(JP,A) 特開 平2−255837(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 77/14 C08G 77/06 G02F 1/1339 500 WPI(DIALOG)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Yutaka Mitsuo 13-2 Kitaminato-cho, Wakamatsu-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka Prefecture Inside the Wakamatsu Plant of Catalysis Chemical Industry Co., Ltd. (56) References JP-A-5-148364 (JP, A JP-A-6-248081 (JP, A) JP-A-2-255837 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 77/14 C08G 77/06 G02F 1 / 1339 500 WPI (DIALOG)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 次式(I)および(II): 【化1】 (上記式(I)中、Xは、水素原子、または周期律表第
IB族、第IIA、B族、第III A、B族、第IVA、B
族、第VA、B族、第VIA族、第VII A族、第VIII族か
ら選ばれる元素であり、 上記式(II)中、Rは、一価の有機基である。)で表さ
れるシロキサン結合を含むオルガノポリシロキサン微粒
子であって、該微粒子の29Si−NMRスペクトルを測
定した際にケミカルシフト0〜−120ppmの範囲内
で観測される全ピークの合計面積ST と、前記式(I)
で表されるシロキサン結合に対応するピーク面積S
I と、前記式(II)で表されるシロキサン結合に対応す
るピーク面積SIIとが、次式: SII/SI ≧2 かつ (SI +SII)/ST ≧0.3 を満たすことを特徴とするオルガノポリシロキサン微粒
子。
1. The following formulas (I) and (II): (In the above formula (I), X is a hydrogen atom or a group IB, IIA, B, IIIA, B, IVA, B of the periodic table.
Group, group VA, group B, group VIA, group VIIA, group VIII. In the above formula (II), R is a monovalent organic group. Are fine particles of an organopolysiloxane containing a siloxane bond represented by the formula (1), and the total area S T of all peaks observed within a chemical shift range of 0 to -120 ppm when a 29 Si-NMR spectrum of the fine particles is measured. And the formula (I)
The peak area S corresponding to the siloxane bond represented by
I and the peak area S II corresponding to the siloxane bond represented by the formula (II) satisfy the following formulas: S II / S I ≧ 2 and (S I + S II ) / S T ≧ 0.3 Organopolysiloxane fine particles characterized by the above-mentioned.
【請求項2】(a) 式:Si(OR1 4 (式中、R1 は、水素原子またはアルキル基、アルコキ
シアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜1
0の有機基である。)で表される有機ケイ素化合物と、 式:R’Si(OR2 3 (式中、 R2 は、前記R1 と同様の基であり、 R’は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭
素数1〜10の基である。)で表される有機ケイ素化合
物との混合物を、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分
解、縮重合することによりシード粒子を調製する工程、 (b) 前記シード粒子の分散液に、下記式(1)〜
(3)で表される化合物の1種または2種以上を加えて
加水分解・縮重合し、これによりシード粒子を成長させ
て球状微粒子分散液を調製する工程(ただし(b)工程
の反応温度は(a)工程の反応温度よりも低い): (1)式:R’Si(OR2 3 (式中、R2 、R’は、前記と同様の基である。) で表される有機ケイ素化合物; (2)式:R’R”Si(OR3 2 (式中、R’、R”は、互いに同一であっても異なって
いてもよく、置換または非置換の炭化水素基から選ばれ
る炭素数1〜10の基であり、R3 は、前記R1 と同様
の基である。) で表される有機ケイ素化合物; (3)式: 【化2】 (式中、R4 は、プロピルまたはブチル基であり、 Yは、メチル基、メトキシ基、エチル基およびエトキシ
基から選ばれる1種の有機基であり、 Mは、周期律表第IB族、第IIA、B族、第III A、B
族、第IVA、B族、第VA族、第VIA族、第VII A族、
第VIII族から選ばれる元素であり、また、 mは0〜3の整数であり、nは1〜4の整数であり、m
+nは2〜4の整数である。)で表されるアセチルアセ
トナトキレート化合物、 (c) 前記球状微粒子分散液を20〜80℃の温度に
維持して、球状微粒子を熟成させる工程、 (d) 前記球状微粒子分散液から球状微粒子を分離
し、次いで該微粒子を乾燥する工程からなる請求項1に
記載のオルガノポリシロキサン微粒子の製造方法。
(A) Formula: Si (OR 1 ) 4 (where R 1 is a hydrogen atom or a C 1 to C 1 selected from an alkyl group, an alkoxyalkyl group and an acyl group)
It is an organic group of 0. And an organosilicon compound represented by the formula: R′Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 is the same group as R 1, and R ′ is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group) Preparing a seed particle by hydrolyzing and condensing a mixture of an organosilicon compound represented by the formula (1) and an organic silicon compound represented by the formula (1) in a mixed solvent of water and an organic solvent: (B) The dispersion of the seed particles is represented by the following formulas (1) to (1).
A step of adding one or more of the compounds represented by (3) and subjecting them to hydrolysis and polycondensation to thereby grow seed particles to prepare a spherical fine particle dispersion ( the step (b))
Is lower than the reaction temperature of step (a)) : (1) Formula: R′Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 and R ′ are the same groups as described above). (2) Formula: R′R ″ Si (OR 3 ) 2 (wherein R ′ and R ″ may be the same or different from each other, and may be substituted or unsubstituted An organic silicon compound represented by the following formula: embedded image wherein R 3 is a group having 1 to 10 carbon atoms selected from a hydrocarbon group, and R 3 is the same as R 1 . (Wherein, R 4 is a propyl or butyl group, Y is one kind of organic group selected from a methyl group, a methoxy group, an ethyl group and an ethoxy group, M is a group IB of the periodic table, Groups IIA and B, III A and B
Groups, IVA, B, VA, VIA, VIIA,
An element selected from Group VIII, m is an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 4,
+ N is an integer of 2 to 4. An acetylacetonato chelate compound represented by the formula (c), wherein the spherical fine particle dispersion is heated to a temperature of 20 to 80 ° C.
The method for producing organopolysiloxane fine particles according to claim 1, comprising a step of maintaining and aging the spherical fine particles, and (d) a step of separating the spherical fine particles from the spherical fine particle dispersion and then drying the fine particles.
【請求項3】 一対の電極を備えた液晶セルを有し、該
電極間に請求項1に記載のオルガノポリシロキサン微粒
子がスペーサとして介在していることを特徴とする液晶
表示装置。
3. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell having a pair of electrodes, wherein the organopolysiloxane fine particles according to claim 1 are interposed between the electrodes as spacers.
【請求項4】 オルガノポリシロキサン微粒子の圧縮変
形率が20〜60%であり、かつ該微粒子の変動係数が
5%以下であることを特徴とする請求項3に記載の液晶
表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the organopolysiloxane fine particles have a compressive deformation ratio of 20 to 60% and a coefficient of variation of the fine particles is 5% or less.
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