JP3031547B1 - 円弧型アクアナイフ構造 - Google Patents
円弧型アクアナイフ構造Info
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- JP3031547B1 JP3031547B1 JP10359112A JP35911298A JP3031547B1 JP 3031547 B1 JP3031547 B1 JP 3031547B1 JP 10359112 A JP10359112 A JP 10359112A JP 35911298 A JP35911298 A JP 35911298A JP 3031547 B1 JP3031547 B1 JP 3031547B1
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Abstract
【要約】
【課題】 開口縁の形状を工夫するだけのシンプルな設
計で、上述の不安を解消し、薬液を均一且つ速やかに基
板表面全体に塗布することが可能な円弧型アクアナイフ
構造を提供する。 【解決手段】 開口縁が円弧型になっているスリットノ
ズルで構成されており、その開口縁から吐出する薬液の
吐出パターンが吐出方向に伸びる流線と、前記円弧型の
曲面に沿った等速度線とで構成され、その薬液の吐出パ
ターンが被塗布物の表面で均等に展開される流線パター
ンとなることを特徴とする。
計で、上述の不安を解消し、薬液を均一且つ速やかに基
板表面全体に塗布することが可能な円弧型アクアナイフ
構造を提供する。 【解決手段】 開口縁が円弧型になっているスリットノ
ズルで構成されており、その開口縁から吐出する薬液の
吐出パターンが吐出方向に伸びる流線と、前記円弧型の
曲面に沿った等速度線とで構成され、その薬液の吐出パ
ターンが被塗布物の表面で均等に展開される流線パター
ンとなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スリットノズルで
構成されたアクアナイフ構造に関し、特に、その開口縁
の形状を円弧型にしたアクアナイフ構造に関するもので
ある。
構成されたアクアナイフ構造に関し、特に、その開口縁
の形状を円弧型にしたアクアナイフ構造に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来のアクアナイフ構造は、図６〜図８
に示すように、その開口縁が直線状のスリットノズルで
構成されている。即ち、従来型のアクアナイフ構造で
は、符号８、９で示す上下のアクアナイフ本体Ａおよび
アクアナイフ本体Ｂが、その開口縁が直線的であるた
め、そこから吐出される薬液の吐出パターンが、図６に
示すように平面形状で、真直ぐに伸びた流線１５と、直
線形状となる等速度線１６とで構成される。
に示すように、その開口縁が直線状のスリットノズルで
構成されている。即ち、従来型のアクアナイフ構造で
は、符号８、９で示す上下のアクアナイフ本体Ａおよび
アクアナイフ本体Ｂが、その開口縁が直線的であるた
め、そこから吐出される薬液の吐出パターンが、図６に
示すように平面形状で、真直ぐに伸びた流線１５と、直
線形状となる等速度線１６とで構成される。
【０００３】この平面形状の吐出パターンの下を、被塗
布物である液晶などの基板が通過する場合、基板表面で
の流線パターンは、図７に示すような形状となり、その
流線１５は直線であるが、各流線１５が基板のセンター
に向かって収束するので、基板の進行方向の後側で、基
板全体を薬液で瞬間的に覆い尽くすことができなかっ
た。この流線１５の収束現象には、薬液の表面張力、基
板表面の濡れ性、基板の反りなど、様々な要因がかかわ
っているのである。
布物である液晶などの基板が通過する場合、基板表面で
の流線パターンは、図７に示すような形状となり、その
流線１５は直線であるが、各流線１５が基板のセンター
に向かって収束するので、基板の進行方向の後側で、基
板全体を薬液で瞬間的に覆い尽くすことができなかっ
た。この流線１５の収束現象には、薬液の表面張力、基
板表面の濡れ性、基板の反りなど、様々な要因がかかわ
っているのである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、流れの収束を
抑えるためのパラメーターであるスリットのギャップ、
薬液の供給量、供給圧力、あるいは、アクアナイフ取り
付け角度、取り付け高さなどを工夫するが、この場合、
設計マージン、使用条件が極めて狭くなる。
抑えるためのパラメーターであるスリットのギャップ、
薬液の供給量、供給圧力、あるいは、アクアナイフ取り
付け角度、取り付け高さなどを工夫するが、この場合、
設計マージン、使用条件が極めて狭くなる。
【０００５】従って、上述のように使用条件が極めて狭
い場合、一旦、条件を決定した後に、許容範囲外の工程
変動や、経時変化により、この流線パターンが収束して
しまうこともある。そして、このチェックを怠ると、処
理ムラの発生した基板を、下流工程に大量に流出させて
しまうことになる。
い場合、一旦、条件を決定した後に、許容範囲外の工程
変動や、経時変化により、この流線パターンが収束して
しまうこともある。そして、このチェックを怠ると、処
理ムラの発生した基板を、下流工程に大量に流出させて
しまうことになる。
【０００６】なお、実開平５−３０１６４号公報（三菱
重工）や特開昭６３−２２９１８６号公報（日立化成）
に所載のように、その開口縁が、Ｖ字形に曲げられたス
リットノズルを、アクアナイフに応用する方法も考えら
れた。
重工）や特開昭６３−２２９１８６号公報（日立化成）
に所載のように、その開口縁が、Ｖ字形に曲げられたス
リットノズルを、アクアナイフに応用する方法も考えら
れた。
【０００７】しかし、この場合、基板３がアクアナイフ
１の下を通過する瞬間は、図８に示すように、薬液２の
流れに二つ割れが生じ、薬液の塗布が遅れてしまうエリ
アが中央に発生する。このエリアは、基板の進行と共に
狭くなり、薬液は徐々に基板表面全体を覆って行くこと
になるが、薬液を基板全体に速く且つ均一に塗布すると
いう、アクアナイフ本来の目的に適した処理プロセスと
は云えない。
１の下を通過する瞬間は、図８に示すように、薬液２の
流れに二つ割れが生じ、薬液の塗布が遅れてしまうエリ
アが中央に発生する。このエリアは、基板の進行と共に
狭くなり、薬液は徐々に基板表面全体を覆って行くこと
になるが、薬液を基板全体に速く且つ均一に塗布すると
いう、アクアナイフ本来の目的に適した処理プロセスと
は云えない。
【０００８】さらに、基板全体を薬液で覆う方法とし
て、特開平７−６４０９１号公報（大日本スクリーン製
造）に所載のものもある。ここでは、図９に示すよう
に、基板３の両端に側板１７を配置している。この方法
でも、薬液で基板表面を均一且つ速やかに覆うことが可
能であるが、しかし、側板１７を設置することにより、
基板３と側板１７とが互いに接触し、基板表面にダメー
ジを与えるという不安を回避することができない。ま
た、側板１７に付着した異物を、基板表面に持ち込んで
しまうという不安もある。
て、特開平７−６４０９１号公報（大日本スクリーン製
造）に所載のものもある。ここでは、図９に示すよう
に、基板３の両端に側板１７を配置している。この方法
でも、薬液で基板表面を均一且つ速やかに覆うことが可
能であるが、しかし、側板１７を設置することにより、
基板３と側板１７とが互いに接触し、基板表面にダメー
ジを与えるという不安を回避することができない。ま
た、側板１７に付着した異物を、基板表面に持ち込んで
しまうという不安もある。
【０００９】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その目的とするところは、開口縁の形状を工夫す
るだけのシンプルな設計で、上述の不安を解消し、薬液
を均一且つ速やかに基板表面全体に塗布することが可能
な円弧型アクアナイフ構造を提供するにある。
ので、その目的とするところは、開口縁の形状を工夫す
るだけのシンプルな設計で、上述の不安を解消し、薬液
を均一且つ速やかに基板表面全体に塗布することが可能
な円弧型アクアナイフ構造を提供するにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このため、本発明では、
スリットが、基板の進行方向と直交する方向に対して、
正面から見て上下に湾曲する円弧型に成形され、このス
リットを有するスリットノズルから薬液を吐出するアク
アナイフ構造であって、前記の円弧型のスリットを含む
アクアナイフ全体も、基板方向と直交する方向に対し
て、正面から見て上下に湾曲する円弧型であり、該円弧
型アクアナイフ全体は、基板表面に対するスリットノズ
ルの突出方向の下向き傾斜角度およびスリットの高さで
配設され、この円弧型のノズルから吐出された薬液が放
射状に拡がると共に、等速度線が円弧型になって流れる
吐出パターンに合わせて設定していることを特徴とす
る。
スリットが、基板の進行方向と直交する方向に対して、
正面から見て上下に湾曲する円弧型に成形され、このス
リットを有するスリットノズルから薬液を吐出するアク
アナイフ構造であって、前記の円弧型のスリットを含む
アクアナイフ全体も、基板方向と直交する方向に対し
て、正面から見て上下に湾曲する円弧型であり、該円弧
型アクアナイフ全体は、基板表面に対するスリットノズ
ルの突出方向の下向き傾斜角度およびスリットの高さで
配設され、この円弧型のノズルから吐出された薬液が放
射状に拡がると共に、等速度線が円弧型になって流れる
吐出パターンに合わせて設定していることを特徴とす
る。
【００１１】この場合、本発明の実施の形態として、前
記スリットノズルは、接合面が湾曲した上側アクアナイ
フ本体および下側アクアナイフ本体から構成され、両者
の間に設けたスペーサによって、スリット幅が設定され
ていること、前記下側アクアナイフ本体には、前記開口
縁に沿って平行に伸びる液溜まりが内側上面に形成され
ていること、前記液溜まりは、前記開口縁に対して、後
側の一次液溜まりと、前側の二次液溜まりとで構成さ
れ、前者の容積を大きく構成していること、前記液溜ま
りの各縁は、Ｒ面取りがなされていること、更には、前
記スリットノズルのスリット幅は、上下のアクアナイフ
本体に亘って螺合する調整ネジの締め付けで、調整可能
であることなどが、好ましい。
記スリットノズルは、接合面が湾曲した上側アクアナイ
フ本体および下側アクアナイフ本体から構成され、両者
の間に設けたスペーサによって、スリット幅が設定され
ていること、前記下側アクアナイフ本体には、前記開口
縁に沿って平行に伸びる液溜まりが内側上面に形成され
ていること、前記液溜まりは、前記開口縁に対して、後
側の一次液溜まりと、前側の二次液溜まりとで構成さ
れ、前者の容積を大きく構成していること、前記液溜ま
りの各縁は、Ｒ面取りがなされていること、更には、前
記スリットノズルのスリット幅は、上下のアクアナイフ
本体に亘って螺合する調整ネジの締め付けで、調整可能
であることなどが、好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）以下、本発
明の実施の形態を、図１〜図４を参照して、具体的に説
明する。なお、図１はアクアナイフの全体構造を示す
図、図２はアクアナイフの使用態様を示す図、図３はア
クアナイフの全体の外形を示す図、図４はそれを分解し
た図である。
明の実施の形態を、図１〜図４を参照して、具体的に説
明する。なお、図１はアクアナイフの全体構造を示す
図、図２はアクアナイフの使用態様を示す図、図３はア
クアナイフの全体の外形を示す図、図４はそれを分解し
た図である。
【００１３】本発明のアクアナイフ構造は、よく知られ
るように、スリットノズルで構成され、液晶パネル製造
装置の中で、特に、塗布、現像あるいは洗浄工程などの
ウエット処理装置において、被処理物である基板３表面
上に、フォトレジスト、現像液、シンナー、純水などの
薬液を、スリットノズルから吐出するものである。
るように、スリットノズルで構成され、液晶パネル製造
装置の中で、特に、塗布、現像あるいは洗浄工程などの
ウエット処理装置において、被処理物である基板３表面
上に、フォトレジスト、現像液、シンナー、純水などの
薬液を、スリットノズルから吐出するものである。
【００１４】このアクアナイフ構造において、本発明で
は、そのスリット（開口縁）６を基板３の進行方向と直
交する方向に対して、正面から見て、上下に湾曲する円
弧型に形成しているスリットノズルを、アクアナイフ１
として、採用するのである。
は、そのスリット（開口縁）６を基板３の進行方向と直
交する方向に対して、正面から見て、上下に湾曲する円
弧型に形成しているスリットノズルを、アクアナイフ１
として、採用するのである。
【００１５】上記の円弧形スリットを有するアクアナイ
フ１では、そのスリット６より吐出される薬液の吐出パ
ターンが、図１に示すように、真直ぐに伸びる流線１５
と円弧型の等速度線１６とで構成される。そして、この
吐出パターンの薬液２中を基板３が通過した場合、薬液
２の、基板表面における流線パターンは、図２に示すよ
うに、流線１５が若干、放射状に拡がると共に、等速度
線１６が円弧型となるのである。従って、アクアナイフ
１から吐出された薬液２は、放射状に拡がって流れるの
で、基板表面全体を、速くかつ均一に覆うことができ
る。
フ１では、そのスリット６より吐出される薬液の吐出パ
ターンが、図１に示すように、真直ぐに伸びる流線１５
と円弧型の等速度線１６とで構成される。そして、この
吐出パターンの薬液２中を基板３が通過した場合、薬液
２の、基板表面における流線パターンは、図２に示すよ
うに、流線１５が若干、放射状に拡がると共に、等速度
線１６が円弧型となるのである。従って、アクアナイフ
１から吐出された薬液２は、放射状に拡がって流れるの
で、基板表面全体を、速くかつ均一に覆うことができ
る。
【００１６】なお、この実施の形態においては、アクア
ナイフ１は、接合面が円弧状に湾曲した上側アクアナイ
フ本体Ａおよび下側アクアナイフ本体Ｂを貼り合わせた
ものであって、両者の間にスペーサ１０を設けること
で、ノズルのスリット幅を設定している（例えば、スリ
ット幅＝１ｍｍとする際には、スペーサ１０の厚さを、
これと同等の１ｍｍ厚さとする）。そして、このスリッ
ト６からの薬液２の吐出パターンは、図１に示すよう
に、円弧面のカーテン形状となる。なお、スペーサ１０
はコ字形であって、アクアナイフ１は、そのスリット６
以外、スペーサ１０で密閉されているので、アクアナイ
フ本体相互の合わせ目に隙間がなく、無用な漏液が発生
しない。
ナイフ１は、接合面が円弧状に湾曲した上側アクアナイ
フ本体Ａおよび下側アクアナイフ本体Ｂを貼り合わせた
ものであって、両者の間にスペーサ１０を設けること
で、ノズルのスリット幅を設定している（例えば、スリ
ット幅＝１ｍｍとする際には、スペーサ１０の厚さを、
これと同等の１ｍｍ厚さとする）。そして、このスリッ
ト６からの薬液２の吐出パターンは、図１に示すよう
に、円弧面のカーテン形状となる。なお、スペーサ１０
はコ字形であって、アクアナイフ１は、そのスリット６
以外、スペーサ１０で密閉されているので、アクアナイ
フ本体相互の合わせ目に隙間がなく、無用な漏液が発生
しない。
【００１７】また、下側アクアナイフ本体Ｂには、スリ
ット６に沿って平行に伸びる液溜まりが内側上面に、例
えば、彫り込みによって、形成されている。特に、この
実施の形態では、液溜まりは、スリット６に対して、後
側の一次液溜まり１２と、前側の二次液溜まり１３とで
構成され、アクアナイフの圧力損失を小さく抑えるた
め、前者の容積を大きく構成している。更に、液溜まり
の各縁は、Ｒ面取りがなされ、アクアナイフ内部で薬液
の乱流が発生しない工夫がなされている。
ット６に沿って平行に伸びる液溜まりが内側上面に、例
えば、彫り込みによって、形成されている。特に、この
実施の形態では、液溜まりは、スリット６に対して、後
側の一次液溜まり１２と、前側の二次液溜まり１３とで
構成され、アクアナイフの圧力損失を小さく抑えるた
め、前者の容積を大きく構成している。更に、液溜まり
の各縁は、Ｒ面取りがなされ、アクアナイフ内部で薬液
の乱流が発生しない工夫がなされている。
【００１８】また、この実施の形態では、アクアナイフ
本体８、９の相互は、締結ネジ１１で連結されるが、更
に、アクアナイフのスリット幅は、上下のアクアナイフ
本体８、９に亘って螺合する別の調整ネジ１４の締め付
けで、調整可能である（ここでは、スペーサ６の材料
に、厚さ方向に若干の弾力性、可撓性を有するものが選
択され、これにより、調整ネジ１４の締め付け調整で、
スリット全長に亘って、均一スリット幅となるような調
整がなされる）。
本体８、９の相互は、締結ネジ１１で連結されるが、更
に、アクアナイフのスリット幅は、上下のアクアナイフ
本体８、９に亘って螺合する別の調整ネジ１４の締め付
けで、調整可能である（ここでは、スペーサ６の材料
に、厚さ方向に若干の弾力性、可撓性を有するものが選
択され、これにより、調整ネジ１４の締め付け調整で、
スリット全長に亘って、均一スリット幅となるような調
整がなされる）。
【００１９】なお、図中、符号５は液溜まり１２への薬
液の供給管であり、符号７は供給管５を上側アクアナイ
フ本体８に装着するための接続口である。また、符号４
は基板３を搬送するロール式などのコンベアである。ま
た、このような構成において、本発明では、基板表面に
対するスリットノズル１の吐出方向の下向き傾斜角度お
よびスリット６の高さを、基板表面での薬液の所要の流
線パターンに合わせて設定することになる。
液の供給管であり、符号７は供給管５を上側アクアナイ
フ本体８に装着するための接続口である。また、符号４
は基板３を搬送するロール式などのコンベアである。ま
た、このような構成において、本発明では、基板表面に
対するスリットノズル１の吐出方向の下向き傾斜角度お
よびスリット６の高さを、基板表面での薬液の所要の流
線パターンに合わせて設定することになる。
【００２０】しかして、薬液供給配管５により供給され
た薬液２は、アクアナイフ１内の液溜まり１２(１次側)
から、更に、液溜まり１３(２次側)へと、順次、吐出さ
れる過程で、整流される。そして、スリット６に到達し
た薬液は、アクアナイフ１の全幅方向で均一な圧力およ
び均一な速度で吐出される。
た薬液２は、アクアナイフ１内の液溜まり１２(１次側)
から、更に、液溜まり１３(２次側)へと、順次、吐出さ
れる過程で、整流される。そして、スリット６に到達し
た薬液は、アクアナイフ１の全幅方向で均一な圧力およ
び均一な速度で吐出される。
【００２１】吐出された薬液は、図１に示すように、真
直ぐに伸びる流線１５と円弧型の等速度線１６とで構成
される吐出パターンを形成するから、コンベア４によっ
て搬送された被塗布物である基板４がアクアナイフ１の
下を通過する際、図２に示すような流線パターンで、基
板表面に塗布される。そして、この流線パターンによっ
て、薬液２は、従来に比べて、速くかつ均一に基板表面
全体を覆うことができる。
直ぐに伸びる流線１５と円弧型の等速度線１６とで構成
される吐出パターンを形成するから、コンベア４によっ
て搬送された被塗布物である基板４がアクアナイフ１の
下を通過する際、図２に示すような流線パターンで、基
板表面に塗布される。そして、この流線パターンによっ
て、薬液２は、従来に比べて、速くかつ均一に基板表面
全体を覆うことができる。
【００２２】（第２の実施の形態）図５には、本発明の
第２の実施の形態が示されている。ここでは、前述の実
施の形態でのアクアナイフ１の傾斜角によっては（図２
のように、ほぼ９０度の場合は問題ないが、図５の左側
のように、例えば、４５度の場合には）、基板３とスリ
ット６との間隔が、中央でｈ2、左右でｈ1、ｈ3とする
と、ｈ1＝ｈ3＜ｈ2となるという問題を解決する。
第２の実施の形態が示されている。ここでは、前述の実
施の形態でのアクアナイフ１の傾斜角によっては（図２
のように、ほぼ９０度の場合は問題ないが、図５の左側
のように、例えば、４５度の場合には）、基板３とスリ
ット６との間隔が、中央でｈ2、左右でｈ1、ｈ3とする
と、ｈ1＝ｈ3＜ｈ2となるという問題を解決する。
【００２３】即ち、ここでは、図５の右側に示すよう
に、スリット（開口縁）６を、薬液の吐出方向に関して
も、円弧状に形成していて、ｈ1'＝ｈ3'＝ｈ2'とするこ
とにより、上述の問題を解消している。これは、アクア
ナイフ１の設置（傾斜）角度θを、設計に際して予め決
定すれば、自ずと定まる値の円弧となる。
に、スリット（開口縁）６を、薬液の吐出方向に関して
も、円弧状に形成していて、ｈ1'＝ｈ3'＝ｈ2'とするこ
とにより、上述の問題を解消している。これは、アクア
ナイフ１の設置（傾斜）角度θを、設計に際して予め決
定すれば、自ずと定まる値の円弧となる。
【００２４】なお、その他の構成、および、作用効果
は、第１の実施の形態と同様なので、その説明は省略す
る。
は、第１の実施の形態と同様なので、その説明は省略す
る。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、以上詳述したようになり、ス
リットが、基板の進行方向と直交する方向に対して、正
面から見て上下に湾曲する円弧型に成形され、このスリ
ットを有するスリットノズルから薬液を吐出するアクア
ナイフ構造であって、前記の円弧型のスリットを含むア
クアナイフ全体も、基板方向と直交する方向に対して、
正面から見て上下に湾曲する円弧型であり、該円弧型ア
クアナイフ全体は、基板表面に対するスリットノズルの
突出方向の下向き傾斜角度およびスリットの高さで配設
され、この円弧型のノズルから吐出された薬液が放射状
に拡がると共に、等速度線が円弧型になって流れる吐出
パターンに合わせて設定していることを特徴とする。
リットが、基板の進行方向と直交する方向に対して、正
面から見て上下に湾曲する円弧型に成形され、このスリ
ットを有するスリットノズルから薬液を吐出するアクア
ナイフ構造であって、前記の円弧型のスリットを含むア
クアナイフ全体も、基板方向と直交する方向に対して、
正面から見て上下に湾曲する円弧型であり、該円弧型ア
クアナイフ全体は、基板表面に対するスリットノズルの
突出方向の下向き傾斜角度およびスリットの高さで配設
され、この円弧型のノズルから吐出された薬液が放射状
に拡がると共に、等速度線が円弧型になって流れる吐出
パターンに合わせて設定していることを特徴とする。
【００２６】この流線パターンは、表面張力により流線
が収束する薬液の性質を、予め、考慮した形状であり、
この流線パターンによって、薬液を速く且つ均一に被塗
布物表面全体に行き届かせることができ、アクアナイフ
にとって、理想的な処理プロセスが得られる。その結
果、被塗布物表面での薬液吐出ムラの発生が抑制され、
ひいては、薬液吐出ムラに起因する表示ムラ、洗浄ムラ
による不良品の発生が低減できることになる。
が収束する薬液の性質を、予め、考慮した形状であり、
この流線パターンによって、薬液を速く且つ均一に被塗
布物表面全体に行き届かせることができ、アクアナイフ
にとって、理想的な処理プロセスが得られる。その結
果、被塗布物表面での薬液吐出ムラの発生が抑制され、
ひいては、薬液吐出ムラに起因する表示ムラ、洗浄ムラ
による不良品の発生が低減できることになる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示すアクアナイフ
の機能説明の図である。
の機能説明の図である。
【図２】同じく、使用態様の斜視図である。
【図３】同じく、全体構成の斜視図である。
【図４】同じく、分解斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態を示すアクアナイフ
の機能説明の図である。
の機能説明の図である。
【図６】従来のアクアナイフの機能説明の図である。
【図７】同じく、使用態様の斜視図である。
【図８】他の従来例の使用態様の斜視図である。
【図９】更に他の従来例の使用態様の斜視図である。
【符号の説明】 １ アクアナイフ（スリットノズル） ２ 薬液 ３ 基板（被塗布物） ４ コンベア ５ 薬液供給管 ６ スリット（開口縁） ７ 接続口 ８ 上側アクアナイフ本体 ９ 下側アクアナイフ本体 １０ スペーサ １１ 締結ネジ １２、１３ 液溜まり １４ 調整ネジ １５ 流線 １６ 等速度線 １７ 側板
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05C 5/00 - 5/02 B05B 1/04 G02F 1/13 101 B08B 3/00 - 3/14 H01L 21/304,21/306
Claims (6)
- 【請求項１】 スリットが、基板の進行方向と直交する
方向に対して、正面から見て上下に湾曲する円弧型に成
形され、このスリットを有するスリットノズルから薬液
を吐出するアクアナイフ構造であって、前記の円弧型の
スリットを含むアクアナイフ全体も、基板方向と直交す
る方向に対して、正面から見て上下に湾曲する円弧型で
あり、該円弧型アクアナイフ全体は、被塗布物（基板）
表面に対するスリットノズルの突出方向の下向き傾斜角
度およびスリットの高さで配設され、この円弧型のノズ
ルから吐出された薬液が放射状に拡がると共に、等速度
線が円弧型になって流れるような吐出パターンに合わせ
て設定していることを特徴とする円弧型アクアナイフ構
造。 - 【請求項２】 前記スリットノズルは、接合面が湾曲し
た上側アクアナイフ本体および下側アクアナイフ本体か
ら構成され、両者の間に設けたスペーサによって、スリ
ット幅が設定されていることを特徴とする請求項１に記
載の円弧型アクアナイフ構造。 - 【請求項３】 前記下側アクアナイフ本体には、前記開
口縁に沿って平行に伸びる液溜まりが内側上面に形成さ
れていることを特徴とする請求項２に記載の円弧型アク
アナイフ構造。 - 【請求項４】 前記液溜まりは、前記開口縁に対して、
後側の一次液溜まりと、前側の二次液溜まりとで構成さ
れ、前者の容積を大きく構成していることを特徴とする
請求項３に記載の円弧型アクアナイフ構造。 - 【請求項５】 前記液溜まりの各縁は、Ｒ面取りがなさ
れていることを特徴とする請求項３あるいは４に記載の
円弧型アクアナイフ構造。 - 【請求項６】 前記スリットノズルのスリット幅は、上
下のアクアナイフ本体に亘って螺合する調整ネジの締め
付けで、調整可能であることを特徴とする請求項２ない
し５の何れかに記載の円弧型アクアナイフ構造。
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|---|---|---|---|
| JP10359112A JP3031547B1 (ja) | 1998-12-17 | 1998-12-17 | 円弧型アクアナイフ構造 |
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| JP10359112A JP3031547B1 (ja) | 1998-12-17 | 1998-12-17 | 円弧型アクアナイフ構造 |
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- 1998-12-17 JP JP10359112A patent/JP3031547B1/ja not_active Expired - Fee Related
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