JP2971519B2 - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
- Publication number
- JP2971519B2 JP2971519B2 JP2146307A JP14630790A JP2971519B2 JP 2971519 B2 JP2971519 B2 JP 2971519B2 JP 2146307 A JP2146307 A JP 2146307A JP 14630790 A JP14630790 A JP 14630790A JP 2971519 B2 JP2971519 B2 JP 2971519B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- hygroscopic
- water absorption
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光学的に情報の記録、再生あるいは消去を行
なうのに好適な光ディスクに関する。
なうのに好適な光ディスクに関する。
［従来の技術］ 光ディスクは、大量の情報を高密度に蓄積し、かつ高
速にアクセスできるメモリーとして注目されている。
速にアクセスできるメモリーとして注目されている。
このような光ディスクは、例えばポリカーボネート
（PC）、ポリメチルメタアクリレート（PMMA）、エポキ
シなどのプラスチック基板上に窒化けい素などからなる
干渉膜、希土類元素−遷移金属合金からなる情報記録層
としての光磁気記録膜が成膜され、さらにその上に紫外
線硬化樹脂などからなる保護膜が塗布された構造を有す
る。
（PC）、ポリメチルメタアクリレート（PMMA）、エポキ
シなどのプラスチック基板上に窒化けい素などからなる
干渉膜、希土類元素−遷移金属合金からなる情報記録層
としての光磁気記録膜が成膜され、さらにその上に紫外
線硬化樹脂などからなる保護膜が塗布された構造を有す
る。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した光ディスクに好適に用いられ
るPC,PMMAなどのプラスチック基板には若干の吸湿性が
あるため、基板の吸湿膨張と脱湿収縮とにより反り量変
化、変形を招き、その結果基板上の光磁気記録膜が剥離
し、または該記録膜にクラック等が発生する不都合があ
った。また、この問題の発生は貼り合わせ両面デイスク
に比べて片面ディスクの場合に特に顕著であった。
るPC,PMMAなどのプラスチック基板には若干の吸湿性が
あるため、基板の吸湿膨張と脱湿収縮とにより反り量変
化、変形を招き、その結果基板上の光磁気記録膜が剥離
し、または該記録膜にクラック等が発生する不都合があ
った。また、この問題の発生は貼り合わせ両面デイスク
に比べて片面ディスクの場合に特に顕著であった。
本発明は湿度条件などの環境の変化に対して反り変化
量が少なく耐久性が高い光ディスクを提供することを目
的とする。
量が少なく耐久性が高い光ディスクを提供することを目
的とする。
［課題を解決するための手段］ このような目的を達成するために、本発明は、プラス
チック基板の一面に情報記録層が形成された光ディスク
において、前記情報記録層上に無機保護膜が形成され、
該保護膜上に吸水率が０％を超え0.4％未満である有機
の低吸湿性膜が形成され、さらに該低吸湿性膜上に吸水
率が0.4％以上である有機の高吸湿性膜が形成されたこ
とを特徴とする。
チック基板の一面に情報記録層が形成された光ディスク
において、前記情報記録層上に無機保護膜が形成され、
該保護膜上に吸水率が０％を超え0.4％未満である有機
の低吸湿性膜が形成され、さらに該低吸湿性膜上に吸水
率が0.4％以上である有機の高吸湿性膜が形成されたこ
とを特徴とする。
［作 用］ 湿度環境が光ディスクのプラスチック基板の両面にお
いて異なれば、基板は反り、環境が変化すれば反り量が
変化する。従って、本発明においては、情報記録層上に
設けた吸湿性膜により、情報記録層を通じて基板の一面
に適度の湿気を供給して基板の両面における湿度環境を
制御し、基板の反り量変化を小さく抑えることができ
る。
いて異なれば、基板は反り、環境が変化すれば反り量が
変化する。従って、本発明においては、情報記録層上に
設けた吸湿性膜により、情報記録層を通じて基板の一面
に適度の湿気を供給して基板の両面における湿度環境を
制御し、基板の反り量変化を小さく抑えることができ
る。
［実施例］ 以下に実施例によって本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図である。第１
図に示すように、溝幅0.6μm,溝深さ700Å，溝ピッチ1.
6μｍのスパイラル溝が形成された直径130mm,厚さ1.2mm
のポリカーボネート（以下、PCと略す）基板１の一方の
面にSiOy,SiNyなどからなる厚さ0.07μｍの干渉膜（無
機保護膜）2,TbFeCoからなる厚さ0.08μｍの光磁気記録
膜3,SiOyからなる無機保護膜４を順次スパッタ法により
形成し、該無機保護膜４の上に低吸湿性膜５と高吸湿性
膜６とをそれぞれ紫外線硬化型樹脂をスピンコート法に
より所定の膜厚で形成して片面光ディスクを作製した。
図に示すように、溝幅0.6μm,溝深さ700Å，溝ピッチ1.
6μｍのスパイラル溝が形成された直径130mm,厚さ1.2mm
のポリカーボネート（以下、PCと略す）基板１の一方の
面にSiOy,SiNyなどからなる厚さ0.07μｍの干渉膜（無
機保護膜）2,TbFeCoからなる厚さ0.08μｍの光磁気記録
膜3,SiOyからなる無機保護膜４を順次スパッタ法により
形成し、該無機保護膜４の上に低吸湿性膜５と高吸湿性
膜６とをそれぞれ紫外線硬化型樹脂をスピンコート法に
より所定の膜厚で形成して片面光ディスクを作製した。
上述した低吸湿性膜５の形成材料としては、その吸水
率が0.4％未満であるものが選ばれるが、吸水率の条件
を満たす範囲で無機物，有機物のいずれも使用できる。
本実施例では紫外線硬化型樹脂を用いた。ここでの吸水
率はJIS K 7209に準拠したもので、試験対象物の吸水前
の質量と、この対象物を23±２℃の水中に24±１時間浸
漬して吸水させた後の質量増加分との比の百分率であ
る。また、低吸湿性膜５に、吸水率が0.4％未満である
材料を用いたのは、基板材料として好適に用いられるP
C,PMMA,エポキシなどの樹脂の吸水率（順に0.15％,0.30
％,0.15％）がいずれも0.4％未満であり、これらの吸水
率の近傍であれば基板の両面における湿度環境をほぼ同
程度に制御できるからである。
率が0.4％未満であるものが選ばれるが、吸水率の条件
を満たす範囲で無機物，有機物のいずれも使用できる。
本実施例では紫外線硬化型樹脂を用いた。ここでの吸水
率はJIS K 7209に準拠したもので、試験対象物の吸水前
の質量と、この対象物を23±２℃の水中に24±１時間浸
漬して吸水させた後の質量増加分との比の百分率であ
る。また、低吸湿性膜５に、吸水率が0.4％未満である
材料を用いたのは、基板材料として好適に用いられるP
C,PMMA,エポキシなどの樹脂の吸水率（順に0.15％,0.30
％,0.15％）がいずれも0.4％未満であり、これらの吸水
率の近傍であれば基板の両面における湿度環境をほぼ同
程度に制御できるからである。
また、高吸湿性膜６の形成材料としては、その吸水率
が0.4％以上のものが選ばれるが、吸水率の条件を満た
す範囲で無機物，有機物のいずれも使用できる。本実施
例では低吸湿性膜５と同種の紫外線硬化型樹脂を用い
た。
が0.4％以上のものが選ばれるが、吸水率の条件を満た
す範囲で無機物，有機物のいずれも使用できる。本実施
例では低吸湿性膜５と同種の紫外線硬化型樹脂を用い
た。
ここで、低吸湿性膜５の上に高吸湿性膜６を設けたの
は、光ディスク周辺における湿気の大半を高吸湿性膜６
により吸収して外部の湿気の一部のみを高吸湿性膜６を
介して低吸湿性膜５へ浸透させ、この低吸湿性膜４によ
り基板表面の湿度環境を所定の水準に保持するためであ
る。
は、光ディスク周辺における湿気の大半を高吸湿性膜６
により吸収して外部の湿気の一部のみを高吸湿性膜６を
介して低吸湿性膜５へ浸透させ、この低吸湿性膜４によ
り基板表面の湿度環境を所定の水準に保持するためであ
る。
なお、これら低吸湿性膜５および高吸湿性膜６の各膜
厚は、樹脂の塗布量，スピンコート回転数およびスピン
コート時間などを制御することにより任意に設定するこ
とが可能である。
厚は、樹脂の塗布量，スピンコート回転数およびスピン
コート時間などを制御することにより任意に設定するこ
とが可能である。
本実施例における低吸湿性膜５および高吸湿性膜６の
吸水率（％）および膜厚（μｍ）を表１に示した。
吸水率（％）および膜厚（μｍ）を表１に示した。
表１における吸水率はJIS K 7209に準拠して、24℃の
水中に24時間浸漬し、紫外線硬化型樹脂の元の質量と吸
水前後の質量増加分との比から求めた。
水中に24時間浸漬し、紫外線硬化型樹脂の元の質量と吸
水前後の質量増加分との比から求めた。
層厚は紫外線硬化型樹脂塗布前後の厚み差をマイクロ
ゲージにて測定した結果である。
ゲージにて測定した結果である。
このようにして作製した２枚の片面光ディスクのうち
一方を実施例とし、他方から高吸湿性膜６を除去したも
のを比較例とし、これらに対してそれぞれ温湿度ジャン
プ試験を施した。
一方を実施例とし、他方から高吸湿性膜６を除去したも
のを比較例とし、これらに対してそれぞれ温湿度ジャン
プ試験を施した。
この温湿度ジャンプ試験はまず光ディスクを35℃、80
％RH雰囲気中に50時間放置し、その後、50℃、50％RH雰
囲気に移したときの傾き角［mrad］の経時変化を測定す
るものである。傾き角の測定はISO規格DIS−10089に準
拠した評価装置により行なった。
％RH雰囲気中に50時間放置し、その後、50℃、50％RH雰
囲気に移したときの傾き角［mrad］の経時変化を測定す
るものである。傾き角の測定はISO規格DIS−10089に準
拠した評価装置により行なった。
測定結果を第２図に示す。
第２図より、比較例では環境の変化に伴い、初期の傾
き角1.8mradからの変化量が約5.0mradと非常に大きく、
一方、実施例では初期の傾き角2.6mradからの傾き角の
変化が約1.5mradと小さいことがよくわかる。
き角1.8mradからの変化量が約5.0mradと非常に大きく、
一方、実施例では初期の傾き角2.6mradからの傾き角の
変化が約1.5mradと小さいことがよくわかる。
これは、比較例では光磁気記録膜と反対側のPC基板表
面の吸湿脱湿による応力によりディスクが可逆的に大
きく変化してしまうが、実施例ではPC基板の両面におい
て湿度環境のバランスが保たれているためと考えられ
る。
面の吸湿脱湿による応力によりディスクが可逆的に大
きく変化してしまうが、実施例ではPC基板の両面におい
て湿度環境のバランスが保たれているためと考えられ
る。
なお、上述した実施例では、プラスチック基板として
ポリカーボネート（PC）を用いたが、ポリメチルメタア
クリレート（PMMA）、エポキシなどの透明樹脂も基板材
料に好適であり、これらの樹脂を用いた場合でもこれら
の樹脂からなる基板上の光磁気記録膜（情報記録層）上
に吸湿性膜を設けることにより環境変化に耐え得る光デ
ィスクを得ることができる。
ポリカーボネート（PC）を用いたが、ポリメチルメタア
クリレート（PMMA）、エポキシなどの透明樹脂も基板材
料に好適であり、これらの樹脂を用いた場合でもこれら
の樹脂からなる基板上の光磁気記録膜（情報記録層）上
に吸湿性膜を設けることにより環境変化に耐え得る光デ
ィスクを得ることができる。
また、上述した低吸湿性膜５および高吸湿性膜６を設
けた２枚の片面光ディスクの基板同士を貼り合わせて作
製した両面ディスクにおいても、吸湿性膜により基板周
囲の湿度環境をバランスよく維持できるので、基板の反
り，変形等がなく記録膜の剥離，クラックの発生が少な
い高耐久性，高信頼性のものとなる。
けた２枚の片面光ディスクの基板同士を貼り合わせて作
製した両面ディスクにおいても、吸湿性膜により基板周
囲の湿度環境をバランスよく維持できるので、基板の反
り，変形等がなく記録膜の剥離，クラックの発生が少な
い高耐久性，高信頼性のものとなる。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば吸湿性のあるプ
ラスチック基板上に設けられた情報記録層側に低吸湿性
膜および高吸湿性膜を設けたので、両吸湿性膜により基
板の反り量変化を小さく抑えることができ、長寿命，高
信頼性の光ディスクを提供することができる。
ラスチック基板上に設けられた情報記録層側に低吸湿性
膜および高吸湿性膜を設けたので、両吸湿性膜により基
板の反り量変化を小さく抑えることができ、長寿命，高
信頼性の光ディスクを提供することができる。
第１図は、本発明の一実施例を示す概略断面図、 第２図は、本発明の一実施例に対して温湿度ジャンプ試
験を行なったときの傾き角［mrad］の経時変化を示すグ
ラフである。 １……プラスチック基板、 ２……干渉膜、 ３……光磁気記録膜、 ４……無機保護膜、 ５……低吸湿性膜、 ６……高吸湿性膜。
験を行なったときの傾き角［mrad］の経時変化を示すグ
ラフである。 １……プラスチック基板、 ２……干渉膜、 ３……光磁気記録膜、 ４……無機保護膜、 ５……低吸湿性膜、 ６……高吸湿性膜。
Claims (1)
- 【請求項１】プラスチック基板の一面に情報記録層が形
成された光ディスクにおいて、前記情報記録層上に無機
保護膜が形成され、該保護膜上に吸水率が０％を超え0.
4％未満である有機の低吸湿性膜が形成され、さらに該
低吸湿性膜上に吸水率が0.4％以上である有機の高吸湿
性膜が形成されたことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146307A JP2971519B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146307A JP2971519B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0440645A JPH0440645A (ja) | 1992-02-12 |
| JP2971519B2 true JP2971519B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=15404717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2146307A Expired - Fee Related JP2971519B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2971519B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-06 JP JP2146307A patent/JP2971519B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0440645A (ja) | 1992-02-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |