JP2952114B2 - 脱気液製造装置、及び脱気液製造方法 - Google Patents
脱気液製造装置、及び脱気液製造方法Info
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- JP2952114B2 JP2952114B2 JP20911192A JP20911192A JP2952114B2 JP 2952114 B2 JP2952114 B2 JP 2952114B2 JP 20911192 A JP20911192 A JP 20911192A JP 20911192 A JP20911192 A JP 20911192A JP 2952114 B2 JP2952114 B2 JP 2952114B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は溶存気体を除去した脱気
液の製造装置及び同製造方法に関し、更に詳述すれば半
導体製造、ボイラー、医薬品製造等に用いる純水等の液
体の製造に好適な脱気液の製造装置、及び同製造方法に
関する。
液の製造装置及び同製造方法に関し、更に詳述すれば半
導体製造、ボイラー、医薬品製造等に用いる純水等の液
体の製造に好適な脱気液の製造装置、及び同製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】純水または超純水の製造方法において、
二酸化炭素あるいは酸素を除去することを主目的とした
技術として、脱炭酸装置、陰イオン交換樹脂による炭酸
除去、真空脱気装置、加熱脱気装置、窒素曝気装置、触
媒を担持した樹脂による脱酸素装置等を用いるものが挙
げられる。特に、真空脱気装置、加熱脱気装置は、除去
する溶存気体を二酸化炭素あるいは酸素に限定せず、あ
らゆる種類の溶存気体を除去することができる。
二酸化炭素あるいは酸素を除去することを主目的とした
技術として、脱炭酸装置、陰イオン交換樹脂による炭酸
除去、真空脱気装置、加熱脱気装置、窒素曝気装置、触
媒を担持した樹脂による脱酸素装置等を用いるものが挙
げられる。特に、真空脱気装置、加熱脱気装置は、除去
する溶存気体を二酸化炭素あるいは酸素に限定せず、あ
らゆる種類の溶存気体を除去することができる。
【０００３】これらの装置により処理された処理水を貯
留しておく貯槽にあっては、大気中から気体が溶解する
ことを防止するために、処理水貯槽内部に窒素ガスを封
入することにより、外部大気を遮断する方法が、従来よ
り広く用いられている。
留しておく貯槽にあっては、大気中から気体が溶解する
ことを防止するために、処理水貯槽内部に窒素ガスを封
入することにより、外部大気を遮断する方法が、従来よ
り広く用いられている。
【０００４】図４は、従来用いられている処理水貯槽内
部を窒素ガス封入することにより外部大気を遮断する方
法を適用した処理水貯槽の例である。
部を窒素ガス封入することにより外部大気を遮断する方
法を適用した処理水貯槽の例である。
【０００５】図中５２は貯槽で、内部には脱炭酸等を行
った処理水５３が入っている。また、貯槽５２内の上部
空間５４は窒素ガスが充填してある。窒素ガスは貯槽５
２内の処理液を流出管６０より流出して貯槽５２内の液
面が低下し、貯槽５２内の窒素ガスの圧力が低下するの
を防止するために、窒素ガス導入管５５から必要に応じ
て供給されている。またベント５６の先端側５７は水封
槽５８内の封入水５９に浸漬してあり、これにより貯槽
５２内に大気が侵入することを防止している。しかし、
この様な構造の処理水貯槽を有する従来の純水または超
純水の製造装置においては、以下の問題点がある。
った処理水５３が入っている。また、貯槽５２内の上部
空間５４は窒素ガスが充填してある。窒素ガスは貯槽５
２内の処理液を流出管６０より流出して貯槽５２内の液
面が低下し、貯槽５２内の窒素ガスの圧力が低下するの
を防止するために、窒素ガス導入管５５から必要に応じ
て供給されている。またベント５６の先端側５７は水封
槽５８内の封入水５９に浸漬してあり、これにより貯槽
５２内に大気が侵入することを防止している。しかし、
この様な構造の処理水貯槽を有する従来の純水または超
純水の製造装置においては、以下の問題点がある。
【０００６】常時窒素ガスを消費するため、窒素ガス
注入量や窒素ガスボンベの交換などの管理作業を要す
る。
注入量や窒素ガスボンベの交換などの管理作業を要す
る。
【０００７】水の使用量と窒素ガス注入量のバランス
に異常が生じた場合不純物を含む封入水が処理水貯槽内
に混入してしまう。
に異常が生じた場合不純物を含む封入水が処理水貯槽内
に混入してしまう。
【０００８】窒素ガスおよび窒素ガスの配管系から処
理水中へ不純物が混入する可能性がある。
理水中へ不純物が混入する可能性がある。
【０００９】特に半導体デバイス関係の電子産業分野
において使用される超純水では、まったく気体の溶解の
ないことが望ましいとの指摘が、近年なされてきている
ため、処理水貯槽内で窒素ガスを溶解させることのない
構造の超純水製造装置がもとめられている。
において使用される超純水では、まったく気体の溶解の
ないことが望ましいとの指摘が、近年なされてきている
ため、処理水貯槽内で窒素ガスを溶解させることのない
構造の超純水製造装置がもとめられている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたもので、その目的とする所は、上記問題点を
解決した脱気液製造装置及び脱気液の製造方法を提供す
ることにある。
みなされたもので、その目的とする所は、上記問題点を
解決した脱気液製造装置及び脱気液の製造方法を提供す
ることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、液体中に溶存する気体を除去する脱気手段
と及び前記脱気手段により脱気された処理液を貯留する
貯槽とを有する脱気液製造装置において、前記貯槽が脱
気された処理液の流入部と脱気された処理液の流出部と
貯槽頂部に形成された溢流液取出部とを有する気密構造
で形成され、貯槽内を脱気された処理液で満水にすると
共に、常時溢流液取出部から処理液を溢流させることに
より処理液への気体の溶解を防止するもので、溢液させ
た処理液を脱気手段の上流側へ返送して回収する返送手
段を有することを含む。
に本発明は、液体中に溶存する気体を除去する脱気手段
と及び前記脱気手段により脱気された処理液を貯留する
貯槽とを有する脱気液製造装置において、前記貯槽が脱
気された処理液の流入部と脱気された処理液の流出部と
貯槽頂部に形成された溢流液取出部とを有する気密構造
で形成され、貯槽内を脱気された処理液で満水にすると
共に、常時溢流液取出部から処理液を溢流させることに
より処理液への気体の溶解を防止するもので、溢液させ
た処理液を脱気手段の上流側へ返送して回収する返送手
段を有することを含む。
【００１２】また本発明は液体中に溶存する気体を脱気
して脱気された処理液を常時製造すると共に、前記脱気
された処理液を常時貯槽内を満液状態とした気密貯槽に
送り、かつ貯槽から処理液の少なくとも一部を常に溢流
させるようにするものである。
して脱気された処理液を常時製造すると共に、前記脱気
された処理液を常時貯槽内を満液状態とした気密貯槽に
送り、かつ貯槽から処理液の少なくとも一部を常に溢流
させるようにするものである。
【００１３】更に本発明は、水中に溶存する気体を除去
する脱気手段と、その後段に設置されている脱気された
処理水を貯留する貯槽とを有する超純水製造に用いる脱
気水製造装置において、前記貯槽が脱気された処理水の
流入部と脱気された処理水の流出部と貯槽頂部に付設し
た溢流水取出部とを有した気密構造であって、前記流入
部から流入する処理水が常時溢流水取出部から溢流する
ことにより貯槽内が常に満水状態を維持する貯槽であ
り、かつ溢流水取出部から溢流する処理水を脱気手段の
上流側に返送して回収する返送手段を備えた超純水製造
に用いる脱気水製造装置を提供する。
する脱気手段と、その後段に設置されている脱気された
処理水を貯留する貯槽とを有する超純水製造に用いる脱
気水製造装置において、前記貯槽が脱気された処理水の
流入部と脱気された処理水の流出部と貯槽頂部に付設し
た溢流水取出部とを有した気密構造であって、前記流入
部から流入する処理水が常時溢流水取出部から溢流する
ことにより貯槽内が常に満水状態を維持する貯槽であ
り、かつ溢流水取出部から溢流する処理水を脱気手段の
上流側に返送して回収する返送手段を備えた超純水製造
に用いる脱気水製造装置を提供する。
【００１４】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。
する。
【００１５】図１は本発明の脱気液製造装置の一実施態
様を示すものである。図中１は脱気手段で、空気や炭酸
ガス等のガスが溶存している水等の液体を槽１１を介し
て脱気手段１に供給する流路２を有する。３は脱気手段
１と貯槽４の流入部５とを連結する送給管である。貯槽
４は有底円筒状で、上部は球状に膨出した蓋部６を有
し、全体は気密に構成されている。前記蓋部６の中央、
頂部の溢流液取出部７と前記槽１１とは回収管８で連結
されており、返送手段を構成している。尚、９は貯槽４
の下部側の流出部１０に連結された流出管であり、１２
は前記槽１１に空気等のガスが溶存している液体を流入
させる流入管である。
様を示すものである。図中１は脱気手段で、空気や炭酸
ガス等のガスが溶存している水等の液体を槽１１を介し
て脱気手段１に供給する流路２を有する。３は脱気手段
１と貯槽４の流入部５とを連結する送給管である。貯槽
４は有底円筒状で、上部は球状に膨出した蓋部６を有
し、全体は気密に構成されている。前記蓋部６の中央、
頂部の溢流液取出部７と前記槽１１とは回収管８で連結
されており、返送手段を構成している。尚、９は貯槽４
の下部側の流出部１０に連結された流出管であり、１２
は前記槽１１に空気等のガスが溶存している液体を流入
させる流入管である。
【００１６】上記構成において、ガスが溶存している槽
１１内の液体はまず流路２を通り、脱気手段１に流入
後、ここで脱気される。次いで、脱気された処理液は送
給管３を通って貯槽４に流入し、貯槽を満液状態にする
と共に、その溢流液は回収管８を通って槽１１に返送さ
れる。
１１内の液体はまず流路２を通り、脱気手段１に流入
後、ここで脱気される。次いで、脱気された処理液は送
給管３を通って貯槽４に流入し、貯槽を満液状態にする
と共に、その溢流液は回収管８を通って槽１１に返送さ
れる。
【００１７】前記脱気された処理液は使用時には流出管
９を通って使用場所に供給されるが、この場合貯槽４に
供給される脱気した処理液量よりも流出管９を通って使
用場所に供給される供給量は必ず少ない量である必要が
ある。これによって常に溢流液取出部７から溢流液が溢
流する状態が保たれ、貯槽４内の脱気された処理液は外
気とふれることがない。
９を通って使用場所に供給されるが、この場合貯槽４に
供給される脱気した処理液量よりも流出管９を通って使
用場所に供給される供給量は必ず少ない量である必要が
ある。これによって常に溢流液取出部７から溢流液が溢
流する状態が保たれ、貯槽４内の脱気された処理液は外
気とふれることがない。
【００１８】上記脱気手段としては、真空脱気装置、加
熱脱気装置、加熱真空脱気装置、パラジウム触媒を担持
した樹脂による脱酸素装置、脱気膜を用いた膜脱気装
置、等が利用できる。
熱脱気装置、加熱真空脱気装置、パラジウム触媒を担持
した樹脂による脱酸素装置、脱気膜を用いた膜脱気装
置、等が利用できる。
【００１９】また、貯槽としては気密性が確保できるも
のであれば、例えば図２に示すような球状のもの、その
他空気が留まりにくい形状であれば任意の形状のものが
採用できる。
のであれば、例えば図２に示すような球状のもの、その
他空気が留まりにくい形状であれば任意の形状のものが
採用できる。
【００２０】なお、溢流液取出部の取付け位置も頂部に
限られるものではないが、操作の簡便さから頂部に取付
けることが好ましい。
限られるものではないが、操作の簡便さから頂部に取付
けることが好ましい。
【００２１】また、貯槽の容積も用途に応じて任意に選
択できる。
択できる。
【００２２】また貯槽には、本貯槽内の処理液をその後
段で使用した際の残部の処理液を循環するための循環液
流入部（図示せず）が付設されていても差し支えない。
段で使用した際の残部の処理液を循環するための循環液
流入部（図示せず）が付設されていても差し支えない。
【００２３】更に、溢流液の返送場所も脱気手段の上流
側であればどこでもよく、脱気手段の直前である必要は
ないものである。
側であればどこでもよく、脱気手段の直前である必要は
ないものである。
【００２４】
【実施例】図３に示す超純水製造装置を構成した。図中
でＴ 1 〜Ｔ3 は貯槽、Ｐはポンプ、Ｄは脱炭酸塔、ＲＯ
は逆浸透装置、ＭＢは再生型混床式イオン交換装置、Ｖ
Ｄは真空脱気装置、ＵＶstは紫外線殺菌装置、ＣＰは混
床式カートリッジポリシャー（イオン交換樹脂床）、Ｕ
Ｆは限外瀘過装置を示しており、紫外線殺菌装置Ｕ
Ｖst、混床式カートリッジポリシャーＣＰ、限外瀘過装
置ＵＦからなる二次純水製造装置には、貯槽Ｔ3 を介し
て超純水が循環される循環配管１３が設置され、限外瀘
過装置ＵＦ後段のユースポイントで規定量の超純水が使
用されない場合は、その残部の超純水が貯槽Ｔ3 に循環
されるようになっている。
でＴ 1 〜Ｔ3 は貯槽、Ｐはポンプ、Ｄは脱炭酸塔、ＲＯ
は逆浸透装置、ＭＢは再生型混床式イオン交換装置、Ｖ
Ｄは真空脱気装置、ＵＶstは紫外線殺菌装置、ＣＰは混
床式カートリッジポリシャー（イオン交換樹脂床）、Ｕ
Ｆは限外瀘過装置を示しており、紫外線殺菌装置Ｕ
Ｖst、混床式カートリッジポリシャーＣＰ、限外瀘過装
置ＵＦからなる二次純水製造装置には、貯槽Ｔ3 を介し
て超純水が循環される循環配管１３が設置され、限外瀘
過装置ＵＦ後段のユースポイントで規定量の超純水が使
用されない場合は、その残部の超純水が貯槽Ｔ3 に循環
されるようになっている。
【００２５】上記装置において、貯槽Ｔ3 として図１に
示す貯槽を用い、当該貯槽Ｔ3 内に前段の真空脱気装置
ＶＤによって真空度２５Ｔｏｒｒの条件で脱記した処理
水（溶存酸素濃度３０ｐｐｂ）を、３０ｍ3／Ｈで連続
的に流入させると共に貯槽Ｔ3内の処理水を流出管９を
通して２０ｍ3／Ｈ で流出させ、その差分の処理水を１
０ｍ3／Ｈで貯槽Ｔ3より常時溢流させ、この溢流水を公
知の貯槽Ｔ2 に返送した。その結果、貯槽Ｔ3 からの流
出水中の溶存酸素濃度は流入する処理水のそれと全く変
らなかった。
示す貯槽を用い、当該貯槽Ｔ3 内に前段の真空脱気装置
ＶＤによって真空度２５Ｔｏｒｒの条件で脱記した処理
水（溶存酸素濃度３０ｐｐｂ）を、３０ｍ3／Ｈで連続
的に流入させると共に貯槽Ｔ3内の処理水を流出管９を
通して２０ｍ3／Ｈ で流出させ、その差分の処理水を１
０ｍ3／Ｈで貯槽Ｔ3より常時溢流させ、この溢流水を公
知の貯槽Ｔ2 に返送した。その結果、貯槽Ｔ3 からの流
出水中の溶存酸素濃度は流入する処理水のそれと全く変
らなかった。
【００２６】
【発明の効果】本発明においては、貯槽内に処理水を満
水状態として貯留するようにしたので、外気と接触する
ことがなく、完全な脱気水を製造でき、このようにして
供給される脱気水は半導体等の製造に特に適したもので
ある。
水状態として貯留するようにしたので、外気と接触する
ことがなく、完全な脱気水を製造でき、このようにして
供給される脱気水は半導体等の製造に特に適したもので
ある。
【図１】本発明の実施態様の一例を示す構成図である。
【図２】本発明に用いる貯槽の他の例を示す概念図であ
る。
る。
【図３】本発明の脱気装置を組み込んだ超純水製造装置
の一例を示す構成図である。
の一例を示す構成図である。
【図４】従来の貯槽を示す概念図である。
１ 脱気手段 ２ 上流側流路 ３ 送給管 ４ 貯槽 ５ 流入部 ６ 蓋部 ７ 溢流液取出部 ８ 回収管 ９ 流出管
Claims (4)
- 【請求項１】 液体中に溶存する気体を除去する脱気手
段と及び前記脱気手段により脱気された処理液を貯留す
る貯槽とを有する脱気液製造装置において、前記貯槽が
脱気された処理液の流入部と脱気された処理液の流出部
と貯槽頂部に形成された溢流液取出部とを有する気密構
造で形成され、貯槽内を脱気された処理液で満液にする
と共に、常時溢流液取出部から処理液を溢流させること
により処理液への気体の溶解を防止した脱気液製造装
置。 - 【請求項２】 溢流させた処理液を脱気手段の上流側へ
返送して回収する返送手段を有する請求項１記載の脱気
液製造装置。 - 【請求項３】 液体中に溶存する気体を脱気して脱気さ
れた処理液を常時製造すると共に、前記脱気された処理
液を常時貯槽内を満液状態とした気密貯槽に送り、かつ
貯槽から処理液の少なくとも一部を常に溢流させる脱気
液製造方法。 - 【請求項４】 水中に溶存する気体を除去する脱気手
段と、その後段に設置されている脱気された処理水を貯
留する貯槽とを有する超純水製造に用いる脱気水製造装
置において、前記貯槽が脱気された処理水の流入部と脱
気された処理水の流出部と貯槽頂部に付設した溢流水取
出部とを有した気密構造であって、前記流入部から流入
する処理水が常時溢流水取出部から溢流することにより
貯槽内が常に満水状態を維持する貯槽であり、かつ溢流
水取出部から溢流する処理水を脱気手段の上流側に返送
して回収する返送手段を備えた超純水製造に用いる脱気
水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20911192A JP2952114B2 (ja) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | 脱気液製造装置、及び脱気液製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20911192A JP2952114B2 (ja) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | 脱気液製造装置、及び脱気液製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0655003A JPH0655003A (ja) | 1994-03-01 |
| JP2952114B2 true JP2952114B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=16567473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20911192A Expired - Fee Related JP2952114B2 (ja) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | 脱気液製造装置、及び脱気液製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2952114B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5357836B2 (ja) * | 2010-06-15 | 2013-12-04 | ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社 | 精製水の製造装置とその使用方法 |
-
1992
- 1992-08-05 JP JP20911192A patent/JP2952114B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0655003A (ja) | 1994-03-01 |
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