JP2914851B2 - The liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

The liquid crystal display device and manufacturing method thereof

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Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶の配向状態が微小な領域毎に異なるようにした液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device which orientation of the liquid crystal is different for each minute region.

【0002】 [0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、一対の対向する透明な基板の間に液晶を挿入した液晶パネルからなる。 A liquid crystal display device, a liquid crystal panel of inserting the liquid crystal between transparent substrates a pair of opposing. 一方の基板の内面には共通電極及び配向膜が設けられ、他方の基板の内面には画素電極及び配向膜が設けられる。 The inner surface of one substrate is provided a common electrode and an alignment film, the pixel electrode and an alignment film is provided on the inner surface of the other substrate. 最近では、一方の基板に画素電極とともにアクティブマトリクス回路を形成することが多くなっている。 In recently become more likely to form an active matrix circuit with the pixel electrode on one substrate. さらに、これらの基板の外側にはそれぞれ偏光板が設けられる。 Further, each of the outer polarizing plate of the substrates is provided. 通常、これらの偏光板は偏光の透過軸が互いに直交するように配置される。 Typically, these polarizers are arranged such that the transmission axis of the polarization are perpendicular to each other. 以下、このノーマリホワイトモードを例に取り説明するが、ノーマリブラックモード(偏光板平行)においても、技術的に同様のものについては、適用されることは言うまでもない。 Will now be described taking the normally white mode as an example, even in the normally black mode (polarizer parallel), for technically like, it applied it is needless to say.

【0003】液晶表示パネルでは、液晶分子は両基板の配向膜のラビング方向に従って配向し、プレチルトする。 [0003] In the liquid crystal display panel, liquid crystal molecules are oriented according to the rubbing direction of the alignment film of the substrates and pre-tilt. ツイストネマチック型の液晶表示装置では、両基板の配向膜のラビング方向は相互にほぼ垂直になっており、液晶の分子は一方の基板から他方の基板に向かうにつれて螺旋状にツイストしていく。 In twisted nematic liquid crystal display device, the rubbing direction of the alignment film of the substrates are almost perpendicular to each other, the molecules of the liquid crystal is gradually twisted in a spiral shape as from one substrate toward the other substrate. そして、液晶に電圧を印加しないときに、液晶の分子は初期のツイスト及びプレチルトを維持した状態にあり、入射光は液晶のツイストに沿って旋回しながら進み、液晶パネルから出射する。 Then, when a voltage is not applied to the liquid crystal, molecules of the liquid crystal is in a state of maintaining the initial twist and tilt, the incident light advances while swirling along the twist of the liquid crystal and emitted from the liquid crystal panel. このときに、偏光板を直交配置したノーマリホワイトモードでは白表示が得られる。 At this time, a white display is obtained in the normally white mode orthogonal polarizing plates arranged. 電圧を印加すると、液晶が立ち上がり、液晶の複屈折作用が弱くなり、上記した光の旋回作用が弱くなって、入射光が液晶セルを透過しにくくなり、黒表示が得られるようになる。 When a voltage is applied, the liquid crystal rises, the birefringence effect of the liquid crystal is weakened, the turning action of light as described above becomes weak, the incident light is hardly transmitted through the liquid crystal cell, so that a black display is obtained. このようにして、液晶への印加電圧を制御しながら、全体で明暗のコントラストのある画像を形成する。 In this manner, while controlling the voltage applied to the liquid crystal, to form an image having a contrast between light and dark as a whole.

【0004】液晶表示装置では、観視者が、画面を見る方向により、画像の明暗のコントラストが変化する。 [0004] In the liquid crystal display device, the viewer is, by the direction to see the screen, the contrast of light and shade of the image changes. これは、液晶表示装置の視角特性として一般に認識されている。 This generally recognized as the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device. 例えば、液晶表示装置を真正面から見た場合に明暗のコントラストのよい画像が得られたとしても、同じ画像を水平に対して30度の斜め上方及び斜め下方から見た場合には、明暗のコントラストが低下する。 For example, even if the image of good contrast in brightness when viewing the liquid crystal display device squarely is obtained, if viewed same image obliquely from above and obliquely below the 30 degrees to the horizontal, brightness contrast There is reduced. 例えば、画像を斜め上方から見た場合には全体的に白っぽい画像となり、画像を斜め下方から見た場合には印加電圧が低いときにはコントラストの大きい画像が得られるが、印加電圧の上昇とともにコントラストが悪くなり、 For example, the image becomes generally whitish image when viewed from obliquely upward, when viewed image from an oblique downward large picture contrast obtained when the applied voltage is low, the contrast with increasing applied voltage worse,
中間色を得るのに不都合なことがある。 It may be inconvenient to obtain a neutral color.

【0005】このような視角特性の影響を解決するために、特開昭54─5754号公報や、特開昭63─10 In order to solve such an influence of the viewing angle characteristics, and JP 54─5754, JP 63─10
6624号公報は、1画素分の単位領域を液晶の配向方向の異なる2つの微小な領域に分割し(画素分割又は配向分割という)、一方の領域では一方向にラビングを行い、もう一方の領域では逆の方向にラビングを行うことを提案している。 6624 Patent Publication No. (referred pixel division or alignment division) dividing the unit area of ​​one pixel in two small regions with different orientation directions of the liquid crystal performs rubbed in one direction in one region, the other region in proposes to perform rubbing in the opposite direction. このような画素分割により、上記斜め上方及び斜め下方から見た二つの視角特性を平均化し、 Such pixel division, averaging two viewing angle characteristics as viewed from the obliquely above and obliquely downward,
全体としての視角特性の向上を図ることをできる。 It is to improve the viewing angle characteristics as a whole.

【0006】画素分割した液晶表示装置では、2つの微小な領域毎に逆方向のラビングを行わなくてはならない。 [0006] In the liquid crystal display device in which pixel division must be carried out rubbing in the reverse direction for each two minute domains. このようなラビング処理はリソグラフィ技術を用いて次の2回のラビング処理が必要である。 Such rubbing is required rubbing next two by lithography. すなわち、1 In other words, 1
回目のラビング処理は、基板の内面に配向膜を塗布し、 Times eye rubbing treatment of the alignment film is coated on the inner surface of the substrate,
配向膜にレジストを塗布し、このレジストに微小な一方の領域に相当する開口部を設け、そこで一定の方向にラビングし、そしてレジストを除去するステップからなる。 A resist is applied to the alignment film, the resist an opening corresponding to the small one region, where rubbing in a predetermined direction, and comprising the step of removing the resist. それから、2回目のラビング処理は、1回目のラビングをした配向膜にレジストを塗布し、このレジストに前記一方の領域とは逆の領域に相当する開口部を設け、 Then, the second rubbing process, resist is coated alignment film was first rubbing, an opening corresponding to the inverse of the region provided with said one region to the resist,
そこで逆の方向にラビングし、そしてレジストを除去するステップからなる。 Therefore it rubbed in the opposite direction, and the resist comprises the step of removing.

【0007】このようなラビング処理は、各基板の配向膜に対して、2回のフォトリソグラフィ処理と、2回のラビング処理とを行うことが必要である。 [0007] Such rubbing treatment for the alignment film of the substrate, and two photolithographic process, it is necessary to perform a rubbing treatment twice. 従って、両方の基板については、合計4回のフォトリソグラフィ処理と、4回のラビング処理とを行うことが必要であった。 Thus, for both substrates, and the photolithography process of a total of 4 times, it was necessary to perform the rubbing process 4 times.
しかし、このように何回もフォトリソグラフィ処理とラビング処理を行うために、製造コストが上がり、かつ、 However, in order to carry out this way also the photolithography process and the rubbing process many times, raise the manufacturing cost, and,
配向膜の表面が荒れて液晶の配向が安定しないという問題点があった。 The orientation of the liquid crystal rough surface of the alignment film there is a problem that it is not stable.

【0008】このような問題点を解決するために、本願の出願人は、先願において、液晶のプレチルト角を適切に制御することにより、各基板の配向膜を1回のラビング工程だけで画素分割できることを提案した。 [0008] pixels in order to solve such problems, the applicant of the present application, in the previous application, by appropriately controlling the pretilt angle of the liquid crystal, the alignment films of the substrate with only one rubbing process It was proposed that can be divided. 最も簡単化したプロセスにおいては、一方の基板の配向膜はベタに形成され、液晶のプレチルト角がある値βになるようにラビングされるが、もう一方の基板の配向膜は2層構造に形成され、上層側の配向材層が上記微小な領域に対応する開口部を設けられ、その上から1回のラビング処理を行うようになっていた。 In the most simplified process, the alignment film of one substrate are formed in a solid, but are rubbed so that a certain value pretilt angle of the liquid crystal beta, another alignment film of one substrate are formed in a two-layer structure is, the upper side of the alignment material layer is provided with openings corresponding to the small region, was so is rubbed once thereon. 下層側の配向材層と上層側の配向材層とは例えば材料を変えてあり、よって同じようにラビングしたときに、上層側の配向材層では液晶のプレチルト角がαになり、上層側の配向材層の開口部から露出している下層側の配向材層では液晶のプレチルト角がγになり、α>β>γの関係を満足するようにされていた。 The lower side of the alignment material layer and an upper side of the alignment material layer have been changed, for example, materials, therefore when rubbed in the same way, becomes the pretilt angle of the liquid crystal is α the upper side of the alignment material layer, the upper side the lower layer of the alignment material layer exposed from the opening portion of the alignment material layer becomes pretilt angle of the liquid crystal gamma, it has been adapted to satisfy the relationship of α> β> γ. なお、ここで、1回のラビング処理というのは、ラビングローラを同じ方向に複数回移動させることを含むものである。 Here, because a single rubbing treatment are those comprising moving a plurality of times rubbing roller in the same direction. なお、これで画素分割できることは、後で詳細に説明される。 Incidentally, this can be a pixel dividing will be described later in detail.

【0009】 [0009]

【発明が解決しようとする課題】上記したように、少くとも一方の基板について液晶のプレチルト角α、γが互いに異なる二つの微小な領域を形成することにより、画素分割を達成でき、製造工程を簡略化できるとともに、 As described above [0008], at least the liquid crystal pretilt angle α for one substrate by γ to form two different small areas with each other, can achieve pixel division, the manufacturing process with it can be simplified,
配向膜の表面をいためることがなくて液晶の配向が安定するという利点があるが、先願においては、これは基板の配向膜を2層構造に形成することにより達成されていた。 Although orientation without damage the surface of the liquid crystal alignment film has the advantage that stable, in the prior application, this has been achieved by forming an orientation film on the substrate in a two-layer structure. 本発明の目的は、さらに構造を簡単化するために、 To purpose, simplifying the further structure of the present invention,
一層の配向膜でそれに接触する液晶のプレチルト角が互いに異なる二つの微小な領域を形成できるようにした液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。 To provide a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof pretilt angle of the liquid crystal is to be able to form different two minute region together in contact with it in further alignment layer.

【0010】 [0010]

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、配向膜26を有する第1の基板18 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention SUMMARY OF THE INVENTION includes first has an orientation film 26 1 of the substrate 18
と、該第1の基板と対向し且つ配向膜22を有する第2 , A second having a first substrate opposed to and oriented film 22
の基板16と、該第1及び第2の基板の間に挿入された液晶20とからなり、少くとも該第1の基板の配向膜2 And the substrate 16, made from the inserted liquid crystal 20. During the first and second substrates, at least the orientation of the first substrate layer 2
2が、第1及び第2の隣接する微小な領域A、Bを有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域A、Bに沿って一方向に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法であっ 2, first and second adjacent small regions A, consists alignment material layer of a single layer having a B, the single layer of alignment material layer is the first and second small regions A, to B a method of manufacturing the liquid crystal display device formed by continuously rubbed in one direction along
て、該第1及び第2の微小な領域A、Bにおいて選択的 Te, the first and second small regions A, selectively at B
な改質処理を施すことを特徴とする And characterized by applying a reforming process.

【0011】 た、本発明による液晶表示装置の製造方法は、配向膜26を有する第1の基板18と、該第1の基板と対向し且つ配向膜22を有する第2の基板16 [0011] Also, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the invention, a second substrate 16 having the first substrate 18, the first substrate opposed to and oriented film 22 having an alignment film 26
と、該第1及び第2の基板の間に挿入された液晶20とからなり、少くとも該第1の基板の配向膜26が、第1 When, a liquid crystal 20 for being inserted between the first and second substrate, both the orientation film 26 of the substrate of the first reduced, first
及び第2の隣接する微小な領域A、Bを有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域A、Bに沿って一方向に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法であって、該第1 And second adjacent small regions A, consists alignment material layer of a single layer having a B, the single layer of alignment material layer is the first and second small regions A, in one direction along the B continuously a rubbed manufacturing method of the liquid crystal display device comprising, first
及び第2の微小な領域A、Bにおいて選択的な改質処理を施し、前記改質処理は、該第1及び第2の微小な領域A、Bの表面のプレチルト角を支配する化学成分の濃度分布を選択的に変化させるステップからなり、前記第1 And subjected to selective modification processing the second minute domains A, in B, the modification treatment, the chemical components governing the first and second small areas A, the pretilt angle of the surface of the B It consists step of selectively varying the concentration distribution, the first
及び第2の微小な領域A、Bの表面のプレチルト角を支配する化学成分の濃度分布を選択的に変化させるステップは、該第1及び第2の微小な領域A、Bの表面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層を付着させるステップからなることを特徴とする。 And a second small regions A, step of selectively varying the concentration distribution of the chemical components governing the pretilt angle of the surface of B are the first and second small regions A, selectively on the surface of B characterized by comprising the step of depositing a material layer to increase or decrease the pretilt angle. また、本発明による液 In addition, liquid according to the present invention
晶表示装置の製造方法は、配向膜26を有する第1の基 Method of manufacturing a crystal display device, a first group having an alignment film 26
板18と、該第1の基板と対向し且つ配向膜22を有す Yusuke a plate 18, the first substrate opposed to and oriented film 22
る第2の基板16と、該第1及び第2の基板の間に挿入 That the second substrate 16, inserted between the first and second substrates
された液晶20とからなり、少くとも該第1の基板の配 Consists been LCD 20., at least distribution of the first substrate
向膜26が、第1及び第2の隣接する微小な領域A、B Alignment film 26, first and second adjacent minute domains A, B
を有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材 It consists alignment material layer of a single layer having a single-layer of alignment material
層が該第1及び第2の微小な領域A、Bに沿って一方向 Layer first and second small regions A, one direction along the B
に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法 Method of manufacturing a liquid crystal display device formed by continuously rubbed in
であって、前記第1の基板に配向材を塗布した後で溶剤 A in the solvent after the orientation material is applied to said first substrate
揮発時間が変わるように該第1及び第2の微小な領域 First and second small areas so volatile time change
A、Bを選択的にプリキュアすることを特徴とする。 A, wherein the selectively Precure B.

【0012】 [0012]

【作用】上記した構成においては、第1の基板の配向膜26は液晶の配向方向が同じでプレチルト角α、γが互いに異なった第1及び第2の隣接する微小な領域A、B [Action] In the configuration described above, first and second adjacent minute domains A alignment film 26 is pre-tilt angle in the orientation direction of the liquid crystal is the same of the first substrate alpha, gamma are different from each other, B
を有する。 Having. 第2の基板については、例えば第2の基板の配向膜22は配向方向及びプレチルト角βが第1及び第2の隣接する微小な領域A、Bについて実質的に同じものでよく、α>β>γの関係がある。 For the second substrate, for example, a second alignment layer 22 of the substrate minute domains A adjacent alignment direction and pretilt angle beta is in the first and second, substantially well the same for B, alpha> beta > relationship of γ. なお、上記構成では、第1及び第2の基板の配向膜はともに一層構造のものであり、従来のものよりも構造が簡単になる。 In the above structure, the alignment film of the first and second substrate are in both even more structure, the structure becomes simpler than the prior art. また、 Also,
第2の基板についても、液晶の配向方向が同じで、プレチルト角α、γが互いに異なった第1及び第2の隣接する微小な領域B、Aを有するものとすることができる。 For the second substrate, the alignment direction of the liquid crystal is the same, the pretilt angle alpha, gamma the first and second adjacent small region B different from each other, it can be made with A.

【0013】α>β>γの関係がある場合、第1の領域Aにおいては、第1の基板に接する液晶のプレチルト角がαとなり、第2の基板に接する液晶のプレチルト角がβとなる。 [0013] alpha> beta> If a relationship of gamma, in the first region A, becomes the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the first substrate alpha, pre-tilt angle of the liquid crystal in contact with the second substrate a beta . 第2の領域Bにおいては、第1の基板に接する液晶のプレチルト角がγとなり、第2の基板に接する液晶のプレチルト角がβとなる。 In the second region B, next to the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the first substrate gamma, the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the second substrate a beta. 第1の基板と第2の基板との間の中間に位置する液晶分子は電圧印加時に第1 First when the liquid crystal molecules voltage application, located in the middle between the first substrate and the second substrate
の基板及び第2の基板の大きい方のプレチルト角に従って立ち上がるという性質があり、第1の領域Aにおいては第1の基板に接する液晶の方向に従った立ち上がり(チルト)となり、第2の領域Bにおいては第2の基板に接する液晶の方向に従った立ち上がり(チルト)となり、画素分割を達成できる。 Of has the property that rises in accordance with the substrate and the larger pretilt angle of the second substrate, in the first region A rise (tilt) and in accordance with the direction of the liquid crystal in contact with the first substrate, the second region B in can achieve the rise (tilt), and pixel division according to the direction of the liquid crystal in contact with the second substrate.

【0014】 [0014]

【実施例】図1は、本発明の第1実施例の液晶表示装置の液晶パネル10を示す図である。 DETAILED DESCRIPTION FIG. 1 is a diagram showing a liquid crystal panel 10 of the liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention. この液晶パネル10 The liquid crystal panel 10
の両側には偏光板12、14がノーマリホワイトモードのときに垂直な関係で、あるいはノーマリブラックモードのときに平行な関係で配置される。 They are arranged in parallel relationship when the polarizing plate 12, 14 on both sides in a perpendicular relationship when a normally white mode or normally black mode, the. 液晶パネル10 The liquid crystal panel 10
は、一対の透明なガラス基板16、18の間に液晶20 The liquid crystal 20 between a pair of transparent glass substrates 16 and 18
を封入したものである。 It is obtained by encapsulating a. 図示しない光源からの光は矢印Lの方から液晶パネル10に入射し、観視者は入射方向とは逆の方向から液晶パネル10を見るものとし、以後の説明においては、光の入射側の基板16を下基板と呼び、観視者側の基板18を上基板と呼ぶことにする。 Light from a light source (not shown) is incident on the liquid crystal panel 10 from the direction of arrow L, and viewer shall see the LCD panel 10 from the opposite direction to the incident direction, in the following description, the light incident side called substrate 16 and lower substrate, it will be referred to the viewer side of the substrate 18 and upper substrate. ただし、光の入射側及び観視者側は逆とすることができる。 However, the incident side and the viewer side of the light can be reversed.

【0015】下基板16の内面にはITOの共通電極2 The common electrode 2 of ITO on the inner surface of the lower substrate 16
1及び配向膜22が設けられ、上基板18の内面には画素電極24及び配向膜26が設けられる。 1 and the alignment film 22 is provided, the pixel electrodes 24 and an alignment film 26 is provided on the inner surface of the upper substrate 18. カラーフィルタ層(図示せず)が下基板16の共通電極21の下に設けられる。 A color filter layer (not shown) is provided below the common electrode 21 of the lower substrate 16. 共通電極21と画素電極24を逆に設けることもできる。 The common electrode 21 and the pixel electrode 24 can be provided on the reverse. 図2に示されるように、上基板18に設けられた画素電極24はアクティブマトリクス回路に接続される。 As shown in FIG. 2, the pixel electrode 24 provided on the upper substrate 18 is connected to the active matrix circuit. アクティブマトリクス回路は縦、横にマトリクス状に延びるデータバスライン30及びゲートバスライン32を含み、画素電極24は薄膜トランジスタ(TF The active matrix circuit comprises vertical, data bus lines 30 and the gate bus lines 32 extending in a matrix in the lateral, the pixel electrode 24 is a thin film transistor (TF
T)34を介してデータバスライン30及びゲートバスライン32に接続される。 Through T) 34 is connected to the data bus line 30 and the gate bus line 32.

【0016】図2に示されるように、画素電極24で代表される各画素領域は、2つの微小な領域A、Bに分割されている。 [0016] As shown in FIG. 2, each pixel region represented by the pixel electrode 24, two small areas A, are divided into B. 図2に示される分割パターンは、横一列の画素電極24の中央を通る線によりストライプ状になっているが、例えば横一列の画素電極24において2つの微小な領域A、Bを交互に配置した千鳥状のパターンとすることもできる。 Division pattern shown in FIG. 2, but has a stripe shape by a line passing through the center of the pixel electrode 24 of the horizontal row, for example, in the pixel electrode 24 of the horizontal row two minute areas A, were placed B alternately It may be a staggered pattern.

【0017】液晶20はツイストネマチック型液晶を使用している。 [0017] The liquid crystal 20 is using a twisted nematic liquid crystal. ツイストネマチック型液晶を使用する場合のラビングの基本、及び配向分割の基本について、図1 Basic rubbing of using twisted nematic liquid crystal, and the basics of alignment division, FIG. 1
8から図24を参照して説明する。 It will be described with reference to FIG. 24 from 8. 図18は、(配向分割なしの)ツイストネマチック型液晶を使用する場合のラビングの一例を示し、実線の矢印22aは下基板18 18 shows an example of a rubbing when using (orientation without division) twisted nematic liquid crystal, solid arrows 22a under the substrate 18
の配向膜22に施されるラビング方向を示し、破線の矢印26aは上基板16の配向膜26に施されるラビング方向を示する。 It shows the rubbing direction applied to the alignment film 22 of, view the rubbing direction dashed arrow 26a is to be performed on the alignment film 26 of the upper substrate 16.

【0018】図19は、このようなラビング処理をした場合の、下基板16の配向膜22に接する液晶分子20 [0018] Figure 19, in the case of such a rubbing treatment, the liquid crystal molecules 20 in contact with the alignment film 22 of the lower substrate 16
Lと、上基板18の配向膜26に接する液晶分子20U And L, the liquid crystal molecules 20U contacting the alignment film 26 of the upper substrate 18
と、下基板16と上基板18との中間に位置する液晶分子20Cとをそれぞれ別々に示したものである。 When it shows the liquid crystal molecules 20C is located between the lower substrate 16 and upper substrate 18, respectively separately. 図19 Figure 19
において、各段の左側の図は図18に対応して見た液晶分子の配向方向を示す平面図、各段の右側の図はそれぞれ左側の図の矢印の方向から見た断面図である。 In a diagram of the left side of each stage is a plan view showing the alignment direction of liquid crystal molecules as viewed in correspondence with Fig. 18 is a sectional view seen from the direction of the arrow in the right side of the figure on the left side each figure each stage. 下基板16の配向膜22に接する液晶分子20Lの配向方向は下基板16の配向膜22のラビング方向22aと一致し、右下がり方向を向いており、上基板18の配向膜2 The alignment direction of liquid crystal molecules 20L in contact with the alignment film 22 of the lower substrate 16 coincides with the rubbing direction 22a of the alignment film 22 of the lower substrate 16, faces a downward-sloping direction, the orientation film of the upper substrate 18 2
6に接する液晶分子20Uの配向方向は上基板18の配向膜26のラビング方向26aと一致し、左上がり方向を向いている。 The alignment direction of liquid crystal molecules 20U contacting the 6 coincides with the rubbing direction 26a of the alignment film 26 of the upper substrate 18, facing leftward. 液晶は下基板16と上基板18との間で左まわりツイストし、中間の液晶分子20Cは左上がりの向きとなるユニフォーム配向である。 The liquid crystal is left-handed twist between the lower substrate 16 and upper substrate 18, the liquid crystal molecules 20C of the intermediate is a uniform orientation as a left-side up orientation.

【0019】図20は図18で示されるラビング処理をした液晶パネル10を図18の線XX─XXに沿って見た断面図である。 [0019] FIG. 20 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 10 in which the rubbing process shown taken along line XX─XX of Figure 18 in Fig. 矢印Cは液晶パネル10を上基板18 Arrow C above the liquid crystal panel 10 substrate 18
の法線方向から見ることを示し、矢印Uは液晶パネル1 It indicates that seen from the normal direction, an arrow U LCD panel 1
0を斜め上30度の方向から見ることを示し、矢印Lは液晶パネル10を斜め下30度の方向から見ることを示ている。 Indicates to see 0 in the direction of obliquely upward 30 degrees, the arrow L is shown to view the liquid crystal panel 10 from the direction of the oblique bottom 30 degrees.

【0020】図21は図18に示されるラビング処理をした液晶パネル10の視角特性を示す図であり、一点鎖線Cは図20の矢印Cの方向から液晶パネル10を見た場合の電圧─透過率曲線である。 [0020] Figure 21 is a diagram showing a viewing angle characteristic of the liquid crystal panel 10 in which the rubbing process shown in FIG. 18, the voltage ─ transmission when the one-dot chain line C is viewed LCD panel 10 in the direction of arrow C in FIG. 20 it is the rate curve. 破線U、Lはそれぞれ図20の矢印U、Lの方向から液晶パネル10を見た場合の電圧─透過率曲線である。 Dashed U, L is a voltage ─ transmittance curves when viewed arrow U, the liquid crystal panel 10 from the direction of L, respectively, in FIG 20. 破線Lの場合には、電圧を高くしても透過率の低下が少ないので、黒い表示を得ようとしても、比較的に明るい表示になってしまう。 In the case of the broken line L, since decrease in transmittance even when high voltage is small, even an attempt to obtain a black display, becomes relatively bright display. 破線Uの場合には、電圧をわずかにかけると透過率が大幅に低下し、コントラスト比の大きい画像が得られるが、 In the case of the broken line U is lowered voltage significantly slightly multiplying the transmittance, although a large image of a contrast ratio obtained,
電圧の増加とともに再び透過率が上昇し、電圧と透過率の対応関係が反転し、白と黒の間の中間色を得るのに不都合なことがある。 Transmittance rises again with increasing voltage, reversed correspondence between the voltage and the transmittance, it may be inconvenient to obtain an intermediate color between white and black.

【0021】このような視角特性を改善するために、図22に示されるような画素分割が行われる。 [0021] In order to improve such viewing angle characteristics, the pixel division as shown in FIG. 22 is performed. 図22は微小な領域Aと微小な領域Bとを有する画素分割の基本形を示し、この微小な領域Aでは図18と同じラビング処理が行われる。 Figure 22 shows a basic form of pixel division having a small area A and the small region B, and the same rubbing treatment as in FIG. 18 in the minute domains A is performed. 微小な領域Bでは微小な領域Aと逆のラビング処理が行われる。 Rubbing treatment in the minute domain B in the minute domains A reverse is performed. すなわち、微小な領域Bの破線の矢印26aの向きは微小な領域Aの破線の矢印26a That is, the dashed arrows 26a in the direction of the dashed arrows 26a in the minute domain B is minute domains A
の向きとは逆であり、微小な領域Bの実線の矢印22a Orientation and a reverse, the minute domain B solid arrow 22a
の向きは微小な領域Aの実線の矢印22aの向きとは逆である。 Orientation to the direction of solid arrows 22a in the minute domain A is the reverse. その結果、微小な領域Bの下基板16と上基板18との中間に位置する液晶分子20Cは、微小な領域Aのものとは逆を向くことになり、視角特性も逆になる。 As a result, the liquid crystal molecules 20C is located between the lower substrate 16 and the upper substrate 18 in the minute domain B will become the faces opposite from those in the minute domain A, also reversed the viewing angle characteristics.

【0022】このような微小な領域Aと微小な領域Bを隣り合わせて配置すると、図20の矢印U又はLの方向から液晶表示パネル10を見た場合、図21の実線Iの特性が得られる。 [0022] When placed next to such a small area A and the small region B, and the liquid crystal display panel is viewed 10 in the direction of arrow U or L in FIG. 20, the characteristics of the solid line I in FIG. 21 is obtained . 実線Iの特性は破線Lと破線Uの特性を加えて2で割ったものになり、法線方向から見た一点鎖線Cの特性に近くなり、極端に透過率の高い視角方向と極端に透過率の低い視角方向とがなくなって視角特性が改善される。 Characteristics of the solid line I becomes divided by 2 by adding the characteristics of the broken line L and the broken line U, closer to the characteristics of the one-dot chain line C when viewed from the normal direction, extremely extremely transparent and having high transmittance viewing angle viewing angle characteristics are improved gone low viewing angle direction of rates. これが画素分割の効果である。 This is the effect of the pixel division. しかし、 But,
図22に示されるラビングを処理を行うためには、上記したように、各基板について2回のラビングを行うことが必要である。 For processing a rubbing shown in FIG. 22, as described above, it is necessary to perform a rubbing twice for each substrate. このような処理は面倒であり、そこで本願の出願人は上記した先願において図23及び図24に示す配向処理(一例)を提案した。 Such process is cumbersome, where the applicant of the present application has proposed an alignment processing shown in FIGS. 23 and 24 (an example) in the previous application described above.

【0023】図23においては、微小な領域Aのラビング処理は、微小な領域Bのラビング処理と同じである。 [0023] In Figure 23, the rubbing treatment in the minute domain A is the same as the rubbing treatment in the minute domain B.
すなわち、下基板16の配向膜22については微小な領域A、Bを通して矢印22aの方向にラビングを行えばよく、また上基板18の配向膜26については微小な領域A、Bを通して矢印26aの方向にラビングを行えばよい。 That is, the direction of the orientation film minute domain A for 22, may be performed rubbing in the direction of the arrow 22a through B, also small region A for the alignment film 26 of the upper substrate 18, B through arrow 26a of the lower substrate 16 it may be performed rubbed in. ただし、液晶のプレチルト角が図24に示されるようにすることが必要である。 However, it is necessary to ensure that the pretilt angle of the liquid crystal is shown in Figure 24.

【0024】図24においては、下基板16の配向膜2 [0024] In FIG. 24, the alignment film 2 of lower substrate 16
2は一層構造のものであり、ラビングされたときにそれに接する液晶のプレチルト角がβになるようにされている。 2 is intended more structures, the pretilt angle of the liquid crystal is such that the β in contact with it when it is rubbed. 上基板18の配向膜26は下層側の配向材層51と上層側の配向材層52とからなる二層構造のものであり、上層側の配向材層52は微小な領域A又はBに対応して開口するようにパターニングされている。 The alignment film 26 of the upper substrate 18 is of two-layer structure including the lower side of the alignment material layer 51 and the upper side of the alignment material layer 52, alignment material layer 52 of the upper side corresponding to the small region A or B It is patterned to to open. 上層側の配向材層52はラビングされたときにそれに接する液晶のプレチルト角αが比較的に大きくなる材料で作られ、 Alignment material layer 52 on the upper layer side is made of a material pretilt angle of the liquid crystal α becomes relatively large in contact with it when it is rubbed,
下層側の配向材層51はラビングされたときにそれに接する液晶のプレチルト角γが比較的に小さくなる材料で作られる。 Alignment material layer 51 on the lower layer side is made of liquid crystal pretilt angle γ is smaller material relatively in contact with it when it is rubbed. ここで、α>β>γの関係がある。 Relationship here, α> β> γ.

【0025】すると、微小な領域Aにおいては、下基板16側の液晶分子のプレチルト角はβであり、上基板1 [0025] Then, in the small region A, the pretilt angle of the liquid crystal molecules of the lower substrate 16 side is beta, the upper substrate 1
8側の液晶分子のプレチルト角はγであり、β>γである。 The pre-tilt angle of the liquid crystal molecules of 8 side is γ, is a β> γ. また、微小な領域Bにおいては、下基板16側の液晶分子のプレチルト角はβであり、上基板18側の液晶分子のプレチルト角はαであり、α>βである。 In the minute domain B, the pretilt angle of the liquid crystal molecules of the lower substrate 16 side is beta, the pretilt angle of the liquid crystal molecules of the upper substrate 18 side is alpha, an alpha> beta. 本願の発明者らは、先願において、このように上下でプレチルト角に確実な差があると、下基板16と上基板18との間の中間の液晶分子20Cは、電圧印加時にプレチルト角の大きい方のラビングに従って立ち上がる(チルト) The inventors have found that in the prior application, if such is reliable difference in pretilt angle up and down, an intermediate liquid crystal molecules 20C between the lower substrate 16 and upper substrate 18, the pretilt angle when a voltage is applied stand up in accordance with the rubbing of the larger (tilt)
ことを発見した。 It was discovered that. 液晶の光透過特性は主として中間の液晶分子20Cの挙動により定められることが分かっている。 Light transmission characteristics of the liquid crystal has been found to mainly determined by the behavior of the liquid crystal molecules 20C of the intermediate.

【0026】従って、図24において、微小な領域Aの中間の液晶分子20Cは下基板16の配向膜22のラビング方向に従って立ち上がる。 [0026] Thus, in FIG. 24, an intermediate liquid crystal molecules 20C of the minute domains A rises according to the rubbing direction of the alignment film 22 of the lower substrate 16. 図24の下基板16の配向膜22のラビング方向は、図23のラビング方向22 Rubbing direction 22 of the lower substrate 16 in FIG. 24, the rubbing direction 22 of FIG. 23
aに対応し、そしてこれは図22の微小な領域Aのラビング方向22aと同じである。 Corresponding to a, and this is the same as the rubbing direction 22a of the small region A of FIG. 22. 従って、図23及び図2 Accordingly, FIG. 23 and FIG. 2
4の微小な領域Aの視角特性は図22の微小な領域Aの視角特性と同じである。 Viewing angle characteristics of the small region A 4 is the same as the viewing angle characteristics of the small region A of FIG. 22.

【0027】同様に、図24の微小な領域Bの中間の液晶分子20Cは上基板18の配向膜26のラビング方向に従って配向する。 [0027] Similarly, the middle of the liquid crystal molecules 20C of the small region B in FIG. 24 are aligned according to the rubbing direction of the alignment film 26 of the upper substrate 18. 図24の上基板18の配向膜26のラビング方向は、図23のラビング方向26aに対応し、そしてこれは図22の微小な領域Bのラビング方向26aと同じである。 Rubbing direction 26 of the substrate 18 on the FIG. 24 corresponds to the rubbing direction 26a of FIG. 23, and this is the same as the rubbing direction 26a of the minute domain B of Figure 22. 従って、図23及び図24の微小な領域Bの視角特性は図22の微小な領域Bの視角特性と同じである。 Accordingly, the viewing angle characteristic in the minute domain B of FIG. 23 and FIG. 24 are the same as the viewing angle characteristic in the minute domain B of Figure 22. すなわち、図23及び図24の処理により、図22と同じ画素分割の効果を達成でき、図23及び図24の方が各基板について1回のラビングでよいために製造が簡単であり、且つ液晶の配向が安定する。 That is, by the processing of FIGS. 23 and 24, can achieve the effect of the same pixel division as in FIG. 22, is easy to manufacture because towards 23 and 24 are good at rubbing once for each substrate, and liquid crystal orientation of is stable.

【0028】本発明は、この先願をさらに改善し、図1 [0028] The present invention further improves this prior application, Fig. 1
に示されるように、例えば少くとも上基板18の配向膜26を単一層構造として微小な領域A、B毎に異なるプレチルト角α、γを実現できるようにするものである。 As shown in, for example, at least minute domains A alignment film 26 as a single layer structure of the upper substrate 18, different pretilt angles for each B alpha, is intended to be able to realize the gamma.
また、図32に示されるように、上基板18、下基板1 Further, as shown in FIG. 32, the upper substrate 18, the lower substrate 1
6の配向膜26、22をともに単一層構造として微小な領域A、B毎に異なるプレチルト角α、γを形成することもできる。 6 minute domain A the alignment film 26 and 22 together as a single layer structure, different pretilt angles for each B alpha, can also form a gamma. 上下で、プレチルト角α、γが対向する。 Up and down, the pretilt angle alpha, gamma faces.
以下、主として図1の構成について説明する。 Hereinafter, mainly described in FIG. 1 configuration. このため、本発明では、図23に示されるように、単一層の配向膜26が二つの微小な領域A、Bに沿って一方向に連続的にラビングされているとともに、これから説明するように、二つの微小な領域A、Bにおいて配向膜26に接触する液晶のプレチルト角α、γが互いに異なるようにラビングとは別の処理が施されている。 Therefore, in the present invention, as shown in FIG. 23, the alignment film 26 are two minute domains A single layer, with being continuously rubbed in one direction along the B, as will now be described another treatment is applied to the alignment pre-tilt angle of the liquid crystal layer in contact with the 26 alpha, rubbing γ is different from each other in the two small regions a, B.

【0029】図3は、上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第1実施例を示す図である。 FIG. 3 is a diagram showing a first embodiment of a pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, vary the γ processing. 図3においては、(a)において上基板1 In FIG. 3, the upper substrate 1 in (a)
8の表面に配向膜26をスピンコートにより塗布する。 An alignment film 26 is coated by spin coating on the 8 surface of.
ここで、上基板18の表面に配向膜26を塗布するということは、上基板18の上に画素電極24あるいはその他のものが形成されていればその表面に配向膜26を塗布するということである。 Here, the fact that by application of an alignment film 26 on the surface of the upper substrate 18, that it is applied to the alignment film 26 on the surface thereof if or pixel electrodes 24 others are formed on the upper substrate 18 is there. 配向膜26は高いプレチルト角を示すイミド化率100パーセントのポリイミドを用いた。 The alignment film 26 was used imidization ratio 100% of the polyimide to exhibit high pretilt angle. この種のポリイミドは通常可溶性ポリイミドと言われ、種々の種類のポリイミド成分を溶剤に溶かしたものである。 Polyimide of this kind is usually referred to as soluble polyimide is obtained by dissolving the various kinds of polyimide component in a solvent. ポリイミド成分の中には、ジアミン成分等の、特にプレチルト角を支配する化学成分が含まれる。 Some of the polyimide component, such as a diamine component include chemical components that particular governing the pretilt angle.
そのような配向材としては、例えば日本合成ゴム製のJ Such alignment material, for example by Japan Synthetic Rubber Ltd. of J
ALS219、214等を使用することができる。 It is possible to use the ALS219,214 like.

【0030】図3(b)においては、上基板18の配向膜26をオーブン等でキュアリングし、溶剤をとばすとともに、配向膜26を硬化させる。 [0030] In FIG. 3 (b), the alignment film 26 of the upper substrate 18 and cured in an oven or the like, with skip solvent, curing the alignment film 26. それから図3(c) Then FIG. 3 (c)
において、マスク60を用いて微小な領域A、Bに選択的に紫外線を照射する。 In is selectively irradiated with ultraviolet minute areas A, to B using a mask 60. マスク60は紫外線を透過せしめる石英又は合成石英からなる材料で作られた板60a Plate 60a mask 60 is made of a material consisting of quartz or synthetic quartz allowed to transmit ultraviolet rays
と、微小な領域A、Bの一方に対応して該板に設けたられたクロム等の紫外線遮断材料層60bとからなる。 If, consisting minute areas A, the ultraviolet blocking material layer 60b of chromium or the like When provided in the plate so as to correspond to one of the B. それから図3(d)において、ラビングローラ57を用いて配向膜26を図23のようにラビングする。 Then in FIG. 3 (d), the rubbing as shown in Figure 23 the alignment film 26 with a rubbing roller 57.

【0031】図4は、上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第2実施例を示す図である。 [0031] FIG. 4 is a diagram showing a second embodiment of a pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, vary the γ processing. この実施例では、図3の実施例と同様に、 In this embodiment, like the embodiment of FIG. 3,
(a)において上基板18の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基板18の配向膜26をキュアリングする。 An alignment film 26 is applied to the surface of the upper substrate 18 (a), the Curing the alignment film 26 of the upper substrate 18 in (b). それから、図3の実施例とは逆に、(c)において配向膜26をラビングし、(d)においてマスク60を用いて微小な領域A、Bに選択的に紫外線を照射する。 Then, contrary to the embodiment of FIG. 3, rubbed alignment layer 26 (c), the selectively irradiated with ultraviolet minute areas A, to B using the mask 60 in (d).

【0032】図3及び図4においては、微小な領域A、 [0032] In FIGS. 3 and 4, small areas A,
Bに選択的に紫外線を照射することにより、紫外線を照射されなかった微小な領域Aは配向材として使用されたポリイミドの性質に従って且つその前後のラビングに従って高いプレチルト角αを示すようになる。 By selectively irradiated with ultraviolet light B, minute domains A that has not been irradiated with ultraviolet rays exhibits a high pretilt angle α and in accordance with the rubbing of the front and rear according to the nature of the polyimide used as an alignment material. 一方、紫外線を照射された微小な領域Bはその部分の配向膜26の表面エネルギーが増加し、当初のポリイミドの性質及び所定のラビングをした場合よりもプレチルト角γが小さくなる。 On the other hand, the ultraviolet minute domain B which has been irradiated with the increased surface energy of the alignment film 26 of that part, the pretilt angle γ is smaller than when the nature and predetermined rubbing of the original polyimide. これによって、例えば、プレチルト角αが8 This allows, for example, the pre-tilt angle α is 8
度、プレチルト角βが4度、プレチルト角γが1度の組合せを作ることができる。 Every time, the pre-tilt angle β is 4 degrees, can be pre-tilt angle γ to make the combination of 1 degree.

【0033】紫外線を照射することによりプレチルト角γが小さくなることは、図5及び図6の関係に示される。 The pretilt angle γ is reduced by irradiation with ultraviolet rays is shown in relation of FIGS. 図5に示されるように、紫外線の照射時間が長くなるほどプレチルト角は小さくなる。 As shown in FIG. 5, the pretilt angle as the irradiation time of ultraviolet rays becomes longer decreases. 紫外線の照射は配向膜26の表面エネルギーを増加させるが、図6に示されるように、配向膜26の表面エネルギーが大きくなるほど、配向膜26の濡れ性が改善され、接触角が低下し, UV irradiation increases the surface energy of the alignment film 26, but as shown in FIG. 6, the greater the surface energy of the alignment film 26, is improved wettability of the alignment film 26, the contact angle decreases,
そしてプレチルト角は小さくなる。 And the pre-tilt angle is reduced. なお、配向膜26の表面エネルギーが大きくなるほど、プレチルト角は小さくなるという実験的事実は、後の実施例で使用される。 Incidentally, the larger the surface energy of the alignment film 26, the experimental fact that the pretilt angle is small, are used in the Examples below.

【0034】紫外線照射を利用してプレチルト角を小さくするためには、配向膜26の表面のポリイミド結合を切るほどのエネルギーをもった紫外線を使用することが必要である。 [0034] using the UV irradiation in order to reduce the pretilt angle, it is necessary to use an ultraviolet light having an energy of about cutting polyimide bond surface of the alignment film 26. このためには、300nm以下の波長の紫外線を使用することが望ましく、さらには260nm以下の波長の紫外線を使用することが好ましい。 For this purpose, it is desirable to use ultraviolet light of wavelengths shorter than about 300nm, and it is more preferable to use ultraviolet rays 260nm or less wavelength. 実施例においては、主として253.7nmおよび184.9n In the embodiment, mainly 253.7nm and 184.9n
mの波長の紫外線を発生する低圧水銀ランプを10mW 10mW low-pressure mercury lamp that generates ultraviolet rays having a wavelength of m
/cm 2で使用した。 It was used in / cm 2.

【0035】図7は紫外線照射を利用して、図1に示すような上基板18の配向膜26及び下基板16の配向膜22の組合せを得る例を示す図である。 [0035] Figure 7 using the ultraviolet radiation is a diagram showing an example of obtaining a combination of the alignment film 22 of the alignment film 26 and the lower substrate 16 of the upper substrate 18 as shown in FIG. この実施例では、上基板18の配向膜26及び下基板16の配向膜2 In this embodiment, the orientation of the alignment film 26 and the lower substrate 16 of the upper substrate 18 film 2
2として、同じようなラビング処理をした場合には液晶が同じようなプレチルト角を示すような同じ配向材を使用している。 As 2, when similar rubbing using the same alignment material such as showing a pretilt angle as the liquid crystal is the same.

【0036】図7(a)は上基板18の配向膜26の配向処理を示し、先にラビングローラ57で全面をラビングし、配向膜26に接触する液晶がプレチルト角αとなるようにする。 [0036] 7 (a) shows the alignment treatment of the alignment film 26 of the upper substrate 18, and rubbed over the entire surface before the rubbing roller 57, the liquid crystal in contact with the alignment film 26 is made to be pre-tilt angle alpha. それからマスク60を使用して紫外線を照射し、紫外線が当たらなかった微小な領域Bではプレチルト角がαのままとし、紫外線が当たった微小な領域Aではプレチルト角がγとなるようにする。 Then ultraviolet rays were irradiated using a mask 60, the pretilt angle in the minute region B where ultraviolet is not shielded from the left alpha, pre-tilt angle in the minute areas A UV hits is made to be gamma. なお、ラビングと紫外線照射とは逆の順序で行ってもよい。 It may be performed in reverse order of the rubbing and ultraviolet radiation. 図7 Figure 7
(b)は下基板16の配向膜22の配向処理を示し、先にラビングローラ57で全面をラビングし、配向膜26 (B) shows the alignment treatment of the alignment film 22 of the lower substrate 16, and rubbed over the entire surface before the rubbing roller 57, the alignment film 26
に接触する液晶がプレチルト角αとなるようにし、それからマスクを使用することなく紫外線を照射し、それによってプレチルト角がβとなるようにする。 Crystal of contact as a pre-tilt angle alpha, and then irradiated with ultraviolet rays without using a mask, thereby to pre-tilt angle is β to. なお、この場合にも、ラビングと紫外線照射とは逆の順序で行ってもよい。 Also in this case, it may be carried out in reverse order of the rubbing and ultraviolet radiation. このようにして、α>β>γの関係を満足する配向膜22、26を得ることができる。 In this way, it is possible to obtain an alignment film 22, 26 to satisfy the relationship of α> β> γ.

【0037】図8は、上基板18の配向膜26及び下基板16の配向膜22の組合せの別の実施例を示す。 [0037] FIG. 8 shows another embodiment of a combination of the alignment film 22 of the alignment film 26 and the lower substrate 16 of the upper substrate 18. 図8 Figure 8
(a)は上基板18の配向膜26の配向処理を示し、先にラビングローラ57で全面をラビングし、配向膜26 (A) shows the alignment treatment of the alignment film 26 of the upper substrate 18, and rubbed over the entire surface before the rubbing roller 57, the alignment film 26
に接触する液晶がプレチルト角αとなるようにする。 Liquid crystal in contact with the is made to be a pre-tilt angle alpha. それからマスク60を使用して紫外線を照射し、紫外線が当たらなかった微小な領域Bではプレチルト角がαのままとし、紫外線が当たった微小な領域Aではプレチルト角がγとなるようにする。 Then ultraviolet rays were irradiated using a mask 60, the pretilt angle in the minute region B where ultraviolet is not shielded from the left alpha, pre-tilt angle in the minute areas A UV hits is made to be gamma.

【0038】図8(b)は下基板16の配向膜22の配向処理を示し、配向膜26に接触する液晶がプレチルト角βとなるようにラビングする。 [0038] FIG. 8 (b) shows the alignment treatment of the alignment film 22 of the lower substrate 16, the liquid crystal in contact with the alignment film 26 is rubbed so that the pretilt angle beta. この場合には、配向膜26及び配向膜22の配向材として同じ材料を使用しても、あるいは異なった材料をしてもよい。 In this case, even using the same material as the alignment material of the alignment film 26 and the alignment film 22, or may be different materials. 要するに、配向材とラビングとの組合せによりプレチルト角に差がでるようにする。 In short, so that a difference in pretilt angle out by a combination of the alignment member and the rubbing. 同じ配向材を使用する場合には、ラビング回数を増減してプレチルト角に差がでるようにする。 When using the same alignment material is to increase or decrease the number of rubbing so that a difference in pretilt angle out.
そして、この場合にも、α>β>γの関係を満足することが必要である。 Then, in this case also, it is necessary to satisfy the relationship of α> β> γ.

【0039】図9は上記した紫外線照射によりプレチルト角α、γを異ならせるのに使用されるマスク60の改善に関するものである。 [0039] Figure 9 relates to the improvement of mask 60 used to vary the pretilt angle alpha, gamma by ultraviolet irradiation as described above. マスク60は紫外線を透過する石英もしくは、合成石英からなる板60aに紫外線を遮断するクロムからなる紫外線遮断材料層60bを張りつけたものである。 Mask 60 is obtained by sticking a quartz or, made of chromium for shielding ultraviolet light in a plate 60a made of synthetic quartz ultraviolet blocking material layer 60b transmits ultraviolet rays. この実施例では、紫外線を透過せしめる板60aが突起60cを有し、紫外線遮断材料層60 In this embodiment, the plate 60a which allowed to transmit ultraviolet rays has a projection 60c, ultraviolet blocking material layer 60
bはこの突起60cの表面に取り付けられている。 b is attached to the surface of the protrusion 60c. 従って、紫外線遮断材料層60bの表面は、紫外線を透過せしめる板60aの紫外線遮断材料層60bの間に開口する部分の表面60dよりも突出している。 Thus, the surface of the ultraviolet blocking material layer 60b protrudes from the surface 60d of the portion thereof open between the ultraviolet blocking material layer 60b of the plate 60a which allowed to transmit ultraviolet.

【0040】この構成によれば、紫外線遮断材料層60 [0040] According to this configuration, ultraviolet blocking material layer 60
bを上基板18の配向膜26にできるだけ近づけ、あるいは接触させて紫外線照射を行うことができる。 b as close as possible to the alignment film 26 of the upper substrate 18, or by contacting it can be performed with ultraviolet irradiation. このようにすることにより、矢印Pで示されるように、紫外線が斜めにマスク60に入射した場合に紫外線遮断材料層60bの下の領域に入るのを防止することができる。 In this way, it is possible to prevent the as indicated by arrow P, into the area under the ultraviolet blocking material layer 60b when the ultraviolet is incident on the mask 60 at an angle. もし、紫外線遮断材料層60bが破線60eで示される位置にあると、矢印Pで示される紫外線は紫外線遮断材料層60eを回り込んで配向膜26の紫外線を遮断したい領域に入射することになり、好ましくない。 If the a position ultraviolet blocking material layer 60b is indicated by the dashed line 60e, UV indicated by arrow P will be incident on the area to be cut off ultraviolet rays of the alignment film 26 wraps around the ultraviolet blocking material layer 60e, unfavorable.

【0041】板60aが平坦な場合、紫外線が紫外線遮断材料層60eを回り込むのを防止するためには、板6 [0041] When the plate 60a is flat, for ultraviolet light to prevent the wrap around ultraviolet blocking material layer 60e is a plate 6
0a全体を配向膜26にできるだけ近づけるのが望ましいが、そうすると板60aの紫外線遮断材料層60bの間に開口する部分の表面60dが配向膜26に近づきすぎる。 The as close as possible the entire 0a the alignment film 26 is desired, but then the surface 60d of the portion thereof open between the ultraviolet blocking material layer 60b of the plate 60a is too close to the alignment film 26. マスク60の開口部分の表面60dと上基板18 Surface 60d of the opening portion of the mask 60 and the upper substrate 18
の配向膜26との間のギャップが小さいと、同ギャップ内でオゾンの発生量が少なくなり、紫外線照射により配向膜26の表面を改質する効果が低下することが分かった。 If the gap between the alignment film 26 is small, the less amount of ozone generated in the same gap, the effect of modifying the surface of the alignment film 26 by ultraviolet irradiation were found to decrease. すなわち、図10は、マスク60の開口部分の表面60dと上基板18の配向膜26との間のギャップと、 That is, FIG. 10, a gap between the alignment film 26 of the surface 60d and the upper substrate 18 of the opening portion of the mask 60,
配向膜26の表面エネルギー(プレチルト角に関係する)との関係を示し、前記ギャップが小さいほど配向膜26の表面エネルギーは小さくなる。 It shows the relationship between the surface energy of the alignment film 26 (relating to the pre-tilt angle), the surface energy of the alignment film 26 as the gap is small is reduced. 従って、紫外線遮断材料層60bは配向膜26にできるだけ近づけ、開口部分の表面60dと上基板18の配向膜26との間には適切なギャップがあるのが望ましいのである。 Thus, ultraviolet blocking material layer 60b is as close as possible to the alignment film 26, than it desirable to have an appropriate gap between the alignment film 26 of the surface 60d and the upper substrate 18 of the opening portion.

【0042】図11は、マスク60の紫外線を透過する板60aに取り付けられる紫外線遮断材料層60bが比較的に厚さが大きいもので作られ、よって図9のものと同様の作用を行うようにした例を示す図である。 [0042] Figure 11 is a UV-blocking material layer 60b attached to the plate 60a that transmits ultraviolet rays of the mask 60 is made of those relatively thick large, thus to perform the same operation as that of FIG. 9 is a diagram illustrating an example of. この場合、紫外線遮断材料層60bは紫外線遮光レジンからなるのが望ましい。 In this case, ultraviolet blocking material layer 60b is desirably made of an ultraviolet light shielding resin.

【0043】図12は、マスク60の紫外線を透過する板60aと紫外線遮断材料層60bとの間にスペーサ6 [0043] Figure 12 is a spacer 6 between the plate 60a and the ultraviolet blocking material layer 60b which transmits ultraviolet rays of the mask 60
0fが設けられ、よって図9のものと同様の作用を行うようにした例を示す図である。 0f is provided, thus a diagram showing an example in which to perform the same action as that of FIG. この場合、紫外線遮断材料層60bはクロムからなり、スペーサ60fは適当なレジンからなる。 In this case, ultraviolet blocking material layer 60b is made of chromium, the spacers 60f are formed of a suitable resin.

【0044】図13は、上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第3実施例を示す図である。 [0044] Figure 13 is a diagram showing a third embodiment of the pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, vary the γ processing. この実施例では、微小な領域A、Bの表面のプレチルトを支配する化学成分の分布を選択的に変化させる。 In this embodiment, minute domains A, selectively change the distribution of the chemical components governing the pretilt of the surface of the B. 図13においては、(a)において上基板1 In Figure 13, the upper substrate 1 in (a)
8の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基板18の配向膜26をキュアリングし、(c)において配向膜26にレジストマスク54を形成して配向膜26の微小な領域Aに相当する部分の表面を少しエッチングし、そして(d)においてラビングローラ57を用いて配向膜26を図23のようにラビングする。 An alignment film 26 on the surface of 8 is applied, an alignment film 26 of the upper substrate 18 and cured (b), the minute domain A of the alignment film 26 to form a resist mask 54 on the alignment film 26 in (c) the surface of a portion corresponding to slightly etched, and an orientation film 26 is rubbed, as in Figure 23 using a rubbing roller 57 in (d).

【0045】図14は図13の(c)においてエッチングされた配向膜26の一部を拡大して示す図である。 [0045] FIG. 14 is a diagram showing an enlarged portion of the alignment film 26 which is etched in (c) of FIG. 13. ポリイミドからなる配向膜26の材料は、上記したように通常可溶性ポリイミドと言われ、種々の種類のポリイミド成分を溶剤に溶かしたものである。 The material of the alignment film 26 made of polyimide is usually referred to as soluble polyimide as described above, it is obtained by dissolving in a solvent of various types of polyimide component. ポリイミド成分の中には、ジアミン成分等の、特にプレチルト角を支配する化学成分と、プレチルト角にはあまり影響を与えない化学成分とが含まれる。 Some of the polyimide component, such as a diamine component, and chemical composition particularly governing the pretilt angle, the pretilt angle includes chemical ingredients which do not affect much. プレチルト角を支配する化学成分は通常疏水性を示し、空気や窒素等の低湿度雰囲気では、表面に集中しやすい。 Chemical components governing the pretilt angle indicates a normal hydrophobic, in a low humidity atmosphere such as air or nitrogen, tends to concentrate on the surface. 配向膜26のキュアリングにおけるプリキュアの温度をできるだけ低温度で行うと、 When the temperature of the pre-cure the curing of the alignment film 26 at a temperature as low as possible,
プレチルト角を支配する化学成分はかなり表面に集中するようになる。 Chemical components governing the pretilt angle is as concentrated considerably on the surface.

【0046】図14では、ハッチングにより、プレチルト角を支配する化学成分が配向膜26の表面に集中していることを示している。 [0046] In Figure 14, hatched, chemical components governing the pretilt angle is shown that is concentrated on the surface of the alignment film 26. プレチルト角を支配する化学成分が集中している配向膜26の表面を選択的に変化させると、プレチルト角を支配する化学成分が多く含まれる部分とそのような成分がなくなっている部分とが形成され、それによって液晶のプレチルト角α、γを異ならせることができる。 Forming the selectively alter the surface of the alignment film 26 chemical components governing the pretilt angle are concentrated, the portion and the portion is missing such components include many chemical components governing the pretilt angle it is, thereby varying the pre-tilt angle alpha, gamma LCD. 実施例においては、配向膜26の表面の形状を変化させる手段としてエッチングが利用され、 In the embodiment, the etching is utilized as a means for changing the shape of the surface of the alignment film 26,
図14では図13の(c)におけるエッチングにより配向膜26の微小な領域Aに相当する表面部分26xが少しだけ削りとられている。 Surface portion 26x of FIG. 14 in FIG. 13 in (c) corresponding to the small region A of the alignment film 26 by etching is scraped little. 隣接の微小な領域Bでは、プレチルト角を支配する化学成分が多く含まれている。 In minute domain B of the adjacent, it contains many chemical components governing the pretilt angle. なお、レジストパターニング時の現像液によるダメージを少くするため配向膜26のキュアリングにおけるポストキュアの温度をできるだけ高温度(例えば約300℃) Incidentally, as high as possible temperature the temperature of the post cure in curing of the alignment film 26 to less damage due to the developer during resist patterning (e.g., about 300 ° C.)
で行うようにしている(配向材料、JALS−214 To have (orientation material to perform in, JALS-214
(日本合成ゴム)の場合、250℃〜300℃)。 In the case of (Japan Synthetic Rubber), 250 ℃ ~300 ℃). なお、ポリアミック酸タイプのポリイミドを使用した場合には、比較的耐薬品性が高いのでキュア温度を200℃ Incidentally, when using the polyamic acid type polyimide, 200 ° C. The cure temperature is relatively high chemical resistance
以下におさえることも可能である(例えば、住友ベークライト製、CRD4022)。 It is also possible to suppress the following (e.g., Sumitomo Bakelite, CRD4022).

【0047】図15は、また、微小な領域A、Bの表面のプレチルト角を支配する化学成分の分布を選択的に変化させる手段として、上基板18と配向膜26との間に配向膜26の疏水性を選択的に変化させる処理が施されている。 [0047] Figure 15 is also very small regions A, as a means for selectively changing the distribution of the chemical components governing the pretilt angle of the surface of B, the orientation between the upper substrate 18 and the alignment film 26 film 26 processing for changing the hydrophobic selectively is applied. より詳細には、微小な領域Aに相当する領域に配向膜26の下地としてアモルファスシリコンの層61 More particularly, a layer of amorphous silicon as a base of the alignment film 26 in a region corresponding to small regions A 61
が形成されている。 There has been formed. 表面酸化膜の存在しないアモルファスシリコンは疏水性を示す。 Nonexistent amorphous silicon surface oxide films exhibit a hydrophobic. 従って、微小な領域Aにあるアモルファスシリコンの層61に接する配向膜26 Therefore, the alignment film 26 in contact with the layer 61 of amorphous silicon in the minute domains A
は、プレチルト角を支配する化学成分がアモルファスシリコンの層61の近くに集中し、総体的に配向膜26の表面側にはプレチルト角を支配する化学成分が少なくなる。 The chemical components governing the pretilt angle is concentrated near the amorphous silicon layer 61, the chemical components governing the pretilt angle is reduced on the surface side of the overall orientation film 26. 図15においても、ハッチングにより、プレチルト角を支配する化学成分が集中している部分が示されている。 Also in FIG. 15, hatched, chemical components governing the pretilt angle is shown the portion are concentrated. 隣接の微小な領域Bでは、プレチルト角を支配する化学成分が多く含まれているのが分かる。 In minute domain B of the adjacent, it can be seen that contains many chemical components governing the pretilt angle.

【0048】図16は上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第4実施例を示し、微小な領域A、Bの表面の形状を選択的に変化(表面積を変化)させる手段として、微小な領域Aの表面に凹凸を設けている。 [0048] Figure 16 is the pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, shows a fourth embodiment of a process for varying the gamma, selectively varying (surface area the shape of the minute domain A, the surface of B as a means of the change) is, are irregularities on the surface of the minute domain a. 微小な領域Aの表面に凹凸を設けると配向膜26の表面エネルギーが増大し、図6を参照して説明したように、プレチルト角は小さくなる。 Increasing the surface energy of the alignment film 26 providing irregularities on the surface of the small region A, as described with reference to FIG. 6, the pretilt angle becomes smaller. 図16 Figure 16
は、上基板18の表面に凹凸を設け、その結果として配向膜26の表面に凹凸が現れる例である。 Is an uneven provided on the surface of the upper substrate 18, an example of irregularities appear on the surface of the alignment film 26 as a result. 凹凸を有する基板としてNO400、600、800、1000の擦りガラス(サンドブラスト処理)を用い、又平滑なガラスを用いて、その上に配向膜を形成し、ラビングしてプレチルト角(度)を測定した結果は次の通りであった。 With frosted glass of NO400,600,800,1000 as the substrate (sandblasting) having irregularities, also using smooth glass, to form an alignment film thereon, the pretilt angle (degrees) were measured by rubbing the results were as follows.
サンプルは番号が大きいほど目が細かくなる。 Sample the eyes is finer the larger number. 平滑 400 600 800 1000 6 1 1 1.5 1.5 Smooth 400 600 800 1000 6 1 1 1.5 1.5

【0049】図17は、図16の変形例として配向膜2 [0049] Figure 17 is an alignment film 2 as a modification of FIG. 16
6に直接凹凸を設けた例を示している。 It shows an example in which a direct uneven 6. 配向膜26に凹凸を設けるために、RIE─O(リアクティブイオンエッチング─酸素)、RIE─Ar(リアクティブイオンエッチング─アルゴン)、CDE(ケミカルドライエッチング)、OA(オゾンアッシング)等の半導体プロセスで公知の処理が利用できる。 In order to provide irregularities on the alignment film 26, RIE─O (reactive ion etching ─ oxygen), RIE─Ar (reactive ion etching ─ argon), CDE (chemical dry etching), the semiconductor process such as OA (ozone ashing) known treatment can be used in. ガラス基板の上に配向膜を形成し、これらの処理をしたもの、並びにこれらの処理をしたものについて、ラビングしてプレチルト角(度)を測定した結果は次の通りであった。 The alignment film is formed on a glass substrate, obtained by these processes, and for those of these processes, the result of pre-tilt angle (degrees) were measured by rubbing were as follows. 処理なし RIE─O RIE─Ar CDE OA 6 1 1 1.5 0.5 以上の処理は全て市販のポジ型レジストをマスクとして使用し、レジストのベーク処理はその後にレジストが容易に剥離できるように低温(例えば120℃以下)で行った。 All without treatment RIE─O RIE─Ar CDE OA 6 1 1 1.5 0.5 or more process using commercially available positive resist as a mask, baking the resist, as then the resist can be easily peeled off It was performed at a low temperature (for example, 120 ° C. or less). なお、上記ドライ処理は、凹凸のみの効果ではなく、UV照射と同等の表面改質効果を、多分に含んでいるものと考えられる。 Incidentally, the dry process is not an effect of the irregularities only, it is considered that the same surface modification effect and UV radiation, comprising perhaps.

【0050】図25は、上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第5実施例を示す図である。 [0050] Figure 25 is a diagram showing a fifth embodiment of a pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, vary the γ processing. この実施例では、微小な領域A、Bの表面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層を付着させるステップを備える。 In this embodiment, it comprises a step of depositing a material layer that selectively increase or decrease the pretilt angle on the surface of the minute domains A, B. より詳細には、プレチルト角を増減させる材料層を付着させるステップは、液晶を基板面に対して垂直方向に配向させる性質を有する材料層を選択的に付着させるステップからなる。 More specifically, the step of depositing a material layer to increase or decrease the pretilt angle is made the liquid crystal from the step of selectively depositing a material layer having a property of aligning in a direction perpendicular to the substrate surface.

【0051】図25においては、(a)において上基板18の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基板18の配向膜26をキュアリングし、(c)において上基板18をチャンバ63内に入れ、チャンバ63内にシロキサンガスを1000ppm含んだ窒素ガスを導入してシロキサンを配向膜26に付着させ、そして(d) [0051] In FIG. 25, an alignment film 26 is applied to the surface of the upper substrate 18 (a), the then curing the alignment film 26 of the upper substrate 18 (b), the upper substrate 18 chambers in (c) placed in 63, by introduction of nitrogen gas containing 1000ppm siloxane gas into the chamber 63 by attaching a siloxane alignment film 26, and (d)
においてラビングローラ57を用いて配向膜26を図2 Figure 2 an alignment film 26 with a rubbing roller 57 in the
3のようにラビングする。 3 rubbing and so on.

【0052】(c)の前に、配向膜26にレジストマスク54を形成し、配向膜26の微小な領域Aに相当する部分を被覆しておくとともに、微小な領域Bに相当する部分を露出させておく。 [0052] Prior to (c), a resist mask 54 is formed on the alignment film 26, together with the previously coated with a portion corresponding to the small region A of the alignment film 26, exposing a portion corresponding to the small region B allowed to. 従って、(c)においては、シロキサンが配向膜26の微小な領域Bに相当する部分に付着する。 Thus, in (c), the siloxane is adhered to a portion corresponding to the small region B of the alignment film 26. シロキサンは液晶を基板面に対して垂直方向に配向させる性質を有する材料として知られており、よって微小な領域Bにおける液晶のプレチルト角がシロキサンの付着していない微小な領域Aよりも大きい5〜1 Siloxane is known as a material having a property of vertically oriented liquid crystal to the substrate surface, thus greater 5 than the minute domain A pretilt angle of the liquid crystal does not adhere siloxane in minute domain B 1
0度となる。 0 degrees to become. この場合には、配向材は通常のラビング処理をすればプレチルト角が1〜2度となるものを使用し、微小な領域Aのプレチルト角が1〜2度である。 In this case, the orientation material if the normal rubbed using what pretilt angle becomes 1-2 degrees, the pretilt angle of the small region A 1-2 degrees. シロキサンを1000ppm含んだ窒素ガス中に配向膜2 Orienting the siloxane to nitrogen gas containing 1000ppm film 2
6を10分間放置した処理の場合、微小な領域Bのプレチルト角が6〜7度となる。 When 6 of standing was 10 minutes, the pretilt angle of the minute domain B is 6-7 degrees. なお、配向膜26をシロキサンガス中で処理する代わりに、配向膜26をシロキサン溶液中に浸漬することもできる。 Instead of processing the orientation films 26 a siloxane gas, an alignment film 26 may also be dipped in the siloxane solution.

【0053】図26は、上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第6実施例を示し、微小な領域A、Bを選択的に加熱するステップからなる。 [0053] Figure 26, the pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, show a sixth embodiment of a process for varying the gamma, it comprises the step of heating small areas A, B selectively. 図26においては、(a)において上基板18 In Figure 26, the upper substrate 18 in (a)
の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基板1 An alignment film 26 is applied to the surface of the upper substrate 1 in (b)
8の配向膜26をキュアリングし、(c)においてラビングローラ57を用いて配向膜26を図23のようにラビングし、そして(d)において赤外線ヒータ等の熱源からマスク65を介して配向膜26を選択的に加熱する(例えば200℃)。 An alignment film 26 of 8 to curing, the alignment film 26 with a rubbing roller 57 in (c) rubbing as shown in Figure 23, and (d) orientation through the mask 65 from a heat source such as an infrared heater in film 26 selectively heated (for example 200 ° C.). 配向膜26をラビングしたときに配向膜26に接触する液晶のプレチルト角がαとなるとすれば、ラビング後に赤外線ヒータを用いて微小な領域Aを加熱すると、配向膜26上のラビングの痕跡が若干緩和され、プレチルト角がαからγに低下することになる。 If the pretilt angle of the liquid crystal contacting the alignment film 26 on the alignment film 26 when the rubbing is alpha, Heating the minute domain A by using an infrared heater after rubbing, slight traces of rubbing on the orientation film 26 is relaxed, the pretilt angle is lowered to γ ​​from alpha.

【0054】図27は図26の加熱手段が赤外線ヒータ66からなる例を示す。 [0054] Figure 27 shows an example in which the heating means of FIG. 26 is an infrared heater 66. この場合、マスク65は熱を透過せしめる部分65aと、熱を遮断する部分65bとを有する櫛歯状のものとなっている。 In this case, the mask 65 is made a part 65a which allowed to transmit heat, and that of the comb-like and a portion 65b to block the heat. 熱を透過せしめる部分65a及び熱を遮断する部分65bはそれぞれ実質的に画素ピッチの半分の大きさからなる。 Each portion 65b for blocking portions 65a and heat allowed to transmit heat consists of half the size of substantially the pixel pitch. 図28は図26 Figure 28 Figure 26
の加熱手段がレーザー源67からなる例を示す。 Heating means showing an example consists of laser source 67. さらに、レーザー源67から発射されたレーザー光線を選択的に走査する走査手段が使用される。 Furthermore, scanning means for selectively scanning the laser beam emitted from the laser source 67 is used. 走査手段はポリゴンミラー68からなり、ポリゴンミラー68は自己の軸線の周りで回転可能であり、加熱されるべき微小な領域Aの幅方向(Y方向)にレーザー光線を走査する。 Scanning means comprises a polygonal mirror 68, the polygon mirror 68 is rotatable about its own axis, to scan the laser beam in the width direction (Y direction) of the minute domain A to be heated. さらに、レーザー源67とポリゴンミラー68とは加熱されるべき微小な領域Aの長さ方向(Z方向)に移動可能になっている。 Furthermore, and it is movable in the longitudinal direction of the minute domains A to be heated (Z-direction) from the laser source 67 and the polygon mirror 68. 従って、微小な領域Aを帯状に加熱することができる。 Therefore, it is possible to heat a minute region A strip.

【0055】図29は、上基板18の配向膜26の液晶のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第5実施例を示す図であり、(a)において上基板18に配向材26 [0055] Figure 29 is a pretilt angle of the liquid crystal alignment film 26 of the upper substrate 18 alpha, a diagram illustrating a fifth embodiment of a process for varying the gamma, alignment material 26 on the upper substrate 18 in (a)
を塗布した後で、(b)溶剤揮発時間が変わるように微小な領域A、Bを選択的にプリキュアする。 The after application, selectively precure a solvent (b) the volatile time changes as small areas A, B. この場合にも、上基板18をホットプレート69上に置き、上方から赤外線ヒータで加熱する。 In this case, placed on the substrate 18 on the hot plate 69 is heated by an infrared heater from above. マスク65を使用し、微小な領域Bを遮蔽しつつ微小な領域Aを積極的に加熱する。 Using the mask 65, positively heating the minute domain A while shielding the minute domain B.

【0056】プレチルト角はプリキュア処理により変化し、図30に示されるように、プリキュア温度が低いほど(プリキュア時間が長いほど)プレチルト角は大きくなる。 [0056] pretilt angle is changed by pre-cure process, as shown in FIG. 30, as the pre-cure temperature is low (about Precure time is long) the pretilt angle becomes larger. 従って、プリトキュアの後で、(c)においてポストキュアを行い、(d)においてラビングを行うと、 Thus, after Puritokyua performs post-cure (c), the Doing rubbing in the step (d), the
マスク65で遮蔽されつつプリキュアされた微小な領域Bのプレチルト角がαとなり、微小な領域Aのプレチルト角がγになる。 Next pretilt angle of being shielded by the mask 65 Precure been small region B alpha, pre-tilt angle of the small region A is gamma.

【0057】図31は図29の変形例を示し、図29の(b)において赤外線ヒータにより上基板18の配向膜26を選択的に加熱する代わりに、上基板18の配向膜26を選択的に冷却している。 [0057] Figure 31 shows a modification of FIG. 29, instead of selectively heating the alignment film 26 of the upper substrate 18 by the infrared heater in FIG. 29 (b), selective alignment film 26 of the upper substrate 18 It is cooled to. ただし、上基板18はホットプレート69上に置いてあるので、全体としては加熱され、冷風はプリキュア温度を調節するものである。 However, since the upper substrate 18 is put on the hot plate 69, as a whole is heated, the cold air is to regulate the precure temperature.

【0058】 [0058]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、 As described in the foregoing, according to the present invention,
一方の基板の配向膜が一層だけでそれに接触する液晶のプレチルトが互いに異なる第1及び第2の微小な領域を形成することができ、構造が簡単で画像の安定した、視角特性及びコントラストの優れた液晶表示装置を得ることができる。 Only the alignment layer of one substrate is further in can form the first and second small areas pretilt mutually different liquid crystal in contact therewith, the structure is stabilized in the simple image, excellent viewing angle characteristics and contrast it is possible to obtain a liquid crystal display device.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明による液晶表示装置を示す断面図である。 It is a sectional view showing a liquid crystal display device according to the invention; FIG.

【図2】図1の画素電極の配置を示す図である。 2 is a diagram showing an arrangement of a pixel electrode in FIG.

【図3】プレチルトを異ならせる第1実施例を示す図である。 3 is a diagram showing a first embodiment in which different pretilt.

【図4】プレチルトを異ならせる第2実施例を示す図である。 4 is a diagram showing a second embodiment in which different pretilt.

【図5】UV照射時間とプレチルトとの関係を示す図である。 5 is a diagram showing the relationship between the UV irradiation time and pretilt.

【図6】表面エネルギーとプレチルトとの関係を示す図である。 6 is a diagram showing the relationship between the surface energy and the pre-tilt.

【図7】UV照射により上下基板を製造する一例を示す図である。 7 is a diagram showing an example of manufacturing the upper and lower substrates by UV irradiation.

【図8】UV照射により上下基板を製造する他の例を示す図である。 8 is a diagram showing another example of manufacturing the upper and lower substrates by UV irradiation.

【図9】UV照射で使用するマスクの変形例を示す図である。 9 is a diagram showing a modification of the mask used in the UV irradiation.

【図10】図9の作用を説明するための図である。 10 is a diagram for explaining the operation of Figure 9.

【図11】図9の変形例を示す図である。 11 is a diagram showing a modification of FIG.

【図12】図9の他の変形例を示す図である。 12 is a diagram showing another modification of FIG.

【図13】プレチルトを異ならせる第3実施例を示す図である。 13 is a diagram showing a third embodiment in which different pretilt.

【図14】図13の基板の拡大図である。 14 is an enlarged view of the substrate of Figure 13.

【図15】図14の変形例を示す図である。 Is a diagram showing a modified example of FIG. 15 FIG. 14.

【図16】プレチルトを異ならせる第4実施例を示す図である。 16 is a diagram showing a fourth embodiment in which different pretilt.

【図17】図16の変形例を示す図である。 17 is a diagram showing a modified example of FIG. 16.

【図18】ツイストネマチック型液晶のラビングを示す図である。 18 is a diagram showing the rubbing of twisted nematic liquid crystal.

【図19】図19の液晶分子の配向を示す図である。 It is a diagram showing the orientation of liquid crystal molecules in FIG. 19.

【図20】図18の線XX−XXに沿った断面図である。 20 is a cross-sectional view taken along line XX-XX in FIG. 18.

【図21】ツイストネマチック型液晶表示装置の視角特性を示す図である。 21 is a diagram showing a viewing angle characteristic of the twisted nematic liquid crystal display device.

【図22】画素分割の基本形を示す図である。 22 is a diagram showing a basic form of the pixel division.

【図23】画素分割の進歩形を示す図である。 23 is a diagram showing a progress form of pixel division.

【図24】先願の液晶表示装置を示す図である。 24 is a diagram showing a liquid crystal display device of the prior application.

【図25】プレチルトを異ならせる第5実施例を示す図である。 25 is a diagram showing a fifth embodiment for different pretilt.

【図26】プレチルトを異ならせる第6実施例を示す図である。 26 is a diagram showing a sixth embodiment in which different pretilt.

【図27】図26の加熱手段の一例を示す図である。 27 is a diagram showing an example of a heating unit of Figure 26.

【図28】図26の加熱手段の他の例を示す図である。 28 is a diagram showing another example of the heating means in FIG. 26.

【図29】プレチルトを異ならせる第7実施例を示す図である。 29 is a diagram showing a seventh embodiment in which different pretilt.

【図30】キュアリング温度きプレチルト角との関係を示す図である。 FIG. 30 is a diagram showing the relationship between the curing temperature-out pre-tilt angle.

【図31】図29の変形例を示す図である。 31 is a diagram showing a modified example of FIG. 29.

【図32】図1の変形例を示す図である。 32 is a diagram showing a modification of FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

16、18…基板 20…液晶 22、26…配向膜 A、B…微小な領域 16, 18 ... substrate 20 ... liquid crystal 22, 26 ... alignment film A, B ... small areas

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 露木 俊 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 長谷川 正 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 鎌田 豪 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 笹林 貴 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 田沼 清治 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 間山 剛宗 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 大室 克文 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 増田 茂 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Shun Tsuyuki Kanagawa Prefecture, Nakahara-ku, Kawasaki, Kamikodanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. (72) inventor Tadashi Hasegawa Kanagawa Prefecture, Nakahara-ku, Kawasaki, Kamikodanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. ( 72) inventor Tsuyoshi Kamata Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Nakahara-ku, Kamikodanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. (72) inventor Sasabayashi Takashi Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Nakahara-ku, Kamikodanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. (72) inventor Seiji Tanuma Kanagawa Prefecture Nakahara-ku, Kawasaki Kamikodanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. (72) inventor Mayama TsuyoshiTakashi Kanagawa Prefecture, Nakahara-ku, Kawasaki, Kamikodanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. (72) inventor Omuro Katsubun above Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Nakahara-ku, Odanaka 1015 address Fujitsu within Co., Ltd. (72) inventor Shigeru Masuda Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Nakahara-ku, Kamikodanaka 1015 No. 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−337420(JP,A) 特開 平4−247456(JP,A) 特開 平6−281937(JP,A) 特開 平6−130396(JP,A) 特開 平6−130397(JP,A) 特開 平6−82784(JP,A) 特開 平6−148641(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl. 6 ,DB名) G02F 1/1337 G02F 1/13 Fujitsu in Inc. (56) References Patent Rights 6-337420 (JP, A) Patent Rights 4-247456 (JP, A) Patent Rights 6-281937 (JP, A) Patent Rights 6-130396 (JP , a) JP flat 6-130397 (JP, a) JP flat 6-82784 (JP, a) JP flat 6-148641 (JP, a) (58 ) investigated the field (Int.Cl. 6, DB name) G02F 1/1337 G02F 1/13

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】 (57) [the claims]
  1. 【請求項1】 配向膜(26)を有する第1の基板(1 1. A first substrate having an alignment film (26) (1
    8)と、該第1の基板と対向し且つ配向膜(22)を有する第2の基板(16)と、該第1及び第2の基板の間に挿入された液晶(20)とからなり、少くとも該第1 Is 8), and a second substrate having a first substrate opposed to and oriented film (22) (16), from a liquid crystal inserted between the first and second substrate (20) , at least the first
    の基板の配向膜(26)が、第1及び第2の隣接する微小な領域(A、B)を有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域(A、B)に沿って一方向に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法であって、該第1及び第2の微小な領域(A、B)において選択的な改質処理を施すことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 Alignment film of the substrate (26), first and second adjacent small areas (A, B) consists of oriented material layer of a single layer having a single-layer of alignment material layer is first and the 2 minute region (a, B) a method of manufacturing a liquid crystal display device formed by continuously rubbed in one direction along the selection, the first and second small areas (a, B) in the method of manufacturing a liquid crystal display device characterized by subjecting a specific modification treatment.
  2. 【請求項2】 配向膜の下に、配向膜の疎水性を変化させる材料層を設け、前記材料層はアモルファスシリコン Under the wherein the alignment layer, the material layer to alter the hydrophobicity of the alignment film is provided, wherein the material layer is amorphous silicon
    層であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 The method according to claim 1, characterized in Sodea Rukoto.
  3. 【請求項3】 前記改質処理は、該第1及び第2の微小な領域(A、B)を選択的に加熱するステップからなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 Wherein the modification treatment, the liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that comprises the step of heating the first and second small areas (A, B) selectively Production method.
  4. 【請求項4】 前記加熱ステップは、赤外線ヒータ及びレーザーの一方を使用することを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置の製造方法。 Wherein said heating step, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, characterized by using one of the infrared heater and laser.
  5. 【請求項5】 前記加熱ステップは、ヒータと第1の基板との間に熱を透過せしめる部分と、熱を遮断する部分とを有するマスクを使用することを特徴とする請求項 Wherein said heating step, claim 3, characterized by using a mask having a portion allowed to transmit heat between the heater and the first substrate and a portion for blocking heat
    に記載の液晶表示装置の製造方法。 The method according to.
  6. 【請求項6】 前記マスクの熱を透過せしめる部分は実質的に画素ピッチの半分の大きさからなることを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置の製造方法。 6. A portion allowed to transmit heat from the mask manufacturing method of the liquid crystal display device according to claim 5, characterized in that it consists of half the size of substantially the pixel pitch.
  7. 【請求項7】 前記加熱ステップは、レーザー源と、該レーザー源から発射されたレーザー光線を選択的に走査する走査手段とを使用することを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置の製造方法。 Wherein said heating step is the manufacture of liquid crystal display device according to claim 3, characterized in that use a laser source, a scanning means for selectively scanning the laser beam emitted from the laser source Method.
  8. 【請求項8】 前記第1の基板の第1及び第2の微小な領域(A、B)の加熱されるべき微小な領域は長さと幅とを有し、前記走査手段は該加熱されるべき微小な領域の幅方向にレーザー光線を走査するとともに、該走査手段は該加熱されるべき微小な領域の長さ方向に移動可能になっていることを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置の製造方法。 Minute region to be heated of 8. The first and second small area of ​​said first substrate (A, B) has a length and a width, said scanning means is the heated while scanning the laser beam in the width direction of the minute region to, the scanning means liquid crystal display according to claim 7, characterized in that movable in the length direction of the small region to be the heated manufacturing method of the device.
  9. 【請求項9】 配向膜(26)を有する第1の基板(1 9. first substrate having an alignment film (26) (1
    8)と、該第1の基板と対向し且つ配向膜(22)を有する第2の基板(16)と、該第1及び第2の基板の間に挿入された液晶(20)とからなり、少くとも該第1 Is 8), and a second substrate having a first substrate opposed to and oriented film (22) (16), from a liquid crystal inserted between the first and second substrate (20) , at least the first
    の基板の配向膜(26)が、第1及び第2の隣接する微小な領域(A、B)を有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域(A、B)に沿って一方向に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法であって、該第1及び第2の微小な領域(A、B)において選択的な改質処理を施し、前記改質処理は、該第1及び第2の微小な領域(A、B)の表面のプレチルト角を支配する化学成分の濃度分布を選択的に変化させるステップからなり、前記第1及び第2の微小な領域(A、B)の表面のプレチルト角を支配する化学成分の濃度分布を選択的に変化させるステップは、該第1及び第2の微小な領域(A、B) Alignment film of the substrate (26), first and second adjacent small areas (A, B) consists of oriented material layer of a single layer having a single-layer of alignment material layer is first and the 2 minute region (a, B) a method of manufacturing a liquid crystal display device formed by continuously rubbed in one direction along the selection, the first and second small areas (a, B) in the subjected to specific modification treatment the reforming process, the step of selectively varying the concentration distribution of the chemical components governing the pretilt angle of the surface of the first and second small areas (a, B) become the first and second small areas (a, B) the step of selectively varying the concentration distribution of the chemical components governing the pretilt angle of the surface of the first and second small areas ( A, B)
    の表面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層を付着させるステップからなることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device characterized by comprising the surface of the step of selectively depositing the material layer to increase or decrease the pretilt angle.
  10. 【請求項10】 前記第1及び第2の微小な領域(A、 Wherein said first and second small areas (A,
    B)の表面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層を付着させるステップは、液晶を基板面に対して垂直方向に配向させる性質を有する材料層を選択的に付着させるステップからなることを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置の製造方法。 Step characterized by comprising the liquid crystal from the step of selectively depositing a material layer having a property of aligning in a direction perpendicular to the substrate surface to deposit a layer of material selectively increase or decrease the pretilt angle on the surface of B) the method according to claim 9,.
  11. 【請求項11】 配向膜(26)を有する第1の基板(18)と、該第1の基板と対向し且つ配向膜(22) 11. first substrate having an alignment film (26) (18), the substrate of the first opposed to and oriented film (22)
    を有する第2の基板(16)と、該第1及び第2の基板の間に挿入された液晶(20)とからなり、少くとも該第1の基板の配向膜(26)が、第1及び第2の隣接する微小な領域(A、B)を有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域(A、B)に沿って一方向に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法であって、前記第1の基板に配向材を塗布した後で溶剤揮発時間が変わるように該第1及び第2の微小な領域(A、B)を選択的にプリキュアすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A second substrate having a (16), becomes from a liquid crystal inserted between the first and second substrate (20), an alignment film of at least the first substrate (26), first and consists alignment material layer of a single layer having a second adjacent small areas (a, B), said single layer of alignment material layer along the first and second small areas (a, B) Te method of manufacturing the liquid crystal display device formed by continuously rubbed in one direction, the first of the first such solvent volatilization time changes the alignment material on the substrate after coating and the second micro method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized by selectively precure a region (a, B).
  12. 【請求項12】 前記加熱プリキュアステップは、ヒータと第1の基板との間に熱を透過せしめる部分と、熱を遮断する部分とを有するマスクを使用することを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。 12. The method of claim 11, wherein the heating Precure step, according to claim 11, characterized by using a mask having a portion allowed to transmit heat between the heater and the first substrate and a portion for blocking heat method of manufacturing a liquid crystal display device.
  13. 【請求項13】 前記加熱プリキュアステップは、ヒータにより該第1の基板を加熱するとともに、該第1及び第2の微小な領域(A、B)を選択的に冷却することを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。 Wherein said heating Precure step is configured to heat the first substrate by a heater, wherein, characterized by selectively cooling the first and second small areas (A, B) the method according to claim 11.
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