JP2889672B2 - 支持体を加熱するための放射アセンブリ及び加熱装置 - Google Patents
支持体を加熱するための放射アセンブリ及び加熱装置Info
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
- F26B3/283—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun in combination with convection
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 発明の分野 本発明は、走行する材料ウェブのような支持体上の水
分またはインキの乾燥など、様々な乾燥に用いられる赤
外線及び紫外線反射式の加熱装置に係わる。
分またはインキの乾燥など、様々な乾燥に用いられる赤
外線及び紫外線反射式の加熱装置に係わる。
先行技術の説明 ウェブの乾燥に赤外線を用いることは公知である。Pa
bst等の米国特許第4,693,013号には、布地ウェブを乾燥
する赤外線乾燥器が開示されている。この乾燥器の赤外
線放射器は、該放射器の発する放射線がウェブから逸れ
る“待機位置”まで回動し得、それによってウェブが乾
いた後やウェブが停止した場合もウェブを焼くことなく
完全な励起状態を維持し得る。
bst等の米国特許第4,693,013号には、布地ウェブを乾燥
する赤外線乾燥器が開示されている。この乾燥器の赤外
線放射器は、該放射器の発する放射線がウェブから逸れ
る“待機位置”まで回動し得、それによってウェブが乾
いた後やウェブが停止した場合もウェブを焼くことなく
完全な励起状態を維持し得る。
Trelevenの米国特許第4,015,340号には紫外線放射ア
センブリが開示されている。このアセンブリでは、石英
水銀燈である紫外線ランプが細長いリフレクタに包囲さ
れており、その際リフレクタは、発せられた光を絞り込
むべく通常楕円形の内側横断面を有する。リフレクタは
複数の冷却フィンを含む。リフレクタ及びランプはリフ
レクタキャリヤによって支持されており、リフレクタキ
ャリヤはランプモジュール内に滑動可能に取り付けられ
ている。ランプモジュールは、モジュールからの熱移動
を補助する平型の矩形金属フレーム熱交換器を含む。ラ
ンプモジュールはハウジング内に収容されており、この
ハウジングは該ハウジングを換気し、同時にハウジング
内の諸構成要素を冷却するファンと接続された排気チャ
ンバを具備している。
センブリが開示されている。このアセンブリでは、石英
水銀燈である紫外線ランプが細長いリフレクタに包囲さ
れており、その際リフレクタは、発せられた光を絞り込
むべく通常楕円形の内側横断面を有する。リフレクタは
複数の冷却フィンを含む。リフレクタ及びランプはリフ
レクタキャリヤによって支持されており、リフレクタキ
ャリヤはランプモジュール内に滑動可能に取り付けられ
ている。ランプモジュールは、モジュールからの熱移動
を補助する平型の矩形金属フレーム熱交換器を含む。ラ
ンプモジュールはハウジング内に収容されており、この
ハウジングは該ハウジングを換気し、同時にハウジング
内の諸構成要素を冷却するファンと接続された排気チャ
ンバを具備している。
典型的な先行技術リフレクタは分解能が低く、即ち隣
り合ったランプ間で光を遮らない。その結果、光の拡散
パターンが過大となる。１つのランプから光が４または
５ゾーン離れた領域にまで影響しかねない。個々のラン
プを独立に制御することによってウェブの特定領域を乾
燥することは、上記のように拡散パターンが大きくては
きわめて困難である。融解を含めたリフレクタ材料の劣
化を回避するうえでも、リフレクタの形状は重要であ
る。
り合ったランプ間で光を遮らない。その結果、光の拡散
パターンが過大となる。１つのランプから光が４または
５ゾーン離れた領域にまで影響しかねない。個々のラン
プを独立に制御することによってウェブの特定領域を乾
燥することは、上記のように拡散パターンが大きくては
きわめて困難である。融解を含めたリフレクタ材料の劣
化を回避するうえでも、リフレクタの形状は重要であ
る。
先行技術の問題点は、ウェブのような被覆された支持
体を加熱し、乾燥し、及び／または硬化させるべく赤外
線、紫外線等を放射する手段を具備した加熱ユニットを
提供する本発明によって克服された。支持体は、例えば
長尺の紙、布地または金属薄板などから成り得る。本発
明の加熱ユニットは複数の加熱モジュールによって構成
されており、モジュールのケーシング内に設置された放
射ランプ及びリフレクタの交換及び保守が容易に行なえ
る。リフレクタは、放射光線の殆どを外部の支持体に向
けて反射するような、またランプとのアセンブリの冷却
に対流が最適となるような形状を有する。アセンブリを
冷却して熱くなった対流空気は、リフレクタから流出し
てウェブに当たることにより乾燥効率を高める。各リフ
レクタの構造は、当該リフレクタの内側に配置されたラ
ンプが隣り合う他のリフレクタの内側に配置されたラン
プの照射域を侵すことを防止し、ウェブの特定領域の乾
燥を可能にする。そのような乾燥のために、ランプとリ
フレクタとから成る放射アセンブリは各々個別に制御さ
れ得、ウェブの特定領域の検出含水量に応じてオン状態
とされたりオフ状態とされたりする。本発明の加熱ユニ
ットを通常のウェブ乾燥器と共に用いることも可能であ
り、その場合本発明ユニットは乾燥器の前段にも後段に
も設置され得る。放射アセンブリは、ウェブの片側に配
置しても両側に配置してもよい。リフレクタの構造はま
た支持体を、走行するウェブのような支持体が停止し、
あるいはまた故障がおこった場合にランプそのものに接
触することから保護する。本発明の加熱ユニットは自蔵
空気によって冷却される。
体を加熱し、乾燥し、及び／または硬化させるべく赤外
線、紫外線等を放射する手段を具備した加熱ユニットを
提供する本発明によって克服された。支持体は、例えば
長尺の紙、布地または金属薄板などから成り得る。本発
明の加熱ユニットは複数の加熱モジュールによって構成
されており、モジュールのケーシング内に設置された放
射ランプ及びリフレクタの交換及び保守が容易に行なえ
る。リフレクタは、放射光線の殆どを外部の支持体に向
けて反射するような、またランプとのアセンブリの冷却
に対流が最適となるような形状を有する。アセンブリを
冷却して熱くなった対流空気は、リフレクタから流出し
てウェブに当たることにより乾燥効率を高める。各リフ
レクタの構造は、当該リフレクタの内側に配置されたラ
ンプが隣り合う他のリフレクタの内側に配置されたラン
プの照射域を侵すことを防止し、ウェブの特定領域の乾
燥を可能にする。そのような乾燥のために、ランプとリ
フレクタとから成る放射アセンブリは各々個別に制御さ
れ得、ウェブの特定領域の検出含水量に応じてオン状態
とされたりオフ状態とされたりする。本発明の加熱ユニ
ットを通常のウェブ乾燥器と共に用いることも可能であ
り、その場合本発明ユニットは乾燥器の前段にも後段に
も設置され得る。放射アセンブリは、ウェブの片側に配
置しても両側に配置してもよい。リフレクタの構造はま
た支持体を、走行するウェブのような支持体が停止し、
あるいはまた故障がおこった場合にランプそのものに接
触することから保護する。本発明の加熱ユニットは自蔵
空気によって冷却される。
本発明の加熱装置は特に、ランプの発した光を狭い範
囲内に絞り込むリフレクタの内側に取り付けられた少な
くとも１つのランプを含み、その際上記リフレクタには
空気などのガスが通されて、被覆されたウェブの乾燥を
補佐し、かつリフレクタの冷却に資する対流ガス流とさ
れ得る。本発明装置は、被覆が熱の替わりに赤外線また
は紫外線によって触媒され得る場合、既存の乾燥システ
ムの補助に用いるのに特に適する。
囲内に絞り込むリフレクタの内側に取り付けられた少な
くとも１つのランプを含み、その際上記リフレクタには
空気などのガスが通されて、被覆されたウェブの乾燥を
補佐し、かつリフレクタの冷却に資する対流ガス流とさ
れ得る。本発明装置は、被覆が熱の替わりに赤外線また
は紫外線によって触媒され得る場合、既存の乾燥システ
ムの補助に用いるのに特に適する。
加熱ユニットがモジュール構造を有し、必要に応じて
拡張可能であることは、本発明の重要な一特徴である。
新規な赤外線ランプリフレクタによって、赤外線照射の
分解能は高くなる。本発明の加熱ユニットは従来の乾燥
器の前段または後段に直列ち配置でき、また用途に応じ
て任意の組み合わせで配置することも可能である。本発
明の加熱ユニットはウェブの両側に適用しても、片側に
のみ適用してもよい。ウェブの両側に位置する複数のラ
ンプを含む１つの加熱ユニットは、200ワット／インチ
を出力し得る。本発明の加熱ユニットは自蔵冷却システ
ムを有する。他の装置の場合に異なり、本発明装置のリ
フレクタの構造は光を特定通路内に絞り込み、それによ
って１つの放射アセンブリからの光がウェブの４まは５
ゾーン離れた領域にまで影響するのを防止する。このリ
フレクタは空気分配を介してウェブ支持体を落ち着か
せ、機械的干渉を防止する。同じ空気をリフレクタの冷
却に用い、かつウェブに当てることは効率の向上に寄与
する。
拡張可能であることは、本発明の重要な一特徴である。
新規な赤外線ランプリフレクタによって、赤外線照射の
分解能は高くなる。本発明の加熱ユニットは従来の乾燥
器の前段または後段に直列ち配置でき、また用途に応じ
て任意の組み合わせで配置することも可能である。本発
明の加熱ユニットはウェブの両側に適用しても、片側に
のみ適用してもよい。ウェブの両側に位置する複数のラ
ンプを含む１つの加熱ユニットは、200ワット／インチ
を出力し得る。本発明の加熱ユニットは自蔵冷却システ
ムを有する。他の装置の場合に異なり、本発明装置のリ
フレクタの構造は光を特定通路内に絞り込み、それによ
って１つの放射アセンブリからの光がウェブの４まは５
ゾーン離れた領域にまで影響するのを防止する。このリ
フレクタは空気分配を介してウェブ支持体を落ち着か
せ、機械的干渉を防止する。同じ空気をリフレクタの冷
却に用い、かつウェブに当てることは効率の向上に寄与
する。
従って本発明は、光線の幅を制御する反射手段を具備
した加熱ユニットの提供を目的とする。
した加熱ユニットの提供を目的とする。
本発明はまた、対流によって冷却される加熱ユニット
用反射手段を提供することも目的とする。
用反射手段を提供することも目的とする。
更に本発明は、支持体を乾燥するのにIRまたはUVと共
に対流も利用する加熱ユニットの提供を目的とする。
に対流も利用する加熱ユニットの提供を目的とする。
ランプを包囲し、それによって支持体をランプへの接
触から保護する反射手段を具備した加熱ユニットを提供
することも、本発明の更に別の目的である。
触から保護する反射手段を具備した加熱ユニットを提供
することも、本発明の更に別の目的である。
本発明を、添付図面を参照しつつ以下に詳述する。
第１図に、本発明装置のリフレクタの一例としてリフ
レクタ15を示す。リフレクタ15は、好ましくは陽極酸化
被覆されたアルミニウムから成り、構造強度を高め、か
つ光の拡散を助長する小凹凸を具えている。リフレクタ
15の適当な材料は、Rigidized Metals Corporationによ
り商標“Rigid−Tex"の下に販売されている。リフレク
タ15は実質的に平坦な頂部30と、頂部30から下方へ伸張
する、互いに対向する側壁31及び32とを有し、側壁31、
32は下部ほど互いから離隔するように傾斜している。当
然ながら、傾斜角度は用途に従属し、特に所望の光拡散
パターンに従属する。放射線形状が機能的であるが、好
ましい角度は各一方の側で、鉛直線に対し約15°であ
る。この角度が０°に近付くと光の所望通路が失われ、
90°に近付けばリフレクタの融解が起こりがちである。
側壁31及び32は、例えば公知のブレークプレス成形法で
屈曲されて、溝底部33及び34をそれぞれ構成している。
好ましくは、溝底部33、34は実質的にＵ字形で、丸みを
帯びた縁を有する。角張った縁は、機能的ではあるが、
リフレクタ材料中に有害な応力点を創出する傾向を有す
る。リフレクタ15には複数の孔35がドリルなどで明けら
れており、これらの孔35はその面積の大部分が溝底部33
及び34のＵ字形の頂点部分に位置するように設けられて
いる。孔35の直径は側壁31、32屈曲前で約1/4インチが
適当である。直径が大きすぎると孔35同士の間の強度が
低下する。直径が小さすぎる場合は対流が実現しない。
レクタ15を示す。リフレクタ15は、好ましくは陽極酸化
被覆されたアルミニウムから成り、構造強度を高め、か
つ光の拡散を助長する小凹凸を具えている。リフレクタ
15の適当な材料は、Rigidized Metals Corporationによ
り商標“Rigid−Tex"の下に販売されている。リフレク
タ15は実質的に平坦な頂部30と、頂部30から下方へ伸張
する、互いに対向する側壁31及び32とを有し、側壁31、
32は下部ほど互いから離隔するように傾斜している。当
然ながら、傾斜角度は用途に従属し、特に所望の光拡散
パターンに従属する。放射線形状が機能的であるが、好
ましい角度は各一方の側で、鉛直線に対し約15°であ
る。この角度が０°に近付くと光の所望通路が失われ、
90°に近付けばリフレクタの融解が起こりがちである。
側壁31及び32は、例えば公知のブレークプレス成形法で
屈曲されて、溝底部33及び34をそれぞれ構成している。
好ましくは、溝底部33、34は実質的にＵ字形で、丸みを
帯びた縁を有する。角張った縁は、機能的ではあるが、
リフレクタ材料中に有害な応力点を創出する傾向を有す
る。リフレクタ15には複数の孔35がドリルなどで明けら
れており、これらの孔35はその面積の大部分が溝底部33
及び34のＵ字形の頂点部分に位置するように設けられて
いる。孔35の直径は側壁31、32屈曲前で約1/4インチが
適当である。直径が大きすぎると孔35同士の間の強度が
低下する。直径が小さすぎる場合は対流が実現しない。
リフレクタ15はランプ12を包囲する。ランプ12は好ま
しくは、リフレクタ15内側で頂部30近傍に配置される。
ランプ12は、所期の用途に従いIRまたはUVのような適当
波長の光線を発する。適当なIRランプとして、12インチ
長の2000ワット、250ボルトバルブなどを挙げることが
できる。リフレクタ15は２つ以上のランプ、並びに様々
な形状及び様式のランプに適合し得、その構造の融通性
は明らかである。ランプ12の端部36及び37は、押さえね
じ及び止め座金（図示せず）のような適当手段で装置ケ
ーシング10に固定されるランプホルダ11（一方のみ図
示）の開口部38に嵌め込まれる。ランプホルダ11は、ラ
ンプ12の鉛直端部における光の拡散を阻止する適当物質
を含むべきであり、支持強度を有するべきであり、優れ
た耐熱性を有するべきであり、かつ熱を逃がすべく十分
薄手であるべきである。ランプホルダ11の材料として、
好ましくは約0.018〜0.05インチ、特に約0.036インチの
厚みを有する300シリーズ（ASTM）のステンレス鋼が適
当であると判明した。ランプホルダ11及び開口部38の構
造は、用いられるランプの様式に従属する。図示の構造
では、屈曲された金属薄板から成る部材85がランプホル
ダ11に取り付けられており、この部材85はランプ12から
発せられた光の遮蔽に役立つ。第１図に示した例の場
合、ケーシング10はランプ12及びリフレクタ15を３つず
つ収容する。当然ながら、ケーシング10は所期の用途に
従って任意数のランプ12を収容するべく構成され得る。
このような融通性によって、ほぼあらゆる大きさの加熱
ユニットの製造が可能となる。
しくは、リフレクタ15内側で頂部30近傍に配置される。
ランプ12は、所期の用途に従いIRまたはUVのような適当
波長の光線を発する。適当なIRランプとして、12インチ
長の2000ワット、250ボルトバルブなどを挙げることが
できる。リフレクタ15は２つ以上のランプ、並びに様々
な形状及び様式のランプに適合し得、その構造の融通性
は明らかである。ランプ12の端部36及び37は、押さえね
じ及び止め座金（図示せず）のような適当手段で装置ケ
ーシング10に固定されるランプホルダ11（一方のみ図
示）の開口部38に嵌め込まれる。ランプホルダ11は、ラ
ンプ12の鉛直端部における光の拡散を阻止する適当物質
を含むべきであり、支持強度を有するべきであり、優れ
た耐熱性を有するべきであり、かつ熱を逃がすべく十分
薄手であるべきである。ランプホルダ11の材料として、
好ましくは約0.018〜0.05インチ、特に約0.036インチの
厚みを有する300シリーズ（ASTM）のステンレス鋼が適
当であると判明した。ランプホルダ11及び開口部38の構
造は、用いられるランプの様式に従属する。図示の構造
では、屈曲された金属薄板から成る部材85がランプホル
ダ11に取り付けられており、この部材85はランプ12から
発せられた光の遮蔽に役立つ。第１図に示した例の場
合、ケーシング10はランプ12及びリフレクタ15を３つず
つ収容する。当然ながら、ケーシング10は所期の用途に
従って任意数のランプ12を収容するべく構成され得る。
このような融通性によって、ほぼあらゆる大きさの加熱
ユニットの製造が可能となる。
リフレクタ15及びランプ12を押さえる保持具16がケー
シング10と、特にランプホルダ11とに、例えば図示した
孔に通されて結合を実現する締め付け手段によって固定
される。ケーシング10は側方メインフレーム１内に、ケ
ーシング10のフランジ40及び41をメインフレーム１の縁
部42に固定することによって取り付けられる。メインフ
レーム１は、互いに並置された複数のケーシング10を支
持し得る。
シング10と、特にランプホルダ11とに、例えば図示した
孔に通されて結合を実現する締め付け手段によって固定
される。ケーシング10は側方メインフレーム１内に、ケ
ーシング10のフランジ40及び41をメインフレーム１の縁
部42に固定することによって取り付けられる。メインフ
レーム１は、互いに並置された複数のケーシング10を支
持し得る。
第２図に、ケーシング10上に重ねて取り付けられる対
流手段を示す。作動時、一般にランプ12の中央部が最も
高温となる。リフレクタ15の中央部付近に２つのファン
を長手方向に並べて取り付け、最高温地点で最多量のガ
スが移動するようにすれば、リフレクタ15を通る対流ガ
ス流はリフレクタ15の冷却と支持体の加熱もしくは乾燥
とに最適となる。そのために、ファンプレート４に２つ
の中央開口部43及び44が設けられ、これらの開口部43、
44内にファン６及びファンガード５が取り付けられる。
図示のようなファンプレート控え９がファンプレート４
及びファン６に固定される。このファンアセンブリはケ
ーシン10の上に重ねて、第１図に示した側方メインフレ
ーム１上に取り付けられる。シリコーンガスケットのよ
うなガスケット26がケーシング10とファンプレート４と
の間に、密閉を実現するべく設置され得る。
流手段を示す。作動時、一般にランプ12の中央部が最も
高温となる。リフレクタ15の中央部付近に２つのファン
を長手方向に並べて取り付け、最高温地点で最多量のガ
スが移動するようにすれば、リフレクタ15を通る対流ガ
ス流はリフレクタ15の冷却と支持体の加熱もしくは乾燥
とに最適となる。そのために、ファンプレート４に２つ
の中央開口部43及び44が設けられ、これらの開口部43、
44内にファン６及びファンガード５が取り付けられる。
図示のようなファンプレート控え９がファンプレート４
及びファン６に固定される。このファンアセンブリはケ
ーシン10の上に重ねて、第１図に示した側方メインフレ
ーム１上に取り付けられる。シリコーンガスケットのよ
うなガスケット26がケーシング10とファンプレート４と
の間に、密閉を実現するべく設置され得る。
第３図に、本発明の反射式加熱装置を収容したケーシ
ング10から成る加熱モジュールを８つ含む完成された加
熱ユニットを示す。このユニットの加熱モジュールはウ
ェブ通過スロット45の上下に４つずつ配置されている。
その際、加熱モジュールは、ランプ12及びリフレクタ15
が移動するウェブの長手方向に伸長して位置するように
並べられている。加熱モジュールがケーシング10によっ
て固定された側方メインフレーム１と、メインフレーム
エンドカバー２及び３とによって加熱ユニットが構成さ
れている。
ング10から成る加熱モジュールを８つ含む完成された加
熱ユニットを示す。このユニットの加熱モジュールはウ
ェブ通過スロット45の上下に４つずつ配置されている。
その際、加熱モジュールは、ランプ12及びリフレクタ15
が移動するウェブの長手方向に伸長して位置するように
並べられている。加熱モジュールがケーシング10によっ
て固定された側方メインフレーム１と、メインフレーム
エンドカバー２及び３とによって加熱ユニットが構成さ
れている。
第４図は、リフレクタとランプから成る本発明のアセ
ンブリの第２の例を示す。リフレクタ15′は実質的に平
坦な頂部30′と、頂部30′から下方へ伸張する、互いに
対向する内側側壁31′及び32′とを有し、側壁31′,3
2′は下部ほど互いから離隔するように傾斜している。
先に説明した第１の例の場合同様、用いられる特別の傾
斜角度は所望の光拡散パターンに関連する。好ましい傾
斜角度は、各一方の側で鉛直線に対し約15°である。側
壁31′及び32′は屈曲されて、好ましくはＵ字形である
溝底部33′及び34′をそれぞれ構成している。リフレク
タ15′には、好ましくは側壁31′、32′屈曲前に約1/4
インチの直径を有する複数の孔35′が、その面積の大部
分が溝底部33′及び34′のＵ字形の頂点部分に位置する
ように設けられている。リフレクタ15′の両端部はエン
ドプレート60′（一方のみ図示）のフランジ81に、ねじ
61′のような任意の適当手段によって固定されている。
第１図に示した第１の例に異なり、側壁31′及び32′は
溝底部33′及び34′を規定した直後に途切れず、更に上
方へ続いて外側側壁70′及び71′をそれぞれ構成する。
側壁70′の上方縁部はフランジ72′を構成し、側壁71′
の上方縁部はフランジ73′を構成する。
ンブリの第２の例を示す。リフレクタ15′は実質的に平
坦な頂部30′と、頂部30′から下方へ伸張する、互いに
対向する内側側壁31′及び32′とを有し、側壁31′,3
2′は下部ほど互いから離隔するように傾斜している。
先に説明した第１の例の場合同様、用いられる特別の傾
斜角度は所望の光拡散パターンに関連する。好ましい傾
斜角度は、各一方の側で鉛直線に対し約15°である。側
壁31′及び32′は屈曲されて、好ましくはＵ字形である
溝底部33′及び34′をそれぞれ構成している。リフレク
タ15′には、好ましくは側壁31′、32′屈曲前に約1/4
インチの直径を有する複数の孔35′が、その面積の大部
分が溝底部33′及び34′のＵ字形の頂点部分に位置する
ように設けられている。リフレクタ15′の両端部はエン
ドプレート60′（一方のみ図示）のフランジ81に、ねじ
61′のような任意の適当手段によって固定されている。
第１図に示した第１の例に異なり、側壁31′及び32′は
溝底部33′及び34′を規定した直後に途切れず、更に上
方へ続いて外側側壁70′及び71′をそれぞれ構成する。
側壁70′の上方縁部はフランジ72′を構成し、側壁71′
の上方縁部はフランジ73′を構成する。
外側側壁70′及びフランジ72′は内側側壁31′及び頂
部30′と共に、テーパ形横断面を有する細長い溝74′を
規定する。同様に、外側側壁71′及びフランジ73′は内
側側壁32′及び頂部30′と共に、テーパ形横断面を有す
る細長い溝75′を規定する。フランジ72′及び73′は頂
部30′と共に進入路76′を規定し、この進入路76′を介
してファンアセンブリ（図示せず）により、リフレクタ
15′における対流が惹起される。進入路76′は、ランプ
12′を電源と接続するのに用いられる電線の収納場所と
しても有用である。テーパ溝74′、75′は孔35′に近付
くにつれて狭まって、孔35′から押し出される対流ガス
流の速度を高め、より優れた流動及び対流を実現する。
それによって、リフレクタ15′の冷却と支持体の加熱も
しくは乾燥とがより良好に行なわれる。加えて、このよ
うな構造は非常に丈夫であり得る。
部30′と共に、テーパ形横断面を有する細長い溝74′を
規定する。同様に、外側側壁71′及びフランジ73′は内
側側壁32′及び頂部30′と共に、テーパ形横断面を有す
る細長い溝75′を規定する。フランジ72′及び73′は頂
部30′と共に進入路76′を規定し、この進入路76′を介
してファンアセンブリ（図示せず）により、リフレクタ
15′における対流が惹起される。進入路76′は、ランプ
12′を電源と接続するのに用いられる電線の収納場所と
しても有用である。テーパ溝74′、75′は孔35′に近付
くにつれて狭まって、孔35′から押し出される対流ガス
流の速度を高め、より優れた流動及び対流を実現する。
それによって、リフレクタ15′の冷却と支持体の加熱も
しくは乾燥とがより良好に行なわれる。加えて、このよ
うな構造は非常に丈夫であり得る。
第４図及び第５図から知見され得るように、ランプ1
2′はリフレクタ15′に包囲されており、その際ランプ1
2′はリフレクタ15′の頂部30′下側に位置している。
ランプ端部77′及び78′は各一方のエンドプレート60′
の切除部79′にそれぞれ嵌め込まれている。リフレクタ
15′に設けられた孔35′は、好ましくは１インチ当たり
に約２つが存在するような間隔を互いに維持している。
電線86′及び88′がランプ端部77′及び78′からそれぞ
れ伸びている。電線86′、88′は好ましくはテフロン被
覆されており、（連続作動時）約450℃の温度にも耐え
る耐熱性を有する。電線86′、88′は同様の耐熱性を有
する給電線（図示せず）と適当手段で接続されている。
2′はリフレクタ15′に包囲されており、その際ランプ1
2′はリフレクタ15′の頂部30′下側に位置している。
ランプ端部77′及び78′は各一方のエンドプレート60′
の切除部79′にそれぞれ嵌め込まれている。リフレクタ
15′に設けられた孔35′は、好ましくは１インチ当たり
に約２つが存在するような間隔を互いに維持している。
電線86′及び88′がランプ端部77′及び78′からそれぞ
れ伸びている。電線86′、88′は好ましくはテフロン被
覆されており、（連続作動時）約450℃の温度にも耐え
る耐熱性を有する。電線86′、88′は同様の耐熱性を有
する給電線（図示せず）と適当手段で接続されている。
第６図に、横方向に並び合う３つのリフレクタ15′を
収容し、かつファンアセンブリと組み合わせられたケー
シング10の横断面を示す。ファン６は、実質的に矢印で
示した流路を辿る、即ち進入路76′からリフレクタ15′
に進入してテーパ溝74′及び75′に流入し、その後各溝
底部33′、34′に設けられた孔35′から流出する対流ガ
ス流を発生させる。孔35′から流出する使用済みの冷却
空気は熱く、この空気をウェブに当てて乾燥効率が高め
られる。ランプ12′によって発せられ、かつ内側側壁3
1′、32′で反射してウェブに当たる赤外線も矢印によ
って示してある。
収容し、かつファンアセンブリと組み合わせられたケー
シング10の横断面を示す。ファン６は、実質的に矢印で
示した流路を辿る、即ち進入路76′からリフレクタ15′
に進入してテーパ溝74′及び75′に流入し、その後各溝
底部33′、34′に設けられた孔35′から流出する対流ガ
ス流を発生させる。孔35′から流出する使用済みの冷却
空気は熱く、この空気をウェブに当てて乾燥効率が高め
られる。ランプ12′によって発せられ、かつ内側側壁3
1′、32′で反射してウェブに当たる赤外線も矢印によ
って示してある。
どのようなリフレクタ構造が採用されるにせよ、孔35
は、リフレクタの冷却とウェブの加熱もしくは乾燥との
両方に十分な量のガスを通すのに十分な大きさの直径を
有するべきである。孔35は、リフレクタ材料の屈曲的劣
化を低減するべく実質的にランプから隠蔽されるべきで
ある。12インチランプを包囲するリフレクタの場合、孔
35を１インチ当たり約２つの割合で設けることが有効で
あると判明した。第５図にはリフレクタ15′の表面に形
成され得る小凹凸80′も部分的に示してあるが、この小
凹凸80′はリフレクタ15′に強度を付加し得、また光の
拡散を改善し得る。
は、リフレクタの冷却とウェブの加熱もしくは乾燥との
両方に十分な量のガスを通すのに十分な大きさの直径を
有するべきである。孔35は、リフレクタ材料の屈曲的劣
化を低減するべく実質的にランプから隠蔽されるべきで
ある。12インチランプを包囲するリフレクタの場合、孔
35を１インチ当たり約２つの割合で設けることが有効で
あると判明した。第５図にはリフレクタ15′の表面に形
成され得る小凹凸80′も部分的に示してあるが、この小
凹凸80′はリフレクタ15′に強度を付加し得、また光の
拡散を改善し得る。
本発明の放射アセンブリは次のように機能する。ラン
プ12をリフレクタ15内側に取り付けたアセンブリがケー
シング10内に設置される。この作業はケーシング10が満
たされるまで、典型的には３回繰り返され、即ちケーシ
ング10は３組のリフレクタ15及びランプ12を収容する。
ランプ12の中央部付近に２つのファンが配置され、これ
らのファンはファンプレート４によってケーシング10に
固定される。このようなケーシング10が複数並置され
て、第３図に示したような加熱ユニットが構成される。
ランプ12及びファン６に電流が付与され、放射と、対流
ガス流の発生とが開始される。周囲空気がファン６か
ら、りふれくた15の溝底部33、34に設けられた孔35を通
って流れ、それによって加熱ユニットのウェブ通過スロ
ット45を通過する支持体を加熱もしくは乾燥し、かつリ
フレクタ15を冷却する。
プ12をリフレクタ15内側に取り付けたアセンブリがケー
シング10内に設置される。この作業はケーシング10が満
たされるまで、典型的には３回繰り返され、即ちケーシ
ング10は３組のリフレクタ15及びランプ12を収容する。
ランプ12の中央部付近に２つのファンが配置され、これ
らのファンはファンプレート４によってケーシング10に
固定される。このようなケーシング10が複数並置され
て、第３図に示したような加熱ユニットが構成される。
ランプ12及びファン６に電流が付与され、放射と、対流
ガス流の発生とが開始される。周囲空気がファン６か
ら、りふれくた15の溝底部33、34に設けられた孔35を通
って流れ、それによって加熱ユニットのウェブ通過スロ
ット45を通過する支持体を加熱もしくは乾燥し、かつリ
フレクタ15を冷却する。
乾燥を必要とする支持体領域を検出する水分及び／ま
たは温度分布測定システムが加熱ユニットの下流に配置
され得、またランプは必要を満たすべく個別に制御され
得る。対流ガス流の発生は総てのランプがオフ状態に有
る時も、支持体とリフレクタ表面との間のクリアランス
を維持するべく継続され得る。
たは温度分布測定システムが加熱ユニットの下流に配置
され得、またランプは必要を満たすべく個別に制御され
得る。対流ガス流の発生は総てのランプがオフ状態に有
る時も、支持体とリフレクタ表面との間のクリアランス
を維持するべく継続され得る。
第１図は本発明による反射式加熱装置とそのケーシング
を示す分解図、第２図は本発明の加熱ユニットで加熱モ
ジュールと組み合わせて用いられるファンアセンブリの
分解図、第３図はウェブ通路の上下に横方向に並べて配
置された複数の加熱モジュールの等角投影図、第４図は
本発明による反射式加熱装置の一例の横断面図、第５図
は本発明による反射式加熱装置の一例の斜視図、第６図
は本発明による加熱装置を収容し、かつファンアセンブ
リと組み合わせられた装置ケーシングの横断面図であ
る。 ６……ファン、12,12′……ランプ、15,15′……リフレ
クタ。
を示す分解図、第２図は本発明の加熱ユニットで加熱モ
ジュールと組み合わせて用いられるファンアセンブリの
分解図、第３図はウェブ通路の上下に横方向に並べて配
置された複数の加熱モジュールの等角投影図、第４図は
本発明による反射式加熱装置の一例の横断面図、第５図
は本発明による反射式加熱装置の一例の斜視図、第６図
は本発明による加熱装置を収容し、かつファンアセンブ
リと組み合わせられた装置ケーシングの横断面図であ
る。 ６……ファン、12,12′……ランプ、15,15′……リフレ
クタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H05B 3/00 - 3/82
Claims (11)
- 【請求項１】支持体を加熱するための放射アセンブリで
あって、 反射手段と、該反射手段の中に支持された放射手段とを
備えており、 前記反射手段が、互いに広がる角度で下方に伸びて対向
する二つの細長反射アームを有するほぼ平坦な細長頂部
反射部材を含んでおり、 前記対向する細長反射アームの夫々が溝底部を介して細
長外側側壁と結合されており、 前記溝底部の夫々は、前記放射アセンブリを経由した対
流の通過を可能にすると共にこの対流を支持体に当てる
ために該支持体の方へ向かわせる複数の孔を、その長手
方向に沿って有しており、 各外側側壁が前記頂部反射部材より上に伸びてフランジ
部分で終っており、該外側側壁の夫々が対向反射アーム
と一緒に溝を画定していると共に、前記フランジ部分が
それらの間に該溝への通路を画定している放射アセンブ
リ。 - 【請求項２】前記溝が前記溝底部に向かって狭まってい
る請求項１に記載の放射アセンブリ。 - 【請求項３】前記放射アセンブリは対向する二つの末端
壁を備えており、前記放射手段がこれらの末端壁によっ
て支持されている請求項１又は２に記載の放射アセンブ
リ。 - 【請求項４】前記溝底部がほぼＵ字形である請求項１か
ら３のいずれか一項に記載の放射アセンブリ。 - 【請求項５】前記放射手段が少なくとも一つの赤外線ラ
ンプである請求項１から４のいずれか一項に記載の放射
アセンブリ。 - 【請求項６】前記支持体が、移動するウェブである請求
項１から５のいずれか一項に記載の放射アセンブリ。 - 【請求項７】支持体を加熱するための加熱装置であっ
て、 複数のモジュールと、前記支持体を選択的に放射すべく
前記モジュールに対してほぼ平行に支持された複数のラ
ンプアセンブリと、前記モジュールに対流を発生すべく
該モジュールに組み込まれた対流手段と、各々がランプ
アセンブリのまわりに配置された、前記モジュール内の
複数のリフレクタとを備えており、 各リフレクタが、互いに広がる角度で下方に伸びて対向
する二つの細長反射アームを有するほぼ平坦な細長頂部
反射部材を有しており、前記対向する細長反射アームの
夫々が溝底部を介して細長外側側壁と結合されており、
前記溝底部の夫々は、そこを経由した対流の通過を可能
にすると共にこの対流を支持体に当てるために該支持体
の方へ向かわせる複数の孔を、その長手方向に沿って有
しており、 各リフレクタは、各ランプアセンブリから放射される光
が残りの他のランプアセンブリから放射される光と干渉
するのを実質的に排除するように、各ランプアセンブリ
からの光を狭い経路に制限しており、 前記複数のリフレクタは、該リフレクタを冷却すると同
時に前記支持体を加熱すべく前記複数の孔を通って流れ
る対流を受け入れるように前記モジュール内に配置され
ている加熱装置。 - 【請求項８】複数のモジュールが前記支持体の上下に配
置されている請求項７に記載の加熱装置。 - 【請求項９】前記複数のランプアセンブリが前記支持体
の長手方向に整列している請求項７又は８に記載の加熱
装置。 - 【請求項１０】前記ランプアセンブリが赤外線ランプで
ある請求項７から９のいずれか一項に記載の加熱装置。 - 【請求項１１】前記支持体が、移動するウェブである請
求項７から10のいずれか一項に記載の加熱装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US404928 | 1982-08-03 | ||
| US07/404,928 US5099586A (en) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | Reflector assembly for heating a substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03133083A JPH03133083A (ja) | 1991-06-06 |
| JP2889672B2 true JP2889672B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=23601601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238829A Expired - Lifetime JP2889672B2 (ja) | 1989-09-08 | 1990-09-07 | 支持体を加熱するための放射アセンブリ及び加熱装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5099586A (ja) |
| EP (1) | EP0416868A1 (ja) |
| JP (1) | JP2889672B2 (ja) |
| CA (1) | CA2024819A1 (ja) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| US20220299265A1 (en) * | 2019-07-12 | 2022-09-22 | Rösler Holding Gmbh | Vibrating round device |
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