JP2852227B2 - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JP2852227B2 JP2852227B2 JP8009123A JP912396A JP2852227B2 JP 2852227 B2 JP2852227 B2 JP 2852227B2 JP 8009123 A JP8009123 A JP 8009123A JP 912396 A JP912396 A JP 912396A JP 2852227 B2 JP2852227 B2 JP 2852227B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reduction projection
- space
- projection exposure
- exposure apparatus
- port
- Prior art date
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は縮小投影露光装置に
係わり、特にＬＳＩ等の半導体素子を製造する際にレチ
クル面上の電子回路パターンを半導体ウェハー（以下、
ウェハー、と称す）の主面上に投影光学系により投影す
る際の歪曲誤差や投影倍率誤差等の光学性能を良好に補
正し、高精度な投影パターンが得られる縮小投影露光装
置に関するものである。
係わり、特にＬＳＩ等の半導体素子を製造する際にレチ
クル面上の電子回路パターンを半導体ウェハー（以下、
ウェハー、と称す）の主面上に投影光学系により投影す
る際の歪曲誤差や投影倍率誤差等の光学性能を良好に補
正し、高精度な投影パターンが得られる縮小投影露光装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりＬＳＩ等の半導体素子製造用の
焼付装置（アライナー）においては非常に高い光学性能
が要求されている。
焼付装置（アライナー）においては非常に高い光学性能
が要求されている。
【０００３】図５はこの焼付装置である従来技術の縮小
投影露光装置の構成を示す図である。水銀ランプ１から
の露光光は反射板２で反射され、コンデンサレンズ３を
通り、反射ミラー４で反射し、コンデンサレンズ５を通
り、レチクル６上のパターンを縮小投影レンズ系１７で
縮小してステージ９に搭載されたウェハー８上に照射し
てそこのレジストを露光する。縮小投影レンズ系１７に
おける露光光の光軸５０は図で垂直のＺ方向であり、ス
テージ９は図で平面のＸ方向およびＹ方向を移動する。
投影露光装置の構成を示す図である。水銀ランプ１から
の露光光は反射板２で反射され、コンデンサレンズ３を
通り、反射ミラー４で反射し、コンデンサレンズ５を通
り、レチクル６上のパターンを縮小投影レンズ系１７で
縮小してステージ９に搭載されたウェハー８上に照射し
てそこのレジストを露光する。縮小投影レンズ系１７に
おける露光光の光軸５０は図で垂直のＺ方向であり、ス
テージ９は図で平面のＸ方向およびＹ方向を移動する。
【０００４】このうち電子回路パターンが形成されてい
るレチクルとウェハーを重ね合わせる際のマッチング精
度は特に重要となっている。このマッチング精度に最も
影響を与える一要素に投影光学系の倍率誤差と歪曲誤差
がある。
るレチクルとウェハーを重ね合わせる際のマッチング精
度は特に重要となっている。このマッチング精度に最も
影響を与える一要素に投影光学系の倍率誤差と歪曲誤差
がある。
【０００５】最近のアライナーに用いられるパターン寸
法は年々微細化されており、それに伴ないマッチング精
度もより高精度なものが要求されてきている。
法は年々微細化されており、それに伴ないマッチング精
度もより高精度なものが要求されてきている。
【０００６】この為、投影光学系の投影倍率誤差と歪曲
誤差を更に僅少にすることが要望されている。
誤差を更に僅少にすることが要望されている。
【０００７】現在の投影光学系の投影倍率誤差と歪曲誤
差は、投影光学系の製造工程上の調整及び装置の設置時
の調整により補正されている。
差は、投影光学系の製造工程上の調整及び装置の設置時
の調整により補正されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら設置され
た縮小投影露光装置の周囲の環境、特に気圧や温度の変
化によって、投影光学系の投影倍率誤差や歪曲誤差が変
化する。又、投影光学系はウェハーの露光時に露光エネ
ルギーを吸収し光学要素（屈折率、形状等）が変化し、
これによっても投影倍率誤差や歪曲誤差が変化する。こ
のように投影光学系の投影倍率誤差や歪曲誤差が経時的
に変化することが、従来技術の第１の問題点である。
た縮小投影露光装置の周囲の環境、特に気圧や温度の変
化によって、投影光学系の投影倍率誤差や歪曲誤差が変
化する。又、投影光学系はウェハーの露光時に露光エネ
ルギーを吸収し光学要素（屈折率、形状等）が変化し、
これによっても投影倍率誤差や歪曲誤差が変化する。こ
のように投影光学系の投影倍率誤差や歪曲誤差が経時的
に変化することが、従来技術の第１の問題点である。
【０００９】さらに、気圧変化や温度変化あるいは光吸
収等による歪曲誤差が残留していたり、投影倍率誤差を
補正する際に歪曲誤差が発生したりするから、投影倍率
誤差と歪曲の双方を完全に補正することが大変困難にな
ることが従来の技術の第２の問題点である。
収等による歪曲誤差が残留していたり、投影倍率誤差を
補正する際に歪曲誤差が発生したりするから、投影倍率
誤差と歪曲の双方を完全に補正することが大変困難にな
ることが従来の技術の第２の問題点である。
【００１０】したがって本発明は、投影倍率と歪曲が気
圧で変化することに着目し、レチクル面上のパターンを
投影光学系によりウェハー面上に投影する際、投影倍率
誤差と歪曲誤差の双方を良好に補正することで高い光学
性能が容易に得られ、実デバイス上におけるアライメン
ト不良を低減することが可能な縮小投影露光装置を提供
することを目的とする。
圧で変化することに着目し、レチクル面上のパターンを
投影光学系によりウェハー面上に投影する際、投影倍率
誤差と歪曲誤差の双方を良好に補正することで高い光学
性能が容易に得られ、実デバイス上におけるアライメン
ト不良を低減することが可能な縮小投影露光装置を提供
することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、レチク
ルのパターンを縮小して転写する縮小投影露光装置にお
いて、投影光学系のレンズ系中の空間を露光光が通過す
る方向に延在する仕切りにより２つ以上に分割、すなわ
ち縦方向に２つ以上に分割し外気から遮断し、この空間
内の気圧を部分的に制御する、すなわち分割された空間
内の気圧をそれぞれ制御する手段を設けた縮小投影露光
装置にある。ここで前記仕切りは一対のレンズの表面に
当接して設けられ、これにより該一対のレンズ間の空間
を分割していることが好ましい。また、空間を分割する
前記仕切りはレンズと同じ材質で形成されていることが
好ましく、この材質は石英ガラスであることができる。
さらに、前記制御する手段は、分割されたそれぞれの前
記空間に圧力気体を入出させるバルブ機構、前記空間が
必要な圧力となるように前記バルブ機構を制御する圧力
コントローラーならびに前記圧力コントローラに必要な
情報を与えるレーザ光系およびＣＰＵを具備して構成さ
れていることが好ましく、前記バルブ機構は、圧力気体
系に接続される第１のポートと、真空系に接続される第
２のポートと、前記空間に接続される第３のポートと、
前記第１のポートと前記第３のポートとの間に設けられ
た第１の電磁弁と、前記第２のポートと前記第３のポー
トとの間に設けられた第２の電磁弁とを有して構成され
ていることができる。
ルのパターンを縮小して転写する縮小投影露光装置にお
いて、投影光学系のレンズ系中の空間を露光光が通過す
る方向に延在する仕切りにより２つ以上に分割、すなわ
ち縦方向に２つ以上に分割し外気から遮断し、この空間
内の気圧を部分的に制御する、すなわち分割された空間
内の気圧をそれぞれ制御する手段を設けた縮小投影露光
装置にある。ここで前記仕切りは一対のレンズの表面に
当接して設けられ、これにより該一対のレンズ間の空間
を分割していることが好ましい。また、空間を分割する
前記仕切りはレンズと同じ材質で形成されていることが
好ましく、この材質は石英ガラスであることができる。
さらに、前記制御する手段は、分割されたそれぞれの前
記空間に圧力気体を入出させるバルブ機構、前記空間が
必要な圧力となるように前記バルブ機構を制御する圧力
コントローラーならびに前記圧力コントローラに必要な
情報を与えるレーザ光系およびＣＰＵを具備して構成さ
れていることが好ましく、前記バルブ機構は、圧力気体
系に接続される第１のポートと、真空系に接続される第
２のポートと、前記空間に接続される第３のポートと、
前記第１のポートと前記第３のポートとの間に設けられ
た第１の電磁弁と、前記第２のポートと前記第３のポー
トとの間に設けられた第２の電磁弁とを有して構成され
ていることができる。
【００１２】本発明ではこのような投影光学系のレンズ
系中の空間を分割していることで、部分的に気圧を調節
でき、この気圧の調整により歪曲や投影倍率を調整し、
これにより投影時の歪曲誤差や投影倍率誤差等の光学性
能を良好に補正することができる。又、圧力コントロー
ラー、ＣＰＵ等により、光学性能の自動制御が可能とな
る。
系中の空間を分割していることで、部分的に気圧を調節
でき、この気圧の調整により歪曲や投影倍率を調整し、
これにより投影時の歪曲誤差や投影倍率誤差等の光学性
能を良好に補正することができる。又、圧力コントロー
ラー、ＣＰＵ等により、光学性能の自動制御が可能とな
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明を説明
する。
する。
【００１４】図１は本発明の実施の形態の縮小投影露光
装置を示す概略図である。本発明の装置は、レチクル上
のパターンをウェハー上に転写する為の光学系と光学性
能を良好に補正する為の気圧自動制御系から構成され
る。
装置を示す概略図である。本発明の装置は、レチクル上
のパターンをウェハー上に転写する為の光学系と光学性
能を良好に補正する為の気圧自動制御系から構成され
る。
【００１５】光学系は露光光を発する水銀ランプ１と、
露光光を反射する反射板２と、反射ミラー４と、露光光
を集光するコンデンサレンズ３，５と、パターンが描画
されたレチクル６と、パターンを縮小して転写する縮小
投影レンズ系７と、ウェハー８を保持するステージ９と
を有して構成され、図１で垂直のＺ方向が露光光の光軸
５０となり、平面のＸおよびＹ方向にステージ９が駆動
する。
露光光を反射する反射板２と、反射ミラー４と、露光光
を集光するコンデンサレンズ３，５と、パターンが描画
されたレチクル６と、パターンを縮小して転写する縮小
投影レンズ系７と、ウェハー８を保持するステージ９と
を有して構成され、図１で垂直のＺ方向が露光光の光軸
５０となり、平面のＸおよびＹ方向にステージ９が駆動
する。
【００１６】気圧自動制御系は、レーザ光を発光するレ
ーザー光源１４と、レーザー光を反射させるミラー１３
と、レチクル上の膨張率等を計算するＣＰＵ１２と、ハ
ーフミラー１５と、受光素子１６と、圧力をコントロー
ルする為の圧力コントローラー１１と、バルブ機構１０
とを有して構成されている。
ーザー光源１４と、レーザー光を反射させるミラー１３
と、レチクル上の膨張率等を計算するＣＰＵ１２と、ハ
ーフミラー１５と、受光素子１６と、圧力をコントロー
ルする為の圧力コントローラー１１と、バルブ機構１０
とを有して構成されている。
【００１７】図２は縮小投影レンズ系７を示す図であ
り、（Ａ）は縦断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ部の横
断面図である。石英ガラスからなる複数のレンズが設け
られ、一対のレンズ３７，３８間はレンズの表面に当接
しＺ方向、すなわち露光光の光軸方向に延在する石英ガ
ラスの仕切り３０により仕切られてたがいに遮断状態と
なる第１の空間３１および第２の空間３２を構成してい
る。これらの空間は外気からも遮断された密閉空間であ
り、それぞれの空間３１，３２にはバルブ機構１０から
のパイプが結合され、圧力コントローラ１１に接続され
た圧力センサー１８が設けられている。また、図（Ｂ）
には上方に位置するレチクル６を２点鎖線で示し、平面
形状における大きさの関係を表している。
り、（Ａ）は縦断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ部の横
断面図である。石英ガラスからなる複数のレンズが設け
られ、一対のレンズ３７，３８間はレンズの表面に当接
しＺ方向、すなわち露光光の光軸方向に延在する石英ガ
ラスの仕切り３０により仕切られてたがいに遮断状態と
なる第１の空間３１および第２の空間３２を構成してい
る。これらの空間は外気からも遮断された密閉空間であ
り、それぞれの空間３１，３２にはバルブ機構１０から
のパイプが結合され、圧力コントローラ１１に接続され
た圧力センサー１８が設けられている。また、図（Ｂ）
には上方に位置するレチクル６を２点鎖線で示し、平面
形状における大きさの関係を表している。
【００１８】図３はバブル機構１０の構成を示す図であ
る。工場の圧力配管等の圧力系に接続される第１のポー
ト（Ｉｎ）２１と、工場の真空配管等の真空系に接続さ
れる第２のポート（Ｏｕｔ）２２と、縮小投影レンズ系
７の空間３１（もしくは３２）にパイプを介して接続さ
れる第３のポート２３とを有し、縮小投影レンズ系の空
間が所定の圧力となるように圧力コントローラー１１に
より第１の電磁弁２４および第２の電磁弁２５を制御す
る。また第１のポート２１からの圧力媒体は空気や窒素
等の透明の気体を用いる。
る。工場の圧力配管等の圧力系に接続される第１のポー
ト（Ｉｎ）２１と、工場の真空配管等の真空系に接続さ
れる第２のポート（Ｏｕｔ）２２と、縮小投影レンズ系
７の空間３１（もしくは３２）にパイプを介して接続さ
れる第３のポート２３とを有し、縮小投影レンズ系の空
間が所定の圧力となるように圧力コントローラー１１に
より第１の電磁弁２４および第２の電磁弁２５を制御す
る。また第１のポート２１からの圧力媒体は空気や窒素
等の透明の気体を用いる。
【００１９】次に本発明の実施の形態の動作について図
１を参照して説明する。
１を参照して説明する。
【００２０】水銀ランプ１からの露光光は反射板２によ
り反射され、コンデンサレンズ３を介して集光された
後、反射ミラー４及びコンデンサレンズ５を介してレチ
クル６に照射される。レチクル６には、あらかじめパタ
ーンが描画されており、このパターンは縮小投影レンズ
系７により縮小されステージ９上のウェハー８に転写さ
れる。
り反射され、コンデンサレンズ３を介して集光された
後、反射ミラー４及びコンデンサレンズ５を介してレチ
クル６に照射される。レチクル６には、あらかじめパタ
ーンが描画されており、このパターンは縮小投影レンズ
系７により縮小されステージ９上のウェハー８に転写さ
れる。
【００２１】この縮小投影レンズ系７により倍率調整が
行なわれ、レチクル６上のパターンの縮小倍率が決ま
る。
行なわれ、レチクル６上のパターンの縮小倍率が決ま
る。
【００２２】その際の光学性能を良好に補正する為に、
レーザー光源１４より発せられたレーザー光をハーフミ
ラー１５、ミラー１３を介してレチクル６上の複数パタ
ーンに照射し、ウェハー８からの反射光により基準点か
らの距離、膨張率に関する情報を受光素子１６を通して
ＣＰＵ１２に入力して計算する。
レーザー光源１４より発せられたレーザー光をハーフミ
ラー１５、ミラー１３を介してレチクル６上の複数パタ
ーンに照射し、ウェハー８からの反射光により基準点か
らの距離、膨張率に関する情報を受光素子１６を通して
ＣＰＵ１２に入力して計算する。
【００２３】その結果をもとに、圧力コントローラ１１
により、バルブ機構１０を介して縮小投影レンズ系７の
分割された空間内の圧力（気圧）を部分的に調整するこ
とで光学性能を良好に補正することができる。
により、バルブ機構１０を介して縮小投影レンズ系７の
分割された空間内の圧力（気圧）を部分的に調整するこ
とで光学性能を良好に補正することができる。
【００２４】図４は本発明の他の実施の形態を示すもの
である。尚、図４において図２と同一もしくは類似の箇
所は同じ符号で示してあるから重複する説明は省略す
る。
である。尚、図４において図２と同一もしくは類似の箇
所は同じ符号で示してあるから重複する説明は省略す
る。
【００２５】図４では石英ガラスからなる２枚の仕切り
３０，３０により縮小投影レンズ中の空間を４つに分割
し、それぞれの空間３１〜３４にバルブ機構３を結合
し、圧力センサー１８を設けてそれぞれの圧力を制御す
ることにより、より精密な補正を可能にする。
３０，３０により縮小投影レンズ中の空間を４つに分割
し、それぞれの空間３１〜３４にバルブ機構３を結合
し、圧力センサー１８を設けてそれぞれの圧力を制御す
ることにより、より精密な補正を可能にする。
【００２６】通常、縮小投影レンズ系の倍率誤差、歪曲
誤差は、レンズ中心から放射状に均一に発生するのでは
なく、方向によってその程度が異なる。また、製造上、
設置時の調整および周囲の環境の変化等により、レンズ
空間内で倍率誤差、歪曲誤差が異なる。
誤差は、レンズ中心から放射状に均一に発生するのでは
なく、方向によってその程度が異なる。また、製造上、
設置時の調整および周囲の環境の変化等により、レンズ
空間内で倍率誤差、歪曲誤差が異なる。
【００２７】そのために本発明ではレンズ間の空間を縦
に分割して、その方向により程度が異なる倍率誤差、歪
曲誤差に対しても対応できるようにしている。
に分割して、その方向により程度が異なる倍率誤差、歪
曲誤差に対しても対応できるようにしている。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、圧
力コントローラやＣＰＵ等により光学性能の自動制御が
可能となったから、投影光学系の投影倍率誤差や歪曲誤
差を随時、自動的に補正することができる。
力コントローラやＣＰＵ等により光学性能の自動制御が
可能となったから、投影光学系の投影倍率誤差や歪曲誤
差を随時、自動的に補正することができる。
【００２９】これにより経時的変化による実デバイス上
でのアライメント不良を低減することが出来るようにな
る。
でのアライメント不良を低減することが出来るようにな
る。
【００３０】さらに本発明によれば、縮小投影レンズ中
の空間を縦方向に分割することで方向性のある誤差の部
分的な補正が可能となったから、投影光学系の投影倍率
誤差や歪曲誤差の双方を容易に補正することができる。
の空間を縦方向に分割することで方向性のある誤差の部
分的な補正が可能となったから、投影光学系の投影倍率
誤差や歪曲誤差の双方を容易に補正することができる。
【００３１】これにより実デバイス上でのアライメント
不良を低減することが出来るようになる。
不良を低減することが出来るようになる。
【図１】本発明の実施の形態の縮小投影露光装置の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態における縮小投影レンズ系
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態におけるバルブ機構の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図４】本発明の他の実施の形態における縮小投影レン
ズ系の構成を示す図である。
ズ系の構成を示す図である。
【図５】従来技術の縮小投影露光装置の構成を示す図で
ある。
ある。
１ 水銀ランプ ２ 反射板 ３，５ コンデンサレンズ ４ 反射ミラー ６ レチクル ７，１７ 縮小投影レンズ系 ８ ウェハー ９ ステージ １０ バルブ機構 １１ 圧力コントローラー １２ ＣＰＵ １３ ミラー １４ レーザー光源 １５ ハーフミラー １６ 受光素子 １８ 圧力センサー ２１ 第１のポート（Ｉｎ） ２２ 第２のポート（Ｏｕｔ） ２３ 第３のポート ２４ 第１の電磁弁 ２５ 第２の電磁弁 ３０ 仕切り ３１〜３４ 空間 ３７，３８ レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 521 G03F 9/00
Claims (5)
- 【請求項１】 レチクルのパターンを縮小して転写する
縮小投影露光装置において、投影光学系のレンズ系中の
空間を露光光が通過する方向に延在する仕切りにより２
つ以上に分割し外気から遮断し、この空間内の気圧を部
分的に制御する手段を設けたことを特徴とする縮小投影
露光装置。 - 【請求項２】 前記仕切りは一対のレンズの表面に当接
して設けられ、これにより該一対のレンズ間の空間を分
割していることを特徴とする請求項１記載の縮小投影露
光装置。 - 【請求項３】 前記仕切りは石英ガラスで形成されてい
ることを特徴とする請求項１もしくは請求項２記載の縮
小投影露光装置。 - 【請求項４】 前記制御する手段は、分割されたそれぞ
れの前記空間に圧力気体を入出させるバルブ機構、前記
空間が必要な圧力となるように前記バルブ機構を制御す
る圧力コントローラーならびに前記圧力コントローラに
必要な情報を与えるレーザ光系およびＣＰＵを具備して
構成されていることを特徴とする請求項１記載の縮小投
影露光装置。 - 【請求項５】 前記バルブ機構は、圧力気体系に接続さ
れる第１のポートと、真空系に接続される第２のポート
と、前記空間に接続される第３のポートと、前記第１の
ポートと前記第３のポートとの間に設けられた第１の電
磁弁と、前記第２のポートと前記第３のポートとの間に
設けられた第２の電磁弁とを有して構成されていること
を特徴とする請求項４記載の縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8009123A JP2852227B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8009123A JP2852227B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 縮小投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09199397A JPH09199397A (ja) | 1997-07-31 |
| JP2852227B2 true JP2852227B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=11711870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8009123A Expired - Lifetime JP2852227B2 (ja) | 1996-01-23 | 1996-01-23 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2852227B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4738561B2 (ja) * | 1999-12-14 | 2011-08-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造法 |
-
1996
- 1996-01-23 JP JP8009123A patent/JP2852227B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09199397A (ja) | 1997-07-31 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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