JP2827080B2 - Quenching liquid filter - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、高周波焼入装置等に用
いられる焼入液用フィルターに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a quenching liquid filter used for an induction hardening apparatus or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】高周波焼入装置等では、高周波加熱コイ
ルによって加熱されたワークに焼入液を噴射することに
よって焼入を行う。この焼入液は、ある程度繰り返して
使用するので、ワークに付着していた異物が混入する。
この異物が混入した焼入液は、ワークの焼入品質に悪影
響を及ぼすので、異物は除去する必要がある。2. Description of the Related Art In an induction hardening apparatus or the like, quenching is performed by injecting a quenching liquid onto a work heated by a high frequency heating coil. Since the quenching liquid is used repeatedly to some extent, foreign matter adhering to the work is mixed.
The quenching liquid mixed with the foreign matter has an adverse effect on the quenching quality of the workpiece, so that the foreign matter needs to be removed.
【０００３】焼入液は、冷却ジャケットによってワーク
に噴射されるが、冷却ジャケットに供給される焼入液
は、焼入液用タンクに貯溜される。すなわち、焼入液
は、ワークに噴射された後に、回収管を介して焼入液用
タンクに回収され、当該焼入液用タンクから再び冷却ジ
ャケットによってワークに噴射されるのである。The quenching liquid is injected into the work by the cooling jacket, and the quenching liquid supplied to the cooling jacket is stored in a quenching liquid tank. That is, after the quenching liquid is injected into the work, the quenching liquid is collected in the quench liquid tank via the collection pipe, and is then again injected into the work from the quench liquid tank by the cooling jacket.
【０００４】ここで、前記異物を焼入液から除去するた
めに、回収管の途中にフィルターが設けられている。Here, a filter is provided in the middle of the recovery pipe in order to remove the foreign matter from the quenching liquid.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
フィルターには以下のような問題点がある。すなわち、
回収管の途中には、フィルターが１つしか設けられてい
ないため、異物によってフィルターが目詰まりすると、
焼入作業を停止してフィルターを交換しなければならな
いのである。However, the above-described filter has the following problems. That is,
Since only one filter is provided in the middle of the collection tube, if the filter is clogged by foreign matter,
The quenching operation must be stopped and the filter must be replaced.
【０００６】また、回収管から焼入液用タンクに回収さ
れる焼入液は、焼入液用タンクに貯溜された焼入液に勢
い良く注ぎ込まれるので、焼入液中に気泡が生じる。こ
の気泡が含まれた焼入液をワークに噴射すると、気泡の
部分が冷却されずワークに焼きむらが生じる。また、焼
入液がフィルターに勢い良く当たると、細かい異物はフ
ィルターを通過してしまうことがある。Further, the quenching liquid recovered from the recovery pipe into the quenching liquid tank is poured into the quenching liquid stored in the quenching liquid tank vigorously, so that bubbles are generated in the quenching liquid. When the quenching liquid containing the air bubbles is sprayed onto the work, the air bubble portions are not cooled and the work is unevenly baked. Further, when the quenching liquid vigorously hits the filter, fine foreign matter may pass through the filter.
【０００７】さらに、フィルターの交換作業に手間がか
かるので、焼入作業の効率が低下する。[0007] Further, since the work of replacing the filter is troublesome, the efficiency of the quenching work is reduced.
【０００８】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、焼入液に含まれる異物を除去する能力は低下させず
に、焼入液用フィルターの交換作業中にも焼入作業を停
止させる必要がなく、しかもワークの焼きむらの原因と
なる気泡が発生しにくく、細かい異物をも確実に除去で
き、交換作業の容易な焼入液用フィルターを提供するこ
とを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and does not reduce the ability to remove foreign substances contained in the quenching solution, and stops the quenching operation even during the replacement of the quenching solution filter. An object of the present invention is to provide a quenching liquid filter which does not need to be formed, hardly generates air bubbles which cause uneven burning of a workpiece, can surely remove fine foreign matters, and can be easily replaced.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明に係る焼入液用フ
ィルターは、焼入液用タンクに注ぎ込まれる焼入液に含
まれる異物を除去する焼入液用フィルターであって、少
なくとも１つの側面が他の側面より背低になった複数段
のカートリッジと、このカートリッジの底面の全面又は
少なくとも一部に取り付けられたメッシュとを負してお
り、前記カートリッジは背低の側面が下段のカートリッ
ジの上方に位置するように互い違いに配置されており、
背低の側面からオーバーフローした焼入液は下段のカー
トリッジに流入するようになっており、前記複数段のカ
ートリッジに取り付けられるメッシュはすべて同じ粗さ
のものである。 According to the present invention, there is provided a quenching fluid filler according to the present invention.
The filter is included in the quenching liquid poured into the quench liquid tank.
A filter for quenching liquid that removes foreign matter
Multi-stage with at least one side shorter than the other
And the entire bottom surface of the cartridge or
With the mesh attached at least partially
The cartridge has a lower side
Staggered so as to be located above the
The quenching liquid overflowing from the lower side
Into the cartridge.
All meshes attached to cartridges have the same roughness
belongs to.
【００１０】また、焼入液用タンクに注ぎ込まれる焼入
液に含まれる異物を除去する焼入液用フィルターであっ
て、少なくとも１つの側面に他の側面より背低になった
部分を設け、当該背低になった部分に外側下向きの傾斜
面が形成されている複数段のカートリッジと、このカー
トリッジの底面の全面又は少なくとも一部に取り付けら
れたメッシュとを有しており、前記カートリッジは背低
の側面が下段のカートリッジの上方に位置するように互
い違いに配置されており、背低になった部分からオーバ
ーフローした焼入液は下段のカートリッジに流入するよ
うになっており、前記傾斜面の幅寸法は、傾斜面が形成
された側面の幅寸法より小さくなっている。 Also, quenching poured into a quenching liquid tank
This is a quenching liquid filter that removes foreign substances contained in the liquid.
And at least one side is shorter than the other
Part, and the outer part of the lower part is inclined downward.
Multi-stage cartridges with
Attached to the whole or at least part of the bottom of the cartridge
And the cartridge is short.
So that the side of the cartridge is above the lower cartridge
It is arranged in a staggered manner, and
ー The quenching fluid that has flowed into the lower cartridge
The width of the slope is the same as that of the slope.
It is smaller than the width dimension of the side surface.
【００１１】さらに、前記複数段のカートリッジに取り
付けられるメッシュはすべて同じ粗さのものである。 Further, the cartridges in the plurality of stages
The meshes applied are all of the same roughness.
【００１２】また、前記各カートリッジは、支持フレー
ムに着脱自在に支持されている。 Further , each of the cartridges has a support frame.
Supported in a removable manner.
【００１３】[0013]
【００１４】[0014]
【実施例】図１は本発明の第１の実施例に係る焼入液用
フィルターの概略的構成図、図２は第１の実施例に係る
焼入液用フィルターを構成するカートリッジの概略的斜
視図、図３は第１の実施例に係る焼入液用フィルターを
構成する各カートリッジを支持する支持フレームの概略
的斜視図、図４は本発明の第２の実施例に係る焼入液用
フィルターの概略的構成図、図５は本発明の第２の実施
例に係る焼入液用フィルターを構成するカートリッジの
概略的斜視図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a quenching solution filter according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic configuration of a cartridge constituting the quenching solution filter according to the first embodiment. FIG. 3 is a perspective view schematically showing a support frame for supporting each cartridge constituting the quenching liquid filter according to the first embodiment. FIG. 4 is a quenching liquid according to a second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a schematic perspective view of a cartridge constituting a quenching liquid filter according to a second embodiment of the present invention.
【００１５】第１の実施例に係る焼入液用フィルター
は、焼入液用タンク３００に注ぎ込まれる焼入液Ｌに含
まれる異物を除去するものであって、１つの側面が他の
側面より低くなった３個のカートリッジ１００Ａ〜１０
０Ｃと、このカートリッジ１００Ａ〜１００Ｃの底面１
１３Ａ〜１１３Ｃの全面に取り付けられたメッシュ１１
４Ａ〜１１４Ｃとを有しており、前記カートリッジ１０
０Ａ〜１００Ｃは３段に重なって配置されている。The quenching liquid filter according to the first embodiment is for removing foreign substances contained in the quenching liquid L poured into the quenching liquid tank 300, and one side surface is separated from the other side surface. Three lowered cartridges 100A-10
0C and the bottom surface 1 of the cartridges 100A to 100C.
Mesh 11 attached to the entire surface of 13A to 113C
4A to 114C, and the cartridge 10
0A to 100C are arranged in three layers.
【００１６】３個のカートリッジ１００Ａ〜１００Ｃは
同一構造であるので、最上段のカートリッジ１００Ａに
ついて説明する。このカートリッジ１００Ａは、平面視
略長方形状をした略薄皿状に形成されており、その底面
１１３Ａの全面にはメッシュ１１４Ａが取り付けられて
いる。また、このカートリッジ１００Ａの４つの側面の
うち、側面１１１Ａは他の３つの側面１１２Ａより背低
に形成されている。Since the three cartridges 100A to 100C have the same structure, only the uppermost cartridge 100A will be described. The cartridge 100A is formed in a substantially thin dish shape having a substantially rectangular shape in a plan view, and a mesh 114A is attached to the entire bottom surface 113A. Of the four side surfaces of the cartridge 100A, the side surface 111A is formed lower than the other three side surfaces 112A.
【００１７】なお、このカートッリジ１００Ａは、焼入
液Ｌには侵されない材質からなることは勿論である。It is needless to say that the cartridge 100A is made of a material which is not affected by the quenching liquid L.
【００１８】また、図２に示すように、このカートリッ
ジ１００Ａの奥行き寸法はＤ、幅寸法はＷ、背低の側面
１１１Ａの高さ寸法がＨ1 、その他の側面１１２Ａの高
さ寸法がＨ2 であるとする。Further, as shown in FIG. 2, the depth dimensions of the cartridge 100A is D, the width dimension W, the height dimension H 1 of the back lower side 111A, the height of the other side surface 112A is H 2 And
【００１９】前記メッシュ１１４Ａは、例えば１インチ
平方に６０個の孔が設けられたものである。従って、所
定の大きさ以上の異物は通過できないようになってい
る。なお、このメッシュ１１４Ａも焼入液Ｌには侵され
ない材質からなることは勿論である。The mesh 114A has, for example, 60 holes per square inch. Therefore, a foreign substance of a predetermined size or more cannot pass through. The mesh 114A is of course made of a material that is not affected by the quenching liquid L.
【００２０】残りの２つのカートリッジ１００Ｂ、１０
０Ｃも、上述したカートリッジ１００Ａと同一の構成で
ある。The remaining two cartridges 100B, 10B
0C has the same configuration as the cartridge 100A described above.
【００２１】このように構成されたカートリッジ１００
Ａ〜１００Ｃは、図３に示すような支持フレーム２００
によって支持される。この支持フレーム２００は、焼入
液用タンク３００の底面に固定された４本の支柱２１１
〜２１４と、この支柱２１１〜２１４に横方向に取り付
けられた３つの横支持枠体２２０Ａ〜２２０Ｃとから構
成されている。なお、この支持フレーム２００は、焼入
液Ｌによっては浸食されない材質から構成されているこ
とは勿論である。The cartridge 100 configured as described above
A to 100C are supporting frames 200 as shown in FIG.
Supported by The support frame 200 has four columns 211 fixed to the bottom surface of the quenching liquid tank 300.
To 214 and three horizontal support frames 220A to 220C attached to the columns 211 to 214 in the horizontal direction. It is needless to say that the support frame 200 is made of a material that is not eroded by the quenching liquid L.
【００２２】前記支柱２１１と支柱２１４とは細長い平
板材であり、支柱２１２と支柱２１３とは断面視略Ｌ字
形状の長尺部材である。各支柱２１１〜２１４は、平面
視長方形の各頂点に位置するように配置される。すなわ
ち、支柱２１１と支柱２１４との間の距離と、支柱２１
２と支柱２１３との間の距離とは、各カートリッジ１０
０Ａ〜１００Ｃの幅寸法Ｗと等しく設定されている。ま
た、支柱２１１と支柱２１２との間の距離と、支柱２１
３と支柱２１４との間の距離とは、各カートリッジ１０
０Ａ〜１００Ｃの奥行き寸法Ｄより図１及び図３に示す
α分だけ大き設定されている。The columns 211 and 214 are elongated flat plates, and the columns 212 and 213 are long members having a substantially L-shape in cross section. Each support | pillar 211-214 is arrange | positioned so that it may be located in each vertex of a rectangle in planar view. That is, the distance between the column 211 and the column 214 and the column 21
The distance between the support 2 and the support 213 is defined as
It is set equal to the width dimension W of 0A to 100C. Also, the distance between the support 211 and the support 212 and the support 21
The distance between the support 3 and the support 214 is
It is set larger than the depth dimension D of 0A to 100C by α shown in FIGS.
【００２３】前記横支持枠体２２０Ａ〜２２０Ｃは、各
カートリッジ１００Ａ〜１００Ｃをあたかもカートリッ
ジ１００Ａ〜１００Ｃを引出のように支持する部分であ
る。The horizontal support frames 220A to 220C are portions for supporting the cartridges 100A to 100C as if they were drawing out the cartridges 100A to 100C.
【００２４】最上段の横支持枠体２２０Ａは、カートリ
ッジ１００Ａを着脱自在に支持する部分であって、各支
柱２１２〜２１４の上端に取り付けられる略ロ字形状の
水平支持枠２２１Ａと、この水平支持枠２２１Ａの３辺
に立設される垂直支持枠２２２Ａとから構成される。垂
直支持枠２２２Ａは、支柱２１１と支柱２１４との間に
は設けられていない。The uppermost horizontal support frame 220A is a portion for detachably supporting the cartridge 100A. The horizontal support frame 221A having a substantially rectangular shape attached to the upper ends of the columns 212 to 214, and the horizontal support frame 221A And a vertical support frame 222A provided upright on three sides of the frame 221A. The vertical support frame 222A is not provided between the column 211 and the column 214.
【００２５】このように構成された最上段の横支持枠体
２２０Ａにカートリッジ１００Ａを取り付けると、すな
わちカートリッジ１００Ａの奥側の側面１１２Ａが奥側
の垂直支持枠２２２Ａに当接するまで押し込むと、カー
トリッジ１００Ａの背低の側面１１１Ａは、支柱２１１
と支柱２１４とを結ぶ直線より奥側にまで押し込まれる
ことになる。When the cartridge 100A is attached to the uppermost horizontal support frame 220A constructed as described above, that is, when the cartridge 100A is pushed in until the rear side surface 112A abuts on the rear vertical support frame 222A, the cartridge 100A is pressed. The lower side surface 111A is
And the support 214 is pushed farther than the straight line connecting the support and the support 214.
【００２６】また、３段目の横支持枠体２２０Ｃは、カ
ートリッジ１００Ｃを支持する部分であって、最上段の
横支持枠体２２０Ａと同様に構成されている。The third horizontal support frame 220C supports the cartridge 100C and has the same configuration as the uppermost horizontal support frame 220A.
【００２７】一方、最上段の横支持枠体２２０Ａと３段
目の横支持枠体２２０Ｃとの間に設けられる２段目の横
支持枠体２２０Ｂは、上述した２つの横支持枠体２２０
Ａ、２２０Ｃとは若干異なる点があるOn the other hand, the second horizontal support frame 220B provided between the uppermost horizontal support frame 220A and the third horizontal support frame 220C is the two horizontal support frames 220 described above.
A, slightly different from 220C
【００２８】すなわち、この２段目の横支持枠体２２０
Ｂは、カートリッジ１００Ｂを支持すると、最上段の横
支持枠体２２０Ａや３段目の横支持枠体２２０Ｃに支持
されたカートリッジ１００Ａ、１００Ｃとは互い違いに
なるように構成されているのである。この２段目の横支
持枠体２２０Ｂを構成する奥側の垂直支持枠枠２２２Ｂ
はα分だけ手前側、すなわち支柱２１１、２１４側にず
れているのである。従って、この２段目の横支持枠体２
２０Ｂにカートリッジ１００Ｂを支持させると、他のカ
ートリッジ１００Ａ、１００Ｃとは互い違いになる。That is, the second-stage horizontal support frame 220
B is configured to be alternate with cartridges 100A and 100C supported by the uppermost horizontal support frame 220A and the third horizontal support frame 220C when supporting the cartridge 100B. The vertical support frame 222B on the back side constituting the second-stage horizontal support frame 220B.
Is shifted to the near side by α, that is, to the columns 211 and 214. Therefore, the second-stage horizontal support frame 2
When the cartridge 100B is supported by the cartridge 20B, the cartridges 100A and 100C are alternated.
【００２９】なお、かかる支持フレーム２００に支持さ
れた最上段のカートリッジ１００Ａの上方には、図１に
示すように、焼入液Ｌを導くシュート４００が臨んでい
る。As shown in FIG. 1, a chute 400 for guiding the quenching liquid L faces above the uppermost cartridge 100A supported by the support frame 200.
【００３０】次に、このように構成された焼入液用フィ
ルターの作用等について説明する。まず、支持フレーム
２００の各横支持枠体２２０Ａ〜２２０Ｃに各カートリ
ッジ１００Ａ〜１００Ｃ取り付ける。この際、最上段の
横支持枠体２２０Ａと３段目の横支持枠体２２０Ｃに
は、背低の側面１１１Ａ、１１１Ｃが手前側に位置する
ように取り付ける。また、２段目の横支持枠体２２０Ｂ
には、カートリッジ１００Ｂを背低の側面１１１Ｂが奥
側に位置するように取り付ける。すると、各カートリッ
ジ１００Ａ〜１００Ｃは、図１に示すような位置関係に
なる。Next, the operation and the like of the quenching liquid filter thus configured will be described. First, each of the cartridges 100A to 100C is attached to each of the horizontal support frames 220A to 220C of the support frame 200. At this time, the lowermost lateral support frames 220A are attached to the uppermost horizontal support frame 220A and the third lateral support frame 220C so that the lower side surfaces 111A and 111C are located on the near side. The second-stage horizontal support frame 220B
, The cartridge 100B is mounted such that the lower side surface 111B is located on the rear side. Then, the cartridges 100A to 100C have a positional relationship as shown in FIG.
【００３１】このような焼入液用フィルターの最上段の
カートリッジ１００Ａにシュート４００を介して焼入液
Ｌを注ぐ。すると、焼入液Ｌに含まれる異物は、メッシ
ュ１１４Ａによって漉し取られ、異物が除去された焼入
液Ｌが、メッシュ１１４Ｂ、１１４Ｃを介して２段目、
３段目のカートリッジ１００Ｂ、１００Ｃに流れ込む。
焼入液Ｌは、各メッシュ１１４Ａ、１１４Ｂ、１１４Ｃ
を介して焼入液用タンク３００に既に貯溜されている焼
入液Ｌに対して静かに注ぎ込まれることになるので、貯
溜されている焼入液Ｌに発生する気泡を抑制することが
できる。The quenching liquid L is poured through the chute 400 into the uppermost cartridge 100A of such a quenching liquid filter. Then, the foreign matter contained in the quenching liquid L is filtered off by the mesh 114A, and the quenching liquid L from which the foreign matter has been removed is passed through the mesh 114B, 114C to the second stage.
It flows into the third cartridges 100B and 100C.
The quenching liquid L is applied to each of the meshes 114A, 114B, 114C.
, The quenching liquid L already stored in the quenching liquid tank 300 is gently poured into the quenching liquid L, so that bubbles generated in the stored quenching liquid L can be suppressed.
【００３２】最上段のカートリッジ１００Ａのメッシュ
１１４Ａが異物で目詰まりしたならば、焼入液Ｌはカー
トリッジ１００Ａの背低の側面１１１Ａをオーバーフロ
ーして２段目のカートリッジ１００Ｂに注ぎ込まれる。
すると、この２段目のカートリッジ１００Ｂのメッシュ
１１４Ｂによって異物が漉し取られる。２段目のカート
リッジ１００Ｂのメッシュ１１４Ｂが目詰まりした場合
には、３段目のカートリッジ１００Ｃのメッシュ１１４
Ｃによって異物が漉し取られる。If the mesh 114A of the uppermost cartridge 100A is clogged with foreign matter, the quenching liquid L overflows the lower side surface 111A of the cartridge 100A and is poured into the second cartridge 100B.
Then, foreign matter is filtered out by the mesh 114B of the cartridge 100B of the second stage. When the mesh 114B of the second cartridge 100B is clogged, the mesh 114B of the third cartridge 100C is clogged.
C removes foreign matter.
【００３３】このように、３段目のカートリッジ１００
Ｃのメッシュ１１４Ｃまでもが目詰まりする前に、すで
に目詰まりしたカートリッジ１００Ａ、１００Ｂを支持
フレーム２００から取り外し、通常の洗浄手段によって
メッシュ１１４Ａ、１１４Ｂを洗浄し、メッシュ１１４
Ａ、１１４Ｂの目詰まりを解消する。そして、目詰まり
の解消されたカートリッジ１００Ａ、１００Ｂを支持フ
レーム２００に再度取り付ければよい。この場合、２つ
のカートリッジ１００Ａ、１００Ｂを取り外しても、３
段目のカートリッジ１００Ｃのメッシュ１１４Ｃによっ
て異物の除去は行われているから、焼入作業を中断する
必要はない。As described above, the third cartridge 100
Before even the mesh 114C of C is clogged, the already clogged cartridges 100A and 100B are removed from the support frame 200, and the meshes 114A and 114B are cleaned by ordinary cleaning means.
A and 114B are eliminated from clogging. Then, the cartridges 100A and 100B from which clogging has been eliminated may be attached to the support frame 200 again. In this case, even if the two cartridges 100A and 100B are removed,
Since the foreign matter is removed by the mesh 114C of the cartridge 100C of the tier, there is no need to interrupt the quenching operation.
【００３４】次に、第２の実施例に係る焼入液用フィル
ターについて図４及び図５を参照しつつ説明する。な
お、この焼入液用フィルターが第１の実施例に係る焼入
液用フィルターと異なる点は、カートリッジの形状だけ
であるので、カートリッジについてのみ説明し、同様の
部分についての説明は省略する。Next, a quenching solution filter according to a second embodiment will be described with reference to FIGS. The difference between the quenching liquid filter and the quenching liquid filter according to the first embodiment is only the shape of the cartridge. Therefore, only the cartridge will be described, and the description of the same parts will be omitted.
【００３５】第２の実施例に係る焼入液用フィルター
は、焼入液用タンク３００に注ぎ込まれる焼入液Ｌに含
まれる異物を除去するものであって、１つの側面５１１
Ａ〜５１１Ｃに他の側面５１２Ａ〜５１２Ｃより背低に
なった部分を設け、当該背低になった部分に外側下向き
の傾斜面５１５Ａ〜５１５Ｃが形成されている３段のカ
ートリッジ５００Ａ〜５００Ｃと、各カートリッジ５０
０Ａ〜５００Ｃの各面５１３Ａ〜５１３Ｃの全面に取り
付けられたメッシュ５１４Ａとを有しており、前記各カ
ートリッジ５００Ａ〜５００Ｃは背低の側面が下段のカ
ートリッジ５００Ｂ、５００Ｃの上方に位置するように
互い違いに配置されており、背低になった部分からオー
バーフローした焼入液Ｌは下段のカートリッジ５００
Ｂ、５００Ｃに流入するように構成されている。The quenching liquid filter according to the second embodiment removes foreign matter contained in the quenching liquid L poured into the quenching liquid tank 300, and has one side surface 511.
A three-stage cartridge 500A-500C in which A-511C is provided with a portion that is shorter than the other side surfaces 512A-512C, and the lower portion is formed with outwardly downwardly inclined surfaces 515A-515C; Each cartridge 50
And a mesh 514A attached to the entire surface 513A to 513C of each of the cartridges 500A to 500C. The cartridges 500A to 500C are staggered so that the short sides are positioned above the lower cartridges 500B and 500C. And the quenching liquid L overflowing from the lower part is the lower cartridge 500.
B, 500C.
【００３６】かかる焼入液用フィルターを構成する３個
のカートリッジ５００Ａ〜５００Ｃは同一構造であるの
で、最上段のカートリッジ５００Ａについて説明する。
このカートリッジ５００Ａは、平面視略長方形状をした
略薄皿状に形成されており、その底面５１３Ａの全面に
はメッシュ５１４Ａが取り付けられている。Since the three cartridges 500A to 500C constituting the quenching liquid filter have the same structure, only the uppermost cartridge 500A will be described.
The cartridge 500A is formed in a substantially thin dish shape having a substantially rectangular shape in a plan view, and a mesh 514A is attached to the entire bottom surface 513A.
【００３７】また、このカートリッジ５００Ａの４つの
側面のうち、側面５１１Ａには他の側面５１２Ａより背
低の部分が形成されている。そして、当該背低の部分に
は、外側下向きの傾斜面５１５Ａが形成されている。前
記傾斜面５１５Ａの左右両端部には、左右両側の側面５
１２Ａと連結されたサイドガード５１６Ａが設けられて
いる。なお、このカートリッジ５００Ａは、焼入液Ｌに
は侵されない材質からなることは勿論である。Of the four side surfaces of the cartridge 500A, the side surface 511A is formed with a portion shorter than the other side surface 512A. An outer downward slope 515A is formed in the lower part. Left and right side surfaces 5 are provided at both left and right ends of the inclined surface 515A.
A side guard 516A connected to 12A is provided. The cartridge 500A is of course made of a material that is not affected by the quenching liquid L.
【００３８】前記傾斜面５１５Ａの幅寸法はＷ1 であ
り、側面５１１Ａの幅寸法Ｗより小さく設定されてい
る。The width of the inclined surface 515A is W 1, is set smaller than the width W of the side surface 511A.
【００３９】また、メッシュ５１４Ａは、第１の実施例
において説明したものと同様であり、所定の大きさ以上
の異物は通過できないようになっている。Further, the mesh 514A is the same as that described in the first embodiment, so that foreign substances having a predetermined size or more cannot pass.
【００４０】なお、残りの２つのカートリッジ５００
Ｂ、５００Ｃも上述したカートリッジ５００Ａと同一の
構成である。The remaining two cartridges 500
B and 500C have the same configuration as the cartridge 500A described above.
【００４１】次に、このように構成されたカートリッジ
５００Ａ〜５００Ｂを使用した焼入液用フィルターの作
用等について説明する。３個のカートリッジ５００Ａ〜
５００Ｃを支持フレーム２００に支持する。すると、第
１の実施例の場合と同様に、図４に示すように、各カー
トリッジ５００Ａ〜５００Ｃは互い違いになる。Next, the operation and the like of the quenching liquid filter using the cartridges 500A and 500B configured as described above will be described. Three cartridges 500A ~
500C is supported on the support frame 200. Then, similarly to the first embodiment, the cartridges 500A to 500C are alternately arranged as shown in FIG.
【００４２】シュート４００を介して焼入液Ｌを最上段
のカートリッジ５００Ａに注ぎ込む。すると、焼入液Ｌ
に含まれる異物はフィルター５１４Ａによって除去され
る。The quenching liquid L is poured into the uppermost cartridge 500A via the chute 400. Then, the quenching liquid L
Are removed by the filter 514A.
【００４３】最上段のカートリッジ５００Ａのフィルタ
ー５１４Ａが目詰まりすると、焼入液Ｌは背低になった
部分をオーバーフローして２段目のカートリッジ５００
Ｂに注ぎ込まれる。この場合、焼入液Ｌは、傾斜面５１
５Ａによって２段目のカートリッジ５００Ｂに導かれる
ため、より静かに２段目のカートリッジ５００Ｂに注ぎ
込まれることになる。従って、焼入液Ｌに気泡が発生し
にくくなる。When the filter 514A of the uppermost cartridge 500A is clogged, the quenching liquid L overflows the portion where the height is short, and the quenching liquid L overflows in the lower portion of the cartridge 500A.
It is poured into B. In this case, the quenching liquid L is applied to the inclined surface 51.
Since it is guided to the second cartridge 500B by 5A, it will be poured into the second cartridge 500B more gently. Therefore, bubbles are less likely to be generated in the quenching liquid L.
【００４４】２段目のカートリッジ５００Ｂのフィルタ
ー５１４Ｂが目詰まりした場合は、３段目のカートリッ
ジ５００Ｃのフィルター５１４Ｃによって異物が除去さ
れる。When the filter 514B of the second cartridge 500B is clogged, foreign matter is removed by the filter 514C of the third cartridge 500C.
【００４５】各カートリッジ５００Ａ〜５００Ｃのフィ
ルター５４Ａ〜５１５４Ｃが目詰まりした場合の作業は
上述した第１の実施例の場合と同様であるのでその詳細
な説明は省略する。The operation when the filters 54A to 5154C of the cartridges 500A to 500C are clogged is the same as that in the case of the first embodiment described above, and the detailed description thereof will be omitted.
【００４６】なお、上述した２つの実施例では、３つの
カートリッジを有しているものとして説明したが、２つ
ののカートリッジ或いは４つ以上のカートリッジを有し
ていてもよい。また、各カートリッジの底面の全面にメ
ッシュが取り付けられているとしたが、一部であっても
よい。これは、焼入液Ｌの流入量等によって適宜決定さ
れるものである。In the two embodiments described above, three cartridges are described. However, two cartridges or four or more cartridges may be provided. Although the mesh is attached to the entire bottom surface of each cartridge, it may be a part. This is appropriately determined by the amount of the quenching liquid L flowing in and the like.
【００４７】また、メッシュ１１４Ａ等は、６０メッシ
ュであるとしたが、本発明がこれに限定されるわけでは
ない。焼入液Ｌに含まれる異物の大きさによって適宜選
択すべきものである。Although the mesh 114A and the like are 60 mesh, the present invention is not limited to this. It should be appropriately selected according to the size of the foreign matter contained in the quenching liquid L.
【００４８】さらに、背低の側面１１１Ａ等に把手をつ
ければ、交換作業が非常に容易になる。Further, if a handle is attached to the short side surface 111A or the like, the replacement work becomes very easy.
【００４９】[0049]
【発明の効果】本発明に係る焼入液用フィルターは、焼
入液用タンクに注ぎ込まれる焼入液に含まれる異物を除
去する焼入液用フィルターであって、少なくとも１つの
側面が他の側面より背低になった複数段のカートリッジ
と、このカートリッジの底面の全面又は少なくとも一部
に取り付けられたメッシュとを有しており、前記カート
リッジは背低の側面が下段のカートリッジの上方に位置
するように互い違いに配置されており、背低の側面から
オーバーフローした焼入液は下段のカートリッジに流入
するようになっており、前記複数段のカートリッジに取
り付けられるメッシュはすべて同じ粗さのものである。
このため、１つのカートリッジのメッシュが異物によっ
て目詰まりしても、下段のカートリッジのメッシュによ
って焼入液に含まれる異物の除去が行われるから、焼入
作業を中断することなく焼入液用フィルターの交換作業
を行うことができる。 The quenching liquid filter according to the present invention is characterized by
Removes foreign substances contained in the quenching liquid poured into the filling tank.
A filter for the quench liquid to be removed, comprising at least one
Multi-stage cartridge with sides shorter than other sides
And the whole or at least a part of the bottom surface of the cartridge
And a mesh attached to the cart
The ridge is located above the lower cartridge on the lower side
Are staggered so that
The overflowed quenching liquid flows into the lower cartridge
The cartridges in the plurality of stages.
The meshes to be applied are all of the same roughness.
Therefore, the mesh of one cartridge may be
Even if clogged, the lower cartridge mesh
To remove foreign substances contained in the quenching solution.
Replacement of the quenching solution filter without interruption
It can be performed.
【００５０】また、前記複数段のカートリッジに取り付
けられるメッシュはすべて同じ粗さのものであるので、
交換作業中にも異物の除去能力を低下させることがな
い。Further, since the meshes attached to the cartridges of the plurality of stages are all of the same roughness,
The ability to remove foreign substances is not reduced during the replacement operation.
【００５１】さらに、各カートリッジは支持フレームに
着脱自在に支持されているので、カートリッジの交換作
業が容易である。Further, since each cartridge is detachably supported by the support frame, the replacement operation of the cartridge is easy.
【００５２】その上、焼入液は各カートリッジのメッシ
ュを介して焼入液用タンクに注ぎ込まれるので、焼入液
用タンクに既に貯溜されている焼入液に対して静かに注
ぎ込まれることになる。このため、焼きむらの原因とな
る気泡が焼入液中に発生しにくくなり、焼入品質の悪化
を招かない。In addition, since the quenching liquid is poured into the quenching liquid tank via the mesh of each cartridge, the quenching liquid that has already been stored in the quenching liquid tank is gently poured. Become. For this reason, bubbles that cause unevenness in the quenching are less likely to be generated in the quenching liquid, and the quenching quality does not deteriorate.
【００５３】また、背低になった部分に傾斜面を形成す
れば、焼入液がより静かに下段のカートリッジに注ぎ込
まれまため、より気泡が発生しにくくなり、焼入品質の
悪化を招かない。Further, if an inclined surface is formed in the lower portion, the quenching liquid is more gently poured into the lower cartridge, so that bubbles are less likely to be generated, and the quenching quality is deteriorated. No
【００５４】さらに、前記傾斜面の幅寸法を傾斜面が形
成された側面の幅寸法より小さく設定すると、焼入液は
確実に下段のカートリッジに注ぎ込まれるので、より確
実に異物を除去することが可能となる。Further, if the width of the inclined surface is set smaller than the width of the side surface on which the inclined surface is formed, the quenching liquid is reliably poured into the lower cartridge, so that the foreign matter can be removed more reliably. It becomes possible.
【図１】本発明の第１の実施例に係る焼入液用フィルタ
ーの概略的構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a quenching liquid filter according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１の実施例に係る焼入液用フィルタ
ーを構成するカートリッジの概略的斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of a cartridge constituting the quenching liquid filter according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第１の実施例に係る焼入液用フィルタ
ーを構成する各カートリッジを支持する支持フレームの
概略的斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view of a support frame that supports each cartridge constituting the quenching liquid filter according to the first embodiment of the present invention.
【図４】本発明の第２の実施例に係る焼入液用フィルタ
ーの概略的構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a quenching liquid filter according to a second embodiment of the present invention.
【図５】本発明の第２の実施例に係る焼入液用フィルタ
ーを構成するカートリッジの概略的斜視である。FIG. 5 is a schematic perspective view of a cartridge constituting a quenching liquid filter according to a second embodiment of the present invention.
１００Ａ〜１００Ｃ カートリッジ １１１Ａ〜１１１Ｃ 背低の側面 １１４Ａ〜１１４Ｃ メッシュ ２００ 支持フレーム ３００ 焼入液用タンク Ｌ 焼入液 100A-100C Cartridge 111A-111C Lower side 114A-114C Mesh 200 Support frame 300 Quenching liquid tank L Quenching liquid
Claims (4)
含まれる異物を除去する焼入液用フィルターであって、
少なくとも１つの側面が他の側面より背低になった複数
段のカートリッジと、このカートリッジの底面の全面又
は少なくとも一部に取り付けられたメッシュとを有して
おり、前記カートリッジは背低の側面が下段のカートリ
ッジの上方に位置するように互い違いに配置されてお
り、背低の側面からオーバーフローした焼入液は下段の
カートリッジに流入するようになっており、前記複数段
のカートリッジに取り付けられるメッシュはすべて同じ
粗さのものであることを特徴とする焼入液用フィルタ
ー。1. A quenching liquid poured into a quenching liquid tank.
A quenching liquid filter for removing contained foreign matter,
Plural with at least one side shorter than the other
Cartridge and the bottom of the cartridge
Has a mesh attached to at least a part thereof
The cartridge has a lower side
Staggered so that they are above the
The quenching liquid overflowing from the lower side
Into the cartridge,
The same mesh is attached to all cartridges
A filter for quenching liquid , characterized in that it has a roughness .
含まれる異物を除去する焼入液用フィルターであって、
少なくとも１つの側面に他の側面より背低になった部分
を設け、当該背低になった部分に外側下向きの傾斜面が
形成されている複数段のカートリッジと、このカートリ
ッジの底面の全面又は少なくとも一部に取り付けられた
メッシュとを有しており、前記カートリッジは背低の側
面が下段のカートリッジの上方に位置するように互い違
いに配置されており、背低になった部分からオーバーフ
ローした焼入液は下段のカートリッジに流入するように
なっており、前記傾斜面の幅寸法は、傾斜面が形成され
た側面の幅寸法より小さいことを特徴とする焼入液用フ
ィルター。2. A quenching liquid poured into a quenching liquid tank.
A quenching liquid filter for removing contained foreign matter,
At least one side shorter than the other
Is provided, and the downwardly inclined surface is
The formed multi-stage cartridge and this cartridge
Attached to the whole or at least part of the bottom of the cartridge
Mesh, and the cartridge has a short side
Stagger so that the sides are above the lower cartridge.
Is located in
So that the quenching liquid that has been lowered flows into the lower cartridge.
The width of the slope is such that the slope is formed.
A quenching liquid filter characterized by being smaller than the width of the side surface .
れるメッシュはすべて同じ粗さのものであることを特徴
とする請求項２記載の焼入液用フィルター。3. A cartridge attached to the plurality of cartridges.
Feature that all meshes are of the same roughness
The quenching liquid filter according to claim 2, wherein
自在に支持されることを特徴とする請求項１、２又は３
記載の焼入液用フィルター。4. Each cartridge is attached to and detached from a support frame.
4. The device is freely supported.
The filter for quenching liquid as described .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6087297A JP2827080B2 (en) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | Quenching liquid filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6087297A JP2827080B2 (en) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | Quenching liquid filter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07265613A JPH07265613A (en) | 1995-10-17 |
| JP2827080B2 true JP2827080B2 (en) | 1998-11-18 |
Family
ID=13910892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6087297A Expired - Lifetime JP2827080B2 (en) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | Quenching liquid filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2827080B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007090239A (en) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Tokyo Electric Power Environmental Engineering Co Inc | Filtering device |
| EP3153596B1 (en) * | 2014-06-05 | 2018-09-12 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Quenching apparatus and method for producing metallic material |
| CN111004899A (en) * | 2019-10-30 | 2020-04-14 | 上海众环激光科技有限公司 | Four-jaw chuck jaw surface quenching equipment and quenching process thereof |
-
1994
- 1994-04-01 JP JP6087297A patent/JP2827080B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07265613A (en) | 1995-10-17 |
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