JP2789476B2 - デイスクパツドの研磨装置 - Google Patents
デイスクパツドの研磨装置Info
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- JP2789476B2 JP2789476B2 JP1109079A JP10907989A JP2789476B2 JP 2789476 B2 JP2789476 B2 JP 2789476B2 JP 1109079 A JP1109079 A JP 1109079A JP 10907989 A JP10907989 A JP 10907989A JP 2789476 B2 JP2789476 B2 JP 2789476B2
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- Japan
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- magnet
- disk pad
- magnetic
- polishing
- magnet table
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- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、デイスクパツドの研磨装置、すなわちデ
イスクパツドの摩擦材の摺動摩擦面を研磨する装置に関
するものである。
イスクパツドの摩擦材の摺動摩擦面を研磨する装置に関
するものである。
この種のデイスクパツドの研磨装置は、デイスクパツ
ドの摩擦材に摩耗粉を受入れるための溝を形成する溝入
れ工程後に使用される。従来のデイスクパツドの研磨装
置としては、マグネツトテーブルに電流を供給して励磁
し、デイスクパツドの裏金をマグネツトテーブルに吸着
し、デイスクパツドの摩擦材の摺動摩擦面を研磨砥石に
よつて研磨する。その後、マグネツトテーブルへの電流
の供給を遮断して磁気力を減少させ、デイスクパツドを
取り除いた後に摩擦材の摩耗粉を取り除く作業を行うも
のが提案されている。
ドの摩擦材に摩耗粉を受入れるための溝を形成する溝入
れ工程後に使用される。従来のデイスクパツドの研磨装
置としては、マグネツトテーブルに電流を供給して励磁
し、デイスクパツドの裏金をマグネツトテーブルに吸着
し、デイスクパツドの摩擦材の摺動摩擦面を研磨砥石に
よつて研磨する。その後、マグネツトテーブルへの電流
の供給を遮断して磁気力を減少させ、デイスクパツドを
取り除いた後に摩擦材の摩耗粉を取り除く作業を行うも
のが提案されている。
しかしながら、このような従来のデイスクパツドの研
磨装置にあつては、マグネツトテーブルへの電流の供給
を遮断して磁気力を減少させ、デイスクパツドを取り除
いた後に摩擦材の摩耗粉を取り除く作業を行う。しかし
て、磁気力減少後のマグネツトテーブルに残留磁気を生
じているため、磁性粉粒を含む摩擦材の摩耗粉がマグネ
ツトテーブル上に付着したままになる傾向にあり、その
結果、マグネツトテーブルとの間に摩耗粉が介在し、デ
イスクパツドの吸着不良を生ずるという不具合があつ
た。
磨装置にあつては、マグネツトテーブルへの電流の供給
を遮断して磁気力を減少させ、デイスクパツドを取り除
いた後に摩擦材の摩耗粉を取り除く作業を行う。しかし
て、磁気力減少後のマグネツトテーブルに残留磁気を生
じているため、磁性粉粒を含む摩擦材の摩耗粉がマグネ
ツトテーブル上に付着したままになる傾向にあり、その
結果、マグネツトテーブルとの間に摩耗粉が介在し、デ
イスクパツドの吸着不良を生ずるという不具合があつ
た。
この発明は、このような従来の技術的課題に鑑みてな
されたものであり、その構成は、回転駆動される回転テ
ーブルと、該回転テーブルの同一円周上に所定間隔を有
して配設され、鉄心入りコイルを付属させた複数個のマ
グネツトテーブルと、該回転テーブルの円周方向の所定
区域に位置する該マグネツトテーブルの鉄心入りコイル
に正電流を供給し、デイスクパツドの裏金を該マグネツ
トテーブルに吸着させる励磁手段と、該マグネツトテー
ブルに吸着されたデイスクパツドの摩擦材を研磨する研
磨手段と、正電流を供給した後の所定区域に位置する該
マグネツトテーブルの鉄心入りコイルに逆電流を供給
し、該マグネツトテーブルの残留磁気を消失させる脱磁
手段と、逆電流を供給した後の所定区域に位置する該マ
グネツトテーブルを掃除する清掃手段とを備えるデイス
クパツドの研磨装置である。
されたものであり、その構成は、回転駆動される回転テ
ーブルと、該回転テーブルの同一円周上に所定間隔を有
して配設され、鉄心入りコイルを付属させた複数個のマ
グネツトテーブルと、該回転テーブルの円周方向の所定
区域に位置する該マグネツトテーブルの鉄心入りコイル
に正電流を供給し、デイスクパツドの裏金を該マグネツ
トテーブルに吸着させる励磁手段と、該マグネツトテー
ブルに吸着されたデイスクパツドの摩擦材を研磨する研
磨手段と、正電流を供給した後の所定区域に位置する該
マグネツトテーブルの鉄心入りコイルに逆電流を供給
し、該マグネツトテーブルの残留磁気を消失させる脱磁
手段と、逆電流を供給した後の所定区域に位置する該マ
グネツトテーブルを掃除する清掃手段とを備えるデイス
クパツドの研磨装置である。
そして、脱磁手段による逆電流は、マグネツトテーブ
ルの残留磁束密度が15ガウス以下となるように供給する
ことができる。
ルの残留磁束密度が15ガウス以下となるように供給する
ことができる。
回転テーブルは、回転駆動源によつて一方向に回転駆
動されている。デイスクパツドは、励磁手段を備える区
域の始端部に位置するマグネツトテーブル上に、その鋼
製の裏金を下側として載置する。この区域では、励磁手
段によつて、電源から鉄心入りコイルに正電流が流さ
れ、マグネツトテーブルが励磁されているため、マグネ
ツトテーブル上にデイスクパツドの裏金が吸着される。
この状態で、デイスクパツドは回転テーブルと共に回転
し、この区域のほぼ中央部に達し、研磨手段の回転する
研磨砥石によつて摺動摩擦面が研磨され、平面に仕上げ
される。
動されている。デイスクパツドは、励磁手段を備える区
域の始端部に位置するマグネツトテーブル上に、その鋼
製の裏金を下側として載置する。この区域では、励磁手
段によつて、電源から鉄心入りコイルに正電流が流さ
れ、マグネツトテーブルが励磁されているため、マグネ
ツトテーブル上にデイスクパツドの裏金が吸着される。
この状態で、デイスクパツドは回転テーブルと共に回転
し、この区域のほぼ中央部に達し、研磨手段の回転する
研磨砥石によつて摺動摩擦面が研磨され、平面に仕上げ
される。
更にデイスクパツドが回転し、励磁手段を備える区域
を通過した後、デイスクパツドがマグネツトテーブルか
ら取り除かれ、取り除かれたデイスクパツド自体は次工
程に移送される。
を通過した後、デイスクパツドがマグネツトテーブルか
ら取り除かれ、取り除かれたデイスクパツド自体は次工
程に移送される。
その後、マグネツトテーブルは、脱磁手段を備える区
域に至り、脱磁手段によつて残留磁気がほぼ完全に消磁
される。すなわち、マグネツトテーブルの鉄心入りコイ
ルに励磁手段に対して逆向きの電流を流し、マグネツト
テーブルの残留磁気を消失させる。その結果、研磨砥石
によつて摩擦材が研磨され、磁性体を含む摩耗粉がマグ
ネツトテーブルの表面に堅固に吸着されることが防止さ
れる。しかして、この磁性体を含む摩耗粉のマグネツト
テーブルへの吸着を効果的に防止するために、マグネツ
トテーブルの残留磁気は、15ガウス以下の磁束密度を示
すように減少させることが望ましい。
域に至り、脱磁手段によつて残留磁気がほぼ完全に消磁
される。すなわち、マグネツトテーブルの鉄心入りコイ
ルに励磁手段に対して逆向きの電流を流し、マグネツト
テーブルの残留磁気を消失させる。その結果、研磨砥石
によつて摩擦材が研磨され、磁性体を含む摩耗粉がマグ
ネツトテーブルの表面に堅固に吸着されることが防止さ
れる。しかして、この磁性体を含む摩耗粉のマグネツト
テーブルへの吸着を効果的に防止するために、マグネツ
トテーブルの残留磁気は、15ガウス以下の磁束密度を示
すように減少させることが望ましい。
次いで、残留磁気が消失されたマグネツトテーブル
は、清掃手段によつて清掃され、磁性粉粒を含む摩擦材
の研磨砥石による摩耗粉が良好に掃除される。マグネツ
トテーブルは上記サイクルを繰り返して行う。
は、清掃手段によつて清掃され、磁性粉粒を含む摩擦材
の研磨砥石による摩耗粉が良好に掃除される。マグネツ
トテーブルは上記サイクルを繰り返して行う。
以下、この発明の実施例について図面を参照して説明
する。
する。
第１〜４図は、この発明の１実施例を示す。図中にお
いて符号１は非磁性材よりなる円形の回転テーブルであ
り、回転駆動源２にて一方向（第１図に示す矢印Ｘ方
向）に回転駆動される。この回転テーブル１の上面に
は、複数個（第１図では８個）のマグネツトテーブル３
が回転テーブル１の同一円周上に所定間隔を有して配設
され、各マグネツトテーブル３には、回転テーブル１の
下面側に突出する鉄心入りコイル４が付属されている。
いて符号１は非磁性材よりなる円形の回転テーブルであ
り、回転駆動源２にて一方向（第１図に示す矢印Ｘ方
向）に回転駆動される。この回転テーブル１の上面に
は、複数個（第１図では８個）のマグネツトテーブル３
が回転テーブル１の同一円周上に所定間隔を有して配設
され、各マグネツトテーブル３には、回転テーブル１の
下面側に突出する鉄心入りコイル４が付属されている。
そして、回転テーブル１の円周方向の所定区域（第１
図に示すＡ区域。）に位置するマグネツトテーブル３の
鉄心入りコイル４に正電流を供給し、デイスクパツド６
の鋼製の裏金6aをマグネツトテーブル３の上面に吸着さ
せる励磁手段７が配置される。すなわち、励磁手段７
は、第２図に示すように直流の電源８が、内周側に配置
した円弧状の接点8aに摺接する接点9aを介して、鉄心入
りコイル４に接続し、外周側に配置した円弧状の接点8b
に摺接する接点9bを介して、電源８に接続する閉回路を
構成し、Ａ区域に位置するマグネツトテーブル３を順次
に励磁する。このようなＡ区域の周方向のほぼ中央部に
は、研磨手段10が配設される。研磨手段10には、定位置
にて第１図に示すＹ方向に回転駆動される研磨砥石11が
装備され、マグネツトテーブル３に吸着されたデイスク
パツド６の摩擦材6bの表面すなわち摺動摩擦面を研磨す
るようになつている。
図に示すＡ区域。）に位置するマグネツトテーブル３の
鉄心入りコイル４に正電流を供給し、デイスクパツド６
の鋼製の裏金6aをマグネツトテーブル３の上面に吸着さ
せる励磁手段７が配置される。すなわち、励磁手段７
は、第２図に示すように直流の電源８が、内周側に配置
した円弧状の接点8aに摺接する接点9aを介して、鉄心入
りコイル４に接続し、外周側に配置した円弧状の接点8b
に摺接する接点9bを介して、電源８に接続する閉回路を
構成し、Ａ区域に位置するマグネツトテーブル３を順次
に励磁する。このようなＡ区域の周方向のほぼ中央部に
は、研磨手段10が配設される。研磨手段10には、定位置
にて第１図に示すＹ方向に回転駆動される研磨砥石11が
装備され、マグネツトテーブル３に吸着されたデイスク
パツド６の摩擦材6bの表面すなわち摺動摩擦面を研磨す
るようになつている。
更に、正電流を供給してデイスクパツド６を吸着した
後の所定区域（第１図に示すＢ区域。）に位置するマグ
ネツトテーブル３の鉄心入りコイル４に逆電流を供給
し、マグネツトテーブル３の残留磁気を消失させる脱磁
手段12が配設される。すなわち、脱磁手段12は、第３図
に示すように電源８が、外周側に配置した円弧状の接点
8aに摺接する接点9bを介して、鉄心入りコイル４に接続
し、内周側に配置した円弧状の接点8bに摺接する接点9a
を介して、電源８に接続する閉回路を構成し、Ｂ区域に
位置するマグネツトテーブル３の残留磁気をほぼ完全に
消磁する。
後の所定区域（第１図に示すＢ区域。）に位置するマグ
ネツトテーブル３の鉄心入りコイル４に逆電流を供給
し、マグネツトテーブル３の残留磁気を消失させる脱磁
手段12が配設される。すなわち、脱磁手段12は、第３図
に示すように電源８が、外周側に配置した円弧状の接点
8aに摺接する接点9bを介して、鉄心入りコイル４に接続
し、内周側に配置した円弧状の接点8bに摺接する接点9a
を介して、電源８に接続する閉回路を構成し、Ｂ区域に
位置するマグネツトテーブル３の残留磁気をほぼ完全に
消磁する。
そして、逆電流を流してマグネツトテーブル３の残留
磁気を消失させた後の所定区域、すなわちＢ区域とＡ区
域との間の第１図に示すＣ区域に清掃手段14が配設され
る。清掃手段14は、Ｃ区域に位置するマグネツトテーブ
ル３の表面に、圧縮空気を吹き付けて、研磨手段10によ
る研磨に基づく摩擦材6bの摩耗粉を吹き飛ばすもの、又
は箒状のものによつてマグネツトテーブル３の表面を掃
除するもの等にて構成される。
磁気を消失させた後の所定区域、すなわちＢ区域とＡ区
域との間の第１図に示すＣ区域に清掃手段14が配設され
る。清掃手段14は、Ｃ区域に位置するマグネツトテーブ
ル３の表面に、圧縮空気を吹き付けて、研磨手段10によ
る研磨に基づく摩擦材6bの摩耗粉を吹き飛ばすもの、又
は箒状のものによつてマグネツトテーブル３の表面を掃
除するもの等にて構成される。
次に、作用について説明する。
回転テーブル１は、回転駆動源２によつて第１図に示
す矢印Ｘ方向に回転駆動されている。デイスクパツド６
の摩擦材6bの摺動摩擦面に、ブレーキ装置としての使用
に伴う摩耗粉を受入れ、かつ冷却を促すための溝6cを切
削によつて形成した後、Ａ区域の始端部に位置するマグ
ネツトテーブル３−１にデイスクパツド６の裏金6aを載
置する。Ａ区域では、電源８から鉄心入りコイル４に正
電流を供給する励磁手段７によつて、マグネツトテーブ
ル３が励磁されているため、マグネツトテーブル３−１
にデイスクパツド６の裏金6aが吸着される。この状態
で、マグネツトテーブル３上のデイスクパツド６は、次
第に回転してＡ区域のほぼ中央部に達し、研磨手段10の
研磨砥石11によつて摺動摩擦面が研磨され、平坦に仕上
げされる。この研磨砥石11は、回転テーブル１とは逆向
きすなわち第１図に示すＹ方向に回転駆動されている。
す矢印Ｘ方向に回転駆動されている。デイスクパツド６
の摩擦材6bの摺動摩擦面に、ブレーキ装置としての使用
に伴う摩耗粉を受入れ、かつ冷却を促すための溝6cを切
削によつて形成した後、Ａ区域の始端部に位置するマグ
ネツトテーブル３−１にデイスクパツド６の裏金6aを載
置する。Ａ区域では、電源８から鉄心入りコイル４に正
電流を供給する励磁手段７によつて、マグネツトテーブ
ル３が励磁されているため、マグネツトテーブル３−１
にデイスクパツド６の裏金6aが吸着される。この状態
で、マグネツトテーブル３上のデイスクパツド６は、次
第に回転してＡ区域のほぼ中央部に達し、研磨手段10の
研磨砥石11によつて摺動摩擦面が研磨され、平坦に仕上
げされる。この研磨砥石11は、回転テーブル１とは逆向
きすなわち第１図に示すＹ方向に回転駆動されている。
マグネツトテーブル３上のデイスクパツド６が更に矢
印Ｘ方向に回転し、Ａ区域を通過した際、励磁手段７に
よる鉄心入りコイル４への電流の供給が遮断され、マグ
ネツトテーブル３の励磁が解除れると共に、デイスクパ
ツド６がマグネツトテーブル３から取り除かれる。取り
除かれたデイスクパツド６自体は次工程に移送される。
印Ｘ方向に回転し、Ａ区域を通過した際、励磁手段７に
よる鉄心入りコイル４への電流の供給が遮断され、マグ
ネツトテーブル３の励磁が解除れると共に、デイスクパ
ツド６がマグネツトテーブル３から取り除かれる。取り
除かれたデイスクパツド６自体は次工程に移送される。
その後、Ｂ区域に移行したマグネツトテーブル３は、
脱磁手段12によつて残留磁気がほぼ完全に消磁される。
すなわち、Ｂ区域では、マグネツトテーブル３の鉄心入
りコイル４に、励磁手段７に対して逆向きの電流が流さ
れ、マグネツトテーブル３の残留磁気が消失される。
脱磁手段12によつて残留磁気がほぼ完全に消磁される。
すなわち、Ｂ区域では、マグネツトテーブル３の鉄心入
りコイル４に、励磁手段７に対して逆向きの電流が流さ
れ、マグネツトテーブル３の残留磁気が消失される。
第４図に示す磁化曲線から判るように、鉄心入りコイ
ル４に電流を流し、磁界の強さＨを次第に増してゆく
と、磁束密度Ｂは、処女曲線にて示すようにａ点からｂ
点にまで増加し、ｂ点にて最大値に達する。この状態か
ら電流を次第に減らしてゆくと、磁界の強さＨが零にな
つてもｃ点にて示すように磁束密度Ｂは零にはならず、
所定の残留磁気Brを生ずる。このように、磁化曲線は第
４図に示すようにヒステリシスを描くため、鉄心入りコ
イル４に逆向きの電流を流し、負の磁界の強さＨすなわ
ち保持力H1cを与えれば、磁束密度Ｂはｃ点からｄ点へ
と減少し、零に達する。かくして、鉄心入りコイル４に
適当量の逆電流を流すことにより、マグネツトテーブル
３の残留磁気Brをほぼ完全に消失させることができる。
その結果、磁性粉粒を含む摩擦材6bが研磨砥石11によつ
て研磨され、磁性材を含む摩耗粉がマグネツトテーブル
３の表面に残存した場合であつても、この摩耗粉がマグ
ネツトテーブル３の表面に堅固に吸着されることが防止
される。しかして、この磁性材を含む摩耗粉のマグネツ
トテーブル３への吸着を効果的に防止するために、脱磁
手段12を配設したＢ区域を通過した後のマグネツトテー
ブル３に残留する磁気は、磁束密度が15ガウス以下とな
るように減少させることが望ましい。
ル４に電流を流し、磁界の強さＨを次第に増してゆく
と、磁束密度Ｂは、処女曲線にて示すようにａ点からｂ
点にまで増加し、ｂ点にて最大値に達する。この状態か
ら電流を次第に減らしてゆくと、磁界の強さＨが零にな
つてもｃ点にて示すように磁束密度Ｂは零にはならず、
所定の残留磁気Brを生ずる。このように、磁化曲線は第
４図に示すようにヒステリシスを描くため、鉄心入りコ
イル４に逆向きの電流を流し、負の磁界の強さＨすなわ
ち保持力H1cを与えれば、磁束密度Ｂはｃ点からｄ点へ
と減少し、零に達する。かくして、鉄心入りコイル４に
適当量の逆電流を流すことにより、マグネツトテーブル
３の残留磁気Brをほぼ完全に消失させることができる。
その結果、磁性粉粒を含む摩擦材6bが研磨砥石11によつ
て研磨され、磁性材を含む摩耗粉がマグネツトテーブル
３の表面に残存した場合であつても、この摩耗粉がマグ
ネツトテーブル３の表面に堅固に吸着されることが防止
される。しかして、この磁性材を含む摩耗粉のマグネツ
トテーブル３への吸着を効果的に防止するために、脱磁
手段12を配設したＢ区域を通過した後のマグネツトテー
ブル３に残留する磁気は、磁束密度が15ガウス以下とな
るように減少させることが望ましい。
そして、マグネツトテーブル３は、Ｃ区域に達し、そ
の表面が清掃手段14によつて清掃され、磁性粉粒を含む
摩擦材6bの研磨砥石11による摩耗粉が良好に掃除され
る。マグネツトテーブル３は上記サイクルを繰り返して
行う。
の表面が清掃手段14によつて清掃され、磁性粉粒を含む
摩擦材6bの研磨砥石11による摩耗粉が良好に掃除され
る。マグネツトテーブル３は上記サイクルを繰り返して
行う。
以上の説明によつて理解されるように、この発明によ
れば、清掃の際、マグネツトテーブルに残留する磁気を
実質的に生じておらず、磁性粉粒を含む摩擦材の摩耗粉
がマグネツトテーブル上に堅固には吸着されないため、
マグネツトテーブル上がきれいに清掃され、その結果、
次にデイスクパツドを載置した際、デイスクパツドとマ
グネツトテーブルとの間に摩耗粉が介在することが解消
し、吸着不良を生ずることがなく、ひいては研磨作業が
確実になされ、研磨の作業能率が著しく向上するという
実用上の効果が得られる。
れば、清掃の際、マグネツトテーブルに残留する磁気を
実質的に生じておらず、磁性粉粒を含む摩擦材の摩耗粉
がマグネツトテーブル上に堅固には吸着されないため、
マグネツトテーブル上がきれいに清掃され、その結果、
次にデイスクパツドを載置した際、デイスクパツドとマ
グネツトテーブルとの間に摩耗粉が介在することが解消
し、吸着不良を生ずることがなく、ひいては研磨作業が
確実になされ、研磨の作業能率が著しく向上するという
実用上の効果が得られる。
第１〜４図はこの発明の１実施例を示し、第１図はデイ
スクパツドの研磨装置を示す平面図、第２図は励磁手段
を一部断面にて示す側面図、第３図は脱磁手段の要部を
示す側面図、第４図は磁化曲線を示す線図である。 1:回転テーブル,2:回転駆動源,3,3−1:マグネツトテー
ブル,4:鉄心入りコイル,6:デイスクパツド,6a:裏金,6b:
摩擦材,6c:溝,7:励磁手段,8:電源,10:研磨手段,11:研磨
砥石,12:脱磁手段,14:清掃手段。
スクパツドの研磨装置を示す平面図、第２図は励磁手段
を一部断面にて示す側面図、第３図は脱磁手段の要部を
示す側面図、第４図は磁化曲線を示す線図である。 1:回転テーブル,2:回転駆動源,3,3−1:マグネツトテー
ブル,4:鉄心入りコイル,6:デイスクパツド,6a:裏金,6b:
摩擦材,6c:溝,7:励磁手段,8:電源,10:研磨手段,11:研磨
砥石,12:脱磁手段,14:清掃手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B24B 41/06 B24B 7/04 F16D 69/00
Claims (1)
- 【請求項１】回転駆動される回転テーブルと、該回転テ
ーブルの同一円周上に所定間隔を有して配設され、鉄心
入りコイルを付属させた複数個のマグネツトテーブル
と、該回転テーブルの円周方向の所定区域に位置する該
マグネツトテーブルの鉄心入りコイルに正電流を供給
し、デイスクパツドの裏金を該マグネツトテーブルに吸
着させる励磁手段と、該マグネツトテーブルに吸着され
たデイスクパツドの摩擦材を研磨する研磨手段と、正電
流を供給した後の所定区域に位置する該マグネツトテー
ブルの鉄心入りコイルに逆電流を供給し、該マグネツト
テーブルの残留磁気を消失させる脱磁手段と、逆電流を
供給した後の所定区域に位置する該マグネツトテーブル
を掃除する清掃手段とを備えることを特徴とするデイス
クパツドの研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109079A JP2789476B2 (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | デイスクパツドの研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109079A JP2789476B2 (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | デイスクパツドの研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02292170A JPH02292170A (ja) | 1990-12-03 |
| JP2789476B2 true JP2789476B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=14501071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1109079A Expired - Fee Related JP2789476B2 (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | デイスクパツドの研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2789476B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101797904B1 (ko) * | 2017-05-30 | 2017-11-15 | 주식회사 청운브레이크 | 브레이크 패드 마찰재 연삭장치 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002327782A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Nsk Warner Kk | 摩擦板の製造方法 |
| JP4622687B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2011-02-02 | 株式会社デンソー | 加工装置 |
-
1989
- 1989-05-01 JP JP1109079A patent/JP2789476B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101797904B1 (ko) * | 2017-05-30 | 2017-11-15 | 주식회사 청운브레이크 | 브레이크 패드 마찰재 연삭장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02292170A (ja) | 1990-12-03 |
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