JP2760508B2 - 走査型トンネル顕微鏡 - Google Patents

走査型トンネル顕微鏡

Info

Publication number
JP2760508B2
JP2760508B2 JP63153487A JP15348788A JP2760508B2 JP 2760508 B2 JP2760508 B2 JP 2760508B2 JP 63153487 A JP63153487 A JP 63153487A JP 15348788 A JP15348788 A JP 15348788A JP 2760508 B2 JP2760508 B2 JP 2760508B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
probe
spin
polarized
electrons
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63153487A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01320750A (ja
Inventor
寛 阪東
明 酒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology, Toshiba Corp filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP63153487A priority Critical patent/JP2760508B2/ja
Priority to DE89306423T priority patent/DE68911602T2/de
Priority to EP89306423A priority patent/EP0348239B1/en
Priority to US07/370,819 priority patent/US4939363A/en
Publication of JPH01320750A publication Critical patent/JPH01320750A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2760508B2 publication Critical patent/JP2760508B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/10STM [Scanning Tunnelling Microscopy] or apparatus therefor, e.g. STM probes
    • G01Q60/16Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q30/00Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
    • G01Q30/08Means for establishing or regulating a desired environmental condition within a sample chamber
    • G01Q30/16Vacuum environment
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/50MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
    • G01Q60/54Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/852Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe for detection of specific nanostructure sample or nanostructure-related property
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/86Scanning probe structure
    • Y10S977/861Scanning tunneling probe

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、走査型トンネル顕微鏡に係わり、特に表面
の磁気的性質を調べるように改良した走査型トンネル顕
微鏡に関する。
(従来の技術) 最近の薄膜形成技術、特にMBE(分子線エピタキシー
法)やCVD(気相成長法)等の大きな発展により、数nm
の磁性薄膜を作成することが可能になってきており、多
方面への応用が期待されている。膜の厚さが1〜数原子
層である場合には、その膜の磁気的な性質(例えばキュ
ーリ温度)は、その膜の物質がマクロな結晶をなしてい
る時の性質とは必ずしも同一ではなく、従って磁性薄膜
それ自身の性質を測定することが必要である。同様のこ
とは、表面磁性(磁性体の表面がバルクとは異なった磁
性を示すこと)についても当てはまる。
表面磁性(ここでは、磁性薄膜の性質も含めた広い意
味を指すものとする)の測定法は、次の2つの条件を満
たすことが要求される。
表面に敏感であること。
電子スピンに敏感であること。
これらの条件を満たす従来の技術としては、偏極光電
子分光法や偏極LEED(偏極低速電子線回折)法等があ
る。これらは公知の技術であり、既に幾つかの研究成果
が得られているが、反面、問題点も多く残っている。
まず、物理的な欠点としては、上記の技術が表面磁性
の平均的な性質しか測定し得ないことが挙げられる。上
記いずれの技術も空間分解能が低く、測定によって得ら
れる情報は高々数10nm径の範囲の平均的な性質である。
しかしながら、遍歴磁性体はともかく、多くの重要な磁
性体では、磁性を担う電子スピンは局在しており、それ
故にスピン分布を原子尺度の空間分解能で観察すること
が極めて重要な課題となっている。
次に、技術的には、上記の技術のいずれもが、費用の
かかる大掛かりなものである、と言う欠点がある。偏極
LEED法ではGaAs偏極電子源を必要とし、この電子源は、
レーザによる光ポンピングを利用した大きなものであ
る。また、偏極光電子分光法には、モット(Mott)検出
器が使用されるが、これは前段に静電加速器を取付けた
大型の検出器である。
一方、これらの技術とは対照的に、最近開発された走
査型トンネル顕微鏡(以下STMと略記する)は、原子尺
度で表面を観察できる装置である。STMは、探針と呼ば
れる金属針を試料表面から1nm程度の距離に近付け、針
と表面間に流れるトンネル電流が両者の距離に敏感であ
ることを利用して、表面の起伏を測定する装置である。
STMの大きな利点は、針と試料間に加わる電圧を変化さ
せることによって、ある特定のエネルギーを持った表面
電子が、どのように空間的に分布しているか(所謂局所
状態密度)、を知り得ることにある。例えば、GaAsの場
合、電子はAs原子に局在しているが、STMではAsに局在
した電子の詰まった状態とGaに局在する電子が不在の状
態とを区別してイメージすることができる。
しかしながら、STMでは、電子スピンについての情報
は得られない。それは、針と試料表面との間をトンネル
する電子が偏極していないからである。
(発明が解決しようとする課題) このように従来、電子スピンに敏感な測定技術は空白
分解能が低く、高分解能のSTMはその原理から電子スピ
ンの分布を測定することは困難であった。
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その
目的とするところは、1nm程度以下の高い空間分解能で
電子スピンの分布を測定することができる走査型トンネ
ル顕微鏡を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の骨子は、通常のSTMの探針の代わりに、偏極
電子を放出するエミッタを探針として使用することにあ
る。
即ち本発明は、被検査試料の表面に探針を近接させる
と共に、試料と探針との間に所定の電圧を印加し、両者
の間に流れるトンネル電流に基づいて試料表面を検査す
る走査型トンネル顕微鏡において、前記探針として、ス
ピン偏極した電子を放出する探針(例えばタングステン
からなる金属針の表面に硫化ユーロピウムを被覆してな
り、該金属針の軸方向に磁界を印加されて該軸方向に電
子スピンが揃った電子のみを放出する探針)を用い、試
料表面の電子スピンの状態を検査するようにしたもので
ある。
(作 用) スピン偏極エミッタを探針とした場合、探針から試料
表面に向かって流れる電子は100%近く偏極している。
この探針の磁性体表面に沿って走査型させる場合を考え
る。磁性体の電子分布は電子スピンの向きによって異な
っているが、探針の偏極電子は、それ自身のスピンと反
平行なスピンを持つ電子が分布している領域でのみ、探
針から試料に流れる。従って、この電流の変化から、試
料表面における上向き或いは下向きスピンを持つ電子の
分布が得られる。正確には、エミッタからの電子の偏極
方向を反転させた場合とさせない場合について走査を行
い、2つの結果の差を取ることによって、上向きスピン
と下向きスピンの分布の差−即ちミクロな磁化−の空間
的な変化が測定される。なお、エミッタの先端形状は、
STMで普通に用いられている探針と同じであり、従って
偏極エミッタの使用によって、空間分解能が大きく損な
われることはない。
(実施例) 以下、本発明の詳細を図示の実施例によって説明す
る。
第1図は本発明の一実施例に係わるスピン偏極STMを
示す概略構成図である。このSTMは基本的には、従来の
低温用STMと同じ構造を有する。即ち、第1図におい
て、1はシリンダーであり、このシリンダー1の内壁に
沿ってピストン3がスライドする。ピストン3は押しネ
ジ2によって駆動され、その動きはコイルバネ4,板バネ
5を介して積層型ピエゾ素子6に伝えられる。2つのバ
ネ4,5は縮小バネとなっており、ピストン3の動きは、
縮小されてピエゾ素子6に伝えられる。ピエゾ素子6に
は円筒型ピエゾ素子7が固定され、ピエゾ素子7には探
針として作用する偏極エミッタ6が取付けられている。
そして、前記ピストン3の動きにより、ピエゾ素子7に
取付けられた偏極エミッタ8を試料9に数μmまで近付
けるものとなっている。
積層型ピエゾ素子6は、ピストン3の動きにより偏極
エミッタ8を試料9に数μmまで近付けた後、エミッタ
−試料間にトンネル電流が流れるまで両者を近付けるの
に使用される。偏極エミッタ8と試料9との間にトンネ
ル電流が流れてからは、円筒形ピエゾ素子7によってエ
ミッタ8の走査が行われる。
なお、図中10は試料9の位置調整用のネジであり、11
は偏極エミッタ8からの電子のスピン方向を決めるため
の磁石である。また、図には示さないが、試料9の下に
は試料9に磁界を印加するための磁石が配置される。そ
して、第1図のユニット全体は、液体ヘリウム中で動作
するものとなっている。
第2図は偏極エミッタ部を拡大して示す模式図であ
る。エミッタ8は、先端を尖らせたタングステンの針21
(先端曲率半径1μm以下)の表面に400Å程度の厚さ
のEuS(硫化ユーロピウム)層22を蒸着したものであ
る。EuSは、17K以下で強磁性体となり、タングステンの
電子23に対するスピンフィルターの役目を果たす。これ
は、W−EuSの界面のエネルギー障壁の高さがスピンの
向きによって異なるためであり、十分な電界(0.1V/
Å)を加えると、1方向のスピンを持った電子24のみが
EuS層12を通って放出される。放出電子の偏極度は、ヘ
リウム温度では90%以上に達する。
次に、スピン偏極STMの動作を説明する。最初に装置
全体をヘリウム温度に冷却する。次いで、エミッタ8と
試料9との間に数ボルト(試料が正電位)を加え、押し
ネジ2,バネ4,5,積層型ピエゾ素子6を用いて、トンネル
電流(又は電界放出による電流)が流れるまで、エミッ
タ8を試料9に近付ける。その後は、円筒型ピエゾ素子
7により、表面の走査を行う。このとき、エミッタ8と
試料9との関係は第3図に示す如くなり、エミッタ−試
料間に直流電源13及び電流計14が接続され、走査を行っ
たときの電流計14の検出値の変化が検出される。また、
試料9の裏面には、必要に応じて磁石12が配置される。
この磁石12は試料9の表面における電子スピンの向きを
一方向(上下方向)に揃えるものである。
第3図の状態では、偏極エミッタ8の電子は、それ自
身のスピンと反平行なスピンを持つ電子が分布している
領域でのみ、試料側に流れる。従って、この電流の変化
から上向きのスピンを持つ電子の分布が得られる。ま
た、磁石11によりエミッタ8からの電子のスピンを反転
することができるので、反転の前後でのSTMイメージを
比較することができ、試料表面の局所的な磁性が調べら
れる。
スピン偏極走査型トンネル顕微鏡の分解能は、エミッ
タ形状とエミッタ−試料間の距離に依存する。エミッタ
−試料間の電位差を2Vとするとき、EuSスピンフィルタ
が働くための電界を得るには、エミッタ−試料間の距離
は20Å程度であればよい。そしてこの場合、エミッタ先
端の実効的な曲率半径を10Åとすると、分解能は8Åと
なる。
かくして本実施例によれば、試料表面の電子スピンの
分布を数Åと言う極めて高い空間分解能で測定すること
ができる。このため、各種磁性体の磁気的性質を原子尺
度で測定することが可能となり、その有用性は絶大であ
る。また、偏極光電子分光法や偏極LEED法とは異なり、
大型の電子源や検出器等を必要とすることなく、簡易に
実現し得る等の利点もある。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものでは
ない。例えば、前記探針は、タングステンからなる金属
針の表面に硫化ユーロピウムを被覆したものに限らず、
金属針の軸方向に磁界を印加されて該軸方向に電子スピ
ンが揃った電子のみを放出するものであればよい。具体
的には、タングステンの代わりには、ニッケルその他、
針状加工が可能な各種の金属を用いることができる。さ
らに、硫化ユーロピウムの代りには、スピンフィルター
として作用するものであればよく、一般には特定の温度
で強磁性の絶縁体となる材料を用いることが可能であ
る。また、探針の走査機構は第1図に何等限定されるも
のではなく、仕様に応じて適宜変更可能である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。
[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、通常のSTMの探
針の代わりに、偏極電子を放出するエミッタを探針とし
て使用することにより、1nm程度以下の高い空間分解能
で電子スピンの分布を測定することが可能となる。従っ
て、各種磁性体の表面磁性状態を測定するのに極めて有
効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係わるスピン偏極走査型ト
ンネル顕微鏡を示す概略構成図、第2図は偏極エミッタ
を拡大して示す模式図、第3図は偏極エミッタ,試料及
び磁石等の配置例を示す模式図である。 1……シリンダー、2……ピストン駆動用ネジ、3……
ピストン、4……コイルバネ、5……板バネ、6……積
層型ピエゾ素子、7……円筒型ピエゾ素子、9……試
料、10……試料駆動用ネジ、11,12……磁石、21……タ
ングステン針、22……EuS層、23……タングステン内の
電子、24……放出された電子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−139240(JP,A) Physica Scripta, (1988年8月),Vol.38,No. 2,p.291〜296 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 37/28 G01N 37/00 JICST科学技術文献ファイル

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被検査試料の表面に、スピン偏極した電子
    を放出する探針を近接させると共に、試料と探針との間
    に所定の電圧を印加し、両者の間に流れるトンネル電流
    に基づいて試料表面の電子スピンの状態を検査する走査
    型トンネル顕微鏡において、 前記探針は、タングステンからなる金属針の表面に硫化
    ユーロピウムを被覆してなり、該金属針の軸方向に磁界
    を印加されて該軸方向に電子スピンが揃った電子のみを
    放出するものであることを特徴とする走査型トンネル顕
    微鏡。
  2. 【請求項2】前記試料は、被検査表面と直交する方向に
    磁界を印加され、電子スピンの向きを磁界印加方向に及
    びこれと逆の方向に揃えられたものであることを特徴と
    する請求項1記載の走査型トンネル顕微鏡。
  3. 【請求項3】前記試料及び探針は、液体ヘリウム温度ま
    で冷却されていることを特徴とする請求項1記載の走査
    型トンネル顕微鏡。
JP63153487A 1988-06-23 1988-06-23 走査型トンネル顕微鏡 Expired - Lifetime JP2760508B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63153487A JP2760508B2 (ja) 1988-06-23 1988-06-23 走査型トンネル顕微鏡
DE89306423T DE68911602T2 (de) 1988-06-23 1989-06-23 Raster-Tunnelmikroskop.
EP89306423A EP0348239B1 (en) 1988-06-23 1989-06-23 Scanning tunneling microscope
US07/370,819 US4939363A (en) 1988-06-23 1989-06-23 Scanning tunneling microscope

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63153487A JP2760508B2 (ja) 1988-06-23 1988-06-23 走査型トンネル顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01320750A JPH01320750A (ja) 1989-12-26
JP2760508B2 true JP2760508B2 (ja) 1998-06-04

Family

ID=15563645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63153487A Expired - Lifetime JP2760508B2 (ja) 1988-06-23 1988-06-23 走査型トンネル顕微鏡

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4939363A (ja)
EP (1) EP0348239B1 (ja)
JP (1) JP2760508B2 (ja)
DE (1) DE68911602T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3417924B2 (ja) 2000-12-28 2003-06-16 株式会社東芝 スピン偏極走査型トンネル顕微鏡

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8802335A (nl) * 1988-09-21 1990-04-17 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het op sub-mikron schaal bewerken van een materiaal-oppervlak.
US5304924A (en) * 1989-03-29 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Edge detector
JP2775464B2 (ja) * 1989-04-27 1998-07-16 キヤノン株式会社 位置検出装置
US5266801A (en) * 1989-06-05 1993-11-30 Digital Instruments, Inc. Jumping probe microscope
US5222060A (en) * 1989-09-07 1993-06-22 Canon Kabushiki Kaisha Accessing method, and information processing method and information processing device utilizing the same
US5185572A (en) * 1989-09-28 1993-02-09 Olympus Optical Co., Ltd. Scanning tunneling potentio-spectroscopic microscope and a data detecting method
US5289004A (en) * 1990-03-27 1994-02-22 Olympus Optical Co., Ltd. Scanning probe microscope having cantilever and detecting sample characteristics by means of reflected sample examination light
US5233191A (en) * 1990-04-02 1993-08-03 Hitachi, Ltd. Method and apparatus of inspecting foreign matters during mass production start-up and mass production line in semiconductor production process
US5171992A (en) * 1990-10-31 1992-12-15 International Business Machines Corporation Nanometer scale probe for an atomic force microscope, and method for making same
US5375087A (en) * 1991-02-04 1994-12-20 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Tunneling-stabilized magnetic reading and recording
US5463459A (en) 1991-04-02 1995-10-31 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for analyzing the state of generation of foreign particles in semiconductor fabrication process
DE69309318T2 (de) * 1992-01-10 1997-10-30 Hitachi Ltd Verfahren und Vorrichtung zum Beobachten einer Fläche
US5204531A (en) * 1992-02-14 1993-04-20 Digital Instruments, Inc. Method of adjusting the size of the area scanned by a scanning probe
US5448399A (en) * 1992-03-13 1995-09-05 Park Scientific Instruments Optical system for scanning microscope
US5504366A (en) * 1992-07-17 1996-04-02 Biotechnology Research And Development Corp. System for analyzing surfaces of samples
WO1995012882A1 (en) * 1993-11-03 1995-05-11 International Business Machines Corporation Method and apparatus for retrieving digital data from a magnetic storage medium
US5661403A (en) * 1994-03-14 1997-08-26 Mackenzie; Franklin F. Apparatus and method for testing a solid electrolyte
AU723685B2 (en) * 1994-09-23 2000-08-31 Terastore, Inc. Method and apparatus for storing data using spin-polarized electrons
DE19912814C2 (de) * 1999-03-22 2002-02-14 Max Planck Gesellschaft Verfahren und Vorrichtung zur Rastertunnelmikroskopie
JP3472828B2 (ja) * 2001-03-05 2003-12-02 北海道大学長 走査型磁気検出装置、及び走査型磁気検出装置用深針
US6642538B2 (en) * 2001-10-24 2003-11-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Voltage controlled nonlinear spin filter based on paramagnetic ion doped nanocrystal
US7156965B1 (en) 2001-11-09 2007-01-02 Veeco Instruments Inc. Scanning electrochemical potential microscope
US7279686B2 (en) * 2003-07-08 2007-10-09 Biomed Solutions, Llc Integrated sub-nanometer-scale electron beam systems
US7427755B2 (en) * 2005-08-03 2008-09-23 Uchicago Argonne, Llc Integrated electron beam tip and sample heating device for a scanning tunneling microscope
GB0804629D0 (en) * 2008-03-12 2008-04-16 Finlan Martin F Imaging apparatus & method
US8069492B2 (en) * 2008-03-31 2011-11-29 Seagate Technology Llc Spin-torque probe microscope
WO2013085888A1 (en) * 2011-12-05 2013-06-13 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Magnetic storage device
EP3477390A1 (en) * 2017-10-25 2019-05-01 ASML Netherlands B.V. Inspection tool, lithographic apparatus, electron beam source and an inspection method

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4760254A (en) * 1985-06-07 1988-07-26 Pierce Daniel T Apparatus and method for electron spin polarization detection
JPH071687B2 (ja) * 1985-12-13 1995-01-11 株式会社日立製作所 走査トンネル顕微鏡
US4800274A (en) * 1987-02-02 1989-01-24 The Regents Of The University Of California High resolution atomic force microscope
JPH01110204A (ja) * 1987-10-23 1989-04-26 Jeol Ltd 電子顕微鏡用走査トンネル顕微鏡
US4814622A (en) * 1987-11-06 1989-03-21 Bell Communications Research, Inc. High speed scanning tunneling microscope
US4823004A (en) * 1987-11-24 1989-04-18 California Institute Of Technology Tunnel and field effect carrier ballistics
US4861990A (en) * 1988-02-09 1989-08-29 California Institute Of Technology Tunneling susceptometry
JP2572107B2 (ja) * 1988-04-04 1997-01-16 三菱電機株式会社 走査型トンネル顕微鏡の粗動機構
US4870352A (en) * 1988-07-05 1989-09-26 Fibertek, Inc. Contactless current probe based on electron tunneling

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Physica Scripta,(1988年8月),Vol.38,No.2,p.291〜296

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3417924B2 (ja) 2000-12-28 2003-06-16 株式会社東芝 スピン偏極走査型トンネル顕微鏡

Also Published As

Publication number Publication date
EP0348239A1 (en) 1989-12-27
US4939363A (en) 1990-07-03
EP0348239B1 (en) 1993-12-22
DE68911602D1 (de) 1994-02-03
JPH01320750A (ja) 1989-12-26
DE68911602T2 (de) 1994-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2760508B2 (ja) 走査型トンネル顕微鏡
Marchiori et al. Nanoscale magnetic field imaging for 2D materials
Bi et al. Room-temperature electronically-controlled ferromagnetism at the LaAlO3/SrTiO3 interface
Freeman et al. Advances in magnetic microscopy
JP2604968B2 (ja) サンプルの磁気構造乃至磁区をイメージ化する方法及びこれを応用した記憶装置
US5670712A (en) Method and apparatus for magnetic force control of a scanning probe
De Graef Magnetic imaging and its applications to materials
Kaiser et al. Spectroscopy of electronic states of metals with a scanning tunneling microscope
US6121771A (en) Magnetic force microscopy probe with bar magnet tip
US6078174A (en) Apparatus for measuring exchange force
US6081115A (en) Method of measuring exchange force and method of evaluating magnetism using the exchange force
JP3566567B2 (ja) 磁気共鳴型交換相互作用力顕微鏡及びそれを用いた観察方法
US6476386B1 (en) Method and device for tunnel microscopy
JP2002257703A (ja) 走査型磁気検出装置、及び走査型磁気検出装置用深針
Hoffmann Magnetic and interatomic forces measured by low temperature scanning force microscopy
Rastei et al. Field-dependent behavior of a magnetic force microscopy tip probed by means of high coercive nanomagnets
Liu Magnetic dissipation force microscopy
Welland New tunnels to the surface
Christensen et al. 2024 Roadmap on Magnetic Microscopy Techniques and Their Applications in Materials Science
Scott Characterisation of MFM tip stray fields using Lorentz electron tomography
JP3134369B2 (ja) 表面磁気検出装置
JPH06268283A (ja) キャリアのスピンのフィルタ及びこれを用いた磁化分布測定方法
Chapman et al. Imaging magnetic structures in the transmission electron microscope
Getzlaff et al. Experimental aspects
JPH05302965A (ja) 走査表面磁気顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090320

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090320

Year of fee payment: 11