JP2728574B2 - アッシング装置 - Google Patents
アッシング装置Info
- Publication number
- JP2728574B2 JP2728574B2 JP3132605A JP13260591A JP2728574B2 JP 2728574 B2 JP2728574 B2 JP 2728574B2 JP 3132605 A JP3132605 A JP 3132605A JP 13260591 A JP13260591 A JP 13260591A JP 2728574 B2 JP2728574 B2 JP 2728574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ashing
- discharge tube
- temperature
- chamber
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アッシング装置に係
り、特に放電管を有するマイクロ波プラズマ方式のアッ
シング装置に関するものである。
り、特に放電管を有するマイクロ波プラズマ方式のアッ
シング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】放電管を有するマイクロ波プラズマ方式
のアッシング装置としては、例えば、特開昭６４−２５
４２０号公報、特公平１−３９２０８号公報、実開平２
−１２５３３０号公報等に記載のようなものが知られて
いる。
のアッシング装置としては、例えば、特開昭６４−２５
４２０号公報、特公平１−３９２０８号公報、実開平２
−１２５３３０号公報等に記載のようなものが知られて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】配線膜エッチング後の
ホトレジストを除去するアッシング装置はプラズマによ
りレジスト除去を行なっているが、そのほとんどが、時
間設定により行なわれている。
ホトレジストを除去するアッシング装置はプラズマによ
りレジスト除去を行なっているが、そのほとんどが、時
間設定により行なわれている。
【０００４】一方アッシングレートは、アッシング室を
構成する放電管および試料積載電極の温度により変化し
ている。
構成する放電管および試料積載電極の温度により変化し
ている。
【０００５】試料積載電極については、一般的に加熱ヒ
ータにより温度コントロールされているが、放電管は、
一般的に温度コントロールされていない。この為、放電
管内のプラズマにより石英製放電管は時間経過と共に昇
温し、アッシングのレートが早くなる。
ータにより温度コントロールされているが、放電管は、
一般的に温度コントロールされていない。この為、放電
管内のプラズマにより石英製放電管は時間経過と共に昇
温し、アッシングのレートが早くなる。
【０００６】アッシングは一般的に時間設定で行なわれ
ている為、時間経過と共にアッシングレートが変化する
と、試料を連続処理すると、最初と最後ではアッシング
レートが大きく変わる問題があった。又、アッシングレ
ートが遅い場合もある。
ている為、時間経過と共にアッシングレートが変化する
と、試料を連続処理すると、最初と最後ではアッシング
レートが大きく変わる問題があった。又、アッシングレ
ートが遅い場合もある。
【０００７】本発明の目的は、連続処理時においても安
定したエッチングレートを得るアッシング装置を提供す
ることにある。
定したエッチングレートを得るアッシング装置を提供す
ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、マグネトロ
ンから発振されたマイクロ波を導波管及び放電管を経て
アッシング室へ導入するマイクロ波プラズマを用いたア
ッシング装置において、該導波管に設けた空気吹き付け
孔から適量の空気を吹き付ける手段を設けることにより
該放電管の温度を冷却しアッシングレ−トを安定化させ
ることにより、達成できる。
ンから発振されたマイクロ波を導波管及び放電管を経て
アッシング室へ導入するマイクロ波プラズマを用いたア
ッシング装置において、該導波管に設けた空気吹き付け
孔から適量の空気を吹き付ける手段を設けることにより
該放電管の温度を冷却しアッシングレ−トを安定化させ
ることにより、達成できる。
【０００９】
【作用】アッシング装置においてはアッシング室を構成
する放電管の外側が大気である場合においては、温調し
た空気を放電管に吹き付けてこれにより放電管の温度を
一定に保つことができる。
する放電管の外側が大気である場合においては、温調し
た空気を放電管に吹き付けてこれにより放電管の温度を
一定に保つことができる。
【００１０】
【実施例】アッシング室を構成する放電管の温度を一定
に保つ手段としては種々な方法が考えられるが、本発明
は経済的に安価で目的を達成させる事が出来る一実施例
を以下に説明する。又、本一実施例は放電管の昇温を防
ぐ空冷について説明を行う。
に保つ手段としては種々な方法が考えられるが、本発明
は経済的に安価で目的を達成させる事が出来る一実施例
を以下に説明する。又、本一実施例は放電管の昇温を防
ぐ空冷について説明を行う。
【００１１】図１は本発明のアッシング室の構造を示
し、アッシング室チャンバー１と、この場合、石英製の
放電管２および試料４を載せる試料台３により構成さ
れ、マグネトロン５より発振されたマイクロ波は導波管
６を通り、放電管２を通り、アッシング室に導入され
る。一方、アッシング用ガスは、アッシング室チャンバ
ー１の外より、ガス導入口７よりアッシング室に導か
れ、マイクロ波により放電が開始され、プラズマが発生
する。アッシング用ガスおよび試料１の上にあるホトレ
ジストは、排気孔８より真空ポンプにて排気される。
し、アッシング室チャンバー１と、この場合、石英製の
放電管２および試料４を載せる試料台３により構成さ
れ、マグネトロン５より発振されたマイクロ波は導波管
６を通り、放電管２を通り、アッシング室に導入され
る。一方、アッシング用ガスは、アッシング室チャンバ
ー１の外より、ガス導入口７よりアッシング室に導か
れ、マイクロ波により放電が開始され、プラズマが発生
する。アッシング用ガスおよび試料１の上にあるホトレ
ジストは、排気孔８より真空ポンプにて排気される。
【００１２】導波管６には、本発明の空気吹付孔９が取
付けられている。
付けられている。
【００１３】図２は放電管２の温度と放電時間（又は回
数）の関係を示し、○印は放電管２を冷却しない場合
で、放電時間（又は回数）により温度が上昇している。
△印は本発明の放電管２の上部より適量な空気を空気孔
９より吹き付けた場合を示す。
数）の関係を示し、○印は放電管２を冷却しない場合
で、放電時間（又は回数）により温度が上昇している。
△印は本発明の放電管２の上部より適量な空気を空気孔
９より吹き付けた場合を示す。
【００１４】図３は放電管２の温度とアッシングレート
の関係を示したもので、○印は空冷しない現状の場合を
示し、△印は本発明の放電管２の上部より適量な空気を
空気孔９より吹き付けた場合を示す。
の関係を示したもので、○印は空冷しない現状の場合を
示し、△印は本発明の放電管２の上部より適量な空気を
空気孔９より吹き付けた場合を示す。
【００１５】尚、放電管の温調手段としては、上記一実
施例に特に限定されるものではない。また、放電管の温
度と計測する手段を備え、該計測手段による計測値に基
づいて放電管の温度をフィードバック制御するように構
成しても良い。
施例に特に限定されるものではない。また、放電管の温
度と計測する手段を備え、該計測手段による計測値に基
づいて放電管の温度をフィードバック制御するように構
成しても良い。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、連続処理時においても
安定したアッシングレートを確保することができて、更
にアッシングレートの均一性を安定して得られる効果が
ある。
安定したアッシングレートを確保することができて、更
にアッシングレートの均一性を安定して得られる効果が
ある。
【００１７】又、加温した適量の空気を吹き付けること
によりアッシングレートを高めることができるという効
果もある。
によりアッシングレートを高めることができるという効
果もある。
【図１】図１は、本発明の一実施例のアッシング装置の
アッシング室部の縦断面図である。
アッシング室部の縦断面図である。
【図２】図２は、放電管の温度上昇と放電時間（又は回
数）との相関を示す実験線図である。
数）との相関を示す実験線図である。
【図３】図３は、放電管の温度上昇とアッシングレート
の相関を示す実験線図である。
の相関を示す実験線図である。
２…放電管、３…試料台、４…試料、５…マグネトロ
ン、６…導波管、７…ガス導入口、９…放電管冷却用空
気導入孔。
ン、６…導波管、７…ガス導入口、９…放電管冷却用空
気導入孔。
Claims (1)
- 【請求項１】マグネトロンから発振されたマイクロ波を
導波管及び放電管を経てアッシング室へ導入するマイク
ロ波プラズマを用いたアッシング装置において、 該導波管に設けた空気吹き付け孔から適量の空気を吹き
付ける手段を設けることにより該放電管の温度を冷却し
アッシングレ−トを安定化させることを特徴とするアッ
シング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3132605A JP2728574B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | アッシング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3132605A JP2728574B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | アッシング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04357831A JPH04357831A (ja) | 1992-12-10 |
| JP2728574B2 true JP2728574B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=15085246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3132605A Expired - Lifetime JP2728574B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | アッシング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2728574B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2644758B2 (ja) * | 1987-07-22 | 1997-08-25 | 株式会社日立製作所 | レジスト除去方法及び装置 |
| JPH0283922A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-03-26 | Hitachi Ltd | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
-
1991
- 1991-06-04 JP JP3132605A patent/JP2728574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04357831A (ja) | 1992-12-10 |
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