JP2688331B2 - Substrate processing equipment - Google Patents

Substrate processing equipment

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JP2688331B2
JP2688331B2 JP27027894A JP27027894A JP2688331B2 JP 2688331 B2 JP2688331 B2 JP 2688331B2 JP 27027894 A JP27027894 A JP 27027894A JP 27027894 A JP27027894 A JP 27027894A JP 2688331 B2 JP2688331 B2 JP 2688331B2
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holding rod
substrate holding
processed
housing
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Inventor
浩 佐々木
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大日本スクリーン製造株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板や液晶表示
装置用のガラス基板等のような各種の薄板状基板(以
下、被処理基板と称する)の水洗後における表面乾燥処
理などに用いる基板処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate used for surface drying treatment after washing various thin plate-like substrates (hereinafter referred to as substrates to be treated) such as semiconductor substrates and glass substrates for liquid crystal display devices with water. Regarding a processing device.
【0002】[0002]
【従来の技術】このような基板処理装置として、例えば
特開昭60−59740号公報で開示されているよう
に、遠心脱水式の水切り乾燥装置が知られている。この
水切り乾燥装置の概略は、図6および図7に示すよう
に、ケーシング31内にモータ32によって縦軸心で高速回
転されるロータ33が設けられ、このロータ33に、水洗処
理された多数の被処理基板W群を適当間隔で並列収納し
た複数個のキャリア34を被処理基板表面が上下に並ぶ姿
勢にして、ロータ回転中心の周りに装着固定し、ロータ
33を高速回転することで被処理基板表面の水分を遠心分
離し、かつ、ロータ33の下部に備えたファン35によっ
て、ケーシング31上部の吸気口36から取り入れた清浄空
気もしくは不活性ガスをケーシング31周部の排気口37へ
強制排出することで、被処理基板表面の乾燥を促進する
とともに、被処理基板Wから離散した水分を排気ととも
に速やかに排出して被処理基板Wに再付着するのを防止
するように構成されている。
2. Description of the Related Art As such a substrate processing apparatus, a centrifugal dehydration type draining and drying apparatus is known as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-59740. As shown in FIG. 6 and FIG. 7, the outline of this drainer / dryer is provided with a rotor 33 in a casing 31 which is rotated at a high speed by a motor 32 in a vertical axis, and the rotor 33 has a large number of rinsed water. A plurality of carriers 34, in each of which a group of substrates W to be processed are accommodated in parallel at appropriate intervals, are mounted and fixed around the center of rotation of the rotor in a posture in which the surfaces of the substrates to be processed are vertically aligned.
By rotating the 33 at a high speed, the water on the surface of the substrate to be processed is separated by centrifugal force, and the clean air or the inert gas introduced from the intake port 36 in the upper part of the casing 31 is removed by the fan 35 provided in the lower part of the rotor 33. By forcibly discharging to the exhaust port 37 at the peripheral portion, drying of the surface of the substrate to be processed is promoted, and moisture separated from the substrate to be processed W is quickly discharged together with exhaust to be reattached to the substrate to be processed W. Configured to prevent.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来装置は被処理基板が収納されたキャリアをロータ回転
中心から離れた個所に設置して遠心脱水を行うものであ
るから、被処理基板自体にも相当大きい遠心力が働くこ
とになり、例えば図7においてキャリア内面の収納溝に
治められている被処理基板Wに作用する遠心力が被処理
基板Wを収納溝の内奥側に食い込むように働くことにな
る。
However, in the above-mentioned conventional apparatus, the carrier containing the substrate to be processed is installed at a position away from the center of rotation of the rotor for centrifugal dehydration. A considerably large centrifugal force acts, and for example, the centrifugal force acting on the substrate W to be processed, which is controlled by the storage groove on the inner surface of the carrier in FIG. 7, acts so as to bite the substrate W into the inner side of the storage groove. It will be.
【0004】特に、脱水開始時にロータ加速を急激に行
うと被処理基板と収納溝との係合部位に異常な応力が発
生して、被処理基板の欠損や破損が生じやすく、この傾
向は大径の被処理基板の場合に一層顕著である。
In particular, when the rotor is rapidly accelerated at the start of dehydration, an abnormal stress is generated in the engaging portion between the substrate to be processed and the storage groove, and the substrate to be processed is apt to be damaged or broken. It is more remarkable in the case of a substrate having a diameter.
【0005】被処理基板の欠損や破損を回避しようとす
れば、ロータの加速を緩慢に行う必要があり、そうする
とロータの起動立ち上がり時間を含めて処理時間が長く
かかるという別異の問題点を生じる。
In order to avoid the loss or damage of the substrate to be processed, it is necessary to slowly accelerate the rotor, which causes another problem that the processing time is long including the start-up time of the rotor. .
【0006】また、この従来装置では、対向配置される
キャリアにそれぞれ収納される被処理基板の枚数が異な
ると、ロータの回転中心に対する重量バランスが崩れて
ロータ自体の振動原因となるので、被処理基板の装填に
も注意を要するという問題点がある。
Further, in this conventional apparatus, if the number of substrates to be processed stored in the carriers arranged opposite to each other is different, the weight balance with respect to the center of rotation of the rotor is disturbed, which causes vibration of the rotor itself. There is also a problem that attention must be paid to the loading of the substrate.
【0007】また、従来装置ではキャリアを介して被処
理基板をロータに装填するものであるため、たとえ脱水
乾燥処理以前の処理工程がキャリアを用いないもの(キ
ャリアレス)となっていても、この乾燥工程では被処理
基板をキャリアに移し替えることが必要となって、その
ための装置手段および工程が複雑化し処理工程のキャリ
アレス化の弊害になっていた。
Further, in the conventional apparatus, since the substrate to be processed is loaded on the rotor via the carrier, even if the processing step before the dehydration / drying processing is a carrier-free one, this In the drying process, it is necessary to transfer the substrate to be processed to a carrier, which complicates the device means and process, which is a detriment to making the processing process carrierless.
【0008】因みに、前記キャリアレス処理は、耐薬品
性のキャリアの不要化、処理工程間での被処理基板のキ
ャリアへの移し替え作業の省略、キャリア内での処理液
の流動悪化に伴う処理ムラ発生の回避などの理由によ
り、最近の半導体製造分野などで特に要望の高いもので
ある。
By the way, the carrierless process is a process that requires no chemical-resistant carrier, omits the work of transferring a substrate to be processed to a carrier between process steps, and causes deterioration of the flow of a process liquid in the carrier. It is particularly highly demanded in the recent semiconductor manufacturing field for reasons such as avoiding unevenness.
【0009】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであって、被処理基板自体に作用する遠心力による
欠損や破損を防止するのに有効であるとともに、被処理
基板装填時の取り扱い性が良く、かつ、キャリアレス化
に対応することができる基板処理装置を提供することを
目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is effective in preventing loss or damage due to centrifugal force acting on the substrate to be processed, and handling at the time of loading the substrate to be processed. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus which has good properties and can be made carrierless.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明に係る基板処理装置は、複数枚の被処理基板
をその下方外周縁で直接的に支持して対面並列状に立設
保持する基板保持杆と、基板上方外周縁を直接的に支持
する支持位置と基板保持杆上への基板出入りを許す後退
位置とに位置変更可能な可動基板保持杆と、基板保持杆
および可動基板保持杆を支持して被処理基板群の重心近
くを通る回転軸心周りで回転可能な両軸支持構造の一対
の回転軸と、上記基板保持杆と可動基板保持杆と回転軸
とを備えるロータと、前記ロータを収納し、上方に開閉
可能なカバーを有するハウジングと、前記回転軸を回
駆動する駆動機構と、前記ハウジングのカバーが開放さ
れた状態において、その開放部分から、基板を直接的に
挟持してハウジング内部に進入して前記基板保持杆上に
基板のみを渡し、また、前記基板保持杆上の基板を直接
的に挟持してハウジング内部から基板のみを搬出する基
板搬送機構と、を備えたものである。
The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. That is, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a substrate holding rod that directly supports a plurality of substrates to be processed at their lower outer peripheral edges and vertically holds them in a face-to-face parallel manner, and a substrate upper outer peripheral edge directly. A movable substrate holding rod that can be repositioned to a supporting position for supporting and a retracted position that allows the substrate to move in and out of the substrate holding rod, and to support the substrate holding rod and the movable substrate holding rod to pass near the center of gravity of the substrate group to be processed. A pair of rotating shafts of a biaxial support structure rotatable about the rotating shaft center, a rotor including the substrate holding rod, the movable substrate holding rod, and a rotating shaft , a rotor housing the rotor, and a cover that can be opened and closed upward. a housing having a drive mechanism for the to the rotation axis rotation drive, in a state where the cover of the housing is opened, from the open portion, enters inside the housing in direct <br/> sandwich the substrate of the substrate to the substrate holding杆上The pass, also a substrate of the substrate holding杆上directly
And a substrate transfer mechanism that holds out the substrate only from the inside of the housing.
【0011】[0011]
【作用】本発明の作用は次のとおりである。基板保持杆
に外周縁を支持されて回転される被処理基板群は、その
重心近くを通る軸心周りで両軸を支持して回転するの
で、被処理基板自体に働く遠心力による反作用として、
被処理基板が基板保持杆から受ける抗力は極めて小さ
く、万一回転ムラが生じたり、急激に回転加速しても、
被処理基板の基板保持杆との接触部位に異常な応力が発
生することはない。
The operation of the present invention is as follows. The substrate group to be processed which is rotated while being supported on the outer peripheral edge of the substrate holding rod rotates by supporting both shafts around an axis passing near the center of gravity of the substrate.
The drag force applied to the substrate to be processed from the substrate holding rod is extremely small, and even if uneven rotation occurs or sudden rotation acceleration occurs,
No abnormal stress is generated in the contact portion of the substrate to be processed with the substrate holding rod.
【0012】また、基板保持杆に装填する被処理基板の
枚数、配列も回転振動を与える原因にならない。さら
に、上方に開閉可能なカバーを有するハウジング内で、
被処理基板が、その下方外周縁を基板保持杆で対面並列
状に安定的に支持され、上方外周縁を可動基板保持杆で
基板が出入りできるように位置変位可能に支持されてい
るので、同じく対面並列状の基板群を基板搬送機構で一
括挟持して吊り下げ移送しながら各処理を施してゆくキ
ャリアレスの処理ラインに容易に導入することができ
る。
Further, the number and arrangement of substrates to be processed loaded on the substrate holding rod do not cause rotational vibration. Furthermore, in a housing having a cover that can be opened and closed upwards,
The lower outer edge of the substrate to be processed is stably supported by the substrate holding rod in a face-to-face parallel manner, and the upper outer edge is supported by the movable substrate holding rod so that the substrate can be moved in and out. It can be easily introduced into a carrierless processing line in which a group of substrates arranged in parallel in a face-to-face manner are collectively clamped by a substrate transfer mechanism and are hung and transferred while performing each processing.
【0013】ハウジング内への基板搬入時には、カバー
を開放するとともに、可動基板保持杆を後退位置に変位
させておく。基板群のみを一括挟持した基板搬送機構
は、カバーの開放部分からハウジング内に進入して、基
板保持杆上に基板群のみを受け渡す。その後、可動基板
保持杆が支持位置に戻って基板群が直接的に保持され
る。一方、ハウジング内からの基板搬出時には、基板搬
入時と同様にカバーを開放するとともに、可動基板保持
杆を後退位置に変位させておき、カバーの開放部分から
進入した基板搬送機構が基板保持杆上の基板群のみを一
括挟持してハウジング外へ搬出する。
When the substrate is carried into the housing, the cover is opened and the movable substrate holding rod is displaced to the retracted position. Substrate transfer mechanism collectively sandwiched only board group, enters from the open portion of the cover to the housing, and passes only the substrate groups to the substrate holding杆上. After that, the movable substrate holding rod returns to the supporting position and the substrate group is directly held. On the other hand, when the substrate is unloaded from the housing, the cover is opened as in the case of loading the substrate, the movable substrate holding rod is displaced to the retracted position, and the substrate transfer mechanism that has entered from the open part of the cover raises the substrate holding rod. unloading outside housing groups of the substrate only collectively sandwiched.
【0014】[0014]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。第1実施例 図1ないし図3は本発明の第1実施例に係り、図1は装
置全体の縦断側面図、図2および図3はそれぞれ図1中
の02−02線および03−03線での断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First Embodiment FIGS. 1 to 3 relate to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a vertical sectional side view of the entire apparatus, and FIGS. 2 and 3 are lines 02-02 and 03-03 in FIG. 1, respectively. FIG.
【0015】この基板処理装置は、基本的には、上部が
開閉自在な箱形に構成されたハウジング1、半導体基板
のような被処理基板Wを横向きに並列支持してハウジン
グ1内で水平な回転軸心P周りに回転するロータ2、ハ
ウジング1の一端側において前記ロータ2を駆動する駆
動機構3、および被処理基板Wを搬送する基板搬送機構
(図3の一対の挟持アーム21)とからなる。
In this substrate processing apparatus, basically, a box-shaped housing 1 whose upper portion can be opened and closed, and a substrate W to be processed such as a semiconductor substrate are horizontally supported side by side in a horizontal direction in the housing 1. From the rotor 2 that rotates around the rotation axis P, the drive mechanism 3 that drives the rotor 2 on one end side of the housing 1, and the substrate transfer mechanism that transfers the substrate W to be processed (a pair of holding arms 21 in FIG. 3). Become.
【0016】ロータ2は、ハウジング1両側に軸受4を
介して同軸心上に配備された一対の回転軸5と、各回転
軸5の先端にそれぞれ固定した大径のフライホイール6
と、両フライホイール6間にわたって架設固定された一
対の基板保持杆7と、各フライホイール6の外側面に支
点8(図2参照)を中心に揺動自在に枢支連結したアー
ム9と、両アーム9間にわたって架設固定された可動基
板保持杆10とから構成されている。また、前記駆動機構
3はモータ11と、その出力を一方の回転軸5に伝えるベ
ルト12とからなっている。
The rotor 2 has a pair of rotating shafts 5 arranged coaxially on both sides of the housing 1 via bearings 4, and a large-diameter flywheel 6 fixed to the tip of each rotating shaft 5.
A pair of substrate holding rods 7 that are erected and fixed across both flywheels 6, and an arm 9 that is pivotally connected to the outer surface of each flywheel 6 about a fulcrum 8 (see FIG. 2). It is composed of a movable substrate holding rod 10 which is erected and fixed across both arms 9. The drive mechanism 3 includes a motor 11 and a belt 12 that transmits the output of the motor 11 to one of the rotating shafts 5.
【0017】基板保持杆7の回転軸心P側の面には、被
処理基板Wの外周縁を位置決め係入する係入溝13が一定
ピッチで刻設されるとともに、可動基板保持杆10にも同
様な係入溝14が形成されていて、これら基板保持杆7,
10で被処理基板Wの外周縁の3箇所を支持して、基板重
心が回転軸心P上に位置するところで保持するようにな
っている。
Engaging grooves 13 for positioning and engaging the outer peripheral edge of the substrate W to be processed are engraved at a constant pitch on the surface of the substrate holding rod 7 on the side of the rotation axis P, and the movable substrate holding rod 10 is provided. Also has a similar engaging groove 14, and these substrate holding rods 7,
At 10, the outer peripheral edge of the substrate W to be processed is supported at three points and held at the position where the center of gravity of the substrate is located on the rotation axis P.
【0018】この可動基板保持杆10は、基板保持杆7上
に並列保持された被処理基板Wを上方から支える支持位
置と、図2中の仮想線で示すように基板保持杆7上に被
処理基板Wを出入れできる後退位置とに移動可能であ
り、かつ、アーム9とフライホイール6とにわたって取
り付けられたバネ15の張力で常時支持位置側に回動付勢
されている。また、ハウジング1に固定したエアーシリ
ンダ16が前記アーム9の基端側延長部に対向配置されて
いて、このエアーシリンダ16を伸長作動させてアーム9
をバネ15に抗して強制回動することによって、可動基板
保持杆10を後退位置にまで変位させるように構成されて
いる。
The movable substrate holding rod 10 has a supporting position for supporting the substrates W to be processed held in parallel on the substrate holding rod 7 from above and a substrate holding rod 7 to be held on the substrate holding rod 7 as shown by a virtual line in FIG. The processing substrate W can be moved to a retracted position where it can be taken in and out, and is constantly urged to rotate toward the support position by the tension of a spring 15 mounted over the arm 9 and the flywheel 6. Further, an air cylinder 16 fixed to the housing 1 is disposed so as to oppose the extension portion on the base end side of the arm 9, and the air cylinder 16 is extended and operated to extend the arm 9.
The movable substrate holding rod 10 is configured to be displaced to the retracted position by forcibly rotating the lever against the spring 15.
【0019】また、ハウジング1の上面には、エアーシ
リンダなどの適宜駆動手段で開閉されるカバー17がロー
タ全長にわたって設けられている。なお、このカバー17
はロータ作動中に不用意に開かないようにインターロッ
クされるようになっている。
Further, on the upper surface of the housing 1, a cover 17 which is opened and closed by appropriate driving means such as an air cylinder is provided over the entire length of the rotor. In addition, this cover 17
Is interlocked to prevent accidental opening during rotor operation.
【0020】また、ハウジング1の上部適当個所には、
清浄空気または不活性ガスが流入するフィルタ付きの吸
気口18が設けられるとともに、ハウジング1の側部には
減圧手段に接続された排気口19が設けられ、また、ロー
タ2の下部には排液口20が設けられている。
Further, at an appropriate place on the upper part of the housing 1,
An intake port 18 with a filter into which clean air or an inert gas flows is provided, an exhaust port 19 connected to a pressure reducing means is provided at a side portion of the housing 1, and a drainage liquid is provided at a lower portion of the rotor 2. A mouth 20 is provided.
【0021】なお、フライホイール6は、重い方が慣性
力が大きくて安定して被処理基板を回転できて好ましい
が、慣性力を期待せずに単なるホイールであってもよ
い。また、フィルタはカバー17の図示していない開口部
に付設してもよく、さらに、カバー17にのぞき窓を付設
してもよい。
The flywheel 6 is preferably heavier because it has a large inertial force and can rotate the substrate to be processed stably, but it may be a simple wheel without expecting an inertial force. Further, the filter may be provided at an opening (not shown) of the cover 17, and a viewing window may be provided at the cover 17.
【0022】次にこの装置の動作を説明する。被処理基
板Wは、この装置に供給される前に縦向きの対面並列状
態で基板搬送機構である左右一対の挟持アーム21(図3
参照)に挟持されて、例えば浸漬型表面処理槽内に移さ
れ、所要の表面処理を行い、次に純水洗浄処理を受けた
後に、そのままこの装置の上部に吊り下げ搬送されてく
る。
Next, the operation of this device will be described. Before the substrate W to be processed is supplied to the apparatus, the pair of left and right holding arms 21 (FIG.
After being subjected to a desired surface treatment, and then subjected to pure water cleaning treatment, it is hung and conveyed as it is to the upper part of this apparatus.
【0023】このとき、ハウジング1のカバー17は開放
されているとともに、ロータ2は基板保持杆7が回転軸
心Pの下側に位置する所の回転位相(以下、セット位相
と称する)にセットされ、かつ、可動基板保持杆10は後
退位置に強制移動されている。なお、ロータ2のセット
位相検出は、回転軸5の一端に付設したスリット付の円
板22(図1参照)と、これに対応するフォトインタラプ
タ23とを備えた位相検出手段によって行われる。ま
た、セット位相にあるロータ2は図示しないブレーキ装
置またはロック機構により固定され、基板出入れ中の不
用意な回転が防止されている。
At this time, the cover 17 of the housing 1 is opened, and the rotor 2 is set to a rotation phase (hereinafter referred to as a set phase) where the substrate holding rod 7 is located below the rotation axis P. The movable substrate holding rod 10 is forcibly moved to the retracted position. The set phase detection of the rotor 2 is performed by a phase detection means provided with a disk 22 with a slit (see FIG. 1) attached to one end of the rotary shaft 5 and a photo interrupter 23 corresponding thereto. In addition, the rotor 2 in the set phase is fixed by a brake device or a lock mechanism (not shown) to prevent accidental rotation while the substrate is being moved in and out.
【0024】このようなセット状態にあるロータ2の上
方より挟持アーム21で挟持された被処理基板Wが下降供
給され、各被処理基板Wが基板保持杆7の係入溝13にそ
れぞれ個別に係入されると、挟持アーム21は挟持解除さ
れたのち上昇後退される。
The substrate W to be processed sandwiched by the sandwiching arm 21 is supplied downward from above the rotor 2 in the set state, and each substrate W to be processed is individually inserted into the engaging groove 13 of the substrate holding rod 7. When engaged, the holding arm 21 is lifted and retracted after being released from the holding.
【0025】次に、エアーシリンダ16が短縮作動されて
可動基板保持杆10がバネ付勢力で被処理基板W群を上方
より押さえ込むことにより、被処理基板W群は外周縁の
3箇所からの支持によって安定的に保持される。
Next, the air cylinder 16 is shortened and the movable substrate holding rod 10 presses the substrate W group to be processed from above by the spring biasing force, so that the substrate W group is supported from three locations on the outer peripheral edge. Is held stable by.
【0026】その後、ロータ2の固定が解除されるとと
もに、カバー17が閉じてロックされた後、ハウジング1
内を強制換気した状態でロータ2が高速で回転駆動され
ることにより、被処理基板Wの表面に付着している水分
が遠心除去されるのである。
After that, the fixing of the rotor 2 is released, and the cover 17 is closed and locked.
The rotor 2 is rotationally driven at a high speed while the inside is forcibly ventilated, so that the water adhering to the surface of the target substrate W is centrifugally removed.
【0027】水切り乾燥が完了すると、再びロータ2を
セット位相で固定し、可動基板保持杆10を後退させたの
ち、挟持アーム21によって処理済み基板Wを取り出し、
続いて新しい被処理基板Wの装填を行う。
Upon completion of draining and drying, the rotor 2 is fixed again in the set phase, the movable substrate holding rod 10 is retracted, and the processed substrate W is taken out by the holding arm 21.
Subsequently, a new substrate W to be processed is loaded.
【0028】挟持アーム21によって、本装置から取り出
された処理済み基板Wは、図示していない搬送専用キャ
リアに移し替えられ、この搬送専用キャリアによって次
の所要の工程へ搬送される。
The processed substrate W taken out of the apparatus is transferred to a carrier for carrier (not shown) by the holding arm 21, and is carried to the next required step by this carrier for carrier.
【0029】第2実施例 図4は本発明の第2実施例に係る縦断面図を示してい
る。この実施例においては、ハウジング1の内部にロー
タ2を囲むように多数の整流板24が適当角度をもってロ
ータの軸心と平行に架設されている。この整流板24によ
って被処理基板Wから遠心分離されて離散した水分ミス
トがハウジング1内ではね返って被処理基板Wに再付着
するのを防止することができる。
Second Embodiment FIG. 4 is a vertical sectional view according to the second embodiment of the present invention. In this embodiment, a number of rectifying plates 24 are installed inside the housing 1 so as to surround the rotor 2 in parallel with the axis of the rotor at an appropriate angle. This rectifying plate 24 can prevent the water mist separated by centrifugation from the substrate W to be processed from repelling inside the housing 1 and reattaching to the substrate W to be processed.
【0030】なお、前記整流板24群のうちロータ2の上
方にあるものはカバー17の内面に取り付け付設した縦板
状のステー25に支持され、カバー17と一体に開放され
る。また、他のものはハウジング1の内壁面に設けられ
た縦板状のステー26に支持される。整流板24は図4の形
状に限定せず、例えばパンチプレートを配設してもよ
い。
The group of rectifying plates 24 above the rotor 2 is supported by a vertical plate-shaped stay 25 attached to the inner surface of the cover 17, and is opened integrally with the cover 17. The other components are supported by a vertical plate-like stay 26 provided on the inner wall surface of the housing 1. The current plate 24 is not limited to the shape shown in FIG. 4, and a punch plate may be arranged, for example.
【0031】第3実施例 図5は、本発明を、例えば液晶表示装置用のガラス基板
またはフォトマスクなどの角形の被処理基板Wの処理に
適用するための実施例の要部が示されている。この実施
例では、被処理基板Wは2本の可動基板保持杆10によっ
て上方から支持されている。他の構成については、第1
実施例と同様であるから、ここでの説明は省略する。
Third Embodiment FIG. 5 shows the essential part of an embodiment for applying the present invention to the processing of a rectangular substrate W to be processed such as a glass substrate for a liquid crystal display device or a photomask. There is. In this embodiment, the substrate W to be processed is supported from above by two movable substrate holding rods 10. For other configurations, first
Since it is similar to the embodiment, the description thereof is omitted here.
【0032】その他の実施例 本発明は、次のような構成のものも実施例として含む。 可動基板保持杆10の基板押え面をシリコーンゴムな
どの弾性材で構成した場合には、係入溝14は必ずしも必
要でない。
Other Embodiments The present invention also includes embodiments having the following configurations. When the substrate pressing surface of the movable substrate holding rod 10 is made of an elastic material such as silicone rubber, the engaging groove 14 is not always necessary.
【0033】 ハウジング1の内面にスポンジ状の水
滴吸収部材を貼着して、この部材の衝撃吸収作用によっ
て、飛散ミストのはね返りを防止することも有効であ
る。
It is also effective to attach a sponge-like water droplet absorbing member to the inner surface of the housing 1 and prevent the splashing of the scattered mist by the impact absorbing action of this member.
【0034】 ロータ2に保持された被処理基板Wに
純水を散布供給するノズルをハウジング1内に設けて、
回転中の基板表面を洗浄する形態で実施することもでき
る。
A nozzle for spraying pure water to the substrate W to be processed held by the rotor 2 is provided in the housing 1,
It can also be carried out in a form of cleaning the surface of the rotating substrate.
【0035】 純水噴出ノズルを基板保持杆7の各係
入溝13の間に設けるとともに、このノズルに連通する導
水孔を回転軸5,フライホイール6,基板保持杆7の内
部に形成して、被処理基板Wの主表面を洗浄することも
可能である。
A pure water jet nozzle is provided between the engaging grooves 13 of the substrate holding rod 7, and a water guide hole communicating with this nozzle is formed inside the rotary shaft 5, the flywheel 6, and the substrate holding rod 7. It is also possible to clean the main surface of the substrate W to be processed.
【0036】 第1実施例において、セット位相にお
けるロータ2の基板保持杆7間で昇降可能な中継用の支
持杆をハウジング1の底部に設けるとともに、この支持
杆の上面に基板保持杆7の係入溝13と同一ピッチの基板
収納溝を形成し、挟持アーム21と基板保持杆7との間で
の基板受け渡しの位置決め中継をこの支持杆で行わせる
ことも可能である。
In the first embodiment, a relay support rod that can be moved up and down between the substrate holding rods 7 of the rotor 2 in the set phase is provided on the bottom of the housing 1, and the substrate holding rod 7 is attached to the upper surface of the support rod. It is also possible to form a substrate accommodating groove having the same pitch as the insertion groove 13 and to perform positioning relay of substrate transfer between the holding arm 21 and the substrate holding rod 7 by this supporting rod.
【0037】[0037]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、次の効果が発揮される。 被処理基板群をその重心近くを中心に両軸を支持し
て回転させるので、基板自体に作用する遠心力がバラン
スして、遠心力による反作用として被処理基板群が基板
保持杆から受ける抗力は極めて小さくなるので、保持杆
の支持部位での異常応力による被処理基板の欠損や破損
が生じない。また、回転加速を急激に行っても回転軸心
がブレないので、破損のおそれがなく、したがって、起
動時に定格回転までの移行時間を短縮して処理時間全体
を短縮するのに有効となる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the following effects are exhibited. Since the substrate group to be processed is rotated by supporting both axes around the center of gravity, the centrifugal force acting on the substrate itself is balanced, and the reaction force due to the centrifugal force exerted on the substrate group by the substrate holding rod is a reaction force. Since the size is extremely small, the substrate to be processed is not damaged or broken due to abnormal stress at the supporting portion of the holding rod. Further, even if the rotational acceleration is rapidly performed, the rotational axis is not shaken, so that there is no possibility of breakage. Therefore, it is effective to reduce the transition time to the rated rotation at the time of starting and to shorten the entire processing time.
【0038】 ロータに装填する基板の配列、枚数が
異なっても、回転軸心周りの回転バランスに変化がな
く、回転軸心の周囲に配置装填する従来装置のように、
装填時のアンバランスによる異常振動の発生およびそれ
による基板の破損などの問題が生じないので、処理品質
が向上する。
Even if the arrangement and the number of substrates to be loaded on the rotor are different, there is no change in the rotation balance around the rotation axis, and unlike the conventional apparatus that is arranged and loaded around the rotation axis,
Since there is no problem such as the occurrence of abnormal vibration due to imbalance during loading and damage to the substrate due to this, processing quality is improved.
【0039】 キャリアを用いる必要がないので、従
来の回転式表面処理装置のようにキャリアを90°回転さ
せる機構が不要になり、装置の構造が簡易になり、ま
た、キャリアレスの処理ラインに本装置を導入すること
で、ライン性能を最大限に発揮させることが可能とな
る。
Since there is no need to use a carrier, a mechanism for rotating the carrier by 90 ° unlike the conventional rotary type surface treatment apparatus is not required, and the structure of the apparatus is simplified. By introducing the equipment, it is possible to maximize the line performance.
【0040】 基板搬送機構に一括挟持された基板群
は、ハウジング内に搬入され、洗浄後再び基板搬送機構
に一括挟持されハウジング外部に搬出されるので、キャ
リアレスの処理ラインの基板搬送を自動化することが可
能である。
The group of substrates collectively clamped by the substrate transport mechanism is carried into the housing, and after cleaning is collectively clamped by the substrate transport mechanism and carried out of the housing, the substrate transport of the carrierless processing line is automated. It is possible.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】第1実施例装置の全体の縦断側面図である。FIG. 1 is a vertical sectional side view of an entire first embodiment device.
【図2】図1における02−02線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line 02-02 in FIG.
【図3】図1における03−03線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line 03-03 in FIG.
【図4】第2実施例の縦断正面図である。FIG. 4 is a vertical sectional front view of the second embodiment.
【図5】第3実施例の要部正面図である。FIG. 5 is a front view of the main parts of the third embodiment.
【図6】従来例の概略縦断面図である。FIG. 6 is a schematic vertical sectional view of a conventional example.
【図7】従来例の概略平面図である。FIG. 7 is a schematic plan view of a conventional example.
【符号の説明】[Explanation of symbols]
3…駆動機構 5…回転軸 7…基板保持杆 10…可動基板保持杆 13…係入溝 21…挟持アーム P…回転軸心 W…被処理基板 3 ... Drive mechanism 5 ... Rotating shaft 7 ... Substrate holding rod 10 ... Movable substrate holding rod 13 ... Engagement groove 21 ... Clamping arm P ... Rotating shaft center W ... Substrate to be processed

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】(57) [Claims]
  1. 【請求項1】 複数枚の被処理基板をその下方外周縁で
    直接的に支持して対面並列状に立設保持する基板保持杆
    と、 基板上方外周縁を直接的に支持する支持位置と基板保持
    杆上への基板出入りを許す後退位置とに位置変更可能な
    可動基板保持杆と、 基板保持杆および可動基板保持杆を支持して被処理基板
    群の重心近くを通る回転軸心周りで回転可能な両軸支持
    構造の一対の回転軸と、 上記基板保持杆と可動基板保持杆と回転軸とを備えるロ
    ータと、 前記ロータを収納し、 上方に開閉可能なカバーを有する
    ハウジングと、 前記回転軸を回転駆動する駆動機構と、 前記ハウジングのカバーが開放された状態において、そ
    の開放部分から、基板を直接的に挟持してハウジング内
    部に進入して前記基板保持杆上に基板のみを渡し、ま
    た、前記基板保持杆上の基板を直接的に挟持してハウジ
    ング内部から基板のみを搬出する基板搬送機構と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
    1. A plurality of substrates to be processed are provided on the lower outer peripheral edge thereof.
    Directly with the substrate holding rod erected held in facing parallel-like support to, a repositionable into a retracted position that allows the substrate and out of the support position and the substrate holding杆上that directly support the substrate above the outer periphery A movable substrate holding rod, a pair of rotating shafts of a biaxial support structure that supports the substrate holding rod and the movable substrate holding rod and is rotatable about an axis of rotation that passes near the center of gravity of the substrate group to be processed, and the substrate holding rod. and a rotor and a movable substrate holding rod rotating shaft, to accommodate the rotor, a housing having an openable cover upward, and a drive mechanism for the rotary shaft rotary driving, the cover of the housing is opened In this state, the substrate is directly clamped from the open portion to enter the inside of the housing, and only the substrate is passed on the substrate holding rod, and the substrate on the substrate holding rod is directly clamped. From inside the housing The substrate processing apparatus characterized by comprising: a substrate transfer mechanism for unloading only the plate, the.
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