JP2670402B2 - 高分子量スチレン系重合体の製造方法 - Google Patents

高分子量スチレン系重合体の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、重量平均分子量が80
万以上の高分子量のスチレン系重合体の製造方法に関す
るものある。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】静電荷像
を乾式現像するためのトナー用ポリマーとしては、着色
剤を分散含有させたスチレン系重合体の微粒子が用いら
れている。このトナー用ポリマーとしては、定着性、耐
オフセット性の向上の観点から、分子量分布の広いスチ
レン系の重合体が望ましいことが知られている。広い分
子量分布のスチレン系重合体を得るために、低分子量重
合体と高分子量重合体をそれぞれ異なる重合条件下で作
成して組み合わせる方法が提案されている(特公昭55
−6895号公報、及び特開昭63−223014号公
報)。近年、写真、印刷技術の高度化に伴いトナー用ス
チレン系重合体も更に分子量分布の広いものが求められ
ており、低分子量重合体の分子量はより低く、高分子量
重合体の分子量はより高くする必要性が生じている。
【0003】ところが、低分子量重合体の分子量を更に
低くすることは、重合開始剤や連鎖移動剤の添加量を増
やしたり、溶媒の存在下で重合することにより比較的容
易に実現可能であるが、高分子量重合体の分子量を更に
高くすること、具体的にはGPC(Gel Perme
ation Chromatography)で測定し
た重量平均分子量が80万以上の非常に高分子量のスチ
レン系重合体を安定的に得る方法は未だに確立されてい
ないのが現状である。
【0004】スチレン系重合体を懸濁重合法により製造
する場合、一般にラジカル重合開始剤としてベンゾイル
パーオキサイドが使用さる。重合温度としては、充分に
遊離ラジカルを発生させて開始反応を引き起こすよう
に、ベンゾイルパーオキサイドの分解温度(ベンゼン中
における10時間半減期温度)以上の温度領域の80〜
100℃が選ばれる。また、重合体の分子量の調整は、
専らベンゾイルパーオキサイドの添加量の増減によって
行なわれ、高分子量のものを得るには減らし、逆に低分
子量のものを得るには増やす。重合開始剤は、通常、ス
チレン系単量体に対して0.1〜0.5重量%使用され
る。このようにして、得られるスチレン系重合体の重量
平均分子量は10〜60万程度である。
【0005】本発明者等は、このような事情のもとで、
重量平均分子量80万以上の高分子量重合体を得ること
を目的として、ベンゾイルパーオキサイドの添加量を
0.1重量%以下にして重合する方法を試みた。しか
し、重合の途中でそのほとんどが分解消費され、遊離ラ
ジカルの発生が無くなって重合がストップする所謂デッ
ドエンド重合になってしまい、所望する非常に高分子量
の重合体は得られなかった。このことは、ベンゾイルパ
ーオキサイド以外のラジカル重合開始剤、t−ブチルパ
ーオキシ2−エチルヘキサノエートやt−ブチルパーオ
キシイソブチレート等を使用しても全く同様であった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は重量平均分
子量が80万以上のスチレン系重合体を安定的に製造す
る方法について、鋭意研究を重ねた結果、重合温度を使
用するラジカル重合開始剤の分解温度より特定の温度だ
け低く設定することによって、意外にもデッドエンド重
合にはならずに、しかも目的とする高分子量の重合体が
容易に得られることを見い出し、本発明を完成するに至
った。
【0007】かくして、この発明によれば、スチレン系
単量体又はスチレン系単量体を主成分としてこれと共重
合可能な単量体との混合物を、ラジカル重合開始剤を用
いて重合させてスチレン系重合体を製造する方法におい
て、重合転化率が少なくとも60重量%に達するまで
は、ラジカル重合開始剤の分解温度より5〜30℃低い
温度で重合させることにより重量平均分子量が80万以
上の重合体を形成させることを特徴とする高分子量スチ
レン系重合体の製造方法が提供される。
【0008】本発明においてスチレン系単量体とは、ス
チレン、パラメチルスチレン、ターシャリーブチルスチ
レン、クロロスチレンなどの置換スチレン等である。ま
たこれらスチレン系単量体と共重合可能な単量体として
は、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などの
有機酸類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシルなどのア
クリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチ
ルなどのメタクリル酸エステル類、マレイミド、N−フ
ェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミドなど
のマレイミド類、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジ
オレフィン類等を挙げることができる。これらはスチレ
ン単量体を主成分として使用され、50重量%未満の範
囲で1種もしくは2種以上を併せて用いることができ
る。
【0009】また、ジビニルベンゼン、ポリエチレング
リコールジメタクリレートなどの多官能性単量体を少量
併用することもできる。本発明において使用されるラジ
カル重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイド
(分解温度74℃)、t−ブチルパーオキシ2−エチル
ヘキサノエート(同73℃)、t−ブチルパーオキシイ
ソブチレート(同78℃)、ジ−t−ブチルパーオキシ
ヘキサヒドロテレフタレート(同83℃)、1,1−ジ
(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン(同90℃)、1,1−ジ(t−ブチルパー
オキシ)シクロヘキサン(同91℃)、2,2−ビス
(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)
プロパン(同92℃)、ジエチレングリコールビス(t
−ブチルパーオキシカーボネート)(同97℃)、t−
ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート(同98
℃)、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパー
オキシ)ヘキサン(同100℃)、2,2−ジ(ターシ
ャリブチルパーオキシ)ブタン(同103℃)、t−ブ
チルパーオキシベンゾエート(同104℃)、ジ−t−
ブチルパーオキシイソフタレート(同107℃)、トリ
ス(t−ブチルパーオキシ)トリアジン(同110
℃)、ジクミルパーオキサイド(同117℃)、2,5
−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキ
サン(同118℃)、t−ブチルクミルパーオキサイド
(同120℃)などの有機過酸化物、2,2’−アゾビ
スイソブチロニトリル(同65℃)、2−t−ブチルア
ゾ2−シアノ4−メチルペンタン(同70℃)、2−t
−ブチルアゾ2−シアノプロパン(同79℃)、2−t
−ブチルアゾ2−シアノブタン(同82℃)、1,1’
−アゾビス(1−シクロヘキサンカーボニトリル)(同
88℃)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチ
ルペンタン)(同110℃)、2−フェニルアゾ−2,
4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル(同122
℃)等のアゾ系化合物等が挙げられる。
【0010】これらは、単独で或いは混合して用いられ
る。また、上記の中で、特に分解温度が80〜110℃
のものが高分子量重合体を安定的に製造する観点から好
ましい。ラジカル重合開始剤の好ましい使用量は、単量
体の仕込み量に対して、0.01〜2重量%であり、更
に好ましくは0.05〜0.5重量%である。0.01
重量%未満では開始剤としての作用効果が実質的に現れ
ず、また、2重量%を越えると高分子量の重合体が得ら
れなくなる。
【0011】本発明の重要な構成要件の一つは、重合温
度を前記ラジカル重合開始剤の分解温度より5〜30℃
低い温度範囲にすることである。例えば、分解温度が9
0℃の1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)3,3,5
−トリメチルシクロヘキサンの場合、重合温度は60〜
85℃の範囲にする。なお、重合開始剤を2種以上併用
する場合には、最も分解温度の低いものの温度範囲が適
用される。
【0012】ラジカル重合開始剤の分解温度より5℃低
い温度を越えて重合すると、目的とする高分子量の重合
体は得られない。一方、分解温度より30℃低い温度未
満の温度で重合すると、遊離ラジカルの発生はほんの僅
かとなり、重合体を得るにはかなりの時間が必要となり
工業的に実施することができない。ラジカル重合開始剤
の分解温度より、5〜30℃低い温度範囲で重合を行な
うことによってのみ、遊離ラジカルは徐々に発生し、し
かも途中で消費消滅することもなく本発明の目的とする
高分子量の重合体が得られるものである。
【0013】単量体の重合転化率が少なくとも60%に
達するまでは、上記重合温度を保持する必要がある。重
合転化率が60%を越える以前に、開始剤の分解温度よ
り5℃低い温度を越える温度に昇温すると、急激に遊離
ラジカルが発生し、比較的低い分子量の重合体が生成し
てしまい好ましくない。本発明の重合方法としては、通
常の塊状重合法、懸濁重合法、塊状−懸濁重合法、ある
いは溶液重合法で行うことができる。
【0014】
【実施例】以下本発明を実施例及び比較例を挙げて更に
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。 (実施例1)内容積5lの重合用容器に水2000g、
ピロリン酸マグネシウム5.0g及びドデシルベンゼン
スルホン酸ソーダ0.1gを入れ、続いて撹拌しながら
スチレン2000g、1,1−ジ(t−ブチルパーオキ
シ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン3.0gを
添加し、80℃に昇温した。そして、そのまま80℃で
20時間保持し重合させた。この時、一部をサンプリン
グして重合転化率を測定した。その後、重合用容器を1
10℃に昇温してから4時間重合を行なった。得られた
重合体粒子の重量平均分子量(Mw)をGPC(島津製
作所製、カラム:HSG−60×2本、HSG−40×
1本、HSG−20×1本、カラム温度:40℃、移動
相:THF、流量:1ml/min、試料濃度:0.1W/V
%、注入量:500μl、検出器:RID−6A)で測
定した。測定結果を表1に示す。
【0015】(実施例2〜4)実施例1において、ラジ
カル重合開始剤の種類を2,2−ビス(4,4−ジ−t
−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン(実施例
2)、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート
(実施例3)、2,2−ジ(ターシャリブチルパーオキ
シ)ブタン(実施例4)に変更した以外は同様に重合を
行なった。測定結果を表1に示す。
【0016】(実施例5)実施例1において、ラジカル
重合開始剤の種類を2,2−ジ(ターシャリブチルパー
オキシ)ブタンに、重合温度を90℃に変更した以外は
同様に重合を行なった。測定結果を表1に示す。
【0017】(実施例6)実施例1において、ラジカル
重合開始剤の種類をジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒ
ドロテレフタレートに、重合温度を70℃にして28時
間保持した以外は同様に重合を行なった。測定結果を表
1に示す。
【0018】(実施例7)内容積5lの重合用容器に水
2000g、ピロリン酸マグネシウム5.0g及びドデ
シルベンゼンスルホン酸ソーダ0.1gを入れ、続いて
撹拌しながらスチレン1500g、アクリル酸ブチル5
00g、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)3,3,
5−トリメチルシクロヘキサンを3.0gを添加し、8
0℃に昇温した。そして、そのまま80℃で20時間保
持し重合させた。この時、一部をサンプリングして重合
転化率を測定した。その後、重合用容器を密閉し、11
0℃に昇温してから4時間重合を行なった。得られた重
合体粒子の重量平均分子量をGPCで測定した。測定結
果を表2に示す。
【0019】(実施例8)実施例7において、ラジカル
重合開始剤の種類を2,2−ビス(4.4−ジ−t−ブ
チルパーオキシシクロヘキシル)プロパンに変更した以
外は同様に重合を行なった。測定結果を表2に示す。
【0020】(比較例1)実施例1において、重合温度
を95℃にした以外は同様に重合を行なった。測定結果
を表1に示す。ラジカル重合開始剤の分解温度より高い
温度で重合すると、目的とする高分子量の重合体は得ら
れなかった。
【0021】(比較例2)実施例1において、重合温度
を50℃にした以外は同様に重合を行なったが、20時
間目の重合転化率は20.5%であった。ラジカル重合
開始剤の分解温度より30℃低い温度未満の温度で重合
すると、重合は進まず、実質的に重合体は得られなかっ
た。
【0022】(比較例3)内容積5lの重合用容器に水
2000g、ピロリン酸マグネシウム5.0g及びドデ
シルベンゼンスルホン酸ソーダ0.1gを入れ、続いて
撹拌しながらスチレン2000g、1,1−ジ(t−ブ
チルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ン3.0gを添加し、80℃に昇温した。そして、その
まま80℃で10時間保持し重合させた。この時、一部
をサンプリングして重合転化率を測定したところ47.
5重量%であった。その後、重合用容器を密閉し、11
0℃に昇温してから8時間重合を行なった。得られた重
合体粒子の重量平均分子量をGPCで測定した。測定結
果を表1に示す。重合転化率が60%に達するまでにラ
ジカル重合開始剤の分解温度より5℃低い温度を越える
温度で重合すると、目的とする高分子量の重合体は得ら
れなかった。
【0023】(比較例4)内容積5lの重合用容器に水
2000g、ピロリン酸マグネシウム5.0g及びドデ
シルベンゼンスルホン酸ソーダ0.1gを入れ、続いて
撹拌しながらスチレン2000g、ベンゾイルパーオキ
サイド2.0gを添加し、90℃に昇温した。そして、
そのまま90℃で20時間保持し重合させた。この時一
部をサンプリングして重合転化率を測定した。その後、
重合容器を密閉し、4時間重合を行なった。得られた重
合体粒子の重量平均分子量をGPCで測定した。測定結
果を表1に示す。ベンゾイルパーオキサイドの使用量が
少ないだけでは、高分子量の重合体は得られなかった。
【0024】(比較例5)比較例4においてベンゾイル
パーオキサイドの量を1.0gに変えて90℃に昇温し
た。そして、そのまま90℃で20時間保持した後、一
部をサンプリングして重合転化率を測定したところ7
2.5%であった。しかし、それ以降重合は進まなかっ
た。
【表1】
【表2】
【発明の効果】本発明によれば、スチレン系単量体又は
スチレン系単量体を主成分としてこれと共重合可能な単
量体との混合物を、ラジカル重合開始剤を用いて重合さ
せてスチレン系重合体を製造するに際し、重合転化率が
少なくとも60重量%に達するまでは、ラジカル重合開
始剤の分解温度より5〜30℃低い温度で重合すること
により、重量平均分子量が80万以上の高分子量のスチ
レン系重合体を容易に得ることができるものである。こ
の発明により得られたスチレン系重合体は、静電荷を乾
式現像するためのトナー用ポリマーとして好適に使用さ
れる他、他の用途への使用も期待できるものである。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スチレン系単量体又はスチレン系単量体を
    主成分としてこれと共重合可能な単量体との混合物を、
    ラジカル重合開始剤を用いて重合させてスチレン系重合
    体を製造する方法において、重合転化率が少なくとも6
    0重量%に達するまでは、ラジカル重合開始剤の分解温
    度より5〜30℃低い温度で重合させることにより重量
    平均分子量が80万以上の重合体を形成させることを特
    徴とする高分子量スチレン系重合体の製造方法。
  2. 【請求項2】ラジカル重合開始剤の分解温度が80〜1
    10℃である請求項1記載の高分子量スチレン系重合体
    の製造方法。
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