JP2638963B2 - Film chip capacitors - Google Patents

Film chip capacitors

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JP2638963B2
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久芳 渡辺
純一郎 平塚
健治 桑田
信行 久米
正志 森脇
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフィルムチップコンデンサに関するものであ
る。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a film chip capacitor.

従来の技術 従来のフィルムチップコンデンサは、フィルムコンデ
ンサ素子をコムリードに溶接してから、熱硬化性樹脂を
用いてモールド外装し、さらにコムリードを切断してか
ら、その一部分を折り曲げて外部電極とすることによっ
て、作製されていた。
Conventional technology Conventional film chip capacitors are manufactured by welding a film capacitor element to a comb lead, using a thermosetting resin to mold the package, cutting the comb lead, and bending a part of the lead to form an external electrode. By doing, it was produced.

近年、電子機器の小型化の要望がますます高まり、そ
のため、フィルムチップコンデンサについても、より一
層小型化するための検討がなされている。
In recent years, there has been an increasing demand for miniaturization of electronic devices, and therefore, studies have been made to further reduce the size of film chip capacitors.

その一つの案として、コムリード溶接とモールド外装
とを省略して、フィルムコンデンサ素子をそのままフィ
ルムチップコンデンサとして使用することが広く検討さ
れている。
As one of the proposals, it has been widely studied to omit the comb lead welding and the mold exterior and use the film capacitor element as it is as a film chip capacitor.

第4図はそれを具体化した従来のフィルムチップコン
デンサの一部破断斜視図である。
FIG. 4 is a partially cutaway perspective view of a conventional film chip capacitor embodying the same.

図に示すように、このコンデンサは、誘電体フィルム
11の両面にそれぞれ真空蒸着法で電極12,13を形成し、
さらにその上に誘電体材料を塗布して誘電体層14,15を
形成した後に、所定の寸法に切断し、さらに数十枚から
数千枚を積層する。なお、その際に、積層の始めと終わ
りとに、接着剤を塗布した、同一寸法の保護フィルム16
を保護層として接着する。積層してから、電極引出しの
ために、二つの積層端面にそれぞれ亜鉛を溶射して溶射
層17を形成し、溶射が形成されていない残りの面には、
エポキシ樹脂を塗布したポリイミドシートを接着して外
装体18を形成し、フィルムチップコンデンサとしてい
る。
As shown in the figure, this capacitor is a dielectric film
Electrodes 12 and 13 are formed on both surfaces of 11 by vacuum evaporation method, respectively.
Furthermore, after a dielectric material is applied thereon to form the dielectric layers 14 and 15, the dielectric layers are cut into predetermined dimensions, and tens to thousands of layers are further laminated. At this time, at the beginning and end of the lamination, a protective film 16 of the same dimensions, which was coated with an adhesive, was used.
As a protective layer. After laminating, for electrode extraction, spray spray zinc on each of the two laminated end faces to form a sprayed layer 17, and on the remaining surface where spraying is not formed,
An exterior body 18 is formed by bonding a polyimide sheet coated with an epoxy resin to form a film chip capacitor.

発明が解決しようとする課題 このような構造のフィルムチップコンデンサは、従来
のモールド外装したフィルムチップコンデンサに比べ
て、同じ静電容量で容積が20%以上少なくすみ、小型化
される。しかし、亜鉛溶射層は微粒子で構成されている
ために、その表面が雰囲気によってはきわめて短期間に
酸化され、また通常の使用条件下でも時間の経過ととも
に酸化されてしまうので、そのはんだ付け性にばらつき
が生じ、プリント配線板などに実装するときにはんだ付
け不良が増加する。
Problems to be Solved by the Invention A film chip capacitor having such a structure can be reduced in size by reducing the volume by 20% or more with the same capacitance as compared with a conventional film chip capacitor provided with a mold. However, since the zinc sprayed layer is composed of fine particles, its surface is oxidized in a very short time depending on the atmosphere, and it is oxidized over time even under normal use conditions. Variations occur, and soldering defects increase when mounting on a printed wiring board or the like.

はんだ付け性を改良するために、フィルムチップコン
デンサのメタリコン部分から、それに隣接する互いに平
行な二つの面にわたって、L字型の外部電極をそれぞれ
溶接したり、あるいは、溶射材料としてはんだを用いた
りすることが考えられている。
In order to improve solderability, L-shaped external electrodes are welded from the metallicon portion of the film chip capacitor to two adjacent surfaces adjacent to each other, or solder is used as a spray material. It is thought that.

しかしながら、L字型外部電極を付与するという前者
の方法の場合には、その外部電極を歪なく接続し一体化
することが非常にむずかしく、外部電極が傾いて取り付
けられ、あるいは、接続時のばりなどのために、プリン
ト配線板にはんだ付けする際に不良が多く発生する。ま
た、後者の方法の場合には、はんだ付けの際にはんだが
溶けて流れてしまうために、誘電体フィルム上の電極と
の接続が損なわれて静電容量が低下してしまうことが多
かった。
However, in the case of the former method of providing an L-shaped external electrode, it is very difficult to connect and integrate the external electrodes without distortion, and the external electrodes are attached at an angle, or a flash at the time of connection is formed. For this reason, many defects occur when soldering to a printed wiring board. In the case of the latter method, since the solder melts and flows during soldering, the connection with the electrode on the dielectric film is often impaired and the capacitance is reduced. .

本発明はこのような従来の技術にあった問題を解決し
て、はんだ付け性の良好なフィルムチップコンデンサを
提供することを目的とするものである。
An object of the present invention is to solve such a problem in the conventional technology and to provide a film chip capacitor having good solderability.

課題を解決するための手段 本発明のフィルムチップコンデンサは、外部電極を高
融点金属溶射層とその上に形成された低融点金属層とで
構成するとともに、低融点金属層を0.1mmを越えない厚
さとし、高融点金属溶射層を真ちゅう溶射層で、低融点
金属層を少なくとも錫または鉛のいずれか一方を主成分
とする300℃以下の融点の金属層としたものである。
Means for Solving the Problems The film chip capacitor of the present invention comprises an external electrode comprising a high melting point metal sprayed layer and a low melting point metal layer formed thereon, and the low melting point metal layer does not exceed 0.1 mm. The high melting point metal sprayed layer is a brass sprayed layer, and the low melting point metal layer is a metal layer having a melting point of 300 ° C. or less containing at least one of tin and lead as a main component.

作 用 このように外部電極が、高融点金属溶射層とその上に
形成された厚さ0.1mm以下の薄い低融点金属層とで構成
されているので、低融点金属層が高融点金属溶射層の酸
化を防止する。
Function As described above, since the external electrode is composed of the high melting point metal sprayed layer and the thin low melting point metal layer having a thickness of 0.1 mm or less formed thereon, the low melting point metal layer is formed of the high melting point metal sprayed layer. To prevent oxidation.

実 施 例 以下、本発明の一実施例について、第1図を用いて説
明する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

ポリフェニレンサルファイドからなる厚み1.5μmの
誘電体フィルム1の両面に、アルミニウムを真空蒸着し
て電極2,3を形成し、さらに、その上に厚みが0.9μmと
なるようにポリフェニレンオキサイドをコーティングし
て、誘電体層4,5を形成する。そして、所定の寸法に切
断して、それ400枚を積層し、さらに、その両面に、接
着剤をコーティングしたポリフェニレンサルファイドか
らなる保護フィルム6を重ねてプレスする。次に、電極
引出しのために真ちゅうを厚さ0.3mmに溶射して高融点
金属溶射層7を形成し、フィルムコンデンサ素子を得
る。そして、高融点金属溶射層7の表面を研摩して平滑
にしてから、それに錫を63%含む共晶はんだを溶融めっ
きして、厚さ50μmの低融点金属層8を形成した後に、
素子端面を絶縁するために、これら素子端面に長方形状
のポリイミドフィルムをエポキシ樹脂でそれぞれ貼り付
けて外装体9を形成し、フィルムチップコンデンサとす
る。
Aluminum is vacuum-deposited on both sides of a 1.5 μm-thick dielectric film 1 made of polyphenylene sulfide to form electrodes 2 and 3, and then polyphenylene oxide is coated thereon to a thickness of 0.9 μm. The dielectric layers 4 and 5 are formed. Then, the sheet is cut to a predetermined size, 400 sheets of the sheet are laminated, and a protective film 6 made of polyphenylene sulfide coated with an adhesive is stacked on both surfaces thereof and pressed. Next, brass is sprayed to a thickness of 0.3 mm to lead the electrodes to form a high-melting metal sprayed layer 7 to obtain a film capacitor element. Then, after the surface of the high melting point metal sprayed layer 7 is polished and smoothed, a eutectic solder containing 63% tin is hot-dipped to form a low melting point metal layer 8 having a thickness of 50 μm.
In order to insulate the element end faces, a rectangular polyimide film is adhered to each of these element end faces with an epoxy resin to form an outer package 9, thereby forming a film chip capacitor.

比較のために、外部電極を厚さ0.35mmの亜鉛溶射層で
形成して、フィルムチップコンデンサとした。
For comparison, an external electrode was formed of a 0.35 mm thick zinc sprayed layer to obtain a film chip capacitor.

上述のようにして作製した実施例および比較例のフィ
ルムチップコンデンサ各1000個を約半年間放置した後
に、厚さ1.6mmプリント配線板に接着し、温度250℃のは
んだ層中に5秒間浸漬したときのプリント配線板への実
装不良率とはんだ付け強度不良率とを調べた。
After leaving 1000 pieces each of the film chip capacitors of Examples and Comparative Examples produced as described above for about half a year, they were adhered to a 1.6 mm thick printed wiring board and immersed in a solder layer at a temperature of 250 ° C. for 5 seconds. The defective mounting rate on the printed wiring board and the defective soldering strength at that time were examined.

その結果を下表に示す。なお、表において、はんだ付
け強度500g以下のものをはんだ付け強度不良とした。
The results are shown in the table below. In the table, those having a soldering strength of 500 g or less were regarded as having poor soldering strength.

この表から、本実施例は、そのはんだ付け信頼性が大
幅に向上し、優れたはんだ付け性が得られるものである
ことがわかる。
From this table, it can be seen that in this example, the soldering reliability was significantly improved, and excellent solderability was obtained.

共晶はんだに代えて、融点が300℃以下であるほかの
組成のはんだや、錫単体であっても、本実施例と同等の
優れた結果が得られた。
In place of the eutectic solder, a solder having another composition having a melting point of 300 ° C. or less, or even a single tin, provided excellent results equivalent to those of the present example.

そして、この実施例の方法を、巻回型フィルムコンデ
ンサ素子に適用しても、同等の優れた結果が得られた。
Even when the method of this example was applied to a wound film capacitor element, the same excellent results were obtained.

さらに、外部電極の低融点金属層の厚さについて検討
をしたところ、それが0.1mmを越える厚さになると、プ
リント配線基板に実装するときに支障を生じやすいこと
が明らかとなった。
Further, when the thickness of the low melting point metal layer of the external electrode was examined, it was found that when the thickness exceeded 0.1 mm, troubles were likely to occur when mounting the printed wiring board.

チップコンデンサをプリント配線基板にはんだ付けし
て実装する手法としては、通常、リフロー方式が用いら
れる。低融点金属としてもっとも広く用いられるはんだ
を使用したときを例に述べると、リフロー方式でプリン
ト配線基板にはんだ付けする際に、溶融はんだが基板の
導体層側に多く付着し、隣接する他の導体層などと短絡
を生じてしまうおそれがある。
As a method of soldering and mounting the chip capacitor on a printed wiring board, a reflow method is usually used. For example, when using the most widely used solder as a low melting point metal, when soldering to a printed wiring board by the reflow method, a large amount of molten solder adheres to the conductor layer side of the board, and other solder There is a possibility that a short circuit may occur with a layer or the like.

具体的には、第2図(a)に示すように、プリント配
線基板101の導体層102にリフロー方式ではんだ付けする
と、ソルダーレジスト層103で規制されて導体層102上に
はんだ層104が形成される。その中央部分の厚さをtと
する。
Specifically, as shown in FIG. 2A, when soldering is performed on the conductor layer 102 of the printed wiring board 101 by a reflow method, a solder layer 104 is formed on the conductor layer 102 by being regulated by the solder resist layer 103. Is done. The thickness of the central portion is defined as t.

一方、このプリント配線基板101にチップフィルムコ
ンデンサ104をはんだ付けしたときには、第2図(b)
に示すように、はんだ接続部分105が導体層102側に片寄
って付着する。はんだ接続部分106の断面の曲線の変曲
点での厚さをTとしたとき、チップフィルムコンデンサ
の外部電極のはんだ層の厚さとT/tとの関係を調べたと
ころ、第3図に示すとおりとなった。これから明らかで
あるように、外部電極のはんだ層の厚さが0.1mm以下で
あるとき、T/tの値がほぼ1であり、その厚さが0.1mmを
越えるとT/tの値が急激に大きくなっている。このこと
から、外部電極のはんだ層の厚さが0.1mmを越えると、
はんだ接続部分106がプリント配線基板101の導体層102
側に非常に片寄って形成されることがわかる。
On the other hand, when the chip film capacitor 104 is soldered to the printed wiring board 101, FIG.
As shown in (2), the solder connection portion 105 adheres to the conductor layer 102 side. The relationship between the thickness of the solder layer of the external electrode of the chip film capacitor and T / t was examined when the thickness at the inflection point of the curve of the cross section of the solder connection portion 106 was T. As shown in FIG. It was as follows. As is clear from this, when the thickness of the solder layer of the external electrode is 0.1 mm or less, the value of T / t is almost 1, and when the thickness exceeds 0.1 mm, the value of T / t sharply increases. It is getting bigger. From this, if the thickness of the solder layer of the external electrode exceeds 0.1 mm,
The solder connection part 106 is the conductor layer 102 of the printed wiring board 101
It can be seen that it is formed very offset to the side.

はんだ接続部分106が導体層102側に非常に片寄って形
成されると、高実装密度のプリント配線基板において
は、隣接する他の導体層や部品の電極と短絡を生じてし
まう。したがって、外部電極のはんだ層の厚さは0.1mm
未満とすることが望ましい。
If the solder connection portion 106 is formed so as to be very deviated on the conductor layer 102 side, a short circuit will occur with an electrode of another adjacent conductor layer or component in a high-density printed wiring board. Therefore, the thickness of the solder layer of the external electrode is 0.1 mm
It is desirable to be less than.

このように外部電極が高融点金属溶射層とその上に形
成された厚さ0.1mm以下の薄い低融点金属層とで構成さ
れているので、はんだ付け時に外部電極が溶融してしま
うということがなくなり、静電容量の低下が防止され
る。また、高融点金属溶射層の酸化が薄い低融点金属層
で防止されるため、電極としての経時変化がほとんどな
くなり、はんだ付け性が向上する。
In this way, the external electrode is composed of the high-melting metal sprayed layer and the thin low-melting metal layer with a thickness of 0.1 mm or less formed on it, so that the external electrode may melt during soldering. And the capacitance is prevented from lowering. Further, since oxidation of the high melting point metal sprayed layer is prevented by the thin low melting point metal layer, there is almost no change with time as an electrode, and solderability is improved.

一般に、フィルムコンデンサを構成する誘電体フィル
ムの耐熱性が低いことから、低い融点を得やすい真ちゅ
うがもっとも実際的である。
Generally, since the heat resistance of the dielectric film constituting the film capacitor is low, a brass which is easy to obtain a low melting point is most practical.

低融点金属層構成のための金属材料としては、プリン
ト配線板にはんだ付けをする際にはんだ槽中へ不純物を
拡散させないために、錫、鉛または錫・鉛合金を主成分
とする材料を使うことが好ましい。低融点金属層の形成
方法としては真空蒸着法,溶融めっき法,化学めっき法
が用いられる。
As the metal material for the low melting point metal layer, use a material containing tin, lead, or a tin-lead alloy as a main component to prevent impurities from diffusing into the solder bath when soldering to the printed wiring board. Is preferred. As a method for forming the low melting point metal layer, a vacuum deposition method, a hot-dip plating method, and a chemical plating method are used.

発明の効果 本発明によれば、はんだ付け性とはんだ付け強度が大
幅に向上し、はんだ付け信頼性の高い小型で安価なフィ
ルムチップコンデンサを得ることができる。
Effects of the Invention According to the present invention, a small and inexpensive film chip capacitor having high soldering reliability and significantly improved solderability and soldering strength can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例による積層型フィルムチップ
コンデンサの一部破断斜視図、第2図(a)はプリント
配線基板の導体層にリフロー方式ではんだ付けしたとき
のはんだ層の付着状態を示す図、第2図(b)はプリン
ト配線基板にチップフィルムコンデンサをはんだ付けし
たときのはんだ接続部分の付着状態を示す図、第3図は
チップフィルムコンデンサの外部電極の低融点金属層の
厚さとはんだ接続部分を付着状態との関係を示す図、第
4図は従来の積層型フィルムチップコンデンサの一部破
断斜視図である。 1……誘電体フィルム、2,3……電極、3,4……誘電体
層、6……保護フィルム、7……高融点金属溶射層、8
……低融点金属層、9……外装体。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a multilayer film chip capacitor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 (a) is a state in which a solder layer is adhered to a conductor layer of a printed wiring board by reflow soldering. FIG. 2 (b) is a view showing a state of attachment of a solder connection portion when a chip film capacitor is soldered to a printed wiring board, and FIG. 3 is a view showing a low melting point metal layer of an external electrode of the chip film capacitor. FIG. 4 is a partially broken perspective view of a conventional multilayer film chip capacitor, showing the relationship between the thickness and the state of attachment of the solder connection portion. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Dielectric film, 2,3 ... Electrode, 3,4 ... Dielectric layer, 6 ... Protective film, 7 ... High melting point metal sprayed layer, 8
... Low melting point metal layer, 9.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑田 健治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 久米 信行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 森脇 正志 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−287913(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Kenji Kuwata 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Masashi Moriwaki 1006 Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-1-287913 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】高融点金属溶射層と、前記高融点金属溶射
層上に形成された低融点金属層とで外部電極が構成さ
れ、前記低融点金属層の厚さが0.1mmを越えないフィル
ムチップコンデンサであって、高融点金属溶射層が真ち
ゅう溶射層で、低融点金属層が少なくとも錫または鉛の
いずれか一方を主成分とする300℃以下の融点の金属層
であるフィルムチップコンデンサ。
An external electrode comprising a high melting point metal sprayed layer and a low melting point metal layer formed on the high melting point metal sprayed layer, wherein the thickness of the low melting point metal layer does not exceed 0.1 mm. A chip capacitor, wherein the high-melting metal sprayed layer is a brass sprayed layer and the low-melting metal layer is a metal layer having a melting point of 300 ° C. or less containing at least one of tin and lead as a main component.
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