JP2626982B2 - Polishing film - Google Patents

Polishing film

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JP2626982B2
JP2626982B2 JP26322187A JP26322187A JP2626982B2 JP 2626982 B2 JP2626982 B2 JP 2626982B2 JP 26322187 A JP26322187 A JP 26322187A JP 26322187 A JP26322187 A JP 26322187A JP 2626982 B2 JP2626982 B2 JP 2626982B2
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JP
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JP26322187A
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義昭 三輪
徳道 川島
一也 折井
酒井  茂
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東京磁気印刷株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ポリッシング、ラッピング加工、特に、精密機器、精密部品の仕上げ加工に使用するのに適した研磨フィルムに関するものである。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION INDUSTRIAL FIELD The present invention is polishing, lapping, and more particularly to a polishing film suitable for use precision instruments, for finishing of precision components.

従来の技術 この種の研磨フィルムとしては、従来、プラスチックフィルム上に、研磨材を分散させた塗料を塗布して、連続あるいは不連続な研磨層を形成させたようなものがあり、この場合において、研磨層は1層にコーティングするのが普通であるが、特開昭61−65780号公報や実開昭6 The abrasive film of this prior art kind, conventionally, on a plastic film, was the abrasive dispersed paint was applied are those as to form a continuous or discontinuous abrasive layer, in this case , the polishing layer is that coating the first layer is common, JP 61-65780 JP and Utility Model 6
1−178671号公報に開示されたような2層にコーティングすることも提案されている。 It has also been proposed to coat two layers as disclosed in 1-178671 JP.

発明が解決しようとする問題点 このような従来の研磨層を1層にコーティングした研磨フィルムでは、研削力の大きいものは高精密仕上げ性に劣り、逆に、高精度仕上げ性に優れたものは研削力が低くいのが普通であった。 Invention in the polishing film is coated try to problems such conventional polishing layer to one layer resolution is of a grinding force greater is inferior in high-precision finishing property, conversely, it has excellent precision finishing property grinding force was normal to have low. すなわち、同一の研磨フィルムで研削力が大きく高精密仕上げ性にも優れたものはないので、研削工程に合わせて適当な研削特性を有する研磨フィルムに交換して、研削作業をしているのが現状であった。 That is, since there is nothing that grinding force is superior to large high precision finishing of the same abrasive film, and replace the polishing film having a suitable grinding characteristics to suit the grinding process, that has a grinding operation It was at present. 例えば、できるだけ短時間にて所定の研削量および表面粗さの研削作業を行うためには、従来、最初は研削力の大きな#1000の研磨フィルムを用いて表面粗さは所定より大きくなるが短時間にて研削量の多い研削を行い、中間工程においては、#4000の研磨フィルムに交換して研削量も表面粗さも中くらいの研削を行い、最後に、#8000の研磨フィルムに交換して研削量は小さいが所定の高い精密仕上げ表面粗さの得られる研削を行うようにしている。 For example, in order to perform the grinding operation of a predetermined amount of grinding and the surface roughness as much as possible in a short time it is conventionally initially but the surface roughness is larger than the predetermined using the polishing films of large # 1000 grinding force short performed more grinding of grinding amount at the time, in an intermediate step performs grinding moderate even grinding amount surface roughness by replacing the abrasive film of # 4000, finally, to replace the abrasive film of # 8000 amount of grinding is small and to perform the grinding obtained a predetermined high precision finished surface roughness. このように、1つの研削作業中において何度も研磨フィルムを交換しなければならないのでは、 Thus, than having to replace the abrasive film many times during one grinding operation,
不便であり、研削作業時間もそれだけ長くなり、特に、 It is inconvenient, also becomes correspondingly long grinding work time, especially,
研削作業を自動化するような場合には問題となる。 It becomes a problem if the grinding work, such as to automate.

また、前述の特開昭61−65780号公報や実開昭61−178 Further, JP aforementioned JP 61-65780 and Japanese Utility Model 61-178
671号公報に開示されたような2層コーティング研磨層を有する研磨布も、特にこのような問題点の解決に向けられたものではなかった。 Polishing cloth having a two-layer coating abrasive layer as disclosed in 671 JP also was not particularly directed to solving these problems.

本発明の目的は、このような従来の問題点を解消しうる研磨フィルムを提供することである。 An object of the present invention is to provide a polishing film which can solve the above conventional problems.

問題点を解決するための手段 本発明の第一の特徴によれば、研磨フィルムは、フィルム基体上に、研削特性の異なる少なくとも2つの研磨層を重ねて有し、前記研磨層の各々は、同一のバインダー樹脂中に同一の砥粒を異なる濃度にて分散させてなる。 According to a first aspect of the means present invention to solve the problems, the polishing film on the film substrate, has superimposed at least two different abrasive layer of the grinding characteristics, each of said abrasive layer, comprising the same abrasive grains dispersed at different concentrations in the same binder resin.

本発明の第二の特徴によれば、研磨フィルムは、フィルム基体上に、研削特性の異なる少なくとも2つの研磨層を重ねて有し、前記研磨層の各々は、異なるバインダー樹脂中に、同一の砥粒を同一の砥粒濃度にて分散させてなる。 According to a second aspect of the present invention, the polishing film on the film substrate, has superimposed at least two different abrasive layer of the grinding characteristics, each of the abrasive layer, in different binder resin, the same formed by dispersing the abrasive grains in the same abrasive concentration.

実施例 次に、添付図面に基づいて、本発明の実施例について、本発明をより詳細に説明する。 Example Next, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention, the present invention will be described in more detail.

第1図は、本発明の一実施例として研磨フィルムの一部を示す断面図であり、この実施例の研磨フィルムは、 Figure 1 is a cross-sectional view of a portion of the abrasive film as an embodiment of the present invention, the polishing films of this embodiment,
プラスチックフィルム1の上に、バインダー樹脂3中に砥粒3を分散させてなる第1の研磨層と、バインダー樹脂5中に砥粒4を分散させてなる第2の研磨層とを重ねて連続的にコーティングしたものである。 On a plastic film 1, a continuous overlapping the first polishing layer formed by dispersing abrasive particles 3 in the binder resin 3, and a second polishing layer formed by dispersing abrasive particles 4 in the binder resin 5 to one in which the coating. 第2図は、本発明の別の実施例の研磨フィルムの一部を示す断面図であり、この実施例の研磨フィルムは、第1の研磨層と第2の研磨層とを不連続または島状に形成した以外は、第1図の実施例のものと同一である。 Figure 2 is a cross-sectional view of a portion of the abrasive film of another embodiment of the present invention, the polishing films of this embodiment, a discontinuous or island and the first polishing layer and a second polishing layer except for forming the Jo is identical to that of the embodiment of Figure 1. 第3図は、本発明のさらに別の実施例の研磨フィルムの一部を示す断面図であり、この実施例の研磨フィルムは、第1の研磨層を不連続または島状に形成した以外は、第1図の実施例の研磨フィルムと同じである。 Figure 3 is a sectional view showing still a portion of the abrasive film of another embodiment of the present invention, abrasive film of this example, except that the formation of the first polishing layer discontinuous or islands is the same as the polishing films of examples of the first figure.

さらにまた、第4図、第5図および第6図は、それぞれ、本発明の別の実施例の研磨フィルムの一部を示す断面図であり、プラスチックフィルム1の裏面に粘着層6 Furthermore, FIG. 4, FIG. 5 and FIG. 6 are each a cross-sectional view of a portion of the abrasive film of another embodiment of the present invention, the adhesive layer 6 on the back surface of the plastic film 1
および離型紙7を設けた以外は、第1図、第2図および第3図の実施例の研磨フィルムとそれぞれ同様の構造を有するものである。 And except having a release paper 7, Figure 1, and has a polished film and each similar structure of the embodiment of FIGS. 2 and 3 FIG. また、これら研磨フィルムは、テープシート、ディスク状等任意の形に加工して使用できるものである。 These abrasive film are those which can be used tape sheet was processed into any shape disk shape or the like.

第1図から第6図にその構造を示した各実施例において、第1の研磨層は、ワークの仕上り表面粗さは大きいが、研削力が高いものとされており、第2の研磨層は、 In each of the embodiments shown the structure in Figure 6 from Figure 1, the first polishing layer, but finished surface roughness of workpiece is large, which is assumed grinding power is high, the second polishing layer It is,
研削力は低いがワークの仕上げ表面粗さは小さくなるようなものとされている。 Grinding power is low has been assumed such that small finish surface roughness of the workpiece. すなわち、第1の研磨層では、 That is, in the first polishing layer,
高い研削量が得られ、第2の研磨層では、精密研磨仕上げが行えるようなものとされている。 High grinding amount is obtained, the second polishing layer has been assumed that allow precision polished.

第1の研磨層および第2の研磨層に前述したような研削特性を与えるためには、本発明によれば、次のような方法を採りうる。 To provide grinding characteristics as described above in the first polishing layer and the second abrasive layer according to the present invention can take the following methods.

先ず、第1の研磨層と第2の研磨層とに同一の砥粒を用いるとして、次の2つの組合せがある。 First, the use of the same abrasive grains into a first polishing layer and the second polishing layer, there are the following two combinations.

(A)バインダー樹脂を第1の研磨層と第2の研磨層とで同じとする場合 第1の研磨層の砥粒濃度と第2の研磨層の砥粒濃度とを異ならせ、例えば、第1の研磨層の砥粒濃度を臨界砥粒濃度(Critical Grain Volume Concentration:CGVC) (A) made different from the abrasive concentration and the abrasive concentration of the second polishing layer of the first polishing layer when it is the binder resin same with the first polishing layer and the second polishing layer, for example, the critical abrasive concentration of abrasive concentration of 1 of the polishing layer (critical grain Volume concentration: CGVC)
とし、第2の研磨層の砥粒濃度をその臨界砥粒濃度以下または以上とする。 And then, the abrasive concentration of the second polishing layer and the critical abrasive concentration below or above.

(B)砥粒濃度を第1の研磨層と第2の研磨層とで同じとする場合 第1の研磨層のバインダー樹脂と第2の研磨層のバインダー樹脂とを異ならせ、例えば、第1の研磨層のバインダー樹脂は、第2の研磨層のバインダー樹脂より抗張力が高く、破断伸びの低いものとする。 (B) made different from the binder resin of the abrasive concentration of the first polishing layer and the second polishing layer and in the binder resin of the first polishing layer if the same second polishing layer, for example, the first the binder resin of the abrasive layer, tensile strength than the binder resin of the second polishing layer is high, and low in elongation at break. 主として、第1 Mainly, the first
の研磨層のバインダー樹脂は、熱硬化性樹脂とし、第2 The binder resin for the abrasive layer, a thermosetting resin, a second
の研磨層のバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂とする。 The binder resin of the polishing layer is a thermoplastic resin.

前述したような本発明の研磨フィルムにおいて、使用できる砥粒としては、ダイヤモンド、アルミナ、シリコンカーバイド、チッ化ホウ素、酸化クロム、酸化鉄、酸化ケイ素、水酸化アルミニウム等がある。 In the polishing film of the present invention as described above, as the abrasive grains can be used, diamond, alumina, silicon carbide, boron nitride, chromium oxide, iron oxide, silicon oxide, is aluminum hydroxide.

また、バインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂が使用でき、熱硬化性樹脂としては、2液硬化型ウレタン、1液硬化型ウレタン樹脂、エポキシ・ As the binder resins, thermosetting resins and thermoplastic resins can be used, as the thermosetting resin, two-part curable urethane, 1-component curable urethane resin, epoxy
ポリアミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等、100℃以下で反応(架橋=硬化)するものが適している。 Polyamide resins, unsaturated polyester resins, those which react (crosslink = curing) at 100 ° C. or less are suitable. 熱可塑性樹脂としては、各種アクリル樹脂、ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、エステル系樹脂等が使用でき、また、ゴム系樹脂であるウレタンエラストマー、ニトリルゴム、シリコーンゴム、アクリルゴム、エチレン酢ビゴム、フッ素ゴム等も使用できる。 The thermoplastic resins, various acrylic resins, vinyl resins, cellulose resins, epoxy resins, can ester resin or the like is used, also, urethane elastomers are rubber-based resin, nitrile rubber, silicone rubber, acrylic rubber, ethylene vinegar VIGOM, also fluorine rubber or the like can be used.

フィルム基体であるプラスチックフィルムとしては、 The plastic film is a film substrate,
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネイトおよびそれらを表面処理したもの、その他合成紙、不織布等を使用することができる。 Polyethylene terephthalate, that polyimide, polycarbonate and their surface treatment, other synthetic paper, a nonwoven fabric or the like can be used.

次に、本発明の具体的実験例について説明する。 Next, detailed experimental examples of the present invention.

具体的実験例(1) この実験例は、本発明による研磨フィルムを試作実験するため、各研磨層のバインダー樹脂を同じものとし、 Experimental Example Specific experimental examples (1), in order to prototype testing a polishing film according to the present invention, the binder resin of the polishing layer and the same,
各研磨層の砥粒濃度を異ならせた場合の例であり、先ず、次の表1および2に示すような組成の塗工剤を準備する。 An example in having different abrasive concentration of each of the polishing layer, First, a coating agent having the composition as shown in the following Tables 1 and 2.

但し、数値は、重量部を示し、IRM8−20は、ダイヤモンドパウダー(東名ダイヤモンド製粒径d 50 =11.4μm) However, the numbers indicate the parts by weight, IRM8-20 the diamond powder (Tomei diamond particle size d 50 = 11.4)
であり、この場合の砥粒濃度は、表1の組成では、砥粒/樹脂=3.3/1であり、表2の組成では、砥粒/樹脂= , And the abrasive concentration in this case, in the composition of Table 1 are abrasive / resin = 3.3 / 1, the composition in Table 2, the abrasive / resin =
2.0である。 2.0 is.

表2の組成の塗工剤をメイヤーバーコーター、グラビヤコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター等で、75μm厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、10μm〜100μmの厚さに塗布し第2の研磨層を形成し、その後、表1組成の塗工剤をその第2の研磨層の上に同様の方法で10μm〜100μmの厚さに塗布して第1の研磨層を形成して、研磨シートを製造した。 Table 2 of the coating agent Meyer bar coater composition, gravure coater, reverse roll coater, a knife coater, on a polyethylene terephthalate film of 75μm thickness, the second polishing layer was coated to a thickness of 10μm~100μm formed, producing then form a first polishing layer by applying the coating agent of Table 1 composition to a thickness of 10μm~100μm in a similar manner on the second polishing layer, the polishing sheet did. この場合において、第1の研磨層の厚さと、第2の研磨層との厚さは、その研磨フィルムの使用目的に応じて適当に選定する必要があり、特に、第1の研磨層は、その第1の研磨層による目的の研削工程の完了時に丁度、摩滅消滅したその下の第2の研磨層が表に表れるような厚さに選定する必要がある。 In this case, the thickness of the first polishing layer, the thickness of the second polishing layer, it is necessary to appropriately selected depending on the intended use of the abrasive film, in particular, the first polishing layer, just upon completion of the object of the grinding process according to the first polishing layer, second polishing layer of extinct underlying wear needs to select the to appear such thickness table. その研磨シートを用いて、圧力 The abrasive sheet is used, pressure
140g/cm 2 、回転数200rpm、ワーク回転数125rpmで、アルミを研磨し、一定時間毎に研磨されたアルミの表面粗さおよび体積を測定した。 140 g / cm 2, the rotational speed 200 rpm, with the work rotational speed 125 rpm, polishing the aluminum, the surface roughness was measured and the volume of the aluminum is polished at regular intervals. このときに測定された研磨特性、すなわち、研磨時間対累積研削量の関係および研削時間対表面粗さの関係を第7図に示している。 Measured polishing characteristics at this time, that is, the polishing time versus cumulative amount of grinding relationship and grinding time versus surface roughness of the relationship shown in FIG. 7. この第7 The seventh
図に示された関係から明らかなように、10分間の研削による累積研削量は、160(×10 -4 cm 3 )であり、表面粗さは、0.20(μR a )であった。 And As is apparent from the relationship shown in FIG cumulative grinding amount by grinding for 10 minutes is 160 (× 10 -4 cm 3) , the surface roughness was 0.20 (μR a).

比較実験例(1) 一方、前述した本発明による具体的実験例(1)の研磨フィルムとの作用効果を確認するために、これと比較しうる従来の如き研磨層が1層のみの研磨フィルムを作製するため、表1の組成の塗工液を用いて1層の研磨層のみを有する研磨フィルムと、表2の組成の塗工液を用いて1層の研磨層のみを有する研磨フィルムとを製造し、具体的実験例(1)と同様の実験測定を行った。 Comparative Experiment (1) On the other hand, the polishing film in order to confirm the effects of the the abrasive film, which a conventional such abrasive layer that may be compared only one layer of concrete experimental examples (1) according to the present invention described above for making a polishing film having a polishing film having only the polishing layer of one layer using a coating liquid having the composition shown in Table 1, only the coating liquid polishing layer of one layer using the composition of Table 2 manufactured was subjected to the same experimental measurements with specific experimental examples (1). このときの、表1の組成の塗工液で研磨層を形成した研磨フィルムの研削時間対累積研削量の関係および研削時間対表面粗さの関係を、第8図に示し、表2の組成の塗工液で研磨層を形成した研磨フィルムの研削時間対累積研削量の関係および研削時間対表面粗さの関係を、第9図に示している。 In this case, the grinding time versus cumulative amount of grinding relationship and grinding time versus surface roughness of the relationship between the polishing film forming the polishing layer with a coating liquid having the composition shown in Table 1, shown in FIG. 8, the composition of Table 2 the relationship between the coating liquid at the grinding time versus cumulative amount of grinding abrasive film forming the polishing layer and the grinding time versus surface roughness of the relationships is shown in FIG. 9. これら第8図および第9図から明らかなように、表1の組成の塗工液で形成した研磨層のみを有する研磨フィルムで10分間研磨した場合には、累積研削量は、210(×10 -4 cm 3 )で、表面粗さは、0.25(μR a These Figure 8 and as is clear from FIG. 9, when polished for 10 minutes with a polishing film having only a polishing layer formed by coating liquid having the composition shown in Table 1, the cumulative grinding amount is 210 (× 10 in -4 cm 3), the surface roughness, 0.25 (μR a)
であった。 Met. これを、具体的実験例(1)のものと比較すると、累積研削量は、多いが、仕上り面の表面粗さは大きくなってしまうことが分かる。 When this is compared with that of concrete experimental example (1), the cumulative grinding amount is larger, it is seen that the surface roughness of the finished surface becomes large. 一方、表2の組成の塗工液で形成した研磨層のみを有する研磨フィルムで10分間研磨した場合には、累積研削量は、140(×10 -4 cm 3 On the other hand, if it is polished for 10 minutes with a polishing film having only a polishing layer formed by coating liquid having the composition of Table 2, the cumulative grinding amount, 140 (× 10 -4 cm 3 )
で、表面粗さは、0.10(μR a )であった。 In, the surface roughness was 0.10 (μR a). これを、具体的実験例(1)のものと比較すると、仕上り表面粗さは小さいが、累積研削量が少なくなってしまうことが分かる。 This, when compared with that of concrete experimental example (1), but finished surface roughness is small, it can be seen that the cumulative grinding amount becomes smaller. 従って、具体的実験例(1)の研磨フィルムと同程度の累積研削量を得るためには、第1の研磨層だけでは、表面粗さが大きすぎてしまい、第2の研磨層のみでは、研削時間が10分間以上かかってしまうことになる。 Therefore, in order to obtain the cumulative grinding amount comparable to the polishing film of specific experimental examples (1), only the first polishing layer, the surface roughness becomes too large, only the second abrasive layer, grinding time is that it takes more than 10 minutes.

具体的実験例(2) この実験例は、本発明による研磨フィルムを試作実験するため、各研磨層の砥粒濃度を同じものとし、各研磨層のバインダー樹脂を異ならせた場合の例であり、先ず、次の表3および4に示すような組成の塗工剤を準備する。 Specific experimental examples (2) This experimental example, in order to prototype testing a polishing film according to the present invention, the abrasive concentration of the polishing layer is the same as, be the case when having different binder resin of the abrasive layer , first, a coating agent having the composition as shown in the following tables 3 and 4.

但し、数値は、重量部を示し、IRM8−20は、ダイヤモンドパウダー(東名ダイヤモンド製粒径d 50 =11.4μm) However, the numbers indicate the parts by weight, IRM8-20 the diamond powder (Tomei diamond particle size d 50 = 11.4)
であり、この場合の砥粒濃度は、表3および4の組成において共に、同じく、砥粒/樹脂=2.0/1である。 , And the abrasive concentration in this case, both in the composition of Table 3 and 4, similarly, a abrasive / resin = 2.0 / 1.

表4の組成の塗工剤をメイヤーバーコーター、グラビヤコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター等で、75μm厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、10μm〜100μmの厚さに塗布し第2の研磨層を形成し、その後、表3の組成の塗工剤をその第2の研磨層の上に同様の方法で10μm〜100μmの厚さに塗布して第1の研磨層を形成して、研磨シートを製造した。 Table 4 coating agent Meyer bar coater composition, gravure coater, reverse roll coater, a knife coater, on a polyethylene terephthalate film of 75μm thickness, the second polishing layer was coated to a thickness of 10μm~100μm formed, then forming the first polishing layer by applying a coating agent having the composition shown in Table 3 to a thickness of 10μm~100μm in a similar manner on the second polishing layer, the polishing sheet It was produced.
この場合形成された第1の研磨層の塗膜物性は、抗張力が300kg/cm 2 、破断伸びが1%であり、第2の研磨層の塗膜物性は、抗張力が10kg/cm 2 、破断伸びが300%であった。 Coating film properties of the first polishing layer in this case is formed, tensile strength 300 kg / cm 2, breaking elongation was 1%, the coating film properties of the second abrasive layer, tensile strength 10 kg / cm 2, breaking growth was 300%. このような研磨シートを用いて、圧力140g/cm 2 Using such abrasive sheet, pressure 140 g / cm 2,
回転数200rpm、ワーク回転数125rpmで、アルミを研磨し、一定時間毎に研磨されたアルミの表面粗さおよび体積を測定した。 Rpm 200 rpm, with the work rotational speed 125 rpm, polishing the aluminum, the surface roughness was measured and the volume of the aluminum is polished at regular intervals. このときに測定された研磨特性、すなわち、研削時間対累積研削量の関係および研削時間対表面粗さの関係を第10図に示している。 Measured polishing characteristics at this time, that is, the grinding time versus cumulative amount of grinding relationship and grinding time versus surface roughness of the relationship shown in FIG. 10. この第10図に示された関係から明らかなように、10分間の研削による累積研削量は、100×(10 -4 cm 3 )であり、表面粗さは、0.03 The tenth as is clear from the indicated relationship in the figure, the cumulative grinding amount by grinding for 10 minutes is 100 × (10 -4 cm 3) , the surface roughness is 0.03
(μR a )であった。 Was (μR a).

比較実験例(2) 一方、前述した本発明による具体的実験例(2)の研磨フィルムとの作用効果を確認するために、これと比較しうる従来の如き研磨層が1層のみの研磨フィルムを作製するため、表3の組成の塗工液を用いて1層の研磨層のみを有する研磨フィルムと、表4の組成の塗工液を用いて1層の研磨層のみを有する研磨フィルムとを製造し、具体的実験例(2)と同様の実験測定を行った。 Comparative Experiment Example (2) On the other hand, the polishing film in order to confirm the effects of the the abrasive film, which a conventional such abrasive layer that may be compared only one layer of concrete experimental examples (2) according to the present invention described above for making a polishing film having a polishing film having only coating liquid polishing layer of one layer using the composition of Table 3, only the coating liquid polishing layer of one layer using the composition of Table 4 manufactured was subjected to the same experimental measurements with specific experimental examples (2). このときの、表1の組成の塗工液で研磨層を形成した研磨フィルムの研削時間対累積研削量の関係および研削時間対表面粗さの関係を、第11図に示し、表4の組成の塗工液で研磨層を形成した研磨フィルムの研削時間対累積研削量の関係および研削時間対表面粗さの関係を、第12図に示している。 In this case, the grinding time versus cumulative amount of grinding relationship and grinding time versus surface roughness of the relationship between the polishing film forming the polishing layer with a coating liquid having the composition shown in Table 1, shown in FIG. 11, the composition of Table 4 the relationship between the coating liquid at the grinding time versus cumulative amount of grinding abrasive film forming the polishing layer and the grinding time versus surface roughness of the relationships is shown in FIG. 12. これら第11図および第12図から明らかなように、表3の組成の塗工液で形成した研磨層のみを有する研磨フィルムで10分間研磨した場合には、累積研削量は、150(×10 -4 cm 3 )で、表面粗さは、0.09(μR a These Figure 11 and as is clear from FIG. 12, when the polishing for 10 minutes with a polishing film having only a polishing layer formed by coating liquid having the composition shown in Table 3, the cumulative grinding amount, 0.99 (× 10 in -4 cm 3), the surface roughness, 0.09 (μR a)
であった。 Met. これを、具体的実験例(2)のものと比較すると、累積研削量は、多いが、仕上り面の表面粗さは大きくなってしまうことが分かる。 When this is compared with that of concrete experimental examples (2), the cumulative grinding amount is larger, it is seen that the surface roughness of the finished surface becomes large. 一方、表4の組成の塗工液で形成した研磨層のみを有する研磨フィルムで10分間研磨した場合には、累積研削量は、45(×10 -4 cm 3 On the other hand, if it is polished for 10 minutes with a polishing film having only a polishing layer formed by coating liquid having the composition shown in Table 4, the cumulative grinding amount, 45 (× 10 -4 cm 3 )
で、表面粗さは、0.02(μR a )であった。 In, the surface roughness was 0.02 (μR a). これを、具体的実験例(2)のものと比較すると、仕上り表面粗さは小さいが、累積研削量が少なくなってしまうことが分かる。 This, when compared with that of concrete experimental examples (2), but finished surface roughness is small, it can be seen that the cumulative grinding amount becomes smaller. 従って、具体的実験例(1)の研磨フィルムと同程度の累積研削量を得るためには、第1の研磨層だけでは、表面粗さが大きすぎてしまい、第2の研磨層のみでは、研削時間が10分間以上かかってしまうことになる。 Therefore, in order to obtain the cumulative grinding amount comparable to the polishing film of specific experimental examples (1), only the first polishing layer, the surface roughness becomes too large, only the second abrasive layer, grinding time is that it takes more than 10 minutes.

その他の具体的実験例およびその比較実験例を次に列挙する。 Then listed other specific experimental examples and comparative experimental examples thereof. なお、これらの実験条件は、実験例(1)と同じである。 Note that these experimental conditions are the same as in Experimental Example (1).

具体的実験例(3) ワークの種類:チッ化ケイ素 砥粒の種類:IRM8−20 第1の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:50vol% 第2の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:10vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:80×10 -4 cm 3表面粗さ:0.09μR a比較実験例(3) (A) ワークの種類:チッ化ケイ素 砥粒の種類:IRM8−20 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:50vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:100×10 -4 cm 3表面粗さ:0.28μR a (B) ワークの種類:チッ化ケイ素 砥粒の種類:IRM8−20 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:10vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:50×10 -4 cm 3表面粗さ:0.08μR a具体的実験例(4) ワークの種類:ポリ Specific experimental examples (3) Work Type: nitride silicon grains Type: IRM8-20 composition of the first polishing layer: a binder resin Type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 50 vol% No. the composition of the second polishing layer: a binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 10 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 80 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.09Myuaru a Comparative experiment example (3) (a) work type: nitride silicon grains type: IRM8-20 composition of single abrasive layer: a binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 50 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 100 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.28μR a (B) work type: nitride silicon grains type: IRM8-20 composition of single abrasive layer: binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 10 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 50 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.08Myuaru a specific experimental examples (4) work type: poly チルメタクリレート 砥粒の種類:WA1500(昭和電工製) 第1の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:50vol% 第2の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:10vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:180×10 -4 cm 3表面粗さ:0.20μR a比較実験例(4) (A) ワークの種類:ポリメチルメタクリレート 砥粒の種類:WA1500 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:50vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:210×10 -4 cm 3表面粗さ:0.25μR a (B) ワークの種類:ポリメチルメタクリレート 砥粒の種類:WA1500 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:10vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:90×10 -4 cm 3表面粗さ:0.18μR a具体的実験例(5) ワークの種 Chill methacrylate abrasive Type: WA1500 composition (produced by Showa Denko) first polishing layer: a binder resin Type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: The composition of 50 vol% the second polishing layer: Binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 10 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 180 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.20Myuaru a Comparative experiment example (4) (a) work type: polymethylmethacrylate grains type: WA1500 composition of single abrasive layer: a binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 50 vol% measurement: 10 min cumulative amount of grinding: 210 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.25μR a (B) work type: polymethylmethacrylate grains type: WA1500 composition of single abrasive layer: a binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive grain concentration: 10 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 90 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.18Myuaru a specific experimental examples (5) of the workpiece species :チッ化ケイ素 砥粒の種類:IRM8−20 第1の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:50vol% 第2の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:N2304 砥粒濃度:50vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:70×10 -4 cm 3表面粗さ:0.08μR a比較実験例(5) (A) ワークの種類:チッ化ケイ素 砥粒の種類:IRM8−20 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:50vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:100×10 -4 cm 3表面粗さ:0.28μR a (B) ワークの種類:チッ化ケイ素 砥粒の種類:IRM8−20 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:N2304 砥粒濃度:50vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:20×10 -4 cm 3表面粗さ:0.06μR a具体的実験例(6) ワークの種類:ポリメチルメタクリレート 砥粒の種類:WA1500(昭和電工製) 第1の : Nitride silicon grains Type: IRM8-20 composition of the first polishing layer: a binder resin Type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: The composition of 50 vol% the second polishing layer: the binder resin type: N2304 abrasive concentration: 50 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 70 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.08Myuaru a Comparative experiment example (5) (a) work type: nitride silicon abrasive grain type: IRM8-20 composition of single abrasive layer: a binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 50 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 100 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.28μR a (B) work type: nitride silicon grains type: IRM8-20 composition of single abrasive layer: a binder resin type: N2304 abrasive concentration: 50 vol% measurement result: 10 minutes cumulative amount of grinding: 20 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.06Myuaru a specific experimental examples (6) work type: polymethylmethacrylate grains type: WA1500 (produced by Showa Denko) first 磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:30vol% 第2の研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:N2304 砥粒濃度:30vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:100×10 -4 cm 3表面粗さ:0.19μR a比較実験例(6) (A) ワークの種類:ポリメチルメタクリレート 砥粒の種類:WA1500 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:VAGH=100 C−L=10 砥粒濃度:30vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:180×10 -4 cm 3表面粗さ:0.22μR a (B) ワークの種類:ポリメチルメタクリレート 砥粒の種類:WA1500 単一研磨層の組成: バインダー樹脂の種類:N2304 砥粒濃度:30vol% 測定結果: 10分間の累積研削量:70×10 -4 cm 3表面粗さ:0.10μR a発明の効果 前述の説明から明らかなように、本発明による研磨フィルムは、研削作業の目的に合わせて研削特性の異なる研磨 Composition of Migakuso: the binder resin Type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: The composition of 30 vol% the second polishing layer: a binder resin Type: N2304 abrasive concentration: 30 vol% Measurement Result: 10 minutes cumulative amount of grinding: 100 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.19Myuaru a Comparative experiment example (6) (a) work type: polymethylmethacrylate grains type: WA1500 composition of single abrasive layer: a binder resin type: VAGH = 100 C-L = 10 abrasive concentration: 30 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 180 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.22μR a (B) work type: polymethyl methacrylate abrasive type: WA1500 composition of single abrasive layer: a binder resin type: N2304 abrasive concentration: 30 vol% measurement: 10 min cumulative grinding amount: 70 × 10 -4 cm 3 surface roughness: 0.10Myuaru a iNVENTION effect as apparent from the foregoing description, the polishing film according to the present invention, different grinding characteristics to suit the purpose of grinding polishing を設けるようにすることにより、1つの研磨フィルムにて所望の研削作業を短時間にて完了させることができる。 By so providing the, it can be completed desired grinding work in a short time at a single abrasive film. 例えば、本発明の研磨フィルムは、第1の研磨層を研削力の高いものとし、第2の研磨層を仕上げ精度の優れたものとしておくことにより、同一の研磨フィルムにて高研削と高精密仕上げを行うことができ、作業性を著しく向上させることができる。 For example, the polishing films of the present invention, the first polishing layer and having a high grinding force, by previously and excellent precision finishing second polishing layer, high grinding and high precision in the same polishing film finishing can be carried out, it is possible to remarkably improve the workability. つまり、研磨フィルムを交換することなく、初期に第1の研磨層にて所定の高い研削量を達成し、丁度、第1の研磨層の摩滅消滅後に表面に出てくる第2の研磨層にて精密仕上げ研磨を達成することができる。 That is, without replacing the polishing film, initially to achieve a predetermined high grinding amount in the first polishing layer, just the second polishing layer emerging on the surface after abrasion disappearance of the first polishing layer it is possible to achieve a precise finish polishing Te.

また、本発明の実施例の如く、研磨特性の異なる研磨層を同一の砥粒を用いて形成するようにすれば、研磨フィルムの製造工程、研磨工程(使用時)で、異なる粒径の砥粒が不所望に混入することがなく、非常に良質の研磨フィルムを作製することができる。 Also, as in the embodiment of the present invention, if a different abrasive layer having abrasive characteristics so as to form with the same abrasive grain, manufacturing process of polishing the film, in the polishing step (when used), abrasive of different particle sizes without grains mixed undesirably very it can be made abrasive film of good quality. また、本発明によって、同一の砥粒、同一のバインダー樹脂を使用する場合には、研磨フィルムの製造工程において、第1の研磨層、第2の研磨層の各々の塗工剤の砥粒濃度を調整するだけで形成できるので、材料の損失量を少なくすることができ経済的であり、結局は安価な研磨フィルムを製造することができる。 Further, the present invention, the same abrasive grains, when using the same binder resin, in the manufacturing process of polishing the film, the first polishing layer, abrasive concentration of each of the coating material of the second polishing layer it can be formed only by adjusting the, economical it is possible to reduce the loss of material, eventually it is possible to manufacture an inexpensive abrasive film.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

第1図から第6図は、本発明の種々な実施例の研磨フィルムの一部分をそれぞれ示す断面図、第7図は、本発明の一実施例の研磨フィルムの研磨特性の一例を示す図、 Figure 6 from FIG. 1 is a sectional view showing the respective portions of the polishing films of various embodiments of the present invention, FIG. 7 is a diagram showing an example of the polishing characteristics of the polishing film of an embodiment of the present invention,
第8図および第9図は、第7図に示した研磨特性を有する研磨フィルムと比較対象となるような研磨フィルムの研磨特性を示す図、第10図は、本発明の別の実施例の研磨フィルムの研磨特性の一例を示す図、第11図および第 Figure 8 and Figure 9 is a view showing a polishing characteristics of the polishing film, such as the object of comparison with the polishing films having a polishing characteristics shown in FIG. 7, FIG. 10, of another embodiment of the present invention diagram showing an example of the polishing characteristics of the polishing film, FIG. 11 and the
12図は、第10図に示した研磨特性を有する研磨フィルムと比較対象となる研磨フィルムの研磨特性を示す図である。 12 is a drawing showing a polishing characteristics of the polishing film to be compared with the abrasive film having abrasive characteristics shown in FIG. 10. 1……プラスチックフィルム、 2、4……砥粒、3、5……バインダー樹脂。 1 ...... plastic film, 2,4 ...... abrasive, 3,5 ...... binder resin.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 茂 東京都台東区台東1―5―1 東京磁気 印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−65780(JP,A) 特開 昭62−218072(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Shigeru Sakai Taito-ku, Tokyo Taito 1-5-1 Tokyo magnetic printing within Co., Ltd. (56) reference Patent Sho 61-65780 (JP, a) JP Akira 62 -218072 (JP, A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】 (57) [the claims]
  1. 【請求項1】フィルム基体上に、研削特性の異なる少なくとも2つの研磨層を重ねて有し、前記研磨層の各々は、同一のバインダー樹脂中に同一の砥粒を異なる濃度にて分散させてなることを特徴とする研磨フィルム。 To 1. A film on a substrate, comprising overlapping at least two different abrasive layer of the grinding characteristics, each of the abrasive layer is the same abrasive grains in the same binder resin are dispersed at different concentrations polishing film characterized by comprising.
  2. 【請求項2】前記砥粒濃度は、上層の方が大きい特許請求の範囲第(1)項記載の研磨フィルム。 Wherein said abrasive concentration, the range of greater claims towards the upper (1) polishing film according to claim.
  3. 【請求項3】フィルム基体上に、研削特性の異なる少なくとも2つの研磨層を重ねて有し、前記研磨層の各々は、異なるバインダー樹脂中に、同一の砥粒を同一の砥粒濃度にて分散させてなることを特徴とする研磨フィルム。 To 3. A film on a substrate, comprising overlapping at least two different abrasive layer of the grinding characteristics, each of the abrasive layer, in different binder resin, the same abrasive grains in the same abrasive concentrations polishing film characterized by comprising dispersed.
  4. 【請求項4】前記研磨層のうち上層の研磨層の前記バインダー樹脂は、下層の研磨層の前記バインダー樹脂より、抗張力が高く破断伸びが低いものである特許請求の範囲第(3)項記載の研磨フィルム。 The binder resin of the upper layer of the abrasive layer of claim 4, wherein the abrasive layer from the binder resin in the lower layer of the polishing layer, the range of the (3) of claims is intended is less high elongation at break tensile strength claim wherein polishing film.
  5. 【請求項5】前記研磨層のうち上層の研磨層の前記バインダー樹脂は、熱硬化性樹脂であり、下層の研磨層の前記バインダー樹脂は、熱可塑性樹脂である特許請求の範囲第(4)項記載の研磨フィルム。 The binder resin of the upper layer of the abrasive layer of claim 5, wherein the abrasive layer is a thermosetting resin, the binder resin of the lower abrasive layer, claims a thermoplastic resin first (4) abrasive film of claim wherein.
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