JP2623952B2 - 集積回路パッケージ - Google Patents

集積回路パッケージ

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JP2623952B2 JP2278107A JP27810790A JP2623952B2 JP 2623952 B2 JP2623952 B2 JP 2623952B2 JP 2278107 A JP2278107 A JP 2278107A JP 27810790 A JP27810790 A JP 27810790A JP 2623952 B2 JP2623952 B2 JP 2623952B2
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    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は集積回路パッケージに関し、特にコンピュー
タなどに使用されるLSI(大規模集積回路)パッケージ
の表面実装用ピングリッドアレイ(PGA)の構造に関す
る。
従来技術 従来、LSIパッケージの表面実装用ピングリッドアレ
イ、特に入出力用ピン(以下I/Oピンとする)の構造お
よび形成方法においては、第3図に示すように、LSI1の
セラミック基板10への実装と、I/Oピン8−1〜8−5
のセラミック基板10への装着とが夫々別工程および別構
成をとっている。
すなわち、I/Oピン8−1〜8−5のセラミック基板1
0への装着は図示せぬ配列治具にI/Oピン8−1〜8−5
を挿入し、この状態でI/Oピン8−1〜8−5を接合部
9−1〜9−5でセラミック基板10にロー付けまたはは
んだ付けした後に、配列治具をI/Oピン8−1〜8−5
から取外した構成となっていた。
また、LSI1のセラミック基板10への実装は、I/Oピン
8−1〜8−5のセラミック基板10への装着が終わって
から、LSI1をセラミック基板10にはんだバンプ部11−1
〜11−5で接合することにより行われており、その後に
キャップ5がLSI1およびセラミック基板10に接合部6,7
で接合される構成となっていた。
このような従来のLSIパッケージでは、LSI1のセラミ
ック基板10への実装と、I/Oピン8−1〜8−5のセラ
ミック基板10への装着とが夫々別工程および別構成をと
っているので、製造コストが高くなるという問題があ
る。
また、I/Oピン8−1〜8−5のセラミック基板10へ
の装着が配列治具を用いて行っているので、I/Oピン8
−1〜8−5のピッチやピン径が微細で、配列治具の加
工精度や形状などが悪いと、配列治具を取外すときにI/
Oピン8−1〜8−5本体またはセラミック基板10とI/O
ピン8−1〜8−5との接合部9−1〜9−5に無理な
力が加わってしまい、品質や信頼性の上で好ましくない
という問題がある。
よって、加工精度的にみてI/Oピン8−1〜8−5の
ピッチは1.27mmが、I/Oピン8−1〜8−5のピン径は
0.2mmφが生産上の限度であり、高密度多ピンのLSIパッ
ケージにはむかないという問題がある。
発明の目的 本発明は上記のような従来のものの問題点を除去すべ
くなされたもので、高密度多ピン化に適した集積回路パ
ッケージの提供を目的とする。
発明の構成 本発明による集積回路パッケージは、各々入出力ピン
が接続される複数の接続パッドを有する集積回路と、前
記接続パッドの取付け位置に夫々対応する位置に前記入
出力ピンが貫通する貫通穴を有しかつ前記貫通穴に貫通
された前記入出力ピンを保持するセラミック基板とを含
み、前記セラミック基板に保持された前記入出力ピンを
前記接続パッド各々に接合して前記集積回路と前記セラ
ミック基板との間隔を0.5〜2.0mmの長さとしかつ前記集
積回路と前記セラミック基板とにおける熱膨張率の違い
による熱ストレスを前記入出力ピンにより緩和するよう
にしたことを特徴とする。
実施例 次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。図に
おいて、LSI1の一面にはAl、Cu、Au、Au/Sn、Sn/Pbなど
で形成された接続パッド2−1〜2−5が設けられてお
り、これら接続パッド2−1〜2−5各々に入出力ピン
(以下I/Oピンとする)3−1〜3−5がロー付けまた
ははんだ付けにより接合されるようになっている。
I/Oピン3−1〜3−5の構成材料は機械的強度が強
く、電気的特性の良いNi、W、コバールもしくはCu合金
が使用されている。
I/Oピン3−1〜3−5はLSI1の接続パッド2−1〜
2−5との位置合せを行い、またI/Oピン3−1〜3−
5を配列させて保持しておくために、セラミック基板4
に予め設けられた貫通穴に挿入されて保持される。
このセラミック基板4はI/Oピン3−1〜3−5を配
列させて保持しておくが、従来の配列治具のようにLSI1
に接合された後に取外されることはなく、パッケージ母
体としてそのまま使用され、つまりセラミック基板4に
保持されたI/Oピン3−1〜3−5がLSI1に接合されて
から、LSI1およびセラミック基板4にキャップ5が接合
部6,7で接合される。
第2図(a)〜(c)は本発明の一実施例によるLSI
パッケージの製造工程を示す図である。これら第1図お
よび第2図を用いて本発明の一実施例の動作について説
明する。
まず、I/Oピン3−1〜3−5をセラミック基板4の
予め設けられた貫通穴に挿入し、セラミック基板4によ
りI/Oピン3−1〜3−5を配列させて保持しておく
[第2図(a)参照]。
次に、セラミック基板4により配列させたI/Oピン3
−1〜3−5をLSI1の接続パッド2−1〜2−5にロー
付けまたははんだ付けにより接合する[第2図(b)参
照]。
ここで、セラミック基板4はパッケージ母体としてそ
のまま使用されるので、セラミック基板4に保持された
I/Oピン3−1〜3−5がLSI1の接続パッド2−1〜2
−5に接合されてからも取外す必要がない。
したがって、I/Oピン3−1〜3−5のピッチが1.0mm
以下、ピン径が0.1mmφ以下の微細加工も可能となる。
I/Oピン3−1〜3−5をLSI1の接続パッド2−1〜
2−5に接合すると、Al2O3セラミックやAlNもしくはSi
Cなどで形成されたキャップ5がセラミック基板4に接
合部6でAgローやAu/Sn、あるいはSn/Pbによるロー付け
やはんだ付けで接着封止される[第2図(c)参照]。
また、キャップ5はLSI1の放熱のために、LSI1のI/O
ピン3−1〜3−5が装着されている面と反対側の面に
おいてAgエポキシ樹脂もしくはSn/Pbなどのはんだによ
り接合部7で接着されている[第2図(c)参照]。
これにより、LSI1とセラミック基板4とがI/Oピン3
−1〜3−5を介して接続されるので、I/Oピン3−1
〜3−5を予め設定された長さに設定することで、LSI1
とセラミック基板4とにおける熱膨張率の違いによる熱
ストレスはI/Oピン3−1〜3−5によりほとんど緩和
されることになる。
通常、I/Oピン3−1〜3−5のその部分の長さは0.5
mm〜2.0mm位に設計される。
このように、I/Oピン3−1〜3−5をセラミック基
板4に予め設けた貫通穴を通してLSI1の接続パッド2−
1〜2−5に直接装着するようにすることによって、高
密度化、多ピン化に適した構成とすることができる。
発明の効果 以上説明したように本発明によれば、入出力ピンをセ
ラミック基板に予め設けた貫通穴を通して集積回路に直
接装着するようにすることによって、高密度多ピン化に
適した構成とすることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示す断面図、第2図は本発
明の一実施例によるLSIパッケージの製造工程を示す
図、第3図は従来例を示す断面図である。 主要部分の符号の説明 1……LSI 2−1〜2−5……接続パッド 3−1〜3−5……入出力ピン 4……セラミック基板

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】各々入出力ピンが接続される複数の接続パ
    ッドを有する集積回路と、前記接続パッドの取付け位置
    に夫々対応する位置に前記入出力ピンが貫通する貫通穴
    を有しかつ前記貫通穴に貫通された前記入出力ピンを保
    持するセラミック基板とを含み、前記セラミック基板に
    保持された前記入出力ピンを前記接続パッド各々に接合
    して前記集積回路と前記セラミック基板との間隔を0.5
    〜2.0mmの長さとしかつ前記集積回路と前記セラミック
    基板とにおける熱膨張率の違いによる熱ストレスを前記
    入出力ピンにより緩和するようにしたことを特徴とする
    集積回路パッケージ。
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FR9112819A FR2668302B1 (fr) 1990-10-17 1991-10-17 Boitier comportant un ou plusieurs circuits integres et procede de fabrication de ce boitier.

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JPH04152662A JPH04152662A (ja) 1992-05-26
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Publication number Publication date
FR2668302A1 (fr) 1992-04-24
JPH04152662A (ja) 1992-05-26
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