JP2623952B2 - 集積回路パッケージ - Google Patents
集積回路パッケージInfo
- Publication number
- JP2623952B2 JP2623952B2 JP2278107A JP27810790A JP2623952B2 JP 2623952 B2 JP2623952 B2 JP 2623952B2 JP 2278107 A JP2278107 A JP 2278107A JP 27810790 A JP27810790 A JP 27810790A JP 2623952 B2 JP2623952 B2 JP 2623952B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pins
- ceramic substrate
- integrated circuit
- input
- connection pads
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/053—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15172—Fan-out arrangement of the internal vias
- H01L2924/15174—Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15312—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a pin array, e.g. PGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は集積回路パッケージに関し、特にコンピュー
タなどに使用されるLSI(大規模集積回路)パッケージ
の表面実装用ピングリッドアレイ(PGA)の構造に関す
る。
タなどに使用されるLSI(大規模集積回路)パッケージ
の表面実装用ピングリッドアレイ(PGA)の構造に関す
る。
従来技術 従来、LSIパッケージの表面実装用ピングリッドアレ
イ、特に入出力用ピン(以下I/Oピンとする)の構造お
よび形成方法においては、第3図に示すように、LSI1の
セラミック基板10への実装と、I/Oピン8−1〜8−5
のセラミック基板10への装着とが夫々別工程および別構
成をとっている。
イ、特に入出力用ピン(以下I/Oピンとする)の構造お
よび形成方法においては、第3図に示すように、LSI1の
セラミック基板10への実装と、I/Oピン8−1〜8−5
のセラミック基板10への装着とが夫々別工程および別構
成をとっている。
すなわち、I/Oピン8−1〜8−5のセラミック基板1
0への装着は図示せぬ配列治具にI/Oピン8−1〜8−5
を挿入し、この状態でI/Oピン8−1〜8−5を接合部
9−1〜9−5でセラミック基板10にロー付けまたはは
んだ付けした後に、配列治具をI/Oピン8−1〜8−5
から取外した構成となっていた。
0への装着は図示せぬ配列治具にI/Oピン8−1〜8−5
を挿入し、この状態でI/Oピン8−1〜8−5を接合部
9−1〜9−5でセラミック基板10にロー付けまたはは
んだ付けした後に、配列治具をI/Oピン8−1〜8−5
から取外した構成となっていた。
また、LSI1のセラミック基板10への実装は、I/Oピン
8−1〜8−5のセラミック基板10への装着が終わって
から、LSI1をセラミック基板10にはんだバンプ部11−1
〜11−5で接合することにより行われており、その後に
キャップ5がLSI1およびセラミック基板10に接合部6,7
で接合される構成となっていた。
8−1〜8−5のセラミック基板10への装着が終わって
から、LSI1をセラミック基板10にはんだバンプ部11−1
〜11−5で接合することにより行われており、その後に
キャップ5がLSI1およびセラミック基板10に接合部6,7
で接合される構成となっていた。
このような従来のLSIパッケージでは、LSI1のセラミ
ック基板10への実装と、I/Oピン8−1〜8−5のセラ
ミック基板10への装着とが夫々別工程および別構成をと
っているので、製造コストが高くなるという問題があ
る。
ック基板10への実装と、I/Oピン8−1〜8−5のセラ
ミック基板10への装着とが夫々別工程および別構成をと
っているので、製造コストが高くなるという問題があ
る。
また、I/Oピン8−1〜8−5のセラミック基板10へ
の装着が配列治具を用いて行っているので、I/Oピン8
−1〜8−5のピッチやピン径が微細で、配列治具の加
工精度や形状などが悪いと、配列治具を取外すときにI/
Oピン8−1〜8−5本体またはセラミック基板10とI/O
ピン8−1〜8−5との接合部9−1〜9−5に無理な
力が加わってしまい、品質や信頼性の上で好ましくない
という問題がある。
の装着が配列治具を用いて行っているので、I/Oピン8
−1〜8−5のピッチやピン径が微細で、配列治具の加
工精度や形状などが悪いと、配列治具を取外すときにI/
Oピン8−1〜8−5本体またはセラミック基板10とI/O
ピン8−1〜8−5との接合部9−1〜9−5に無理な
力が加わってしまい、品質や信頼性の上で好ましくない
という問題がある。
よって、加工精度的にみてI/Oピン8−1〜8−5の
ピッチは1.27mmが、I/Oピン8−1〜8−5のピン径は
0.2mmφが生産上の限度であり、高密度多ピンのLSIパッ
ケージにはむかないという問題がある。
ピッチは1.27mmが、I/Oピン8−1〜8−5のピン径は
0.2mmφが生産上の限度であり、高密度多ピンのLSIパッ
ケージにはむかないという問題がある。
発明の目的 本発明は上記のような従来のものの問題点を除去すべ
くなされたもので、高密度多ピン化に適した集積回路パ
ッケージの提供を目的とする。
くなされたもので、高密度多ピン化に適した集積回路パ
ッケージの提供を目的とする。
発明の構成 本発明による集積回路パッケージは、各々入出力ピン
が接続される複数の接続パッドを有する集積回路と、前
記接続パッドの取付け位置に夫々対応する位置に前記入
出力ピンが貫通する貫通穴を有しかつ前記貫通穴に貫通
された前記入出力ピンを保持するセラミック基板とを含
み、前記セラミック基板に保持された前記入出力ピンを
前記接続パッド各々に接合して前記集積回路と前記セラ
ミック基板との間隔を0.5〜2.0mmの長さとしかつ前記集
積回路と前記セラミック基板とにおける熱膨張率の違い
による熱ストレスを前記入出力ピンにより緩和するよう
にしたことを特徴とする。
が接続される複数の接続パッドを有する集積回路と、前
記接続パッドの取付け位置に夫々対応する位置に前記入
出力ピンが貫通する貫通穴を有しかつ前記貫通穴に貫通
された前記入出力ピンを保持するセラミック基板とを含
み、前記セラミック基板に保持された前記入出力ピンを
前記接続パッド各々に接合して前記集積回路と前記セラ
ミック基板との間隔を0.5〜2.0mmの長さとしかつ前記集
積回路と前記セラミック基板とにおける熱膨張率の違い
による熱ストレスを前記入出力ピンにより緩和するよう
にしたことを特徴とする。
実施例 次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
する。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。図に
おいて、LSI1の一面にはAl、Cu、Au、Au/Sn、Sn/Pbなど
で形成された接続パッド2−1〜2−5が設けられてお
り、これら接続パッド2−1〜2−5各々に入出力ピン
(以下I/Oピンとする)3−1〜3−5がロー付けまた
ははんだ付けにより接合されるようになっている。
おいて、LSI1の一面にはAl、Cu、Au、Au/Sn、Sn/Pbなど
で形成された接続パッド2−1〜2−5が設けられてお
り、これら接続パッド2−1〜2−5各々に入出力ピン
(以下I/Oピンとする)3−1〜3−5がロー付けまた
ははんだ付けにより接合されるようになっている。
I/Oピン3−1〜3−5の構成材料は機械的強度が強
く、電気的特性の良いNi、W、コバールもしくはCu合金
が使用されている。
く、電気的特性の良いNi、W、コバールもしくはCu合金
が使用されている。
I/Oピン3−1〜3−5はLSI1の接続パッド2−1〜
2−5との位置合せを行い、またI/Oピン3−1〜3−
5を配列させて保持しておくために、セラミック基板4
に予め設けられた貫通穴に挿入されて保持される。
2−5との位置合せを行い、またI/Oピン3−1〜3−
5を配列させて保持しておくために、セラミック基板4
に予め設けられた貫通穴に挿入されて保持される。
このセラミック基板4はI/Oピン3−1〜3−5を配
列させて保持しておくが、従来の配列治具のようにLSI1
に接合された後に取外されることはなく、パッケージ母
体としてそのまま使用され、つまりセラミック基板4に
保持されたI/Oピン3−1〜3−5がLSI1に接合されて
から、LSI1およびセラミック基板4にキャップ5が接合
部6,7で接合される。
列させて保持しておくが、従来の配列治具のようにLSI1
に接合された後に取外されることはなく、パッケージ母
体としてそのまま使用され、つまりセラミック基板4に
保持されたI/Oピン3−1〜3−5がLSI1に接合されて
から、LSI1およびセラミック基板4にキャップ5が接合
部6,7で接合される。
第2図(a)〜(c)は本発明の一実施例によるLSI
パッケージの製造工程を示す図である。これら第1図お
よび第2図を用いて本発明の一実施例の動作について説
明する。
パッケージの製造工程を示す図である。これら第1図お
よび第2図を用いて本発明の一実施例の動作について説
明する。
まず、I/Oピン3−1〜3−5をセラミック基板4の
予め設けられた貫通穴に挿入し、セラミック基板4によ
りI/Oピン3−1〜3−5を配列させて保持しておく
[第2図(a)参照]。
予め設けられた貫通穴に挿入し、セラミック基板4によ
りI/Oピン3−1〜3−5を配列させて保持しておく
[第2図(a)参照]。
次に、セラミック基板4により配列させたI/Oピン3
−1〜3−5をLSI1の接続パッド2−1〜2−5にロー
付けまたははんだ付けにより接合する[第2図(b)参
照]。
−1〜3−5をLSI1の接続パッド2−1〜2−5にロー
付けまたははんだ付けにより接合する[第2図(b)参
照]。
ここで、セラミック基板4はパッケージ母体としてそ
のまま使用されるので、セラミック基板4に保持された
I/Oピン3−1〜3−5がLSI1の接続パッド2−1〜2
−5に接合されてからも取外す必要がない。
のまま使用されるので、セラミック基板4に保持された
I/Oピン3−1〜3−5がLSI1の接続パッド2−1〜2
−5に接合されてからも取外す必要がない。
したがって、I/Oピン3−1〜3−5のピッチが1.0mm
以下、ピン径が0.1mmφ以下の微細加工も可能となる。
以下、ピン径が0.1mmφ以下の微細加工も可能となる。
I/Oピン3−1〜3−5をLSI1の接続パッド2−1〜
2−5に接合すると、Al2O3セラミックやAlNもしくはSi
Cなどで形成されたキャップ5がセラミック基板4に接
合部6でAgローやAu/Sn、あるいはSn/Pbによるロー付け
やはんだ付けで接着封止される[第2図(c)参照]。
2−5に接合すると、Al2O3セラミックやAlNもしくはSi
Cなどで形成されたキャップ5がセラミック基板4に接
合部6でAgローやAu/Sn、あるいはSn/Pbによるロー付け
やはんだ付けで接着封止される[第2図(c)参照]。
また、キャップ5はLSI1の放熱のために、LSI1のI/O
ピン3−1〜3−5が装着されている面と反対側の面に
おいてAgエポキシ樹脂もしくはSn/Pbなどのはんだによ
り接合部7で接着されている[第2図(c)参照]。
ピン3−1〜3−5が装着されている面と反対側の面に
おいてAgエポキシ樹脂もしくはSn/Pbなどのはんだによ
り接合部7で接着されている[第2図(c)参照]。
これにより、LSI1とセラミック基板4とがI/Oピン3
−1〜3−5を介して接続されるので、I/Oピン3−1
〜3−5を予め設定された長さに設定することで、LSI1
とセラミック基板4とにおける熱膨張率の違いによる熱
ストレスはI/Oピン3−1〜3−5によりほとんど緩和
されることになる。
−1〜3−5を介して接続されるので、I/Oピン3−1
〜3−5を予め設定された長さに設定することで、LSI1
とセラミック基板4とにおける熱膨張率の違いによる熱
ストレスはI/Oピン3−1〜3−5によりほとんど緩和
されることになる。
通常、I/Oピン3−1〜3−5のその部分の長さは0.5
mm〜2.0mm位に設計される。
mm〜2.0mm位に設計される。
このように、I/Oピン3−1〜3−5をセラミック基
板4に予め設けた貫通穴を通してLSI1の接続パッド2−
1〜2−5に直接装着するようにすることによって、高
密度化、多ピン化に適した構成とすることができる。
板4に予め設けた貫通穴を通してLSI1の接続パッド2−
1〜2−5に直接装着するようにすることによって、高
密度化、多ピン化に適した構成とすることができる。
発明の効果 以上説明したように本発明によれば、入出力ピンをセ
ラミック基板に予め設けた貫通穴を通して集積回路に直
接装着するようにすることによって、高密度多ピン化に
適した構成とすることができるという効果がある。
ラミック基板に予め設けた貫通穴を通して集積回路に直
接装着するようにすることによって、高密度多ピン化に
適した構成とすることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示す断面図、第2図は本発
明の一実施例によるLSIパッケージの製造工程を示す
図、第3図は従来例を示す断面図である。 主要部分の符号の説明 1……LSI 2−1〜2−5……接続パッド 3−1〜3−5……入出力ピン 4……セラミック基板
明の一実施例によるLSIパッケージの製造工程を示す
図、第3図は従来例を示す断面図である。 主要部分の符号の説明 1……LSI 2−1〜2−5……接続パッド 3−1〜3−5……入出力ピン 4……セラミック基板
Claims (1)
- 【請求項1】各々入出力ピンが接続される複数の接続パ
ッドを有する集積回路と、前記接続パッドの取付け位置
に夫々対応する位置に前記入出力ピンが貫通する貫通穴
を有しかつ前記貫通穴に貫通された前記入出力ピンを保
持するセラミック基板とを含み、前記セラミック基板に
保持された前記入出力ピンを前記接続パッド各々に接合
して前記集積回路と前記セラミック基板との間隔を0.5
〜2.0mmの長さとしかつ前記集積回路と前記セラミック
基板とにおける熱膨張率の違いによる熱ストレスを前記
入出力ピンにより緩和するようにしたことを特徴とする
集積回路パッケージ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2278107A JP2623952B2 (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 集積回路パッケージ |
FR9112819A FR2668302B1 (fr) | 1990-10-17 | 1991-10-17 | Boitier comportant un ou plusieurs circuits integres et procede de fabrication de ce boitier. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2278107A JP2623952B2 (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 集積回路パッケージ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04152662A JPH04152662A (ja) | 1992-05-26 |
JP2623952B2 true JP2623952B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=17592726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2278107A Expired - Lifetime JP2623952B2 (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 集積回路パッケージ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2623952B2 (ja) |
FR (1) | FR2668302B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0685003A (ja) * | 1992-09-01 | 1994-03-25 | Nec Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US5465481A (en) * | 1993-10-04 | 1995-11-14 | Motorola, Inc. | Method for fabricating a semiconductor package |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5519000Y2 (ja) * | 1974-09-13 | 1980-05-06 | ||
DE2938096A1 (de) * | 1979-09-20 | 1981-04-02 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Leistungshalbleiterbauelement |
DE3127457C2 (de) * | 1981-07-11 | 1985-09-12 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Stromrichtermodul |
US4630096A (en) * | 1984-05-30 | 1986-12-16 | Motorola, Inc. | High density IC module assembly |
JPS61170054A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | クリツプリ−ド |
JPS6284931U (ja) * | 1985-11-19 | 1987-05-30 | ||
JPS63142857U (ja) * | 1987-03-11 | 1988-09-20 | ||
JPH01283948A (ja) * | 1988-05-11 | 1989-11-15 | Hitachi Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
JP2581592B2 (ja) * | 1988-09-16 | 1997-02-12 | 株式会社日立製作所 | フレキシブルピンキャリア及びそれを使用した半導体装置 |
US4987478A (en) * | 1990-02-20 | 1991-01-22 | Unisys Corporation | Micro individual integrated circuit package |
-
1990
- 1990-10-17 JP JP2278107A patent/JP2623952B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-10-17 FR FR9112819A patent/FR2668302B1/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2668302A1 (fr) | 1992-04-24 |
JPH04152662A (ja) | 1992-05-26 |
FR2668302B1 (fr) | 1998-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4724472A (en) | Semiconductor device | |
JPS58101493A (ja) | 基板 | |
JPH02306655A (ja) | 回路パツケージの製造方法 | |
JP3167296B2 (ja) | 樹脂製配線基板 | |
JP2623952B2 (ja) | 集積回路パッケージ | |
JP2894594B2 (ja) | ソルダーバンプを有するノウングッドダイの製造方法 | |
JP2570468B2 (ja) | Lsiモジュールの製造方法 | |
JPH022151A (ja) | パッケージ構造体 | |
US4860443A (en) | Method for connecting leadless chip package | |
JP2936819B2 (ja) | Icチップの実装構造 | |
JP2658967B2 (ja) | 電子パッケージ組立体用支持部材およびこれを用いた電子パッケージ組立体 | |
JPS617692A (ja) | 導体ピンの固着方法および導体ピン固着のプリント配線板 | |
US6492254B2 (en) | Ball grid array (BGA) to column grid array (CGA) conversion process | |
JP3680760B2 (ja) | 半導体装置の端子変換用アダプタ装置及びそれを用いた半導体装置並びにその実装方法 | |
JPH02122556A (ja) | 半導体装置の実装方法 | |
JPH05144971A (ja) | チツプキヤリア構造 | |
JP2001007155A (ja) | フリップチップ接続構造体 | |
JPH0233960A (ja) | 半導体装置 | |
JPH10261735A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH08191128A (ja) | 電子装置 | |
JP2000307238A (ja) | ピン振込み治具およびプリント基板へのピンの取付方法 | |
JPH09148334A (ja) | バンプ、バンプを有する半導体チップ及びパッケージ並びに実装方法及び半導体装置 | |
JP2001177038A (ja) | リードピン付き配線基板およびリードピン付き電子部品 | |
JPH0536275Y2 (ja) | ||
JPH0685003A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 |