JP2596718Y2 - 分流希釈排ガス測定装置 - Google Patents
分流希釈排ガス測定装置Info
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- JP2596718Y2 JP2596718Y2 JP1993033531U JP3353193U JP2596718Y2 JP 2596718 Y2 JP2596718 Y2 JP 2596718Y2 JP 1993033531 U JP1993033531 U JP 1993033531U JP 3353193 U JP3353193 U JP 3353193U JP 2596718 Y2 JP2596718 Y2 JP 2596718Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、エンジンの排ガス中の
排気成分を測定するための分流希釈排ガス測定装置に関
する。
排気成分を測定するための分流希釈排ガス測定装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ディーゼルエンジンから排出さ
れる排ガス中のパーティキュレートの濃度を測定するた
めに、分流希釈式の排ガス測定装置が知られている（例
えば実開平３−１１８２１８号公報、実願平４−１５４
９５号等参照）。これは、エンジンから排出された排ガ
スに対して一定の割合で一部の排ガスを、空気が流れる
希釈トンネルにサンプリング通路を介して導き、この分
流されたサンプリングガス中のパーティキュレートの濃
度を検出することにより、排出ささた全排ガス中に占め
るパーティキュレート濃度を計測するものである。
れる排ガス中のパーティキュレートの濃度を測定するた
めに、分流希釈式の排ガス測定装置が知られている（例
えば実開平３−１１８２１８号公報、実願平４−１５４
９５号等参照）。これは、エンジンから排出された排ガ
スに対して一定の割合で一部の排ガスを、空気が流れる
希釈トンネルにサンプリング通路を介して導き、この分
流されたサンプリングガス中のパーティキュレートの濃
度を検出することにより、排出ささた全排ガス中に占め
るパーティキュレート濃度を計測するものである。
【０００３】ところで、従来の装置として、サンプリン
グ通路の排ガス取入口側にサンプルベンチュリを設ける
と共に、エンジン排気管に接続して排ガスを通流させる
排気流通路の前記サンプリング通路より下流側にバイパ
スベンチュリを設けたツインベンチュリ方式のものがあ
る。このツインベンチュリ式の測定装置では、実車マフ
ラ等により排ガスの圧力変動を低減し、各ベンチュリの
下流側圧力を調整して圧力バランスをとることによっ
て、エンジンから排出された排ガス量に対して一定割合
の排ガスを分流させるようしている。
グ通路の排ガス取入口側にサンプルベンチュリを設ける
と共に、エンジン排気管に接続して排ガスを通流させる
排気流通路の前記サンプリング通路より下流側にバイパ
スベンチュリを設けたツインベンチュリ方式のものがあ
る。このツインベンチュリ式の測定装置では、実車マフ
ラ等により排ガスの圧力変動を低減し、各ベンチュリの
下流側圧力を調整して圧力バランスをとることによっ
て、エンジンから排出された排ガス量に対して一定割合
の排ガスを分流させるようしている。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、サンプ
ルベンチュリとバイパスベンチュリを通過する排ガスの
流れの形態が異なるため、各ベンチュリ下流側圧力を調
整してバランスをとっても両ベンチュリ部における圧力
変動が同じような特性にならない。このため、排ガス量
が急激な変化をしたり排ガスが低流量となるような運転
条件の時には、一定割合で排ガスを分流させることが難
しいという問題がある。
ルベンチュリとバイパスベンチュリを通過する排ガスの
流れの形態が異なるため、各ベンチュリ下流側圧力を調
整してバランスをとっても両ベンチュリ部における圧力
変動が同じような特性にならない。このため、排ガス量
が急激な変化をしたり排ガスが低流量となるような運転
条件の時には、一定割合で排ガスを分流させることが難
しいという問題がある。
【０００５】本考案は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、あらゆる運転条件においても一定割合で排ガス
を分流させることによって、高い精度の成分測定ができ
る分流希釈排ガス測定装置を提供することを目的とす
る。
であり、あらゆる運転条件においても一定割合で排ガス
を分流させることによって、高い精度の成分測定ができ
る分流希釈排ガス測定装置を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このため、本考案は、エ
ンジン排気通路に接続した排気流通路内にサンプリング
通路を臨ませ、排気流通路を流れる排ガスの一部を前記
サンプリング通路を介して希釈トンネル内に分流させ、
空気と共に希釈トンネルを流れる排ガス中の排気成分を
測定するものであって、前記サンプリング通路の排ガス
取入口近傍にサンプルベンチュリを設ける共に、前記排
気流通路のサンプリング通路より下流側にバイパスベン
チュリを設ける構成のツインベンチュリ式の分流希釈排
ガス測定装置において、前記サンプリング通路のサンプ
ルベンチュリ入口側近傍に、通路内の圧力を検出する第
１圧力センサを設けると共に容積可変の第１共鳴タンク
を連通接続し、前記排気流通路のバイパスベンチュリ入
口側近傍に、同じく通路内の圧力を検出する第２圧力セ
ンサを設けると共に容積可変の第２共鳴タンクを連通接
続し、第１及び第２圧力センサからの各信号に基づいて
各ベンチュリ入口側の圧力変動幅が所定値より小さくな
るように第１及び第２共鳴タンクの容積を可変制御する
制御手段を設ける構成とした。
ンジン排気通路に接続した排気流通路内にサンプリング
通路を臨ませ、排気流通路を流れる排ガスの一部を前記
サンプリング通路を介して希釈トンネル内に分流させ、
空気と共に希釈トンネルを流れる排ガス中の排気成分を
測定するものであって、前記サンプリング通路の排ガス
取入口近傍にサンプルベンチュリを設ける共に、前記排
気流通路のサンプリング通路より下流側にバイパスベン
チュリを設ける構成のツインベンチュリ式の分流希釈排
ガス測定装置において、前記サンプリング通路のサンプ
ルベンチュリ入口側近傍に、通路内の圧力を検出する第
１圧力センサを設けると共に容積可変の第１共鳴タンク
を連通接続し、前記排気流通路のバイパスベンチュリ入
口側近傍に、同じく通路内の圧力を検出する第２圧力セ
ンサを設けると共に容積可変の第２共鳴タンクを連通接
続し、第１及び第２圧力センサからの各信号に基づいて
各ベンチュリ入口側の圧力変動幅が所定値より小さくな
るように第１及び第２共鳴タンクの容積を可変制御する
制御手段を設ける構成とした。
【０００７】
【作用】かかる構成において、サンプルベンチュリとバ
イパスベンチュリの各入口側の圧力をそれぞれの圧力セ
ンサで検出し、これら検出値に基づいて対応する共鳴タ
ンク容積を変化させて、各ベンチュリ入口側の圧力変動
幅を予め設定した所定値より小さく抑えるようにする。
これにより、あらゆる運転条件においても、一定割合で
排ガスを分流させることができるようになる。
イパスベンチュリの各入口側の圧力をそれぞれの圧力セ
ンサで検出し、これら検出値に基づいて対応する共鳴タ
ンク容積を変化させて、各ベンチュリ入口側の圧力変動
幅を予め設定した所定値より小さく抑えるようにする。
これにより、あらゆる運転条件においても、一定割合で
排ガスを分流させることができるようになる。
【０００８】
【実施例】以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１において、エンジン１の排気管２には、排
気流通路３が接続されている。この排気流通路３を流れ
る排ガスの一部は、サンプリング通路４を介して、希釈
空気が流れる希釈トンネル５に分流される。
明する。図１において、エンジン１の排気管２には、排
気流通路３が接続されている。この排気流通路３を流れ
る排ガスの一部は、サンプリング通路４を介して、希釈
空気が流れる希釈トンネル５に分流される。
【０００９】そして、排気流通路３を流れる排ガス流量
に対して分流されるガス流量を常に一定の比率に保つた
め、サンプリング通路４のガス取入口近傍にサンプルベ
ンチュリ６が設けられると共に、排気流通路３の前記サ
ンプリング通路４より下流側にもバイパスベンチュリ７
が設けられ、かつ、サンプルベンチュリ６の下流の圧力
（希釈トンネル５の内部圧力）と、大気に開放されたバ
イパスベンチュリ７の下流の圧力とが常に一致するよう
に、希釈トンネル５の内部圧力が調整される。このよう
に希釈トンネル５の内部圧力を制御すると、排気流通路
３を流れる排ガス流量と、サンプリング通路４を流れる
分流ガス流量との比率は、サンプルベンチュリ６とバイ
パスベンチュリ７との開口面積に比例することになり、
これにより分流ガス流量を常に一定の比率に制御するこ
とができる。
に対して分流されるガス流量を常に一定の比率に保つた
め、サンプリング通路４のガス取入口近傍にサンプルベ
ンチュリ６が設けられると共に、排気流通路３の前記サ
ンプリング通路４より下流側にもバイパスベンチュリ７
が設けられ、かつ、サンプルベンチュリ６の下流の圧力
（希釈トンネル５の内部圧力）と、大気に開放されたバ
イパスベンチュリ７の下流の圧力とが常に一致するよう
に、希釈トンネル５の内部圧力が調整される。このよう
に希釈トンネル５の内部圧力を制御すると、排気流通路
３を流れる排ガス流量と、サンプリング通路４を流れる
分流ガス流量との比率は、サンプルベンチュリ６とバイ
パスベンチュリ７との開口面積に比例することになり、
これにより分流ガス流量を常に一定の比率に制御するこ
とができる。
【００１０】また、サンプリング通路４のサンプルベン
チュリ６入口側に、分流ガスの圧力を検出する第１圧力
センサ８と、分流ガスの圧力脈動吸収用の容積可変の第
１共鳴タンク９が設けられている。第１共鳴タンク９に
は、タンクの有効容積を増減させるために室内を仕切る
可動プレート１０が設けられ、可動プレート１０はエア
シリンダ１１に連結され、エアシリンダ１１に導入され
る空気圧力に応じて変位する構成である。また、前記排
気流通路３のバイパスベンチュリ７入口側近傍にも、同
じく排気流通路３内の圧力を検出する第２圧力センサ１
２と、圧力脈動吸収用の容積可変の第２共鳴タンク１３
が設けられている。第２共鳴タンク１３は、第１共鳴タ
ンク９と同様で、可動プレート１４がエアシリンダ１５
によって変位するようになっている。
チュリ６入口側に、分流ガスの圧力を検出する第１圧力
センサ８と、分流ガスの圧力脈動吸収用の容積可変の第
１共鳴タンク９が設けられている。第１共鳴タンク９に
は、タンクの有効容積を増減させるために室内を仕切る
可動プレート１０が設けられ、可動プレート１０はエア
シリンダ１１に連結され、エアシリンダ１１に導入され
る空気圧力に応じて変位する構成である。また、前記排
気流通路３のバイパスベンチュリ７入口側近傍にも、同
じく排気流通路３内の圧力を検出する第２圧力センサ１
２と、圧力脈動吸収用の容積可変の第２共鳴タンク１３
が設けられている。第２共鳴タンク１３は、第１共鳴タ
ンク９と同様で、可動プレート１４がエアシリンダ１５
によって変位するようになっている。
【００１１】エアシリンダ１１，１５に接続する配管１
６，１７には、調圧弁１８，１９がそれぞれ介装され、
電磁弁２０を介してコンプレッサ２１に接続されてい
る。これら調圧弁１８，１９と電磁弁２０は、コントロ
ーラ２２によって各第１及び第２圧力センサ８，１２か
らの検出信号に応じて制御され、各ベンチュリ６，７の
入口側圧力脈動がそれぞれの予め設定した所定値より小
さくなるように各共鳴タンク９，１３の容積を可変制御
すべくエアシリンダ１１，１５に供給される圧力が調整
される。
６，１７には、調圧弁１８，１９がそれぞれ介装され、
電磁弁２０を介してコンプレッサ２１に接続されてい
る。これら調圧弁１８，１９と電磁弁２０は、コントロ
ーラ２２によって各第１及び第２圧力センサ８，１２か
らの検出信号に応じて制御され、各ベンチュリ６，７の
入口側圧力脈動がそれぞれの予め設定した所定値より小
さくなるように各共鳴タンク９，１３の容積を可変制御
すべくエアシリンダ１１，１５に供給される圧力が調整
される。
【００１２】前記希釈トンネル５の下流には、希釈ガス
を採集するための採集通路２３が設けられ、この採集通
路２３には排ガス中のパーティキュレートの濃度測定の
ためのフィルタ２４が設けられる。尚、採集通路２３の
下流には図示しないサンプリングポンプが接続され、一
定の流量ガスを吸引する。次に、本実施例装置の作用に
ついて説明する。
を採集するための採集通路２３が設けられ、この採集通
路２３には排ガス中のパーティキュレートの濃度測定の
ためのフィルタ２４が設けられる。尚、採集通路２３の
下流には図示しないサンプリングポンプが接続され、一
定の流量ガスを吸引する。次に、本実施例装置の作用に
ついて説明する。
【００１３】エンジン１から排気管２を通って排気流通
路３に流入した排ガスは、その一部がサンプリング通路
４を介して希釈トンネル５に分流される。これら分流比
率は、分流後の圧力が同一に維持されている関係から、
それぞれサンプルベンチュリ６とバイパスベンチュリ７
との開口面積比に対応したものとなる。従って、排ガス
中に含まれるパーティキュレート等含有成分は、分流ガ
ス中の濃度も同一であり、また、希釈トンネル５では空
気によって所定の割合で希釈されるが、その希釈割合を
予め決めておくことにより、採集通路２３から取り出す
ガス中の含有成分も所定の比率で初期の排ガス中の含有
成分と対応する。このため、採集通路２３のガス中の含
有成分、例えばパーティキュレートの濃度を測定するこ
とにより、エンジン１から排出された全体の排ガス中の
パーティキュレート濃度を計測することができるのであ
る。
路３に流入した排ガスは、その一部がサンプリング通路
４を介して希釈トンネル５に分流される。これら分流比
率は、分流後の圧力が同一に維持されている関係から、
それぞれサンプルベンチュリ６とバイパスベンチュリ７
との開口面積比に対応したものとなる。従って、排ガス
中に含まれるパーティキュレート等含有成分は、分流ガ
ス中の濃度も同一であり、また、希釈トンネル５では空
気によって所定の割合で希釈されるが、その希釈割合を
予め決めておくことにより、採集通路２３から取り出す
ガス中の含有成分も所定の比率で初期の排ガス中の含有
成分と対応する。このため、採集通路２３のガス中の含
有成分、例えばパーティキュレートの濃度を測定するこ
とにより、エンジン１から排出された全体の排ガス中の
パーティキュレート濃度を計測することができるのであ
る。
【００１４】かかる測定動作において、図２のフローチ
ャートに示すように、コントローラ２２によって、サン
プルベンチュリ６とバイパスベンチュリ７の入口側に連
通接続した第１共鳴タンク９と第２共鳴タンク１３のそ
れぞれの容積を可変制御してサンプルベンチュリ６及び
バイパスベンチュリ７の入口側の圧力変動幅を所定値以
下に抑えるようにしている。
ャートに示すように、コントローラ２２によって、サン
プルベンチュリ６とバイパスベンチュリ７の入口側に連
通接続した第１共鳴タンク９と第２共鳴タンク１３のそ
れぞれの容積を可変制御してサンプルベンチュリ６及び
バイパスベンチュリ７の入口側の圧力変動幅を所定値以
下に抑えるようにしている。
【００１５】即ち、ステップ１（図中、Ｓ１と示す。以
下同様）では、コンプレッサ２１をＯＮ、電磁弁２０を
開として配管１６，１７へエアの供給が可能な状態とす
る。ステップ２では、第１圧力センサ８及び第２圧力セ
ンサ１２によって、それぞれ各ベンチュリ６，７入口側
の圧力ＰS ，ＰB を測定する。ステップ３では、測定し
た圧力値ＰS に基づいて算出されたその時の圧力変動Δ
ＰS が予め設定した所定値Ａより小さいか否かを判定
し、ΔＰS ≧Ａの時は、ステップ４で、配管１６に介装
した調圧弁１８を制御して第１共鳴タンク９の可動プレ
ート１０を移動させてΔＰS ＜Ａとなるまで第１共鳴タ
ンク９の容積を調整する。
下同様）では、コンプレッサ２１をＯＮ、電磁弁２０を
開として配管１６，１７へエアの供給が可能な状態とす
る。ステップ２では、第１圧力センサ８及び第２圧力セ
ンサ１２によって、それぞれ各ベンチュリ６，７入口側
の圧力ＰS ，ＰB を測定する。ステップ３では、測定し
た圧力値ＰS に基づいて算出されたその時の圧力変動Δ
ＰS が予め設定した所定値Ａより小さいか否かを判定
し、ΔＰS ≧Ａの時は、ステップ４で、配管１６に介装
した調圧弁１８を制御して第１共鳴タンク９の可動プレ
ート１０を移動させてΔＰS ＜Ａとなるまで第１共鳴タ
ンク９の容積を調整する。
【００１６】ステップ５では、ステップ３と同様に、測
定した圧力値ＰB に基づいて算出されたその時の圧力変
動ΔＰB が予め設定した所定値Ｂより小さいか否かを判
定し、ΔＰB ≧Ｂの時は、ステップ６で、配管１７に介
装した調圧弁１９を制御して第２共鳴タンク１３の可動
プレート１４を移動させてΔＰB ＜Ｂとなるまで第２共
鳴タンク１３の容積を調整する。尚、調圧弁１８，１９
は、コンプレッサ２１からの圧力をエアシリンダ１１，
１５に導いたり、エアシリンダ１１，１５内の圧力を逃
がしたりすることにより、可動プレート１０，１４の移
動位置を調整する。
定した圧力値ＰB に基づいて算出されたその時の圧力変
動ΔＰB が予め設定した所定値Ｂより小さいか否かを判
定し、ΔＰB ≧Ｂの時は、ステップ６で、配管１７に介
装した調圧弁１９を制御して第２共鳴タンク１３の可動
プレート１４を移動させてΔＰB ＜Ｂとなるまで第２共
鳴タンク１３の容積を調整する。尚、調圧弁１８，１９
は、コンプレッサ２１からの圧力をエアシリンダ１１，
１５に導いたり、エアシリンダ１１，１５内の圧力を逃
がしたりすることにより、可動プレート１０，１４の移
動位置を調整する。
【００１７】このように、サンプルベンチュリ６とバイ
パスベンチュリ７の入口側の圧力を検出して、それぞれ
の共鳴タンク９，１３の容積を可変制御することで、こ
の部分の圧力変動幅を所定の基準レベル内に制御できる
ので、希釈トンネル５側の分流ガス量を一定の割合にす
ることが容易となり、排ガスの分流を一定の割合にでき
る運転条件が、排ガス量が低流量となる運転状態から過
渡運転状態まで拡大できる。従って、あらゆる運転条件
において排ガス中の排気成分の測定精度を高めることが
できる。
パスベンチュリ７の入口側の圧力を検出して、それぞれ
の共鳴タンク９，１３の容積を可変制御することで、こ
の部分の圧力変動幅を所定の基準レベル内に制御できる
ので、希釈トンネル５側の分流ガス量を一定の割合にす
ることが容易となり、排ガスの分流を一定の割合にでき
る運転条件が、排ガス量が低流量となる運転状態から過
渡運転状態まで拡大できる。従って、あらゆる運転条件
において排ガス中の排気成分の測定精度を高めることが
できる。
【００１８】尚、サンプリング通路４に第１共鳴タンク
９を設けることによって、分流ガス中のパーティキュレ
ートが共鳴タンク内に吸入付着する虞れがあるが、共鳴
タンク９の容積が小さいため吸入付着するとしても極め
て微量である。このため、共鳴タンク内のパーティキュ
レート吸入付着によって、測定用に採集されるガス中の
パーティキュレート濃度が、エンジン１から排出された
直後の排ガス中のパーティキュレート濃度と異なる心配
がほとんどなく測定の信頼性に影響を及ぼすものではな
い。
９を設けることによって、分流ガス中のパーティキュレ
ートが共鳴タンク内に吸入付着する虞れがあるが、共鳴
タンク９の容積が小さいため吸入付着するとしても極め
て微量である。このため、共鳴タンク内のパーティキュ
レート吸入付着によって、測定用に採集されるガス中の
パーティキュレート濃度が、エンジン１から排出された
直後の排ガス中のパーティキュレート濃度と異なる心配
がほとんどなく測定の信頼性に影響を及ぼすものではな
い。
【００１９】
【考案の効果】以上説明したように本考案によれば、サ
ンプルベンチュリとバイパスベンチュリの各入口側の圧
力を検出して両ベンチュリ入口側の圧力脈動幅を同じよ
うなレベルに制御するので、エンジンから排出される排
ガスを一定の割合で分流できる運転条件が拡大でき、排
ガス中の排気成分測定の信頼性を向上できる。
ンプルベンチュリとバイパスベンチュリの各入口側の圧
力を検出して両ベンチュリ入口側の圧力脈動幅を同じよ
うなレベルに制御するので、エンジンから排出される排
ガスを一定の割合で分流できる運転条件が拡大でき、排
ガス中の排気成分測定の信頼性を向上できる。
【図１】本考案の一実施例を示す簡略構成図
【図２】同上実施例の制御動作を説明するフローチャー
ト
ト
１ エンジン ３ 排気流通路 ４ サンプリング通路 ５ 希釈トンネル ６ サンプルベンチュリ ７ バイパスベンチュリ ８ 第１圧力センサ ９ 第１共鳴タンク １２ 第２圧力センサ １３ 第２共鳴タンク １８，１９ 調圧弁 ２２ コントローラ
Claims (1)
- 【請求項１】エンジン排気通路に接続した排気流通路内
にサンプリング通路を臨ませ、排気流通路を流れる排ガ
スの一部を前記サンプリング通路を介して希釈トンネル
内に分流させ、空気と共に希釈トンネルを流れる排ガス
中の排気成分を測定するものであって、前記サンプリン
グ通路の排ガス取入口近傍にサンプルベンチュリを設け
る共に、前記排気流通路のサンプリング通路より下流側
にバイパスベンチュリを設ける構成のツインベンチュリ
式の分流希釈排ガス測定装置において、 前記サンプリング通路のサンプルベンチュリ入口側近傍
に、通路内の圧力を検出する第１圧力センサを設けると
共に容積可変の第１共鳴タンクを連通接続し、前記排気
流通路のバイパスベンチュリ入口側近傍に、同じく通路
内の圧力を検出する第２圧力センサを設けると共に容積
可変の第２共鳴タンクを連通接続し、第１及び第２圧力
センサからの各信号に基づいて各ベンチュリ入口側の圧
力変動幅が所定値より小さくなるように第１及び第２共
鳴タンクの容積を可変制御する制御手段を設ける構成と
したことを特徴とする分流希釈排ガス測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993033531U JP2596718Y2 (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 分流希釈排ガス測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993033531U JP2596718Y2 (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 分流希釈排ガス測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH075044U JPH075044U (ja) | 1995-01-24 |
| JP2596718Y2 true JP2596718Y2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=12389137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1993033531U Expired - Fee Related JP2596718Y2 (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 分流希釈排ガス測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2596718Y2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8256307B2 (en) * | 2008-10-24 | 2012-09-04 | Caterpillar Inc. | Particulate sampling system and method of reducing oversampling during transients |
| WO2013179794A1 (ja) | 2012-06-01 | 2013-12-05 | 株式会社堀場製作所 | 排ガス希釈装置 |
| JP2017133925A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 富士電機株式会社 | 粒子分析装置 |
| JP6686558B2 (ja) * | 2016-03-09 | 2020-04-22 | 富士電機株式会社 | 粒子分析装置および粒子分析方法 |
| JP6686557B2 (ja) * | 2016-03-09 | 2020-04-22 | 富士電機株式会社 | 粒子計測装置および粒子計測方法 |
| JP6956002B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2021-10-27 | 株式会社堀場製作所 | 排ガスサンプリング装置、排ガス分析システム、排ガスサンプリング方法、及び排ガスサンプリング用プログラム |
-
1993
- 1993-06-22 JP JP1993033531U patent/JP2596718Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH075044U (ja) | 1995-01-24 |
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