JP2591075B2 - Manufacturing method of magnetic head - Google Patents

Manufacturing method of magnetic head

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JP2591075B2 JP63157777A JP15777788A JP2591075B2 JP 2591075 B2 JP2591075 B2 JP 2591075B2 JP 63157777 A JP63157777 A JP 63157777A JP 15777788 A JP15777788 A JP 15777788A JP 2591075 B2 JP2591075 B2 JP 2591075B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダ(VTR)等に搭載さ
れる電磁誘導型の磁気ヘッドの製造方法に関するもの
で、特にアジマス記録方式に好適なアジマス付磁気ヘッ
ドの製造方法に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an electromagnetic induction type magnetic head mounted on a video tape recorder (VTR) or the like, and particularly to an azimuth suitable for an azimuth recording method. The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic head.
〔発明の概要〕[Summary of the Invention]
本発明は、磁性薄膜をコア材とするアジマス記録方式
の磁気ヘッドを製造するに際し、巻線溝を有する磁気ヘ
ッド素子を基板上に形成したのち、上記巻線溝と略同一
形状の溝を形成した保護板を当該溝同士が一致するよう
に前記基板に接合することにより、高精度に磁気ギャッ
プのデプスを規制し、管理し、信頼性の高い磁気ヘッド
を製造しようとするものである。
In the present invention, when manufacturing a magnetic head of an azimuth recording system using a magnetic thin film as a core material, after forming a magnetic head element having a winding groove on a substrate, a groove having substantially the same shape as the above winding groove is formed. The protection plate thus formed is bonded to the substrate so that the grooves are aligned with each other, whereby the depth of the magnetic gap is regulated and managed with high precision, and a highly reliable magnetic head is manufactured.
〔従来の技術〕[Conventional technology]
磁気記録の分野においては、高密度記録化に伴い磁気
記録媒体が高抗磁力化の方向にあり、記録再生波長も短
波長化の一途をたどっている。
In the field of magnetic recording, magnetic recording media have been moving toward higher coercive force with higher density recording, and the recording / reproducing wavelength has been steadily shortened.
したがって、磁気ヘッドにおいても高飽和磁束密度を
有するヘッドコア材料を用い、また狭ギャップ化を進め
る等、上述の高密度記録化への対応を図っている。
Therefore, the magnetic head is also adapted to the above-described high-density recording, for example, by using a head core material having a high saturation magnetic flux density and narrowing the gap.
例えば、従来VTRのヘッドコア材料として多用されて
いたフェライト材は高透磁率であるものの飽和磁束密度
が低いため、高抗磁力磁気記録媒体への記録が不十分で
あった。そこで、上記ヘッドコア材として、Fe−Al−Si
系合金や強磁性非晶質合金等の強磁性金属薄膜を用いた
磁気ヘッド、例えば複合型磁気ヘッドや薄膜磁気ヘッド
等が提案されている。
For example, a ferrite material, which has been frequently used as a head core material of a VTR, has a high magnetic permeability but a low saturation magnetic flux density, so that recording on a high coercive force magnetic recording medium is insufficient. Therefore, Fe-Al-Si is used as the head core material.
A magnetic head using a ferromagnetic metal thin film such as a system alloy or a ferromagnetic amorphous alloy, for example, a composite magnetic head or a thin film magnetic head has been proposed.
さらに近年では、より一層の高密度記録化を目指すべ
く研究が進められており、隣接する記録トラック間のガ
ードバンドを無くして記録を行ういわゆるアジマス記録
方式が提案されている。
Furthermore, in recent years, researches have been made to achieve higher density recording, and a so-called azimuth recording method for performing recording without a guard band between adjacent recording tracks has been proposed.
このような状況の中にあって、本発明者等は、さらに
より一層の高密度記録化を達成するべく研究を重ね、例
えば特願昭61−176305号明細書に開示するように金型を
用いることにより、閉磁路を構成するコアを強磁性金属
磁性薄膜で形成し、磁気ギャップにアジマスを持たせた
磁気ヘッドの製造方法を提案している。この方法により
製造される磁気ヘッドは、高飽和磁束密度が高く狭ギャ
ップ化が図れ、しかも磁気ギャップにアジマスが設けら
れているので高密度記録化が達成される。
In such a situation, the present inventors have repeated researches to achieve even higher density recording, and for example, as disclosed in Japanese Patent Application No. 61-176305, a mold has been developed. A method of manufacturing a magnetic head in which a core constituting a closed magnetic path is formed of a ferromagnetic metal magnetic thin film by using the magnetic head and an azimuth is provided in a magnetic gap has been proposed. The magnetic head manufactured by this method has a high saturation magnetic flux density and a narrow gap, and the azimuth is provided in the magnetic gap, so that high-density recording is achieved.
上記磁気ヘッドを作製するには、所要アジマス角を規
制した金型母材を用い、この金型母材に樹脂層を形成し
たのち該樹脂層に前記アジマス角を転写し、該樹脂層に
対して金属磁性材料を真空薄膜形成技術等の手法で順次
形成して閉磁路を構成する磁性薄膜コアと成し、その磁
性薄膜コアを挟み込むように保護板を接合一体化し、磁
気ギャップを磁気記録媒体の走行方向に対して所要角度
傾けてアジマス付の磁気ヘッドを完成する。
To produce the magnetic head, a mold base material having a required azimuth angle is used, a resin layer is formed on the mold base material, and then the azimuth angle is transferred to the resin layer. A magnetic thin film core is formed by sequentially forming a metallic magnetic material by a technique such as a vacuum thin film forming technique to form a magnetic thin film core constituting a closed magnetic circuit, and a protective plate is joined and integrated so as to sandwich the magnetic thin film core. To complete the magnetic head with azimuth by tilting it at the required angle with respect to the running direction.
〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]
ところで、上記磁気ヘッドに巻線溝を形成するには、
磁性薄膜コアと保護板とを接合一体化したのちに、磁気
ギャップのデプスを規制しながらレーザ加工や超音波加
工あるいは機械的加工手段等により形成している。
By the way, to form a winding groove in the magnetic head,
After the magnetic thin film core and the protection plate are joined and integrated, they are formed by laser processing, ultrasonic processing, mechanical processing means, or the like while controlling the depth of the magnetic gap.
ところが、前述のように磁性薄膜コアと保護板とを接
合一体化したのちに巻線溝を形成しているので、磁気ギ
ャップのデプスの規制が非常に困難である。特に、磁性
薄膜コアと保護板とがずれて接合されている場合にはよ
り困難となっている。このため、上記磁性ヘッドは巻線
溝形成工程においてデプスにばらつきを生じ、ヘッド寿
命の面で信頼性が損なわれている。
However, since the winding groove is formed after the magnetic thin film core and the protection plate are joined and integrated as described above, it is very difficult to regulate the depth of the magnetic gap. In particular, it becomes more difficult when the magnetic thin film core and the protection plate are bonded to be shifted. For this reason, in the magnetic head, the depth varies in the winding groove forming step, and the reliability is impaired in terms of head life.
そこで本発明は、上述のような従来の実情に鑑みて提
案されたものであって、磁気ギャップのデプス規制及び
管理が高精度に行え、信頼性の高い磁気ヘッドの製造方
法を提供することを目的とするものである。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the above-described conventional circumstances, and provides a highly reliable method of manufacturing a magnetic head in which the depth control and management of the magnetic gap can be performed with high accuracy. It is the purpose.
〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、金型母材にメッキ
層を設け該メッキ層に所要アジマス角をもって傾斜する
傾斜面を有する溝を形成する工程と、上記溝を含むメッ
キ層上に樹脂層を形成した後該樹脂層を剥離することに
より上記溝が転写されたダミー基板を形成する工程と、
上記ダミー基板の溝内に第1の磁性薄膜を形成する工程
と、上記第1の磁性薄膜の上に巻線溝を形成した保護板
を接合した後上記ダミー基板を剥離除去する工程と、上
記第1の磁性薄膜上にギャップスペーサを介して第2の
磁性薄膜を形成する工程と、上記第1及び第2の磁性薄
膜をエッチングにより磁気ヘッドコア形状に形成すると
ともに、上記保護板の巻線溝に対応してこれら第1及び
第2の磁性薄膜に巻線溝を形成する工程と、上記第1及
び第2の磁性薄膜上に上記各巻線溝と対応する位置に溝
を形成した保護板を接合する工程とを有することを特徴
とするものである。
A method of manufacturing a magnetic head according to the present invention includes the steps of: providing a plating layer on a mold base material; forming a groove having an inclined surface inclined at a required azimuth angle in the plating layer; and forming a resin layer on the plating layer including the groove. Forming a dummy substrate on which the grooves are transferred by peeling the resin layer after forming the
Forming a first magnetic thin film in a groove of the dummy substrate, bonding a protective plate having a winding groove formed on the first magnetic thin film, and peeling and removing the dummy substrate; Forming a second magnetic thin film on the first magnetic thin film via a gap spacer; forming the first and second magnetic thin films into a magnetic head core shape by etching; Forming a winding groove in each of the first and second magnetic thin films, and forming a protection plate on the first and second magnetic thin films in which grooves are formed at positions corresponding to the winding grooves. And a joining step.
〔作用〕[Action]
本発明方法によれば、磁性薄膜コアにより閉磁路が形
成される。そして、上記磁性薄膜コアに予め所定デプス
となるように巻線溝を形成するので、高精度にデプスを
決定することができる。また、上記巻線溝と保護板に形
成された溝を略一致するように合わせれば、簡単にデプ
ス零の位置合わせが行え、基板と保護板との接合工程の
容易化が図れる。
According to the method of the present invention, a closed magnetic path is formed by the magnetic thin film core. Then, since the winding groove is formed in the magnetic thin film core in advance so as to have a predetermined depth, the depth can be determined with high accuracy. Further, if the winding groove and the groove formed on the protection plate are aligned so as to be substantially coincident with each other, the position of zero depth can be easily adjusted, and the joining process between the substrate and the protection plate can be facilitated.
〔実施例〕〔Example〕
以下、本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法をその
工程順にしたがって図面を参照しながら説明する。な
お、以下の図面では適宜上基板の一部分を拡大して示す
が、実際は複数のヘッドチップを一括して形成できる大
きな基板とする。
Hereinafter, a method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied will be described in the order of steps with reference to the drawings. In the following drawings, a part of the upper substrate is shown in an enlarged manner as appropriate, but it is actually a large substrate on which a plurality of head chips can be collectively formed.
本発明方法により磁気ヘッドを製造するには、先ず、
第1図及第2図に示す手法にて所要アジマス角度で傾斜
する傾斜面を有する金型を作製する。本実施例では、非
球面レンズの金型作製等の高度な面粗度が要求される加
工に好適なNiメッキとダイヤモンドバイトとを組合わせ
た技術を利用して上記傾斜面を形成した。
To manufacture a magnetic head according to the method of the present invention, first,
A mold having an inclined surface inclined at a required azimuth angle is manufactured by the method shown in FIGS. In the present embodiment, the inclined surface was formed by using a technique combining Ni plating and a diamond bite suitable for a process requiring a high surface roughness such as a mold for an aspheric lens.
すなわち、第1図に示すように、金型母材(1)にNi
やNi−P合金等よりなるメッキ層(2)を無電解メッキ
法等の手法にて形成する。上記メッキ層(2)の膜厚L
は、少なくとも磁気ヘッドのトラック幅よりも大きくな
るように形成する。
That is, as shown in FIG.
A plating layer (2) made of Ni or a Ni-P alloy is formed by a method such as an electroless plating method. Film thickness L of the plating layer (2)
Is formed to be at least larger than the track width of the magnetic head.
次に、第2図に示すように、上記メッキ層(2)に対
してミガキ処理を施したダイヤモンドバイトで上記メッ
キ層(2)の全幅に亘って切削し、ヘッドコア形成用溝
(3)を形成し、所要アジマス角度θで傾斜する傾斜面
(3a)を有するとともに溝深さhとした金型(4)を得
る。ここで、上記ダイヤモンドバトイトには、予め上記
傾斜面(3a)と同じ角度θを形成したものを使用する。
Next, as shown in FIG. 2, the plating layer (2) is cut over the entire width of the plating layer (2) with a diamond tool that has been subjected to a grinding process to form a head core forming groove (3). A mold (4) formed and having an inclined surface (3a) inclined at a required azimuth angle θ and having a groove depth h is obtained. Here, a diamond baitite having the same angle θ as the inclined surface (3a) is used in advance.
このように、本実施例ではNiやNi−P合金よりなるメ
ッキ層(2)とダイヤモンドバイドを組合わせて前述の
ヘッドコア形成用溝(3)加工を施しているので、上記
傾斜面(3a)のアジマス精度は極めて良好なものとな
る。
As described above, in the present embodiment, the groove (3) for forming the head core is formed by combining the plating layer (2) made of Ni or Ni-P alloy and the diamond carbide, so that the inclined surface (3a) is formed. Has an extremely good azimuth accuracy.
ここで、得られるヘッドコア形成用溝(3)の傾斜面
(3a)のなす角度θは作動ギャップのアジマスを規制
し、上記傾斜面(3a)はトラック幅を規制する。なお、
上記ヘッドコア形成用溝(3)の溝幅Wは、磁気ヘッド
としてのコア幅の略1/2となるように形成することが好
ましい。また、上記ヘッドコア形成用溝(3)は後工程
で各ヘッドチップに切り出すことを考慮し一定のピッチ
精度をもって形成するとよい。
Here, the angle θ formed by the inclined surface (3a) of the obtained head core forming groove (3) regulates the azimuth of the working gap, and the inclined surface (3a) regulates the track width. In addition,
It is preferable that the groove width W of the head core forming groove (3) is formed so as to be approximately 1/2 of the core width of the magnetic head. The above-mentioned head core forming groove (3) may be formed with a certain pitch accuracy in consideration of cutting out each head chip in a later step.
したがって、得られる磁気ヘッドのアジマス角度θ,
トラック幅,コア幅等は上記ダイヤモンドバイトの形状
により決定されるものであるから、必要に応じた磁気ヘ
ッド形状とすることが可能である。
Therefore, the azimuth angle θ,
Since the track width, the core width, and the like are determined by the shape of the diamond bite, the magnetic head shape can be set as required.
上述のように得られた金型(4)に対して、第3図に
示すように、メッキ層(2)側より射出成形法等の手法
にて樹脂層(5)を形成する。その後、上記樹脂層
(5)を前記金型(4)より剥離する。なお、この剥離
工程で得られた樹脂層(5)を本明細書では以下ダミー
基板(5)と称する。
As shown in FIG. 3, a resin layer (5) is formed on the mold (4) obtained as described above from the plating layer (2) side by an injection molding method or the like. Thereafter, the resin layer (5) is peeled off from the mold (4). Note that the resin layer (5) obtained in this peeling step is hereinafter referred to as a dummy substrate (5).
上記ダミー基板(5)には、上記メッキ層(2)に形
成されたヘッドコア形成用溝(3)が凸部(6)として
転写され、これら凸部(6)間に磁性薄膜形成用溝部
(7)が形成される。したがって、上記凸部(6)の傾
斜面(6a)のなす角度は前記アジマス角度θとなり、ま
た凸部(6)の高さは同様に前記ヘッドコア形成用溝
(3)の溝深さhと同じになる。なお、上記ダミー基板
(5)は、完成磁気ヘッドの非構成部品となる。
On the dummy substrate (5), the head core forming groove (3) formed on the plating layer (2) is transferred as convex portions (6), and the magnetic thin film forming groove portion (6) is formed between these convex portions (6). 7) is formed. Therefore, the angle formed by the inclined surface (6a) of the convex portion (6) is the azimuth angle θ, and the height of the convex portion (6) is also the same as the groove depth h of the head core forming groove (3). Will be the same. The dummy substrate (5) is a non-component of the completed magnetic head.
ここで、上記ダミー基板(5)の材料には、後工程の
スパッタリング等の温度上昇に耐え得るだけの耐熱性を
有すること、面精度が良好であること、寸法安定性に優
れること、転写性に優れることの他、次工程でダミー基
板(5)を剥離除去することにより剥離性に優れること
等の特性を有することが要求され、これらの諸得性を満
足する材料が使用できる。
Here, the material of the dummy substrate (5) has a heat resistance enough to withstand a temperature rise such as a sputtering in a later step, a good surface accuracy, an excellent dimensional stability, and a transfer property. In addition, the dummy substrate (5) is required to have properties such as excellent releasability by peeling and removing the dummy substrate (5) in the next step, and a material satisfying these various properties can be used.
続いて、第5図に示すように、上記ダミー基板(5)
の凸部(6)側よりSiO2等よりなる絶縁膜(8)を形成
した後、上記絶縁膜(8)上に第1の磁性薄膜(9)を
被着形成する。上記第1の磁性薄膜(9)は、マスクス
パッタ等の手法により磁性薄膜形成用溝(7)を一つお
きに完全に埋める如く形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 5, the dummy substrate (5)
After forming an insulating film (8) made of SiO 2 or the like from the side of the convex portion (6), a first magnetic thin film (9) is formed on the insulating film (8). The first magnetic thin film (9) is formed so as to completely fill every other magnetic thin film forming groove (7) by a technique such as mask sputtering.
このように、第1の磁性薄膜(9)をダミー基板
(5)上に部分的に形成していることにより、磁性薄膜
(9)の膜応力によるダミー基板(5)のそりが抑えら
れる。したがって、アジマス精度や磁気特性等が良好に
維持できる。
Since the first magnetic thin film (9) is partially formed on the dummy substrate (5), warpage of the dummy substrate (5) due to the film stress of the magnetic thin film (9) can be suppressed. Therefore, azimuth accuracy, magnetic characteristics, and the like can be favorably maintained.
上記第1の磁性薄膜(9)には、高い飽和磁束密度を
有し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用される
が、かかる強磁性材料としては従来から公知のものがい
ずれも使用でき、結晶質,非結晶質を問わない。例示す
るならば、Fe−Al−Si系合金、Fe−Al系合金、Fe−Si−
Co系合金、Fe−Ni系合金、Fe−Al−Ge系合金、Fe−Ga−
Ge系合金、Fe−Si−Ge系合金、Fe−Co−Si−Al系合金等
の強磁性金属材料、あるいはFe−Ga−Si系合金、さらに
は、上記Fe−Ga−Si系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一層の
向上を図るために、Fe,Ga,Co(Feの一部をCoで置換した
ものを含む。),Siを基本組成とする合金に、Ti,Cr,Mn,
Zn,Nb,Mo,Ta,W,Ru,Os,Rh,Ir,Re,Ni,Pd,Pt,Hf,Vの少なく
とも1種を添加したものであってもよい。
For the first magnetic thin film (9), a ferromagnetic material having a high saturation magnetic flux density and excellent soft magnetic characteristics is used. As such a ferromagnetic material, any conventionally known ferromagnetic material can be used. It can be crystalline or non-crystalline. For example, Fe-Al-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Si-
Co-based alloy, Fe-Ni-based alloy, Fe-Al-Ge-based alloy, Fe-Ga-
Corrosion resistance of ferromagnetic metal materials such as Ge-based alloys, Fe-Si-Ge-based alloys, Fe-Co-Si-Al-based alloys, or Fe-Ga-Si-based alloys, and the above-mentioned Fe-Ga-Si-based alloys In order to further improve the wear resistance and wear resistance, alloys containing Fe, Ga, Co (including those in which a part of Fe is replaced with Co), and Si are added to Ti, Cr, Mn,
Zn, Nb, Mo, Ta, W, Ru, Os, Rh, Ir, Re, Ni, Pd, Pt, Hf and V may be added.
また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス
合金(例えばFe,Ni,Coの1つ以上の元素とP,C,B,Siの1
つ以上の元素とからなる合金、またはこれを主成分とし
Al,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合
金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金、あるい
はCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素を主成分とするメ
タル−メタル系アモルファス合金)等も使用される。
Also, ferromagnetic amorphous metal alloys, so-called amorphous alloys (for example, one or more elements of Fe, Ni, Co and one of P, C, B, Si)
An alloy consisting of two or more elements, or
Metal-metalloid amorphous alloys such as alloys containing Al, Ge, Be, Sn, In, Mo, W, Ti, Mn, Cr, Zr, Hf, Nb, etc., or transition elements such as Co, Hf, Zr, etc. A metal-metal-based amorphous alloy containing a rare earth element as a main component) or the like is also used.
これら磁性薄膜の成膜方法としては、真空蒸着法,ス
パッタリング法,イオンプレーティング法,クラスター
・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術が採
用される。
As a method of forming these magnetic thin films, a vacuum thin film forming technique represented by a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a cluster ion beam method, or the like is employed.
また、上記第1の磁性薄膜(9)は強磁性合金材料の
単層膜であってもよいが、例えばSiO2,Al2O3,ZrO2,Si3N
4等の絶縁膜を介して積層した多層膜としてもよい。
Further, the first magnetic thin film (9) may be a single-layer film of a ferromagnetic alloy material, for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , Si 3 N
It may be a multilayer film laminated with an insulating film such as 4 interposed.
次に、第6図に示すように、前記磁性薄膜形成用溝
(7)内の第1の磁性薄膜(9)を研磨する等して平坦
化する。すなわち、上記ダミー基板(5)の一主面(5
a)が露出するように平研する。なお、上記平坦化工程
において、上記凸部(6)上に形成された絶縁膜(8)
は必要に応じて除去してもよいが必ずしも完全に除去す
る必要はない。
Next, as shown in FIG. 6, the first magnetic thin film (9) in the magnetic thin film forming groove (7) is flattened by polishing or the like. That is, one main surface (5) of the dummy substrate (5)
Plan to expose a). In the flattening step, the insulating film (8) formed on the projection (6)
May be removed as necessary, but need not necessarily be completely removed.
続いて、第7図に示すように、残存した磁性薄膜形成
用溝(7)を含むダミー基板(5)の上面(5a)全体に
SiO2膜や(SiO2+Cr)膜等よりなる保護膜(10)を介し
て接着剤(11)を形成した後、上記接着剤(11)にて第
1の保護板(12)を接合する。
Subsequently, as shown in FIG. 7, the entire upper surface (5a) of the dummy substrate (5) including the remaining magnetic thin film forming groove (7) is covered.
After forming an adhesive (11) via a protective film (10) made of a SiO 2 film or a (SiO 2 + Cr) film or the like, the first protective plate (12) is joined with the adhesive (11). .
なお、上記第1の保護板(12)には、後述のヘッドの
巻線溝(17)に対応する位置にそれぞれ当該巻線溝(1
7)と略同じ大きさの溝(12a)を形成する。
The first protective plate (12) is provided at a position corresponding to a winding groove (17) of the head described later, respectively.
A groove (12a) having substantially the same size as that of 7) is formed.
上記接着剤(11)としては、磁性薄膜(9)の磁気特
性やダミー基板(5)の寸法精度を確保するため接合温
度が余り高くないものが好ましく、例えば低融点ガラ
ス,水ガラス,無機質接着剤等が好適である。また、上
記保護板(12)の材質としては、耐摩耗性に優れたもの
がよく、例えば非磁性フェライト,チタン酸カリウムや
チタン酸バリウム等のガラスセラミックス等が好適であ
る。
The adhesive (11) preferably has a bonding temperature not so high as to secure the magnetic characteristics of the magnetic thin film (9) and the dimensional accuracy of the dummy substrate (5). For example, low-melting glass, water glass, inorganic adhesive Agents and the like are preferred. As the material of the protective plate (12), a material having excellent wear resistance is preferable, and for example, nonmagnetic ferrite, glass ceramics such as potassium titanate and barium titanate, and the like are preferable.
次に、第8図に示すように、上記ダミー基板(5)を
剥離し取り除く。上記剥離方法としては、例えば機械的
手段により剥離する方法、あるいはダミー基板(5)を
構成する樹脂を溶剤にて溶解除去する方法等が挙げられ
る。
Next, as shown in FIG. 8, the dummy substrate (5) is peeled off and removed. Examples of the peeling method include a method of peeling by a mechanical means, a method of dissolving and removing a resin constituting the dummy substrate (5) with a solvent, and the like.
その後、磁性薄膜形成用溝(7)内に形成されている
絶縁膜(8)をエッチング等の手法により除去し、第9
図に示す基板(13)を得る。
Thereafter, the insulating film (8) formed in the magnetic thin film forming groove (7) is removed by a technique such as etching, and the ninth step is performed.
The substrate (13) shown in the figure is obtained.
上記基板(13)において、第4図に示すダミー基板
(5)の磁性薄膜形成用溝(7)は当該基板(13)の凹
部,すなわち磁性薄膜形成用溝(14)に対応する。同様
に、上記ダミー基板(5)の傾斜面(6a)は前記基板
(13)の傾斜面(14a)に対応する。そして、上記基板
(13)の傾斜面(14a)が作動ギャップの形成面に相当
し、且つ上記傾斜面(14a)の傾斜角度がアジマス角θ
となる。
In the substrate (13), the groove (7) for forming a magnetic thin film of the dummy substrate (5) shown in FIG. 4 corresponds to a concave portion of the substrate (13), that is, the groove (14) for forming a magnetic thin film. Similarly, the inclined surface (6a) of the dummy substrate (5) corresponds to the inclined surface (14a) of the substrate (13). The inclined surface (14a) of the substrate (13) corresponds to the surface on which the working gap is formed, and the inclined angle of the inclined surface (14a) is the azimuth angle θ.
Becomes
続いて、第10図に示すように、上記傾斜面(14a)を
含む基板(13)上にギャップ膜(15)を真空薄膜形成技
術により形成した後、前記第1の磁性薄膜(9)と同様
に第2の磁性薄膜(16)を上記磁性薄膜形成用溝(14)
に対して1つおきに充填する如く被着形成する。この結
果、上記第1の磁性薄膜(9)と第2の磁性薄膜(16)
は、磁気ヘッド素子を構成する磁性薄膜コアとなる。
Subsequently, as shown in FIG. 10, after forming a gap film (15) on the substrate (13) including the inclined surface (14a) by a vacuum thin film forming technique, the first magnetic thin film (9) and the gap film (15) are formed. Similarly, the second magnetic thin film (16) is inserted into the magnetic thin film forming groove (14).
Is formed so that every other is filled. As a result, the first magnetic thin film (9) and the second magnetic thin film (16)
Is a magnetic thin film core constituting a magnetic head element.
このとき、上記ギャップ膜(15)は、上記傾斜面(14
a)上の膜厚mが所定のギャップ長となるように形成す
る。また、上記第2の磁性薄膜(16)は、前記磁性薄膜
形成用溝(14)を完全に埋める如く被着形成する。
At this time, the gap film (15) is
a) It is formed so that the upper film thickness m becomes a predetermined gap length. The second magnetic thin film (16) is formed so as to completely fill the groove (14) for forming a magnetic thin film.
なお上記ギャップ膜(15)としては、例えばSiO2,Ta2
O5,ZrO2等が使用できる。また上記第2の磁性薄膜(1
6)としては、前記第1の磁性薄膜(9)と同様なもの
が使用できる。
As the gap film (15), for example, SiO 2 , Ta 2
O 5 , ZrO 2 and the like can be used. In addition, the second magnetic thin film (1
As 6), the same as the first magnetic thin film (9) can be used.
このように本発明では、ギャップ膜(15)や磁性薄膜
(9),(16)等を真空薄膜形成技術にて形成し、ガラ
スボンディング等の接合技術を用いることなく作動ギャ
ップを形成しているので、ギャップ長の制御を容易に且
つ高精度に行える。また、アジマス精度も良好なものと
なり、歩留りが格段に向上する。
As described above, in the present invention, the gap film (15) and the magnetic thin films (9) and (16) are formed by the vacuum thin film forming technique, and the operating gap is formed without using a bonding technique such as glass bonding. Therefore, the gap length can be easily and accurately controlled. In addition, the azimuth accuracy is improved, and the yield is significantly improved.
次いで、第11図に示すように、前記磁性薄膜形成用溝
(14)内の第2の磁性薄膜(16)を切削する等して平坦
化する。すなわち、前記第2の磁性薄膜(16)が露出す
る程度に切削する。
Next, as shown in FIG. 11, the second magnetic thin film (16) in the magnetic thin film forming groove (14) is flattened by cutting or the like. That is, cutting is performed to such an extent that the second magnetic thin film (16) is exposed.
次に、第12図に示すように、前記第1の磁性薄膜
(9)及び第2の磁性薄膜(16)からなる磁性薄膜コア
に対してホトリソグラフィー技術等の手法を用いてエッ
チングを施し、磁気ヘッドコア形状に形成する。なお上
記エッチング工程では、前記第1の保護板(12)上に形
成される接着剤(11)を露出させるまでエッチングを施
した。
Next, as shown in FIG. 12, the magnetic thin film core composed of the first magnetic thin film (9) and the second magnetic thin film (16) is etched using a technique such as photolithography. It is formed in a magnetic head core shape. In the etching step, etching was performed until the adhesive (11) formed on the first protective plate (12) was exposed.
すなわち、前記第1の磁性薄膜(9)と第2の磁性薄
膜(16)を磁気ヘッドコア形状に形成するとともに、こ
れら磁性薄膜コア間に亘ってコイルを巻装するための巻
線溝(17)を形成する。この結果、上記第1の磁性薄膜
(9)と第2の磁性薄膜(16)とで閉磁路が形成される
磁気ヘッド素子が形成される。また、先に第1の保護板
(12)に形成された溝(12a)とこの巻線溝(17)とが
連通することになる。
That is, the first magnetic thin film (9) and the second magnetic thin film (16) are formed in a magnetic head core shape, and a winding groove (17) for winding a coil between these magnetic thin film cores. To form As a result, a magnetic head element in which a closed magnetic path is formed by the first magnetic thin film (9) and the second magnetic thin film (16) is formed. Further, the groove (12a) previously formed in the first protection plate (12) and the winding groove (17) communicate with each other.
ここで、上記巻線溝(17)を形成する際に、作動ギャ
ップgのデプスDpが所定値となるようにエッチングを施
せば、容易に上記巻線溝(17)により作動キャップgの
デプスDpが規制でき、しかも高精度にデプスDpを決定で
きる。したがって、デプスDpのばらつきがなくなり、こ
れによりヘッド寿命においてもばらつくことがなくなる
ので磁気ヘッドの信頼性が向上する。
Here, when forming the winding groove (17), if the etching is performed so that the depth Dp of the operating gap g becomes a predetermined value, the depth Dp of the operating cap g is easily formed by the winding groove (17). Can be regulated, and the depth Dp can be determined with high accuracy. Therefore, there is no variation in the depth Dp, and there is no variation in the life of the head, thereby improving the reliability of the magnetic head.
次いで、第13図に示すように、前記基板(13)の略同
じ大きさの保護板(18)を用意する。そして、上記保護
板(18)に前記基板(13)に形成された巻線溝(17)と
対応する位置にそれぞれ当該巻線溝(17)と略等しい溝
(19)を形成する。
Next, as shown in FIG. 13, a protection plate (18) having substantially the same size as the substrate (13) is prepared. Then, a groove (19) substantially equal to the winding groove (17) is formed on the protective plate (18) at a position corresponding to the winding groove (17) formed on the substrate (13).
上記保護板(18)の材料としては、前述の第1の保護
板(12)と同様、非磁性フェライト,チタン酸カリウ
ム,チタン酸バリウム等のガラスセラミックス等が使用
できる。
As the material of the protective plate (18), similarly to the first protective plate (12), nonmagnetic ferrite, glass ceramics such as potassium titanate and barium titanate can be used.
また、上記溝(19)を形成する手法としては、例えば
ホトリソグラフィ技術,レーザ加工,超音波加工あるい
は機械的加工等手段により形成すればよい。その際、上
記溝(19)を形成するには、上記保護板(18)の面に対
して垂直になるように形成することが必要である。な
お、上記溝(19)は、前記巻線溝(17)よりも多少小さ
く形成することが好ましい。
The groove (19) may be formed by, for example, photolithography, laser processing, ultrasonic processing, or mechanical processing. At this time, in order to form the groove (19), it is necessary to form the groove so as to be perpendicular to the surface of the protection plate (18). The groove (19) is preferably formed to be slightly smaller than the winding groove (17).
次に、第14図に示すように、上記保護板(18)を前記
磁気ヘッド素子形成された基板(13)に接着剤(20)を
介して接合する。
Next, as shown in FIG. 14, the protective plate (18) is bonded to the substrate (13) on which the magnetic head element is formed via an adhesive (20).
すなわち、磁気ヘッド素子の巻線溝(17)のデプス零
の位置と保護板(18)の溝(19)のデプス零の位置とを
合わせ、当該溝同士が略一致するようにして前記保護板
(18)と基板(13)とを接合一体化する。
That is, the position of the depth zero of the winding groove (17) of the magnetic head element and the position of the depth zero of the groove (19) of the protection plate (18) are aligned, and the protection plate is set so that the grooves substantially match each other. (18) and the substrate (13) are joined and integrated.
上記接合に際しては、前記基板(13)と保護板(18)
に形成された巻線溝(17)と溝(19)とが略同じ大きさ
に形成されているので、簡単に位置合わせすることがで
きる。したがって、接合工程が容易に行え生産性の向上
が図れる。
When joining, the substrate (13) and the protective plate (18)
Since the winding groove (17) and the groove (19) formed in are formed to have substantially the same size, the positioning can be easily performed. Therefore, the joining process can be easily performed and the productivity can be improved.
次に、上記工程で接合一体化されたヘッドコアブロッ
ク(21)に対して第14図に示すように、A−A線,A′−
A′線及びB−B線で示す位置でスライシング加工を施
し、複数個のヘッドチップを切り出す。
Next, as shown in FIG. 14, the head core block (21) joined and integrated in the above step is taken along line AA, A'-
Slicing is performed at positions indicated by lines A 'and BB to cut out a plurality of head chips.
上記スライシング加工を施す場合、スライシング加工
前のヘッドコアブロック(21)の状態で作動ギャップg
が所定のアジマスをもっているので、上記ヘッドコアブ
ロック(21)に対して直交方向にスライシングすれば、
簡単にアジマス付作動ギャップgを有する磁気ヘッドを
作製することができる。したがって、アジマス付作動ギ
ャップを有する磁気ヘッドの製造工程は何ら煩雑な工程
を含まないので、生産性の向上が図れ、しかもアジマス
精度や加工歩留りが大幅に向上する。
When the slicing is performed, the operation gap g is set in the state of the head core block (21) before the slicing.
Has a predetermined azimuth, so if slicing in the direction perpendicular to the head core block (21),
A magnetic head having an operating gap g with azimuth can be easily manufactured. Therefore, since the manufacturing process of the magnetic head having the azimuth-added working gap does not include any complicated steps, the productivity can be improved, and the azimuth accuracy and the processing yield are greatly improved.
次いで、必要に応じて前記磁気ヘッド素子の記録媒体
対接面(22)を円筒研磨し、巻線溝(17)にコイル(2
3)を巻装して第15図に示す磁気ヘッドを完成する。
Next, if necessary, the recording medium contact surface (22) of the magnetic head element is cylindrically polished, and the coil (2) is inserted into the winding groove (17).
3) is wound to complete the magnetic head shown in FIG.
以上の工程により作製された磁気ヘッドは、閉磁路を
構成する磁性薄膜が強磁性金属材料で形成されているの
で、高密度記録化に対応した高抗磁力磁気記録媒体に対
しても良好な記録再生特性を示す。しかも、作動ギャッ
プが所定のアジマスを有しているいるため、記録トラッ
クの高密度記録化が達成される。
In the magnetic head manufactured by the above process, the magnetic thin film constituting the closed magnetic path is formed of a ferromagnetic metal material, so that a good recording can be performed even on a high coercive force magnetic recording medium corresponding to high density recording. It shows the reproduction characteristics. Moreover, since the working gap has a predetermined azimuth, high-density recording of a recording track is achieved.
〔発明の効果〕〔The invention's effect〕
以上の説明からも明らかなように、本発明方法によれ
ば、保護板を接合する前に、予め閉磁路を形成する磁性
薄膜コアに所定デプスとした巻線溝を形成しているの
で、高精度に磁気ギャップのデプスを決定することがで
きる。
As is clear from the above description, according to the method of the present invention, before the protective plate is joined, the winding groove having a predetermined depth is formed in the magnetic thin film core that forms the closed magnetic path in advance, so The depth of the magnetic gap can be determined with high accuracy.
したがって、デプス規制及びデプス管理が高精度に行
えるとともにデプスのばらつきなくなり信頼性に優れた
磁気ヘッドが得られる。
Therefore, a magnetic head which can perform the depth regulation and the depth management with high accuracy, has no variation in the depth, and has excellent reliability can be obtained.
さらに、上記巻線溝と保護板に形成された溝は略同じ
大きさに形成されているので、当該溝同士を合わせるこ
とのみで容易にデプス零の位置合わせができ、これによ
り基板と保護板を簡単に接合することができ生産性の向
上が達成される。
Further, since the winding groove and the groove formed on the protection plate are formed to have substantially the same size, the alignment of the depth can be easily performed only by aligning the grooves. Can be easily joined, and an improvement in productivity is achieved.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
第1図ないし第15図は本発明を適用した磁気ヘッドの製
造工程を工程順に従って示す概略的な斜視図であり、第
1図はメッキ層形成工程、第2図はヘッドコア形成用溝
形成工程、第3図は樹脂層形成及び剥離工程、第4図は
ダミー基板形成工程、第5図は第1の磁性薄膜形成工
程、第6図は平坦化工程、第7図は第1の保護板接合工
程、第8図はダミー基板剥離工程、第9図は絶縁膜除去
工程、第10図は第2の磁性薄膜形成工程、第11図は平坦
化工程、第12図は磁気ヘッド素子形成工程、第13図は保
護板接合工程、第14図はスライシング加工工程、第15図
はコイル巻装工程をそれぞれ示す。 9……第1の磁性薄膜 15……ギャップ膜 16……第2の磁性薄膜 17……巻線溝 18……保護板 19……溝
1 to 15 are schematic perspective views showing the steps of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied in the order of steps. FIG. 1 shows a plating layer forming step, and FIG. 2 shows a head core forming groove forming step. 3 is a resin layer forming and peeling step, FIG. 4 is a dummy substrate forming step, FIG. 5 is a first magnetic thin film forming step, FIG. 6 is a flattening step, and FIG. 7 is a first protective plate. FIG. 8 shows a dummy substrate peeling step, FIG. 9 shows an insulating film removing step, FIG. 10 shows a second magnetic thin film forming step, FIG. 11 shows a planarizing step, and FIG. 12 shows a magnetic head element forming step. FIG. 13 shows a protective plate joining step, FIG. 14 shows a slicing step, and FIG. 15 shows a coil winding step. 9 First magnetic thin film 15 Gap film 16 Second magnetic thin film 17 Winding groove 18 Protective plate 19 Groove

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】(57) [Claims]
  1. 【請求項1】金型母材にメッキ層を設け該メッキ層に所
    要アジマス角をもって傾斜する傾斜面を有する溝を形成
    する工程と、 上記溝を含むメッキ層上に樹脂層を形成した後該樹脂層
    を剥離することにより上記溝が転写されたダミー基板を
    形成する工程と、 上記ダミー基板の溝内に第1の磁性薄膜を形成する工程
    と、 上記第1の磁性薄膜の上に巻線溝を形成した保護板を接
    合した後上記ダミー基板を剥離除去する工程と、 上記第1の磁性薄膜上にギャップスペーサを介して第2
    の磁性薄膜を形成する工程と、 上記第1及び第2の磁性薄膜をエッチングにより磁気ヘ
    ッドコア形状に形成するとともに、上記保護板の巻線溝
    に対応してこれら第1及び第2の磁性薄膜に巻線溝を形
    成する工程と、 上記第1及び第2の磁性薄膜上に上記各巻線溝と対応す
    る位置に溝を形成した保護板を接合する工程 とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
    1. A step of providing a plating layer on a mold base material, forming a groove having an inclined surface inclined at a required azimuth angle in the plating layer, and forming a resin layer on the plating layer including the groove. Forming a dummy substrate on which the groove has been transferred by peeling the resin layer; forming a first magnetic thin film in the groove of the dummy substrate; and winding a wire on the first magnetic thin film A step of peeling and removing the dummy substrate after bonding the protective plate having the groove formed therein; and a step of removing the second substrate via the gap spacer on the first magnetic thin film.
    Forming the first and second magnetic thin films into a magnetic head core shape by etching, and forming the first and second magnetic thin films on the first and second magnetic thin films corresponding to the winding grooves of the protective plate. Forming a winding groove; and bonding a protection plate having a groove formed at a position corresponding to each of the winding grooves on the first and second magnetic thin films. Production method.
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