JP2526248Y2 - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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- JP2526248Y2 JP2526248Y2 JP1991084300U JP8430091U JP2526248Y2 JP 2526248 Y2 JP2526248 Y2 JP 2526248Y2 JP 1991084300 U JP1991084300 U JP 1991084300U JP 8430091 U JP8430091 U JP 8430091U JP 2526248 Y2 JP2526248 Y2 JP 2526248Y2
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- particles
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、ダスト含有排ガス又は
ディーゼルエンジン排ガス・ボイラ排ガスなどのように
ダスト、窒素酸化物（ＮＯｘ）及び硫黄酸化物（ＳＯ
ｘ）を含有する排ガス、石炭ガス化ガスなどのようにダ
スト及び硫化水素（Ｈ２Ｓ）などの硫黄酸化物を含む排
ガスを、回転している集じん・反応槽に通して、集じん
のみ、集じんと脱硝、集じんと脱硫（脱ＳＯｘ又は脱Ｈ
２Ｓ）、又は集じんと脱硝と脱硫（脱ＳＯｘ）を連続的
に行なうとともに、ダスト払落槽からダストを効率よく
払い落とすことができ、さらには粒子の再生をも行なう
ことができる排ガス処理装置に関するものである。
ディーゼルエンジン排ガス・ボイラ排ガスなどのように
ダスト、窒素酸化物（ＮＯｘ）及び硫黄酸化物（ＳＯ
ｘ）を含有する排ガス、石炭ガス化ガスなどのようにダ
スト及び硫化水素（Ｈ２Ｓ）などの硫黄酸化物を含む排
ガスを、回転している集じん・反応槽に通して、集じん
のみ、集じんと脱硝、集じんと脱硫（脱ＳＯｘ又は脱Ｈ
２Ｓ）、又は集じんと脱硝と脱硫（脱ＳＯｘ）を連続的
に行なうとともに、ダスト払落槽からダストを効率よく
払い落とすことができ、さらには粒子の再生をも行なう
ことができる排ガス処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、実公昭６３−１８４２５号公報に
は、水平方向の回転軸を有する中空円筒状の触媒粒子層
に、外側から内側に向けて排ガスを通過させて、脱臭及
び脱じんを行なうようにした触媒脱臭装置が記載されて
いる。また、実開昭５６−１２６２３７号公報には、水
平方向の回転軸を有する中空円筒状の触媒層に、排ガス
を層下部→中空部→層上部の順に流し、触媒層に付着し
たダストを、触媒層の外方向から、ノズルを有する清浄
管により空気を吹きつけて分離・除去するようにした回
転円筒型反応装置が記載されている。
は、水平方向の回転軸を有する中空円筒状の触媒粒子層
に、外側から内側に向けて排ガスを通過させて、脱臭及
び脱じんを行なうようにした触媒脱臭装置が記載されて
いる。また、実開昭５６−１２６２３７号公報には、水
平方向の回転軸を有する中空円筒状の触媒層に、排ガス
を層下部→中空部→層上部の順に流し、触媒層に付着し
たダストを、触媒層の外方向から、ノズルを有する清浄
管により空気を吹きつけて分離・除去するようにした回
転円筒型反応装置が記載されている。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】上記のように、従来の
排ガス処理装置は回転軸が横（水平）方向であり、中空
円筒状の粒子層の中空部に落下したダストを払い落とす
ことができず、これが付着堆積して性能悪化の原因とな
り、かつ、粒子の投入・排出を連続的に行なうことがで
きないという問題点を有している。この問題点を解決す
るために、回転軸を縦（鉛直）方向にすることが考えら
れるが、この場合、中空部に落下したダストの払い落と
し及び粒子の投入・排出は容易に行なえるが、今度は、
層内の粒子が重力により下方向に圧縮され、かつ、層内
粒子が密になり、このため、排ガスが上部空間部を選択
的に通過することがあり、性能の低下をきたす。また、
実開昭５６−１２６２３７号公報記載の装置において
は、空気を吹きつけて分離されたダストは、処理済みガ
ス中に流入するので、この処理後のガスはダスト含有ガ
スとなるという問題点がある。本考案は、上記の諸点に
鑑みなされたもので、集じん・反応槽の下流にダスト払
落槽を連設することにより、粒子間に捕集されたダスト
の払い落としを容易に行うことができ、また粒子の投入
・排出を粒子層の回転により自動的に行うことができ、
ダスト除去性能、反応効率が改善されるようにした排ガ
ス処理装置を提供することを目的とするものである。
排ガス処理装置は回転軸が横（水平）方向であり、中空
円筒状の粒子層の中空部に落下したダストを払い落とす
ことができず、これが付着堆積して性能悪化の原因とな
り、かつ、粒子の投入・排出を連続的に行なうことがで
きないという問題点を有している。この問題点を解決す
るために、回転軸を縦（鉛直）方向にすることが考えら
れるが、この場合、中空部に落下したダストの払い落と
し及び粒子の投入・排出は容易に行なえるが、今度は、
層内の粒子が重力により下方向に圧縮され、かつ、層内
粒子が密になり、このため、排ガスが上部空間部を選択
的に通過することがあり、性能の低下をきたす。また、
実開昭５６−１２６２３７号公報記載の装置において
は、空気を吹きつけて分離されたダストは、処理済みガ
ス中に流入するので、この処理後のガスはダスト含有ガ
スとなるという問題点がある。本考案は、上記の諸点に
鑑みなされたもので、集じん・反応槽の下流にダスト払
落槽を連設することにより、粒子間に捕集されたダスト
の払い落としを容易に行うことができ、また粒子の投入
・排出を粒子層の回転により自動的に行うことができ、
ダスト除去性能、反応効率が改善されるようにした排ガ
ス処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本考案の排ガス処理装置は、排ガス入口１０を略
中央下部に、清浄ガス出口１２を略中央上部にそれぞれ
略鉛直方向に備え、粒子投入口１４を一端上部に備え、
粒子排出口１６及びダスト排出口５２を他端下部に備え
た略円筒状のケーシング１８と、このケーシング１８内
に同心状に略水平方向又は傾斜させて配置された通気性
支持板からなる円筒２０と、この円筒２０内にダスト除
去用粒子、脱硫活性を有する粒子、脱硝活性を有する粒
子、同時脱硫・脱硝活性を有する粒子のうち少なくとも
１種を、上部に空間ができるように粗に充填して形成さ
れた集じん・反応槽２２及びこの集じん・反応槽２２の
粒子排出口１６側端部に連設されたダスト払落槽２４
と、集じん・反応槽２２及びダスト払落槽２４を連続的
又は間欠的に回転させる略水平方向又は傾斜させて配置
された回転軸２６と、ダスト払落槽２４内に設けられた
ダストブロー用のパージ気体を噴出する気体噴出手段２
８と、を備えた排ガス処理装置であって、粒子投入口１
４と集じん・反応槽２２との間に、周縁部に粒子供給口
３０を備えた仕切板３２を設けて粒子貯留部３４を形成
し、この貯留部３４に粒子すくい上げ部材３６を配置す
るとともに、この粒子すくい上げ部材３６を前記仕切板
３２に固定し、さらに、この仕切板３２を回転軸２６に
固定して仕切板３２及び粒子すくい上げ部材３６を一体
として回転するようにしたことを特徴としている。
めに、本考案の排ガス処理装置は、排ガス入口１０を略
中央下部に、清浄ガス出口１２を略中央上部にそれぞれ
略鉛直方向に備え、粒子投入口１４を一端上部に備え、
粒子排出口１６及びダスト排出口５２を他端下部に備え
た略円筒状のケーシング１８と、このケーシング１８内
に同心状に略水平方向又は傾斜させて配置された通気性
支持板からなる円筒２０と、この円筒２０内にダスト除
去用粒子、脱硫活性を有する粒子、脱硝活性を有する粒
子、同時脱硫・脱硝活性を有する粒子のうち少なくとも
１種を、上部に空間ができるように粗に充填して形成さ
れた集じん・反応槽２２及びこの集じん・反応槽２２の
粒子排出口１６側端部に連設されたダスト払落槽２４
と、集じん・反応槽２２及びダスト払落槽２４を連続的
又は間欠的に回転させる略水平方向又は傾斜させて配置
された回転軸２６と、ダスト払落槽２４内に設けられた
ダストブロー用のパージ気体を噴出する気体噴出手段２
８と、を備えた排ガス処理装置であって、粒子投入口１
４と集じん・反応槽２２との間に、周縁部に粒子供給口
３０を備えた仕切板３２を設けて粒子貯留部３４を形成
し、この貯留部３４に粒子すくい上げ部材３６を配置す
るとともに、この粒子すくい上げ部材３６を前記仕切板
３２に固定し、さらに、この仕切板３２を回転軸２６に
固定して仕切板３２及び粒子すくい上げ部材３６を一体
として回転するようにしたことを特徴としている。
【０００５】この場合、回転軸２６を中空状としてパー
ジ空気を供給する気体供給管３８とし、ダスト払落槽２
４における気体供給管３８に側面に噴出口４０を有する
複数のノズル４２を放射線状に連結し、ノズル４２内に
球体４４を挿入し、ノズル４２が上向きのときは球体４
４が下降してノズル４２を閉とし、ノズル４２が下向き
になると球体４４が下降してノズル４２を開として気体
噴出手段２８を構成することが望ましい。また、回転に
伴う粒子表面の傾斜に合わせて、排ガス入口１０をケー
シング１８下面における鉛直中心から偏心した位置に設
け、排ガスの通過層厚を均一にするように構成するのが
望ましい。また、集じん・反応槽２２とダスト払落槽２
４との間に、粒子層の一部を仕切ってガスの流通を少な
くするための仕切板４６を設けるように構成するのが望
ましい。また、円筒２０の内面に粒子かき上げ用プレー
ト６０を一体に設けるのが望ましい。さらに、気体噴出
手段２８から再生ガスを噴出して、ダスト払落槽をダス
ト払落槽兼再生槽２４ａとして機能させることもでき
る。
ジ空気を供給する気体供給管３８とし、ダスト払落槽２
４における気体供給管３８に側面に噴出口４０を有する
複数のノズル４２を放射線状に連結し、ノズル４２内に
球体４４を挿入し、ノズル４２が上向きのときは球体４
４が下降してノズル４２を閉とし、ノズル４２が下向き
になると球体４４が下降してノズル４２を開として気体
噴出手段２８を構成することが望ましい。また、回転に
伴う粒子表面の傾斜に合わせて、排ガス入口１０をケー
シング１８下面における鉛直中心から偏心した位置に設
け、排ガスの通過層厚を均一にするように構成するのが
望ましい。また、集じん・反応槽２２とダスト払落槽２
４との間に、粒子層の一部を仕切ってガスの流通を少な
くするための仕切板４６を設けるように構成するのが望
ましい。また、円筒２０の内面に粒子かき上げ用プレー
ト６０を一体に設けるのが望ましい。さらに、気体噴出
手段２８から再生ガスを噴出して、ダスト払落槽をダス
ト払落槽兼再生槽２４ａとして機能させることもでき
る。
【０００６】排ガス中のダストを除去する場合は、粒子
としてダスト除去用粒子が用いられる。また、粒子の少
なくとも一部を硫黄酸化物又は硫化水素の脱硫活性を有
する粒予として、ダストの除去とともに硫黄酸化物又は
硫化水素を除去するようにしたり、粒子の少なくとも一
部を脱硝活性を有する粒子とし、排ガス中に還元剤を添
加して、ダストの除去とともに窒素酸化物を除去するよ
うにしたり、粒子の少なくとも一部を硫黄酸化物の脱硫
活性を有する粒子及び脱硝活性を有する粒子とし、排ガ
ス中に還元剤を添加して、ダストの除去とともに硫黄酸
化物及び窒素酸化物を除去するようにしたり、粒子の少
なくとも一部を同時脱硫（脱ＳＯｘ）・脱硝活性を有す
る粒子とし、排ガス中に還元剤を添加して、ダストの除
去とともに硫黄酸化物及び窒素酸化物を除去するように
することができる。なお、還元剤としては、アンモニ
ア、炭化水素などが用いられる。一般に、同一排ガス中
にＳＯｘとＮＯｘとは共存し得るが、Ｈ２ＳとＮＯｘと
の共存はまずあり得ない。このため、本願明細書におい
て、「脱硫」には、ＳＯｘ除去とＨ２Ｓ除去の２つの意
味があり、「同時脱硫・脱硝」という場合は、ＳＯｘ及
びＮＯｘの除去を意味し、「同時脱硫・脱じん」という
場合は、ＳＯｘ又はＨ２Ｓの除去とダストの除去を意味
し、「脱硫」という場合は、ＳＯｘ又はＨ２Ｓの除去を
意味する。
としてダスト除去用粒子が用いられる。また、粒子の少
なくとも一部を硫黄酸化物又は硫化水素の脱硫活性を有
する粒予として、ダストの除去とともに硫黄酸化物又は
硫化水素を除去するようにしたり、粒子の少なくとも一
部を脱硝活性を有する粒子とし、排ガス中に還元剤を添
加して、ダストの除去とともに窒素酸化物を除去するよ
うにしたり、粒子の少なくとも一部を硫黄酸化物の脱硫
活性を有する粒子及び脱硝活性を有する粒子とし、排ガ
ス中に還元剤を添加して、ダストの除去とともに硫黄酸
化物及び窒素酸化物を除去するようにしたり、粒子の少
なくとも一部を同時脱硫（脱ＳＯｘ）・脱硝活性を有す
る粒子とし、排ガス中に還元剤を添加して、ダストの除
去とともに硫黄酸化物及び窒素酸化物を除去するように
することができる。なお、還元剤としては、アンモニ
ア、炭化水素などが用いられる。一般に、同一排ガス中
にＳＯｘとＮＯｘとは共存し得るが、Ｈ２ＳとＮＯｘと
の共存はまずあり得ない。このため、本願明細書におい
て、「脱硫」には、ＳＯｘ除去とＨ２Ｓ除去の２つの意
味があり、「同時脱硫・脱硝」という場合は、ＳＯｘ及
びＮＯｘの除去を意味し、「同時脱硫・脱じん」という
場合は、ＳＯｘ又はＨ２Ｓの除去とダストの除去を意味
し、「脱硫」という場合は、ＳＯｘ又はＨ２Ｓの除去を
意味する。
【０００７】
【作用】図１において、通気性支持板からなる円筒２０
は矢印Ａ方向に連続的又は間欠的に回転する。円筒２０
内に形成された集じん・反応槽２２の略鉛直方向におけ
る略中央下部の外側から排ガスが導入され、つぎに円筒
２０内に形成された集じん・反応槽２２の略鉛直方向に
おける略中央上部の外側から排ガスが排出されて、排ガ
ス中のダストが捕集される。ダストは、集じん・反応槽
２２の粒子排出口１６側端部に連設されたダスト払落槽
２４内において、気体噴出手段２８により払い落とされ
る。また、気体として再生ガスを用いる場合は、ダスト
払い落としと同時に、粒子の再生も行なわれる。ここ
で、粒子の一部又は全部をＳＯｘ又はＨ２Ｓの脱硫活性
を有する粒子とすることにより、ダストと同時にＳＯｘ
又はＨ２Ｓも除去される。また、粒子の一部又は全部を
脱硝活性を有する粒子とすることにより、ダストと同時
にＮＯｘも除去される。また、粒予の一部又は全部をＳ
Ｏｘの脱硫活性を有する粒子及び脱硝活性を有する粒子
とするか、又は同時脱硫（脱ＳＯｘ）・脱硝活性を有す
る粒子とすることにより、ダストと同時にＳＯｘ、ＮＯ
ｘも除去される。なお、脱硝を行なう場合は、排ガスに
還元剤を添加する。
は矢印Ａ方向に連続的又は間欠的に回転する。円筒２０
内に形成された集じん・反応槽２２の略鉛直方向におけ
る略中央下部の外側から排ガスが導入され、つぎに円筒
２０内に形成された集じん・反応槽２２の略鉛直方向に
おける略中央上部の外側から排ガスが排出されて、排ガ
ス中のダストが捕集される。ダストは、集じん・反応槽
２２の粒子排出口１６側端部に連設されたダスト払落槽
２４内において、気体噴出手段２８により払い落とされ
る。また、気体として再生ガスを用いる場合は、ダスト
払い落としと同時に、粒子の再生も行なわれる。ここ
で、粒子の一部又は全部をＳＯｘ又はＨ２Ｓの脱硫活性
を有する粒子とすることにより、ダストと同時にＳＯｘ
又はＨ２Ｓも除去される。また、粒子の一部又は全部を
脱硝活性を有する粒子とすることにより、ダストと同時
にＮＯｘも除去される。また、粒予の一部又は全部をＳ
Ｏｘの脱硫活性を有する粒子及び脱硝活性を有する粒子
とするか、又は同時脱硫（脱ＳＯｘ）・脱硝活性を有す
る粒子とすることにより、ダストと同時にＳＯｘ、ＮＯ
ｘも除去される。なお、脱硝を行なう場合は、排ガスに
還元剤を添加する。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照して本考案の好適な実施例
を詳細に説明する。ただし、この実施例に記載されてい
る構成部材の形状、その相対配置などは、とくに特定的
な記載がない限りは、本考案の範囲をそれらのみに限定
する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。 実施例１ 図１において、１８は略円筒状のケーシングで、ケーシ
ング１８の胴の略中央下部に軸方向と直交する方向に排
ガス入口１０が設けられ、胴の略中央上部に軸方向と直
交する方向に清浄ガス出口１２が設けられる。また、ケ
ーシング１８の一端上部には粒子投入口１４が、ケーシ
ング１８の他端下部には粒子排出口１６がそれぞれ設け
られる。ケーシング１８内に、金網、パンチングメタ
ル、多孔板などの通気性支持板１９からなる円筒２０が
同心状に配置され、円筒２０内にダスト除去用粒子、脱
硫（脱ＳＯｘ又は脱Ｈ２Ｓ）活性を有する粒子、脱硝活
性を有する粒子、同時脱硫（脱ＳＯｘ）・脱硝活性を有
する粒子のうち少なくとも１種が充填されて集じん・反
応槽２２が形成される。この場合、円筒２０内には粒子
を８０％程度入れて上部に空間２１を持たせるように
し、次に述べる回転により粒子が動きやすく、粒子の反
応表面が有効に利用されるようにする。集じん・反応槽
２２には、駆動装置４８により回転する回転軸２６が略
水平方向に又は傾斜させて取り付けられ、連続的又は間
欠的に回転するように構成される。なお、円筒２０は水
平方向に設けてもよいし、傾斜させて設けることも可能
である。５０は軸受である。円筒２０内において、集じ
ん・反応槽２２の粒子排出口１６側端部にはダスト払落
槽２４が設けられ、ダスト払落槽２４内にはダストを払
い落とすための気体噴出手段２８が設けられる。噴出さ
せるパージ気体としては空気などが用いられる。ダスト
が払い落とされた粒子は、仕切板５６の粒子孔５８から
落下した後、粒子排出口１６から抜き出される。抜き出
された粒子は、まだ少しのダストを含んでいるので、分
離機（図示せず）でダストが分離された後、粒子は粒子
投入口１４へ循環される。なお、５２はダスト排出口、
５４は気体流入口、５５はロータリジョイントである。
を詳細に説明する。ただし、この実施例に記載されてい
る構成部材の形状、その相対配置などは、とくに特定的
な記載がない限りは、本考案の範囲をそれらのみに限定
する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。 実施例１ 図１において、１８は略円筒状のケーシングで、ケーシ
ング１８の胴の略中央下部に軸方向と直交する方向に排
ガス入口１０が設けられ、胴の略中央上部に軸方向と直
交する方向に清浄ガス出口１２が設けられる。また、ケ
ーシング１８の一端上部には粒子投入口１４が、ケーシ
ング１８の他端下部には粒子排出口１６がそれぞれ設け
られる。ケーシング１８内に、金網、パンチングメタ
ル、多孔板などの通気性支持板１９からなる円筒２０が
同心状に配置され、円筒２０内にダスト除去用粒子、脱
硫（脱ＳＯｘ又は脱Ｈ２Ｓ）活性を有する粒子、脱硝活
性を有する粒子、同時脱硫（脱ＳＯｘ）・脱硝活性を有
する粒子のうち少なくとも１種が充填されて集じん・反
応槽２２が形成される。この場合、円筒２０内には粒子
を８０％程度入れて上部に空間２１を持たせるように
し、次に述べる回転により粒子が動きやすく、粒子の反
応表面が有効に利用されるようにする。集じん・反応槽
２２には、駆動装置４８により回転する回転軸２６が略
水平方向に又は傾斜させて取り付けられ、連続的又は間
欠的に回転するように構成される。なお、円筒２０は水
平方向に設けてもよいし、傾斜させて設けることも可能
である。５０は軸受である。円筒２０内において、集じ
ん・反応槽２２の粒子排出口１６側端部にはダスト払落
槽２４が設けられ、ダスト払落槽２４内にはダストを払
い落とすための気体噴出手段２８が設けられる。噴出さ
せるパージ気体としては空気などが用いられる。ダスト
が払い落とされた粒子は、仕切板５６の粒子孔５８から
落下した後、粒子排出口１６から抜き出される。抜き出
された粒子は、まだ少しのダストを含んでいるので、分
離機（図示せず）でダストが分離された後、粒子は粒子
投入口１４へ循環される。なお、５２はダスト排出口、
５４は気体流入口、５５はロータリジョイントである。
【０００９】また、図１及び図３に示すように、粒子の
投入を円筒２０の回転による自動供給とするための機構
が設けられており、粒子貯留部３４が、粒子投入口１４
と集じん・反応槽２２との間に、周縁部に粒子供給口３
０を備えた仕切板３２を設けて形成され、粒子すくい上
げ部材３６がこの貯留部３４に配置される。そして、こ
の粒子すくい上げ部材３６は前記仕切板３２に固定さ
れ、さらに、この仕切板３２は回転軸２６に固定され、
仕切板３２及び粒子すくい上げ部材３６は一体となって
回転する。これにより、粒子の投入が連続的に自動で行
なえる。なお、回転速度は粒子の投入・排出速度を考慮
して決定される。さらに、図１、図２及び図４に示すよ
うに、集じん・反応槽２２が形成される円筒２０の内径
Ｄ０より、ダスト払落槽２４が形成される円筒２０の内
径Ｄ１が大きくなるようにし、ダスト払落槽２４の周速
度を大とし、粒子の動きを大きくしてダストの払い落と
しを促進するように構成される。
投入を円筒２０の回転による自動供給とするための機構
が設けられており、粒子貯留部３４が、粒子投入口１４
と集じん・反応槽２２との間に、周縁部に粒子供給口３
０を備えた仕切板３２を設けて形成され、粒子すくい上
げ部材３６がこの貯留部３４に配置される。そして、こ
の粒子すくい上げ部材３６は前記仕切板３２に固定さ
れ、さらに、この仕切板３２は回転軸２６に固定され、
仕切板３２及び粒子すくい上げ部材３６は一体となって
回転する。これにより、粒子の投入が連続的に自動で行
なえる。なお、回転速度は粒子の投入・排出速度を考慮
して決定される。さらに、図１、図２及び図４に示すよ
うに、集じん・反応槽２２が形成される円筒２０の内径
Ｄ０より、ダスト払落槽２４が形成される円筒２０の内
径Ｄ１が大きくなるようにし、ダスト払落槽２４の周速
度を大とし、粒子の動きを大きくしてダストの払い落と
しを促進するように構成される。
【００１０】実施例２ 本実施例は、図６に示すように、気体噴出手段２８から
噴出する気体の少なくとも一部として、再生ガスを用い
る場合である。この場合は、ダスト払落槽がダスト払落
槽兼再生槽２４ａとして機能する。なお、再生する場所
は、ダスト払落槽の部分のほかに、上記の粒子排出口１
６と粒子投入口１４との間の循環ライン（図示せず）の
途中の部分とすることもできる。
噴出する気体の少なくとも一部として、再生ガスを用い
る場合である。この場合は、ダスト払落槽がダスト払落
槽兼再生槽２４ａとして機能する。なお、再生する場所
は、ダスト払落槽の部分のほかに、上記の粒子排出口１
６と粒子投入口１４との間の循環ライン（図示せず）の
途中の部分とすることもできる。
【００１１】実施例１及び実施例２において、ダスト除
去用粒子としては、熱的に安定で、強度が高いアルミ
ナ、ムライト、シリカなどのセラミック造粒物が適して
いる。粒子直径は１〜５ｍｍ程度が望ましい。上記の粒
子は、緻密焼結体とするのが望ましく、この場合は、従
来の多孔質フィルターのように、ダスト燃焼熱による破
損・焼結が発生し難いという利点がある。脱硫（脱ＳＯ
ｘ）活性を有する粒子としては、Ｃｕ−Ａｌ又はＣｕ−
Ａｌ−Ｔｉ系の粒子を用いることが望ましい。その場
合、以下の反応が進行する。 （脱硫反応） ＣｕＯ＋ＳＯ２＋１／２Ｏ２→ＣｕＳＯ４ （再生反応） ＣｕＳＯ４→ＣｕＯ＋ＳＯ２＋１／２Ｏ２ 下段の脱硫剤再生反応は熱分解反応であり、脱硫剤粒子
の再生と粒子層に捕集されたダストの燃焼とを同時に行
なうことにより、ダスト燃焼熱を熱分解に利用するとと
もに、カーボンによる還元効果で再生反応を促進するこ
とができる。また、脱硝活性を有する粒子としては、Ｖ
２Ｏ５、ＷＯ３、ＣｕＯなどを表面に担持した粒子や、
あるいはＶ２Ｏ５−ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５−ＷＯ３−Ｔｉ
Ｏ２、ＣｕＯ−Ａｌ２Ｏ３系の粒子を用い、排ガスにア
ンモニアなどの還元剤を必要反応当量分添加して粒子層
に供給する。また、脱硫（脱ＳＯｘ）と脱硝を同時に行
なう場合には、上記の脱硫活性を有する粒子と脱硝活性
を有する粒子とを混合し、排ガスに還元剤を添加する。
さらに、Ｖ２Ｏ５系、Ｃｒ２Ｏ３系などの同時脱硫・脱
硝活性を有する粒子を充填し、排ガスに還元剤を必要反
応当量分添加して、粒子層に供給することにより、脱じ
ん、脱硫、脱硝を同時に行なうことができる。
去用粒子としては、熱的に安定で、強度が高いアルミ
ナ、ムライト、シリカなどのセラミック造粒物が適して
いる。粒子直径は１〜５ｍｍ程度が望ましい。上記の粒
子は、緻密焼結体とするのが望ましく、この場合は、従
来の多孔質フィルターのように、ダスト燃焼熱による破
損・焼結が発生し難いという利点がある。脱硫（脱ＳＯ
ｘ）活性を有する粒子としては、Ｃｕ−Ａｌ又はＣｕ−
Ａｌ−Ｔｉ系の粒子を用いることが望ましい。その場
合、以下の反応が進行する。 （脱硫反応） ＣｕＯ＋ＳＯ２＋１／２Ｏ２→ＣｕＳＯ４ （再生反応） ＣｕＳＯ４→ＣｕＯ＋ＳＯ２＋１／２Ｏ２ 下段の脱硫剤再生反応は熱分解反応であり、脱硫剤粒子
の再生と粒子層に捕集されたダストの燃焼とを同時に行
なうことにより、ダスト燃焼熱を熱分解に利用するとと
もに、カーボンによる還元効果で再生反応を促進するこ
とができる。また、脱硝活性を有する粒子としては、Ｖ
２Ｏ５、ＷＯ３、ＣｕＯなどを表面に担持した粒子や、
あるいはＶ２Ｏ５−ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５−ＷＯ３−Ｔｉ
Ｏ２、ＣｕＯ−Ａｌ２Ｏ３系の粒子を用い、排ガスにア
ンモニアなどの還元剤を必要反応当量分添加して粒子層
に供給する。また、脱硫（脱ＳＯｘ）と脱硝を同時に行
なう場合には、上記の脱硫活性を有する粒子と脱硝活性
を有する粒子とを混合し、排ガスに還元剤を添加する。
さらに、Ｖ２Ｏ５系、Ｃｒ２Ｏ３系などの同時脱硫・脱
硝活性を有する粒子を充填し、排ガスに還元剤を必要反
応当量分添加して、粒子層に供給することにより、脱じ
ん、脱硫、脱硝を同時に行なうことができる。
【００１２】また、脱硝・脱硫機能を有する触媒とし
て、例えばＣｕＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２、ＣｕＯ−Ｓ
ｉＯ２−ＴｉＯ２、ＣｕＯ−Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２など
が知られており、これらの触媒成分のうちＣｕＯと排ガ
ス中のＳＯｘとの硫酸塩化反応による下式による脱硫反
応に加えて生成したＣｕＳＯ４を触媒とするＮＯｘのア
ンモニアによる還元反応を同時に行なうものである。 ＳＯ２＋１／２Ｏ２→ＳＯ３（触媒：ＣｕＯ） ＳＯ３＋ＣｕＯ→ＣｕＳＯ４ ＮＯ＋ＮＨ３＋１／４Ｏ２→Ｎ２＋３／２Ｈ２Ｏ（触媒：ＣｕＳＯ４） ＮＯ２＋４／３ＮＨ３→７／６Ｎ２＋２Ｈ２Ｏ（触媒：ＣｕＳＯ４） 上記反応による使用済み脱硫・脱硝剤粒子は、還元剤
（ＮＨ３、Ｈ２等）の共存下で還元と空気系での酸化反
応により再生され、再利用される。例えば、還元剤とし
てＮＨ３を用いる場合、 ＣｕＳＯ４→Ｃｕ３Ｎ（ＮＨ３添加） Ｃｕ３Ｎ→ＣｕＯ（Ｏ２添加） の反応により再生される。上記の粒子は、いずれも緻密
焼結体とするのが望ましく、この場合は、従来の多孔質
フィルターのように、ダスト燃焼熱による破損・焼結が
発生し難いという利点がある。また、硫化水素除去用の
脱硫活性を有する粒子としては、各種金属酸化物、水酸
化物などが用いられる。例えば、鉄鉱石などの酸化鉄、
酸化銅、ドロマイト、焼成ドロマイト、石灰石などを挙
げることができる。脱硫反応及び再生反応は、酸化鉄を
用いた場合は、以下の通りである。 （脱硫反応） ３Ｆｅ２Ｏ３＋Ｈ２→２Ｆｅ３Ｏ４＋Ｈ２Ｏ （脱硫反応） Ｆｅ３Ｏ４＋３Ｈ２Ｓ＋Ｈ２→３ＦｅＳ＋４Ｈ２Ｏ （再生反応） ２ＦｅＳ＋７／２Ｏ２→Ｆｅ２Ｏ３＋２ＳＯ２
て、例えばＣｕＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２、ＣｕＯ−Ｓ
ｉＯ２−ＴｉＯ２、ＣｕＯ−Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２など
が知られており、これらの触媒成分のうちＣｕＯと排ガ
ス中のＳＯｘとの硫酸塩化反応による下式による脱硫反
応に加えて生成したＣｕＳＯ４を触媒とするＮＯｘのア
ンモニアによる還元反応を同時に行なうものである。 ＳＯ２＋１／２Ｏ２→ＳＯ３（触媒：ＣｕＯ） ＳＯ３＋ＣｕＯ→ＣｕＳＯ４ ＮＯ＋ＮＨ３＋１／４Ｏ２→Ｎ２＋３／２Ｈ２Ｏ（触媒：ＣｕＳＯ４） ＮＯ２＋４／３ＮＨ３→７／６Ｎ２＋２Ｈ２Ｏ（触媒：ＣｕＳＯ４） 上記反応による使用済み脱硫・脱硝剤粒子は、還元剤
（ＮＨ３、Ｈ２等）の共存下で還元と空気系での酸化反
応により再生され、再利用される。例えば、還元剤とし
てＮＨ３を用いる場合、 ＣｕＳＯ４→Ｃｕ３Ｎ（ＮＨ３添加） Ｃｕ３Ｎ→ＣｕＯ（Ｏ２添加） の反応により再生される。上記の粒子は、いずれも緻密
焼結体とするのが望ましく、この場合は、従来の多孔質
フィルターのように、ダスト燃焼熱による破損・焼結が
発生し難いという利点がある。また、硫化水素除去用の
脱硫活性を有する粒子としては、各種金属酸化物、水酸
化物などが用いられる。例えば、鉄鉱石などの酸化鉄、
酸化銅、ドロマイト、焼成ドロマイト、石灰石などを挙
げることができる。脱硫反応及び再生反応は、酸化鉄を
用いた場合は、以下の通りである。 （脱硫反応） ３Ｆｅ２Ｏ３＋Ｈ２→２Ｆｅ３Ｏ４＋Ｈ２Ｏ （脱硫反応） Ｆｅ３Ｏ４＋３Ｈ２Ｓ＋Ｈ２→３ＦｅＳ＋４Ｈ２Ｏ （再生反応） ２ＦｅＳ＋７／２Ｏ２→Ｆｅ２Ｏ３＋２ＳＯ２
【００１３】実施例３ 本実施例は、図１、図４及び図５に示すように、回転軸
２６を中空状としてパージ空気又は／及び再生ガスを供
給する気体供給管３８とし、ダスト払落槽２４における
気体供給管３８は、側面に噴出口４０を有する複数のノ
ズル４２が放射線状に連結した構成となっている。図５
に示すように、気体噴出手段２８は、気体を下方向に噴
出させるために、ノズル４２内に球体４４を入れて、ノ
ズル４２が上向きのときは球体４４が下降してノズル４
２が閉となり、ノズル４２が下向きになると球体４４が
下降してノズル４２が開となるようにする。なお、球体
４４としては鋼球などを用いる。これにより、ダスト払
落槽２４では、気体噴出手段２８により下向きの空気の
みがブローされるので、上側の空間２１に抜けることは
なく、ダストの払い落としの性能が向上する。なお、ノ
ズル４２内に球体４４を付勢するためのスプリングを設
ける場合もある。他の構成、作用は実施例１及び実施例
２の場合と同様である。
２６を中空状としてパージ空気又は／及び再生ガスを供
給する気体供給管３８とし、ダスト払落槽２４における
気体供給管３８は、側面に噴出口４０を有する複数のノ
ズル４２が放射線状に連結した構成となっている。図５
に示すように、気体噴出手段２８は、気体を下方向に噴
出させるために、ノズル４２内に球体４４を入れて、ノ
ズル４２が上向きのときは球体４４が下降してノズル４
２が閉となり、ノズル４２が下向きになると球体４４が
下降してノズル４２が開となるようにする。なお、球体
４４としては鋼球などを用いる。これにより、ダスト払
落槽２４では、気体噴出手段２８により下向きの空気の
みがブローされるので、上側の空間２１に抜けることは
なく、ダストの払い落としの性能が向上する。なお、ノ
ズル４２内に球体４４を付勢するためのスプリングを設
ける場合もある。他の構成、作用は実施例１及び実施例
２の場合と同様である。
【００１４】実施例４ 本実施例は、図２に示すように、排ガス入口１０は、円
筒２０の回転により粒子表面が傾斜するので、その傾斜
角度θに合わせて鉛直方向からθだけ傾けた位置に設け
られ、排ガスの通過層厚が均一になるようにしている。
他の構成、作用は実施例１及び実施例２の場合と同様で
ある。
筒２０の回転により粒子表面が傾斜するので、その傾斜
角度θに合わせて鉛直方向からθだけ傾けた位置に設け
られ、排ガスの通過層厚が均一になるようにしている。
他の構成、作用は実施例１及び実施例２の場合と同様で
ある。
【００１５】実施例５ 本実施例は、図１に示すように、集じん・反応槽２２と
ダスト払落槽２４との間の一部に仕切板４６を入れてガ
スの流通を少なくするように構成したものである。仕切
板４６の深さは、円筒２０上部の空間から粒子の中に少
し入る程度とする。他の構成、作用は実施例１及び実施
例２の場合と同様である。
ダスト払落槽２４との間の一部に仕切板４６を入れてガ
スの流通を少なくするように構成したものである。仕切
板４６の深さは、円筒２０上部の空間から粒子の中に少
し入る程度とする。他の構成、作用は実施例１及び実施
例２の場合と同様である。
【００１６】実施例６ 本実施例は、図７及び図８に示すように、円筒２０の内
面に、複数の粒子かき上げ用プレート６０を一体に取り
付けたものである。プレート６０により、粒子はかき上
げられてほぐされ、ダスト除去性能又は／及び反応性能
が向上する。粒子は、仕切板４６に近接した上流側の部
分に滞留しやすいので、図９に示すように、この部分に
のみ粒子かき上げ用プレート６０ａを設けることもあ
る。他の構成、作用は実施例１及び実施例２の場合と同
様である。
面に、複数の粒子かき上げ用プレート６０を一体に取り
付けたものである。プレート６０により、粒子はかき上
げられてほぐされ、ダスト除去性能又は／及び反応性能
が向上する。粒子は、仕切板４６に近接した上流側の部
分に滞留しやすいので、図９に示すように、この部分に
のみ粒子かき上げ用プレート６０ａを設けることもあ
る。他の構成、作用は実施例１及び実施例２の場合と同
様である。
【００１７】
【考案の効果】本考案は、上記のように構成されている
ので、つぎのような効果を奏する。 （１） 簡便な装置で、脱じんのみ、脱じんと脱硫（脱
ＳＯｘ又は脱Ｈ２Ｓ）、脱じんと脱硝、又は脱じんと脱
硫（脱ＳＯｘ）と脱硝を行なうことができる。また、粒
子の再生をも行なうことができる。 （２） 集じん・反応槽は、円筒内の上部に空間ができ
る程度に粒子を充填して形成されているので、回転によ
り粒子が相互に動きやすく（ほぐれやすく）粒子の反応
表面を有効に利用することができ、ダスト除去性能、脱
硝性能、脱硫性能がよくなる。 （３） 回転軸に固定された仕切板及び粒子すくい上げ
部材が一体となって回転するので、粒子の投入が連続的
に自動で確実に行なえる上に、粒子の投入・排出が円筒
の回転により連続的に自動的に行なえ、しかも投入・排
出速度が回転速度で制御できる。また、回転軸を傾斜さ
せている場合は、その傾斜角度を調整しても制御でき
る。つまり、回転速度と傾斜角度とを調整して、投入・
排出速度を制御することができる。 （４） ダスト払落槽によりダストの払い落としができ
る。パージ気体噴出手段により下向きに空気がブローさ
れる場合は、ダストの払い落としの効率が向上する。 （５） 排ガス入口を、円筒の回転に伴う粒子表面の傾
斜に合わせた位置に設ける場合は、排ガスの通過層厚が
均一となり処理効率が向上する。 （６） 集じん・反応槽とダスト払落槽との間の一部に
仕切板を設ける場合は、ガスの流通を少なくすることが
でき、処理性能が向上する。
ので、つぎのような効果を奏する。 （１） 簡便な装置で、脱じんのみ、脱じんと脱硫（脱
ＳＯｘ又は脱Ｈ２Ｓ）、脱じんと脱硝、又は脱じんと脱
硫（脱ＳＯｘ）と脱硝を行なうことができる。また、粒
子の再生をも行なうことができる。 （２） 集じん・反応槽は、円筒内の上部に空間ができ
る程度に粒子を充填して形成されているので、回転によ
り粒子が相互に動きやすく（ほぐれやすく）粒子の反応
表面を有効に利用することができ、ダスト除去性能、脱
硝性能、脱硫性能がよくなる。 （３） 回転軸に固定された仕切板及び粒子すくい上げ
部材が一体となって回転するので、粒子の投入が連続的
に自動で確実に行なえる上に、粒子の投入・排出が円筒
の回転により連続的に自動的に行なえ、しかも投入・排
出速度が回転速度で制御できる。また、回転軸を傾斜さ
せている場合は、その傾斜角度を調整しても制御でき
る。つまり、回転速度と傾斜角度とを調整して、投入・
排出速度を制御することができる。 （４） ダスト払落槽によりダストの払い落としができ
る。パージ気体噴出手段により下向きに空気がブローさ
れる場合は、ダストの払い落としの効率が向上する。 （５） 排ガス入口を、円筒の回転に伴う粒子表面の傾
斜に合わせた位置に設ける場合は、排ガスの通過層厚が
均一となり処理効率が向上する。 （６） 集じん・反応槽とダスト払落槽との間の一部に
仕切板を設ける場合は、ガスの流通を少なくすることが
でき、処理性能が向上する。
【図１】本考案の一実施例を示す排ガス処理装置の断面
説明図である。
説明図である。
【図２】図１に示す装置における２−２線断面説明図で
ある。
ある。
【図３】図１に示す装置における３−３線断面説明図で
ある。
ある。
【図４】図１に示す装置における４−４線断面説明図で
ある。
ある。
【図５】気体噴出手段の拡大断面図である。
【図６】本考案の他の実施例を示す排ガス処理装置の断
面説明図である。
面説明図である。
【図７】本考案の他の実施例を示す排ガス処理装置の断
面説明図である。
面説明図である。
【図８】図７に示す装置における８−８線断面図であ
る。
る。
【図９】本考案のさらに他の実施例を示す排ガス処理装
置の断面説明図である。
置の断面説明図である。
１０ 排ガス入口 １２ 清浄ガス出口 １４ 粒子投入口 １６ 粒子排出口 １８ ケーシング １９ 通気性支持板 ２０ 円筒 ２１ 空間 ２２ 集じん・反応槽 ２４ ダスト払落槽 ２４ａ ダスト払落槽兼再生槽 ２６ 回転軸 ２８ 気体噴出手段 ３０ 粒子供給口 ３２ 仕切板 ３４ 粒子貯留部 ３６ 粒子すくい上げ部材 ３８ 気体供給管 ４０ 噴出口 ４２ ノズル ４４ 球体 ４６ 仕切板 ４８ 駆動装置 ５０ 軸受 ５２ ダスト排出口 ５４ 気体流入口 ５５ ロータリジョイント ５６ 仕切板 ５８ 粒子孔 ６０ 粒子かき上げ用プレート ６０ａ 粒子かき上げ用プレート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 8/10 ３１１ Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｄ Ｆ０１Ｎ 3/08 １０１Ａ Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｚ (56)参考文献 特開 昭55−75769（ＪＰ，Ａ) 特公 昭54−4697（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (6)
- 【請求項１】 排ガス入口（１０）を略中央下部に、清
浄ガス出口（１２）を略中央上部にそれぞれ略鉛直方向
に備え、粒子投入口（１４）を一端上部に備え、粒子排
出口（１６）及びダスト排出口（５２）を他端下部に備
えた略円筒状のケーシング（１８）と、 このケーシング（１８）内に同心状に略水平方向又は傾
斜させて配置された通気性支持板からなる円筒（２０）
と、 この円筒（２０）内にダスト除去用粒子、脱硫活性を有
する粒子、脱硝活性を有する粒子、同時脱硫・脱硝活性
を有する粒子のうち少なくとも１種を、上部に空間がで
きるように粗に充填して形成された集じん・反応槽（２
２）及びこの集じん・反応槽（２２）の粒子排出口（１
６）側端部に連設されたダスト払落槽（２４）と、 集じん・反応槽（２２）及びダスト払落槽（２４）を連
続的又は間欠的に回転させる略水平方向又は傾斜させて
配置された回転軸（２６）と、 ダスト払落槽（２４）内に設けられたダストブロー用の
パージ気体を噴出する気体噴出手段（２８）と、 を備えた排ガス処理装置であって、 粒子投入口（１４）と集じん・反応槽（２２）との間
に、周縁部に粒子供給口（３０）を備えた仕切板（３
２）を設けて粒子貯留部（３４）を形成し、この貯留部
（３４）に粒子すくい上げ部材（３６）を配置するとと
もに、この粒子すくい上げ部材（３６）を前記仕切板
（３２）に固定し、さらに、この仕切板（３２）を回転
軸（２６）に固定して仕切板（３２）及び粒子すくい上
げ部材（３６）を一体として回転するようにしたことを
特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項２】 回転軸（２６）を中空状としてパージ空
気を供給する気体供給管（３８）とし、ダスト払落槽
（２４）における気体供給管（３８）に側面に噴出口
（４０）を有する複数のノズル（４２）を放射線状に連
結し、ノズル（４２）内に球体（４４）を挿入し、ノズ
ル（４２）が上向きのときは球体（４４）が下降してノ
ズル（４２）を閉とし、ノズル（４２）が下向きになる
と球体（４４）が下降してノズル（４２）を開とするよ
うにして気体噴出手段（２８）を構成した請求項１記載
の排ガス処理装置。 - 【請求項３】 回転に伴う粒子表面の傾斜に合わせて、
排ガス入口（１０）をケーシング（１８）下面における
鉛直中心から偏心した位置に設け、排ガスの通過層厚を
均一にするようにした請求項１記載の排ガス処理装置。 - 【請求項４】 集じん・反応槽（２２）とダスト払落槽
（２４）との間に、粒子層の一部を仕切ってガスの流通
を少なくするための仕切板（４６）を設けた請求項１記
載の排ガス処理装置。 - 【請求項５】 円筒（２０）の内面に粒子かき上げ用プ
レート（６０）を一体に設けた請求項１記載の排ガス処
理装置。 - 【請求項６】 気体噴出手段（２８）から再生ガスを噴
出して、ダスト払落槽をダスト払落槽兼再生槽（２４
ａ）として機能させるようにした請求項１〜５のいずれ
かに記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991084300U JP2526248Y2 (ja) | 1991-09-18 | 1991-09-18 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991084300U JP2526248Y2 (ja) | 1991-09-18 | 1991-09-18 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0526131U JPH0526131U (ja) | 1993-04-06 |
| JP2526248Y2 true JP2526248Y2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
ID=13826630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991084300U Expired - Lifetime JP2526248Y2 (ja) | 1991-09-18 | 1991-09-18 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2526248Y2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60226580D1 (de) * | 2002-06-25 | 2008-06-26 | Ford Global Tech Llc | SOX Falle für Diesel und magerbetriebene Kraftfahrzeuge |
| KR101711466B1 (ko) * | 2016-06-01 | 2017-03-02 | (주)아이시스텍 | 회전형 반응기를 이용한 이산화탄소 포집장치 |
| CN113521995B (zh) * | 2021-07-28 | 2024-02-06 | 成都市艾博实业有限公司 | 一种天然气开采脱硫装置及其脱硫方法 |
| CN114288776B (zh) * | 2021-12-17 | 2022-09-13 | 西安交通大学 | 一种动态陶瓷膜连续净化高温含尘气体的装置 |
| CN114984745A (zh) * | 2022-08-04 | 2022-09-02 | 甘肃泰聚环保科技有限公司 | 干法脱硝输送设备用物料喷射装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4106317A (en) * | 1977-06-06 | 1978-08-15 | Illinois Tool Works Inc. | Freezer lock assembly with key ejecting mechanism |
| JPS5575769A (en) * | 1978-12-04 | 1980-06-07 | Babcock Hitachi Kk | Dust separator of catalyst |
-
1991
- 1991-09-18 JP JP1991084300U patent/JP2526248Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0526131U (ja) | 1993-04-06 |
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