JP2509467B2 - 3−アルコキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン - Google Patents
3−アルコキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オンInfo
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- JP2509467B2 JP2509467B2 JP7031190A JP3119095A JP2509467B2 JP 2509467 B2 JP2509467 B2 JP 2509467B2 JP 7031190 A JP7031190 A JP 7031190A JP 3119095 A JP3119095 A JP 3119095A JP 2509467 B2 JP2509467 B2 JP 2509467B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J1/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, not substituted in position 17 beta by a carbon atom, e.g. estrane, androstane
- C07J1/0051—Estrane derivatives
- C07J1/0059—Estrane derivatives substituted in position 17 by a keto group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07J—STEROIDS
- C07J1/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, not substituted in position 17 beta by a carbon atom, e.g. estrane, androstane
- C07J1/0051—Estrane derivatives
- C07J1/0081—Substituted in position 17 alfa and 17 beta
- C07J1/0088—Substituted in position 17 alfa and 17 beta the substituent in position 17 alfa being an unsaturated hydrocarbon group
- C07J1/0096—Alkynyl derivatives
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- Steroid Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式I:
【0002】
【化3】
【0003】の17α−エチニル−17β−ヒドロキシ
−18−メチル−4,15−エストラジエン−3−オン
[ゲストーデン(Gestoden)]の新規製法のための新規
出発物質に関する。ゲストーデンはたとえば避妊のため
の調剤で使用される強作用性ゲスターゲンである。
−18−メチル−4,15−エストラジエン−3−オン
[ゲストーデン(Gestoden)]の新規製法のための新規
出発物質に関する。ゲストーデンはたとえば避妊のため
の調剤で使用される強作用性ゲスターゲンである。
【0004】
【従来の技術】既に幾つかのゲストーデンの製法が公知
である。製造はそのつど17−ケトンのエチニル化によ
り行われる。
である。製造はそのつど17−ケトンのエチニル化によ
り行われる。
【0005】西ドイツ国特許第2546062号明細書
には、次の一般式III:
には、次の一般式III:
【0006】
【化4】
【0007】
【外1】
【0008】18−メチル−4,15−エストラジエン
−3,17−ジオン(式III:Y=0,A−B=CH
=CH)にリチウムアセチリドを作用させ、そこでゲス
トーデンが約75%の高い収率で得られる。この方法は
しかし最高100gまでの物質量でのみ適用可能であ
り;この方法で工業的基準で実施すべき場合、エチニル
化は成功しない。さらに、18−メチル−4,15−エ
ストラジエン−3,17−ジオンは皮膚接触に敏感であ
るので、18−メチル−4,15−エストラジエン−
3,17−ジオンとの関連においては保護手段を考慮し
なければならないことが確認された。
−3,17−ジオン(式III:Y=0,A−B=CH
=CH)にリチウムアセチリドを作用させ、そこでゲス
トーデンが約75%の高い収率で得られる。この方法は
しかし最高100gまでの物質量でのみ適用可能であ
り;この方法で工業的基準で実施すべき場合、エチニル
化は成功しない。さらに、18−メチル−4,15−エ
ストラジエン−3,17−ジオンは皮膚接触に敏感であ
るので、18−メチル−4,15−エストラジエン−
3,17−ジオンとの関連においては保護手段を考慮し
なければならないことが確認された。
【0009】3−ケタールを経由するゲストーデン(式
III:Y=エチレンジオキシまたは2,2−ジメチル
ー1,3−プロピレンジオキシ)の製造は、3−ケター
ルが異性体混合物として、油状で生じ、このものはクロ
マトグラフィーでしか精製でないという欠点を有する。
III:Y=エチレンジオキシまたは2,2−ジメチル
ー1,3−プロピレンジオキシ)の製造は、3−ケター
ルが異性体混合物として、油状で生じ、このものはクロ
マトグラフィーでしか精製でないという欠点を有する。
【0010】西ドイツ国特許第2749104号明細書
には、3−ケト基がエタンジチオール−(1,2)で保
護されている(式III:Y=4,5−位で炭素−炭素
−二重結合を有するエチレンジチオ)、17−ケトンの
エチニル化が記載されている。エタンジチオールは既に
少量で不快な臭気のために環境公害を惹起する。さら
に、チオケタール保護基は、エチニル化後、大過剰量の
ヨウ化メチル(高価な試薬)でのみ脱離されるという欠
点を有する。それにより、容易な結晶性およびほぼ定量
的な反応性のチオケタールの利点は再び相殺される。
には、3−ケト基がエタンジチオール−(1,2)で保
護されている(式III:Y=4,5−位で炭素−炭素
−二重結合を有するエチレンジチオ)、17−ケトンの
エチニル化が記載されている。エタンジチオールは既に
少量で不快な臭気のために環境公害を惹起する。さら
に、チオケタール保護基は、エチニル化後、大過剰量の
ヨウ化メチル(高価な試薬)でのみ脱離されるという欠
点を有する。それにより、容易な結晶性およびほぼ定量
的な反応性のチオケタールの利点は再び相殺される。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】公知方法の欠点から、
ゲストーデンの良好な製法を求める要求が生じた。
ゲストーデンの良好な製法を求める要求が生じた。
【0012】
【課題を解決するための手段】一般式II:
【0013】
【化5】
【0014】[式中Rは1〜3の炭素原子を有するアル
キル基を表わし、
キル基を表わし、
【0015】
【化6】
【0016】(R′は10までの炭素原子を有するアシ
ル基を表わす)を表わす]の新規17−ケトンが、ゲス
トーデンの製造のために特に好適である良結晶性化合物
であることが見出された。ゲストーデンへのエチニル化
およびエノールエーテル分解はワンショット法で高い収
率で実施できる。
ル基を表わす)を表わす]の新規17−ケトンが、ゲス
トーデンの製造のために特に好適である良結晶性化合物
であることが見出された。ゲストーデンへのエチニル化
およびエノールエーテル分解はワンショット法で高い収
率で実施できる。
【0017】それにより本発明は、ゲストーデン合成の
新規出発物質としての一般式IIの化合物に関する。
新規出発物質としての一般式IIの化合物に関する。
【0018】式IIでRは1〜3の炭素原子を有するア
ルキル基を表わし、その際メチル基およびエチル基が有
利である。アシル基R′として10までの炭素原子を有
する有機カルボン酸の基が重要である。たとえばアセチ
ル−、トリフルオロアセチル−、トリメチルアセチル
−、プロピオニル−、ブチリル−、ヘプタノイル−およ
びベンゾイル基が挙げられる。
ルキル基を表わし、その際メチル基およびエチル基が有
利である。アシル基R′として10までの炭素原子を有
する有機カルボン酸の基が重要である。たとえばアセチ
ル−、トリフルオロアセチル−、トリメチルアセチル
−、プロピオニル−、ブチリル−、ヘプタノイル−およ
びベンゾイル基が挙げられる。
【0019】一般式IIの17−ケトンのエチニル化
は、リチウムアセチリドを用いて自体公知の方法で行わ
れる。リチウムアセチリドはまたその場で形成させ、式
IIの17−ケトンと反応させることができる。そこ
で、たとえば17−ケトンに、テトラヒドロフランのよ
うな適当な溶剤中、テトラヒドロフランおよびヘキサン
またはテトラヒドロフランおよびジエチルエーテル中の
アルキルリチウムおよびアセチレンの溶液を−70℃か
ら室温の間の温度で作用させる。アルキルリチウムは、
有利にはn−ブチルリチウムとしてヘキサンの15%溶
液でまたはメチルリチウムをエーテル溶液で使用する。
は、リチウムアセチリドを用いて自体公知の方法で行わ
れる。リチウムアセチリドはまたその場で形成させ、式
IIの17−ケトンと反応させることができる。そこ
で、たとえば17−ケトンに、テトラヒドロフランのよ
うな適当な溶剤中、テトラヒドロフランおよびヘキサン
またはテトラヒドロフランおよびジエチルエーテル中の
アルキルリチウムおよびアセチレンの溶液を−70℃か
ら室温の間の温度で作用させる。アルキルリチウムは、
有利にはn−ブチルリチウムとしてヘキサンの15%溶
液でまたはメチルリチウムをエーテル溶液で使用する。
【0020】17−ケトンに含有される基OR′は、エ
チニル化下にHOR′として脱離され15,16−二重
結合が形成する。引き続き、3−ジエノールエーテル基
を3−ケトン基へ分解するのは当業者に公知の方法によ
り実施する。ジエノールエーテル分解のためにはたとえ
ば過塩素塩、硫酸または塩酸のような鉱酸またはたとえ
ばシュウ酸のような有機酸が挙げられる。分解は、特に
アルコール溶液中約20〜100℃の温度で実施する。
チニル化下にHOR′として脱離され15,16−二重
結合が形成する。引き続き、3−ジエノールエーテル基
を3−ケトン基へ分解するのは当業者に公知の方法によ
り実施する。ジエノールエーテル分解のためにはたとえ
ば過塩素塩、硫酸または塩酸のような鉱酸またはたとえ
ばシュウ酸のような有機酸が挙げられる。分解は、特に
アルコール溶液中約20〜100℃の温度で実施する。
【0021】一般式IIの新規17−ケトンは、西ドイ
ツ国特許第2546062号明細書に記載された15α
−ヒドロキシー18−メチル−4−エストレン−3,1
7−ジオンから、15,16−位からの水脱離および3
−ジエノールエーテルへの変換によるか、15α−ヒド
ロキシ基のアシル化および3−ジエノールエーテルへの
変換により製造される。
ツ国特許第2546062号明細書に記載された15α
−ヒドロキシー18−メチル−4−エストレン−3,1
7−ジオンから、15,16−位からの水脱離および3
−ジエノールエーテルへの変換によるか、15α−ヒド
ロキシ基のアシル化および3−ジエノールエーテルへの
変換により製造される。
【0022】水脱離により15,16−二重結合を形成
するのは、自体公知の方法でピリジン中メタンスルホニ
ルクロリドを用いて15α−メシレートを経て行われ、
メシレートを、さらにジメチルホルムアミドおよび無水
酢酸ナトリウムを用いて処理する。
するのは、自体公知の方法でピリジン中メタンスルホニ
ルクロリドを用いて15α−メシレートを経て行われ、
メシレートを、さらにジメチルホルムアミドおよび無水
酢酸ナトリウムを用いて処理する。
【0023】通常の方法で進行する、15α−ヒドロキ
シ基のアシル化のために、たとえば第三アミンの存在
で、相当するカルボン酸無水物またはカルボン酸塩化物
を用いる反応(R′=10までの炭素原子を有するアシ
ル基)が挙げられる。第三アミンとしては、ピリジンお
よびジメチルアミノピリジンないしはピリジンおよびジ
メチルアミノピリジンから成る混合物が特に適当であ
る。
シ基のアシル化のために、たとえば第三アミンの存在
で、相当するカルボン酸無水物またはカルボン酸塩化物
を用いる反応(R′=10までの炭素原子を有するアシ
ル基)が挙げられる。第三アミンとしては、ピリジンお
よびジメチルアミノピリジンないしはピリジンおよびジ
メチルアミノピリジンから成る混合物が特に適当であ
る。
【0024】3−ケトンの、3−ジエノールエーテルへ
の部分的変換(R=1〜3の炭素原子を有するアルキ
ル)は、ジオキサン中トリアルキルオルトホルメートを
用いるかまたはp−トルオールスルホン酸のような酸ま
たはピリジニウムトシレートの存在下ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフランまたはジオキサン中2,2−
ジアルコキシプロパンを用いて達成される。
の部分的変換(R=1〜3の炭素原子を有するアルキ
ル)は、ジオキサン中トリアルキルオルトホルメートを
用いるかまたはp−トルオールスルホン酸のような酸ま
たはピリジニウムトシレートの存在下ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフランまたはジオキサン中2,2−
ジアルコキシプロパンを用いて達成される。
【0025】新規3−ジエノールエーテルはほぼ定量的
な収率で、単一な生成物として生じる。分解し易いにも
かかわらず、結晶性ジエノールエーテルは安定で、貯蔵
可能である。従って、このものはさらにゲストーデンへ
の変換(エチニル化およびエノールエーテル分離)に特
に好適である。
な収率で、単一な生成物として生じる。分解し易いにも
かかわらず、結晶性ジエノールエーテルは安定で、貯蔵
可能である。従って、このものはさらにゲストーデンへ
の変換(エチニル化およびエノールエーテル分離)に特
に好適である。
【0026】一般式IIの新規17−ケトンの製造を次
の実施例につき詳述する。
の実施例につき詳述する。
【0027】
例1 a) 18−メチル−4,15−エストラジエン−3,
17−ジオン ピリジン704ml中の15α−ヒドロキシ−18−メ
チル−4−エストレン−3,17−ジオン250gに0
℃で、メタンスルホニルクロリド77.5mlを10分
間で滴下する。3.5時間後、ジメチルホルムアミド3
50mlおよび無水の酢酸ナトリウム283gを添加
し、アルゴン下に室温で20時間撹拌し、反応混合物を
氷水に加える。沈殿した生成物を吸引濾過し、水で洗浄
し、真空中で乾燥する。精製のために粗成生物(212
g)を酢酸エステル1500mlおよびピリジン0.4
ml中活性炭21gで処理する。
17−ジオン ピリジン704ml中の15α−ヒドロキシ−18−メ
チル−4−エストレン−3,17−ジオン250gに0
℃で、メタンスルホニルクロリド77.5mlを10分
間で滴下する。3.5時間後、ジメチルホルムアミド3
50mlおよび無水の酢酸ナトリウム283gを添加
し、アルゴン下に室温で20時間撹拌し、反応混合物を
氷水に加える。沈殿した生成物を吸引濾過し、水で洗浄
し、真空中で乾燥する。精製のために粗成生物(212
g)を酢酸エステル1500mlおよびピリジン0.4
ml中活性炭21gで処理する。
【0028】溶液を420mlに濃縮した後、0℃で1
8−メチル−4,15−エストラジエン−3,17−ジ
オン188gが晶出する。融点156.9℃(アセトン
/ヘキサンから)。
8−メチル−4,15−エストラジエン−3,17−ジ
オン188gが晶出する。融点156.9℃(アセトン
/ヘキサンから)。
【0029】b) 3−メトキシ−18−メチル−3,
5,15−エストラトリエン−17−オン 1,4−ジオキサン100mlおよびトリメチルオルト
ホルメート100ml中の18−メチル−4,15−エ
ストラジエン−3,17−ジオン20.0gをアルゴン
下に、p−トルオールスルホン酸800mgと50℃で
撹拌する。2.5時間後、ピリジン10mlを添加し、
溶液を真空中で十分に蒸留する。残渣を酢酸エステルに
溶解し、水で洗浄し、乾燥する。粗生成物を酢酸エステ
ル(0〜20%)/ヘキサンを用いてクロマトグラフィ
ー分離した後、融点162.1℃(メタノールから)の
3−メトキシ−18−メチル−3,5,15−エストラ
トリエン−17−オン14.0gが得られる。
5,15−エストラトリエン−17−オン 1,4−ジオキサン100mlおよびトリメチルオルト
ホルメート100ml中の18−メチル−4,15−エ
ストラジエン−3,17−ジオン20.0gをアルゴン
下に、p−トルオールスルホン酸800mgと50℃で
撹拌する。2.5時間後、ピリジン10mlを添加し、
溶液を真空中で十分に蒸留する。残渣を酢酸エステルに
溶解し、水で洗浄し、乾燥する。粗生成物を酢酸エステ
ル(0〜20%)/ヘキサンを用いてクロマトグラフィ
ー分離した後、融点162.1℃(メタノールから)の
3−メトキシ−18−メチル−3,5,15−エストラ
トリエン−17−オン14.0gが得られる。
【0030】例2 a) 15α−アセトキシ−18−メチル−4−エスト
レン−3,17−ジオン ピリジン350ml中の15−ヒドロキシ−18−メチ
ル−4−エストレン−3,17−ジオン100gに、無
水酢酸200mlを滴加する。1時間後、反応混合物を
氷水に撹拌混入する。沈殿した生成物を吸引濾過し、水
で中性に洗浄し、真空中で50℃で乾燥する。15α−
アセトキシ−18−メチル−4−エストレン−3,17
−ジオン100gが得られる。アセトン/ヘキサンから
再結晶した試料は165℃で溶融する。
レン−3,17−ジオン ピリジン350ml中の15−ヒドロキシ−18−メチ
ル−4−エストレン−3,17−ジオン100gに、無
水酢酸200mlを滴加する。1時間後、反応混合物を
氷水に撹拌混入する。沈殿した生成物を吸引濾過し、水
で中性に洗浄し、真空中で50℃で乾燥する。15α−
アセトキシ−18−メチル−4−エストレン−3,17
−ジオン100gが得られる。アセトン/ヘキサンから
再結晶した試料は165℃で溶融する。
【0031】b) 15α−アセトキシ−3−メトキシ
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン DMF500ml中の15α−アセトキシ−18−メチ
ル−4−エストレン−3,17−ジオン60.0gを、
2,2−ジメトキシプロパン500ml、メタノール2
0mlおよびピリジニウムトシレート6.0gと共にア
ルゴン下に110℃で撹拌する。3.5時間後、固形炭
酸水素ナトリウム9.0gを添加し、反応混合物を氷/
水10l中に撹拌混入し、沈殿した生成物を吸引濾過
し、数回水で洗浄し、70℃で真空乾燥する。粗生成物
をメタノール375mlに懸濁し、還流下に15分間撹
拌する。室温に徐々に冷却した後、無色の結晶を吸引濾
過し、冷メタノールで後洗浄する。
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン DMF500ml中の15α−アセトキシ−18−メチ
ル−4−エストレン−3,17−ジオン60.0gを、
2,2−ジメトキシプロパン500ml、メタノール2
0mlおよびピリジニウムトシレート6.0gと共にア
ルゴン下に110℃で撹拌する。3.5時間後、固形炭
酸水素ナトリウム9.0gを添加し、反応混合物を氷/
水10l中に撹拌混入し、沈殿した生成物を吸引濾過
し、数回水で洗浄し、70℃で真空乾燥する。粗生成物
をメタノール375mlに懸濁し、還流下に15分間撹
拌する。室温に徐々に冷却した後、無色の結晶を吸引濾
過し、冷メタノールで後洗浄する。
【0032】収量:15α−アセトキシ−3−メトキシ
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
56g。
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
56g。
【0033】融点:190℃。
【0034】例3 15α−アセトキシ−3−エトキシ−18−メチル−
3,5−エストラジエン−17−オン ジオキサン60ml中の15α−アセトキシ−18−メ
チル−4−エストレン−3,17−ジオン2.0gを、
o−ギ酸トリエチルエステル6mlおよびp−トルオー
ルスルホン酸40mgと共に室温で20時間アルゴン下
に撹拌する。ピリジン2mlの添加後、エーテルで希釈
し、水で洗浄し、乾燥する。粗生成物を、アセトン/ヘ
キサンから再結晶する。
3,5−エストラジエン−17−オン ジオキサン60ml中の15α−アセトキシ−18−メ
チル−4−エストレン−3,17−ジオン2.0gを、
o−ギ酸トリエチルエステル6mlおよびp−トルオー
ルスルホン酸40mgと共に室温で20時間アルゴン下
に撹拌する。ピリジン2mlの添加後、エーテルで希釈
し、水で洗浄し、乾燥する。粗生成物を、アセトン/ヘ
キサンから再結晶する。
【0035】収量:15α−アセトキシ−3−エトキシ
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
1.6g。
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
1.6g。
【0036】融点:202℃。
【0037】例4 a) 15α−ベンゾイルオキシ−18−メチル−4−
エストレン−3,17−ジオン ピリジン20ml中の15α−ヒドロキシ−18−メチ
ル−4−エストレン−3,17−ジオン5gに、0℃で
ベンゾイルクロリド5mlを滴下する。45分後、水2
mlを滴加し、さらに30分間撹拌し、次いで反応混合
物を氷/水に加える。沈殿した生成物を吸引濾過し、塩
化メチレンに溶解し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥する。粗生成物をシリカゲルで、アセトン−ヘキサ
ン−勾配液を用いてクロマトグラフィー分離した後、1
5α−ベンゾイルオキシ−18−メチル−4−エストレ
ン−3,17−ジオン5.6gがフォームとして得られ
る。
エストレン−3,17−ジオン ピリジン20ml中の15α−ヒドロキシ−18−メチ
ル−4−エストレン−3,17−ジオン5gに、0℃で
ベンゾイルクロリド5mlを滴下する。45分後、水2
mlを滴加し、さらに30分間撹拌し、次いで反応混合
物を氷/水に加える。沈殿した生成物を吸引濾過し、塩
化メチレンに溶解し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥する。粗生成物をシリカゲルで、アセトン−ヘキサ
ン−勾配液を用いてクロマトグラフィー分離した後、1
5α−ベンゾイルオキシ−18−メチル−4−エストレ
ン−3,17−ジオン5.6gがフォームとして得られ
る。
【0038】b) 15α−ベンゾイルオキシ−3−メ
トキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17
−オン 15α−ベンゾイルオキシ−18−メチル−4−エスト
レン−3,17−ジオン7.8gを、例2b)と同様に
ジメトキシプロパンと反応させ、後処理する。15α−
ベンゾイルオキシ−3−メトキシ−18−メチル−3,
5−エストラジエン−17−オン6.8gがフォームと
して得られる。
トキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17
−オン 15α−ベンゾイルオキシ−18−メチル−4−エスト
レン−3,17−ジオン7.8gを、例2b)と同様に
ジメトキシプロパンと反応させ、後処理する。15α−
ベンゾイルオキシ−3−メトキシ−18−メチル−3,
5−エストラジエン−17−オン6.8gがフォームと
して得られる。
【0039】例5 a) 18−メチル−15α−トリメチルアセトキシ−
4−エストレン−3,17−ジオン ピリジン200ml中の15α−ヒドロキシ−18−メ
チル−4−エストレン−3,17−ジオン10gにジメ
チルアミノピリジン2gおよびピバリン酸無水物20m
lを加え、50℃で1時間撹拌する。混合物を氷/水に
加え、酢酸エステルで抽出し、水で中性に洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥する。粗生成物をシリカゲルで、ア
セトン−ヘキサン−勾配液を用いてクロマトグラフィー
にかけた後、18−メチル−15α−トリメチルアセト
キシ−4−エストレン−3,17−ジオン9.5gがフ
ォームとして得られる。
4−エストレン−3,17−ジオン ピリジン200ml中の15α−ヒドロキシ−18−メ
チル−4−エストレン−3,17−ジオン10gにジメ
チルアミノピリジン2gおよびピバリン酸無水物20m
lを加え、50℃で1時間撹拌する。混合物を氷/水に
加え、酢酸エステルで抽出し、水で中性に洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥する。粗生成物をシリカゲルで、ア
セトン−ヘキサン−勾配液を用いてクロマトグラフィー
にかけた後、18−メチル−15α−トリメチルアセト
キシ−4−エストレン−3,17−ジオン9.5gがフ
ォームとして得られる。
【0040】b) 3−メトキシ−18−メチル−15
α−トリメチルアセトキシ−3,5−エストラジエン−
17−オン 18−メチル−15α−トリメチルアセトキシ−4−エ
ストレン−3,17−ジオン5.6gを例2b)と同様
にジメトキシプロパンと反応させ、後処理する。3−メ
トキシ−18−メチル−15α−トリメチルアセトキシ
−3,5−エストラジエン−17−オン4.9gが得ら
れる。
α−トリメチルアセトキシ−3,5−エストラジエン−
17−オン 18−メチル−15α−トリメチルアセトキシ−4−エ
ストレン−3,17−ジオン5.6gを例2b)と同様
にジメトキシプロパンと反応させ、後処理する。3−メ
トキシ−18−メチル−15α−トリメチルアセトキシ
−3,5−エストラジエン−17−オン4.9gが得ら
れる。
【0041】参考例1 17α−エチニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル
−4,15−エストラジエン−3−オン a) 3−メトキシ−18−メチル−3,5,15−エ
ストラトリエン−17−オンから 無水テトラヒドロフラン100ml中のn−ブチルリチ
ウム(ヘキサン中15%)40mlの溶液中へ、0℃で
15分間アセチレンを導入し、その後テトラヒドロフラ
ン40ml中の3−メトキシ−18−メチル−3,5,
15−エストラトリエン−17−オン4.0gを滴加す
る。15分後、水8ml、メタノール40mlおよびシ
ュウ酸8gを加え、60℃で1時間撹拌し、水600m
lを添加し、酢酸エステルで抽出する。有機相を水で洗
浄し、乾燥する。酢酸エステルから再結晶した後、17
α−エチニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル−
4,15−エストラジエン−3−オン2.4gが得られ
る。融点197℃。
−4,15−エストラジエン−3−オン a) 3−メトキシ−18−メチル−3,5,15−エ
ストラトリエン−17−オンから 無水テトラヒドロフラン100ml中のn−ブチルリチ
ウム(ヘキサン中15%)40mlの溶液中へ、0℃で
15分間アセチレンを導入し、その後テトラヒドロフラ
ン40ml中の3−メトキシ−18−メチル−3,5,
15−エストラトリエン−17−オン4.0gを滴加す
る。15分後、水8ml、メタノール40mlおよびシ
ュウ酸8gを加え、60℃で1時間撹拌し、水600m
lを添加し、酢酸エステルで抽出する。有機相を水で洗
浄し、乾燥する。酢酸エステルから再結晶した後、17
α−エチニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル−
4,15−エストラジエン−3−オン2.4gが得られ
る。融点197℃。
【0042】b) 15α−アセトキシ−3−メトキシ
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
から、無水テトラヒドロフラン130ml中のn−ブチ
ルリチウム(ヘキサン中15%)50mlの溶液中へ、
アセチレンを15分間導入する。このようにして得られ
たリチウムアセチリド溶液を、0℃でアルゴン下にテト
ラヒドロフラン50ml中の15α−アセトキシ−3−
メトキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−1
7−オン5.0gに滴下する。リチウム−アセチリド溶
液を完全に添加した後、15分間撹拌し、その後注意深
く50%塩酸20mlを加え、さらに30分間撹拌し、
引続き反応混合物を酢酸エステルで希釈する。有機相を
数回水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空中で
濃縮する。粗生成物をアセトン中活性炭で処理し、アセ
トン/ヘキサンから再結晶する。
−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
から、無水テトラヒドロフラン130ml中のn−ブチ
ルリチウム(ヘキサン中15%)50mlの溶液中へ、
アセチレンを15分間導入する。このようにして得られ
たリチウムアセチリド溶液を、0℃でアルゴン下にテト
ラヒドロフラン50ml中の15α−アセトキシ−3−
メトキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−1
7−オン5.0gに滴下する。リチウム−アセチリド溶
液を完全に添加した後、15分間撹拌し、その後注意深
く50%塩酸20mlを加え、さらに30分間撹拌し、
引続き反応混合物を酢酸エステルで希釈する。有機相を
数回水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空中で
濃縮する。粗生成物をアセトン中活性炭で処理し、アセ
トン/ヘキサンから再結晶する。
【0043】収 量 融点197.8℃の17α−エチ
ニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル−4,15−
エストラジエン−3−オン 3.7g。
ニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル−4,15−
エストラジエン−3−オン 3.7g。
【0044】c) 15α−ベンゾイルオキシ−3−メ
トキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17
−オンから15α−ベンゾイルオキシ−3−メトキシ−
18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
3.6gを参考例1b)に記載されているように、リチ
ウムアセチリドと反応させる。反応を行った後、反応混
合物に飽和塩化アンモニウム溶液を加え、酢酸エステル
で希釈し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。
得られた17α−エチニル−3−メトキシ−18−メチ
ル−3,5,15−エストラトリエン−17β−オール
を粗生成物として、メタノール70mlおよび水6ml
中、シュウ酸3gと共に10分間還流下に撹拌する。反
応混合物を氷/水に加える。沈殿した生成物を吸引濾過
し、酢酸エステルに溶解し、水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。アセトン/ヘキサンから再結晶した
後、融点197.8℃の178α−エチニル−17β−
ヒドロキシ−18−メチル−4,15−エストラジエン
−3−オン 1.9gが得られる。
トキシ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17
−オンから15α−ベンゾイルオキシ−3−メトキシ−
18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オン
3.6gを参考例1b)に記載されているように、リチ
ウムアセチリドと反応させる。反応を行った後、反応混
合物に飽和塩化アンモニウム溶液を加え、酢酸エステル
で希釈し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。
得られた17α−エチニル−3−メトキシ−18−メチ
ル−3,5,15−エストラトリエン−17β−オール
を粗生成物として、メタノール70mlおよび水6ml
中、シュウ酸3gと共に10分間還流下に撹拌する。反
応混合物を氷/水に加える。沈殿した生成物を吸引濾過
し、酢酸エステルに溶解し、水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。アセトン/ヘキサンから再結晶した
後、融点197.8℃の178α−エチニル−17β−
ヒドロキシ−18−メチル−4,15−エストラジエン
−3−オン 1.9gが得られる。
【0045】d) 3−メトキシ−18−メチル−15
α−トリメチルアセトキシ−3,5−エストラジエン−
17−オン 3−メトキシ−18−メチル−15α−トリメチルアセ
トキシ−3,5−エストラジエン−17−オン2.8g
を参考例1b)と同様にリチウムアセチリドと反応さ
せ、後処理する。アセトン/ヘキサンから再結晶した
後、融点197℃の17α−エチニル−17β−ヒドロ
キシ−18−メチル−4,15−エストラジエン−3−
オン 1.6が得られる。
α−トリメチルアセトキシ−3,5−エストラジエン−
17−オン 3−メトキシ−18−メチル−15α−トリメチルアセ
トキシ−3,5−エストラジエン−17−オン2.8g
を参考例1b)と同様にリチウムアセチリドと反応さ
せ、後処理する。アセトン/ヘキサンから再結晶した
後、融点197℃の17α−エチニル−17β−ヒドロ
キシ−18−メチル−4,15−エストラジエン−3−
オン 1.6が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス−ペーター ロレンツ ドイツ連邦共和国ベルリン51 レジデン ツシュトラーセ 17−18 (72)発明者 ルードルフ ヴイーヒエルト ドイツ連邦共和国ベルリン39 ペツオヴ アー シュトラーセ 8アー
Claims (6)
- 【請求項1】 一般式II: 【化1】 [式中Rは1〜3の炭素原子を有するアルキル基を表わ
し、 【化2】 (式中R′は10までの炭素原子を有するアシル基を表
わす)を表わす]で示される化合物。 - 【請求項2】 3−メトキシ−18−メチル−3,5,
15−エストラトリエン−17−オンである請求項1記
載の化合物。 - 【請求項3】 15α−アセトキシ−3−メトキシ−1
8−メチル−3,5−エストラジエン−17−オンであ
る請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 15α−アセトキシ−3−エトキシ−1
8−メチル−3,5−エストラジエン−17−オンであ
る請求項1記載の化合物。 - 【請求項5】 15α−ベンゾイルオキシ−3−メトキ
シ−18−メチル−3,5−エストラジエン−17−オ
ンである請求項1記載の化合物。 - 【請求項6】 3−メトキシ−18−メチル−15α−
トリメチルアセトキシ−3,5−エストラジエン−17
−オンである請求項1記載の化合物。
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