JP2024057270A - ベース、及び、ハードディスク駆動装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ピボット用シャフトにおける鋳巣の発生を回避しつつ、ベースの密封性向上を可能にする技術を提供する。
【解決手段】ベース１０は、ハードディスク駆動装置の筐体の一部となる。ベース１０は、底板部１２と、ピボット用シャフト１４と、第１接着剤１６と、を備える。底板部１２は、上方を向く底板上面１２ａと、下方を向く底板下面１２ｂと、底板上面１２ａから底板下面１２ｂに向かって延在する貫通孔１２ｃと、を有する。ピボット用シャフト１４は、貫通孔１２ｃにおいて内方を向く貫通孔内面１２ｃ１に圧入される基部外面１４ａ１を有する。第１接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間に介在する。
【選択図】図３

Description

本発明は、ベース、及び、ハードディスク駆動装置に関する。

従来から、ベースとピボット用シャフトを別部材で準備し、ピボット用シャフトをベースに固定することが知られている（例えば特許文献１、特許文献２）。

特開２００５－３２２３９３号公報 特開２００３－７７２３７号公報

近年、ニアラインタイプのハードディスク駆動装置に対する需要が増加し、ハードディスク駆動装置の高容量化、及び低消費電力化の傾向が高まっている。このようなハードディスク駆動装置では、筐体の内部空間に、ヘリウムガスを封入することが主流となりつつある。

特許文献１には、ベース部材にピボット軸を固設する技術が開示されている。また、特許文献２には、ピボット軸受の基部を、ケーシングベースの孔に嵌入固定する技術が開示されている。しかしながら、特許文献１，２に記載の技術では、例えば、筐体の内部空間に空気より低密度のガス（例えばヘリウムガス）が充填されている場合、このガスが、ピボット軸とベース部材の間を通じて、外部空間へ漏洩するおそれがある。

筐体の密封性を確保し、ヘリウムガスの漏洩を防止するため、ピボット用シャフトが一体形成されたベースを、鋳造により準備することがある。しかし、ピボット用シャフトは、径方向の長さよりも軸方向の長さが長い部材であるため、ベースを鋳造する際、軸方向の先端部分に、鋳巣が発生しやすい。

今後、ハードディスク駆動装置の更なる高容量化が求められると、筐体の高さを高くすることが考えられる。筐体の高さが高くなることに伴って、ピボット用シャフトの長さも長くなることから、ピボット用シャフトの先端部分に、さらに鋳巣が発生しやすくなる。

本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ピボット用シャフトにおける鋳巣の発生を回避するとともに、ベースの密封性向上を可能にする技術を提供することである。

上記目的を達成するために、本発明に係るベースは、ハードディスク駆動装置の筐体の一部となるベースであって、上方を向く底板上面と、下方を向く底板下面と、前記底板上面から前記底板下面に向かって延在する孔と、を有する底板部と、前記孔において内方を向く孔内面に圧入される基部外面を有するピボット用シャフトと、前記孔内面と前記基部外面との間に介在する第１接着剤と、を備える。

本発明のベースによれば、ピボット用シャフトにおける鋳巣の発生を回避しつつ、ベースの密封性向上が可能になる。

第１実施形態に係るハードディスク駆動装置の一例を示す斜視図である。 図１のハードディスク駆動装置に用いられるスピンドルモータの一例を示す部分断面図である。 図１のハードディスク駆動装置に用いられるベースの一例を示す部分断面図である。 図３の一部を拡大して示す部分拡大図である。 図１のハードディスク駆動装置に用いられるベースの製造方法の一例を示すステップチャートである。 第２実施形態に係るベースを示す部分拡大図である。 図３に示すベースの変形例を示す部分断面図である。 図７に示すベースの変形例を示す部分断面図である。 第３実施形態に係るベースを示す部分拡大図である。 図９の一部を拡大して示す部分拡大図である。 第４実施形態に係るベースを示す部分拡大図である。 第５実施形態に係るベースを示す部分拡大図である。 その他の変形例１に係るベースを示す部分断面図である。 その他の変形例２に係るベースを示す部分断面図である。 その他の変形例３に係るベースを示す部分断面図である。 その他の変形例４に係るベースを示す部分断面図である。 その他の変形例５に係るベースを示す部分断面図である。 その他の変形例６に係るベースを示す部分断面図である。

以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。各図面に示される同一又は同等の構成要素、部材等には同一の符号を付し、適宜重複した説明は省略する。

＜第１実施形態＞
図１は、第１実施形態に係るハードディスク駆動装置１の一例を示す斜視図である。図２は、図１のハードディスク駆動装置１に用いられるスピンドルモータ５０の一例を示す部分断面図である。図３は、図１のハードディスク駆動装置１に用いられるベース１０の一例を示す部分断面図である。図４は、図３の一部を拡大して示す部分拡大図である。

以下、モータ用シャフト５１の中心軸線Ｃ１（図２）及びピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２（図３）に平行な方向を、軸方向とする。これらの軸方向に垂直な方向を、それぞれ、径方向とする。モータ用シャフト５１の中心軸線Ｃ１周り及びピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２周りの方向を、それぞれ、周方向とする。説明の便宜上、軸方向を上下方向とし、モータ用シャフト５１及びピボット用シャフト１４に対してベース１０の底板部１２の側を下とし、その逆を上とする。なお、この上下方向は、必ずしも鉛直方向をいうものではない。従って、ハードディスク駆動装置１の設置場所又は向きに応じて、上下方向が水平方向、鉛直方向その他の方向にもなり得る。

（ハードディスク駆動装置１）
図１に示すように、ハードディスク駆動装置１は、筐体３０と、スピンドルモータ５０と、記録ディスク６０と、アクセス部７０と、ボイスコイルモータ７２と、コネクタ７４とを備える。

筐体３０は、ベース１０と、ベース１０に取付けられるカバー４０とを有する。カバー４０は、ベース１０の開放された面を塞ぐ板状の部材である。カバー４０は、雄ねじ８０を用いて、ベース１０に締結される。カバー４０とベース１０との間にはシール手段（図示せず）が設けられ、これにより、カバー４０は、ベース１０と共に、密封された内部空間を有する筐体３０を形成する。

筐体３０の内部空間には、空気よりも低密度の気体としてヘリウムガスが封入されている。内部空間には、例えば、窒素ガス、もしくはヘリウムと窒素との混合ガスが充填されてもよい。内部空間には、空気よりも低密度の他の気体を封入することもできる。なお、内部空間には、空気が収容されてもよい。内部空間には、スピンドルモータ５０と、記録ディスク６０と、アクセス部７０と、ボイスコイルモータ７２と、コネクタ７４とが収容される。

記録ディスク６０は、複数設けられ、それぞれのディスク面が対向するように、スピンドルモータ５０の回転部５０ｂのロータ５５に支持される。それぞれの記録ディスク６０の間には、隙間が形成される。

アクセス部７０は、ピボット用シャフト１４に支持され、記録ディスク６０に対するデータの記録、及び、記録ディスク６０に記録されたデータの読み出しを行う。具体的には、アクセス部７０は、軸受装置７０ａと、スイングアーム７０ｃと、磁気ヘッド７０ｄとを有する。

軸受装置７０ａは、ベース１０の底板部１２に設けられたピボット用シャフト１４に取付けられ、それぞれの記録ディスク６０の間の隙間に配置される複数のスイングアーム７０ｃを揺動可能に支持する。スイングアーム７０ｃの先端部には、磁気ヘッド７０ｄが設けられる。磁気ヘッド７０ｄは、記録ディスク６０に磁気を与え、記録ディスク６０から磁気を読み取る部材である。ボイスコイルモータ７２は、コネクタ７４を介して、プリント基板（図示せず）に電気的に接続されている。ボイスコイルモータ７２は、スイングアーム７０ｃへ駆動力を供給し、これにより、記録ディスク６０に対する磁気ヘッド７０ｄの位置決めが行われる。

スピンドルモータ５０のロータ５５が回転すると、記録ディスク６０も回転する。その状態で、スイングアーム７０ｃが揺動すると、磁気ヘッド７０ｄは、回転する記録ディスク６０の上を移動する。そして、磁気ヘッド７０ｄは、記録ディスク６０に磁気を与え、記録ディスク６０から磁気を読み取る。これにより、磁気ヘッド７０ｄは、記録ディスク６０に対するデータの記録、及び、記録ディスク６０に記録されたデータの読み出しを行う。

（スピンドルモータ５０）
スピンドルモータ５０は、ハードディスク駆動装置１に用いられる。スピンドルモータ５０は、ベース１０に支持される静止部５０ａと、静止部５０ａに対して回転する回転部５０ｂとを有する。図１及び図２に示すように、静止部５０ａは、ベース１０の底板部１２の一領域と、モータ用シャフト５１と、軸受部材５２と、コイル５３と、ステータコア５４とを有する。回転部５０ｂは、ロータ５５と、ロータマグネット５５ａとを有する。

モータ用シャフト５１は、円筒状をなす金属製の部品であり、図２に示すように、圧入等により底板部１２の一領域に固定される。モータ用シャフト５１は、その上側端部に、ねじ穴８２ａを有する。ねじ穴８２ａは、雄ねじ８０ａ（図１）を収容する。雄ねじ８０ａが、ねじ穴８２ａに形成された雌ねじに螺合することにより、カバー４０は、モータ用シャフト５１に締結される。

モータ用シャフト５１の外周面には、円錐状の一対の軸受部材５２が固定され、一対の軸受部材５２にはロータ５５が回転可能に支持される。ロータ５５の径方向内側には、モータ用シャフト５１が挿通され、ロータ５５は、モータ用シャフト５１及び一対の軸受部材５２に、微小隙間を有して対向する。ロータ５５と一対の軸受部材５２との微小隙間には、図示しない潤滑油が充填され、いわゆる流体動圧軸受が形成される。ロータ５５の径方向外側には、複数の記録ディスク６０が設置される（図１参照）。

図２に示すように、ロータ５５には、ロータマグネット５５ａが配置される。ロータマグネット５５ａは、筒状の部材で、周方向に沿ってＳＮＳＮ・・と隣接する部分が交互に異極性となるように着磁された部材である。ロータマグネット５５ａは、ロータ５５の内面に全周にわたって取付けられる。

底板部１２には、ステータコア５４が固定される。ステータコア５４は、薄板状の軟磁性材料（例えば、電磁鋼板）を軸方向で複数枚積層したものであり、環形状を有し、径方向外側に突出した複数の極歯を備える。複数の極歯は、周方向に沿って等間隔に設けられ、それぞれにコイル５３が巻回される。ロータマグネット５５ａの内周面は、隙間を有した状態でステータコア５４の極歯の外周面に対向する。

コイル５３に電流を流し、その極性を切り替えることで、ロータマグネット５５ａとステータコア５４の極歯との間で生じる磁気吸引力と磁気反発力とが切り替わる。その結果、ロータ５５は、モータ用シャフト５１を中心にして回転する。

ロータ５５が高速で回転することにより、一対の軸受部材５２とロータ５５との間の微小隙間に充填された潤滑油は、図示しない動圧発生溝によって加圧される。その結果、一対の軸受部材５２とロータ５５との間には動圧が発生し、発生した動圧によって、ロータ５５は、モータ用シャフト５１に対して非接触状態で支持されながら回転する。つまり、ロータ５５は、モータ用シャフト５１に対して非接触状態で支持されながら回転する。

（ベース１０）
図３及び図４に示すように、ベース１０は、ベース本体部１１と、ピボット用シャフト１４と、接着剤（第１接着剤）１６と、を備える。

ベース本体部１１は、底板部１２と側壁部１３とを有する。図１に示すように、ベース本体部１１は、略直方体の上方の面が開放された有底の箱状の形状であり、アルミニウム等の金属をダイキャスト鋳造することにより製造される。

底板部１２は、ベース本体部１１の下側に配置され、短辺と長辺とを有する長方形の板状をなしている。なお、底板部１２は、四辺の長さが等しい正方形の板状をなしてもよい。図１に示すように、底板部１２の全周には、底板部１２と直交する方向（すなわち上方向）に延びる側壁部１３が形成されている。側壁部１３は、上方を向く側壁上面１３ａを有する。

図１に示すように、側壁部１３は、側壁上面１３ａに、複数のねじ穴８２を有する。ねじ穴８２は、雄ねじ８０を収容する。雄ねじ８０が、ねじ穴８２に形成された雌ねじに螺合することにより、カバー４０は、ベース本体部１１に締結される。

図３及び図４に示すように、底板部１２は、上方を向く底板上面１２ａと、下方を向く底板下面１２ｂと、底板上面１２ａから底板下面１２ｂに向かって延在する貫通孔（孔）１２ｃと、を有する。貫通孔１２ｃは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する。また、底板部１２は、底板上面１２ａにおける貫通孔１２ｃの周囲領域に、上方を向くベース取付面１２ｇを有する。ベース取付面１２ｇは、底板上面１２ａの一部の領域であり、底板上面１２ａの他の領域よりも、上方向に僅かに高く形成されている。ベース本体部１１は、後述するように、全体に電着塗装膜が形成されているが、ベース取付面１２ｇは、切削などの機械加工により、電着塗装膜が除去された領域である。ベース取付面１２ｇには、アクセス部７０の軸受装置７０ａが載置される。

図４に示すように、底板部１２は、底板上面１２ａの内端１２ａ２、すなわちベース取付面１２ｇの内端１２ａ２から、内方且つ下方へ先細に延びる上側テーパ面１２ｔｕを有する。上側テーパ面１２ｔｕは、後述する貫通孔上端縁１２ｃ２にて終端する。

図３及び図４に示すように、貫通孔１２ｃは、上下方向に延びる中心軸線（図示せず）周りに環状に形成される貫通孔内面（孔内面）１２ｃ１と、貫通孔内面１２ｃ１の上側の終端点である貫通孔上端縁１２ｃ２と、貫通孔内面１２ｃ１の下側の終端点である貫通孔下端縁１２ｃ３と、を有する。貫通孔内面１２ｃ１は、貫通孔１２ｃにおいて内方を向く面であり、上下方向に延びる。貫通孔１２ｃは、貫通孔内面１２ｃ１、貫通孔上端縁１２ｃ２、及び、貫通孔下端縁１２ｃ３によって区画される空間である。

底板部１２は、貫通孔下端縁１２ｃ３を起点として、下方且つ外方へ先太りに延びる下側テーパ面１２ｔｂを有する。下側テーパ面１２ｔｂは、底板下面１２ｂの内端１２ｂ１にて終端する。

貫通孔内面１２ｃ１には、上下方向の任意の位置に、径方向外方へ凹む周溝１２ｈが形成されている。周溝１２ｈは、貫通孔１２ｃの中心軸線周りに環状に形成されている。なお、貫通孔内面１２ｃ１には、周溝１２ｈが形成されてなくてもよい。

図３に示すように、ピボット用シャフト１４は、下側、即ち底板部１２の側において上下方向に延在する基部１４ａと、基部１４ａの上方において上下方向に延在する本体部１４ｂとを有する。ピボット用シャフト１４は、円筒状をなす金属製の部品であり、アルミニウムやステンレス鋼（ＳＵＳ）など、所望の材料から切削加工などにより製造される。なお、ピボット用シャフト１４の製造方法は、切削加工に限定されるものではなく、ピボット用シャフト１４は、例えば鋳造や鍛造などにより製造されてもよい。ピボット用シャフト１４は、本体部１４ｂの上側端部に、ねじ穴８２ｂを有する。ねじ穴８２ｂは、雄ねじ８０ｂ（図１）を収容する。雄ねじ８０ｂが、ねじ穴８２ｂに形成された雌ねじに螺合することにより、カバー４０は、ピボット用シャフト１４に締結される。本体部１４ｂは、径方向外方を向く本体部外面１４ｂ１を有し、本体部外面１４ｂ１に、軸受装置７０ａが取付けられる（図１）。

基部１４ａは、下方を向く基部下面１４ａ２と、径方向外方を向く基部外面１４ａ１とを有する。基部外面１４ａ１の外径Ｒ２は、本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１と同一又は略同一である。基部外面１４ａ１の外径Ｒ２は、貫通孔内面１２ｃ１の内径（図示せず）よりも僅かに大きく、これにより、基部外面１４ａ１は、貫通孔内面１２ｃ１に圧入され、ピボット用シャフト１４が、ベース本体部１１に固定される。

図４に示すように、基部１４ａは、基部外面１４ａ１のうち貫通孔内面１２ｃ１への圧入方向Ｐの先端領域１４ａ４に、シャフトテーパ面（テーパ面）１４ａ７を有する。シャフトテーパ面１４ａ７は、先端領域１４ａ４の基端１４ａ５から先端１４ａ６に向かって、貫通孔内面１２ｃ１との間の距離が大きくなるように、形成される。図３に示すように、本実施形態では、圧入方向Ｐは上から下へ向かう方向であり、基部外面１４ａ１の先端領域１４ａ４は、基部外面１４ａ１の下側領域である。また、基部外面１４ａ１における基端１４ａ５の位置は、基部外面１４ａ１の圧入長さ（基部外面１４ａ１のうち、貫通孔内面１２ｃ１と接触する部分の長さ）に応じて、適宜変更されてよい。基部外面１４ａ１における先端１４ａ６は、基部下面１４ａ２に対応する位置に設定される。

本実施形態において、シャフトテーパ面１４ａ７は、上側の領域に直線部１５ａを有し、下側の領域に湾曲部１５ｂを有する。直線部１５ａは、基端１４ａ５から、下方且つ径方向内方へ斜めに延びる。湾曲部１５ｂは、直線部１５ａと基部下面１４ａ２を繋ぎ、凸状に湾曲した面を有する。一例として、直線部１５ａは、ピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２に対し、３°～１０°の傾斜角度を有してよい。なお、シャフトテーパ面１４ａ７は、湾曲部１５ｂを有さなくてもよく、この場合、直線部１５ａと基部下面１４ａ２を繋ぐ、別の直線部（図示せず）を有してもよい。別の直線部は、中心軸線Ｃ２に対し、直線部１５ａの傾斜角度よりも大きな傾斜角度であってよく、その傾斜角度は、一例として、４５°であってよい。

図４に示すように、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間には、接着剤（第１接着剤）１６が、上下方向に少なくとも部分的に薄く介在する。図３及び図４に示すように、接着剤１６は、周溝１２ｈにおいて、接着剤溜まりを形成する。この接着剤溜まりにより、いわゆる接着剤１６の楔効果が発揮され、ピボット用シャフト１４を貫通孔１２ｃに、強固に固定することができる。接着剤１６の材料としては、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂やアクリル樹脂などが挙げられる。また、接着剤１６の粘度は７Ｐａ・ｓ以下であることで微細な間隙への含浸効果が期待されるため好ましい。

図３及び図４に示すように、ベース１０は、封止用接着剤（第２接着剤）１８を備える。封止用接着剤１８は、基部下面１４ａ２に塗布され、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間を封止する。封止用接着剤１８の材料としては、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂やアクリル樹脂などが挙げられる。

（ベース１０の製造）
図５は、ベース１０の製造方法の一例を示すステップチャートである。

１．鋳造（Ｓ１）
ベース本体部１１の形状に対応するキャビティを有するダイキャスト金型にアルミニウムの溶湯を注入する。キャビティ内で溶湯が冷却固化した後、ダイキャスト金型を開いて製品を取り出し、ダイキャスト金型のゲートに通じるランナーに残されて固化した部分を切断する。

２．Ｅ－ｃｏａｔ（Ｓ２）
Ｓ１においてダイキャスト鋳造された製品を、例えば、エポキシ系樹脂の塗装材料中に浸漬させた状態で、塗装材料と製品との間に電流を流す。これにより、ダイキャスト鋳造後の製品の表面に塗装材料を付着させる。このようにして、当該製品の表面に、電着塗装膜を形成する。

３．機械加工（Ｓ３）
次いで、Ｓ２において電着塗装膜が形成された製品に対して、機械加工を実施する。具体的には、電着塗装された製品のうち、底板上面１２ａの一部の領域を切削し、該領域の電着塗装膜を除去し、ベース取付面１２ｇを形成する。これにより、ベース本体部１１が完成する。

４．接着剤塗布、及び、圧入接着（Ｓ４）
次いで、Ｓ１～Ｓ３の工程を経て完成したベース本体部１１に対し、ベース本体部１１とは別工程（例えば切削加工、鋳造、鍛造など）で準備したピボット用シャフト１４を固定し、ベース１０を完成させる。具体的には、貫通孔１２ｃの貫通孔上端縁１２ｃ２の近傍に、接着剤１６を塗布する。その後、本体部１４ｂの上側端面（ねじ穴８２ｂの周囲）に対し下方に力を加えることにより、基部１４ａが、上方から下方へ向かって（圧入方向Ｐ）、貫通孔１２ｃへ押し込まれる。このとき、接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間で、潤滑剤として機能する。これにより、基部外面１４ａ１は、貫通孔内面１２ｃ１に、締まり嵌めの形式で挿入、すなわち圧入される。なお、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入した後、基部１４ａとベース本体部１１とを溶接してもよい。

基部１４ａが貫通孔１２ｃの下方へ進むに従って、接着剤１６は、下側へ掻き出されると共に少なくとも部分的に薄く伸ばされる。この結果、接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１の間において、上下方向に少なくとも部分的に介在し、硬化する。つまり、接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１の間に、部分的に介在してもよいし、全体に亘って介在してもよい。また、貫通孔内面１２ｃ１に、周溝１２ｈが形成されている場合、接着剤１６は、周溝１２ｈにおいて、接着剤溜まりを形成する。なお、「圧入接着」とは、基部１４ａを、貫通孔１２ｃに、圧入により固定するとともに、接着剤１６の接着作用を用いて固定することを意味する。Ｓ４では、後述するＳ５において、本体部外面１４ｂ１を仕上げ加工することを想定し、本体部外面１４ｂ１を、粗く切削加工した状態で、準備してもよい。

５．仕上げ加工（Ｓ５）
最後に、本体部外面１４ｂ１と、ベース取付面１２ｇとの直角度の精度を向上させるべく、仕上げ加工を行う。ここで、「直角度」とは、直角（即ち９０°）に対する、本体部外面１４ｂ１とベース取付面１２ｇとの間の実角度の差である。また、直角度の精度を向上させるとは、上記差を、ゼロに近づけることである。具体的には、Ｓ４の工程の後、本体部外面１４ｂ１とベース取付面１２ｇに対し、切削等の機械加工を行うことにより、直角度の精度が向上する。このようにＳ１～Ｓ５を経ることで、ベース１０が完成する。

上述のＳ１～Ｓ５を経て完成したベース１０に、モータ用シャフト５１、軸受部材５２、コイル５３、ステータコア５４、ロータ５５、アクセス部７０等を組付け、ベース１０にカバー４０を締結することにより、ハードディスク駆動装置１が完成する。

（作用、効果）
次いで、本実施形態に係るベース１０、及びハードディスク駆動装置１の作用、効果について説明する。

本実施形態に係るベース１０によれば、ピボット用シャフト１４の基部外面１４ａ１は、貫通孔内面１２ｃ１に圧入される。つまり、ピボット用シャフト１４は、ベース本体部１１とは別に製造され、基部外面１４ａ１が貫通孔内面１２ｃ１に圧入される。このため、ピボット用シャフト１４がベース本体部１１と一体に鋳造されることがなく、ピボット用シャフト１４の上側端部に、鋳巣が発生することがない。

ピボット用シャフト１４の上側端部に鋳巣が発生しないことから、当該上側端部の剛性が低下しない。このため、スピンドルモータ５０の駆動中、アクセス部７０の動きが安定する。更に、ピボット用シャフト１４のねじ穴８２ｂにねじ８０ｂを螺合するときに、ねじ穴８２ｂの破損が回避されるので、十分な締結強度を確保することができる。また、ねじ穴８２ｂの破損が回避されることから、破損片が、筐体３０の内部に混入することも回避できる。

また、基部外面１４ａ１が貫通孔内面１２ｃ１に圧入され、基部外面１４ａ１と貫通孔内面１２ｃ１が密に接していること、及び、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間に接着剤１６が介在すること、が相まって、筐体３０の密封性が向上する。このため、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間から、空気より低密度のガス（例えばヘリウムガス）が漏洩することを抑制できる。さらに、ピボット用シャフト１４を、ベース本体部１１に、強固に固定することができる。

本実施形態に係るベース１０によれば、封止用接着剤１８が、基部下面１４ａ２に塗布され、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間を封止する。これによって、ピボット用シャフト１４がベース本体部１１に強固に固定され、筐体３０の密封性がさらに向上する。

本実施形態に係るベース１０によれば、基部１４ａは、基部外面１４ａ１のうち貫通孔内面１２ｃ１への圧入方向Ｐ（即ち下方向）の先端領域１４ａ４に、シャフトテーパ面１４ａ７を有する。基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入するとき、ピボット用シャフト１４をベース本体部１１に上方から接近させる。この際、ピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２が、貫通孔１２ｃの中心軸線（図示せず）からオフセットしている、又は、傾いているとしても、ピボット用シャフト１４は、シャフトテーパ面１４ａ７（直線部１５ａや湾曲部１５ｂ）が貫通孔上端縁１２ｃ２に接触し、上記オフセットや傾きを修正しながら、下方へ移動する。このように、ピボット用シャフト１４を下方へ移動させる動作を行うのみで、両中心軸線を合致又は略合致させた状態で、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入することができる。よって、貫通孔内面１２ｃ１への、基部外面１４ａ１の圧入が容易になるとともに、ピボット用シャフト１４の組付け精度を向上させることができる。

本実施形態に係るハードディスク駆動装置１は、筐体３０に、空気よりも低密度の気体として例えばヘリウムを封入する。このため、記録ディスク６０の回転に伴う空気抵抗が低減する。よって、記録ディスク６０を高精度に動作させることができ、記録ディスク６０を薄くし、ディスク枚数を増やし、高容量化の要請に応えることができる。その一方で、空気より低密度な気体は、その原子サイズが小さいため、基部外面１４ａ１と貫通孔内面１２ｃ１との間から、外部に漏洩する可能性が高くなる。この点で、本実施形態に係るハードディスク駆動装置１によれば、基部外面１４ａ１が貫通孔内面１２ｃ１に圧入され、且つ、基部外面１４ａ１と貫通孔内面１２ｃ１の間に、接着剤１６が介在しているので、筐体３０の密封性を向上することができ、ヘリウムの漏洩を抑制することができる。また、本実施形態に係るハードディスク駆動装置１によれば、基部下面１４ａ２に封止用接着剤１８が塗布される場合、封止用接着剤１８によって貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間が封止されることから、筐体３０の密封性がさらに向上する。よって、ヘリウムの漏洩をより確実に回避することができる

＜第２実施形態＞
次いで、本発明の第２実施形態に係るベース１０２について説明する。

図６は、第２実施形態に係るベース１０２を示す部分拡大図である。第２実施形態に係るベース１０２は、第１実施形態に係るベース１０に対して、基部１４０の形状の点で異なる。なお、図６では、周溝１２ｈ及び接着剤１６の図示を省略しているが、本実施形態に係るベース１０２は、周溝１２ｈを有してもよいし、接着剤１６を有する。

図６に示すように、ピボット用シャフト１４の基部１４０は、円筒状に形成されている。基部外面１４ａ１は、本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１よりも大きな外径Ｒ２を有する。このため、基部外面１４ａ１と貫通孔内面１２ｃ１との周方向における接触面積が増えるので、ピボット用シャフト１４をベース本体部１１２に、より強固に固定することができる。

また、ピボット用シャフト１４において、基部１４０は、本体部１４ｂの直下に位置する。このように、ピボット用シャフト１４が、基部１４０及び本体部１４ｂのみから構成されるため、ピボット用シャフト１４の形状がシンプルになる。このため、製造の複雑さを回避でき、ピボット用シャフト１４の精度を向上させることができ、さらに、製造コストを低減できる。

また、ピボット用シャフト１４は、上方を向く基部上面１４ａ３を有する。基部上面１４ａ３は、基部外面１４ａ１の上端１４ａ９と本体部１４ｂの根元１４ｂ２を接続する面である。本体部１４ｂの根元１４ｂ２とは、本体部外面１４ｂ１の下側の端縁である。基部上面１４ａ３は、軸受装置７０ａが載置されるピボット取付面（取付面）１４ａ８として機能する。ピボット取付面１４ａ８は、上下方向（すなわち、中心軸線Ｃ２）対し垂直方向に延び、底板上面１２ａよりも上方に位置する。

このように、ピボット取付面１４ａ８が、ピボット用シャフト１４それ自体に形成されているため、ピボット用シャフト１４を製造する工程の中で、本体部外面１４ｂ１と基部上面１４ａ３（即ち、ピボット取付面１４ａ８）との垂直度の精度を向上させることができる。よって、第１実施形態のベース１０の製造工程で必要とされた仕上げ工程（Ｓ５）を省略することができる。

＜第１実施形態の変形例、第２実施形態の変形例＞
次いで、第１実施形態の変形例に係るベース１０ｍ、及び、第２実施形態の変形例に係るベース１０２ｍについて説明する。

図７は、図３に示すベース１０の変形例を示す部分断面図である。図８は、図７に示すベース１０２の変形例を示す部分断面図である。本変形例に係るベース１０ｍ，１０２ｍは、それぞれ、第１実施形態に係るベース１０及び第２実施形態に係るベース１０２に対して、治具受け面１２ｄが設けられている点で異なる。なお、図７、図８では、周溝１２ｈ及び接着剤１６の図示を省略しているが、本変形例に係るベース１０ｍ，１０２ｍは、周溝１２ｈを有してもよいし、接着剤１６を有する。

図７，図８に示すように、本変形例に係るベース本体部１１ｍ，１１２ｍの底板部１２は、底板下面１２ｂに、貫通孔内面１２ｃ１への基部外面１４ａ１の圧入方向Ｐと同じ方向、即ち下方向を向く、治具受け面１２ｄを有する。治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂの一部の領域であり、底板下面１２ｂの他の領域よりも、上方に形成されている。治具受け面１２ｄは、貫通孔下端縁１２ｃ３と下側テーパ面１２ｔｂとを繋ぐ面である。治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂにおいて貫通孔１２ｃの周囲に、少なくとも部分的に設けられる。具体的には、治具受け面１２ｄは、貫通孔１２ｃの径方向外方において、貫通孔１２ｃに隣接して設けられ、貫通孔１２ｃの周囲に、全周に亘って形成されている。なお、治具受け面１２ｄは、貫通孔１２ｃの周囲に、部分的（一例として、貫通孔１２ｃの中心軸線に対し対称となる４ヵ所）に形成されてもよい。また、治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂの他の領域よりも、下方に形成されてもよいし、底板下面１２ｂと上下方向でほぼ同じ位置（面一）に形成されてもよい。治具受け面１２ｄは、上述した電着塗装膜が除去された領域である。

治具受け面１２ｄに、図示しない治具を接触させることで、この治具は、貫通孔内面１２ｃ１に基部外面１４ａ１を圧入するとき、ピボット用シャフト１４からベース本体部１１ｍ，１１２ｍに加えられる下向きの力を受ける。このため、治具は、上記圧入の際、ベース本体部１１ｍ，１１２ｍに対し、上向きの力を加える。よって、上記圧入の際、ベース本体部１１ｍ，１１２ｍの下方への位置ずれが回避され、基部外面１４ａ１を、貫通孔内面１２ｃ１へ、容易に圧入することができ、且つピボット用シャフト１４の組付け精度を向上させることができる。

また、本変形例に係るベース１０ｍ，１０２ｍによれば、治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂにおいて、貫通孔１２ｃに隣接する周囲領域に、設けられる。このため、治具は、貫通孔１２ｃの近傍で、ベース本体部１１ｍ，１１２ｍを下方から支持することができる。よって、ベース本体部１１ｍ，１１２ｍの下方への位置ずれがより確実に回避されるので、ピボット用シャフト１４の組付け精度を、さらに向上させることができる。

＜第３実施形態＞
次いで、第３実施形態に係るベース１０３について説明する。

図９は、第３実施形態に係るベース１０３を示す部分拡大図である。図１０は、図９の一部を拡大して示す部分拡大図である。第３実施形態に係るベース１０３は、第２実施形態に係るベース１０２に対し、底板部１２が鍔部１２ｅを有する点、治具受け面１２ｄが底板上面１２ａに設けられる点、で異なる。なお、図９，図１０では、周溝１２ｈの図示を省略しているが、本実施形態に係るベース１０３は、周溝１２ｈを有してもよい。

図９、図１０に示すように、基部１４０ａは、基部外面１４ａ１のうち貫通孔内面１２ｃ１への圧入方向Ｐの先端領域１４ａ４に、シャフトテーパ面（テーパ面）１４ａ７を有する。シャフトテーパ面１４ａ７は、先端領域１４ａ４の基端１４ａ５から先端１４ａ６に向かって、貫通孔内面１２ｃ１との間の距離が大きくなるように、形成される。図９に示すように、本実施形態では、圧入方向Ｐは下から上へ向かう方向であり、基部外面１４ａ１の先端領域１４ａ４は、基部外面１４ａ１の上側領域である。また、基部外面１４ａ１における基端１４ａ５の位置は、基部外面１４ａ１の圧入長さに応じて、適宜変更されてよい。基部外面１４ａ１における先端１４ａ６は、基部上面１４ａ３に対応する位置に設定される。

本実施形態において、シャフトテーパ面１４ａ７は、下側の領域に直線部１５ａを有し、上側の領域に湾曲部１５ｂを有する。直線部１５ａは、基端１４ａ５から、上方且つ径方向内方へ斜めに延びる。湾曲部１５ｂは、直線部１５ａと基部上面１４ａ３を繋ぎ、凸状に湾曲した面を有する。一例として、直線部１５ａは、ピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２に対し、３°～１０°の傾斜角度を有してよい。なお、シャフトテーパ面１４ａ７は、湾曲部１５ｂを有さなくてもよく、この場合、直線部１５ａと基部上面１４ａ３を繋ぐ、別の直線部（図示せず）を有してもよい。別の直線部は、中心軸線Ｃ２に対し、直線部１５ａの傾斜角度よりも大きな傾斜角度であってよく、その傾斜角度は、一例として、４５°であってよい。

基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入するとき、ピボット用シャフト１４をベース本体部１１３に下方から接近させる。このとき、ピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２が、貫通孔１２ｃの中心軸線（図示せず）からオフセットしている、又は、傾いているとしても、ピボット用シャフト１４は、シャフトテーパ面１４ａ７が貫通孔下端縁１２ｃ３に接触し、上記オフセットや傾きを修正しながら、上方へ移動する。このように、ピボット用シャフト１４を上方へ移動させる動作を行うのみで、両中心軸線を合致又は略合致させた状態で、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入することができる。よって、貫通孔内面１２ｃ１への、基部外面１４ａ１の圧入が容易になるとともに、ピボット用シャフト１４の組付け精度を向上させることができる。

図９、図１０に示すように、本実施形態に係るベース本体部１１３の底板部１２は、貫通孔１２ｃの内方（即ち径方向内側）に向かって延び、基部上面１４ａ３を上方から覆う鍔部１２ｅを有する。鍔部１２ｅは、上方を向く鍔部上面１２ｅ１と、上下方向に延在する鍔部内面１２ｅ２と、下方を向く鍔部下面１２ｅ３とを有する。鍔部上面１２ｅ１は、底板上面１２ａの一部の領域であり、底板上面１２ａの他の領域よりも、僅かに高く（上側）に位置する。本実施形態では、鍔部上面１２ｅ１が、ベース取付面１２ｇとして機能する。鍔部内面１２ｅ２は、貫通孔１２ｃの一部領域（上側の領域）を区画するが、本体部外面１４ｂ１から所定の間隔を持って、本体部外面１４ｂ１を囲繞するため、本体部外面１４ｂ１に接触しない。鍔部下面１２ｅ３は、基部上面１４ａ３と対向する。本実施形態において、貫通孔１２ｃは、貫通孔上端縁１２ｃ２、鍔部内面１２ｅ２、鍔部下面１２ｅ３、貫通孔内面１２ｃ１、及び、貫通孔下端縁１２ｃ３により区画される空間である。

図１０に示すように、本実施形態において、接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間に、上下方向に少なくとも部分的に薄く介在するとともに、鍔部下面１２ｅ３と基部上面１４ａ３との間に、径方向に薄く介在する。基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入する際、貫通孔１２ｃの貫通孔下端縁１２ｃ３の近傍に、接着剤１６を塗布する。その後、基部下面１４ａ２に対し上方に力を加えることにより、基部１４０ａが、下方から上方へ向かって（圧入方向Ｐ）、貫通孔１２ｃへ押し込まれる。このとき、接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間で、潤滑剤として機能する。これにより、基部外面１４ａ１は、貫通孔内面１２ｃ１に、締まり嵌めの形式で挿入、すなわち圧入される。基部１４０ａが貫通孔１２ｃの上方へ進むに従って、接着剤１６は、上側へ押し込まれると共に少なくとも部分的に薄く伸ばされる。この結果、接着剤１６は、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１の間だけでなく、鍔部下面１２ｅ３と基部上面１４ａ３との間にも、介在する。なお、接着剤１６は、鍔部内面１２ｅ２と本体部外面１４ｂ１との間に介在してもよい。

このように、基部下面１４ａ２に対し上方に力を加えながら、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入することができるので、本体部１４ｂの上側端部のねじ穴８２ｂの破損が回避される。また、基部上面１４ａ３が鍔部下面１２ｅ３に当接するまで、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入することで、製品間において、鍔部上面１２ｅ１から上方へ突出する本体部１４ｂの長さのバラつきを抑制することができる。このため、ピボット用シャフト１４へ軸受装置７０ａを組付ける際の組付精度が向上する。基部上面１４ａ３が鍔部下面１２ｅ３に当接する場合、鍔部下面１２ｅ３は、切削などにより、電着塗装膜が除去される。なお、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入する際、基部上面１４ａ３は、鍔部下面１２ｅ３に当接しなくてもよい。この場合、鍔部下面１２ｅ３の電着塗装膜は除去されない。

図９、図１０に示すように、本実施形態に係るベース本体部１１３の底板部１２は、底板上面１２ａに、貫通孔内面１２ｃ１への基部外面１４ａ１の圧入方向Ｐと同じ方向、即ち上方向を向く、治具受け面１２ｄを有する。治具受け面１２ｄは、底板上面１２ａにおいて貫通孔１２ｃの周囲に、少なくとも部分的に設けられる。具体的には、治具受け面１２ｄは、底板上面１２ａの一領域である鍔部上面１２ｅ１（即ちベース取付面１２ｇ）よりも径方向外側の領域に、設けられている。

治具受け面１２ｄに、図示しない治具を接触させることで、貫通孔内面１２ｃ１に基部外面１４ａ１を圧入する際、ベース本体部１１３の上方への位置ずれが回避され、基部外面１４ａ１を、貫通孔内面１２ｃ１へ、容易に圧入することができ、且つピボット用シャフト１４の組付け精度を向上させることができる。

＜第４実施形態＞
次いで、第４実施形態の変形例に係るベース１０４について説明する。

図１１は、第４実施形態に係るベース１０４を示す部分拡大図である。第４実施形態に係るベース１０４は、第３実施形態に係るベース１０３に対して、段差部１４ｃが設けられている点で異なる。なお、図１１では、周溝１２ｈ及び接着剤１６の図示を省略しているが、本実施形態に係るベース１０４は、周溝１２ｈを有してもよいし、接着剤１６を有する。

図１１に示すように、ピボット用シャフト１４は、基部１４０ａと本体部１４ｂの間に位置する段差部１４ｃを有する。段差部１４ｃは、上下方向に延在し、外方を向く段差部外面１４ｃ１と、上方を向く段差部上面１４ｃ３と、を含む。段差部上面１４ｃ３は、段差部外面１４ｃ１の上端１４ｃ２と本体部１４ｂの根元１４ｂ２を接続する面である。段差部外面１４ｃ１は、本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１より大きく、且つ、基部外面１４ａ１の外径Ｒ２より小さな外径Ｒ３を有する。段差部上面１４ｃ３は、軸受装置７０ａが載置されるピボット取付面１４ａ８として機能する。本実施形態において、基部上面１４ａ３は、段差部外面１４ｃ１の下端と基部外面１４ａ１の上端とを接続し、上方を向く面である。また、本実施形態に係るベース１０４の底板部１２は、鍔部１２ｅを有し、鍔部１２ｅは、基部上面１４ａ３を上方から覆うとともに、段差部外面１４ｃ１を所定の間隔を持って囲繞する。

このように、ピボット取付面１４ａ８が、ピボット用シャフト１４それ自体に形成されているため、ピボット用シャフト１４を製造する工程の中で、本体部外面１４ｂ１と段差部上面１４ｃ３（即ち、ピボット取付面１４ａ８）との垂直度の精度を向上させることができる。よって、第１実施形態のベース１０の製造工程で必要とされた仕上げ工程（Ｓ５）を省略することができる。

＜第５実施形態＞
次いで、第５実施形態の変形例に係るベース１０５について説明する。

図１２は、第５実施形態に係るベース１０５を示す部分拡大図である。第５実施形態に係るベース１０５は、第１実施形態に係るベース１０に対して、収容部１２ｆが設けられている点、及び、突出部１４ｄが設けられている点で異なる。なお、図１２では、周溝１２ｈ及び接着剤１６の図示を省略しているが、本実施形態に係るベース１０５は、周溝１２ｈを有してもよいし、接着剤１６を有する。

図１２に示すように、ピボット用シャフト１４は、基部１４ａと本体部１４ｂの間において、基部外面１４ａ１及び本体部外面１４ｂ１より外方に突出する突出部１４ｄを有する。

突出部１４ｄは、下方を向く突出部下面１４ｄ１と、上方を向く突出部上面１４ｄ２と、径方向外方を向く突出部外面１４ｄ３とを有する。突出部下面１４ｄ１、突出部上面１４ｄ２、及び突出部外面１４ｄ３は、ピボット用シャフト１４の中心軸線Ｃ２周りに、環状に延びる面である。突出部外面１４ｄ３は、上下方向、即ち、突出部下面１４ｄ１及び突出部上面１４ｄ２に対し垂直な方向に延びる面である。突出部上面１４ｄ２は、軸受装置７０ａが載置されるピボット取付面１４ａ８として機能する。突出部外面１４ｄ３の外径Ｒ４は、基部外面１４ａ１の外径Ｒ２及び本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１よりも大きい。

図１２に示すように、底板部１２は、底板上面１２ａから下方に凹み、突出部１４ｄを収容する収容部１２ｆを有する。収容部１２ｆは、底板部１２の一領域であり、具体的には、貫通孔内面１２ｃ１の径方向外方に隣接する領域である。収容部１２ｆは、底板上面１２ａから下方に延びる内壁面１２ｆ２と、内壁面１２ｆ２の下端から径方向内方へ内端１２ａ２まで延びる底壁面１２ｆ１を有する。

底壁面１２ｆ１の内端、即ち、底板上面１２ａの内端１２ａ２から下方に、貫通孔内面１２ｃ１が延びる。底壁面１２ｆ１は、底板上面１２ａの一部であり、突出部下面１４ｄ１を下方から支持する支持領域１２ａ１として機能する。内壁面１２ｆ２は、貫通孔１２ｃの一部領域（上側の領域）を区画するが、突出部外面１４ｄ３から所定の間隔を持って、突出部１４ｄを囲繞するため、突出部外面１４ｄ３に接触しない。本実施形態において、貫通孔１２ｃは、貫通孔上端縁１２ｃ２、内壁面１２ｆ２、底壁面１２ｆ１、貫通孔内面１２ｃ１、及び、貫通孔下端縁１２ｃ３により区画される空間である。

なお、本実施形態において、底板部１２は、その一領域に、収容部１２ｆを有さなくてもよい。この場合、支持領域１２ａ１は、底板上面１２ａと面一に形成される（図示せず）。

本実施形態に係るベース本体部１１５は、支持領域１２ａ１で突出部下面１４ｄ１を下方から支持するので、組付けが完了した後、ピボット用シャフト１４に下方へ向かう荷重（例えば、アクセス部７０の重量）が加えられた場合であっても、ピボット用シャフト１４がベース本体部１１５から下方に抜けることがない。

また、突出部下面１４ｄ１が支持領域１２ａ１に当接するまで、基部外面１４ａ１を貫通孔内面１２ｃ１に圧入することで、製品間において、底板上面１２ａから上方へ突出する本体部１４ｂの長さのバラつきを抑制することができる。このため、ピボット用シャフト１４へ軸受装置７０ａを組付ける際の組付精度が向上する。突出部下面１４ｄ１が支持領域１２ａ１に当接する場合、支持領域１２ａ１は、切削などにより、電着塗装膜が除去される。

また、収容部１２ｆに突出部１４ｄを収容することにより、突出部１４ｄを設けた場合であっても、本体部１４ｂの長さを維持することができる。

次いで、その他の変形例について説明する。

＜その他の変形例１，２＞
図１３は、その他の変形例１に係るベース１０６を示す部分断面図である。図１４は、その他の変形例２に係るベース１０７を示す部分断面図である。その他の変形例１，２に係るベース１０６，１０７は、それぞれ、第１実施形態に係るベース１０、第２実施形態に係るベース１０２に対し、貫通孔１２ｃが設けられず、止まり穴１２ｓを有する点で異なる。

図１３及び図１４に示すように、その他の変形例１，２に係るベース１０６，１０７はそれぞれ、底板上面１２ａから底板下面１２ｂに向かって延在する止まり穴（孔）１２ｓを有する。止まり穴１２ｓは、底板上面１２ａから下方へ凹み、底板下面１２ｂの手前で終端する。止まり穴１２ｓは、底板上面１２ａから下方へ延びる止まり穴内面（孔内面）１２ｓ１と、止まり穴内面１２ｓ１の下端において上方を向く止まり穴底面１２ｓ２とを有する。基部外面１４ａ１が止まり穴内面１２ｓ１に圧入された状態で、基部下面１４ａ２と止まり穴底面１２ｓ２との間には、隙間Ｇが形成される。

図１３及び図１４に示すように、ベース１０６，１０７は、底板下面１２ｂに治具受け面１２ｄを有する。治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂにおいて、止まり穴１２ｓの周囲に、少なくとも部分的に設けられてよい。より詳細には、治具受け面１２ｄは、ベース１０６，１０７を下方から見た状態で、底板下面１２ｂに描かれる止まり穴１２ｓの仮想輪郭（図示せず）の周囲（径方向外側）に、少なくとも部分的に設けられてよい。また、治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂの下方に設けられてもよい。より詳細には、治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂにおいて、止まり穴底面１２ｓ２と軸方向に重なる位置（即ち、上記仮想輪郭（図示せず）の径方向内側）に設けられてもよい。また、治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂにおいて、上記仮想輪郭上に設けられてもよい。

本変形例に係るベース１０６，１０７によれば、筐体３０の密封性を向上することができ、筐体３０の内部空間に充填されたヘリウムガス等の漏洩を、確実に防止することができる。

＜その他の変形例３～６＞
図１５は、その他の変形例３に係るベース１０８を示す部分断面図である。図１６は、その他の変形例４に係るベース１０９を示す部分断面図である。図１７は、その他の変形例５に係るベース１１０を示す部分断面図である。図１８は、その他の変形例６に係るベース１１１を示す部分断面図である。

その他の変形例３～６に係るベース１０８，１０９，１１０、１１１は、それぞれ、その他の変形例１，２に係るベース１０６，１０７に対し、空気及び接着剤１６を抜くための孔が設けられている点で異なる。

図１５に示すように、その他の変形例３に係るベース１０８は、ベース本体部１１８に、止まり穴底面１２ｓ２と底板下面１２ｂとの間を貫通する抜き孔１２ｕを有する。抜き孔１２ｕは、隙間Ｇをベース本体部１１８の下側の空間に接続する。基部外面１４a１が止まり穴内面１２ｓ１に圧入された状態で、接着剤１６は、止まり穴内面１２ｓ１と基部外面１４ａ１との間に少なくとも部分的に薄く介在する（図示されず）。また、接着剤１６は、隙間Ｇ及び抜き孔１２ｕにも収容される。

図１６に示すように、その他の変形例４に係るベース１０９は、基部１４０に、基部外面１４ａ１の一部を上下方向に切り欠き、基部上面１４ａ３と基部下面１４ａ２との間を貫通する抜き孔１７を有する。抜き孔１７は、隙間Ｇを基部１４０の上側の空間に接続する。基部外面１４ａ１が止まり穴内面１２ｓ１に圧入された状態で、接着剤１６は、止まり穴内面１２ｓ１と基部外面１４ａ１との間に少なくとも部分的に介在する（図示されず）。また、接着剤１６は、隙間Ｇ及び抜き孔１７の一部にも収容される。

図１７に示すように、その他の変形例５に係るベース１１０は、ベース本体部１２０に、止まり穴内面１２ｓ１の一部を、底板上面１２ａ即ちベース取付面１２ｇから、止まり穴底面１２ｓ２まで、上下方向に切り欠く抜き孔１７を有する。抜き孔１７は、隙間Ｇをベース本体部１２０の上側の空間に接続する。基部外面１４ａ１が止まり穴内面１２ｓ１に圧入された状態で、接着剤１６は、止まり穴内面１２ｓ１と基部外面１４ａ１との間に少なくとも部分的に介在する（図示されず）。また、接着剤１６は、隙間Ｇ及び抜き孔１７の一部にも収容される。

図１８に示すように、その他の変形例６に係るベース１１１は、基部１４０のうち、基部外面１４ａ１から径方向内方へ離間した位置に、基部上面１４ａ３と基部下面１４ａ２との間を貫通する抜き孔１９を有する。抜き孔１９は、隙間Ｇを基部１４０の上側の空間に接続する。基部外面１４ａ１が止まり穴内面１２ｓ１に圧入された状態で、接着剤１６は、止まり穴内面１２ｓ１と基部外面１４ａ１との間に少なくとも部分的に介在する（図示されず）。また、接着剤１６は、隙間Ｇ及び抜き孔１９の一部にも収容される。

上記実施形態では、以下のような態様が開示される。

（態様１）
上記実施形態では、ベース１０，１０ｍ，１０２，１０２ｍ，１０３，１０４，１０５，１０６，１０７，１０８，１０９，１１０，１１１は、ハードディスク駆動装置１の筐体３０の一部となり、上方を向く底板上面１２ａと、下方を向く底板下面１２ｂと、底板上面１２ａから底板下面１２ｂに向かって延在する孔１２ｃ，１２ｓと、を有する底板部１２と、孔において内方を向く孔内面１２ｃ１，１２ｓ１に圧入される基部外面１４ａ１を有するピボット用シャフト１４と、孔内面１２ｃ１，１２ｓ１と基部外面１４ａ１との間に介在する接着剤１６と、を備える。

（態様２）
態様１において、孔１２ｃは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃであり、ピボット用シャフト１４は、下方を向く基部下面１４ａ２を有し、基部下面１４ａ２に塗布され、貫通孔内面１２ｃ１と基部外面１４ａ１との間を封止する封止用接着剤１８を備える。

（態様３）
態様１又は２において、孔１２ｃ，１２ｓは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃ、又は、底板下面１２ｂの手前で終端する止まり穴１２ｓであり、ピボット用シャフト１４は、基部外面１４ａ１のうち貫通孔１２ｃ又は止まり穴１２ｓへの圧入方向Ｐの先端領域１４ａ４に、先端領域１４ａ４の基端１４ａ５から先端１４ａ６に向かって、貫通孔内面１２ｃ１又は止まり穴内面１２ｓ１との間の距離が大きくなるシャフトテーパ面１４ａ７を有する。

（態様４）
態様１から３のいずれかにおいて、孔１２ｃ，１２ｓは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃ、又は、底板下面１２ｂの手前で終端する止まり穴１２ｓであり、ピボット用シャフト１４は、基部外面１４ａ１の上方において上下方向に延在する本体部外面１４ｂ１を有し、基部外面１４ａ１は、本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１よりも大きな外径Ｒ２に形成されている。

（態様５）
態様１から４のいずれかにおいて、孔１２ｃは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃであり、ピボット用シャフト１４は、基部外面１４ａ１と本体部外面１４ｂ１とを接続し、上方を向く基部上面１４ａ３を有し、底板部１２は、貫通孔１２ｃの内方に向かって延び、基部上面１４ａ３を上方から覆う鍔部１２ｅを有する。

（態様６）
態様１から５のいずれかにおいて、底板部１２は、底板上面１２ａ又は底板下面１２ｂに、貫通孔１２ｃ又は止まり穴１２ｓへの基部外面１４ａ１の圧入方向と同じ方向を向く、治具受け面１２ｄを有する。

（態様７）
態様１から６のいずれかにおいて、孔１２ｃは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃであり、治具受け面１２ｄは、底板上面１２ａ又は底板下面１２ｂにおいて、貫通孔１２ｃの周囲に、少なくとも部分的に設けられる。

（態様８）
態様１から６のいずれかにおいて、孔１２ｓは、底板下面１２ｂの手前で終端する止まり穴１２ｓであり、治具受け面１２ｄは、底板下面１２ｂにおいて、少なくとも部分的に設けられる。

（態様９）
態様１から８のいずれかにおいて、孔１２ｃ，１２ｓは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃ、又は、底板下面１２ｂの手前で終端する止まり穴１２ｓであり、ピボット用シャフト１４は、基部外面１４ａ１の上方において上下方向に延在する本体部外面１４ｂ１と、上下方向に対し垂直方向に延び、底板上面１２ａよりも上方に位置するベース取付面１２ｇ又はピボット取付面１４ａ８と、を有する。

（態様１０）
態様１から９のいずれかにおいて、孔１２ｃ，１２ｓは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃ、又は、底板下面１２ｂの手前で終端する止まり穴１２ｓであり、基部外面１４ａ１は、本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１よりも大きな外径Ｒ２に形成されており、基部外面１４ａ１と本体部外面１４ｂ１とを接続し、上方を向く基部上面１４ａ３を含み、ピボット取付面１４ａ８は、基部上面１４ａ３である。

（態様１１）
態様１から１０のいずれかにおいて、孔１２ｃは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃであり、ピボット用シャフト１４は、基部外面１４ａ１と本体部外面１４ｂ１の間において上下方向に延在する段差部外面１４ｃ１と、段差部外面１４ｃ１と本体部外面１４ｂ１とを接続し、上方を向く段差部上面１４ｃ３と、段差部外面１４ｃ１と基部外面１４ａ１とを接続し、上方を向く基部上面１４ａ３と、を有する。段差部外面１４ｃ１は、本体部外面１４ｂ１の外径Ｒ１より大きく、且つ基部外面１４ａ１の外径Ｒ２より小さな外径Ｒ３に形成されている。ピボット取付面１４ａ８は、段差部上面１４ｃ３である。底板部１２は、貫通孔１２ｃの内方に向かって延び、基部上面１４ａ３を上方から覆うとともに、段差部外面１４ｃ１を囲繞する鍔部１２ｅを有する。

（態様１２）
態様１から９のいずれかにおいて、孔１２ｃ，１２ｓは、底板上面１２ａ及び底板下面１２ｂの間を貫通する貫通孔１２ｃ、又は、底板下面１２ｂの手前で終端する止まり穴１２ｓであり、ピボット用シャフト１４は、基部外面１４ａ１と本体部外面１４ｂ１の間において、基部外面１４ａ１より外方に突出するとともに、本体部外面１４ｂ１より外方に突出する突出部１４ｄを有する。突出部１４ｄは、下方を向く突出部下面１４ｄ１と、上方を向く突出部上面１４ｄ２と、を含む。底板上面１２ａは、突出部下面１４ｄ１を下方から支持する支持領域１２ａ１を有する。ピボット取付面１４ａ８は、突出部上面１４ｄ２である。

（態様１３）
態様１２において、底板部１２は、底板上面１２ａから下方に凹み、突出部１４ｄを収容する収容部１２ｆを有する。支持領域１２ａ１は、収容部１２ｆの底壁面１２ｆ１である。

（態様１４）
上記実施形態では、ハードディスク駆動装置１は、態様１から１３までのいずれかに記載のベースと、該ベースに取付けられ、ベースとともに筐体３０を形成するカバー４０と、筐体３０の内部に配置され、ベースに支持されるスピンドルモータ５０と、筐体３０の内部に配置され、スピンドルモータ５０により回転する記録ディスク６０と、筐体３０の内部においてピボット用シャフト１４に支持され、記録ディスク６０に対するデータの記録、及び、記録ディスクに記録されたデータの読み出しを行うアクセス部７０と、を備える。

（態様１５）
態様１４において、筐体３０には、空気よりも低密度の気体が封入されている。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に係るベース１０，１０ｍ，１０２，１０２ｍ，１０３，１０４，１０５，１０６，１０７，１０８，１０９，１１０，１１１、及びハードディスク駆動装置１に限定されるものではなく、本発明の概念及び特許請求の範囲に含まれるあらゆる態様を含む。また、上述した課題及び効果を奏するように、各構成を適宜選択的に組み合わせても良い。例えば、上記実施の形態における各構成要素の形状、材料、配置、サイズ等は、本発明の具体的態様によって適宜変更され得る。

例えば、上記本実施形態では、モータ用シャフト５１が、ベース１０とは別部品であるスピンドルモータ５０の例を説明した。しかし、モータ用シャフト５１はベース１０の構成要素として、ベース本体部１１と一体にダイキャスト鋳造されてもよい。

上記実施形態では、モータ用シャフト５１が静止部５０ａの一構成要素であるスピンドルモータ５０の例を説明した。すなわち、モータ用シャフト５１が、ベース本体部１１に圧入等によって固定され、このモータ用シャフト５１の外周面に一対の軸受部材５２が固定された例を説明した。しかし、スピンドルモータは、回転部５０ｂの一構成要素としてモータ用シャフトを有するものであってもよい。すなわち、スピンドルモータは、図示しない軸受スリーブをベースに固定し、軸受スリーブに回転可能に支持されたモータ用シャフトの外周面に、ロータを固定して構成されるものであってもよい。

上記実施形態では、基部外面１４ａ１と貫通孔内面１２ｃ１との間に接着剤１６が介在する状態で、基部１４ａとベース本体部１１との間を溶接する例を示した。しかし、基部外面１４ａ１と貫通孔内面１２ｃ１との間に接着剤１６が介在しない状態で、基部１４ａとベース本体部１１との間を溶接してもよい。

１ ハードディスク駆動装置、 １０，１０ｍ，１０２，１０２ｍ，１０３，１０４，１０５ ベース、 １２ 底板部、 １２ａ 底板上面、 １２ａ１ 支持領域、 １２ｂ 底板下面、 １２ｃ 貫通孔（孔）、 １２ｃ１ 貫通孔内面（孔内面）、 １２ｄ 治具受け面、 １２ｅ 鍔部、 １２ｆ 収容部、 １２ｆ１ 底壁面、 １２ｇ ベース取付面（取付面）、１２ｓ 止まり穴（孔）、１２ｓ１ 止まり穴内面（孔内面）、 １４ ピボット用シャフト、 １４ａ，１４０，１４０ａ 基部、 １４ａ１ 基部外面、 １４ａ２ 基部下面、 １４ａ３ 基部上面、 １４ａ４ 先端領域、 １４ａ５ 基端、 １４ａ６ 先端、 １４ａ７ シャフトテーパ面（テーパ面）、 １４ａ８ ピボット取付面（取付面）、 １４ｂ 本体部、 １４ｃ 段差部、 １４ｃ１ 段差部外面、 １４ｃ３ 段差部上面、 １４ｄ 突出部、 １４ｄ１ 突出部下面、 １４ｄ２ 突出部上面、 １６ 接着剤（第１接着剤）、 １８ 封止用接着剤（第２接着剤）、 ３０ 筐体、 ４０ カバー、 ５０ スピンドルモータ、 ６０ 記録ディスク、 ７０ アクセス部、 Ｐ 圧入方向、Ｒ１、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４ 外径

Claims (15)

1. ハードディスク駆動装置の筐体の一部となるベースであって、
   上方を向く底板上面と、下方を向く底板下面と、前記底板上面から前記底板下面に向かって延在する孔と、を有する底板部と、
   前記孔において内方を向く孔内面に圧入される基部外面を有するピボット用シャフトと、
   前記孔内面と前記基部外面との間に介在する第１接着剤と、
   を備えるベース。
2. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔であり、
   前記ピボット用シャフトは、下方を向く基部下面を有し、
   前記基部下面に塗布され、前記孔内面と前記基部外面との間を封止する第２接着剤を備える、
   請求項１に記載のベース。
3. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔、又は、前記底板下面の手前で終端する止まり穴であり、
   前記ピボット用シャフトは、前記基部外面のうち前記孔内面への圧入方向の先端領域に、該先端領域の基端から先端に向かって、前記孔内面との間の距離が大きくなるテーパ面を有する、
   請求項１に記載のベース。
4. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔、又は、前記底板下面の手前で終端する止まり穴であり、
   前記ピボット用シャフトは、前記基部外面の上方において上下方向に延在する本体部外面を有し、
   前記基部外面は、前記本体部外面の外径よりも大きな外径に形成されている、
   請求項１に記載のベース。
5. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔であり、
   前記ピボット用シャフトは、前記基部外面と前記本体部外面とを接続し、上方を向く基部上面を有し、
   前記底板部は、前記孔の内方に向かって延び、前記基部上面を上方から覆う鍔部を有する、
   請求項４に記載のベース。
6. 前記底板部は、前記底板上面又は前記底板下面に、前記孔内面への前記基部外面の圧入方向と同じ方向を向く、治具受け面を有する、
   請求項１に記載のベース。
7. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔であり、
   前記治具受け面は、前記底板上面又は前記底板下面において、前記孔の周囲に、少なくとも部分的に設けられる、
   請求項６に記載のベース。
8. 前記孔は、前記底板下面の手前で終端する止まり穴であり、
   前記治具受け面は、前記底板下面において、少なくとも部分的に設けられる、
   請求項６に記載のベース。
9. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔、又は、前記底板下面の手前で終端する止まり穴であり、
   前記ピボット用シャフトは、
   前記基部外面の上方において上下方向に延在する本体部外面と、
   前記上下方向に対し垂直方向に延び、前記底板上面よりも上方に位置する取付面と、を有する、
   請求項１に記載のベース。
10. 前記基部外面は、前記本体部外面の外径よりも大きな外径に形成されており、
    前記ピボット用シャフトは、前記基部外面と前記本体部外面とを接続し、上方を向く基部上面を有し、
    前記取付面は、前記基部上面である、
    請求項９に記載のベース。
11. 前記孔は、前記底板上面及び前記底板下面の間を貫通する貫通孔であり、
    前記ピボット用シャフトは、前記基部外面と前記本体部外面との間において上下方向に延在する段差部外面と、前記段差部外面と前記本体部外面とを接続し、上方を向く段差部上面と、前記段差部外面と前記基部外面とを接続し、上方を向く基部上面と、を有し、
    前記段差部外面は、前記本体部外面の外径より大きな外径且つ前記基部外面の外径より小さな外径に形成されており、
    前記取付面は、前記段差部上面であり、
    前記底板部は、前記孔の内方に向かって延び、前記基部上面を、上方から覆うとともに、前記段差部外面を囲繞する鍔部を有する、
    請求項９に記載のベース。
12. 前記ピボット用シャフトは、前記基部外面と前記本体部外面の間において、前記基部外面より外方に突出するとともに、前記本体部外面より外方に突出する突出部であって、下方を向く突出部下面と上方を向く突出部上面とを有する突出部を有し、
    前記底板上面は、前記突出部下面を下方から支持する支持領域を有し、
    前記取付面は、前記突出部上面である、
    請求項９に記載のベース。
13. 前記底板部は、前記底板上面から下方に凹み、前記突出部を収容する収容部を有し、
    前記支持領域は、前記収容部の底壁面である、
    請求項１２に記載のベース。
14. 請求項１から１３までのいずれか一項に記載のベースと、
    前記ベースに取付けられ、前記ベースとともに前記筐体を形成するカバーと、
    前記筐体の内部に配置され、前記ベースに支持されるスピンドルモータと、
    前記筐体の内部に配置され、前記スピンドルモータにより回転する記録ディスクと、
    前記筐体の内部において前記ピボット用シャフトに支持され、前記記録ディスクに対するデータの記録、及び、前記記録ディスクに記録されたデータの読み出しを行うアクセス部と、
    を備えるハードディスク駆動装置。
15. 前記筐体には、空気よりも低密度の気体が封入されている、請求項１４に記載のハードディスク駆動装置。
    

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