JP2023531138A - 分散性原料の熱処理のための設備及びそのような設備を動作させるための方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、分散性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための設備（１４）に関し、設備（１４）は高温ガスが流れることができる上昇ライン（６２）を備え、上昇ラインは上昇ライン（６２）への燃料の流入のための少なくとも１つの燃料入口（４８，５０）を有し、上昇ライン（６２）は上昇ライン（６２）内への原料ミールの流入のための少なくとも１つの原料ミール入口（４４，４６）を有し、少なくとも１つの原料ミール入口（４４，４６）は上昇ライン（６２）内のガスの流れ方向において燃料入口（２４）の上流に配置される。本発明はまた、分散性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための方法に関し、本方法は、高温ガスを導くために燃料入口（４８，５０）を介して上昇ライン（６２）に燃料を入れるステップと、原料ミールを上昇ライン（６２）に入れるステップと、を有し、原料ミールは、ガスの流れ方向において燃料入口（４８，５０）の上流で上昇ライン（６２）に導入される。【選択図】図１

Description

本発明は、浮遊性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための設備に関する。

例えば、特にセメント製造プラントにおける原材料の熱処理のためにか焼炉を使用することは、従来技術から知られている。また、セメント製造プラントのロータリーキルン又はか焼炉において、炭素質燃料を燃焼させるために酸素ガスを導入することが知られている。排気ガスの量を低減し、複雑な精製方法を省略できるようにするために、可能な限り多くの酸素に富む燃焼ガスを使用することは、例えば独国特許出願公開第１０２０１８２０６６７３号明細書から知られており、その結果、排気ガス中のＣＯ２含有量は高い。独国特許出願公開第１０２０１８２０６６７３号明細書は、ガスを予熱し、クリンカを冷却するために、酸素富化ガスを冷却器入口領域に導入することを開示している。

少なくとも３０％～１００％の高い酸素分率を有する酸素富化燃焼ガスが使用される場合、非常に高い温度がか焼炉及び炉内で発生する可能性がある。これらの高温がより長い期間にわたって、又は壁に近いか焼炉の領域で永続的に生じる場合、か焼炉の内壁への損傷がそこから生じる可能性がある。ホットゾーンが導入されたホットミールと組み合わせて発生する場合、か焼されるホットミールの溶融段階も予想される。

独国特許出願公開第１０２０１８２０６６７３号明細書

それから、本発明の目的は、浮遊物質の熱処理のための設備であって、設備の安全な動作が保証され、同時に高いＣＯ２含有量を有する排気ガスが得られる設備を提供することである。

この目的は、本発明によれば、独立装置請求項１の特徴を有する設備によって、及び独立方法請求項１１の特徴を有する方法によって達成される。有利な改良は、従属請求項から生じる。

浮遊性原料、特に炭酸塩含有材料、好ましくはセメント原料ミール及び／又は鉱物産品の熱処理のための設備は、第１の態様によれば、高温ガスが流れることができる上昇管ラインを備え、上昇管ラインは、上昇管ラインに燃料を導入するための少なくとも１つの燃料入口を有する。上昇管ラインは、上昇管ライン内のガスの流れ方向において燃料入口の上流に配置された、上昇管ライン内に原料ミールを導入するための少なくとも１つの原料ミール入口を有する。

浮遊性原料の熱処理のための設備は、例えば、特に予熱された原料のか焼のためのか焼炉であり、例えば、セメントを製造するための設備、又は焼鈍損失を含む材料の脱炭である。浮遊性原料の熱処理設備は、例えば、再か焼された残留材料又はＦＧＤ石膏を調製するために、か焼された石灰石又はドロマイトを製造するための設備に配置される。原料は、例えば、石灰石若しくは石灰泥灰岩及び粘土の混合物であり、必要に応じて鉄鉱石、砂若しくはさらなる材料、又は石灰石、ドロマイトなどの炭酸塩含有材料、又はそれらを含む混合物が補充される。燃料は、例えば、炭素、石油コークス、天然ガス、処理された住宅及び産業廃棄物、下水汚泥、バイオマス、又は液体溶媒である。

上昇管ラインは、好ましくは、垂直方向に延びるラインを備え、このラインを通って高温ガスが、特に下から上に流れることができる。上昇管ラインは、好ましくは、２０％～１００％、好ましくは３０％～８０％の酸素分率を有する高温ガスを導入するための高温ガス入口を有する。上昇管ラインの下端は、上昇管ラインに高温ガスを導入するための高温ガス入口を形成することが好ましい。上昇管ラインは、２０体積％～１００体積％、特に３０体積％～８０体積％の酸素分率を有する燃焼ガスを導入するために、高温ガス入口とは別に配置された燃焼ガス入口を有していてもよい。高温ガスは、好ましくは、燃焼設備、例えばセメント製造プラントの炉の排気ガスである。高温ガスは、好ましくは、２０体積％～１００体積％、特に３０体積％～８０体積％の酸素濃度を有する。上昇管ラインは、例えば、上昇管ラインに燃料を導入するための複数の燃料入口を有する。各燃料入口は、特に、少なくとも１又は複数の燃料ラインを備え、燃料ラインは、好ましくは、上昇管ラインの半径方向に、上昇管ラインの壁を貫通して延びる。上昇管ラインは、好ましくは複数の原料ミール入口を有し、少なくとも１つの原料ミール入口がすべての燃料入口の上流に配置される。上昇管ラインは、好ましくは、ガスの流れ方向に連続して配置された２つの原料ミール入口を有する。少なくとも１つの燃料入口は、好ましくは２つの原料ミール入口の間に配置される。

燃料入口の上流に原料ミールを分配することにより、上昇管ライン内の原料ミールの過熱、したがって例えば上昇管ラインの内壁の損傷が防止される。燃料の燃焼によって生成された燃焼ゾーンは、原料ミールの粒子に直接熱を放出することができる。

設備、好ましくはか焼炉における固気比は、酸化剤として空気を使用する従来の設備と比較して有利に著しく高い。例えば、ガス１キログラム当たり１．５ｋｇを超える局所的な固体荷重、特にガス１キログラム当たり１．５～８ｋｇが発生する。燃料熱の６０％を超える、例えば約８０％の最大部分は、好ましくは設備内に実装される。燃料入口の上流に導入された原料ミールのために、４０～８０％の初期酸素濃度にもかかわらず、集中的な燃焼を開始し、過熱を防止する十分なヒートシンクが提供される。例えば＞１００ｍｍのエッジ長さを有する粗い代替燃料を燃焼させる場合、燃料の滞留時間がより長い傾斜領域を設けることが好ましい。そのような傾斜領域の例は、ステップ、プッシュ火格子、往復火格子、又は他の機械的又は空気圧式装置である。これらの装置は、例えば、燃焼室、予燃焼室として機能するか、又は導入された燃料の乾燥及び予熱又は部分的なガス化のためにのみ使用される。燃料は、それらの粒度分布及びそれらの発熱量に関して任意のタイプのものであり得る。

か焼反応は、か焼炉の開始時に１０％～６０％、か焼炉の終了時に最大９５％のＣＯ２分圧下で行われていてもよい。したがって、か焼反応は、７００から１１００℃、好ましくは９００から１０００℃の従来の設備よりも高い温度で行われることが好ましい。

第１の実施形態によれば、上昇管ラインは、上昇管ライン内に不活性ガスを導入するための少なくとも１つの不活性ガス入口を有する。例えば、上昇管ラインは、上昇管ライン内のガスの流れ方向に連続して配置された複数、特に２つ又は３つの不活性ガス入口を有する。例えば、燃料入口及び不活性ガス入口は、相互に別々に配置され、各々が上昇管ラインへの入口を形成する。燃料入口及び不活性ガス入口は、好ましくは共に上昇管ラインに入口を形成する。燃料及び不活性ガスは、それぞれ共通のラインで上昇管ラインに供給されることが好ましい。これは、構造的に複雑ではなく、したがってより費用効果が高い。不活性ガスは、好ましくは、温度シンクとして追加的に使用され、さらに、燃料入口、特にバーナオリフィス又はバーナランスオリフィスで直接導入された燃料の自発点火を防止する。

不活性ガスは、例えば、ＣＯ２又は水蒸気である。設備への不活性ガスの供給は、設備への損傷が防止されるように、燃焼の遅延、特に減速の利点を提供する。

上昇管ラインは、例えば、特に異なる不活性ガスを導入するための複数の不活性ガス入口を有する。また、上昇管ラインは、複数の燃料分配装置、特に２つ又は３つの燃料分配装置を有し、それぞれに不活性ガス入口が関連付けられていることも考えられる。燃料分配装置は、好ましくは、上昇管ラインの長さ及び／又は幅にわたって相互に離間して配置される。例えば、燃料分配装置は、か焼炉の上昇管ラインの断面にわたって０°、好ましくは６０°～２７０°の角度で相互にオフセットして配置される。異なるタイプの燃料分配装置を相互に組み合わせることができ、また、ここでは異なるように配置することができる。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインは、ガスの流れ方向に連続して配置された少なくとも２つの処理領域を有し、これらの処理領域は相互に異なる直径を有していてもよく、ガスの流れ方向における前側処理領域は、前側処理領域に原料ミールを導入するための原料ミール入口を有する。前側処理領域は、下流に配置された処理領域よりも小さい直径を有することが好ましい。

処理領域は、例えば、原料ミール、燃料、及び／又は不活性ガスを導入するための少なくとも１つの入口が配置された上昇管の部分である。前側処理領域は、好ましくは、ガスの流れ方向において、処理領域に対してより小さく、好ましくは一定である直径を有する断面狭窄部に直接隣接する。各処理領域は、例えば、一定の直径を有する中間領域と、変化する、減少する、又は増加する直径を有する前後にそれぞれ配置された領域とを有する。ガスの流れ方向において、処理領域は、流れ方向に増加する断面を有する膨張領域を有することが好ましい。一定の断面を有する領域は、拡張領域に隣接する。好ましくは、減少又は拡大する断面を有するさらなる領域が、一定の断面を有する領域に隣接する。増加する断面を有する拡張領域は、好ましくは１０°～６０°、好ましくは１２°～３０°の開口角度を有する。特に、処理領域の流れ方向の前部は、上昇管の断面狭窄部に拡大断面で直接隣接する。上昇管は、好ましくは、連続して配置された３つ以上、特に３つ又は４つの処理領域を有する。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインは、処理領域間に、処理領域よりも小さい直径を有する少なくとも１つの断面狭窄部を有する。断面狭窄部は、好ましくは、流れ方向における断面狭窄部の直前及び直後に配置された上昇管の部分よりも小さい一定の直径を有する上昇管の部分である。断面狭窄部は、例えば、２つの隣接する処理領域の間に配置される。このような断面狭窄部は、流れの局所的な加速を保証し、これは流れ方向に隣接するより大きな直径を有する領域で減速される。これにより、ガスと原料ミールとの完全な混合が保証される。

さらなる実施形態によれば、燃料入口は、前側処理領域の下流に配置される。

例えば、設備は、特にすべて前側処理領域の下流に配置された２つ以上の燃料入口を有する。原料ミールを上昇管ラインに導入するための１又は複数の入口は、好ましくは前側処理領域に配置される。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインは、前側処理領域の上流にさらなる断面狭窄部を有する。前側処理領域は、好ましくは、２つの断面狭窄部の間に配置される。原料ミールの少なくとも一部は、好ましくは前側処理領域に分配され、断面狭窄部は、処理領域内の流速の低下をもたらし、したがって原料ミールと高温ガスとのより良好な完全混合をもたらす。非常に高い温度を有する局所領域は回避され、したがって上昇管の壁の損傷が防止される。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインは、原料ミールを上昇管ラインに導入するための少なくとも２つの原料ミール入口を有し、原料ミール入口はそれぞれ上昇管ラインの異なる処理領域に配置される。特に、原料ミール入口は、異なる高さレベルに、好ましくは上昇管ラインの流れ方向に連続して配置される。好ましくは、各処理領域は少なくとも１つの原料ミール入口を有する。これにより、原料ミールを上昇管ラインに段階的に分配することが可能になり、その結果、原料ミールは上昇管ラインの異なる領域に導入され、それぞれの場合に高温ガスと最適に混合される。

さらなる実施形態によれば、燃料入口のうちの少なくとも１つは、上昇管ラインの半径方向に延びる少なくとも１又は複数の燃料ラインを有し、燃料ラインは、上昇管ライン壁を貫通して上昇管ライン内まで延び、原料ミール入口のうちの少なくとも１つは、上昇管ラインの半径方向に延びる少なくとも１又は複数の原料ミールラインを有し、少なくとも１又は複数の原料ミールラインは、上昇管ライン壁を貫通して上昇管ライン内まで延びる。さらなる実施形態によれば、燃料ラインは、原料ミールラインに対して０°～５０°、特に２０°～３０°の角度で上昇管ライン内まで延びる。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインの内側の温度を確認するための少なくとも１つの温度測定ユニットが上昇管ラインの内側に配置され、設備は、確認された温度を伝達するために温度測定ユニットに接続された調整ユニットを有し、調整ユニットは、確認された温度に応じて上昇管ライン内の原料ミール、不活性ガス、及び／又は燃料の量を調整するように設計される。好ましくは、原料ミール入口、燃料入口、及び／又は不活性ガス入口はそれぞれ、上昇管ラインに導入される原料ミール、不活性ガス、又は燃料の量を設定するためのフラップ又はバルブなどの計量要素を有する。それぞれの計量要素は、好ましくは、調整ユニットに接続されて、上昇管ラインに導入される原料ミール、不活性ガス、又は燃料の量を設定する。

温度測定ユニットは、熱電対又は音響ガス温度測定を含むことが好ましい。温度測定ユニットは、特に、上昇管ラインの内壁に取り付けられ、好ましくは、上昇管ラインの内側のガス温度を確認するように設計される。例えば、上昇管ラインは、流れ方向に連続して配置された２つの温度測定ユニットを有する。特に、温度測定ユニットは各々、１つの燃料入口に関連付けられ、下流に、好ましくは燃料入口に直接又は直近の周囲に配置される。温度測定ユニットは、特に、燃料入口又はその近傍の温度を確認するように設計及び設計される。

調整ユニットは、好ましくは、確認された温度を所定の温度制限値又は温度制限範囲と比較し、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲から逸脱した場合に、上昇管ライン内の燃料、原料ミール、及び／又は不活性ガスの量を増減するように設計される。例えば、温度測定ユニットによって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を超える場合、特にそれぞれの温度測定ユニットに関連する燃料入口を通って上昇管ラインに流入する燃料の量が減少する。例えば、温度測定ユニットによって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を下回ると、それぞれの温度測定ユニットに関連する燃料入口を通って上昇管ラインに流入する燃料の量が増加する。

特に、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲から逸脱する場合、調整ユニットは、上昇管ライン内の不活性ガスの量を減少又は増加させるように設計される。例えば、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を超える場合、それぞれの温度測定ユニットに関連する不活性ガス入口を通って上昇管ラインに流れることが好ましい不活性ガスの量が減少する。例えば、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を下回ると、それぞれの温度測定ユニットに関連する不活性ガス入口を通って上昇管ラインに流入することが好ましい不活性ガスの量が増加する。それぞれの温度測定ユニットに関連する不活性ガス入口又は燃料入口は、好ましくは、それぞれの温度測定ユニットに最も近い不活性ガス入口及び燃料入口である。

例えば、温度測定ユニットによって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を超える場合、原料ミール入口の少なくとも１つを通って上昇管ラインに流入する原料ミールの量が増加する。上昇管ラインに流入する原料ミールの総量は一定のままであることが好ましく、その結果、原料ミールの量は１つの原料ミール入口で減少し、それに応じて少なくとも１つのさらなる原料ミール入口で増加する。例えば、温度測定ユニットによって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を下回ると、原料ミール入口の少なくとも１つを流れる原料ミールの量が減少する。

設備の上昇管ラインの内側には、例えば、ガス流を案内するための少なくとも１つの案内要素が配置される。したがって、ガスと原料ミールとのより完全な混合が達成されることが好ましい。この機能は、高い酸素含有量及び低い窒素含有量を使用するプロセス制御にとって、窒素留分がないために設備内のガスの量が減少し、酸化剤として空気を使用して運転される設備よりも材料の導入後に高い負荷が生じるという点で特に重要である。したがって、粒子の担持能力のために、材料がか焼炉の上昇管ラインの断面にわたって均一に分布していることが有利である。下流に位置する上昇管ラインのゾーンへの原料ミールの沈降が防止される。案内要素は、例えば、プレート、ボックス、コーン、及び／又はピラミッドとして設計される。複数の案内要素は、好ましくは、上昇管ラインの内側に配置され、例えば、相互に対して均一に離間している。案内要素は、例えば、セラミック又はセラミック繊維複合材料から形成される。案内要素は、特に、上昇管ラインの内側及び／又は燃料入口に配置される。１つの案内要素は、好ましくは、上昇管ライン内の燃料出口の出口に配置され、上昇管ラインへの燃料の導入は、案内要素によって案内される。案内要素は、好ましくは、燃料入口から上昇管ライン内に延びる。案内要素は、例えば、燃料を上昇管の内壁に対してある角度で案内するように設計及び配置される。例えば、案内要素は、燃料入口に対して拡大する断面を有するディフューザを形成する。

例えば、設備は、各々が燃料入口及び不活性ガス入口を備える複数の燃料分配装置を有し、案内要素が各燃料分配装置に関連付けられる。それぞれの燃料分配装置は、例えば、案内要素と同じ高さレベルに配置されるか、案内要素の上流又は下流に直接接続される。これにより、特に燃料分配装置の領域において、上昇管ラインの内側の原料ミール及び不活性ガスの最適化された分配が可能になる。

上記設備は、例えばセメント工場に配置される。このようなセメント製造プラントは、好ましくは、
原料ミールを予熱するための予熱器と、
予熱された原料ミールをか焼するためのか焼炉であって、か焼炉が上述の設備である、か焼炉と、
炉バーナ、例えば、セメントクリンカを形成するためにか焼されたホットミールを焼成するためのバーナランスを有する炉であって、３０％～１００％の酸素分率を有する燃焼ガスを炉内に導入するための燃焼ガス入口を有する炉と、
セメントクリンカを冷却する冷却器と、
を備え、
か焼炉及び炉は各々、か焼炉及び炉内に燃料を導入するための少なくとも１つの燃料入口を有する。

か焼炉及び／又は炉は各々、か焼炉及び炉にそれぞれ不活性ガスを導入するための少なくとも１つの不活性ガス入口を有する。か焼炉は、特に、熱処理のための上述の設備である。

セメント製造プラントの予熱器は、好ましくは、それぞれがガス流から固形物を分離するための少なくとも１つのサイクロンを有する複数のサイクロン段を備える。最後のサイクロン段と次に最後のサイクロン段との間に、１又は複数の燃焼点からなることができるか焼炉焼成システムによって原料ミールが加熱される上昇管ラインを有するか焼炉が配置される。

予熱器で予熱され、か焼炉でか焼された原料ミールは、続いて炉に供給される。炉は、好ましくは、その長手方向軸を中心に回転可能な回転管を有するロータリーキルンであり、好ましくは、焼成される材料の搬送方向にわずかに傾斜しており、その結果、材料は、回転管の回転及び重力によって搬送方向に移動する。炉は、好ましくは、予熱されたか焼された原料ミールを導入するための材料入口をその端部の一方に有し、焼成されたクリンカを冷却器に排出するための材料入口とは反対側の端部に材料出口を有する。炉ヘッドは、好ましくは、炉の材料出口側端部に配置され、これは、材料を焼成するための炉バーナと、好ましくは炉バーナ及び／又は燃料ランスを介して燃料を炉内に導入するための少なくとも１つの燃料入口とを有する。炉は、好ましくは、材料が少なくとも部分的に溶融され、特に１５００℃～１９００℃、好ましくは１４５０℃～１７５０℃の温度を有する焼結ゾーンを有する。焼結ゾーンは、例えば、炉頭、好ましくは材料の搬送方向における炉の後１／３を備える。

酸素含有燃焼ガスは、例えば、完全に又は部分的に炉ヘッドに直接導入され、炉ヘッドは、例えば燃焼ガス入口を有する。燃焼ガスは、炉の材料出口を介して炉内に完全に又は部分的に導入されることが好ましい。炉に供給される燃焼ガスは、例えば、３０％超～７５％、好ましくは９５％超の酸素分率を有する。燃焼ガスは、例えば、完全に純粋な酸素からなり、この場合、燃焼ガスの酸素分率は１００％である。炉バーナは、例えばバーナランスとすることができる。セメントクリンカを冷却する冷却器は、炉の材料出口に隣接することが好ましい。

冷却器は、冷却ガスチャンバを通ってバルク材料を搬送方向に搬送するためのコンベヤ部を有する。冷却ガスチャンバは、第１の冷却ガス流を有する第１の冷却ガスチャンバ部と、バルク材料の搬送方向にその上に隣接し、第２の冷却ガス流を有する第２の冷却ガスチャンバ部と、を備える。冷却ガスチャンバは、好ましくは、上部が冷却ガスチャンバカバーによって画定され、下部が動的及び／又は静止火格子によって画定され、好ましくはバルク材料がその上に載置されることによって画定される。冷却ガスチャンバは、特に、冷却ガスが流れるバルク材料の上方の冷却器のチャンバ全体である。冷却ガス流は、動的火格子及び／又は静止火格子を通って、特にコンベヤユニットを通って、バルク材料を通って、冷却ガスチャンバに流れる。第１の冷却ガスチャンバ部は、好ましくは、冷却器入口、特に炉の材料出口の直後に冷却されるべきバルク材料の流れ方向に配置される。クリンカは、炉から第１の冷却ガスチャンバ部に落下することが好ましい。

好ましくは、第１の冷却ガス流のみが第１の冷却ガスチャンバ部に流入し、これは、例えばファン又は加圧容器又は別の対応する装置によって加速される。第２の冷却ガスチャンバ部は、バルク材料の搬送方向において第１の冷却ガスチャンバ部に隣接し、好ましくは分離装置によって第１の冷却ガスチャンバ部からガス技術に関して分離される。好ましくは、少なくとも１つのファンによって加速される第２の冷却ガス流のみが、例えば第２の冷却ガスチャンバ部を流れる。

第１の冷却ガスチャンバ部を通って流れる第１の冷却ガス流は、例えば、純酸素か、あるいは３５体積％未満、特に２１体積％未満、好ましくは１５体積％以下の割合の窒素及び／又はアルゴン及び／又は２０．５％を超える、特に３０％～７５％を超える、好ましくは９５％を超える割合の酸素を有するガスである。第１の冷却ガスチャンバ部は、好ましくは炉の材料出口、好ましくは炉の炉頭に直接隣接し、その結果、冷却ガスは冷却器内で加熱され、続いてロータリーキルンに流入し、次いで燃焼ガスとして使用される。第２の冷却ガス流は、例えば空気である。

本発明はまた、浮遊性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための方法を含み、本方法は、
高温ガスを導くために燃料入口を介して上昇管ラインに燃料を導入するステップと、
原料ミールを上昇管ラインに導入するステップであって、原料ミールは、ガスの流れ方向において燃料入口の上流で上昇管ラインに導入される、ステップと、
を含む。

設備を参照して説明した利点及び実施形態は、原料の熱処理のための方法にも、方法に従って同様に適用される。

高温ガスは、好ましくは、高温ガス入口を介して、特に下から上昇管ラインに導入され、高温ガスは、特に２０体積％～１００体積％、特に３０体積％～９０体積％の酸素濃度を有する。燃焼ガスは、高温ガスとは別に上昇管ラインに導入されていてもよく、燃焼ガスは、２０体積％～１００体積％、特に３０体積％～９０体積％の酸素分率を有する。上昇管ライン内では、例えば、上昇管ラインの開始時に１０％～６０％のＣＯ２分圧が設定され、上昇管ラインの終了時に最大９５％のＣＯ２分圧が設定される。好ましくは、７００から１１００℃、好ましくは９００から１０００℃の温度が設備の内部に設定される。

一実施形態によれば、不活性ガスが上昇管ラインに導入される。不活性ガスは、好ましくは、原料ミール入口の下流の上昇管ラインに導入される。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインは、好ましくは相互に異なる直径を有する、ガスの流れ方向に連続して配置された少なくとも２つの処理領域を有し、原料ミールはガスの流れ方向に前側処理領域に導入される。

さらなる実施形態によれば、温度が、上昇管ライン内の少なくとも１つの温度測定ユニットによって確認され、上昇管ライン内の原料ミール、不活性ガス、及び／又は燃料の量が、確認された温度に応じて調整される。

さらなる実施形態によれば、燃料は、ガスの流れ方向に連続して配置された少なくとも２つの燃料入口を介して上昇管ラインに導入され、他の燃料入口よりも多くの燃料が流れ方向における前側燃料入口に導入される。流れ方向の前部燃料入口における燃料の量は、好ましくは、上昇管ラインに供給される燃料の総量の約２０から１２０％、特に５０から１００％である。

さらなる実施形態によれば、上昇管ラインに導入される原料ミールの総量の約２０％～６０％に相当する量の原料ミールが前側処理領域に導入される。

本発明は、添付の図面を参照して、いくつかの例示的な実施形態に基づいて以下により詳細に説明される。

図１は、例示的な一実施形態による、原料の熱処理のための設備の概略図である。 図２は、図１又は図３による熱処理設備を有するセメント製造プラントの概略図である。 図３は、別の例示的な実施形態による原料の熱処理のための設備の概略図である。 図４は、さらなる例示的な実施形態による、図３による熱処理のための設備の詳細の概略図である。

図１は、浮遊性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための設備１４を示す。そのような設備１４は、特に、例えば予熱された原料ミールをか焼するためのセメント製造プラントで使用されるか焼炉である。原料は、好ましくはセメント原料ミール、鉱物材料、例えば石灰石、鉱石又は粘土である。原料ミールは、好ましくは石灰石若しくは石灰石泥灰岩及び粘土の混合物であり、必要に応じて鉄鉱石、砂若しくはさらなる材料、又は石灰石、ドロマイトなどの炭酸塩含有材料、又はそれらを含む混合物が補充される。

設備１４は、高温ガスが好ましくは下から上に流れることができる上昇管ライン６２を備える。上昇管ライン６２は、例えば垂直方向に延び、特にその下部領域に、高温ガス、例えばセメント製造プラントのロータリーキルンなどの燃焼ユニットの排気ガスを導入するための入口を有する。上昇管ライン６２内の高温ガスの流れ方向は、上昇管ライン６２の下端及び上端の矢印によって示されている。

上昇管ライン６２は、複数の異なる直径を有する。例えば、上昇管ライン６２は、ガスの流れ方向に連続して配置された２つの処理領域３２、３３を有する。第１の前側処理領域３２は、第２の処理領域３３の前方に流れ方向に配置され、第１の処理領域３２の直径は、例えば、第２の処理領域３３の直径よりも小さい。例えば、上昇管ライン６２のうち第２の処理領域３３よりも大きい直径を有する部分は、第２の処理領域３３に隣接している。各処理領域は、例えば、本質的に一定の直径を有する。２つの処理領域３２、３３の間で、上昇管ライン６２は、断面狭窄部４０、特にその上に隣接する処理領域３２、３３よりも小さい直径を有する領域を有する。例えば、処理領域３２、３３はそれぞれ、本質的に一定の直径を有する部分と、その上に隣接して、例えば減少又は増加する、変化する直径を有する部分と、を有する。第１の処理領域３２の上流で、上昇管ライン６２は、上昇管ライン６２の第１の処理領域３２が好ましくは直接隣接するさらなる断面狭窄部４２を有する。断面狭窄部４２の直径は、例として、２つの処理領域３２、３３の間に配置された断面狭窄部４０の直径に対応する。各処理領域３２、３３は、特に、原料ミール、燃料、又は不活性ガスを導入するための少なくとも１つの入口を有する。

上昇管ライン６２の下端、例えば断面狭窄部４２では、例えばセメント製造プラントのロータリーキルンの炉吸気口が隣接し、炉排気ガスは炉吸気口を通って上昇管ラインに導かれる。また、上昇管ライン６２の下端を石灰を燃焼させる設備の排気ガス管に接続することも考えられる。

設備１４は、上昇管ライン６２の第１の処理領域３２に取り付けられた第１の原料ミール入口４４を有する。原料ミール入口４４は、好ましくは、少なくとも１又は複数の原料ミールラインを有し、原料ミールラインは上昇管ラインの半径方向に延び、例えば上昇管ラインの周りに１つの高さレベルで円周方向に配置される。原料ミールラインの各々は、好ましくは、上昇管ライン６２の壁を貫通して第１の処理領域３２内まで延びる。第１の原料ミール入口４４は、例えば、第１の処理領域３２の中央に垂直方向に配置される。設備１４は、例えば第１の原料ミール入口４４と同一に設計され、好ましくは中央に第２の処理領域３３に配置される第２の原料ミール入口４６を有する。

設備１４は、例えば、両方とも第２の処理領域３３に配置された２つの燃料入口４８、５０を有する。燃料入口４８、５０の各々は、例えば、少なくとも１又は複数の燃料ラインを有し、燃料ラインは上昇管ライン６２の半径方向に延び、例えば、上昇管ライン６２の周りに１つの高さレベルで円周方向に配置される。燃料ラインはそれぞれ、好ましくは、上昇管ライン６２の壁を貫通して第２の処理領域３３内に延びる。燃料入口４８、５０は、上昇管ライン６２の異なる高さレベルで第２の処理領域３３内のガスの流れ方向に連続して配置される。例えば、第１の燃料入口４８は下部領域、特に入口領域に配置され、第２の燃料入口５０は第２の処理領域３３の上部領域、特に出口領域に配置される。第１の燃料入口４８は、例えば第２の原料ミール入口４６の上流に配置され、第２の燃料入口５０は、例えば第２の原料ミール入口４６の下流に配置される。

設備１４は、例えば、各々が第２の処理領域３２内に開口する２つの不活性ガス入口５２、５４を有する。第１の不活性ガス入口５２は、例えば、第２の原料ミール入口４６の上流に配置され、第２の不活性ガス入口５４は、例えば、第２の原料ミール入口４６の下流に配置される。

設備１４はさらに、両方とも第２の処理領域３３の内側に取り付けられた２つの温度測定ユニット５６、５８を有する。例えば、温度測定ユニット５６、５８は、各々、１つの燃料入口４８、５０に関連付けられ、下流に、好ましくは燃料入口４８、５０に直接、又はそのすぐ周囲に配置される。第１の温度測定ユニット５６は、例えば、第１の燃料入口４８に関連付けられ、第２の温度測定ユニット５８は、第２の燃料入口５０に関連付けられる。

設備１４は、確認された温度を送信するために温度測定ユニット５８に接続された調整ユニット６０をさらに有する。調整ユニット６０は、好ましくは、第１及び第２の原料ミール入口４４、４６に接続され、それぞれの原料ミール入口４４、４６を通って上昇管ライン６２に流入する原料ミールの量を調整する。調整ユニット６０は、燃料入口４８、５０及び／又は不活性ガス入口５２、５４に接続されていてもよく、それぞれの燃料入口４８、５０及び／又は不活性ガス入口５２、５４を通って上昇管ライン６２に流れる燃料及び／又は不活性ガスの量を調整する。原料ミール入口４６、４８、燃料入口４８、５０、及び／又は不活性ガス入口５２、５２は、例えば、フラップ又はバルブなどの計量ユニットを有し、これを介して原料ミール、燃料、及び不活性ガスのそれぞれの量を調整することができる。計量ユニットは、好ましくは調整ユニットに接続される。

調整ユニット６０は、確認された温度を、好ましくは所定の温度制限値又は温度制限範囲と比較する。特に、調整ユニット６０は、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲から逸脱する場合には、上昇管ライン６２内の燃料の量を減少又は増加させるように設計される。例えば、温度測定ユニット５６、５８の一方によって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を超える場合には、それぞれの温度測定ユニット５６、５８に関連する燃料入口４８、５０を通って第２の処理領域３３に流入する燃料の量が減少する。例えば、温度測定ユニット５６、５８の一方によって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を下回る場合には、それぞれの温度測定ユニット５６、５８に関連する燃料入口４８、５０を通って第２の処理領域３３に流入する燃料の量が増加する。

特に、調整ユニット６０は、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲から逸脱する場合には、上昇管ライン６２内の不活性ガスの量を減少又は増加させるように設計される。例えば、温度測定ユニット５６、５８の一方によって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を超える場合には、それぞれの温度測定ユニット５６、５８に関連する不活性ガス入口５２、５４を通って第２の処理領域３３に流入する不活性ガスの量が減少する。例えば、温度測定ユニット５６、５８の一方によって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を下回る場合には、それぞれの温度測定ユニット５６、５８に関連する不活性ガス入口５２、５４を通って第２の処理領域３３に流入する不活性ガスの量が増加する。それぞれの温度測定ユニット５６、５８に関連する不活性ガス入口５２、５４又は燃料入口４８、５０は、好ましくは、それぞれの温度測定ユニット５６、５８に最も近い不活性ガス入口５２、６４及び燃料入口４８、５０である。

特に、調整ユニット６０は、確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲から逸脱する場合に、上昇管ライン６２内の原料ミールの量を減少又は増加させるように設計される。例えば、温度測定ユニット５６、５８の一方によって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を超える場合には、原料ミール入口４４、４６の少なくとも一方を流れる原料ミールの量が増加される。好ましくは、上昇管ライン６２を流れる原料ミールの総量は一定のままであり、その結果、原料ミールの量は、一方の原料ミール入口４４で減少し、それに応じて少なくとも１つのさらなる原料ミール入口４６で増加する。例えば、温度測定ユニット５６、５８のうちの一方によって確認された温度が温度制限値又は温度制限範囲を下回る場合には、原料ミール入口４４、４６のうちの少なくとも一方を通って流れる原料ミールの量が減少する。例えば、制限値又は制限範囲に達しない場合には、第２の原料ミール入口４６を通って第２の処理領域３３に流入する原料ミールの量は減少し、それに応じて第１の原料ミール入口４４を通る原料ミールの量は増加する。

図２は、原料を予熱するための一本鎖予熱器１２と、原料ミールをか焼するためのか焼炉１４と、炉１６、特に原料ミールを焼成してクリンカを形成するためのロータリーキルンと、炉１６内で焼成されたクリンカを冷却するための冷却器１８と、を有するセメント製造プラント１０を示す。か焼炉１４は、例えば、図１を参照して説明した熱処理のための設備である。

予熱器１２は、原料ミールガス流から原料ミールを分離するための複数のサイクロン２０を備える。例えば、予熱器１２は、５つのサイクロン２０を有し、これらは相互に下にある４つのサイクロン段に配置されている。予熱器１２は、２つのサイクロン２０を備える予熱器１２の最上部のサイクロン段に原料ミールを導入するための材料入口（図示せず）を有する。原料ミールは、サイクロン段のサイクロン２０を通って連続して炉及び／又はか焼炉の排気ガスに対向流で流れ、したがって加熱される。

か焼炉１４は、最後のサイクロン段と最後から２番目のサイクロン段との間に配置される。か焼炉１４は、原料ミールを加熱するための少なくとも１つのか焼炉焼成システムを有する上昇管ライン、特に上昇管を有し、その結果、か焼炉１４内で原料ミールのか焼が行われる。さらに、か焼炉１４は、燃料を導入するための燃料入口と、上昇管ラインに不活性ガスを導入するための不活性ガス入口と、を有する。か焼炉１４は、例えば酸素化燃焼ガスをか焼炉１４の上昇管ラインに導入するための燃焼ガス入口をさらに有する。燃焼ガスは、特に酸素が富化された炉排気ガスである。燃焼ガスの酸素分率は、例えば、炉１６とか焼炉１４との間で最大８５％である。か焼炉排気ガスは、予熱器１２、好ましくは最後から２番目のサイクロン段階に導入され、最上部のサイクロン段階の後に予熱器１２を出て予熱器排気ガス２２となる。

か焼炉１４は、例えば２つの燃料分配装置を有する。また、か焼炉１４は、正確には１つの燃料分配装置又は３つ以上の燃料分配装置のみを有することも考えられる。２つの燃料分配装置は、か焼炉１４の上昇管ライン６２上に相互に離間して取り付けられていてもよい。特に、燃料分配装置は、上昇管ライン６２に異なる高さレベルで取り付けられる。各燃料分配装置は、燃料及び不活性ガスがそれぞれの燃料分配装置に導かれるように、それぞれ１つの燃料入口４８、５０及び１つの不活性ガス入口５２、５４に関連付けられる。燃料分配装置は、例えば、相互に対して１８０°ずれて配置される。例えば、燃料分配装置は、コンベヤスクリュー又はシュートなどの燃料を輸送するための手段を有する。１又は複数の燃料の導入は、例えば不活性ガスを用いた搬送によって、空気圧で行うこともできる。か焼炉１４内の原料ミール入口は、例えば、最後から２番目のサイクロン段の固体出口によって形成される。

原料ミールの流れ方向において、予熱器１２の下流には炉１６が接続されており、予熱器１２で予熱され、か焼炉１４でか焼された原料ミールが炉１６に流入する。炉１６の材料入口／ガス出口は、炉排気ガスがか焼炉１４に流入し、続いて予熱器１２に流入するように、か焼炉１４の上昇管ラインに直接接続されている。炉１６は、例えば、その長手方向軸を中心に回転可能な回転管を有するロータリーキルンであり、わずかな傾斜角度で配置されている。炉１２は、回転管の内側の材料出口側端部に炉バーナ２８と、付随する燃料入口３０と、を有する。炉１６の材料出口は、材料入口２５とは反対側の回転管の端部に配置され、それにより、回転管の回転により炉バーナ２８及び材料出口の方向に原料ミールが回転管内を搬送される。原料ミールは炉１６内で焼成されてセメントクリンカを形成する。焼結ゾーンは、回転管の材料出口側の後方領域、好ましくは材料の流れ方向の後方３分の１を備える。

例えば、燃料及び不活性ガスが炉バーナ２８に案内されるように、燃料入口３０及び不活性ガス入口が炉バーナ２８に関連付けられる。燃料入口３０及び不活性ガス入口は、例えば、相互に別個に、又はか焼炉１４若しくは炉１６への共通の入口として形成される。不活性ガスは、例えば、ＣＯ２又は水蒸気である。不活性ガスは、搬送手段としても、燃焼プロセスの点火又は制御に影響を与えるためにも使用することができる。

クリンカを冷却するための冷却器１８は、炉１６の材料出口に隣接する。冷却器１８は冷却ガスチャンバ３４を有し、その中でクリンカは冷却ガス流によって冷却される。クリンカは、冷却ガスチャンバ３４を通って搬送方向Ｆに搬送される。冷却ガスチャンバ３４は、例えば、第１の冷却ガスチャンバ部３６と、第１の冷却ガスチャンバ部３６と搬送方向Ｆに隣接する第２の冷却ガスチャンバ部３８と、を有し、炉１６は、炉１６の材料出口を介して冷却器１８に接続されており、ロータリーキルン２０で焼成されたクリンカが冷却器１８に落下する。

第１の冷却ガスチャンバ部３６は、クリンカが炉１６から第１の冷却ガスチャンバ部３６に落下するように、炉１６の材料出口の下方に配置される。第１の冷却ガスチャンバ部３６は冷却器１８の吸気領域を表し、好ましくは炉１６から出るクリンカを受け入れる静止火格子を有する。静止火格子は、特に、冷却器１０の第１の冷却ガスチャンバ部３６に完全に配置される。クリンカは、好ましくは、炉１６から静止火格子上に直接落下する。静止火格子は、クリンカが静止火格子４０に沿って搬送方向に摺動するように、水平に対して１０°～３５°、好ましくは１４°～３３°、特に２１°～２５°の角度で完全に延びていることが好ましい。

冷却器１８の第２の冷却ガスチャンバ部３８は、第１の冷却ガスチャンバ部３６に隣接している。冷却器１８の第１の冷却ガスチャンバ部３６において、クリンカは、特に１０００℃未満の温度に冷却され、冷却は、クリンカ中に存在する液相の固相への完全な凝固が起こるように行われる。冷却器１８の第１の冷却ガスチャンバ部３６を出る際、クリンカは、好ましくは、完全に固相で最大１１５０℃の温度で提供される。冷却器１８の第２の冷却ガスチャンバ部３８では、クリンカはさらに、好ましくは１００℃未満の温度まで冷却される。第２の冷却ガス流は、好ましくは、異なる温度を有する複数の部分ガス流に分割することができる。

第１の冷却ガスチャンバ部３６の静止火格子は、例えば冷却器１８及びクリンカに冷却ガスが入る通路を有する。冷却ガスは、例えば、静止火格子の下に配置された少なくとも１つのファン、送風機、又は加圧容器によって生成され、その結果、第１の冷却ガス流は、下から静止火格子を通って第１の冷却ガスチャンバ部３６に流れる。第１の冷却ガス流は、例えば、純酸素、又は窒素の割合が１５体積％以下、酸素の割合が３０体積％以上のガスである。第１の冷却ガス流は、クリンカを通って流れ、続いて炉１６に流入する。第１の冷却ガス流は、例えば、炉１６の燃焼ガスを部分的又は完全に形成する。燃焼ガス中の酸素の割合が高いことにより、ＣＯ２及び水蒸気から本質的になる予熱器排気ガスがもたらされ、排気ガス浄化のための複雑な下流浄化方法を省略することができるという利点を有する。さらに、プロセスガス量の低減が達成され、その結果、設備の寸法を大幅に小さくすることができる。

冷却器１８の内部では、冷却されるクリンカが搬送方向Ｆに移動される。第２の冷却ガスチャンバ部３８は、好ましくは、搬送方向Ｆに静止火格子に隣接する動的な、特に可動な火格子を有する。例えば、複数のファンが動的火格子の下に配置され、それによって第２の冷却ガス流が動的な速度で下から吹き出される。第２の冷却ガス流は、例えば空気である。

図１では、例えば、破砕ユニット４８が、第２の冷却ガスチャンバ部３８の動的火格子に隣接している。破砕ユニット４８では、さらなる動的火格子が破砕ユニット４８の下方に隣接する。コールドクリンカは、冷却器１８を出る際の温度が１００℃以下であることが好ましい。

冷却器排気は、例えば、第２の冷却ガスチャンバ部３８から排出され、固形物を分離するための分離器、例えばサイクロン内に導かれる。固体は、例えば冷却器１８に戻される。空気－空気熱交換器がセパレータの下流に接続され、それにより、より低温の排気が、例えば原料ミルに供給される熱交換器内の空気を予熱する。

図３は、熱処理のための設備１４、特に図１の設備１４に少なくとも部分的に対応するか焼炉のさらなる例示的な実施形態を示し、同一の符号は同一の要素を表す。例えば、２つの燃料分配装置６４、６６が上昇管ライン６２に取り付けられ、その各々を介して燃料及び不活性ガスが一緒に分配される。

設備１４の上昇管ライン６２は、複数の異なる断面積を有する。設備１４の燃料分配装置６４、６６は、例えば、角度オフセットなしで、上昇管ライン６２の同じ側に、異なる高さレベルで取り付けられる。上昇管ライン６２内のガスの流れ方向において、原料ミール入口４４、４６は、各燃料分配装置の上流及び／又は下流にそれぞれ直接接続されることが好ましい。燃料入口４８、５０及び不活性ガス入口５２、５４はそれぞれ、か焼炉１４の燃料分配装置６４、６６に、特にそれぞれの燃料分配装置と同じ高さに配置される。

断面狭窄部は、上昇管ライン内でのバランスのとれた混合を確実にし、したがって燃焼の均質化並びにか焼炉の上昇管ラインの長手方向及び横方向の温度分布をもたらす。

図４は、図１から図３による設備１４、特にか焼炉１４の詳細を示し、同一の符号は同一の要素を表す。設備１４は、案内要素７３を有し、案内要素は、左側の図では、例えば、上昇管ライン６２の内側に取り付けられ、右側の図では、例えば、特別な形態の火炎管で燃料分配装置に取り付けられる。

左側の図では、案内要素７３は、上昇管ライン６２の断面の狭窄を引き起こすように配置されている。案内要素７３は、特に板状、チャンバ状、又は箱状に作られ、上昇管ライン６２の内壁に、例えば、燃料分配装置６６と同じ高さで反対側に取り付けられる。

右側の図では、案内要素７３は、例えばディフューザの形態を有し、案内要素７３の断面は燃料の流れ方向に増加する。案内要素７３は、燃料分配装置、特に燃料分配装置のオリフィスにおいて上昇管ライン６２内に取り付けられ、特に上昇管ライン６２内への燃料の目標とする導入を可能にする。案内要素７３は、上昇管ラインと同一平面上で終端し、上昇管ライン内に突出せず、上昇管ライン６２への燃料の均一な導入が可能になることも考えられる。

案内要素７３は、例えば、高温耐性セラミック又は繊維複合材料から形成される。

１０ セメント製造プラント
１２ 予熱器
１４ 熱処理のための設備／か焼炉
１６ 炉
１８ 冷却器
２０ サイクロン
２２ 予熱器排気ガス
２８ 炉のバーナ又はバーナランス
３０ 炉の燃料入口
３２ 第１の処理領域
３３ 第２の処理領域
３４ 冷却ガスチャンバ
３６ 第１の冷却ガスチャンバ部
３８ 第２の冷却ガスチャンバ部
４０ 断面狭窄部
４２ 断面狭窄部
４４ 第１の原料ミール入口
４６ 第２の原料ミール入口
４８ 第１の燃料入口
５０ 第２の燃料入口
５２ 第１の不活性ガス入口
５４ 第２の不活性ガス入口
５６ 温度測定ユニット
５８ 温度測定ユニット
６０ 調整ユニット
６２ 上昇管ライン
６４ 燃料分配装置
６６ 燃料分配装置
７３ 案内要素

Claims (16)

1. 浮遊性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための設備（１４）であって、
   高温ガスが流れることができる上昇管ライン（６２）を有し、
   該上昇管ラインは、該上昇管ライン（６２）に燃料を導入するための少なくとも１つの燃料入口（４８，５０）を有し、
   前記上昇管ライン（６２）は、該上昇管ライン（６２）内に原料ミールを導入するための少なくとも１つの原料ミール入口（４４，４６）を有し、該少なくとも１つの原料ミール入口は、前記上昇管ライン（６２）の内側の前記高温ガスの流れ方向において前記燃料入口（２４）の上流に配置される、ことを特徴とする設備（１４）。
2. 前記上昇管ライン（６２）が、該上昇管ライン（６２）内に不活性ガスを導入するための少なくとも１つの不活性ガス入口（５２，５４）を有する、請求項１に記載の設備（１４）。
3. 前記上昇管ラインは、前記高温ガスの前記流れ方向に連続して配置された、相互に異なる直径を有する少なくとも２つの処理領域（３２，３３）を有し、
   前記高温ガスの前記流れ方向における前側処理領域（３２）が、該前側処理領域（３２）に原料ミールを導入するための原料ミール入口（４４）を有する、請求項１又は請求項２に記載の設備（１４）。
4. 前記上昇管ライン（６２）は、前記処理領域（３２，３３）の間に、前記処理領域（３２，３３）よりも小さい直径を有する少なくとも１つの断面狭窄部（４０，４２）を有する、請求項３に記載の設備（１４）。
5. 前記燃料入口（４８，５０）は、前記前側処理領域（３２）の下流に配置される、請求項３又は請求項４に記載の設備（１４）。
6. 前記上昇管ライン（６２）は、前記前側処理領域（３２）の上流にさらなる断面狭窄部（４０）を有する、請求項５に記載の設備（１４）。
7. 前記上昇管ライン（６２）は、前記上昇管ライン（６２）内に原料ミールを導入するための少なくとも２つの原料ミール入口（４４，４６）を有し、
   前記原料ミール入口（４４，４６）は、それぞれ、前記上昇管ライン（６２）の異なる処理領域（３２，３３）に配置される、請求項１から請求項６のいずれかに記載の設備（１４）。
8. 前記燃料入口（４８，５０）のうちの少なくとも１つは、前記上昇管ラインの半径方向に延びる少なくとも１つ又は複数の燃料ラインを有し、
   該少なくとも１つ又は複数の燃料ラインは、前記上昇管ラインの壁を貫通して該上昇管ライン（６２）内まで延び、
   前記原料ミール入口（４４，４６）のうちの少なくとも１つは、前記上昇管ラインの前記半径方向に延びる少なくとも１つ又は複数の原料ミールラインを有し、
   該少なくとも１つ又は複数の原料ミールラインは、前記上昇管ラインの壁を貫通して該上昇管ライン内まで延びる、請求項１から請求項７のいずれかに記載の設備（１４）。
9. 前記燃料ラインは、前記原料ミールラインに対して、０°～±５０°の角度で、特に±０°～±３０°の角度で、前記上昇管ライン内まで延びる、請求項８に記載の設備（１４）。
10. 前記上昇管ライン（６２）の内側の温度を確認するための少なくとも１つの温度測定ユニット（５６，５８）が、前記上昇管ライン（６２）内に配置され、
    前記設備（１４）は、前記確認された温度を伝達するために前記温度測定ユニット（５６，５８）に接続された調整ユニット（６０）を有し、
    前記調整ユニット（６０）は、前記確認された温度に応じて前記上昇管ライン内への原料ミール、不活性ガス及び／又は燃料の量を調整するように設計される、請求項１から請求項９のいずれかに記載の設備（１４）。
11. 浮遊性原料、特にセメント原料ミール及び／又は鉱物産品を熱処理するための方法であって、
    高温ガスを案内するための上昇管ライン（６２）に燃料入口（４８，５０）を介して燃料を導入するステップと、
    前記上昇管ライン（６２）に原料ミールを導入するステップと、
    を含み、
    前記原料ミールが、前記高温ガスの流れ方向において前記燃料入口（４８，５０）の上流で前記上昇管ライン（６２）に導入される、ことを特徴とする方法。
12. 不活性ガスが前記上昇管ライン（６２）内に導入される、請求項１１に記載の方法。
13. 前記上昇管ライン（６２）は、前記高温ガスの前記流れ方向に連続して配置された、相互に異なる直径を有する少なくとも２つの処理領域（３２，３３）を有し、
    前記原料ミールは、前記高温ガスの前記流れ方向において前記前側処理領域（３２）に導入される、請求項１１又は請求項１２に記載の方法。
14. 温度が、前記上昇管ライン（６２）の内側の少なくとも１つの温度測定ユニット（５６，５８）によって確認され、前記上昇管ライン内の原料ミール、不活性ガス及び／又は燃料の量が、前記確認された温度に応じて調整される、請求項１１から請求項１３のいずれかに記載の方法。
15. 燃料が、前記高温ガスの前記流れ方向に連続して配置された少なくとも２つの燃料入口（４８，５０）を介して前記上昇管ライン（６２）に導入され、
    他の燃料入口（４８，５０）においてよりも、前記流れ方向における前記前側燃料入口（４８，５０）において、より多くの燃料が導入される、請求項１１から請求項１４のいずれかに記載の方法。
16. 前記上昇管ライン（６２）に導入される前記原料ミールの総量の約２０％～６０％に相当する量の前記原料ミールが、前記前側処理領域（３２）に導入される、請求項１１から請求項１５のいずれかに記載の方法。

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