JP2023501423A - 付加製造用の改良された粉末 - Google Patents
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Abstract
Description
少なくとも1つのポリマーを含み、
ポリマーは粉末の形態であり、かつ
上記ポリマーは少なくとも1つの熱可塑性ポリマーを含み、
熱可塑性ポリマーが、少なくとも1つのポリアリールエーテルケトン、ならびにそれらのコポリマーおよび/またはブロックコポリマーおよび/またはポリマーブレンドから選択され、上記組成物は、少なくとも5cm3/10分、より好ましくは少なくとも10cm3/10分、および/または55cm3/10分以下、好ましくは40cm3/10分以下、より好ましくは30cm3/10分以下、特に好ましくは26cm3/10分以下、最も好ましくは24cm3/10分以下のメルトボリュームレート(MVR)を有する。
(i)少なくとも1つのポリマーを提供する工程であって、熱可塑性ポリマーが、少なくとも1つのポリアリールエーテルケトンおよび/またはそれらのコポリマーおよび/またはブロックコポリマーおよび/またはポリマーブレンドから選択される、工程と、
(ii)随意に、ポリマーを粉砕する工程と、
(iii)随意に、少なくとも30℃の温度かつポリマーの融点Tm未満で、ミキサーにおいて、好ましくは熱的-機械的処理によって、ポリマー粒子を丸める工程と、を含む。
(i)好ましくは粉末の、本発明による組成物の層および/または本発明の製造プロセスによって製造された組成物を製造パネルに塗布する工程と、
(ii)好ましくは照射ユニットを使用することによって、製造されるオブジェクトの断面を表す部位で組成物の塗布された層を選択的に凝固する工程と、
(iii)キャリアを下げ、製作エレメント、好ましくは3Dオブジェクトが完成するまで、適用する工程および凝固する工程を繰り返す工程と、を含む。
を含む。
- d10=少なくとも10μm、好ましくは少なくとも20μmおよび/または50μm以下、好ましくは40μm以下
- d50=少なくとも25μmおよび/または100μm以下、好ましくは少なくとも30μmおよび/または80μm以下、特に少なくとも40μmおよび/または60μm以下
- d90=少なくとも50μmおよび/または150μm以下、好ましくは120μm以下
- d10=少なくとも15μm、好ましくは少なくとも20μm、特に少なくとも25μmおよび/または50μm以下、好ましくは40μm以下、特に30μm以下
- d50=少なくとも40μmおよび/または100μm以下、好ましくは少なくとも45μmおよび/または80μm以下、特に少なくとも50μmおよび/または65μm以下
- d90=少なくとも70μmおよび/または150μm以下、好ましくは少なくとも80μmおよび/または130μm以下、より好ましくは120μm以下、特に好ましくは110μm以下
ここで、層の適用は、第1の高さH1を有する第1の層を適用する工程と第2の高さH2を有する第2の層を適用する工程とに細分され、
高さH2の第2の層は高さH1の第1の層上に適用され、好ましくは、第1の層の高さH1は第2の層の高さH2に等しい。
60:40のテレフタル酸単位とイソフタル酸単位との比率を有するPEKKを、以下の通りに製造した:
オルトジクロロベンゼン(1600g)および1,4-(フェノキシベンゾイル)ベンゼン(EKKE)(65g)を、乾燥窒素流下で撹拌しながら2Lの反応器に入れた。以下の酸塩化物:テレフタロイルクロライド(5.4g)、イソフタロイルクロライド(22.2g)およびベンゾイルクロライド(0.38g)を加えた。反応器を-5℃に冷却し、反応器内の温度を5℃未満に保ちながらAlCl3(115g)を加えた。ホモジナイゼーション期間(約10分)後、反応器の温度を毎分5℃ずつ90℃まで上昇させた(この温度上昇中に重合を開始した)。反応器を、30分間90℃で維持し、その後、30℃に冷却した。反応器内の温度が90℃を超えないように、400gの酸性水(3%のHCl)をゆっくり加えた。反応器を、2時間撹拌し、その後、30℃に冷却した。
実施例1からのPEKK重合フレークを、適切に粉砕し、微粉末への空気分級を行った。粉末のデータを表Aに示す。
ポリエーテルケトンケトン(PEKK)を、実施例1および2に応じて製造した。
実施例3の粉末を、3時間、窒素雰囲気下で、換気炉(Naberthermタイプ N250/A)において(表3aに従う)異なる温度でアニーリングした。アニーリング後、粉末をPerflux 501タイプの振動ふるい(シープテーヒニーク社(Siebtechnik GmbH)、ミュールハイム、ドイツ)で160μmのふるいにかけた。得た粉末値を表3aに示す。
実施例5では、実施例4と同様に、異なる溶融粘度の3つのPEKKタイプを生成した。例外として、重合時間を(実施例1と比較して)調整し、異なる溶融粘度(MVR)を有する粉末を得た。さらに、実施例5のミキサーの処理温度Tmaxは110~120℃の間であった。t1+t2を常に25分間維持するように、t2を各粉末に適合させた。3つの粉末すべてに関しての実施例5のアニーリング温度は265℃であった。粉末の分析データを表4aに示す。
実施例6では、実施例4と同様に、異なる粒子径分布を有する2つのPEKKタイプを生成した。例外として、重合時間を(実施例1と比較して)調整し、熱処理後に24cm3/10分のMVRを有する粉末を得た。さらに、実施例6のミキサーの処理温度Tmaxは110~120℃の間であった。t1+t2を常に25分間維持するように、t2を各粉末に適合させた。実施例6のアニーリング温度は、両方の粉末に対して265℃であった。一次粉末の分析データを表5aに示す。
実施例7では、実施例5で同様に記載されたように、PEKKを生成した。例外として、重合時間を(実施例1と比較して)調整し、熱処理後に22cm3/10分のMVRを有する粉末を得た。さらに、実施例7からのミキサーの処理温度Tmaxは116℃であった。t1+t2を25分間維持するように、t2を粉末に適合させた。実施例5のアニーリング温度は265℃であった。
実施例8では、重合時間を(実施例1と比較して)調整し、熱処理前に23cm3/10分のMVRを有する粉末を得たことを除いて、実施例4で同様に記載されたようにPEKKを生成した。さらに、実施例8のミキサーの処理温度Tmaxは110~120℃の間であった。t1+t2を常に25分間維持するように、t2を適合させた。また、アニーリング温度を調整した。粉末を、3時間、窒素雰囲気下で、換気炉(Naberthermタイプ N250/A)において(表8aに従う)異なる温度でアニーリングした。アニーリング後、粉末をPerflux 501タイプの振動ふるい(シープテーヒニーク社、ミュールハイム、ドイツ)で160μmのふるいにかけた。得た粉末値を表8aに示す。
実施例9では、PEKK(サンプル番号1)を実施例2と同様に生成したが、重合時間を調整して、実施例6と同様の粘度を得た。その後、ミキサーの処理温度Tmaxが110~120℃の間であったことを除いて、実施例3に記載されているようにPEKKを混合した。t1+t2を25分間維持するようにt2を適合させた(サンプル番号2)。その後、実施例4と同様にアニーリングを行った(サンプル番号3)。サンプル3のアニーリング温度は265℃であった。実施例9、サンプル番号3に従って、異なるPEKKも生成した(サンプル番号4)。サンプル4のアニーリング温度も265℃であった。粉末のデータを以下の表9に示す。これらの粉末についてハウスナー比を分析した。
実施例10では、PEKKを実施例2と同様に生成したが、重合時間を調整して、熱処理前に29cm3/10分のMVRを有する粉末を得た(サンプル番号1)。その後、ミキサーの処理温度Tmaxが110~120℃の間であったことを除いて、実施例3に記載されているようにPEKKを混合した。t1+t2を25分間維持するようにt2を適合させた(サンプル番号2)。その後、アニーリング時間を調整した(サンプル番号3)ことを除いて、サンプル番号2を実施例4と同様にアニーリングした。サンプル3のアニーリング温度は265℃であった。BET分析をこれらのサンプルを用いて実施した。得たデータを表10に示す。
熱的-機械的処理による丸め
ポリマー粒子の熱的-機械的処理は、好ましくはミキサー内で、少なくとも30℃の温度でかつポリマーの融点Tm未満で実行することができる。使用することができるミキサーは、たとえば、FMLタイプ、マシンサイズ40のヘンシェルミキサー(ツェッペリンシステムズ社(Zeppelin Systems GmbH)、ドイツ)である。
ハウスナー比Hは、バルク材料の圧縮率についての情報を提供する。圧縮されていないバルク材料のかさ密度pb0(EN ISO-60に準拠)とタップ密度pt(DIN EN ISO 787-11に準拠)を判定に使用する。
タップ密度を、DIN EN ISO 787-11に準拠して判定する。
材料は特定の特性を必要とし、これは、通常DSC(示差走査熱量測定)と呼ばれる動的示差熱量測定によって、外挿開始温度Teimに基づいて判定することができる。Tei、mの判定のための対応するDSC測定は、好ましくは、標準ISO 11357に準拠して実行される。装置は、たとえば、Mettler Toledo DSC 823である。また、溶融温度Tmおよび結晶化温度Tcはこの方法で判定される。TeimおよびTmは、第1の加熱曲線から判定される。
測定は、関連するソフトウェアCamsizerXT64(バージョン6.6.11.1069)を用いてCamsizer XT装置およびX-Jetモジュール(レッチ テクノロジー社)上で実行される。粒子径および粒子形状の判定のための光学的方法は、標準ISO 13322-2に準拠している。速度調整を決定した後、約2gのサンプルを、80kPaの圧縮空気で分散させ、2つの異なる倍率カメラ(「ベーシック」および「ズーム」)を備えた較正済み光学ユニット上で4mm幅の通路を通過させる。評価のために、少なくとも10000枚の個別の画像を記録する。検討下の粒子の良好な光学的分離を確実にするために、画像化された粒子の面密度が3%未満(「ベーシック」カメラ)または5%未満(「ズーム」カメラ)である場合にのみ画像を使用する。粒子径および粒子形状を、定義された測定パラメータによって判定する。判定されたサイズは、粒子投影x_area=√(4A/Π)の同一の広がりを持つ円の等価直径である。この評価方法の経線または平均は、レーザー回折に匹敵している(d10、d50、およびd90、つまり、体積粒子径分布の10%分位、50%分位、および90%分位として報告される)。測定は、統計的測定の形成のために数回繰り返される。
CAMSIZER XT:0301
重複領域:
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計算のためのカメラ間の固定比率:なし
光源のオフへの切り替え:あり
カメラ(測定パラメータ)
CCDベーシック:あり
閾値
粒径に関して
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閾値
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[mm]より大きい:2
モールドパラメータに関して
[mm]より小さい:0.0023
[mm]より大きい:2
画像レート:100%(1:1)
画像レート<0.95の場合の警告:あり
表示の間隔:80
透明粒子の充填:あり
より低い構築温度(また非カール温度=NCT)は、クロステストによって判定され、たとえば、十字の試験成分のマトリックス(P800のより小さい構築プラットフォーム上の4×2、図1)が判定される。この目的のために、レーザー焼結機は、通常の構築温度よりも約10℃(推定)低い温度、または代替的に、予想される非カール温度よりも約5℃低い温度に温められる。自動的な粉末適用の後、z=3mmの高さから十字の層が露出される。これらは強力なプロセスクリティカルなカールを示し、例えば露出された試験十字のエッジが大幅に上向きになり、十字が設置スペースからはがれ、温度が2℃上昇される。1.2mmの粉末層(P800、0.12mmの層厚さの10層、または0.10mmの層厚さでの12層または0.06mmの層厚さでの20層)を適用した後、試験が繰り返される。わずかなカールしか観察できない場合は、クロステストでプロセスクリティカルなカールが観察されなくなるまで、温度を1℃ずつさらに上昇させる。すなわち、十字は、コーティングプロセス中にコーターによって粉末床から引きはがされることなく、全高(1.2mmの高さ)で構築することができる。プロセスクリティカルなカールが観察されない温度は、非カール温度と呼ばれ、可能な限り低い構築温度を定義する。図1は、取り付けスペースを削減した(左)EOS P800上の十字試験成分の位置および高温計測定スポット(「P」、右上)を示している。
最高構築温度は、粉末状物質がまさに固着せず、それにより、粉末粒子の凝集体を形成せず、そしてコーティングプロセス用の粉末状物質は依然として十分に流動性であり、かつコーティング欠陥(たとえば、凝集体によるバンディング)のない、粉末状物質の構築温度である。最高処理温度は、特に使用する粉末状物質のタイプに依存する。
1)ポリアリールエーテルケトン
ショア-00=85
プロセスチャンバ温度TPKで表される処理温度は、好ましくは、粉末のより低い構築温度より少なくとも1℃、より好ましくは少なくとも2℃、さらにより好ましくは少なくとも4℃高くなる、および/またはより高い構築温度の最大で、より高い構築温度より好ましくは最大で1℃、さらにより好ましくは最大で2℃、さらにより好ましくは最大で4℃低くなるように選択される。好ましくは、処理温度は、粉末のより低い構築温度より高く、より高い構築温度より低い。十分なプロセスセキュリティ(非カール、NCTから可能な限り最大の距離)が保証されなければならない。さらに、温度は、粉末状物質の付着を引き起こすことなく、できるだけ高くしなければならない。
熱可塑性材料がポリアリールエーテルケトン(PAEK)クラス、特にPEKKのポリマーを含むか、またはそれである場合、実験をPSW 3.8を備えた改良型P800(スタートアップキット PAEK 3302 CFを備えたEOSP800)上で実行した。ウォームアップフェーズ後、レーザー焼結機のプロセスチャンバが室温から指定された構築温度または温度検索の開始温度まで120分以内に温められる間に、50層(120μmの層厚さ)または60層(100μmの層厚さ)または120層(60μmの層厚さ)を、底層(=6mm)として露出することなく敷設する。底層を敷設した後、6つの引張試料(寸法は表1を参照)を、x方向に平行に並べた平行な長さで、構築現場の中央に互いに隣接して位置づけ、4つの直方体試験コンポーネント(寸法:20mm×4mm×13.56mm)を引張試料の左右に位置づける。z方向のコンポーネント間に、露出なしで層を敷設する。z=9,960mmで、25個の引張試料(構築現場の中央に互いに隣接して位置づけ、z方向に平行な長さに並べている)を構築する。最後に露出した層に続いて、別の3mmの粉末を自動的に適用し、加熱器が完全にオフに切り替わる前に、デフォルトのジョブで定義されている制御された冷却フェーズによって、マシンを約8時間以内に180℃に冷却する。室温に達した後、コンポーネントを、手動で取り外し、ガラスビーズでブラスト処理し、測定/テストした。図3および図4は、X方向、z方向、粉末ボックスでの引張試料の位置、ならびにEOS P800の密度キューブを示している。
部品の構築中のプロセスチャンバ温度を、実施例のセクションで詳述する;
取り外し可能なフレーム/構築プラットフォームの温度:255℃(PEKKに関して);
デフォルトのジョブ設定:PAEK3302CF;
露出パラメータ:実施例のセクションで説明されているボリュームエネルギー入力。
部品の構築中のプロセスチャンバ温度を、実施例のセクションで詳述する;
取り外し可能なフレームの温度は265℃であり、構築プラットフォームの温度は255℃である;
デフォルトのジョブ設定:EOS_PAEK3304_120_000;
露出パラメータ:実施例のセクションで説明されているボリュームエネルギー入力。
Claims (25)
- 組成物であって、
少なくとも1つのポリマーを含み、
前記ポリマーが粉末の形態であり、かつ
前記ポリマーが少なくとも1つの熱可塑性ポリマーを含み、
熱可塑性ポリマーが、少なくとも1つのポリアリールエーテルケトン、ならびにそれらのコポリマーおよび/またはブロックコポリマーおよび/またはポリマーブレンドから選択され、
前記組成物が、少なくとも5cm3/10分、より好ましくは少なくとも10cm3/10分、および/または55cm3/10分以下、好ましくは40cm3/10分以下、より好ましくは30cm3/10分以下、特に好ましくは26cm3/10分以下、最も好ましくは24cm3/10分以下のメルトボリュームレート(MVR)を有する、組成物。 - 前記少なくとも1つのポリアリールエーテルケトンが、ポリエーテルケトンケトン(PEKK)の群から、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)の群から、PEKKのコポリマーの群から、およびPEEKのコポリマーの群から選択される、請求項1記載の組成物。
- 前記ポリマーが、少なくとも1つの半結晶性ポリマー、好ましくは1つの半結晶性コポリマーおよび/または半結晶性ポリマーブレンド、
および/または
少なくとも1つのアモルファスポリマー、好ましくは1つのアモルファスコポリマーおよび/またはアモルファスポリマーブレンドを含む、請求項1または2記載の組成物。 - 前記ポリアリールエーテルケトンが、少なくとも約250℃、好ましくは少なくとも約260℃、特に好ましくは少なくとも約270℃、および/または最大約320℃まで、好ましくは最大約310℃まで、特に最大約300℃までの溶融温度Tmを有し、および/または前記ポリアリールエーテルケトンが、少なくとも約120℃、好ましくは少なくとも約140℃、特に好ましくは少なくとも約150℃、および/または約200℃以下、好ましくは約180℃以下、特に好ましくは約170℃以下のガラス転移温度Tgを有する、請求項1~4のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリエーテルケトンケトン(PEKK)が、少なくとも250℃、好ましくは少なくとも260℃、特に好ましくは少なくとも265℃、および/または最大285℃、好ましくは最大280℃、特に最大275℃までの溶融の外挿開始温度Teimを有する、請求項2~5のいずれか1項に記載の組成物。
- 少なくとも約1℃、好ましくは少なくとも約3℃、より好ましくは少なくとも約5℃、および最も好ましくは少なくとも約9℃、および/または約200℃以下、好ましくは約100℃以下、より好ましくは約50℃以下のプロセスウィンドウを有する、請求項2~6のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマーブレンドがポリアリールエーテルケトン-ポリエーテルイミドを含む、請求項1~7のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物のポリマー粒子が、以下の粒子径分布:
- d10=少なくとも10μm、好ましくは少なくとも20μmおよび/または50μm以下、好ましくは40μm以下
- d50=少なくとも25μmおよび/または100μm以下、好ましくは少なくとも30μmおよび/または80μm以下、特に少なくとも40μmおよび/または60μm以下
- d90=少なくとも50μmおよび/または150μm以下、好ましくは120μm以下を有する、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。 - 前記組成物のポリマー粒子が、以下の粒子径分布:
- d10=少なくとも15μm、好ましくは少なくとも20μm、特に少なくとも25μmおよび/または50μm以下、好ましくは40μm以下、特に30μm以下
- d50=少なくとも40μmおよび/または100μm以下、好ましくは少なくとも45μmおよび/または80μm以下、特に少なくとも50μmおよび/または65μm以下
- d90=少なくとも70μmおよび/または150μm以下、好ましくは少なくとも80μmおよび/または120μm以下、最も好ましくは110μm以下を有し、
前記ポリマー粒子が、重合フレークの粉砕によって得られる、請求項1~9のいずれか1項に記載の組成物。 - 前記組成物が、3以下、好ましくは2以下、特に1.5以下、特に好ましくは1以下の分布幅(d90-d10)/d50を有する、請求項1~10のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマー粒子が、少なくとも約0.8、好ましくは少なくとも約0.85、特に好ましくは少なくとも約0.90、および最も好ましくは少なくとも約0.95の真球度を有する、請求項1~11のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物が一次組成物を含み、好ましくは前記一次組成物の含有量が、組成物全体の10重量%超および/または60重量%未満、より好ましくは50重量%未満、さらにより好ましくは40重量%未満、特に好ましくは30重量%未満である、請求項1~12のいずれか1項に記載の組成物。
- 少なくとも約1秒、好ましくは少なくとも約2秒、最も好ましくは少なくとも約3秒、および/または約12秒以下、好ましくは約9秒以下、最も好ましくは約8秒以下の注入性を有する、請求項1~13のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物が、少なくとも1.01および/または1.7以下、好ましくは約1.5以下、より好ましくは約1.4以下、特に好ましくは約1.3以下、さらにより好ましくは約1.2以下、最も好ましくは約1.18以下のハウスナーファクターを有する、請求項1~14のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物が少なくとも1つの流動剤を含む、請求項1~15のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物中の前記少なくとも1つの流動剤の含有量が、約1重量%以下、好ましくは約0.5重量%以下、特に好ましくは約0.2重量%以下、特に約0.15重量%以下、最も好ましくは約0.1重量%以下である、請求項16記載の組成物。
- 前記組成物が、少なくとも約0.1m2/gおよび/または約10m2/g以下、好ましくは5m2/g以下、より好ましくは2m2/g以下、特に好ましくは1.5m2/g以下、最も好ましくは1m2/g以下のBET表面を有する、請求項1~17のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1~18のいずれか1項に記載の組成物を製造するためのプロセスであって、前記プロセスが、
(i)少なくとも1つの熱可塑性ポリマーを提供する工程であって、前記熱可塑性ポリマーが、少なくとも1つのポリアリールエーテルケトンおよび/またはそれらのコポリマーおよび/またはブロックコポリマーおよび/またはポリマーブレンドから選択される、工程と、
(ii)随意に、ポリマーを粉砕する工程と、
(iii)随意に、少なくとも30℃の温度かつポリマーの融点Tm未満で、ミキサーにおいて、好ましくは熱的-機械的処理によって、ポリマー粒子を丸める工程と、を含む、プロセス。 - 前記プロセスが、Tgより高いかつTmより低い温度で、好ましくはオーブン内で、前記組成物をアニーリングする続く工程をさらに含む、請求項19記載のプロセス。
- 製作エレメント、好ましくは3Dオブジェクトを製造するためのプロセスであって、前記プロセスが、
(i)好ましくは粉末の、請求項1~18のいずれか1項に記載の組成物の層および/または請求項19または20に記載のプロセスによって製造された組成物を製造パネルに塗布する工程と、
(ii)好ましくは照射ユニットを使用することによって、製造されるオブジェクトの断面を表す部位で前記組成物の塗布された層を選択的に凝固する工程と、
(iii)キャリアを下げ、前記製作エレメント、好ましくは前記3Dオブジェクトが完成するまで、前記適用する工程および前記凝固する工程を繰り返す工程と、を含む、プロセス。 - 層を適用する工程i)が、少なくとも二重コーティングによって行われ、層の適用が、第1の高さH1を有する第1の層を適用する工程と第2の高さH2を有する第2の層を適用する工程とに細分され、前記高さH2の第2の層が前記高さH1の第1の層上に適用され、好ましくは、前記第1の層の高さH1が前記第2の層の高さH2に等しい、請求項21記載のプロセス。
- 前記組成物が、請求項19または20に記載のプロセスによって得られる、請求項1~18のいずれか1項に記載の組成物。
- 製作エレメント、好ましくは3Dオブジェクトであって、請求項1~18のいずれか1項に記載の組成物を含み、前記製作エレメントが、好ましくは、請求項21または22に記載のプロセスによって得られる、製作エレメント、好ましくは3Dオブジェクト。
- 請求項1~18のいずれか1項に記載の組成物の使用であって、前記組成物が、好ましくはレーザー焼結、高速焼結、バインダージェッティング、選択的マスク焼結、選択的レーザー溶融を含む、特にレーザー焼結の使用のための、粉末床ベースのプロセスの群から、付加製造のために、好ましくは請求項19または20に記載のプロセスによって製造される、使用。
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