JP2023098961A - 発光装置及びこれを備える表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】発光ダイオードを含む発光装置及びこれを備える表示装置を提供する。【解決手段】画素PXLは、第1発光ダイオードLD1を含む第1発光領域EMA1と、第2発光ダイオードLD2を含む第2発光領域EMA2と、第1発光領域及び第2発光領域に対向するように配置された少なくとも1対の第1隔壁PW1及び第2隔壁PW2と、第1隔壁をカバーするようにその上に配置され、第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第1端部EP1に電気的に接続される少なくとも1つの第1電極ELT1と、第2隔壁をカバーするようにその上に配置され、第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第2端部EP2に電気的に接続される少なくとも1つの第2電極ELT2を含む。少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、第1発光領域において第2発光領域とは異なる構造を有する。【選択図】図6

Description

本発明の実施例は発光装置及びこれを備える表示装置に関する。
最近では、信頼性の高い無機結晶構造の材料を利用して超小型発光ダイオードを製造し、上記発光ダイオードを利用して発光装置を製造する技術が開発されている。例えば、ナノスケールからマイクロスケール程度に小さいサイズを有する超小型発光ダイオードを製造し、上記超小型発光ダイオードを利用して発光装置の光源を構成する技術が開発されている。このような発光装置は表示装置や照明装置などの各種電子機器に備えられることができる。
本発明が解決しようとする技術的課題は、発光ダイオードを含む発光装置及びこれを備える表示装置を提供することである。
本発明の一実施例による発光装置は、第1発光ダイオードを含む第1発光領域と、第2発光ダイオードを含む第2発光領域と、上記第1発光領域及び上記第2発光領域に対向するように配置された少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁と、上記第1隔壁をカバーするように上記第1隔壁上に配置され、上記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第1端部に電気的に接続される少なくとも1つの第1電極と、上記第2隔壁をカバーするように上記第2隔壁上に配置され、上記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第2端部に電気的に接続される少なくとも1つの第2電極と、を含む。上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域において上記第2発光領域とは異なる構造を有する。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域で第1間隔分だけ互いに離隔して配置され、上記第2発光領域で上記第1間隔より広い第2間隔分だけ互いに離隔して配置されてもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域及び上記第2発光領域のそれぞれにおいて第1方向に沿って互いに離隔するように配置され、上記第1隔壁及び上記第2隔壁のそれぞれは、上記第1方向と交差する第2方向に沿って延びていてもよい。
実施例に応じて、上記第1発光領域及び上記第2発光領域は上記第1方向に沿って順に配置されてもよい。
実施例に応じて、上記第1発光領域及び上記第2発光領域は上記第2方向に沿って順に配置されてもよい。
実施例に応じて、上記第1隔壁及び上記第2隔壁のそれぞれは、上記第1発光領域と上記第2発光領域において一体に接続され、上記第1隔壁及び上記第2隔壁のうち少なくとも1つの隔壁は、上記第1発光領域と上記第2発光領域の境界で屈曲部を有してもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1つの隔壁は、上記第1発光領域と上記第2発光領域
の境界で曲線状に折り曲げられた構造を有してもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域及び上記第2発光領域のそれぞれにおいて互いに対称的な構造を有してもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域及び上記第2発光領域のうち少なくとも1つの発光領域において互いに非対称的な構造を有してもよい。
実施例に応じて、上記第1隔壁及び上記第2隔壁のうち少なくとも1つの隔壁は、上記第1発光領域で第1高さであり、上記第2発光領域で上記第1高さより低い第2高さであってもよい。
実施例に応じて、上記第1隔壁及び上記第2隔壁のそれぞれは、上記第1発光領域において所定の方向に沿って連続的に延びたパターンであり、上記第2発光領域において不連続的に切れたパターンであってもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域において上記第1発光ダイオードの第1端部及び第2端部と対向するように配置され、上記第2発光領域において上記第2発光ダイオードの第1端部及び第2端部を露出することができる。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域に配置された第11隔壁と、上記第11隔壁と対を成すように上記第1発光領域に配置された第21隔壁と、上記第2発光領域に配置された第12隔壁と、上記第12隔壁と対を成すように上記第2発光領域に配置された第22隔壁と、を含んでもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1つの第1電極は、上記第11隔壁上に配置された第11電極と、上記第12隔壁上に配置され、上記第11電極に接続される第12電極と、を含んでもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1つの第1電極は、上記第11隔壁上に配置された第11電極と、上記第12隔壁上に配置され、上記第11電極と分離される第12電極と、を含んでもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域に配置された第11隔壁と、上記第2発光領域に配置された第12隔壁と、上記第1発光領域及び上記第2発光領域の交差領域に配置され、上記第11隔壁及び上記第12隔壁のそれぞれと対を成す第2共通隔壁と、を含んでもよい。
実施例に応じて、上記第1電極及び上記第2電極のそれぞれは少なくとも1層の反射電極層を含んでもよい。上記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第1端部は何れか1つの第1電極と対向するように配置され、上記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第2端部は何れか1つの第2電極と対向するように配置されてもよい。
本発明の一実施例による表示装置は、表示領域と、上記表示領域に配置された画素と、を含む。上記画素は、第1発光ダイオードを含む第1発光領域と、第2発光ダイオードを含む第2発光領域と、上記第1発光領域及び上記第2発光領域に対向するように配置された少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁と、上記第1隔壁をカバーするように上記第1
隔壁上に配置され、上記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第1端部に電気的に接続される少なくとも1つの第1電極と、上記第2隔壁をカバーするように上記第2隔壁上に配置され、上記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第2端部に電気的に接続される少なくとも1つの第2電極と、を含む。上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域において上記第2発光領域とは異なる構造を有する。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域において上記第2発光領域とは異なる間隔または高さで配置されてもよい。
実施例に応じて、上記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、上記第1発光領域において所定の方向に沿って連続的に延びたパターンであり、上記第1発光ダイオードの第1端部及び第2端部と対向するように配置され、上記第2発光領域において不連続的に切れたパターンであり、上記第2発光ダイオードの第1端部及び第2端部を露出することができる。
本発明の様々な実施例による発光装置及びこれを備える表示装置によると、それぞれの発光装置または画素の発光領域を複数の発光領域に区分し、それぞれの発光領域ごとに隔壁の構造を差等的に構成する。これにより、それぞれの発光装置または画素に備えられた発光ダイオードから放出される光をより広い視野角範囲に分散して放出することができる。
本発明の一実施例による発光ダイオードを示した斜視図及び断面図である。 本発明の一実施例による発光ダイオードを示した斜視図及び断面図である。 本発明の一実施例による発光ダイオードを示した斜視図及び断面図である。 本発明の一実施例による発光ダイオードを示した斜視図及び断面図である。 本発明の一実施例による発光ダイオードを示した斜視図及び断面図である。 本発明の一実施例による発光ダイオードを示した斜視図及び断面図である。 本発明の一実施例による表示装置を示す平面図である。 本発明の一実施例に発光装置を示した回路図で、一例として、上記発光装置を含むアクティブ型画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例に発光装置を示した回路図で、一例として、上記発光装置を含むアクティブ型画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例に発光装置を示した回路図で、一例として、上記発光装置を含むアクティブ型画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例に発光装置を示した回路図で、一例として、上記発光装置を含むアクティブ型画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例に発光装置を示した回路図で、一例として、上記発光装置を含むアクティブ型画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素に対する異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した断面図で、一例として、図7のI~I’線に対応する断面の実施例を示した。 図8aのEA1領域を拡大して示した断面図である。 発光ダイオードと第1及び第2隔壁の間の距離に応じた視野角の変化を示した断面図である。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の異なる実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した断面図で、一例として、図20のII~II’線に対応する隔壁の構造を示した。 第1及び第2隔壁のそれぞれの高さに応じた視野角の変化を示した断面図である。 本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素の実施例を示した。 本発明の一実施例による発光装置を示した断面図で、一例として、図23のIII~III’線に対応する隔壁の構造を示した。 第1及び第2隔壁の有無による視野角の変化を示した断面図である。 本発明の一実施例による発光装置と比較例の発光装置から放出される光のプロファイルを示した。
本発明は様々な変更を加えることができ、様々な形態を有することができるため、特定の実施例を図面に例示して本文に詳細に説明する。但し、本発明は、以下に開示される実施例に限定されず、様々な形態に変更されて実施されてもよい。
一方、図面において、本発明の特徴と直接的に関係しない一部の構成要素は本発明を明確に示すために省略されていてもよい。また、図面上の一部の構成要素はその大きさや比率などが多少誇張されて図示されていてもよい。図面の全体において同一または類似する構成要素に対しては、たとえ他の図面上に表示されても可能な限り同じ参照番号及び符号を付し、重複する説明は省略する。
本出願において、第1、第2などの用語は様々な構成要素を区別して説明するために用いられるだけであり、上記構成要素は上記用語によって限定されない。また、「含む」または「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品、またはこれらの組み合わせが存在することを示すものであり、1つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらの組み合わせの存在または付加可能性を事前に排除するものではないと理解すべきである。また、ある要素または部分が他の要素または部分「上に」あるというときは、上記他の要素または部分の「真上に」ある場合のみならず、その中間にさらに他の要素または部分がある場合も含む。また、以下の説明で規定する特定の位置または方向などは相対的な観点から記述したものであり、例えば、これを見る観点や方向によっては反対に変更されることもあることに注意すべきである。
以下、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施例及びその他に当業者が本発明の内容を理解しやすくするために必要な事項について詳細に説明する。以下の説明において、単数の表現は文脈上明らかに単数のみを含まない限り、複数の表現も含む。
図1a及び図1b、図2a及び図2b、並びに図3a及び図3bはそれぞれ本発明の一実施例による発光ダイオードLDを示した斜視図及び断面図である。実施例に応じて、図1a~図3bにはそれぞれの発光ダイオードLDを円柱状の棒状発光ダイオードで示したが、本発明による発光ダイオードLDの種類及び/または形状はこれに限定されはない。
まず、図1a及び図1bを参照すると、本発明の一実施例による発光ダイオードLD(または「発光素子」ともいう)は、第1導電型半導体層11及び第2導電型半導体層13と、上記第1及び第2導電型半導体層11、13の間に介在された活性層12と、を含む。例えば、発光ダイオードLDは、長さL方向に沿って第1導電型半導体層11、活性層12及び第2導電型半導体層13が順に積層された積層体からなってもよい。
実施例に応じて、発光ダイオードLDは一方向に沿って延びた棒状で提供されてもよい。発光ダイオードLDが延びる方向を長さL方向とすると、発光ダイオードLDは上記長さL方向に沿って一側端部と他側端部を有することができる。
実施例に応じて、発光ダイオードLDの一側端部には第1及び第2導電型半導体層11、13のうち1つが配置され、上記発光ダイオードLDの他側端部には上記第1及び第2導電型半導体層11、13のうち残り1つが配置されてもよい。
実施例に応じて、発光ダイオードLDは棒状に製造された棒状発光ダイオードであってもよい。本明細書において、「棒状」とは、円柱または多角柱などのように長さL方向に長い(即ち、縦横比が1より大きい)ロッド状(rod-like shape)、またはバー状(bar-like shape)を包括し、その断面の形状は特に限定されない。例えば、発光ダイオードLDの長さLはその直径D(または、横断面の幅)より大きくてもよい。
実施例に応じて、発光ダイオードLDはナノスケールからマイクロスケール程度に小さいサイズ、例えば、それぞれナノスケールまたはマイクロスケール範囲の直径D及び/または長さLを有することができる。但し、本発明における発光ダイオードLDのサイズはこれに限定されない。例えば、発光ダイオードLDを利用した発光装置を光源として利用する各種装置、一例として表示装置などの設計条件に応じて発光ダイオードLDのサイズは多様に変更されてもよい。
第1導電型半導体層11は、例えば、少なくとも1つのn型半導体層を含んでもよい。例えば、第1導電型半導体層11は、InAlGaN、GaN、AlGaN、InGaN、AlN、InNのうち何れか1つの半導体材料を含み、Si、Ge、Snなどの第1導電性ドーパントがドープされたn型半導体層を含んでもよい。但し、第1導電型半導体層11を構成する物質はこれに限定されず、その他にも様々な物質で第1導電型半導体層11を構成することができる。
活性層12は第1導電型半導体層11上に配置され、単一または多重量子井戸構造で形成されてもよい。一実施例において、活性層12の上部及び/または下部には導電性ドーパントがドープされたクラッド層(不図示)が形成されてもよい。例えば、上記クラッド層はAlGaN層またはInAlGaN層で形成されてもよい。実施例に応じて、AlGaN、AlInGaNなどの物質が活性層12を形成するのに用いられてもよく、その他にも様々な物質が活性層12を構成することができる。
発光ダイオードLDの両端に所定電圧以上の電界を印加すると、活性層12で電子-正孔対が結合して上記発光ダイオードLDが発光するようになる。このような原理を利用して発光ダイオードLDの発光を制御することにより、上記発光ダイオードLDを表示装置の画素を始めとする様々な発光装置の光源として利用することができる。
第2導電型半導体層13は活性層12上に配置され、第1導電型半導体層11と異なるタイプの半導体層を含んでもよい。例えば、第2導電型半導体層13は少なくとも1つのp型半導体層を含んでもよい。例えば、第2導電型半導体層13はInAlGaN、GaN、AlGaN、InGaN、AlN、InNのうち少なくとも1つの半導体材料を含み、Mgなどの第2導電性ドーパントがドープされたp型半導体層を含んでもよい。但し、第2導電型半導体層13を構成する物質はこれに限定されず、その他にも様々な物質が第2導電型半導体層13を構成することができる。
また、実施例に応じて、発光ダイオードLDは表面に提供された絶縁性被膜INFをさらに含んでもよい。絶縁性被膜INFは少なくとも活性層12の外周面を取り囲むように発光ダイオードLDの表面に形成されてもよく、その他にも第1及び第2導電型半導体層11、13の一領域をさらに取り囲んでもよい。但し、絶縁性被膜INFは、互いに異なる極性を有する発光ダイオードLDの両端部は露出することができる。例えば、絶縁性被膜INFは長さL方向上において発光ダイオードLDの両端に位置する第1及び第2導電型半導体層11、13のそれぞれの一端、例えば、円柱の両底面(上部面及び下部面)はカバーせずに露出することができる。
実施例に応じて、絶縁性被膜INFはSiO、Si、Al及びTiOのうち少なくとも1つの絶縁物質を含んでもよいが、これに限定されない。即ち、絶縁性被膜INFの構成物質は特に限定されず、上記絶縁性被膜INFは現在公知の様々な絶縁物質からなってもよい。
一実施例において、発光ダイオードLDは、第1導電型半導体層11、活性層12、第2導電型半導体層13及び/または絶縁性被膜INFの他にも構成要素をさらに含んでもよい。例えば、発光ダイオードLDは、第1導電型半導体層11、活性層12及び/または第2導電型半導体層13の一端側に配置された1つ以上の蛍光体層、活性層、半導体層及び/または電極層をさらに含んでもよい。
例えば、発光ダイオードLDは、図2a及び図2bに示したように第2導電型半導体層13の一端側に配置される少なくとも1つの電極層14をさらに含んでもよい。また、実施例に応じて、発光ダイオードLDは、図3a及び図3bに示したように第1導電型半導
体層11の一端側に配置される少なくとも1つの他の電極層15をさらに含んでもよい。
上記電極層14、15のそれぞれはオーミック(Ohmic)コンタクト電極であってもよいが、これに限定されない。また、上記電極層14、15のそれぞれは金属または金属酸化物を含んでもよく、例えば、Cr、Ti、Al、Au、Ni、ITO、IZO、ITZO及びこれらの酸化物または合金などを単独または混合して使用することができる。また、実施例に応じて、上記電極層14、15は実質的に透明または半透明であってもよい。これにより、発光ダイオードLDで生成される光が電極層14、15を透過して発光ダイオードLDの外部に放出されることができる。
実施例に応じて、絶縁性被膜INFは上記電極層14、15の外周面を少なくとも部分的に取り囲むか、または取り囲まなくてもよい。即ち、絶縁性被膜INFは上記電極層14、15の表面に選択的に形成されてもよい。また、絶縁性被膜INFは互いに異なる極性を有する発光ダイオードLDの両端を露出するように形成され、例えば、電極層14、15の少なくとも一領域を露出することができる。また、さらに他の実施例では、絶縁性被膜INFが提供されなくてもよい。
発光ダイオードLDの表面、特に活性層12の表面に絶縁性被膜INFが提供されると、上記活性層12が図示されていない少なくとも1つの電極(例えば、上記発光ダイオードLDの両端に接続されるコンタクト電極のうち少なくとも1つのコンタクト電極)などと短絡することを防止することができる。これにより、発光ダイオードLDの電気的安定性を確保することができる。
また、発光ダイオードLDの表面に絶縁性被膜INFを形成することにより上記発光ダイオードLDの表面欠陥を最小化して寿命及び効率を向上させることができる。また、それぞれの発光ダイオードLDに絶縁性被膜INFが形成されると、複数の発光ダイオードLDが互いに密接して配置されている場合でも、上記発光ダイオードLDの間で所望しない短絡が発生することを防止することができる。
また、本発明の一実施例において、発光ダイオードLDは表面処理過程を経て製造されてもよい。例えば、複数の発光ダイオードLDを流動性の溶液に混合してそれぞれの発光領域(例えば、各画素の発光領域)に供給するとき、上記発光ダイオードLDが溶液内で不均一に凝集せずに均一に分散されるようにそれぞれの発光ダイオードLDを表面処理(例えば、コーティング)することができる。
上述した発光ダイオードLDを含む発光装置は、表示装置を始めとして光源を必要とする様々な種類の装置に用いられてもよい。例えば、表示パネルの各画素領域に少なくとも1つの超小型発光ダイオードLD、例えば、それぞれナノスケールからマイクロスケールのサイズを有する複数の超小型発光ダイオードLDを配置し、これにより各画素の光源(または、光源ユニット)を構成することができる。但し、本発明で発光ダイオードLDの適用分野は表示装置に限定されない。例えば、発光ダイオードLDは照明装置などの光源を必要とする他の種類の装置にも用いることができる。
図4は本発明の一実施例による表示装置を示した平面図である。実施例に応じて、図4には、図1a~図3bで説明した発光ダイオードLDを光源として利用することができる装置の一例として、表示装置、特に上記表示装置に備えられる表示パネルPNLを示した。例えば、上記表示パネルPNLの画素PXLはそれぞれの発光装置を含み、上記発光装置は少なくとも1つの発光ダイオードLDを含んでもよい。
便宜上、図4には、表示領域DAを中心として表示パネルPNLの構造を簡単に示した
。但し、実施例に応じては図示されていない少なくとも1つの駆動回路部(例えば、走査駆動部及びデータ駆動部のうち少なくとも1つ)及び/または複数の配線が表示パネルPNLにさらに配置されてもよい。
図4を参照すると、本発明の一実施例による表示パネルPNLは、基板SUBと、上記基板SUB上に配置された複数の画素PXLと、を含んでもよい。具体的には、表示パネルPNL及びこれを形成するための基板SUBは、映像を表示するための表示領域DAと、上記表示領域DAを除いた非表示領域NDAと、を含んでもよい。また、基板SUB上の表示領域DAには画素PXLが配置されてもよい。
実施例に応じて、表示領域DAは表示パネルPNLの中央領域に配置され、非表示領域NDAは表示領域DAを取り囲むように表示パネルPNLの端領域に配置されてもよい。但し、表示領域DA及び非表示領域NDAの位置はこれに限定されず、これらの位置は変更されてもよい。
基板SUBは表示パネルPNLのベース部材を構成することができる。実施例に応じて、基板SUBは剛性基板または可撓性基板であってもよく、その材料や物性は特に限定されない。例えば、基板SUBはガラスまたは強化ガラスからなる剛性基板、またはプラスチックまたは金属材質の薄膜フィルムからなる可撓性基板であってもよい。また、基板SUBは透明基板であってもよいが、これに限定されない。例えば、基板SUBは半透明基板、不透明基板、または反射性基板であってもよい。
基板SUB上の一領域は表示領域DAに規定されて画素PXLが配置され、残りの領域は非表示領域NDAに規定されてもよい。例えば、基板SUBは、それぞれの画素PXLが形成される複数の画素領域を含む表示領域DAと、上記表示領域DAの外郭に配置される非表示領域NDAと、を含んでもよい。非表示領域NDAには、表示領域DAの画素PXLに接続される各種配線及び/または内蔵回路部が配置されてもよい。
実施例に応じて、画素PXLは表示領域DAに分散されて配置されてもよい。例えば、画素PXLはストライプ状に表示領域DAに配列されてもよい。但し、本発明はこれに限定されない。例えば、画素PXLは現在公知の様々な形態で表示領域DAに配列されてもよい。
それぞれの画素PXLは、所定の制御信号(例えば、走査信号及びデータ信号)及び/または電源(例えば、第1及び第2電源)によって駆動される少なくとも1つの光源、例えば、図1a~図3bの実施例のうち何れか1つの実施例による発光ダイオードLDを含んでもよい。例えば、それぞれの画素PXLは、ナノスケールからマイクロスケール程度に小さいサイズを有する少なくとも1つの発光ダイオードLDを含んでもよい。一例として、それぞれの画素PXLは、画素電極及び/または電源線の間に互いに並列に接続された複数の棒状発光ダイオードを含んでもよい。上記複数の棒状発光ダイオードは各画素PXLの発光装置(例えば、各画素PXLの光源または光源ユニット)を構成することができる。実施例に応じて、それぞれの発光ダイオードLDは赤色、緑色、青色の発光ダイオードであってもよいが、これに限定されない。
一実施例において、それぞれの画素PXLはアクティブ型画素からなってもよい。但し、本発明の表示装置に適用できる画素PXLの種類、構造、及び/または駆動方式は特に限定されない。例えば、それぞれの画素PXLは現在公知の様々な受動型またはアクティブ型発光表示装置の画素からなってもよい。
図5a~図5eはそれぞれ本発明の一実施例による発光装置を示した回路図で、一例と
して、上記発光装置を含むアクティブ型画素PXLに対する異なる実施例を示した。実施例に応じて、図5a~図5eに示された各画素PXLは、図4の表示パネルPNLに備えられた画素PXLのうち何れか1つであってもよく、上記画素PXLは実質的に同一または類似する構造であってもよい。
まず、図5aを参照すると、本発明の一実施例による画素PXLは、データ信号に対応する輝度の光を生成するための光源ユニットLSUと、上記光源ユニットLSUを駆動するための画素回路PXCと、を含んでもよい。上記光源ユニットLSUは本発明の一実施例による発光装置を構成することができる。
実施例に応じて、光源ユニットLSUは第1電源VDDと第2電源VSSの間で並列に接続された複数の発光ダイオードLDを含んでもよい。ここで、第1及び第2電源VDD、VSSは発光ダイオードLDが発光できるように異なる電位を有することができる。例えば、第1電源VDDは高電位電源に設定され、第2電源VSSは低電位電源に設定されてもよい。このとき、第1及び第2電源VDD、VSSの電位差は、少なくとも画素PXLの発光期間の間発光ダイオードLDのしきい値電圧以上に設定されることができる。
一方、図5aには、各画素PXLの光源ユニットLSUを構成する発光ダイオードLDが第1電源VDDと第2電源VSSの間で同じ方向(例えば、順方向)に並列接続された実施例を示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、他の実施例では、上記発光ダイオードLDのうち一部は第1及び第2電源VDD、VSSの間で第1方向(例えば、順方向)に接続され、他の一部は第2方向(例えば、逆方向)に接続されてもよい。また、さらに他の実施例では、少なくとも1つの画素PXLが単一の発光ダイオードLDのみを含んでもよい。
実施例に応じて、それぞれの光源ユニットLSUを構成する発光ダイオードLDの一端部は上記光源ユニットLSUの第1電極を介して画素回路PXCに共通して接続され、上記画素回路PXC及び第1電源線PL1を介して第1電源VDDに接続されてもよい。また、発光ダイオードLDの他の端部は上記光源ユニットLSUの第2電極及び第2電源線PL2を介して第2電源VSSに共通して接続されてもよい。
それぞれの光源ユニットLSUは、該当画素回路PXCを介して供給される駆動電流に対応する輝度で発光することができる。これにより、表示領域DAで所定の映像が表示されることができる。
画素回路PXCは該当画素PXLの走査線Si及びデータ線Djに接続されることができる。例えば、画素PXLが表示領域DAのi(iは自然数)番目の行及びj(jは自然数)番目の列に配置されたとすると、上記画素PXLの画素回路PXCは表示領域DAのi番目の走査線Si及びj番目のデータ線Djに接続されることができる。このような画素回路PXCは第1及び第2トランジスタT1、T2とストレージキャパシタCstを含んでもよい。
第1トランジスタ(駆動トランジスタ)T1は第1電源VDDと光源ユニットLSUの第1電極の間に接続される。そして、第1トランジスタT1のゲート電極は第1ノードN1に接続される。このような第1トランジスタT1は、第1ノードN1の電圧に対応して光源ユニットLSUに供給される駆動電流を制御する。
第2トランジスタ(スイッチングトランジスタ)T2はデータ線Djと第1ノードN1の間に接続される。そして、第2トランジスタT2のゲート電極は走査線Siに接続される。
このような第2トランジスタT2は、走査線Siからゲートオン電圧(例えば、ロー電圧)の走査信号が供給されるときターンオンされて、データ線Djと第1ノードN1を電気的に接続する。それぞれのフレーム期間ごとにデータ線Djには該当フレームのデータ信号が供給され、上記データ信号は第2トランジスタT2を経由して第1ノードN1に伝達される。これにより、ストレージキャパシタCstにはデータ信号に対応する電圧が充電される。
ストレージキャパシタCstの一電極は第1電源VDDに接続され、他の電極は第1ノードN1に接続される。このようなストレージキャパシタCstは、それぞれのフレーム期間の間第1ノードN1に供給されるデータ信号に対応する電圧を充電し、次のフレームのデータ信号が供給されるまで充電された電圧を保持する。
一方、図5aには、画素回路PXCに含まれるトランジスタ、例えば、第1及び第2トランジスタT1、T2の全てをP型トランジスタで図示したが、本発明はこれに限定されない。即ち、第1及び第2トランジスタT1、T2のうち少なくとも1つはN型トランジスタに変更されてもよい。
例えば、図5bに示したように、第1及び第2トランジスタT1、T2は全てN型トランジスタであってもよい。図5bに示された画素PXLは、トランジスタのタイプ変更に応じて一部の回路素子の接続位置が変更されたことを除き、その構成及び動作は図5aの画素PXLと実質的に類似する。従って、図5bの画素PXLに対する詳細な説明は省略する。
一方、画素回路PXCの構造は図5a及び図5bに示された実施例に限定されない。即ち、画素回路PXCは現在公知の多様な構造及び/または駆動方式の画素回路で構成されてもよい。例えば、画素回路PXCは図5cに示された実施例のように構成されることができる。
図5cを参照すると、画素回路PXCは該当水平ラインの走査線Siの他に、少なくとも1つの他の走査線(または、制御線)にさらに接続されてもよい。例えば、表示領域DAのi番目の行に配置された画素PXLの画素回路PXCはi-1番目の走査線Si-1及び/またはi+1番目の走査線Si+1にさらに接続されてもよい。また、実施例に応じて、画素回路PXCは第1及び第2電源VDD、VSSの他に、他の電源にさらに接続されてもよい。例えば、画素回路PXCは初期化電源Vintにも接続されることができる。実施例に応じて、このような画素回路PXCは第1~第7トランジスタT1~T7とストレージキャパシタCstを含んでもよい。
第1トランジスタT1は第1電源VDDと光源ユニットLSUの第1電極の間に接続される。そして、第1トランジスタT1のゲート電極は第1ノードN1に接続される。このような第1トランジスタT1は、第1ノードN1の電圧に対応して光源ユニットLSUに供給される駆動電流を制御する。
第2トランジスタT2はデータ線Djと第1トランジスタT1の一電極の間に接続される。そして、第2トランジスタT2のゲート電極は該当走査線Siに接続される。このような第2トランジスタT2は、上記走査線Siからゲートオン電圧の走査信号が供給されるときターンオンされて、データ線Djを第1トランジスタT1の一電極に電気的に接続する。従って、第2トランジスタT2がターンオンされると、データ線Djから供給されるデータ信号が第1トランジスタT1に伝達される。
第3トランジスタT3は第1トランジスタT1の他の電極と第1ノードN1の間に接続される。そして、第3トランジスタT3のゲート電極は該当走査線Siに接続される。このような第3トランジスタT3は、上記走査線Siからゲートオン電圧の走査信号が供給されるときターンオンされて、第1トランジスタT1をダイオード状に接続する。
第4トランジスタT4は第1ノードN1と初期化電源Vintの間に接続される。そして、第4トランジスタT4のゲート電極は前の走査線、例えば、i-1番目の走査線Si-1に接続される。このような第4トランジスタT4は、i-1番目の走査線Si-1にゲートオン電圧の走査信号が供給されるときターンオンされて初期化電源Vintの電圧を第1ノードN1に伝達する。ここで、初期化電源Vintの電圧はデータ信号の最低電圧以下であってもよい。
第5トランジスタT5は第1電源VDDと第1トランジスタT1の間に接続される。そして、第5トランジスタT5のゲート電極は該当発光制御線、例えば、i番目の発光制御線Eiに接続される。このような第5トランジスタT5は、上記発光制御線Eiにゲートオフ電圧(例えば、ハイ電圧)の発光制御信号が供給されるときターンオフされ、それ以外の場合にターンオンされる。
第6トランジスタT6は第1トランジスタT1と光源ユニットLSUの第1電極の間に接続される。そして、第6トランジスタT6のゲート電極は該当発光制御線、例えば、i番目の発光制御線Eiに接続される。このような第6トランジスタT6は、上記発光制御線Eiにゲートオフ電圧の発光制御信号が供給されるときターンオフされ、それ以外の場合にターンオンされる。
第7トランジスタT7は光源ユニットLSUの第1電極と初期化電源Vintの間に接続される。そして、第7トランジスタT7のゲート電極は次の段の走査線のうち何れか1つ、例えば、i+1番目の走査線Si+1に接続される。このような第7トランジスタT7は、上記i+1番目の走査線Si+1にゲートオン電圧の走査信号が供給されるときターンオンされて初期化電源Vintの電圧を光源ユニットLSUの第1電極に供給する。
ストレージキャパシタCstは第1電源VDDと第1ノードN1の間に接続される。このようなストレージキャパシタCstは、各フレーム期間に第1ノードN1に供給されるデータ信号及び第1トランジスタT1のしきい値電圧に対応する電圧を貯蔵する。
一方、図5cには、画素回路PXCに含まれるトランジスタ、例えば、第1~第7トランジスタT1~T7を全てP型トランジスタで図示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第1~第7トランジスタT1~T7のうち少なくとも1つはN型トランジスタに変更されてもよい。
また、本発明に適用できる画素PXLの構造は図5a~図5cに示された実施例に限定されず、それぞれの画素PXLは現在公知の多様な構造を有することができる。例えば、それぞれの画素PXLに含まれた画素回路PXCは、現在公知の多様な構造及び/または駆動方式の画素回路で構成されてもよい。また、本発明の他の実施例において、それぞれの画素PXLは受動型発光表示装置などの内部に構成されてもよい。この場合、画素回路PXCは省略され、光源ユニットLSUの第1及び第2電極のそれぞれは、走査線Si、データ線Dj、電源線及び/または制御線などに直接接続されることができる。
また、本発明の一実施例において、それぞれの画素PXLは独立して発光できる複数の光源ユニットLSUを含んでもよい。例えば、それぞれの画素PXLは、図5dに示したように複数の光源ユニットLSUを含むか、図5eに示したようにそれぞれの発光ユニッ
トLSUを含む複数のサブ画素SPXを含んでもよい。
図5dを参照すると、それぞれの画素PXLは、画素回路PXCと第2電源VSSの間で並列に接続された第1光源ユニットLSU1及び第2光源ユニットLSU2を含んでもよい。実施例に応じて、上記第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2は該当画素PXLの光源ユニットLSUを構成することができる。
また、上記画素PXLは、画素回路PXCと第1光源ユニットLSU1の間に接続された第1発光制御トランジスタET1と、上記画素回路PXCと第2光源ユニットLSUの間に接続された第2発光制御トランジスタET2と、をさらに含んでもよい。実施例に応じて、第1発光制御トランジスタET1と第2発光制御トランジスタET2は、異なる制御線に接続されて独立して駆動されてもよい。例えば、第1発光制御トランジスタET1はi番目の第1発光制御線E1iに接続され、第2発光制御トランジスタET2はi番目の第2発光制御線E2iに接続されてもよい。また、他の実施例において、第1発光制御トランジスタET1と第2発光制御トランジスタET2は順にまたは交互に駆動されてもよい。上述した実施例の場合、i番目の第1及び第2発光制御線E1i、E2iに供給されるそれぞれの発光制御信号によって第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2のそれぞれの発光時点及び/またはその期間を容易に制御することができるようになる。
さらに、実施例に応じては、表示領域DAに配置された複数の水平ラインが1つの第1発光制御線及び/または第2発光制御線を共有することもできる。この場合、第1及び第2発光制御線に供給されるそれぞれの発光制御信号によって複数の水平ラインに配置された第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2の発光時点を一括して制御することができる。
図5eを参照すると、それぞれの画素PXLは異なるデータ線、例えば、それぞれj番目のデータ線Dj及びj+1番目のデータ線Dj+1に接続される第1サブ画素SPX1及び第2サブ画素SPX2を含んでもよい。例えば、第1及び第2サブ画素SPX1、SPX2は表示領域DAの何れか1つの水平ラインに連続して配置されてもよい。
実施例に応じて、第1サブ画素SPX1は、i番目の走査線Si及びj番目のデータ線Djに接続される第1画素回路PXC1と、上記第1画素回路PXC1によって駆動される第1光源ユニットLSU1と、を含んでもよい。そして、第2サブ画素SPX2は、i番目の走査線Si及びj+1番目のデータ線Dj+1に接続される第2画素回路PXC2と、上記第2画素回路PXC2によって駆動される第2光源ユニットLSU2と、を含んでもよい。実施例に応じて、上記第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2は該当画素PXLの光源ユニットLSUを構成することができる。上述した実施例の場合、j番目のデータ線Dj及びj+1番目のデータ線Dj+1に供給されるそれぞれのデータ信号によって第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2のそれぞれの発光有無及び/またはその輝度を容易に制御することができるようになる。
一方、図5eでは、第1サブ画素SPX1と第2サブ画素SPX2が同じ走査線、例えば、i番目の走査線Siによって同時に駆動される実施例を開示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、本発明の他の実施例では、第1サブ画素SPX1と第2サブ画素SPX2が異なる走査線に接続されてもよい。この場合、それぞれの走査線に供給される走査信号によって第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2のそれぞれの駆動有無などを容易に制御することができるようになる。
図6及び図7はそれぞれ本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLに対する異なる実施例を示した。実施例に応じて、図
6には、それぞれの発光装置(または、これに対応する各画素PXLの光源ユニットLSU)が第1及び第2電源線PL1、PL2(または、走査線Si及びデータ線Djなどの第1及び第2制御線CL1、CL2)を含むか、または上記第1及び第2電源線PL1、PL2に直接接続される実施例を示した。実施例に応じて、図7には、それぞれの発光装置(または、これに対応する各画素PXLの光源ユニットLSU)が第1コンタクトホールCH1及び第2コンタクトホールCH2を介して、それぞれ少なくとも1つの回路素子(例えば、図5a~図5cの画素回路PXC)、接続配線、第1電源線PL1、第2電源線PL2、走査線Si及び/またはデータ線Djなどに接続される実施例を示した。実施例に応じて、図6及び図7に示されたそれぞれの画素PXLは、図4~図5eに示されたそれぞれの画素PXLであってもよく、表示領域DAに配置された画素PXLは実質的に同一または類似する構造を有することができる。図6及び図7には、光源ユニットLSUを中心として各画素PXLの構造を示す。
図6及び図7を参照すると、本発明の一実施例による画素PXLは、それぞれ少なくとも1つの発光ダイオードLDを含む第1発光領域EMA1及び第2発光領域EMA2をはじめとして、複数の発光領域EMAを含んでもよい。実施例に応じて、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2はそれぞれ少なくとも1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2を含み、上記少なくとも1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は発光領域EMAごとに異なる構造を有することができる。
実施例に応じて、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は、それぞれの画素PXLが形成されるそれぞれの画素領域内において互いに隣接して配置されてもよい。例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は、それぞれの画素領域内において第1方向DR1(例えば、横方向)に沿って順(または、交互)に配置されてもよい。
第1発光領域EMA1は少なくとも1つの第1発光ダイオードLD1を含んでもよい。例えば、第1発光領域EMA1は、互いに対応する1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2(例えば、第11及び第21電極ELT11、ELT21)の間で互いに並列に接続された複数の第1発光ダイオードLD1を含んでもよい。また、第1発光領域EMA1は、第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1に接続される少なくとも1つの第1電極ELT1(例えば、第11電極ELT11)と、上記第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2に接続される少なくとも1つの第2電極ELT2(例えば、第21電極ELT21)と、それぞれの第1電極ELT1と重畳される少なくとも1つの第1隔壁PW1(例えば、第11隔壁PW11)及び第1コンタクト電極CNE1(例えば、第11コンタクト電極CNE11)と、それぞれの第2電極ELT2と重畳される少なくとも1つの第2隔壁PW2(例えば、第21隔壁PW21)及び第2コンタクト電極CNE2(例えば、第21コンタクト電極CNE21)と、を含んでもよい。
類似して、第2発光領域EMA2は少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2を含んでもよい。例えば、第2発光領域EMA2は、互いに対応する1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2(例えば、第12及び第22電極ELT12、ELT22)の間で互いに並列に接続された複数の第2発光ダイオードLD2を含んでもよい。また、第2発光領域EMA2は、第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1に接続される少なくとも1つの第1電極ELT1(例えば、第12電極ELT12)と、第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2に接続される少なくとも1つの第2電極ELT2(例えば、第21電極ELT21)と、それぞれの第1電極ELT1と重畳される少なくとも1つの第1隔壁PW1(例えば、第12隔壁PW12)及び第1コンタクト電極CNE1(例えば、第12コンタクト電極CNE12)と、それぞれの第2電極ELT2と重畳される少なくとも1つの第2隔壁PW2(例えば、第22隔壁PW22)及び第2コンタクト電極CNE2(例えば、第22コンタクト電極CNE22)と、を含んでもよい。
実施例に応じて、図6及び図7には、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2のそれぞれに、1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2、1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2、及び1対の第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2が配置されるものを示したが、上記第1及び第2発光領域EMA1、EMA2に配置される第1及び第2隔壁PW1、PW2、第1及び第2電極ELT1、ELT2、及び第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2の個数は特に限定されない。例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2のうち少なくとも1つは、それぞれ少なくとも2対の第1及び第2隔壁PW1、PW2、第1及び第2電極ELT1、ELT2、及び第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2を含んでもよい。
互いに対応する1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、それぞれの発光領域EMAにおいて互いに対を成して対向するように配置されてもよい。例えば、第11隔壁PW11及び第21隔壁PW21は、第1発光領域EMA1において互いに対を成して対向するように配置されることができる。類似して、第12隔壁PW12及び第22隔壁PW22は、第2発光領域EMA2において互いに対を成して対向するように配置されてもよい。
実施例に応じて、各対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、それぞれの発光領域EMAに第1方向DR1(例えば、横方向)に沿って互いに離隔するように配置され、上記第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは、上記第1方向DR1と交差する第2方向DR2(例えば、縦方向)に沿って延びてもよい。例えば、第11隔壁PW11及び第21隔壁PW21は、第1発光領域EMA1において第1方向DR1に沿って互いに離隔するように配置され、それぞれ第2方向DR2に沿って延びてもよい。類似して、第12隔壁PW12及び第22隔壁PW22は、第2発光領域EMA2において第1方向DR1に沿って互いに離隔するように配置され、それぞれ第2方向DR2に沿って延びてもよい。
実施例に応じて、第11隔壁PW11は第11電極ELT11の一領域と重畳するように上記第11電極ELT11の下部に配置され、第21隔壁PW21は第21電極ELT21の一領域と重畳するように上記第21電極ELT21の下部に配置されてもよい。類似して、第12隔壁PW12は第12電極ELT12の一領域と重畳するように上記第12電極ELT12の下部に配置され、第22隔壁PW22は第22電極ELT22の一領域と重畳するように上記第22電極ELT22の下部に配置されてもよい。
このような第1及び第2隔壁PW1、PW2は、それぞれの発光領域EMAにおいて互いに離隔するように配置され、それぞれの第1及び第2電極ELT1、ELT2の一領域が上部方向に突出するようにする。例えば、第11電極ELT11は第11隔壁PW11上に配置されて上記第11隔壁PW11によって高さ方向(例えば、第1方向DR1及び第2方向DR2によって規定される平面に垂直な方向)に突出し、第21電極ELT21は第21隔壁PW21上に配置されて上記第21隔壁PW21によって高さ方向に突出することができる。類似して、第12電極ELT12は第12隔壁PW12上に配置されて上記第12隔壁PW12によって高さ方向に突出し、第22電極ELT22は第22隔壁PW22上に配置されて上記第22隔壁PW22によって高さ方向に突出することができる。
互いに対応する1対の第1電極ELT1及び第2電極ELT2は、それぞれの発光領域EMAにおいて互いに対を成して対向するように配置されてもよい。例えば、第11電極ELT11及び第21電極ELT21は、第1発光領域EMA1において互いに対を成して対向するように配置されることができる。類似して、第12電極ELT12及び第22電極ELT22は、第2発光領域EMA2において互いに対を成して対向するように配置されてもよい。
実施例に応じて、上記1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2は、それぞれの発光領域EMAにおいて少なくとも1つの発光ダイオードLDの間に介在して互いに離隔して配置されてもよい。例えば、第11及び第21電極ELT11、ELT21は、第1発光領域EMA1において少なくとも1つの第1発光ダイオードLD1の間に介在して互いに離隔されることができる。一例として、第11及び第21電極ELT11、ELT21は、第1発光領域EMA1において第1方向DR1に沿って所定の間隔分だけ離隔し、それぞれ上記第1方向DR1と交差する第2方向DR2に沿って延びてもよい。類似して、第12及び第22電極ELT12、ELT22は、第2発光領域EMA2において少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2の間に介在して互いに離隔されてもよい。例えば、第12及び第22電極ELT12、ELT22は、第2発光領域EMA2において第1方向DR1に沿って所定の間隔分だけ離隔し、それぞれ第2方向DR2に沿って延びてもよい。但し、本発明はこれに限定されず、第1及び第2電極ELT1、ELT2の形状及び/または相互配置関係などは多様に変更されてもよい。
実施例に応じて、それぞれの第1電極ELT1はそれぞれの第1隔壁PW1をカバーするように上記第1隔壁PW1上に配置され、それぞれの第2電極ELT2はそれぞれの第2隔壁PW2をカバーするように上記第2隔壁PW2上に配置されてもよい。例えば、第11電極ELT11は第11隔壁PW11をカバーするように上記第11隔壁PW11上に配置され、第21電極ELT21は第21隔壁PW21をカバーするように上記第21隔壁PW21上に配置されることができる。類似して、第12電極ELT12は第12隔壁PW12をカバーするように上記第12隔壁PW12上に配置され、第22電極ELT22は第22隔壁PW22をカバーするように上記第22隔壁PW22上に配置されることができる。これにより、それぞれの第1電極ELT1はそれぞれの第1隔壁PW1に対応する領域において上部方向に突出し、それぞれの第2電極ELT2はそれぞれの第2隔壁PW2に対応する領域において上部方向に突出することができる。
実施例に応じて、それぞれの第1電極ELT1は少なくとも1つの発光ダイオードLDの第1端部EP1に電気的に接続されてもよい。例えば、第11電極ELT11は少なくとも1つの第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1に電気的に接続され、第12電極ELT12は少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1に電気的に接続されることができる。
また、それぞれの第1電極ELT1は、各画素PXLの第1接続電極CNL1を介して所定の電源線、制御線、または回路素子などに接続されてもよい。例えば、第11電極ELT11及び第12電極ELT12は、第1接続電極CNL1を経由して互いに電気的に接続され、上記第1接続電極CNL1を介して所定の電源線、制御線または回路素子などに接続されてもよい。実施例に応じて、第11電極ELT11、第12電極ELT12及び第1接続電極CNL1が互いに接続される場合、これらを1つの統合された第1電極ELT1とみなすこともできる。但し、便宜上、本実施例では、第1発光領域EMA1に位置する第1電極ELT1を第11電極ELT11といい、第2発光領域EMA2に位置する第1電極ELT1を第12電極ELT12という。また、第11電極ELT11及び第12電極ELT12を包括して第1電極ELT1という。そして、第11電極ELT11及び第12電極ELT12の接続部を第1接続電極CNL1という。
実施例に応じて、第1電極ELT1及び第1接続電極CNL1は、それぞれの画素領域において異なる方向に沿って延びてもよい。例えば、第1接続電極CNL1が第1方向DR1に沿って延びる場合、それぞれの第1電極ELT1は上記第1方向DR1と交差する第2方向DR2に沿って延びてもよい。
一実施例において、第1電極ELT1は、図6に示したように第1接続電極CNL1を介して第1電源線PL1または所定の第1制御線CL1(例えば、走査線Siまたはデータ線Dj)に一体または非一体に接続されてもよい。他の実施例において、第1電極ELT1は、図7に示したように第1接続電極CNL1及び第1コンタクトホールCH1を介して所定の回路素子(例えば、画素回路PXCの第1トランジスタT1など)及び/または第1電源線PL1に非一体で接続されてもよい。
一実施例において、第1電極ELT1及び第1接続電極CNL1は一体に接続されてもよい。例えば、第1電極ELT1は第1接続電極CNL1から分岐されて形成されてもよい。第1電極ELT1と第1接続電極CNL1が一体に接続される場合、上記第1接続電極CNL1を第1電極ELT1の一領域としてみなすこともできる。但し、本発明はこれに限定されない。例えば、他の実施例では、第1電極ELT1及び第1接続電極CNL1が少なくとも1つのコンタクトホールなどを経由して互いに電気的に接続されてもよい。
実施例に応じて、第1電極ELT1及び/または第1接続電極CNL1は単一層または多重層からなってもよい。例えば、第1電極ELT1及び/または第1接続電極CNL1は単一の反射性導電層からなってもよい。または、第1電極ELT1及び/または第1接続電極CNL1は、少なくとも1層の反射性導電層と、上記反射性導電層の上部及び/または下部に積層される少なくとも1層の透明導電層とを含む多重層からなってもよい。
また、実施例に応じて、第1電極ELT1及び/または第1接続電極CNL1の上部には少なくとも1層の導電性キャップ層が配置されてもよい。実施例に応じて、上記導電性キャップ層は透明導電層を含んでもよいが、これに限定されない。
実施例に応じて、それぞれの第2電極ELT2は少なくとも1つの発光ダイオードLDの第2端部EP2に電気的に接続されてもよい。例えば、第21電極ELT21は少なくとも1つの第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2に電気的に接続され、第22電極ELT22は少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2に電気的に接続されてもよい。
また、それぞれの第2電極ELT2は、各画素PXLの第2接続電極CNL2を介して所定の電源線、制御線、または回路素子などに接続されてもよい。例えば、第21電極ELT21及び第22電極ELT22は、第2接続電極CNL2を経由して互いに電気的に接続され、上記第2接続電極CNL2を介して所定の電源線、制御線または回路素子などに接続されてもよい。実施例に応じて、第21電極ELT21、第22電極ELT22及び第2接続電極CNL2が互いに接続される場合、これらを1つの統合された第2電極ELT2とみなすこともできる。但し、便宜上、本実施例では、第1発光領域EMA1に位置する第2電極ELT2を第21電極ELT21といい、第2発光領域EMA2に位置する第2電極ELT2を第22電極ELT22という。また、第21電極ELT21及び第22電極ELT22を包括して第2電極ELT2という。そして、第21電極ELT21及び第22電極ELT22の接続部を第2接続電極CNL2という。
実施例に応じて、第2電極ELT2及び第2接続電極CNL2はそれぞれの画素領域において異なる方向に沿って延びてもよい。例えば、第2接続電極CNL2が第1方向DR1に沿って延びる場合、それぞれの第2電極ELT2は第2方向DR2に沿って延びてもよい。
一実施例において、第2電極ELT2は、図6に示したように第2接続電極CNL2を介して第2電源線PL2または所定の第2制御線CL2(例えば、走査線Siまたはデータ線Dj)に一体または非一体に接続されてもよい。他の実施例において、第2電極EL
T2は、図7に示したように第2接続電極CNL2及び第2コンタクトホールCH2を介して所定の回路素子、接続配線及び/または第2電源線PL2に非一体に接続されることができる。
一実施例において、第2電極ELT2及び第2接続電極CNL2は一体に接続されてもよい。例えば、第2電極ELT2は第2接続電極CNL2から分岐されて形成されてもよい。第2電極ELT2と第2接続電極CNL2が一体に接続される場合、上記第2接続電極CNL2を第2電極ELT2の一領域としてみなすこともできる。但し、本発明はこれに限定されない。例えば、他の実施例において、第2電極ELT2及び第2接続電極CNL2は、少なくとも1つのコンタクトホールなどを経由して互いに電気的に接続されてもよい。
実施例に応じて、第2電極ELT2及び/または第2接続電極CNL2は単一層または多重層からなってもよい。例えば、第2電極ELT2及び/または第2接続電極CNL2は単一の反射性導電層からなってもよい。または、第2電極ELT2及び/または第2接続電極CNL2は、少なくとも1層の反射性導電層と、上記反射性導電層の上部及び/または下部に積層される少なくとも1層の透明導電層とを含む多重層からなってもよい。
また、実施例に応じて、第2電極ELT2及び/または第2接続電極CNL2の上部には少なくとも1層の導電性キャップ層が配置されてもよい。実施例に応じて、上記導電性キャップ層は透明導電層を含んでもよいが、これに限定されない。
実施例に応じて、それぞれの第1電極ELT1及びこれに対応する第2電極ELT2の間には少なくとも1つの発光ダイオードLDが接続されることができる。例えば、第11電極ELT11及び第21電極ELT21の間には少なくとも1つの第1発光ダイオードLD1、例えば、複数の第1発光ダイオードLD1が接続されてもよい。類似して、第12電極ELT12及び第22電極ELT22の間には少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2、例えば、複数の第2発光ダイオードLD2が接続されてもよい。
実施例に応じて、それぞれの第1電極ELT1及び第2電極ELT2は、少なくとも1つの発光ダイオードLDの第1端部EP1及び第2端部EP2に直接接続されるか、またはそれぞれ少なくとも1つのコンタクト電極を経由して上記発光ダイオードLDの第1端部EP1及び第2端部EP2に電気的に接続されることができる。例えば、第11電極ELT11は、第11コンタクト電極CNE11を介して第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1に共通して接続され、第21電極ELT21は、第21コンタクト電極CNE21を介して第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2に共通して接続されてもよい。類似して、第12電極ELT12は、第12コンタクト電極CNE12を介して第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1に共通して接続され、第22電極ELT22は、第22コンタクト電極CNE22を介して第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2に共通して接続されてもよい。
実施例に応じて、それぞれの発光ダイオードLDは、互いに対応する1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2が対向するように配置された領域において、上記第1及び第2電極ELT1、ELT2の間で第1方向DR1、例えば、横方向に配列された棒状発光ダイオードであってもよい。一方、図6及び図7には、発光ダイオードLDが何れか1つの方向、例えば、第1方向DR1に沿って均一に配列されたものを図示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、発光ダイオードLDのうち少なくとも1つは、1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2の間で斜線方向などに配列されてもよい。
実施例に応じて、それぞれの発光ダイオードLDは無機結晶構造の材料を利用した超小
型の、例えば、ナノスケールからマイクロスケール程度に小さいサイズの、発光ダイオードであってもよい。例えば、それぞれの発光ダイオードLDは、図1a~図3bに示したようなナノスケールからマイクロスケールの範囲の直径D及び/または長さLを有する超小型の棒状発光ダイオードであってもよい。但し、上記発光ダイオードLDのサイズはそれぞれの発光装置、例えば、上記発光装置で構成された光源ユニットLSUを含む各画素PXLの設計条件などに応じて多様に変更されてもよい。
一実施例において、発光ダイオードLDの第1端部EP1は、それぞれの第1コンタクト電極CNE1を経由してそれぞれの第1電極ELT1に電気的に接続され、上記発光ダイオードLDの第2端部EP2は、それぞれの第2コンタクト電極CNE2を経由してそれぞれの第2電極ELT2に電気的に接続されることができる。例えば、第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1は、第11コンタクト電極CNE11を経由して第11電極ELT11に電気的に接続され、上記第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2は、第21コンタクト電極CNE21を経由して第21電極ELT21に電気的に接続されてもよい。類似して、第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1は、第12コンタクト電極CNE12を経由して第12電極ELT12に電気的に接続され、上記第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2は、第22コンタクト電極CNE22を経由して第22電極ELT22に電気的に接続されてもよい。他の実施例において、発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2のうち少なくとも1つがそれぞれの第1及び/または第2電極ELT1、ELT2に直接接触されて上記第1及び/または第2電極ELT1、ELT2に電気的に接続されてもよい。
実施例に応じて、発光ダイオードLDは所定の溶液内に分散された形態で用意され、インクジェット方式などを利用して発光装置内に規定された所定の発光領域(例えば、各画素PXLの第1及び第2発光領域EMA1、EMA2)に供給されることができる。例えば、発光ダイオードLDは揮発性溶媒に混ざってそれぞれの発光領域に供給されてもよい。このとき、第1及び第2電源線PL1、PL2を介して第1及び第2電極ELT1、ELT2にそれぞれ第1電源VDD及び第2電源VSSを印加すると、上記第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に電界が形成されて上記第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に発光ダイオードLDが整列されるようになる。発光ダイオードLDが整列された後には溶媒を揮発させるか、他の方法で除去して第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に発光ダイオードLDを安定的に配列することができる。また、発光ダイオードLDの両端部、例えば、第1及び第2端部EP1、EP2上にそれぞれ第1コンタクト電極CNE1及び第2コンタクト電極CNE2を形成することができる。これにより、上記発光ダイオードLDを第1及び第2電極ELT1、ELT2の間により安定的に接続することができる。
実施例に応じて、それぞれの第1コンタクト電極CNE1は、発光ダイオードLDの第1端部EP1及び第1電極ELT1の少なくとも一領域をカバーするように形成され、上記発光ダイオードLDの第1端部EP1と第1電極ELT1を物理的及び/または電気的に接続する。例えば、第11コンタクト電極CNE11は、第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1及び第11電極ELT11の少なくとも一領域をカバーするように形成され、上記第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1と第11電極ELT11を物理的及び/または電気的に接続する。類似して、第12コンタクト電極CNE12は第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1及び第12電極ELT12の少なくとも一領域をカバーするように形成され、上記第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1と第12電極ELT12を物理的及び/または電気的に接続する。
実施例に応じて、それぞれの第2コンタクト電極CNE2は発光ダイオードLDの第2端部EP2及び第2電極ELT2の少なくとも一領域をカバーするように形成され、上記
発光ダイオードLDの第2端部EP2と第2電極ELT2を物理的及び/または電気的に接続する。例えば、第21コンタクト電極CNE21は第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2及び第21電極ELT21の少なくとも一領域をカバーするように形成され、上記第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2と第21電極ELT21を物理的及び/または電気的に接続する。類似して、第22コンタクト電極CNE22は第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2及び第22電極ELT22の少なくとも一領域をカバーするように形成され、上記第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2と第22電極ELT22を物理的及び/または電気的に接続する。
第1電源線PL1及び第1電極ELT1などを経由して発光ダイオードLDの第1端部EP1に第1電源VDD(または、走査信号やデータ信号などをはじめとする所定の第1制御信号)が印加され、第2電源線PL2及び第2電極ELT2などを経由して発光ダイオードLDの第2端部EP2に第2電源VSS(または、走査信号やデータ信号などをはじめとする所定の第2制御信号)が印加されると、第1及び第2電極ELT1、ELT2の間で順方向に接続される少なくとも1つの発光ダイオードLDが発光するようになる。これにより、画素PXLが光を放出できるようになる。
本発明の一実施例において、第1及び第2隔壁PW1、PW2は発光領域EMAごとに異なる構造を有することができる。例えば、第1発光領域EMA1に配置された1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2、即ち、第11及び第21隔壁PW11、PW21は、第2発光領域EMA2に配置された1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2、即ち、第12及び第22隔壁PW12、PW22と異なる構造を有してもよい。本発明の実施例を説明するにおいて、第1及び第2隔壁PW1、PW2の構造とは、上記第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれの形状、構成、及び/またはサイズを意味するのはもちろんのこと、上記第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の相互配置関係、例えば、これらの間の距離などを包括的に意味することができる。
例えば、互いに対応する第1及び第2隔壁PW1、PW2は、発光領域EMAごとに異なる間隔で配置されてもよい。一例として、第1発光領域EMA1では、第11隔壁PW11及び第21隔壁PW21が第1間隔d1分だけ互いに離隔して配置され、第2発光領域EMA2では、第12隔壁PW12及び第21隔壁PW21が上記第1間隔d1より広い第2間隔d2分だけ互いに離隔して配置されることができる。本発明の実施例を説明するにおいて、第1間隔d1及び第2間隔d2は、それぞれの実施例において距離または間隔に対する相対的な大きさを説明するためのものであり、特定の数値範囲などを特定するものではなくてもよい。例えば、本実施例及び後述する他の実施例で規定する第1間隔d1は互いに同じ値または異なる値であってもよい。類似して、本実施例及び後述する他の実施例で規定する第2間隔d2は互いに同じ値または異なる値であってもよい。即ち、第1及び第2間隔d1、d2は、それぞれの実施例において特定の構成要素間の相対的な距離または間隔を意味するために用いられる用語であってもよい。
上述した実施例によると、第1発光領域EMA1から放出される光と第2発光領域EMA2から放出される光の様相を多角化し、上記第1及び第2発光領域EMA1、EMA2を含む発光装置及びこれを備える画素PXLの視野角の範囲を拡張することができる。本発明の実施例による視野角の拡張効果に対する詳細な説明は後述する。
図8aは本発明の一実施例による発光装置を示した断面図で、一例として、図7のI~I’線に対応する断面の実施例を示した。そして、図8bは図8aのEA1領域を拡大して示した断面図である。実施例に応じて、図8a及び図8bには、第1発光領域EMA1に配置された何れか1つの第1発光ダイオードLD1を中心として発光装置の断面を示す。但し、実施例に応じて、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は類似する断面構造
を有することができる。例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の間隔が相違することを除き、実質的に同じ断面構造を有することができる。従って、便宜上、図8a及び図8bでは、図7のI~I’線に対応する第1発光領域EMA1の断面を通じて各画素PXLの断面構造を包括的に説明する。
図8a及び図8bを図1~図7とともに参照すると、基板SUB上の表示領域DAには、画素回路層PCL及び表示素子層DPLが順に配置されることができる。例えば、画素回路層PCLは基板SUBの一面上に形成され、表示素子層DPLは画素回路層PCLが形成された基板SUBの一面上に形成されてもよい。
実施例に応じて、画素回路層PCLは画素PXLのそれぞれの画素回路PXC及び/またはこれに接続される配線を含み、表示素子層DPLは画素PXLのそれぞれの光源ユニットLSUを含んでもよい。例えば、画素回路層PCLは、各画素PXLの画素回路PXCを構成する複数の回路素子、例えば、図5a及び図5bに示された第1及び第2トランジスタT1、T2を含んでもよい。また、図8aには図示していないが、画素回路層PCLは、それぞれの画素領域に配置されるストレージキャパシタCstと、それぞれの画素回路PXCに接続される各種の信号線(例えば、図5a及び図5bの走査線Si及びデータ線Dj)と、画素回路PXC及び/または発光ダイオードLDに接続される各種の電源線(例えば、第1電源線PL1及び第2電源線PL2)と、をさらに含んでもよい。
実施例に応じて、それぞれの画素回路PXCに備えられた複数のトランジスタ、例えば、第1及び第2トランジスタT1、T2は実質的に同一または類似する断面構造であってもよい。但し、本発明はこれに限定されず、他の実施例では、上記複数のトランジスタのうち少なくとも一部が互いに異なるタイプ及び/または構造を有することもできる。
また、画素回路層PCLは複数の絶縁膜を含む。例えば、画素回路層PCLは、基板SUBの一面上に順に積層されたバッファ層BFL、ゲート絶縁膜GI、層間絶縁膜ILD、及びパッシベーション膜PSVを含んでもよい。
実施例に応じて、バッファ層BFLはそれぞれの回路素子に不純物が拡散するのを防止することができる。このようなバッファ層BFLは単一層からなってもよいが、少なくとも2重層以上の多重層からなってもよい。バッファ層BFLが多重層で提供される場合、各層は同じ材料または異なる材料で形成されてもよい。一方、実施例に応じては、バッファ層BFLが省略されてもよい。
実施例に応じて、第1及び第2トランジスタT1、T2のそれぞれは、半導体層SCL、ゲート電極GE、第1トランジスタ電極ET1及び第2トランジスタ電極ET2を含む。一方、実施例に応じて、図8aには、第1及び第2トランジスタT1、T2が半導体層SCLとは別に形成された第1トランジスタ電極ET1及び第2トランジスタ電極ET2を備える実施例を図示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、本発明の他の実施例では、それぞれの画素領域に配置される少なくとも1つのトランジスタに備えられる第1及び/または第2トランジスタ電極ET1、ET2がそれぞれの半導体層SCLと統合されて構成されてもよい。
半導体層SCLはバッファ層BFL上に配置されることができる。例えば、半導体層SCLはバッファ層BFLが形成された基板SUBとゲート絶縁膜GIの間に配置されてもよい。このような半導体層SCLは、第1トランジスタ電極ET1に接触される第1領域と、第2トランジスタ電極ET2に接触される第2領域と、上記第1及び第2領域の間に位置するチャネル領域と、を含んでもよい。実施例に応じて、上記第1及び第2領域のうち1つはソース領域で、他の1つはドレイン領域であってもよい。
実施例に応じて、半導体層SCLは、ポリシリコン、アモルファスシリコン、酸化物半導体などからなる半導体パターンであってもよい。また、半導体層SCLのチャネル領域は不純物がドープされない半導体パターンで、真性半導体であってもよく、上記半導体層SCLの第1及び第2領域はそれぞれ所定の不純物がドープされた半導体パターンであってもよい。
ゲート電極GEはゲート絶縁膜GIを間に介在して半導体層SCL上に配置されてもよい。例えば、ゲート電極GEは、ゲート絶縁膜GI及び層間絶縁膜ILDの間に、半導体層SCLの少なくとも一領域と重畳するように配置されてもよい。
第1及び第2トランジスタ電極ET1、ET2は、少なくとも1層の層間絶縁膜ILDを間に介在して、半導体層SCL及びゲート電極GE上に配置されてもよい。例えば、第1及び第2トランジスタ電極ET1、ET2は層間絶縁膜ILDとパッシベーション膜PSVの間に配置されることができる。このような第1及び第2トランジスタ電極ET1、ET2は半導体層SCLに電気的に接続されてもよい。例えば、第1及び第2トランジスタ電極ET1、ET2のそれぞれは、ゲート絶縁膜GI及び層間絶縁膜ILDを貫通するそれぞれのコンタクトホールを介して各半導体層SCLの第1領域及び第2領域に接続されることができる。
一方、実施例に応じて、画素回路PXCに備えられた少なくとも1つのトランジスタ(例えば、図5a及び図5bの第1トランジスタT1)の第1及び第2トランジスタ電極ET1、ET2のうち何れか1つはパッシベーション膜PSVを貫通する第1コンタクトホールCH1を介して、上記パッシベーション膜PSVの上部に配置された光源ユニットLSUの第1電極ELT1に電気的に接続されてもよい。
実施例に応じて、それぞれのサブ画素SPXに接続される少なくとも1つの信号線及び/または電源線は、画素回路PXCを構成する回路素子の一電極と同じ層上に配置されてもよい。例えば、第2電源VSSを供給するための第2電源線PL2は第1及び第2トランジスタT1、T2のゲート電極GEと同じ層上に配置され、上記第1及び第2トランジスタ電極ET1、ET2と同じ層上に配置されたブリッジパターンBRP、及びパッシベーション膜PSVを貫通する少なくとも1つの第2コンタクトホールCH2を介して、上記パッシベーション膜PSVの上部に配置された光源ユニットLSUの第2電極ELT2に電気的に接続されることができる。但し、上記第2電源線PL2などの構造及び/または位置は多様に変更されてもよい。
実施例に応じて、表示素子層DPLは、それぞれの画素領域で画素回路層PCLの上部に配置される複数の発光ダイオードLDを含んでもよい。例えば、表示素子層DPLは、各画素PXLの第1発光領域EMA1に配置される少なくとも1つの第1発光ダイオードLD1と、各画素PXLの第2発光領域EMA2に配置される少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2と、を含んでもよい。また、表示素子層DPLは、発光ダイオードLDの周辺に配置される少なくとも1つの絶縁膜及び/または絶縁パターンをさらに含んでもよい。
例えば、表示素子層DPLは、それぞれの画素領域に配置された第1及び第2電極ELT1、ELT2と、互いに対応する1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に配置された発光ダイオードLDと、上記発光ダイオードLDのそれぞれの第1及び第2端部EP1、EP2上に配置された第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2と、を含んでもよい。その他にも表示素子層DPLは少なくとも1つの導電膜及び/または絶縁膜(または、絶縁パターン)などをさらに含んでもよい。例えば、表示素子層DPLは、第
1及び第2隔壁PW1、PW2、及び第1~第4絶縁膜INS1、INS2、INS3、INS4のうち少なくとも1つをさらに含んでもよい。
実施例に応じて、画素回路層PCL上には第1及び第2隔壁PW1、PW2が配置されてもよい。例えば、各画素領域の発光領域EMAには少なくとも1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2が配置されてもよい。
実施例に応じて、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは無機材料または有機材料を含む絶縁物質を含んでもよい。また、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは単一層または多重層からなってもよい。即ち、第1及び第2隔壁PW1、PW2の構成物質及び/または積層構造は特に限定されず、多様に変更されてもよい。
実施例に応じて、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは様々な形状を有することができる。例えば、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは、図8aに示したように上部に行くほど幅が狭くなる半円または半楕円などの断面であってもよい。この場合、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは少なくとも一側面に曲面を有することができる。但し、本発明はこれに限定されない。例えば、本発明の他の実施例では、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれが上部に行くほど幅が狭くなる台形の断面であってもよい。この場合、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは少なくとも一側面に傾斜面を有することができる。即ち、本発明において、第1及び第2隔壁PW1、PW2の形状は特に限定されず、多様に変更されてもよい。
実施例に応じて、第1及び第2隔壁PW1、PW2が形成されたそれぞれの画素領域には、第1及び第2電極ELT1、ELT2と第1及び第2接続電極CNL1、CNL2が配置されてもよい。
実施例に応じて、第1及び第2電極ELT1、ELT2は、画素回路層PCL及び/または第1及び第2隔壁PW1、PW2が形成された基板SUB上に所定間隔離隔されて配置されてもよい。また、第1及び第2接続電極CNL1、CNL2はそれぞれ第1及び第2電極ELT1、ELT2と一体に接続されてもよい。
実施例に応じて、それぞれの第1電極ELT1はそれぞれの第1隔壁PW1上に配置され、それぞれの第2電極ELT2はそれぞれの第2隔壁PW2上に配置されてもよい。実施例に応じて、第1及び第2電極ELT1、ELT2のうち何れか1つはアノード電極で、残り1つはカソード電極であってもよい。
このような第1及び第2電極ELT1、ELT2は、それぞれ第1及び第2隔壁PW1、PW2の形状に対応する形状を有することができる。例えば、それぞれの第1電極ELT1は、それぞれの第1隔壁PW1によって基板SUBの高さ方向に突出して上記第1隔壁PW1の断面に対応する曲面または傾斜面を有することができる。一例として、それぞれの第1電極ELT1は、その下部の第1隔壁PW1によって基板SUBの高さ方向に突出して隣接する発光ダイオードLDの第1端部EP1と対向する曲面または傾斜面を有することができる。類似して、それぞれの第2電極ELT2は、それぞれの第2隔壁PW2によって基板SUBの高さ方向に突出して上記第2隔壁PW2の断面に対応する曲面または傾斜面を有することができる。一例として、それぞれの第2電極ELT2は、その下部の第2隔壁PW2によって基板SUBの高さ方向に突出して隣接する発光ダイオードLDの第2端部EP2と対向する曲面または傾斜面を有することができる。
実施例に応じて、第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれは少なくとも1つの導電性物質を含んでもよい。例えば、第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれは
、Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Ti、これらの合金のような金属、ITO、IZO、ZnO、ITZOのような導電性酸化物、PEDOTのような導電性高分子のうち少なくとも1つの物質を含んでもよいが、これに限定されない。
実施例に応じて、第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれは単一層または多重層からなってもよい。例えば、図8bに示したように、それぞれの第1電極ELT1は少なくとも1層の反射電極層CTL2を含み、上記反射電極層CTL2の下部に配置された第1透明電極層CTL1、及び/または上記反射電極層CTL2の上部に配置された第2透明電極層CTL3をさらに含んでもよい。
実施例に応じて、反射電極層CTL2は一定の反射率を有する導電物質からなってもよい。例えば、反射電極層CTL2はAg、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、これらの合金のような金属のうち少なくとも1つを含んでもよいが、これに限定されない。即ち、反射電極層CTL2は様々な反射性導電物質からなってもよい。実施例に応じて、第1及び第2透明電極層CTL1、CTL3は様々な透明電極物質からなってもよい。例えば、第1及び第2透明電極層CTL1、CTL3はITO、IZOまたはITZOを含んでもよいが、これに限定されない。
類似して、それぞれの第2電極ELT2は少なくとも1層の反射電極層を含み、上記反射電極層の下部及び/または上部に配置された少なくとも1層の透明電極層をさらに含んでもよい。実施例に応じて、第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれは実質的に同じ断面構造であってもよいが、これに限定されない。即ち、第1及び第2電極ELT1、ELT2は互いに同一または異なる、単一層または多重層の構造であってもよい。
一実施例において、第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれは、ITO/Ag/ITOの積層構造を有する3重層からなってもよい。また、上記第1及び第2電極ELT1、ELT2に接続される第1及び第2接続電極CNL1、CNL2も上記第1及び第2電極ELT1、ELT2のように多重層からなってもよい。このように、第1及び第2電極ELT1、ELT2及び/または第1及び第2接続電極CNL1、CNL2が少なくとも2重層以上の多重層からなると、信号遅延による電圧降下を最小化することができる。
また、第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれが少なくとも1層の反射電極層(例えば、CTL2)を含むと、発光ダイオードLDのそれぞれの両端、即ち、上記発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2から放出される光を画像が表示される方向(例えば、表示パネルPNLの正面方向)に進行させることができる。特に、第1及び第2電極ELT1、ELT2がそれぞれ第1及び第2隔壁PW1、PW2の形状に対応する曲面または傾斜面を有して発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2に対向するように配置されると、発光ダイオードLDのそれぞれの第1及び第2端部EP1、EP2から出射された光は、第1及び第2電極ELT1、ELT2によって反射されてさらに表示パネルPNLの正面方向(例えば、基板SUBの上部方向)に進行されることができる。これにより、発光ダイオードLDから出射される光の効率を向上させることができる。
また、本発明の一実施例において、第1及び第2隔壁PW1、PW2も反射部材として機能することができる。例えば、第1及び第2隔壁PW1、PW2は、その上部に提供された第1及び第2電極ELT1、ELT2とともに発光ダイオードLDのそれぞれから出射された光の効率を向上させる反射部材として機能することができる。
実施例に応じて、第1及び第2隔壁PW1、PW2は互いに同じ高さで形成されることができ、これにより、第1及び第2電極ELT1、ELT2は同じ高さを有することができる。このように、第1及び第2電極ELT1、ELT2が同じ高さを有すると、上記第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に発光ダイオードLDをより安定的に接続することができる。但し、本発明はこれに限定されず、第1及び第2電極ELT1、ELT2の形状、構造、高さ、及び/または相互配置関係などは多様に変更されてもよい。
第1及び第2電極ELT1、ELT2のそれぞれの上部には少なくとも1層の導電性キャップ層が選択的に配置されてもよい。例えば、それぞれの第1電極ELT1の上部には上記第1電極ELT1をカバーするように第1導電性キャップ層CPL1が形成され、それぞれの第2電極ELT2の上部には上記第2電極ELT2をカバーするように第2導電性キャップ層CPL2が形成されてもよい。
第1及び第2導電性キャップ層CPL1、CPL2のそれぞれは、発光ダイオードLDから放出される光の損失を最小化するためにITOやIZOをはじめとする透明導電性材料からなってもよい。但し、本発明はこれに限定されず、その他にも第1及び第2導電性キャップ層CPL1、CPL2の構成物質は多様に変更されることができる。
このような第1及び第2導電性キャップ層CPL1、CPL2は、表示パネルPNLの製造工程時に発生する不良などにより第1及び第2電極ELT1、ELT2が損傷するのを防止することができる。また、第1及び第2導電性キャップ層CPL1、CPL2は画素回路層PCLなどが形成された基板SUBと第1及び第2電極ELT1、ELT2との接着力を強化することができる。但し、実施例に応じては、第1及び第2導電性キャップ層CPL1、CPL2のうち少なくとも1つが省略されてもよい。
実施例に応じて、少なくとも1対の第1及び第2電極ELT1、ELT2が配置されたそれぞれの発光領域EMAには第1絶縁膜INS1が配置されてもよい。実施例に応じて、第1絶縁膜INS1は画素回路層PCLと発光ダイオードLDの間に配置されてもよい。このような第1絶縁膜INS1は発光ダイオードLDを安定的に支持し、上記発光ダイオードLDの離脱を防止することができる。実施例に応じて、第1絶縁膜INS1はそれぞれの発光領域EMA上に独立したパターンで形成されてもよいが、これに限定されない。
実施例に応じて、第1絶縁膜INS1が配置されたそれぞれの発光領域EMAには少なくとも1つの発光ダイオードLDが供給及び整列されてもよい。例えば、それぞれの発光領域EMAには複数の発光ダイオードLDが供給及び整列されることができる。
実施例に応じて、発光ダイオードLDは、第1及び第2電極ELT1、ELT2に所定の電圧が印加されるとき、上記第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に形成される電界によって自己整列することができる。これにより、それぞれの発光ダイオードLDが第1及び第2電極ELT1、ELT2の間に配置されることができる。
一方、発光ダイオードLDのそれぞれの形状及び/または構造は図8aなどに示された実施例に限定されない。例えば、それぞれの発光ダイオードLDは現在公知の様々な形状、断面構造、及び/または接続構造であってもよい。
実施例に応じて、発光ダイオードLDが配置されたそれぞれの発光領域EMAには、上記発光ダイオードLDのそれぞれの上面の一部を覆う第2絶縁膜INS2が配置されてもよい。実施例に応じて、第2絶縁膜INS2は少なくとも発光ダイオードLDの両端、即ち、第1及び第2端部EP1、EP2はカバーせずに上記発光ダイオードLDの一領域の
上部のみに選択的に配置されることができる。このような第2絶縁膜INS2は、それぞれの発光領域EMA上に独立したパターンで形成されてもよいが、これに限定されない。
実施例に応じて、第2絶縁膜INS2が配置されたそれぞれの発光領域EMAには第1コンタクト電極CNE1が配置されてもよい。実施例に応じて、第1コンタクト電極CNE1は、該当発光領域EMAに配置された第1電極ELT1の一領域と接触するように上記第1電極ELT1上に配置されてもよい。また、第1コンタクト電極CNE1は、該当発光領域EMAに配置された少なくとも1つの発光ダイオードLDの第1端部EP1と接触するように上記第1端部EP1上に配置されてもよい。このような第1コンタクト電極CNE1により、それぞれの発光領域EMAに配置された少なくとも1つの発光ダイオードLDの第1端部EP1が該当発光領域EMAに配置された第1電極ELT1に電気的に接続されることができる。
実施例に応じて、第1コンタクト電極CNE1が配置されたそれぞれの発光領域EMAには第3絶縁膜INS3が配置されてもよい。実施例に応じて、第3絶縁膜INS3は、該当発光領域EMAに配置された第2絶縁膜INS2及び第1コンタクト電極CNE1をカバーするように形成されてもよい。
実施例に応じて、第3絶縁膜INS3が配置されたそれぞれの発光領域EMAには第2コンタクト電極CNE2が配置されてもよい。実施例に応じて、第2コンタクト電極CNE2は、該当発光領域EMAに配置された第2電極ELT2の一領域と接触するように上記第2電極ELT2上に配置されてもよい。また、第2コンタクト電極CNE2は、該当発光領域EMAに配置された少なくとも1つの発光ダイオードLDの第2端部EP2と接触するように上記第2端部EP2上に配置されてもよい。このような第2コンタクト電極CNE2により、それぞれの発光領域EMAに配置された少なくとも1つの発光ダイオードLDの第2端部EP2が該当発光領域EMAに配置された第2電極ELT2に電気的に接続されることができる。
実施例に応じて、第2コンタクト電極CNE2が配置されたそれぞれの発光領域EMAには第4絶縁膜INS4が配置されてもよい。実施例に応じて、第4絶縁膜INS4は、該当発光領域EMAに配置された第1及び第2電極ELT1、ELT2、発光ダイオードLD、及び第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2をカバーするように形成されてもよい。
実施例に応じて、第1~第4絶縁膜INS1~INS4のそれぞれは単一層または多重層からなってもよく、少なくとも1つの無機絶縁材料及び/または有機絶縁材料を含んでもよい。例えば、第1~第4絶縁膜INS1~INS4のそれぞれはSiNxをはじめとして現在公知の様々な種類の有機/無機絶縁物質を含んでもよく、上記第1~第4絶縁膜INS1~INS4のそれぞれの構成物質は特に限定されない。また、上記第1~第4絶縁膜INS1~INS4は互いに異なる絶縁物質を含むか、または上記第1~第4絶縁膜INS1~INS4のうち少なくとも一部は互いに同じ絶縁物質を含んでもよい。
実施例に応じて、第1及び第2電極ELT1、ELT2、発光ダイオードLD、第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2、及び第1~第4絶縁膜INS1~INS4などが配置された基板SUB上にはオーバーコート層OCが配置されてもよい。例えば、オーバーコート層OCは表示領域DAに全面的に形成され、上記第1及び第2電極ELT1、ELT2、発光ダイオードLD、及び第1及び第2コンタクト電極CNE1、CNE2などが配置された基板SUBの上面をカバーすることができる。実施例に応じて、オーバーコート層OCは、表示素子層DPLの各構成要素を保護するための少なくとも1層の無機膜及び/または有機膜を含んでもよく、その他にも様々な機能膜などを含むことができ
る。
図9は、発光ダイオードLDと第1及び第2隔壁PW1、PW2間の距離に応じた視野角の変化を示した断面図である。以下では、図9を図6~図8bと結びつけて、本発明の一実施例による発光装置及びこれを含む画素PXLの視野角改善(拡張)方式を説明する。図9では、発光ダイオードLDと第1及び第2隔壁PW1、PW2間の距離の変化による光の進行方向に対する相関関係を明確に説明するために屈折効果などは反映しないことにする。
図6~図9を参照すると、それぞれの第1隔壁PW1が発光ダイオードLDの第1端部EP1に接近するほど、上記第1端部EP1から放出される光はより上部方向に放出されることができる。例えば、発光ダイオードLDの第1端部EP1から放出される光線が第11隔壁PW11上の第11電極ELT11に到達する所定の地点を基準として、上記第11電極ELT11とこれに対向する上記第1端部EP1の間の距離が約a1とし、上記第11電極ELT11とこれに対向する上記第1端部EP1の間の高さの差が約b1とすると、該当光線に対する視野角θ1は約arctan(a1/b1)に該当する値となる。一方、上記発光ダイオードLDの第1端部EP1から放出される光線が第12隔壁PW12上の第12電極ELT12に到達する所定の地点を基準として、上記第12電極ELT12とこれに対向する上記第1端部EP1の間の距離が約a2とし、上記第12電極ELT12とこれに対向する上記第1端部EP1の間の高さの差が約b2とすると、該当光線に対する視野角θ2は約arctan(a2/b2)に該当する値となる。
即ち、発光ダイオードLDの第1端部EP1とこれに対向する第1隔壁PW1の間の距離に応じて、上記第1端部EP1から放出される視野角の範囲が変わる。類似して、発光ダイオードLDの第2端部EP2とこれに対向する第2隔壁PW2の間の距離に応じて、上記第2端部EP2から放出される視野角の範囲が変わる。
従って、図6~図7などに示された実施例のように、各画素PXLの発光領域EMAを複数の発光領域、例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2に分けて、それぞれの発光領域EMAごとに第1及び第2隔壁PW1、PW2を異なる間隔で配置すると、第1発光領域EMA1から放出される光と第2発光領域EMA2から放出される光のプロファイルが異なる様相を帯びることができる。
例えば、第1発光領域EMA1では、第1発光ダイオードLD1の第1端部EP1と第11隔壁PW11の間の距離、及び上記第1発光ダイオードLD1の第2端部EP2と第21隔壁PW21の間の距離がそれぞれ約1μmになるように第11及び第21隔壁PW11、PW21を第1間隔d1(例えば、およそ第1発光ダイオードLD1の長さに2μmを足した値)で配置することができる。また、第2発光領域EMA2では、第2発光ダイオードLD2の第1端部EP1と第12隔壁PW12の間の距離、及び上記第2発光ダイオードLD2の第2端部EP2と第22隔壁PW22の間の距離がそれぞれ約2μmになるように第12及び第22隔壁PW12、PW22を第2間隔d2(例えば、およそ第2発光ダイオードLD2の長さに4μmを足した値)で配置することができる。この場合、第1発光ダイオードLD1、特に上記第1発光ダイオードLD1の両端部から放出される光は、表示パネルPNLの正面方向(例えば、高さ方向である第3方向DR3)により近接した視野角の範囲で放出され、第2発光ダイオードLD2、特に上記第2発光ダイオードLD2の両端部から放出される光は、表示パネルPNLの側面方向により近接した視野角の範囲で放出されることができる。
従って、上述した実施例によると、それぞれの発光装置及びこれを含む画素PXLから放出される光をより広い視野角範囲に分散して放出することができる。また、それぞれの
発光ダイオードLDとこれに隣接する第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の距離や、1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の距離などを調整することにより、所望する視野角の範囲に合わせてそれぞれの発光領域EMAから放出される光のプロファイルを調整することができる。
図10は本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLの実施例を示した。図10の実施例において、図6~図9の実施例と類似または同じ構成に対しては同じ符号を付し、それに対する詳細な説明は省略する。
図10を参照すると、第1電極ELT1は発光領域EMAごとに分離されて形成されてもよい。例えば、第1発光領域EMA1の第11電極ELT11とこれに接続される第11接続電極CNL11は、第2発光領域EMA2の第12電極ELT12とこれに接続される第12接続電極CNL12から分離されることができる。この場合、それぞれの発光領域EMAごとに第1電極ELT1を個別的に駆動することができる。これにより、それぞれの発光領域EMAは、個別的及び/または独立的に制御されるそれぞれの光源ユニットLSUを構成することができる。
一実施例において、それぞれの画素PXLは、図5dに示したように第1及び第2発光制御トランジスタET1、ET2などにより個別的に発光を制御することができる第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2を含んでもよい。実施例に応じて、第11電極ELT11及び第11接続電極CNL11は、第11コンタクトホールCH11を介して第1発光制御トランジスタET1に電気的に接続されることができる。この場合、第1発光領域EMA1は第1光源ユニットLSU1を構成することができる。類似して、第12電極ELT12及び第12接続電極CNL12は、第12コンタクトホールCH12を介して第2発光制御トランジスタET2に電気的に接続されることができる。この場合、第2発光領域EMA2は第2光源ユニットLSU2を構成することができる。上記実施例によると、第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2のそれぞれの発光有無を容易に制御することにより、所望する視野角の範囲に合わせて画素PXLから放出される光のプロファイルを容易に調整することができる。
他の実施例において、それぞれの画素PXLは、図5eに示したように第1及び第2画素回路PXC1、PXC2などにより個別的に駆動できる第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2を含んでもよい。実施例に応じて、第11電極ELT11及び第11接続電極CNL11は、第11コンタクトホールCH11を介して第1画素回路PXC1に電気的に接続されることができる。この場合、第1発光領域EMA1は第1サブ画素SPX1の第1光源ユニットLSU1を構成することができる。類似して、第12電極ELT12及び第12接続電極CNL12は、第12コンタクトホールCH12を介して第2画素回路PXC2に電気的に接続されることができる。この場合、第2発光領域EMA2は第2サブ画素SPX2の第2光源ユニットLSU2を構成することができる。上記実施例によると、第1及び第2光源ユニットLSU1、LSU2のそれぞれの発光有無及び/またはその輝度を容易に制御することにより、所望する視野角の範囲に合わせて画素PXLから放出される光のプロファイルをより精密に調整することができる。
図11は本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLの実施例を示した。図11の実施例において、図6~図9の実施例と類似または同じ構成に対しては同じ符号を付し、それに対する詳細な説明は省略する。
図11を参照すると、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は少なくとも1つの電極及び/または隔壁を共有することができる。例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は互いに重畳する交差領域を含んでもよい。このような第1及び第2発光領域E
MA1、EMA2は、上記交差領域に配置された第2隔壁PW2(または、「第2共通隔壁」ともいう)と、上記第2隔壁PW2上に配置された第2電極ELT2(または、「第2共通電極」ともいう)と、第2コンタクト電極CNE2(または、「第2共通コンタクト電極」ともいう)と、を共有することができる。
実施例に応じて、第2隔壁PW2は、第1発光領域EMA1において第11隔壁PW11と対を成し、第2発光領域EMA2において第12隔壁PW12と対を成してもよい。類似して、第2電極ELT2は、第1発光領域EMA1において第11電極ELT11と対を成し、第2発光領域EMA2において第12電極ELT12と対を成してもよい。
上述した実施例でも、第1及び第2隔壁PW1、PW2は発光領域EMAごとに異なる間隔で配置されてもよい。例えば、第11隔壁PW11及び第2隔壁PW2は第1発光領域EMA1において第1間隔d1で配置され、第12隔壁PW12及び第2隔壁PW2は第2発光領域EMA2において上記第1間隔d1より大きい第2間隔d2で配置されてもよい。これにより、それぞれの発光装置、または上記発光装置を含む画素PXLから放出される光の視野角の範囲を拡張することができる。
図12~図16はそれぞれ本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLの異なる実施例を示した。図12~図16の実施例において、上述した実施例と類似または同じ構成に対しては同じ符号を付し、それに対する詳細な説明は省略する。
まず、図12及び図13を参照すると、それぞれの画素PXLは、第2方向DR2に沿って順に配置された複数の発光領域EMA、例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2を含んでもよい。実施例に応じて、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれは、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2において一体に接続されてもよい。例えば、それぞれの第1隔壁PW1は、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2の境界で切れずに上記第1及び第2発光領域EMA1、EMA2を包括した発光領域EMAにおいて第2方向DR2に沿って延びてもよい。類似して、それぞれの第2隔壁PW2は、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2の境界で切れずに上記第1及び第2発光領域EMA1、EMA2を包括した発光領域EMAにおいて第2方向DR2に沿って延びてもよい。
このような第1及び第2隔壁PW1、PW2は、それぞれの発光領域EMAごとに異なる間隔で配置されてもよい。例えば、互いに対応する1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、第1発光領域EMA1において第1間隔d1分だけ互いに離隔して配置され、第2発光領域EMA2においては上記第1間隔d1より広い第2間隔d2分だけ互いに離隔して配置されてもよい。
即ち、本実施例において、第1及び第2隔壁PW1、PW2は、第2方向DR2によるそれぞれの発光領域EMA(または、区間)ごとに異なる間隔で配置されてもよい。そのために、それぞれの対を成す第1及び第2隔壁PW1、PW2のうち少なくとも1つは、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2の境界で屈曲部を有することができる。例えば、図12に示したようにそれぞれの第2隔壁PW2が第1及び第2発光領域EMA1、EMA2の境界で少なくとも1回折り曲げられてもよい。または、図13に示したように第1及び第2隔壁PW1、PW2の全てが第1及び第2発光領域EMA1、EMA2の境界で少なくとも1回折り曲げられてもよい。
また、実施例に応じて、屈曲部を有する少なくとも1つの隔壁、例えば、それぞれの第2隔壁PW2、またはそれぞれの第1及び第2隔壁PW1、PW2は、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2の境界で曲線状に折り曲げられた構造を有することができる。こ
のように、屈曲部を有する少なくとも1つの隔壁が曲線状の角(または、コーナー)を有するように折り曲げられると、角張って(例えば、直角に)折り曲げられる比較例に比べて、発光ダイオードLDの整列工程時に屈曲部だけに電界が集中する現象を防止することができる。これにより、発光ダイオードLDを第1及び第2電極ELT1、ELT2の間により均一に整列することができる。
一実施例において、互いに対向する1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、少なくとも1つの発光領域EMAにおいて互いに非対称の構造を有することができる。例えば、図12の実施例のように、1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は互いに非対称の構造を有することができる。また、実施例に応じて、1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2のうち何れか1つ(例えば、第2隔壁PW1)だけが屈曲部を有する場合、少なくとも一部の発光領域EMAにおいて発光ダイオードLDのそれぞれの第1端部EP1と第1隔壁PW1の間の距離と、上記発光ダイオードLDのそれぞれの第2端部EP2と第2隔壁PW2の間の距離は異なってもよい。
他の実施例において、互いに対向する1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、画素PXLの発光領域EMAの全般において互いに対称的な構造を有することができる。例えば、図13の実施例のように、1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2のそれぞれにおいて互いに対称的な構造を有することができる。即ち、本実施例において、第1及び第2隔壁PW1、PW2の形状や、発光ダイオードLD、第1隔壁PW1及び/または第2隔壁PW2の間の相互配置関係などは多様に変更されてもよい。
一方、上述した図6~図11の実施例と図12及び図13の実施例では、ある一方向、例えば、第1方向DR1または第2方向DR2に沿って各画素PXLの発光領域EMAを区画したが、本発明はこれに限定されない。例えば、本発明の他の実施例では、互いに交差する複数の方向に沿って各画素PXLの発光領域EMAを区画することもできる。
例えば、図14に示したようにそれぞれ第1方向DR1及び第2方向DR1、DR2に沿って発光領域EMAを第1及び第2発光領域EMA1、EMA2に区画してもよい。実施例に応じて、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は交互に配置されてもよいが、これに限定されない。
一方、実施例に応じて、各画素PXLの発光領域EMAは、ある一方向に沿って3つ以上の区間または領域に区画されてもよい。例えば、図15及び図16に示したように、第2方向DR2に沿って複数の第1発光領域EMA1とこれらの間に介在された少なくとも1つの第2発光領域EMA2を含むように発光領域EMAを3つ以上の区間または領域に区画することもできる。ここで、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2は、互いに対応する1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の間隔に基づいて規定されたものであり、例えば、2つの第1発光領域EMA1において1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2は、同様に第1間隔d1分だけ互いに離隔して配置されてもよい。但し、本発明はこれに限定されず、各画素PXLの発光領域EMAにおける第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の間隔は、少なくとも3つの値を有するように可変であってもよい。
例えば、本発明の他の実施例では、図15及び図16に示された2つの第1発光領域EMA1において1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の間隔が異なるように設定されてもよい。この場合、各画素PXLの発光領域EMAは、それぞれ1つの第1発光領域EMA1及び第2発光領域EMA2とともに、1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2が上記第1及び第2発光領域EMA1、EMA2とは異なる間隔で配置された第3発光領域(不図示)をさらに含んでもよい。即ち、実施例に応じて、各画素PXLの発光領域EM
A内における1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の間隔は、3つ以上の異なる値を有することもできる。
図17~図19はそれぞれ本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLの異なる実施例を示した。図17~図19の実施例において、上述した実施例と類似または同じ構成に対しては同じ符号を付し、それに対する詳細な説明は省略する。
図17~図19を参照すると、各画素PXLの発光領域EMAに配置される第1電極ELT1及び第2電極ELT2の個数は互いに異なってもよい。また、これにより、上記発光領域EMAに配置される第1隔壁PW1及び第2隔壁PW2の個数は互いに異なることができる。
例えば、それぞれの発光領域EMAには、複数の第1電極ELT1及び第1隔壁PW1と、単一の第2電極ELT2及び第2隔壁PW2が配置されてもよい。この場合、複数の第1電極ELT1が単一の第2電極ELT2を共有して対を成し、複数の第1隔壁PW1が単一の第2隔壁PW2を共有して対を成すことができる。
上述した実施例でも、第1及び第2隔壁PW1、PW2のうち少なくとも1つが少なくとも1つの屈曲部を有するように形成することができる。また、これにより、発光領域EMA内において、それぞれの分割領域または区間ごとに1対の第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の距離が可変であってもよい。即ち、図17~図19の実施例では、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれの形状、及び/またはこれらの間の間隔を調整することにより、それぞれの発光領域EMAを複数の領域、例えば、上述した実施例のように、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2を含む複数の領域に区画することができ、このような領域の区画方式は多様に変更されてもよい。
図20は本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLの実施例を示した。図21は本発明の一実施例による発光装置を示した断面図で、一例として、図20のII~II’線に対応する隔壁(例えば、第2隔壁PW2)の構造を示した。図21では、本実施例による隔壁の構造を明確に示すために、図20のII~II’線に沿った第2隔壁PW2及び第2電極ELT2の断面のみを概略的に示し、その周辺に配置され得る他の構成要素に対する図示は省略する。図22は第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれの高さに応じた視野角の変化を示した断面図である。図20~図22の実施例において、上述した実施例と類似または同じ構成に対しては同じ符号を付し、それに対する詳細な説明は省略する。
まず、図20及び図21を参照すると、第2隔壁PW2は第1発光領域EMA1と第2発光領域EMA2において異なる高さであってもよい。例えば、それぞれの第2隔壁PW2は第1発光領域EMA1で第1高さH1であり、上記第1発光領域EMA1に隣接する第2発光領域EMA2では上記第1高さH1より低い第2高さH2であってもよい。また、第2電極ELT2は第2隔壁PW2に対応する形状であってもよい。例えば、第2電極ELT2は第2発光領域EMA2に対応する凹部を有することができる。
また、図21には、図20のII~II’線に沿った第2隔壁PW2及び第2電極ELT2の断面のみを示したが、実施例に応じて、第1隔壁PW1及び第2電極ELT1も第2隔壁PW2及び第2電極ELT2と実質的に同じ断面構造を有してもよい。例えば、それぞれの第1隔壁PW1は第1発光領域EMA1において第1高さH1であり、第2発光領域EMA2では上記第1高さH1より低い第2高さH2であってもよい。また、第1電極ELT1は第1隔壁PW1に対応する形状であってもよい。例えば、第1電極ELT1
は第2発光領域EMA2に対応する凹部を有することができる。
一方、本発明は、第1及び第2隔壁PW1、PW2が必ずしも同じ形状及び/または高さに形成される実施例に限定されない。即ち、第1及び第2隔壁PW1、PW2は、実質的に同じ形状及び/または高さであるか、または異なる形状及び/または高さであってもよい。即ち、本発明の一実施例において、第1及び第2隔壁PW1、PW2のうち少なくとも1つは発光領域EMAごとに異なる高さであってもよい。
また、図20及び図21には第1及び第2隔壁PW1、PW2が発光領域EMAごとに第1高さH1または第2高さH2の2つの高さ値を有する実施例を開示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第1及び/または第2隔壁PW1、PW2は、各画素PXLの発光領域EMA内で区間または領域ごとに3つ以上の高さ値を有することもできる。
図22を参照すると、第1及び第2隔壁PW1、PW2の高さに応じて、それぞれの発光ダイオードLD、特に、上記発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2から放出される光の進行経路が変わることができる。例えば、第1及び第2隔壁PW1、PW2の高さが高くなるほど、上記第1及び第2端部EP1、EP2から放出される光は表示パネルPNLの正面方向(例えば、第3方向DR3)により近接した視野角の範囲で放出されることができる。
従って、上述した実施例のように、各画素PXLの発光領域EMAを複数の発光領域、例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2に分けて、第1及び/または第2隔壁PW1、PW2をそれぞれの発光領域EMAごとに異なる高さで形成すると、第1発光領域EMA1から放出される光と第2発光領域EMA2から放出される光のプロファイルが互いに異なる様相を帯びることができる。これにより、それぞれの発光装置及びこれを含む画素PXLから放出される光をより広い視野角範囲に分散して放出することができる。また、第1及び/または第2隔壁PW1、PW2の高さを調整することにより、所望する視野角の範囲に合わせてそれぞれの発光領域EMAから放出される光のプロファイルを容易に制御することができる。
図23は本発明の一実施例による発光装置を示した平面図で、一例として、上記発光装置を含む画素PXLの実施例を示した。図24は本発明の一実施例による発光装置を示した断面図で、一例として、図23のIII~III’線に対応する隔壁(例えば、第2隔壁PW2)の構造を示した。図24には、本実施例による隔壁の構造を明確に示すために、図23のIII~III’線に沿った第2隔壁PW2及び第2電極ELT2の断面のみを概略的に示した。図25は第1及び第2隔壁PW1、PW2の有無による視野角の変化を示した断面図である。図23~図25の実施例において、図20~図22の実施例と類似または同じ構成に対しては同じ符号を付し、それに対する詳細な説明は省略する。
まず、図23及び図24を参照すると、第1及び第2隔壁PW1、PW2は、各画素PXLの発光領域EMAにおいて不連続的なパターンを有することができる。例えば、第1及び第2隔壁PW1、PW2は、第1発光領域EMA1において所定の方向、例えば、第2方向DR2に沿って連続的に延びたパターンを有してそれぞれの第1発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2と対向するように配置されてもよい。上記第1及び第2隔壁PW1、PW2は、第2発光領域EMA2では不連続的に切れたパターンを有して少なくとも1つの第2発光ダイオードLD2の第1及び第2端部EP1、EP2を露出することができる。
一方、図23及び図24の実施例では、第1及び第2隔壁PW1、PW2の全てを不連続的なパターンで構成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、他の実施例では、
第1及び第2隔壁PW1、PW2のうち一部の隔壁のみが不連続的なパターンを有することもできる。
また、図23及び図24の実施例では、第1及び第2隔壁PW1、PW2を同じ区間、例えば、同様に第2発光領域EMA2において不連続的なパターンで構成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、他の実施例では、第1隔壁PW1とこれに対向する第2隔壁PW2が異なる区間または領域で不連続的なパターンで除去されてもよい。
図25を参照すると、それぞれの発光ダイオードLDに対し、上記発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2に対向する第1及び第2隔壁PW1、PW2を選択的に除去することにより、上記発光ダイオードLDから放出される光の進行経路を制御することができる。例えば、上記発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2に対向するように第1及び第2隔壁PW1、PW2を配置すると、側面方向への視野角が制限されることができる。一方、上記発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EP2の周辺から第1及び第2隔壁PW1、PW2を除去すると、上記発光ダイオードLDから放出される光の視野角が約90°の範囲まで拡張できるようになる。
図26には本発明の一実施例による発光装置と比較例の発光装置から放出される光のプロファイルを示した。一例として、図26は上述した実施例のうち少なくとも1つを適用した発光装置から放出される光のプロファイルを、第1及び第2隔壁PW1、PW2が均一な間隔及び高さを有する比較例の発光装置から放出される光のプロファイルと比較した結果を概略的に示した。
図26を上述した実施例と結びつけて本発明の効果を説明すると、本発明の実施例では、それぞれの発光装置またはこれを含む画素PXLの発光領域EMAを複数の発光領域(例えば、第1及び第2発光領域EMA1、EMA2)に区分し、それぞれの発光領域EMAごとに第1及び第2隔壁PW1、PW2の構造を差等的に構成または設計する。これにより、画素PXL(または、これに対応する発光装置)及びこれを含む表示装置の視野角の範囲を拡張することができる。
具体的には、上述したそれぞれの実施例は個別的に適用されるか、または少なくとも2つの実施例が複合的に適用されることができる。例えば、上述した実施例のうち少なくとも1つを適用して第1及び第2隔壁PW1、PW2の間の間隔、第1及び第2隔壁PW1、PW2のそれぞれの高さ及び形状のうち少なくとも1つをそれぞれの発光領域EMAごとに差等的に適用することができる。これにより、それぞれの発光装置または画素PXLに備えられた発光ダイオードLD(特に、上記発光ダイオードLDの第1及び第2端部EP1、EPT2)から放出される光をより広い視野角範囲(例えば、最大±90°の範囲)に分散して放出することができる。
本発明の技術思想は上述した実施例に基づいて具体的に記述されたが、上記実施例はその説明のためのものであり、制限するためのものではないことに注意すべきである。また、本発明の技術分野の通常の知識を有する者であれば、本発明の技術思想の範囲内で様々な変形例が可能であることが理解できるだろう。
本発明の範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって定められるべきである。また、特許請求の範囲の意味及び範囲、そしてその均等概念から導出される全ての変更または変形された形態は本発明の範囲に含まれると解釈すべきである。

Claims (1)

  1. 第1発光ダイオードを含む第1発光領域と、
    第2発光ダイオードを含む第2発光領域と、
    前記第1発光領域及び前記第2発光領域に対向するように配置された少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁と、
    前記第1隔壁をカバーするように前記第1隔壁上に配置され、前記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第1端部に電気的に接続される少なくとも1つの第1電極と、
    前記第2隔壁をカバーするように前記第2隔壁上に配置され、前記第1及び第2発光ダイオードのうち少なくとも1つの第2端部に電気的に接続される少なくとも1つの第2電極と、を含み、
    前記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、前記第1発光領域において前記第2発光領域とは異なる構造を有し、
    前記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、前記第1発光領域及び前記第2発光領域のそれぞれにおいて、互いに第1方向に離隔するように配置され、
    前記第1隔壁及び前記第2隔壁のそれぞれは、前記第1方向と交差する第2方向に沿って延びており、
    前記少なくとも1対の第1隔壁及び第2隔壁は、
    前記第1発光領域で第1間隔分だけ互いに離隔して配置され、
    前記第2発光領域で前記第1間隔より広い第2間隔分だけ互いに離隔して配置されることを特徴とする発光装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210065239A (ko) * 2019-11-26 2021-06-04 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20210090338A (ko) * 2020-01-09 2021-07-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR20210124564A (ko) * 2020-04-03 2021-10-15 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
US20230223383A1 (en) * 2020-06-01 2023-07-13 Lg Electronics Inc. Display device manufacturing substrate, and method for manufacturing display device by using same
KR20220007818A (ko) 2020-07-10 2022-01-19 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP7389363B2 (ja) * 2021-05-26 2023-11-30 日亜化学工業株式会社 発光装置

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0744029Y2 (ja) * 1990-12-28 1995-10-09 株式会社小糸製作所 Ledモジュール
JP3065258B2 (ja) 1996-09-30 2000-07-17 日亜化学工業株式会社 発光装置及びそれを用いた表示装置
KR20030024076A (ko) * 2001-09-15 2003-03-26 씨엘디 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 그의 제조 방법
JP4575650B2 (ja) * 2003-05-27 2010-11-04 名古屋電機工業株式会社 Ledを用いた表示ユニット
US20060125716A1 (en) * 2004-12-10 2006-06-15 Wong Lye Y Light-emitting diode display with compartment
JP4411288B2 (ja) * 2005-03-23 2010-02-10 キヤノン株式会社 表示装置
JP4381428B2 (ja) 2007-04-10 2009-12-09 シャープ株式会社 微細構造体の配列方法及び微細構造体を配列した基板、並びに集積回路装置及び表示素子
JP4914929B2 (ja) 2009-10-15 2012-04-11 シャープ株式会社 発光装置およびその製造方法
KR20110041401A (ko) 2009-10-15 2011-04-21 샤프 가부시키가이샤 발광 장치 및 그 제조 방법
US8872214B2 (en) 2009-10-19 2014-10-28 Sharp Kabushiki Kaisha Rod-like light-emitting device, method of manufacturing rod-like light-emitting device, backlight, illuminating device, and display device
JP5360994B2 (ja) * 2009-11-10 2013-12-04 パナソニック株式会社 照明器具
JP4814394B2 (ja) 2010-03-05 2011-11-16 シャープ株式会社 発光装置の製造方法
WO2011111516A1 (ja) 2010-03-12 2011-09-15 シャープ株式会社 発光装置の製造方法、発光装置、照明装置、バックライト、液晶パネル、表示装置、表示装置の製造方法、表示装置の駆動方法および液晶表示装置
JP2011211047A (ja) 2010-03-30 2011-10-20 Sharp Corp 表示装置、表示装置の製造方法および表示装置の駆動方法
KR101133160B1 (ko) * 2010-04-30 2012-04-06 엘코라이팅 주식회사 Cob 타입의 램프용 led 팩키지
KR101275810B1 (ko) 2012-01-20 2013-06-18 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
WO2015005655A1 (ko) 2013-07-09 2015-01-15 피에스아이 주식회사 초소형 led 전극어셈블리 및 이의 제조방법
KR101436123B1 (ko) 2013-07-09 2014-11-03 피에스아이 주식회사 초소형 led를 포함하는 디스플레이 및 이의 제조방법
KR101628345B1 (ko) 2014-07-08 2016-06-09 피에스아이 주식회사 초소형 led 전극어셈블리의 제조방법
GB201418810D0 (en) 2014-10-22 2014-12-03 Infiniled Ltd Display
KR101713818B1 (ko) 2014-11-18 2017-03-10 피에스아이 주식회사 초소형 led 소자를 포함하는 전극어셈블리 및 그 제조방법
KR101672781B1 (ko) 2014-11-18 2016-11-07 피에스아이 주식회사 수평배열 어셈블리용 초소형 led 소자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 수평배열 어셈블리
KR102465382B1 (ko) 2015-08-31 2022-11-10 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 표시장치의 제조방법
CN108369787B (zh) * 2015-12-11 2021-02-09 株式会社半导体能源研究所 显示装置
KR101730977B1 (ko) 2016-01-14 2017-04-28 피에스아이 주식회사 초소형 led 전극어셈블리
KR102148313B1 (ko) * 2016-03-15 2020-08-26 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드 프라이버시 필름 필터, 디스플레이 디바이스, 및 디바이스 및 이것을 위한 제조 방법
KR101987196B1 (ko) 2016-06-14 2019-06-11 삼성디스플레이 주식회사 픽셀 구조체, 픽셀 구조체를 포함하는 표시장치 및 그 제조 방법
CN113436546B (zh) * 2016-07-11 2023-05-30 三星显示有限公司 像素结构、显示设备以及制造该像素结构的方法
KR102608419B1 (ko) * 2016-07-12 2023-12-01 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 표시장치의 제조방법
KR20180060816A (ko) * 2016-11-29 2018-06-07 엘지이노텍 주식회사 반도체 소자 및 이를 포함하는 표시 장치
US10790330B2 (en) 2016-11-24 2020-09-29 Lg Innotek Co., Ltd. Semiconductor device and display device comprising same
KR102587215B1 (ko) * 2016-12-21 2023-10-12 삼성디스플레이 주식회사 발광 장치 및 이를 구비한 표시 장치
KR101711187B1 (ko) 2017-01-20 2017-03-06 피에스아이 주식회사 초소형 led 전극어셈블리
KR102559514B1 (ko) 2018-04-13 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
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