JP2023093123A - Coating device and coating method - Google Patents

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Abstract

To suppress defects of a coating film formed on a base material provided with an opening part.SOLUTION: A coating device 20 coats coating liquid C to both faces of a base material 2, and includes: first and second blocks 21, 22 which face to each other in a thickness direction of the base material 2; and a liquid pool part 23 which is formed so that the coating liquid C is pooled in a gap between the first and second blocks 21, 22 and through which the base material 2 is passed. The liquid pool part 23 includes: a base material introducing port 24 which opens to an upstream side in the conveying direction of the base material 2 and into which the base material 2 is introduced; a base material discharge port 25 which opens to a downstream side in the conveying direction and through which the base material 2 is discharged; and side face parts 26 which are located respectively at both sides in a width direction. An opening edge part 25a of the base material discharge port 25 includes a first inclination part R1 and a second inclination part R2 inclining in a direction G perpendicular to the conveying direction when viewed in the width direction and the thickness direction.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、塗工装置及び塗工方法に関する。 The present disclosure relates to a coating apparatus and a coating method.

例えばロールtoロール法によって搬送されるシート状の基材の両面に塗膜を形成するための塗工装置に関して、種々の技術が開示されている。 Various techniques have been disclosed with respect to coating apparatuses for forming coating films on both sides of a sheet-like substrate conveyed by, for example, a roll-to-roll method.

例えば、特許文献1に開示の塗布装置(塗工装置)では、先ず、連続搬送される長尺のシート状基材を塗液が溜められた浸漬槽に浸けることによって、基材の両面に対して塗液を塗布する。その後、基材を垂直方向に上昇させながら、一対の掻き落としロールによって、基材の両面における余分な塗液を掻き落とす。これにより、基材の両面に、一定の厚みの塗膜が形成される。 For example, in the coating apparatus (coating apparatus) disclosed in Patent Document 1, first, a continuously conveyed long sheet-like substrate is immersed in an immersion tank in which a coating liquid is stored, so that both surfaces of the substrate are coated. to apply the coating liquid. After that, while the substrate is being lifted in the vertical direction, excess coating liquid is scraped off from both sides of the substrate with a pair of scraping rolls. Thereby, a coating film having a constant thickness is formed on both surfaces of the substrate.

特開昭64-7965号公報JP-A-64-7965

ところで、スリット等の開口部が設けられた基材の両面や側面に塗膜を形成しようとした場合、当該開口部が塗液で塞がったり、基材の側面に塗液が十分に行き渡らなかったり、基材の両面に形成される塗膜の厚みが基材搬送方向において不均一になったりすること等がある。 By the way, when it is attempted to form a coating film on both sides or side surfaces of a base material provided with openings such as slits, the openings may be clogged with the coating liquid, or the coating liquid may not sufficiently spread over the side surfaces of the base material. Also, the thickness of the coating film formed on both sides of the base material may become non-uniform in the direction of conveyance of the base material.

このように、基材に開口部が設けられている場合、ユーザの意図に反して、基材の両面や側面に形成される塗膜に不良が生じることがある。 Thus, when the opening is provided in the base material, defects may occur in the coating films formed on both sides or side surfaces of the base material against the user's intention.

本開示は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、開口部が設けられた基材に形成される塗膜の不良を抑制することにある。 The present disclosure has been made in view of such points, and an object of the present disclosure is to suppress defects in a coating film formed on a substrate provided with openings.

本開示に係る塗工装置は、搬送されるシート状の基材の両面に対して塗液を塗布する塗工装置であって、上記基材の厚み方向に互いに対向する一対のブロックと、上記一対のブロック同士の隙間に上記塗液が溜まるように形成されるとともに、上記基材が通る液溜り部と、を備え、上記液溜り部は、上記基材の搬送方向における上流側に開口し、上記基材が導入される基材導入口と、上記搬送方向における下流側に開口し、上記基材が排出される基材排出口と、上記搬送方向に交差する幅方向の両側にそれぞれ位置する側面部と、を含み、上記基材排出口の開口縁部は、上記幅方向及び上記厚み方向の少なくとも一方に見て、上記搬送方向に垂直な方向に対して傾斜する傾斜部を、含む。 A coating apparatus according to the present disclosure is a coating apparatus that applies a coating liquid to both surfaces of a conveyed sheet-like substrate, and includes a pair of blocks facing each other in the thickness direction of the substrate, and the a liquid reservoir formed in a gap between the pair of blocks so that the coating liquid is accumulated, and through which the substrate passes, the liquid reservoir opening upstream in the conveying direction of the substrate. , a base material inlet through which the base material is introduced, a base material outlet opening downstream in the conveying direction and through which the base material is discharged, and positions on both sides in the width direction intersecting the conveying direction. and the opening edge of the substrate discharge port includes an inclined portion inclined with respect to a direction perpendicular to the conveying direction when viewed in at least one of the width direction and the thickness direction. .

本開示に係る塗工方法は、上記塗工装置を用いて、開口部が設けられた上記基材を上記液溜り部に通す。 In the coating method according to the present disclosure, the coating apparatus is used to pass the base material provided with the opening through the liquid reservoir.

本開示によれば、開口部が設けられた基材に形成される塗膜の不良を抑制することができる。 According to the present disclosure, it is possible to suppress defects in the coating film formed on the substrate provided with the openings.

図1は、本開示の第1の実施形態に係る塗工装置を含む塗工システムを模式的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a coating system including a coating device according to a first embodiment of the present disclosure. 図2は、第1の実施形態に係る塗工装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the coating device according to the first embodiment. 図3は、第1の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the coating device according to the first embodiment. 図4は、第1の実施形態に係る塗工装置の側面図である。FIG. 4 is a side view of the coating device according to the first embodiment. 図5は、第1の実施形態に係る塗工装置の基材排出口近傍を拡大して示す拡大正面図である。FIG. 5 is an enlarged front view showing the vicinity of the base material outlet of the coating apparatus according to the first embodiment. 図6は、第2の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a coating device according to the second embodiment. 図7は、第3の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 7 is a plan view of a coating device according to the third embodiment. 図8は、第4の実施形態に係る塗工装置の拡大正面図である。FIG. 8 is an enlarged front view of a coating device according to a fourth embodiment. 図9は、第5の実施形態に係る塗工装置の拡大正面図である。FIG. 9 is an enlarged front view of a coating device according to a fifth embodiment. 図10は、第6の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 10 is a plan view of a coating device according to the sixth embodiment. 図11は、第7の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a coating device according to the seventh embodiment. 図12は、第8の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 12 is a plan view of a coating device according to the eighth embodiment. 図13は、第9の実施形態に係る塗工装置の正面図である。FIG. 13 is a front view of a coating device according to the ninth embodiment. 図14は、第10の実施形態に係る塗工装置の平面図である。FIG. 14 is a plan view of a coating device according to the tenth embodiment. 図15は、第11の実施形態に係る塗工装置の拡大正面図である。FIG. 15 is an enlarged front view of a coating device according to the eleventh embodiment. 図16は、第12の実施形態に係る塗工装置の側面図である。FIG. 16 is a side view of a coating device according to the twelfth embodiment. 図17は、第13の実施形態に係る塗工装置を模式的に示す図である。FIG. 17 is a diagram schematically showing a coating device according to the thirteenth embodiment. 図18は、従来の塗工装置において、基材に形成される塗膜に不良が生じるメカニズムを模式的に示す。FIG. 18 schematically shows a mechanism by which defects occur in a coating film formed on a substrate in a conventional coating apparatus.

以下、本開示の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物あるいはその用途を制限することを意図するものでは全くない。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail based on the drawings. The following description of preferred embodiments is merely exemplary in nature and is in no way intended to limit the disclosure, its applicability or its uses.

<第1の実施形態>
(装置構成)
図1は、本開示の第1の実施形態に係る塗工システム1を模式的に示す。塗工システム1は、基材2の両面に塗膜Fを連続的に形成するためのものである。塗工システム1は、基材供給装置10、塗工装置20及び塗液供給装置40から構成されてなる。
<First embodiment>
(Device configuration)
FIG. 1 schematically shows a coating system 1 according to a first embodiment of the present disclosure. The coating system 1 is for continuously forming coating films F on both surfaces of a substrate 2 . The coating system 1 is composed of a substrate supply device 10 , a coating device 20 and a coating liquid supply device 40 .

基材2は、長尺のシート状に形成されている。基材2としては、例えば、金属箔、樹脂フィルム、織布、不織布、紙等がある。基材2の塗膜Fを含まない厚み寸法t(図5参照)は、例えば1mm以下である。 The base material 2 is formed in a long sheet shape. Examples of the substrate 2 include metal foil, resin film, woven fabric, non-woven fabric, and paper. The thickness dimension t (see FIG. 5) of the substrate 2 not including the coating film F is, for example, 1 mm or less.

基材供給装置10は、ロールtoロール法によって、基材2を、その長手方向を搬送方向(Xで示す)として連続搬送する。具体的には、基材供給装置10は、基材2を巻出機11で巻き出して巻取機12で巻き取ることによって、基材2を連続搬送する。搬送される基材2は、途中、第1ロール13及び第2ロール14を通る。 The base material supply device 10 continuously conveys the base material 2 by the roll-to-roll method, with the longitudinal direction being the conveyance direction (indicated by X). Specifically, the base material supply device 10 continuously conveys the base material 2 by unwinding the base material 2 with an unwinder 11 and winding it up with a winder 12 . The conveyed substrate 2 passes through the first roll 13 and the second roll 14 on the way.

基材2の搬送方向において、第1ロール13と第2ロール14との間には、塗工装置20が配置されている。塗工装置20は、詳細は後述するが、連続搬送されるシート状の基材2の両面に対して塗液Cを塗布して、基材2の両面に塗膜Fを形成する。塗工装置20によって両面に塗膜Fが形成された基材2は、乾燥炉(図示せず)で乾燥されて塗膜F内に含まれる揮発成分が除去された後、巻取機12に巻き取られる。 A coating device 20 is arranged between the first roll 13 and the second roll 14 in the conveying direction of the base material 2 . The coating device 20 , which will be described later in detail, applies the coating liquid C to both surfaces of the continuously conveyed sheet-like substrate 2 to form coating films F on both surfaces of the substrate 2 . The substrate 2 on which the coating film F is formed on both sides by the coating device 20 is dried in a drying oven (not shown) to remove volatile components contained in the coating film F, and then is sent to the winder 12. be wound up.

塗工装置20の構成について、詳細に説明する。図2~5は本実施形態に係る塗工装置20を示し、図2は正面図(II矢視図)、図3は平面図(III矢視図)、図4は側面図(IV矢視図)、図5は後述する基材排出口25近傍の拡大正面図である。 A configuration of the coating device 20 will be described in detail. 2 to 5 show the coating device 20 according to the present embodiment, FIG. 2 is a front view (view from arrow II), FIG. 3 is a plan view (view from arrow III), and FIG. 4 is a side view (view from arrow IV). ), and FIG. 5 is an enlarged front view of the vicinity of the substrate outlet 25, which will be described later.

なお、本実施形態において、基材2の搬送方向(長手方向)及び幅方向(Yで示す)は、水平方向である。基材2の幅方向は、基材2の搬送方向に交差、具体的には直交している。基材2の厚み方向(Zで示す)は、鉛直方向である。 In addition, in this embodiment, the transport direction (longitudinal direction) and the width direction (indicated by Y) of the base material 2 are horizontal directions. The width direction of the substrate 2 intersects, specifically, orthogonally crosses the conveying direction of the substrate 2 . The thickness direction (indicated by Z) of the substrate 2 is the vertical direction.

塗工装置20は、図2に示すように、一対のブロック、具体的には第1ブロック21及び第2ブロック22を備える。第1ブロック21と第2ブロック22とは、基材2の厚み方向に互いに所定の間隔を空けて配置されており、基材2の厚み方向に互いに対向している。各ブロック21,22は、略直方体状に形成されており、その長手方向が基材2の搬送方向に沿うように配置されている。 The coating device 20 includes a pair of blocks, specifically a first block 21 and a second block 22, as shown in FIG. The first block 21 and the second block 22 are arranged at a predetermined distance from each other in the thickness direction of the base material 2 and face each other in the thickness direction of the base material 2 . Each of the blocks 21 and 22 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and is arranged so that the longitudinal direction thereof is along the conveying direction of the base material 2 .

図3,4において、L1は、各ブロック21,22の長さ寸法である。L2は、各ブロック21,22の幅寸法である。L3は、各ブロック21,22の厚み寸法である。各ブロック21,22の長さ寸法L1は、基材2の厚み寸法t(図5参照)に対して、十分大きい(例えば100倍以上)ことが好ましい。Bは、基材2の幅寸法である。 3 and 4, L1 is the length dimension of each block 21,22. L2 is the width dimension of each of the blocks 21 and 22; L3 is the thickness dimension of each of the blocks 21 and 22; It is preferable that the length dimension L1 of each block 21 and 22 is sufficiently large (for example, 100 times or more) with respect to the thickness dimension t (see FIG. 5) of the base material 2 . B is the width dimension of the substrate 2 .

図2に示すように、一対のブロック同士の隙間23、すなわち第1ブロック21と第2ブロック22との隙間23には、塗液Cが溜まるように、液溜り部が形成されている(以下、「液溜り部23」という)。基材2が液溜り部23を通ることによって、基材2の両面に対して塗液Cが塗布されて、基材2の両面に塗膜Fが形成される。 As shown in FIG. 2, in a gap 23 between a pair of blocks, that is, a gap 23 between the first block 21 and the second block 22, a liquid reservoir is formed so that the coating liquid C is accumulated (hereinafter referred to as , “liquid reservoir 23”). As the base material 2 passes through the liquid reservoir 23 , the coating liquid C is applied to both surfaces of the base material 2 to form coating films F on both surfaces of the base material 2 .

塗液Cは、ペースト状又はスラリー状であることが好ましい。塗液Cの粘度ηは、1mPa・s以上であることが好ましく、1Pa・s~1000Pa・sであることがより好ましい。塗液Cは、例えば、シリカ、低融点ガラス、アルミナ・酸化チタン等の金属酸化物粒子を含んだ絶縁体材料や、はんだ、銅、銀、金属被覆した粒子等の金属粒子や、ニッケル酸リチウム、マンガン酸リチウム、コバルト酸リチウム、カーボン等を含んだ導電性材料や、染料、等を用いることができる。 The coating liquid C is preferably in the form of paste or slurry. The viscosity η of the coating liquid C is preferably 1 mPa·s or more, more preferably 1 Pa·s to 1000 Pa·s. The coating liquid C includes, for example, silica, low-melting glass, insulator materials containing metal oxide particles such as alumina and titanium oxide, metal particles such as solder, copper, silver, and metal-coated particles, and lithium nickel oxide. , lithium manganate, lithium cobaltate, a conductive material containing carbon or the like, a dye, or the like can be used.

Hは、第1ブロック21と第2ブロック22との隙間寸法を示す。隙間寸法Hは、基材2が通過可能なように、基材2の厚み寸法t(例えば0.1mm以下)よりも大きい。隙間寸法Hは、極力小さい方がよく、0.1mm以上1mm以下であることが好ましい。 H indicates the dimension of the gap between the first block 21 and the second block 22 . The gap dimension H is larger than the thickness dimension t (for example, 0.1 mm or less) of the base material 2 so that the base material 2 can pass through. The gap dimension H should be as small as possible, preferably 0.1 mm or more and 1 mm or less.

液溜り部23は、基材2の搬送方向における上流側(図2における左側)に開口する基材導入口24と、基材2の搬送方向における下流側(図2における右側)に開口する基材排出口25と、を含む。基材導入口24と基材排出口25とは、搬送方向において、互いに対向している。基材2は、基材導入口24から導入されて、液溜り部23を通って、基材排出口25から排出される。なお、基材排出口25の詳細については、後述する。 The liquid reservoir 23 includes a base material introduction port 24 that opens upstream (left side in FIG. 2) in the conveying direction of the base material 2 and a base that opens downstream (right side in FIG. 2) in the conveying direction of the base material 2. and a material outlet 25 . The base material introduction port 24 and the base material discharge port 25 face each other in the transport direction. The substrate 2 is introduced from the substrate introduction port 24 , passes through the liquid reservoir 23 , and is discharged from the substrate discharge port 25 . Details of the base material outlet 25 will be described later.

図3,4に示すように、液溜り部23は、基材2の幅方向における両側にそれぞれ位置する側面部26を含む。側面部26とは、液溜り部23の幅方向端部を構成する搬送方向及び厚み方向に延びる面をいう。側面部26は、幅方向一方側(図4における右側)の第1側面部26a及び幅方向他方側(図4における左側)の第2側面部26bから構成されている。第1側面部26aと第2側面部26bとは、幅方向において、互いに対向している。 As shown in FIGS. 3 and 4, the liquid reservoir 23 includes side portions 26 located on both sides of the substrate 2 in the width direction. The side surface portion 26 is a surface extending in the conveying direction and the thickness direction forming the width direction end portion of the liquid pool portion 23 . The side portion 26 is composed of a first side portion 26a on one side in the width direction (right side in FIG. 4) and a second side portion 26b on the other side in the width direction (left side in FIG. 4). The first side portion 26a and the second side portion 26b face each other in the width direction.

図4に示すように、幅方向における片側の側面部26、詳細には幅方向他方側の第2側面部26bには、露出口29が設けられている。露出口29は、第2側面部26bにおいて、基材導入口24側(上流側)から基材排出口25側(下流側)に亘って、開口している(図2参照)。すなわち、第2側面部26bは、開放されている。図4に示すように、露出口29からは、基材2の幅方向における一部が、液溜り部23の外部に突出可能である。 As shown in FIG. 4, an exposure opening 29 is provided in the side surface portion 26 on one side in the width direction, more specifically, in the second side surface portion 26b on the other side in the width direction. The exposure port 29 is open on the second side surface portion 26b from the substrate introduction port 24 side (upstream side) to the substrate discharge port 25 side (downstream side) (see FIG. 2). That is, the second side portion 26b is open. As shown in FIG. 4 , a portion of the substrate 2 in the width direction can protrude outside the liquid reservoir 23 through the exposure opening 29 .

図4に示すように、幅方向における片側の側面部26、詳細には幅方向一方側の第1側面部26aには、露出口29が設けられていない。すなわち、第1側面部26aは、閉塞している。第1側面部26aは、液溜り部23の幅方向一方側を覆うサイドブロック27における液溜り部23に臨む側面で構成されている。サイドブロック27は、略直方体状に形成されている。第1ブロック21及び第2ブロック22並びにサイドブロック27は、互いに一体物で形成されてもよい。 As shown in FIG. 4, the side surface portion 26 on one side in the width direction, specifically, the first side surface portion 26a on one side in the width direction is not provided with the exposure opening 29. As shown in FIG. That is, the first side surface portion 26a is closed. The first side surface portion 26 a is formed by a side surface of a side block 27 that covers one widthwise side of the liquid pool portion 23 and faces the liquid pool portion 23 . The side block 27 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. The first block 21, the second block 22 and the side blocks 27 may be formed integrally with each other.

図2,4に示すように、第1ブロック21における液溜り部23に臨む面には、塗液供給口31が設けられている。同様に、第2ブロック22における液溜り部23に臨む面には、塗液供給口31が設けられている。塗液供給口31は、液溜り部23に臨むとともに、液溜り部23に塗液Cを供給する。 As shown in FIGS. 2 and 4 , a coating liquid supply port 31 is provided on the surface of the first block 21 facing the liquid pool portion 23 . Similarly, a coating liquid supply port 31 is provided on the surface of the second block 22 facing the liquid pool portion 23 . The coating liquid supply port 31 faces the liquid pool portion 23 and supplies the coating liquid C to the liquid pool portion 23 .

図3に示すように、塗液供給口31は、液溜り部23(第1ブロック21及び第2ブロック22)における幅方向他端部(露出口29近傍)に、配置されている。塗液供給口31は、搬送方向に並んで複数個(具体的には、各ブロック21,22に3個ずつ)配置されている。 As shown in FIG. 3, the coating liquid supply port 31 is arranged at the other widthwise end portion (near the exposure port 29) of the liquid pool portion 23 (the first block 21 and the second block 22). A plurality of coating liquid supply ports 31 (specifically, three for each of the blocks 21 and 22) are arranged side by side in the transport direction.

図2,4に示すように、第1ブロック21の塗液供給口31と第2ブロック22の塗液供給口31とは、基材2の厚み方向に互いに対向している。図3に示すように、塗液供給口31の断面形状は、例えば円形や楕円形等である。塗液供給口31の直径は、1mm以上であることが好ましい。各塗液供給口31の断面積は、互いに等しい。なお、塗液供給口31は、1個でもよい。 As shown in FIGS. 2 and 4 , the coating liquid supply port 31 of the first block 21 and the coating liquid supply port 31 of the second block 22 face each other in the thickness direction of the substrate 2 . As shown in FIG. 3, the cross-sectional shape of the coating liquid supply port 31 is, for example, circular or elliptical. The diameter of the coating liquid supply port 31 is preferably 1 mm or more. The cross-sectional area of each coating liquid supply port 31 is equal to each other. Note that the number of coating liquid supply ports 31 may be one.

図1に示すように、塗液供給装置40は、塗液Cを塗工装置20に供給するための装置であり、塗液供給ポンプ41及び塗液供給管42で構成されている。塗液供給ポンプ41及び塗液供給管42は、第1ブロック21及び第2ブロック22の外部に、設けられている。 As shown in FIG. 1 , the coating liquid supply device 40 is a device for supplying the coating liquid C to the coating device 20 , and is composed of a coating liquid supply pump 41 and a coating liquid supply pipe 42 . The coating liquid supply pump 41 and the coating liquid supply pipe 42 are provided outside the first block 21 and the second block 22 .

図2に示すように、塗液供給管42は、塗液供給ポンプ41から供給主管42aが出発して、供給主管42aから複数の供給分岐管42bに分岐している。各供給分岐管42bは、各塗液供給口31に対応している。 As shown in FIG. 2, in the coating liquid supply pipe 42, a main supply pipe 42a starts from the coating liquid supply pump 41, and branches from the main supply pipe 42a into a plurality of branch supply pipes 42b. Each supply branch pipe 42 b corresponds to each coating liquid supply port 31 .

ここで、図1,2,4に示すように、第1ブロック21及び第2ブロック22の内部には、各塗液供給口31に対応するように、塗液供給路33が設けられている。塗液供給路33は、その上流側で塗液供給管42を介して塗液供給ポンプ41に連通しているとともに、その下流側で塗液供給口31に連通している。塗液供給路33は、厚み方向に略真直ぐに延びている。なお、第1ブロック21及び第2ブロック22の内部に、マニホールドがあってもよい。 Here, as shown in FIGS. 1, 2 and 4, coating liquid supply paths 33 are provided inside the first block 21 and the second block 22 so as to correspond to the respective coating liquid supply ports 31. . The coating liquid supply path 33 communicates with the coating liquid supply pump 41 via the coating liquid supply pipe 42 on its upstream side, and communicates with the coating liquid supply port 31 on its downstream side. The coating liquid supply path 33 extends substantially straight in the thickness direction. A manifold may be provided inside the first block 21 and the second block 22 .

塗液供給ポンプ41は、例えば、スクリューポンプ、ダイアフラムポンプ、シリンジポンプ又はチューブポンプ等の定量供給可能なものを採用することが好ましい。塗液供給ポンプ41の代わりに、塗液供給機構として、供給タンクに圧縮空気を導入して圧力送液してもよい。図示しないが、塗工停止時において液溜り部23の塗液Cを除去するために、塗液排出機構を設けてもよい。 The coating liquid supply pump 41 preferably employs, for example, a screw pump, a diaphragm pump, a syringe pump, or a tube pump capable of supplying a constant amount of liquid. Instead of the coating liquid supply pump 41, compressed air may be introduced into the supply tank to supply the liquid under pressure as a coating liquid supply mechanism. Although not shown, a coating liquid discharge mechanism may be provided to remove the coating liquid C in the liquid pool 23 when coating is stopped.

塗液供給口31を介して液溜り部23に供給される塗液Cの量は、基材排出口25を介して液溜り部23から基材2と伴に排出される塗液C(塗膜F)の量と、塗液排出機構によって液溜り部23から排出される塗液Cの量と、の和に略等しい。より具体的には、塗液供給口31を介して液溜り部23に供給される塗液Cの量は、基材排出口25を介して液溜り部23から基材2と伴に排出される塗液C(塗膜F)の量よりも多い。そして、液溜り部23における余剰の塗液Cは、塗液排出機構によって液溜り部23から排出される。 The amount of the coating liquid C supplied to the liquid reservoir 23 through the coating liquid supply port 31 is equal to the amount of the coating liquid C discharged together with the substrate 2 from the liquid reservoir 23 through the substrate discharge port 25 . It is substantially equal to the sum of the amount of the film F) and the amount of the coating liquid C discharged from the liquid reservoir 23 by the coating liquid discharge mechanism. More specifically, the amount of the coating liquid C supplied to the liquid reservoir 23 through the coating liquid supply port 31 is discharged together with the substrate 2 from the liquid reservoir 23 through the substrate outlet 25 . It is larger than the amount of coating liquid C (coating film F). Excess coating liquid C in the liquid pool portion 23 is discharged from the liquid pool portion 23 by the coating liquid discharge mechanism.

ここで、図3に示すように、基材2には、開口部3が設けられている。本実施形態では、開口部3は、基材2の幅方向に沿って延びるスリットで構成されている(以下、「スリット3」という場合がある)。スリット3は、基材2の幅方向に長手である。スリット3の長手方向(基材2の幅方向)における幅寸法は、d1である。スリット3の搬送方向における開口幅は、d2である。 Here, as shown in FIG. 3, the substrate 2 is provided with openings 3 . In the present embodiment, the openings 3 are composed of slits extending along the width direction of the substrate 2 (hereinafter sometimes referred to as "slits 3"). The slit 3 is long in the width direction of the base material 2 . The width dimension of the slit 3 in the longitudinal direction (the width direction of the substrate 2) is d1. The opening width of the slit 3 in the transport direction is d2.

スリット3は、基材2の幅方向一方側2a(詳細には、幅方向一端部)に、複数設けられている。スリット3は、基材2の幅方向他方側2bには設けられていない。スリット3は、幅方向中央側(幅方向他方側)の基端部(根元部分)3aと、幅方向一方側の先端部3bと、を含む。スリット3の幅方向一方側の先端部3bは、開放されている。複数のスリット3は、搬送方向に並んでいる。基材2は、いわゆる櫛歯状に形成されている。 A plurality of slits 3 are provided on one side 2a in the width direction of the substrate 2 (more specifically, one end in the width direction). The slit 3 is not provided on the other side 2 b in the width direction of the base material 2 . The slit 3 includes a base end portion (base portion) 3a on the center side in the width direction (the other side in the width direction) and a tip portion 3b on the one side in the width direction. A tip portion 3b on one side in the width direction of the slit 3 is open. The plurality of slits 3 are arranged in the transport direction. The base material 2 is formed in a so-called comb shape.

なお、開口部3の態様は、スリットに限定されない。開口部3は、例えば、基材2の表面に設けられたスリット、切り欠き、貫通孔、凹部や、基材2の側面に設けられた隙間部(例えば、搬送方向に隣り合うノコギリ歯同士の隙間)や、基材2の全体に設けられた網目、多孔質、等を包括した概念である。基材2は、本実施形態のようなフラット状に限定されない。基材2は、例えば、パンチングメタル、メッシュ材、多孔質材等で構成されたり、ノコギリ形状、梯子形状等に形成されたりしてもよい。 In addition, the form of the opening 3 is not limited to a slit. The openings 3 are, for example, slits, cutouts, through holes, or recesses provided on the surface of the base material 2, or gaps provided on the side surface of the base material 2 (for example, between sawtooth teeth adjacent to each other in the conveying direction). It is a concept that encompasses the gaps), meshes provided over the entire substrate 2, porosity, and the like. The substrate 2 is not limited to a flat shape as in this embodiment. The base material 2 may be made of, for example, a punching metal, a mesh material, a porous material, or the like, or may be formed in a sawtooth shape, a ladder shape, or the like.

基材排出口25について、詳細に説明する。図4に示すように、搬送方向に見て基材排出口25(液溜り部23)の周囲(周縁部)には、基材排出口25の開口縁部25aがある。基材排出口25の開口縁部25aは、第1ブロック21の搬送方向下流側の面、第2ブロック22の搬送方向下流側の面及びサイドブロック27の搬送方向下流側の面で、構成されている。基材排出口25の開口縁部25aは、搬送方向に見て、幅方向他方側(露出口29側)が開口する略コ字状に、形成されている。基材排出口25の開口縁部25aは、搬送方向下流側に臨んでいる。 The base material discharge port 25 will be described in detail. As shown in FIG. 4, there is an opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 around (periphery) the base material discharge port 25 (liquid pool portion 23) when viewed in the conveying direction. The opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 is composed of the downstream surface of the first block 21 in the transport direction, the downstream surface of the second block 22 in the transport direction, and the downstream surface of the side block 27 in the transport direction. ing. The opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 is formed in a substantially U shape that is open on the other side in the width direction (the exposure port 29 side) when viewed in the conveying direction. An opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 faces the downstream side in the conveying direction.

図2に示すように、基材排出口25の開口縁部25aは、幅方向に見て、搬送方向に垂直な方向(面)Gに対して傾斜する第1傾斜部R1を、含む。第1傾斜部R1は、第1ブロック21の搬送方向下流側の面及び第2ブロック22の搬送方向下流側の面で、構成されている。 As shown in FIG. 2, the opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 includes a first inclined portion R1 inclined with respect to a direction (plane) G perpendicular to the transport direction when viewed in the width direction. The first inclined portion R1 is composed of a surface of the first block 21 on the downstream side in the transport direction and a surface of the second block 22 on the downstream side in the transport direction.

図2に示すように、第1傾斜部R1は、幅方向に見て、第1ブロック21及び第2ブロック22(一対のブロック)における厚み方向内側、すなわち厚み方向の液溜り部23側に、設けられている。詳細には、第1傾斜部R1は、第1ブロック21及び第2ブロック22における厚み方向内側(液溜り部23側)且つ搬送方向下流側の角部を、面取りすることで得られる。 As shown in FIG. 2, the first inclined portion R1 is located on the inside in the thickness direction of the first block 21 and the second block 22 (a pair of blocks) when viewed in the width direction, that is, on the liquid pool portion 23 side in the thickness direction. is provided. Specifically, the first inclined portion R1 is obtained by chamfering corners of the first block 21 and the second block 22 on the inner side in the thickness direction (liquid pool portion 23 side) and on the downstream side in the transport direction.

そして、第1傾斜部R1は、幅方向に見て、厚み方向内側、すなわち厚み方向の液溜り部23側に、臨んでいる。さらに、第1傾斜部R1は、幅方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、厚み方向外側、すなわち厚み方向の液溜り部23とは反対側に、延びている。 When viewed in the width direction, the first inclined portion R1 faces the inner side in the thickness direction, that is, the side of the liquid pool portion 23 in the thickness direction. Furthermore, the first inclined portion R1 extends from the upstream side to the downstream side in the transport direction when viewed in the width direction, and extends to the outside in the thickness direction, that is, to the side opposite to the liquid pool portion 23 in the thickness direction.

第1傾斜部R1は、幅方向に見て、搬送方向に垂直な方向Gに対して、搬送方向下流側に第1傾斜角度θ1で傾斜している。第1傾斜角度θ1は、例えば、15°以上75°以下であることが好ましく、30°以上60°以下であることがより好ましい。 The first inclined portion R1 is inclined at a first inclination angle θ1 toward the downstream side in the conveying direction with respect to a direction G perpendicular to the conveying direction when viewed in the width direction. The first inclination angle θ1 is, for example, preferably 15° or more and 75° or less, and more preferably 30° or more and 60° or less.

図3に示すように、基材排出口25の開口縁部25aは、厚み方向に見て、搬送方向に垂直な方向(面)Gに対して傾斜する第2傾斜部R2を、含む。第2傾斜部R2は、第1ブロック21の搬送方向下流側の面及び第2ブロック22の搬送方向下流側の面で、構成されている。 As shown in FIG. 3, the opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 includes a second inclined portion R2 inclined with respect to a direction (plane) G perpendicular to the conveying direction when viewed in the thickness direction. The second inclined portion R2 is composed of the surface of the first block 21 on the downstream side in the transport direction and the surface of the second block 22 on the downstream side in the transport direction.

図3に示すように、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、第1ブロック21及び第2ブロック22(一対のブロック)における幅方向他方側、すなわち幅方向の露出口29側に、設けられている。詳細には、第2傾斜部R2は、第1ブロック21及び第2ブロック22の幅方向他方側(露出口29側)且つ搬送方向下流側の角部を、面取りすることで得られる。 As shown in FIG. 3, the second inclined portion R2 is located on the other side in the width direction of the first block 21 and the second block 22 (a pair of blocks) when viewed in the thickness direction, that is, on the side of the exposure opening 29 in the width direction. is provided. Specifically, the second inclined portion R2 is obtained by chamfering the corner portions of the first block 21 and the second block 22 on the other side in the width direction (the exposure port 29 side) and on the downstream side in the transport direction.

そして、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、幅方向他方側、すなわち幅方向の露出口29側に、臨んでいる。さらに、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、幅方向一方側、すなわち幅方向の露出口29とは反対側に延びている。 The second inclined portion R2 faces the other side in the width direction, that is, the exposure opening 29 side in the width direction when viewed in the thickness direction. Further, the second inclined portion R2 extends from the upstream side to the downstream side in the transport direction when viewed in the thickness direction, and extends to one side in the width direction, that is, to the side opposite to the exposed opening 29 in the width direction.

第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向に垂直な方向Gに対して、搬送方向下流側に第2傾斜角度θ2で傾斜している。第2傾斜角度θ2は、例えば、15°以上75°以下であることが好ましく、30°以上60°以下であることがより好ましい。 The second inclined portion R2 is inclined downstream in the conveying direction at a second inclination angle θ2 with respect to a direction G perpendicular to the conveying direction when viewed in the thickness direction. The second tilt angle θ2 is, for example, preferably 15° or more and 75° or less, and more preferably 30° or more and 60° or less.

(塗工態様)
塗液供給ポンプ41を駆動することによって、塗液Cは、塗液供給管42及び塗液供給路33を介して、塗液供給口31から液溜り部23に供給される。液溜り部23に塗液Cが溜められた状態で、塗液供給口31を介して液溜り部23に塗液Cを供給しながら、基材2を液溜り部23に通す。これにより、基材2の両面に対して塗液Cが塗布されて、基材2の両面に塗膜Fが形成される。
(Coating mode)
By driving the coating liquid supply pump 41 , the coating liquid C is supplied from the coating liquid supply port 31 to the liquid reservoir 23 via the coating liquid supply pipe 42 and the coating liquid supply path 33 . With the coating liquid C stored in the liquid reservoir 23, the substrate 2 is passed through the liquid reservoir 23 while supplying the coating liquid C to the liquid reservoir 23 through the coating liquid supply port 31. - 特許庁As a result, the coating liquid C is applied to both surfaces of the substrate 2 to form coating films F on both surfaces of the substrate 2 .

塗液供給口31を介して液溜り部23に供給される塗液Cの一部は、塗膜Fとして、基材排出口25を介して液溜り部23から基材2と伴に排出される。塗液Cの残部は、塗液排出機構(図示せず)によって、液溜り部23から排出される。 A part of the coating liquid C supplied to the liquid reservoir 23 through the coating liquid supply port 31 is discharged as the coating film F from the liquid reservoir 23 through the substrate discharge port 25 together with the substrate 2 . be. The rest of the coating liquid C is discharged from the liquid reservoir 23 by a coating liquid discharge mechanism (not shown).

図3,4に示すように、基材2の幅方向一方側2aを、塗液Cを塗布する特定部位Pとする。一方、基材2の幅方向他方側2bを、塗液Cを塗布しない非特定部位Qとする。基材2を液溜り部23に通す際、基材2の非特定部位Q(幅方向他方側2b)を、露出口29から液溜り部23の外部に突出させる。これにより、基材2の特定部位P(幅方向一方側2a)の両面に対して塗液Cが塗布されて、基材2の特定部位Pの両面に塗膜Fが形成される。一方、基材2の非特定部位Q(幅方向他方側2b)の両面には、塗液Cが塗布されないので、塗膜Fが形成されない。 As shown in FIGS. 3 and 4, one side 2a in the width direction of the substrate 2 is defined as a specific portion P to which the coating liquid C is applied. On the other hand, the other side 2b in the width direction of the substrate 2 is defined as a non-specific portion Q where the coating liquid C is not applied. When passing the base material 2 through the liquid pool part 23 , the non-specific part Q (the other side 2 b in the width direction) of the base material 2 is protruded outside the liquid pool part 23 through the exposure opening 29 . As a result, the coating liquid C is applied to both surfaces of the specific portion P (one side 2a in the width direction) of the base material 2 , and the coating film F is formed on both surfaces of the specific portion P of the base material 2 . On the other hand, since the coating liquid C is not applied to both surfaces of the non-specific portion Q (the other side 2b in the width direction) of the base material 2, the coating film F is not formed.

ここで、図3に示すように、スリット3は、基材2の幅方向一方側2aに設けられているので、特定部位Pに含まれる。したがって、スリット3の内面にも、塗液Cが塗布されて、塗膜Fが形成される。さらに、基材2の幅方向一方側の側面2cも、特定部位Pに含まれる。したがって、基材2の幅方向一方側の側面2cにも、塗液Cが塗布されて、塗膜Fが形成される。 Here, as shown in FIG. 3, the slit 3 is included in the specific portion P because it is provided on one side 2a in the width direction of the base material 2. As shown in FIG. Therefore, the coating fluid C is also applied to the inner surface of the slit 3 to form a coating film F. Furthermore, the side surface 2 c on one side in the width direction of the base material 2 is also included in the specific portion P. Therefore, the coating liquid C is also applied to the side surface 2c on one side in the width direction of the base material 2, and the coating film F is formed.

基材2が基材排出口25を介して液溜り部23から排出される際、基材排出口25の近傍において、基材2の両面に塗布された塗液Cに対して、強いせん断力が加わる。このため、図5に示すように、基材2の塗膜Fを含めた厚み寸法Tは、基材排出口25(液溜り部23)の隙間寸法Hに対して、やや小さくなる。 When the base material 2 is discharged from the liquid reservoir 23 through the base material discharge port 25, a strong shearing force is applied to the coating liquid C applied to both surfaces of the base material 2 in the vicinity of the base material discharge port 25. is added. Therefore, as shown in FIG. 5, the thickness dimension T of the substrate 2 including the coating film F is slightly smaller than the gap dimension H of the substrate discharge port 25 (liquid pool portion 23).

図18は、従来の塗工装置20’において、基材2に形成される塗膜Fに不良が生じるメカニズムを模式的に示す。なお、この塗工装置20’は、本願発明者等が開発したものである。 FIG. 18 schematically shows the mechanism by which defects occur in the coating film F formed on the substrate 2 in the conventional coating apparatus 20'. The coating device 20' was developed by the inventors of the present application.

塗工装置20’では、基材排出口25の開口縁部25aは、幅方向及び厚み方向のいずれに見ても、搬送方向に対して垂直に延びている。すなわち、基材排出口25の開口縁部25aは、第1傾斜部R1及び第2傾斜部R2のいずれをも含まない。なお、図18では、簡単のため、基材排出口25の開口縁部25aを幅方向に見た場合のみを、図示する。その他の構成は、本実施形態に係る塗工装置20と同様である。 In the coating apparatus 20', the opening edge 25a of the base material discharge port 25 extends perpendicularly to the conveying direction when viewed in both the width direction and the thickness direction. That is, the opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 does not include either the first inclined portion R1 or the second inclined portion R2. For simplicity, FIG. 18 shows only the opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 viewed in the width direction. Other configurations are the same as those of the coating device 20 according to the present embodiment.

図18に示すように、塗工装置20’では、基材2のスリット3が液溜り部23を通過すると、基材2のスリット3に塗液Cが充填されて、スリット3が塗液Cで塞がれる(ブリッジ現象)。 As shown in FIG. 18, in the coating apparatus 20', when the slit 3 of the base material 2 passes through the liquid reservoir 23, the slit 3 of the base material 2 is filled with the coating liquid C, and the slit 3 is filled with the coating liquid C. blocked (bridge phenomenon).

特に基材2の搬送速度が速い場合、基材2が基材排出口25から排出される際に、基材2の両面に塗布された塗液Cに対して、強いせん断力が加わる。これにより、基材2の搬送方向とは反対方向に塗液Cが流れる尾引き現象が、発生する。このため、基材2の搬送速度が速い場合には、スリット3が、塗液Cによって、より一層、塞がれやすくなる。 In particular, when the substrate 2 is conveyed at a high speed, a strong shearing force is applied to the coating liquid C applied to both surfaces of the substrate 2 when the substrate 2 is discharged from the substrate discharge port 25 . As a result, a trailing phenomenon occurs in which the coating liquid C flows in a direction opposite to the conveying direction of the substrate 2 . Therefore, when the substrate 2 is conveyed at a high speed, the slit 3 is more likely to be blocked by the coating liquid C. As shown in FIG.

次に、基材2のスリット3が基材排出口25を介して液溜り部23から排出される際、スリット3に充填された塗液Cは、基材排出口25の開口縁部25aに濡れ広がるとともに(液切れするとともに)、基材排出口25の開口縁部25aに付着して滞留する。 Next, when the slit 3 of the base material 2 is discharged from the liquid reservoir 23 through the base material discharge port 25, the coating liquid C filled in the slit 3 flows into the opening edge 25a of the base material discharge port 25. As it spreads wet (drained), it adheres to the opening edge 25a of the base material discharge port 25 and stays there.

次に、基材排出口25の開口縁部25aに塗液Cが滞留した状態で、スリット3の直ぐ後側(直ぐ上流側)のスリット縁部Kが、基材排出口25を介して液溜り部23から排出される。 Next, with the coating liquid C remaining in the opening edge portion 25 a of the base material discharge port 25 , the slit edge portion K immediately behind (immediately upstream) of the slit 3 is discharged through the base material discharge port 25 . It is discharged from the reservoir 23 .

このとき、基材排出口25の開口縁部25aに滞留する塗液Cは、スリット3の直ぐ後側(直ぐ上流側)のスリット縁部Kに、盛り上がる。すなわち、スリット縁部Kの両面に形成される塗膜Fは、厚くなってしまう。 At this time, the coating liquid C staying at the opening edge portion 25 a of the base material discharge port 25 swells on the slit edge portion K immediately behind (immediately upstream) of the slit 3 . That is, the coating film F formed on both sides of the slit edge K becomes thick.

これにより、従来の塗工装置20’では、基材2の両面に形成される塗膜Fの厚みの分布が、搬送方向において不均一になる(塗膜Fに不良が生じる)。詳細には、搬送方向に隣り合う2つのスリット3間の基材部分における前側(下流側)部分(スリット3の直ぐ後側のスリット縁部K)に形成される塗膜Fの厚みが、厚くなる。 As a result, in the conventional coating apparatus 20', the thickness distribution of the coating F formed on both surfaces of the base material 2 becomes non-uniform in the conveying direction (defects occur in the coating F). Specifically, the thickness of the coating film F formed on the front (downstream) portion (slit edge portion K immediately behind the slit 3) of the substrate portion between the two slits 3 adjacent in the conveying direction is thick. Become.

さらに、従来の塗工装置20’では、基材2のスリット3が塗液Cで塞がれること自体も、通気性の低下等の影響があるので、好ましくない。 Furthermore, in the conventional coating apparatus 20', the fact that the slit 3 of the base material 2 is blocked by the coating liquid C itself is not preferable because it has an effect such as a decrease in air permeability.

そこで、本実施形態に係る塗工装置20では、基材2に形成される塗膜Fに不良が生じないようにするために、基材排出口25の開口縁部25aに、搬送方向に垂直な方向Gに対して傾斜する第1傾斜部R1及び第2傾斜部R2を、設けた。 Therefore, in the coating apparatus 20 according to this embodiment, in order to prevent defects from occurring in the coating film F formed on the substrate 2, the opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 is provided with a film perpendicular to the conveying direction. A first inclined portion R1 and a second inclined portion R2 inclined with respect to the direction G are provided.

具体的には、図3に示すように、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、幅方向一方側、すなわち幅方向の露出口29とは反対側に延びている。 Specifically, as shown in FIG. 3, the second inclined portion R2 extends from the upstream side to the downstream side in the conveying direction when viewed in the thickness direction, and extends from the one side in the width direction, that is, the exposure opening 29 in the width direction. extends in the opposite direction.

このため、図3に示すように、液溜り部23を通過する基材2のスリット3は、幅方向一方側(露出口29とは反対側)の先端部3b側よりも、幅方向他方側(露出口29側)の基端部3a側の方が先に、基材排出口25から排出される。 For this reason, as shown in FIG. 3, the slit 3 of the substrate 2 passing through the liquid pool 23 is located on the other side in the width direction rather than the tip portion 3b on the one side in the width direction (the side opposite to the exposure port 29). The side of the base end portion 3a (on the side of the exposure port 29) is discharged from the base material discharge port 25 first.

そして、スリット3に充填された塗液Cは、第2傾斜部R2に沿って(流れ方向Jに)、基端部3a側(幅方向他方側)から先端部3b側(幅方向一方側)へ移動することによって、液切れする。これにより、スリット3が塗液Cで塞がれた状態(ブリッジ現象)が、解消される。 Then, the coating liquid C filled in the slit 3 flows along the second inclined portion R2 (in the flow direction J) from the base end portion 3a side (the other side in the width direction) to the tip portion 3b side (one side in the width direction). It runs out of liquid by moving to As a result, the state in which the slit 3 is blocked with the coating liquid C (bridging phenomenon) is eliminated.

さらに、スリット3に充填された塗液Cが、第2傾斜部R2によって、基材2における幅方向一方側の側面2cにも、十分に行き渡るようになる。このため、基材2の側面2cにも塗液Cが十分に塗布されて、基材2の側面2cへの塗布抜けが抑制される。 Furthermore, the coating liquid C filled in the slit 3 is sufficiently spread over the side surface 2c of the substrate 2 on one side in the width direction due to the second inclined portion R2. For this reason, the coating liquid C is sufficiently applied to the side surface 2c of the base material 2 as well, and the lack of application to the side surface 2c of the base material 2 is suppressed.

第2傾斜角度θ2を変化させると、第2傾斜部R2に沿って流れる塗液Cの移動速度(液切れ速度)が、変化する。第2傾斜角度θ2が小さいと、塗液Cの液切れ速度が速くなる。一方、第2傾斜角度θ2が大きいと、塗液Cの液切れ速度が遅くなる。 When the second inclination angle θ2 is changed, the movement speed (liquid depletion speed) of the coating liquid C flowing along the second inclination portion R2 is changed. When the second tilt angle θ2 is small, the coating liquid C runs out faster. On the other hand, when the second tilt angle θ2 is large, the coating liquid C depletion speed becomes slow.

一方、図2,5に示すように、第1傾斜部R1は、幅方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、厚み方向外側、すなわち厚み方向の液溜り部23とは反対側に、延びている。 On the other hand, as shown in FIGS. 2 and 5, the first inclined portion R1 extends from the upstream side to the downstream side in the conveying direction when viewed in the width direction, and extends outward in the thickness direction, that is, the liquid pool portion 23 in the thickness direction. Extends to the other side.

このため、基材2のスリット3が基材排出口25を介して液溜り部23から排出される際、第1傾斜部R1が壁の役割を果たすため、仮にスリット3が塗液Cで塞がれていたとしても、スリット3に充填された塗液Cは、基材排出口25の開口縁部25aに濡れ広がりにくくなる(液切れしにくくなる)。このため、基材排出口25の開口縁部25aに塗液Cが付着しにくくなる。また、塗液Cと第1傾斜部R1との間に発生する摩擦力も、開口縁部25aへの塗液Cの付着を抑制するのに、寄与し得る。 Therefore, when the slit 3 of the base material 2 is discharged from the liquid reservoir 23 through the base material discharge port 25, the first inclined portion R1 functions as a wall. Even if it is peeled off, the coating liquid C filled in the slit 3 is less likely to wet and spread on the opening edge 25a of the substrate discharge port 25 (becomes less likely to run off). Therefore, the coating liquid C is less likely to adhere to the opening edge portion 25 a of the substrate discharge port 25 . In addition, the frictional force generated between the coating liquid C and the first inclined portion R1 can also contribute to suppressing the adhesion of the coating liquid C to the opening edge portion 25a.

したがって、スリット3の直ぐ後側(直ぐ上流側)のスリット縁部K(図18参照)に塗液Cが盛り上がることで、スリット縁部Kの両面に形成される塗膜Fが厚くなってしまうことが、抑制される。そして、基材2の両面に形成される塗膜Fの厚みの分布が搬送方向において不均一になることが、抑制される。 Therefore, as the coating liquid C rises on the slit edge K (see FIG. 18) immediately behind (immediately upstream) of the slit 3, the coating film F formed on both sides of the slit edge K becomes thicker. is suppressed. In addition, uneven distribution of the thickness of the coating film F formed on both surfaces of the substrate 2 in the transport direction is suppressed.

(作用効果)
以上、本実施形態によれば、図3に示すように、スリット3に充填された塗液Cが、第2傾斜部R2に沿って(流れ方向Jに)、基端部3a側(幅方向他方側)から先端部3b側(幅方向一方側)へ液切れするので、スリット3が塗液Cで塞がれた状態を、解消することができる。
(Effect)
As described above, according to the present embodiment, as shown in FIG. 3, the coating liquid C filled in the slit 3 flows along the second inclined portion R2 (in the flow direction J) toward the base end portion 3a (in the width direction). Since the liquid runs out from the other side) to the tip portion 3b side (one side in the width direction), the state in which the slit 3 is blocked with the coating liquid C can be resolved.

さらに、スリット3に充填された塗液Cが、第2傾斜部R2によって、基材2における幅方向一方側の側面2cにも十分に行き渡るようになるので、基材2の側面2cへの塗布抜けを、抑制することができる。 Furthermore, the coating liquid C filled in the slit 3 is sufficiently spread over the side surface 2c on one side in the width direction of the base material 2 due to the second inclined portion R2, so that the coating liquid C is applied to the side surface 2c of the base material 2. omission can be suppressed.

また、図2,5に示すように、第1傾斜部R1が壁の役割を果たすため、仮にスリット3が塗液Cで塞がれていたとしても、スリット3に充填された塗液Cが、基材排出口25の開口縁部25aに付着しにくくなる。これにより、スリット3の直ぐ後側(直ぐ上流側)のスリット縁部K(図18参照)に塗液Cが盛り上がることが抑制されるので、基材2の両面に形成される塗膜Fの厚みの分布を、搬送方向において均一にすることができる。 Further, as shown in FIGS. 2 and 5, since the first inclined portion R1 functions as a wall, even if the slit 3 is blocked by the coating liquid C, the coating liquid C filled in the slit 3 is , it becomes difficult to adhere to the opening edge portion 25 a of the substrate discharge port 25 . As a result, the coating liquid C is suppressed from rising on the slit edge K (see FIG. 18) immediately behind (immediately upstream) of the slit 3. The thickness distribution can be made uniform in the transport direction.

本実施形態に係る塗工装置20は、基材2が櫛歯形状の場合に、特に有効である。 The coating device 20 according to this embodiment is particularly effective when the substrate 2 has a comb shape.

また、本実施形態では、幅方向における少なくとも片側の側面部26に露出口29が設けられているので、基材2の幅方向における一部を、露出口29から液溜り部23の外部に突出させることができる。これにより、搬送される基材2の幅方向における特定部位Pの両面に選択的に塗膜Fを形成することができる。 In addition, in the present embodiment, since the exposure opening 29 is provided in at least one side surface portion 26 in the width direction, a part of the substrate 2 in the width direction protrudes from the exposure opening 29 to the outside of the liquid pool portion 23 . can be made Thereby, the coating film F can be selectively formed on both surfaces of the specific part P in the width direction of the conveyed base material 2 .

<第2の実施形態>
第2の実施形態に係る塗工装置20について、図6を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Second embodiment>
A coating device 20 according to a second embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に至るに従って、搬送方向に垂直な方向Gから搬送方向Xに変化するように、曲線状に形成されている。第2傾斜部R2は、幅方向一方側且つ搬送方向上流側に凸である。 In the present embodiment, the second inclined portion R2 is curved so as to change from the direction G perpendicular to the transport direction to the transport direction X from the upstream side to the downstream side in the transport direction when viewed in the thickness direction. formed. The second inclined portion R2 is convex on one side in the width direction and on the upstream side in the transport direction.

第2傾斜角度θ2は、曲線状の第2傾斜部R2の接線と、搬送方向に垂直な方向Gとの、なす角度である。第2傾斜角度θ2は、搬送方向に従って、変化する。第2傾斜角度θ2は、搬送方向上流側(基端部3a側)では略ゼロである一方、搬送方向下流側(先端部3b側)では、略90°である。すなわち、第2傾斜部R2は、搬送方向上流側(基端部3a側)では、搬送方向に略垂直(≒G)である一方、搬送方向下流側(先端部3b側)では、略搬送方向(≒X)である。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 The second inclination angle θ2 is the angle between the tangent line of the curved second inclination portion R2 and the direction G perpendicular to the conveying direction. The second tilt angle θ2 changes according to the conveying direction. The second inclination angle θ2 is substantially zero on the upstream side in the transport direction (base end portion 3a side), and is substantially 90° on the downstream side in the transport direction (front end portion 3b side). That is, the second inclined portion R2 is substantially perpendicular (≈G) to the conveying direction on the upstream side in the conveying direction (base end portion 3a side), while the second inclined portion R2 is substantially perpendicular to the conveying direction (≈G) on the conveying direction downstream side (front end portion 3b side). (≈X). Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、スリット3の基端部3a側では、塗液Cの液切れ速度が速くなる一方、スリット3の先端部3b側では、塗液Cの液切れ速度が遅くなる。このため、スリット3の基端部3a側では塗液Cが残りにくく、スリット3の先端部3b側では塗液Cが残りやすい。 According to this embodiment, the coating liquid C runs out faster on the base end 3 a side of the slit 3 , while the coating liquid C runs out slower on the tip end 3 b side of the slit 3 . Therefore, the coating liquid C is less likely to remain on the base end portion 3a side of the slit 3 and tends to remain on the tip portion 3b side of the slit 3 .

したがって、スリット3の基端部3a側の塗膜Fよりも、スリット3の先端部3b側の塗膜Fを厚くしたい場合に、有効である。また、第2傾斜部R2の曲率半径を変化させると、塗液Cの液切れ速度が変化する。さらに、第2傾斜部R2が曲線状なので、塗液Cの液切れがスムースになる。 Therefore, it is effective when it is desired to make the coating film F on the tip end portion 3b side of the slit 3 thicker than the coating film F on the base end portion 3a side of the slit 3. In addition, when the radius of curvature of the second inclined portion R2 is changed, the liquid depletion speed of the coating liquid C is changed. Furthermore, since the second inclined portion R2 has a curved shape, the coating liquid C runs out smoothly.

<第3の実施形態>
第3の実施形態に係る塗工装置20について、図7を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Third Embodiment>
A coating device 20 according to a third embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第2の実施形態とは反対に、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に至るに従って、搬送方向Xから搬送方向に垂直な方向Gに変化するように、曲線状に形成されている。第2傾斜部R2は、幅方向他方側且つ搬送方向下流側に凸である。 In the present embodiment, contrary to the second embodiment, the second inclined portion R2 is inclined in the direction perpendicular to the conveying direction from the conveying direction X as viewed in the thickness direction from the upstream side to the downstream side in the conveying direction. It is formed in a curved shape so as to change to G. The second inclined portion R2 protrudes toward the other side in the width direction and the downstream side in the transport direction.

第2傾斜角度θ2は、搬送方向上流側(基端部3a側)では略90°である一方、搬送方向下流側(先端部3b側)では略ゼロである。すなわち、第2傾斜部R2は、搬送方向上流側(基端部3a側)では、略搬送方向(≒X)である一方、搬送方向下流側(先端部3b側)では、搬送方向に略垂直(≒G)である。その他の構成は、第2の実施形態と同様である。 The second inclination angle θ2 is substantially 90° on the upstream side in the transport direction (base end portion 3a side), and substantially zero on the downstream side in the transport direction (front end portion 3b side). That is, the second inclined portion R2 is substantially in the conveying direction (≈X) on the upstream side in the conveying direction (base end portion 3a side), and is substantially perpendicular to the conveying direction on the downstream side in the conveying direction (front end portion 3b side). (≈G). Other configurations are the same as those of the second embodiment.

本実施形態によれば、スリット3の基端部3a側では、塗液Cの液切れ速度が遅くなる一方、スリット3の先端部3b側では、塗液Cの液切れ速度が速くなる。このため、スリット3の基端部3a側では塗液Cが残りやすく、スリット3の先端部3b側では塗液Cが残りにくい。 According to this embodiment, the coating liquid C runs out at the base end 3a side of the slit 3 at a low speed, while the coating liquid C at the front end 3b side of the slit 3 runs out at a high speed. Therefore, the coating liquid C tends to remain on the base end portion 3a side of the slit 3 and hardly remains on the tip end portion 3b side of the slit 3 .

したがって、スリット3の先端部3b側の塗膜Fよりも、スリット3の基端部3a側の塗膜Fを厚くしたい場合に、有効である。 Therefore, it is effective when it is desired to make the coating film F on the base end portion 3a side of the slit 3 thicker than the coating film F on the tip end portion 3b side of the slit 3.

<第4の実施形態>
第4の実施形態に係る塗工装置20について、図8を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Fourth Embodiment>
A coating device 20 according to a fourth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第1傾斜部R1は、幅方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に至るに従って、搬送方向に垂直な方向Gから搬送方向Xに変化するように、曲線状に形成されている。第1傾斜部R1は、厚み方向外側且つ搬送方向上流側に凸である。 In this embodiment, the first inclined portion R1 is curved so as to change from a direction G perpendicular to the conveying direction to the conveying direction X from the upstream side to the downstream side in the conveying direction when viewed in the width direction. formed. The first inclined portion R1 protrudes outward in the thickness direction and upstream in the transport direction.

第1傾斜角度θ1は、曲線状の第1傾斜部R1の接線と、搬送方向に垂直な方向Gとの、なす角度である。第1傾斜角度θ1は、搬送方向に従って、変化する。第1傾斜角度θ1は、搬送方向上流側では略ゼロである一方、搬送方向下流側では略90°である。すなわち、第1傾斜部R1は、搬送方向上流側では搬送方向に略垂直(≒G)である一方、搬送方向下流側では、略搬送方向(≒X)である。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 The first inclination angle θ1 is an angle between a tangent to the curved first inclination portion R1 and a direction G perpendicular to the transport direction. The first tilt angle θ1 changes according to the transport direction. The first inclination angle θ1 is approximately zero on the upstream side in the transport direction and approximately 90° on the downstream side in the transport direction. That is, the first inclined portion R1 is substantially perpendicular to the transport direction (≈G) on the upstream side in the transport direction, and is substantially in the transport direction (≈X) on the downstream side in the transport direction. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、第1傾斜部R1の搬送方向上流側において、基材排出口25の開口縁部25aと液溜り部23との隙間が、大きくなっている。このため、基材排出口25の開口縁部25aに、塗液Cを敢えて液切れさせたい場合等に、有効である。 According to this embodiment, the gap between the opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 and the liquid pool portion 23 is increased on the upstream side of the first inclined portion R1 in the transport direction. Therefore, it is effective when the opening edge portion 25 a of the base material discharge port 25 is intended to drain the coating liquid C, for example.

<第5の実施形態>
第5の実施形態に係る塗工装置20について、図9を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Fifth Embodiment>
A coating device 20 according to a fifth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第4の実施形態とは反対に、第1傾斜部R1は、幅方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に至るに従って、搬送方向Xから搬送方向に垂直な方向Gに変化するように、曲線状に形成されている。第1傾斜部R1は、厚み方向内側且つ搬送方向下流側に凸である。 In the present embodiment, contrary to the fourth embodiment, the first inclined portion R1 is inclined in the direction perpendicular to the conveying direction from the conveying direction X as viewed in the width direction from the upstream side to the downstream side in the conveying direction. It is formed in a curved shape so as to change to G. The first inclined portion R1 protrudes inward in the thickness direction and downstream in the transport direction.

第1傾斜角度θ1は、搬送方向上流側では略90°である一方、搬送方向下流側では略ゼロである。すなわち、第1傾斜部R1は、搬送方向上流側では略搬送方向(≒X)である一方、搬送方向下流側では搬送方向に略垂直(≒G)である。その他の構成は、第4の実施形態と同様である。 The first inclination angle θ1 is approximately 90° on the upstream side in the transport direction and approximately zero on the downstream side in the transport direction. That is, the first inclined portion R1 is substantially in the transport direction (≈X) on the upstream side in the transport direction, and is substantially perpendicular to the transport direction (≈G) on the downstream side in the transport direction. Other configurations are the same as those of the fourth embodiment.

本実施形態によれば、第1傾斜部R1の搬送方向上流側において、基材排出口25の開口縁部25aと液溜り部23との隙間が、狭くなっている。このため、基材排出口25の開口縁部25aに塗液Cが付着することを抑制する上で、より有利になる。 According to this embodiment, the gap between the opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 and the liquid pool portion 23 is narrowed on the upstream side of the first inclined portion R1 in the transport direction. Therefore, it is more advantageous to prevent the coating liquid C from adhering to the opening edge portion 25 a of the substrate discharge port 25 .

また、塗液Cと第1傾斜部R1との間に発生する摩擦力が大きくなるので、基材排出口25からの塗液Cの漏出が抑制されて、基材2の両面への塗液Cの被覆性を向上させることができる。 In addition, since the frictional force generated between the coating liquid C and the first inclined portion R1 is increased, leakage of the coating liquid C from the base material discharge port 25 is suppressed, and the coating liquid is applied to both surfaces of the base material 2. C coverage can be improved.

<第6の実施形態>
第6の実施形態に係る塗工装置20について、図10を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Sixth Embodiment>
A coating device 20 according to the sixth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向上流側に凹む凹部N1を、構成している。凹部N1は、厚み方向に見て、搬送方向上流側に頂点N1aを有する略三角形状である。詳細には、2つの第2傾斜部R2が、凹部N1の頂点N1aを起点に、幅方向両外側且つ搬送方向下流側に延びている。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 In the present embodiment, the second inclined portion R2 constitutes a recessed portion N1 that is recessed upstream in the transport direction when viewed in the thickness direction. The concave portion N1 has a substantially triangular shape having a vertex N1a on the upstream side in the transport direction when viewed in the thickness direction. Specifically, the two second inclined portions R2 extend from the apex N1a of the recessed portion N1 to both widthwise outer sides and the downstream side in the transport direction. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、スリット3に充填された塗液Cは、基端部3a側(幅方向他方側)及び先端部3b側(幅方向一方側)の両方から、2つの第2傾斜部R2に沿って(流れ方向Jに)、凹部N1の頂点N1aへ流れ込む。このため、塗液Cは、凹部N1の頂点N1aに集中するようになる。 According to the present embodiment, the coating liquid C filled in the slit 3 is applied to the two second inclined portions from both the base end portion 3a side (the other side in the width direction) and the tip portion 3b side (one side in the width direction). Along R2 (in flow direction J) it flows into the apex N1a of the recess N1. Therefore, the coating liquid C is concentrated on the vertex N1a of the concave portion N1.

したがって、基材2における凹部N1の頂点N1aを通過する部分に、積極的に塗液Cを塗布することができる。例えば、基材2における塗膜Fが薄くなりやすい箇所(反り部等)に対して、積極的に塗液Cを塗布することが、考えられる。 Therefore, it is possible to positively apply the coating liquid C to the portion of the substrate 2 that passes through the apex N1a of the concave portion N1. For example, it is conceivable to positively apply the coating liquid C to a portion of the substrate 2 where the coating film F is likely to become thin (a warped portion, etc.).

また、図10に二点鎖線で示すように、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向の下流側に突出する凸部N2を、構成してもよい。凸部N2は、厚み方向に見て、搬送方向下流側に頂点N2aを有する略三角形状である。詳細には、2つの第2傾斜部R2が、凸部N2の頂点N2aを起点に、幅方向両外側且つ搬送方向上流側に延びている。 Further, as indicated by a two-dot chain line in FIG. 10, the second inclined portion R2 may constitute a convex portion N2 that projects downstream in the transport direction when viewed in the thickness direction. The convex portion N2 has a substantially triangular shape having an apex N2a on the downstream side in the transport direction when viewed in the thickness direction. More specifically, the two second inclined portions R2 extend outward in the width direction and upstream in the transport direction from the vertex N2a of the convex portion N2.

これによれば、スリット3に充填された塗液Cは、凸部N2の頂点N2aから基端部3a側(幅方向他方側)及び先端部3b側(幅方向一方側)へ、2つの第2傾斜部R2に沿って(流れ方向Jに)、凸部N2における幅方向両側部分N2bへ流れ込む。このため、塗液Cは、凸部N2の幅方向両側部分N2bに集中するようになる。 According to this, the coating liquid C filled in the slit 3 flows from the vertex N2a of the convex portion N2 toward the base end portion 3a side (the other side in the width direction) and the tip portion 3b side (the one side in the width direction) in two second directions. 2 Along the inclined portion R2 (in the flow direction J), it flows into the width direction both side portions N2b of the convex portion N2. For this reason, the coating liquid C is concentrated on the width direction both side portions N2b of the convex portion N2.

したがって、凹部N1の頂点N1aの場合と同様に、基材2における凸部N2の幅方向両側部分N2bを通過する部分に、積極的に塗液Cを塗布することができる。 Therefore, as in the case of the apex N1a of the concave portion N1, the coating liquid C can be applied positively to the portion of the substrate 2 that passes through the width direction both side portions N2b of the convex portion N2.

なお、凹部N1及び凸部N2は、例えば、台形状や半円状等に形成されてもよい。また、複数の凹部N1及び複数の凸部N2を、幅方向に交互に並べてもよい。 In addition, the concave portion N1 and the convex portion N2 may be formed in a trapezoidal shape, a semicircular shape, or the like, for example. Also, the plurality of concave portions N1 and the plurality of convex portions N2 may be alternately arranged in the width direction.

<第7の実施形態>
第7の実施形態に係る塗工装置20について、図11を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Seventh Embodiment>
A coating device 20 according to the seventh embodiment will be described with reference to FIG. 11 . In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第1の実施形態とは反対に、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、幅方向一方側、すなわち幅方向の露出口29とは反対側に、臨んでいる。さらに、第2傾斜部R2は、厚み方向に見て、搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、幅方向他方側、すなわち露出口29側に延びている。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 In this embodiment, contrary to the first embodiment, the second inclined portion R2 faces one side in the width direction, that is, the side opposite to the exposure opening 29 in the width direction when viewed in the thickness direction. Further, the second inclined portion R2 extends toward the other side in the width direction, that is, toward the exposure port 29, as it extends from the upstream side to the downstream side in the transport direction when viewed in the thickness direction. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、液溜り部23を通過する基材2のスリット3は、幅方向他方側(露出口29側)の基端部3a側よりも、幅方向一方側(露出口29とは反対側)の先端部3b側の方が先に、基材排出口25から排出される。 According to the present embodiment, the slit 3 of the substrate 2 passing through the liquid pool portion 23 is positioned closer to the one width direction side (the exposure port 29 side) than the base end portion 3a side of the other width direction side (the exposure port 29 side). (opposite side) is discharged from the base material discharge port 25 first.

そして、スリット3に充填された塗液Cは、第2傾斜部R2に沿って(流れ方向Jに)、先端部3b側(幅方向一方側)から基端部3a側(幅方向他方側)へ移動することによって、液切れする。 Then, the coating liquid C filled in the slit 3 flows along the second inclined portion R2 (in the flow direction J) from the tip portion 3b side (one side in the width direction) to the base portion 3a side (the other side in the width direction). It runs out of liquid by moving to

スリット3の先端部3b側よりも基端部3a側の方へ、積極的に塗液Cを塗布したい場合に、有効である。 This is effective when it is desired to positively apply the coating liquid C toward the proximal end portion 3a side of the slit 3 rather than the distal end portion 3b side.

<第8の実施形態>
第8の実施形態に係る塗工装置20について、図12を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Eighth Embodiment>
A coating device 20 according to an eighth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、液溜り部23(各ブロック21,22)の幅寸法L2は、搬送方向における基材導入口24側(上流側)から基材排出口25側(下流側)に向かうに従って、狭くなる。すなわち、液溜り部23の断面積は、搬送方向における基材導入口24側から基材排出口25側に向かうに従って、小さくなる。基材排出口25の断面積(幅寸法L2)は、基材導入口24の断面積(幅寸法L2)よりも、小さい。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 In the present embodiment, the width dimension L2 of the liquid pool portion 23 (the blocks 21 and 22) is as follows from the side of the base material introduction port 24 (upstream side) toward the side of the base material discharge port 25 (downstream side) in the transport direction. narrow. That is, the cross-sectional area of the liquid pool portion 23 decreases from the side of the base material introduction port 24 toward the side of the base material discharge port 25 in the transport direction. The cross-sectional area (width dimension L2) of the base material discharge port 25 is smaller than the cross-sectional area (width dimension L2) of the base material introduction port 24 . Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、基材排出口25における塗液Cの圧力損失は、基材導入口24における塗液Cの圧力損失よりも、大きい。このため、液溜り部23における塗液Cは、基材排出口25から外部に漏出しにくくなる。これにより、基材排出口25の開口縁部25aに塗液Cが付着することを、抑制することができる。 According to this embodiment, the pressure loss of the coating liquid C at the base material outlet 25 is greater than the pressure loss of the coating liquid C at the base material inlet 24 . Therefore, the coating liquid C in the liquid pool portion 23 is less likely to leak outside from the substrate discharge port 25 . Thereby, it is possible to prevent the coating liquid C from adhering to the opening edge portion 25 a of the base material discharge port 25 .

<第9の実施形態>
第9の実施形態に係る塗工装置20について、図13を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Ninth Embodiment>
A coating device 20 according to the ninth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、液溜り部23の隙間寸法(第1ブロック21と第2ブロック22との隙間寸法)Hは、搬送方向における基材導入口24側(上流側)から基材排出口25側(下流側)に向かうに従って、狭くなる。すなわち、液溜り部23の断面積は、搬送方向における基材導入口24側から基材排出口25側に向かうに従って、小さくなる。その他の構成は、第8の実施形態と同様である。 In the present embodiment, the clearance dimension (the clearance dimension between the first block 21 and the second block 22) H of the liquid pool portion 23 varies from the base material introduction port 24 side (upstream side) in the conveying direction to the base material discharge port 25 side. It becomes narrower as it goes (downstream). That is, the cross-sectional area of the liquid pool portion 23 decreases from the side of the base material introduction port 24 toward the side of the base material discharge port 25 in the transport direction. Other configurations are the same as those of the eighth embodiment.

本実施形態によれば、第8の実施形態と同様の効果が得られる。 According to this embodiment, the same effects as those of the eighth embodiment can be obtained.

<第10の実施形態>
第10の実施形態に係る塗工装置20について、図14を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Tenth Embodiment>
A coating device 20 according to the tenth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、幅方向一方側のサイドブロック27における液溜り部23に臨む面には、塗液排出部としての塗液排出口32が、設けられている。塗液排出口32は、液溜り部23から塗液Cを排出する。 In the present embodiment, a coating liquid discharge port 32 as a coating liquid discharge section is provided on a surface of the side block 27 on one side in the width direction facing the liquid pool section 23 . The coating liquid discharge port 32 discharges the coating liquid C from the liquid reservoir 23 .

第1ブロック21及び第2ブロック22並びにサイドブロック27の外部には、塗液排出装置(塗液吸引装置)50における塗液回収ポンプ(塗液吸引ポンプ)51及び塗液排出管52が、設けられている。 A coating liquid recovery pump (coating liquid suction pump) 51 and a coating liquid discharge pipe 52 in a coating liquid discharge device (coating liquid suction device) 50 are provided outside the first block 21 and the second block 22 and the side block 27 . It is

塗液回収ポンプ51として、例えば、スクリューポンプ、ダイアフラムポンプ、シリンジポンプ又はチューブポンプ等の定量排出可能なポンプや、レギュレータで適切に圧力管理された真空排気ポンプ等を、採用することが好ましい。 As the coating liquid recovery pump 51, it is preferable to employ, for example, a screw pump, diaphragm pump, syringe pump, tube pump, or other pump capable of constant discharge, or a vacuum exhaust pump whose pressure is appropriately controlled by a regulator.

サイドブロック27の内部には、塗液排出口32に対応するように、塗液排出路34が設けられている。塗液排出路34は、その下流側で塗液排出管52を介して塗液回収ポンプ51に連通しているとともに、その上流側で塗液排出口32に連通している。塗液排出路34は、幅方向に略真直ぐに延びている。 A coating liquid discharge path 34 is provided inside the side block 27 so as to correspond to the coating liquid discharge port 32 . The coating liquid discharge path 34 communicates with the coating liquid recovery pump 51 via the coating liquid discharge pipe 52 on its downstream side, and communicates with the coating liquid discharge port 32 on its upstream side. The coating liquid discharge path 34 extends substantially straight in the width direction.

塗液排出口32は、搬送方向において、第2傾斜部R2に重なる位置に、配置されている。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 The coating liquid discharge port 32 is arranged at a position overlapping the second inclined portion R2 in the transport direction. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、スリット3における基端部3a側(幅方向他方側)から先端部3b側(幅方向一方側)へ液切れした塗液Cは、塗液排出口32を介して、液溜り部23の外部に排出される。これにより、液切れした塗液Cが基材2の一部に付着することに起因して、基材2に形成される塗膜Fに不均一が生じることを、抑制することができる。 According to the present embodiment, the coating liquid C drained from the base end portion 3a side (the other side in the width direction) to the tip portion 3b side (one side in the width direction) of the slit 3 is discharged through the coating liquid discharge port 32, The liquid is discharged to the outside of the liquid pool portion 23 . As a result, it is possible to suppress non-uniformity in the coating film F formed on the base material 2 due to the coating liquid C that has run out of the coating liquid C adhering to a part of the base material 2 .

なお、図14に二点鎖線で示すように、塗液排出部として、塗液回収ポンプ51に接続された塗液排出管52の開口部52aを、搬送方向において第2傾斜部R2に重なる位置に、配置してもよい。 As indicated by a two-dot chain line in FIG. 14, the opening 52a of the coating liquid discharge pipe 52 connected to the coating liquid recovery pump 51 is positioned so as to overlap the second inclined portion R2 in the conveying direction. may be placed in

<第11の実施形態>
第11の実施形態に係る塗工装置20について、図15を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Eleventh Embodiment>
A coating device 20 according to the eleventh embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、第1ブロック21及び第2ブロック22における液溜り部23に臨む面には、塗液排出部としての塗液排出口32が、設けられている。塗液排出口32は、液溜り部23から塗液Cを排出する。 In this embodiment, the surfaces of the first block 21 and the second block 22 facing the liquid reservoir 23 are provided with a coating liquid discharge port 32 as a coating liquid discharge section. The coating liquid discharge port 32 discharges the coating liquid C from the liquid reservoir 23 .

第1ブロック21及び第2ブロック22の内部には、塗液排出口32に対応するように、塗液排出路34が設けられている。塗液排出路34は、その下流側で塗液排出管52を介して塗液回収ポンプ51に連通しているとともに、その上流側で塗液排出口32に連通している。塗液排出路34は、厚み方向に略真直ぐに延びている。 A coating liquid discharge path 34 is provided inside the first block 21 and the second block 22 so as to correspond to the coating liquid discharge port 32 . The coating liquid discharge path 34 communicates with the coating liquid recovery pump 51 via the coating liquid discharge pipe 52 on its downstream side, and communicates with the coating liquid discharge port 32 on its upstream side. The coating liquid discharge path 34 extends substantially straight in the thickness direction.

塗液排出口32は、搬送方向において、第1傾斜部R1に重なる位置に、配置されている。その他の構成は、第10の実施形態と同様である。 The coating liquid discharge port 32 is arranged at a position overlapping the first inclined portion R1 in the transport direction. Other configurations are the same as those of the tenth embodiment.

本実施形態によれば、基材排出口25近傍における余剰の塗液Cは、塗液排出口32を介して、液溜り部23から排出される。これにより、基材排出口25の開口縁部25aに塗液Cが付着することを、抑制することができる。 According to the present embodiment, excess coating liquid C in the vicinity of the base material discharge port 25 is discharged from the liquid reservoir 23 via the coating liquid discharge port 32 . Thereby, it is possible to prevent the coating liquid C from adhering to the opening edge portion 25 a of the base material discharge port 25 .

<第12の実施形態>
第12の実施形態に係る塗工装置20について、図16を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Twelfth Embodiment>
A coating device 20 according to a twelfth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、露出口29は、第1側面部26a及び第2側面部26bのいずれにも設けられていない。すなわち、第1側面部26a及び第2側面部26b(幅方向における両側の側面部)は、いずれも閉塞している。第1側面部26a及び第2側面部26bは、液溜り部23の幅方向両側を覆う2つのサイドブロック27における液溜り部23に臨む側面で構成されている。 In this embodiment, the exposure opening 29 is not provided on either the first side surface portion 26a or the second side surface portion 26b. That is, both the first side portion 26a and the second side portion 26b (side portions on both sides in the width direction) are closed. The first side surface portion 26 a and the second side surface portion 26 b are formed by side surfaces of two side blocks 27 that cover both sides of the liquid pool portion 23 in the width direction and face the liquid pool portion 23 .

基材2の幅寸法Bは、各ブロック21,22の幅寸法(液溜り部23の幅寸法)L2よりも小さい。また、基材2の幅方向全体を特定部位Pとし、非特定部位Qを設けない。すなわち、基材2の幅方向全体の両面に塗液Cが塗布されて、塗膜Fが形成される(全面塗り)。さらに、基材2の幅方向両側の側面2cにも塗液Cが塗布されて、塗膜Fが形成される。 The width dimension B of the base material 2 is smaller than the width dimension L2 of each of the blocks 21 and 22 (the width dimension of the liquid pool portion 23). Further, the entire width direction of the base material 2 is defined as the specific portion P, and the non-specific portion Q is not provided. That is, the coating liquid C is applied to both sides of the entire width direction of the base material 2 to form the coating film F (whole surface coating). Furthermore, the coating liquid C is also applied to the side surfaces 2c on both sides in the width direction of the base material 2, so that the coating film F is formed.

第1傾斜部R1は、第1ブロック21及び第2ブロック22における厚み方向内側(液溜り部23側)且つ搬送方向下流側に、設けられている。その他の構成は、第1の実施形態と同様である。 The first inclined portion R1 is provided inside the first block 21 and the second block 22 in the thickness direction (liquid pool portion 23 side) and downstream in the transport direction. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施形態によれば、第1側面部26a及び第2側面部26bが、いずれも閉塞した場合であっても、基材排出口25の開口縁部25aに塗液Cが付着することを、抑制することができる。 According to the present embodiment, even when both the first side surface portion 26a and the second side surface portion 26b are closed, the application liquid C adheres to the opening edge portion 25a of the base material discharge port 25. can be suppressed.

なお、図16に二点鎖線で示すように、塗液供給口31(塗液供給路33)は、第1ブロック21及び第2ブロック22ではなく、第1側面部26a又は第2側面部26b(サイドブロック27)に、設けられてもよい。 16, the coating liquid supply port 31 (coating liquid supply path 33) is located not in the first block 21 and the second block 22, but in the first side surface portion 26a or the second side surface portion 26b. (Side block 27).

<第13の実施形態>
第13の実施形態に係る塗工装置20について、図17を参照しながら説明する。以下の説明において、上記実施形態と同様の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
<Thirteenth Embodiment>
A coating device 20 according to the thirteenth embodiment will be described with reference to FIG. In the following description, configurations similar to those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted.

本実施形態では、塗液供給ポンプ41と塗液供給口31との間には、流量調整バルブ60が設けられている。詳細には、流量調整バルブ60は、塗液供給管42に設けられている。 In this embodiment, a flow control valve 60 is provided between the coating liquid supply pump 41 and the coating liquid supply port 31 . Specifically, the flow control valve 60 is provided on the coating liquid supply pipe 42 .

また、塗液供給ポンプ41及び流量調整バルブ60各々は、塗液調整機構としての制御部70に、接続されている。制御部70は、例えば、マイクロコンピュータ及びプログラムで、構成されている。 Also, the coating liquid supply pump 41 and the flow rate control valve 60 are each connected to a control section 70 as a coating liquid control mechanism. The control unit 70 is composed of, for example, a microcomputer and programs.

制御部70は、塗液供給ポンプ41による塗液Cの供給圧力、すなわち塗液供給口31を介して液溜り部23に供給される塗液Cの供給圧力を、調整(制御)する。また、制御部70は、流量調整バルブ60の絞り量を調整することによって、塗液供給管42を流れる塗液Cの流量、すなわち塗液供給口31を介して液溜り部23に供給される塗液Cの供給量を、調整(制御)する。 The control unit 70 adjusts (controls) the supply pressure of the coating liquid C by the coating liquid supply pump 41 , that is, the supply pressure of the coating liquid C supplied to the liquid pool 23 through the coating liquid supply port 31 . In addition, the control unit 70 adjusts the flow rate of the coating liquid C flowing through the coating liquid supply pipe 42 by adjusting the throttle amount of the flow rate adjustment valve 60, that is, the coating liquid C is supplied to the liquid pool 23 via the coating liquid supply port 31. The supply amount of the coating liquid C is adjusted (controlled).

制御部70は、塗液供給ポンプ41による塗液Cの供給圧力を調整することによって、塗液供給口31が基材2に設けられたスリット3に臨むとき(第2モードM2)に、塗液供給口31がスリット3に臨まないとき、具体的には塗液供給口31が基材本体部Uに臨むとき(第1モードM1)に比較して、塗液供給口31からの塗液Cの供給圧力を小さくする。例えば、塗液供給口31がスリット3に臨むときに、塗液供給口31からの塗液Cの供給圧力を、ゼロにする。 By adjusting the supply pressure of the coating liquid C by the coating liquid supply pump 41, the control unit 70 controls the coating when the coating liquid supply port 31 faces the slit 3 provided in the substrate 2 (second mode M2). When the liquid supply port 31 does not face the slit 3, specifically, when the coating liquid supply port 31 faces the substrate body U (first mode M1), the coating liquid from the coating liquid supply port 31 is reduced. Decrease the supply pressure of C. For example, when the coating liquid supply port 31 faces the slit 3, the supply pressure of the coating liquid C from the coating liquid supply port 31 is set to zero.

同様に、制御部70は、流量調整バルブ60の絞り量を調整することによって、塗液供給口31が基材2に設けられたスリット3に臨むとき(第2モードM2)に、塗液供給口31がスリット3に臨まないとき、具体的には塗液供給口31が基材本体部Uに臨むとき(第1モードM1)に比較して、塗液供給口31からの塗液Cの供給量を小さくする。例えば、塗液供給口31がスリット3に臨むときに、塗液供給口31からの塗液Cの供給量を、ゼロにする。 Similarly, the control unit 70 adjusts the throttle amount of the flow rate adjustment valve 60 to supply the coating liquid when the coating liquid supply port 31 faces the slit 3 provided in the substrate 2 (second mode M2). When the port 31 does not face the slit 3, specifically, when the coating liquid supply port 31 faces the substrate main body U (first mode M1), the amount of the coating liquid C from the coating liquid supply port 31 is reduced. Reduce supply. For example, when the coating liquid supply port 31 faces the slit 3, the amount of the coating liquid C supplied from the coating liquid supply port 31 is set to zero.

なお、制御部70は、塗液供給口31を介して液溜り部23に供給される塗液Cの供給圧力及び供給量のうちのいずれか一方のみを、調整してもよい。 Note that the control unit 70 may adjust only one of the supply pressure and the supply amount of the coating liquid C supplied to the liquid pool 23 through the coating liquid supply port 31 .

本実施形態によれば、塗液供給口31から液溜り部23へと塗液Cを間欠供給することによって、スリット3が塗液Cで塞がれることを、抑制することができる。 According to the present embodiment, by intermittently supplying the coating liquid C from the coating liquid supply port 31 to the liquid reservoir 23 , it is possible to prevent the slit 3 from being clogged with the coating liquid C.

<その他の実施形態>
以上、本開示を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。
<Other embodiments>
Although the present disclosure has been described in terms of preferred embodiments, such descriptions are not intended to be limiting, and various modifications are of course possible.

塗液供給口31は、第1ブロック21及び第2ブロック22のうちの一方にのみ、設けられてもよい。また、塗液供給口31は、第1ブロック21及び第2ブロック22には設けられず、第1側面部26a又は第2側面部26bにのみ設けられてもよい。すなわち、塗液供給口31は、一対のブロック(一対のブロックのうちの少なくとも一方のブロック)及び側面部のうちの少なくともいずれかに、設けられればよい。 The coating liquid supply port 31 may be provided only in one of the first block 21 and the second block 22 . Also, the coating liquid supply port 31 may not be provided in the first block 21 and the second block 22, but may be provided only in the first side surface portion 26a or the second side surface portion 26b. That is, the coating liquid supply port 31 may be provided in at least one of the pair of blocks (at least one of the pair of blocks) and the side surface portion.

基材排出口25の開口縁部25aは、幅方向及び厚み方向のいずれか一方に見て、搬送方向に垂直な方向Gに対して、平行でもよい。すなわち、基材排出口25の開口縁部25aは、幅方向及び厚み方向の少なくとも一方に見て、搬送方向に垂直な方向Gに対して傾斜する傾斜部を、含めばよい。 The opening edge 25a of the base material discharge port 25 may be parallel to the direction G perpendicular to the transport direction when viewed in either the width direction or the thickness direction. That is, the opening edge portion 25a of the base material discharge port 25 may include an inclined portion inclined with respect to the direction G perpendicular to the conveying direction when viewed in at least one of the width direction and the thickness direction.

傾斜部は、基材排出口25の開口縁部25aのうちのサイドブロック27の搬送方向下流側の面に、設けられてもよい。 The inclined portion may be provided on the downstream side surface of the side block 27 in the conveying direction of the opening edge portion 25 a of the base material discharge port 25 .

露出口29は、幅方向における両側の側面部26(第1側面部26a及び第2側面部26bの両方)に、設けられてもよい。そして、基材2における幅方向両端部各々を、非特定部位Qとして、各露出口29を介して液溜り部23から、突出させてもよい。 The exposure openings 29 may be provided on both side surface portions 26 (both the first side surface portion 26a and the second side surface portion 26b) in the width direction. Both ends in the width direction of the base material 2 may be protruded from the liquid reservoir 23 through the exposure openings 29 as non-specific portions Q. As shown in FIG.

上記実施形態では、基材2の搬送方向は、水平方向であったが、これに限定されない。基材2は、例えば鉛直方向上方から下方へ、また鉛直方向下方から上方へ、さらには斜め方向に搬送されてもよい。 Although the conveying direction of the substrate 2 is the horizontal direction in the above embodiment, it is not limited to this. The substrate 2 may be conveyed, for example, from vertically upward to downward, from vertically downward to upward, or obliquely.

上記実施形態では、塗工装置20は、ロールtoロール法によって連続搬送される基材2の両面に対して塗液Cを塗布するために用いられるが、これに限定されない。塗工装置20は、例えば、ベルトコンベヤによって搬送されるガラス基板の両面に対して塗液Cを塗布するために用いられてもよい。 In the above-described embodiment, the coating device 20 is used to apply the coating liquid C to both surfaces of the substrate 2 that is continuously conveyed by the roll-to-roll method, but is not limited to this. The coating device 20 may be used, for example, to apply the coating liquid C to both sides of a glass substrate conveyed by a belt conveyor.

本開示に係る塗工方法は、塗工装置20を用いて、開口部3が設けられた基材2を、液溜り部23に通す。 In the coating method according to the present disclosure, the coating device 20 is used to pass the substrate 2 provided with the openings 3 through the liquid reservoir 23 .

さらに、本開示に係る塗工方法は、塗工装置20を用いて、塗液供給口31が開口部3に臨むときに、塗液供給口31が開口部3に臨まないときに比較して、塗液供給口31からの塗液Cの供給量及び/又は供給圧力を、小さくする。塗液Cの供給量及び/又は供給圧力の調整は、制御部70を用いずに、手動で行ってもよい。 Furthermore, in the coating method according to the present disclosure, when the coating device 20 is used and the coating liquid supply port 31 faces the opening 3, compared to when the coating liquid supply port 31 does not face the opening 3 , the supply amount and/or the supply pressure of the coating liquid C from the coating liquid supply port 31 is decreased. The supply amount and/or supply pressure of the coating liquid C may be adjusted manually without using the control section 70 .

<設定条件>
(実施例1)
基材2として、厚み0.1mm、幅20mmのSUS304材を用いた。基材2には、幅寸法d1が10mm、開口幅d2が0.5mmのスリット3(図3参照)を、搬送方向に20mm毎に設けた。基材2は、櫛歯状である。スリット3は、基材2の幅方向一方側に設けられている。基材2の反り量は、幅方向中央部と幅方向両端部との間において、厚み方向の変化で、0.002mmであった。
<Setting conditions>
(Example 1)
A SUS304 material having a thickness of 0.1 mm and a width of 20 mm was used as the base material 2 . The substrate 2 was provided with slits 3 (see FIG. 3) having a width d1 of 10 mm and an opening width d2 of 0.5 mm at intervals of 20 mm in the conveying direction. The substrate 2 has a comb shape. The slit 3 is provided on one widthwise side of the substrate 2 . The amount of warpage of the base material 2 was 0.002 mm as a change in the thickness direction between the center portion in the width direction and the both end portions in the width direction.

塗液Cとして、粘度ηが約100Pa・sの導電性ペーストを用いた。塗液Cの粘度ηは、回転式粘度計(Thermo Scientific Mars40、HAAKE製)を用いて測定した。なお、粘度ηの測定条件は、ステージの直径20mm、測定子の直径20mm、角度1°、測定ギャップ0.05mm、せん断速度1/秒、測定温度25℃とした。 As the coating liquid C, a conductive paste having a viscosity η of about 100 Pa·s was used. The viscosity η of the coating liquid C was measured using a rotary viscometer (Thermo Scientific Mars40, manufactured by HAAKE). The viscosity η was measured under conditions of a stage diameter of 20 mm, a probe diameter of 20 mm, an angle of 1°, a measurement gap of 0.05 mm, a shear rate of 1/sec, and a measurement temperature of 25°C.

第1の実施形態に係る塗工装置20(図1~5参照)を用いた。但し、基材排出口25の開口縁部25aには、第1傾斜部R1を設けずに、第2傾斜部R2のみを設けた。具体的には、塗工装置20は、卓上型塗工装置(ミニラボ、康井精機製)を用いた。第1ブロック21及び第2ブロック22は、SUS304材で形成した。各ブロック21,22の長さ寸法L1を40mm、幅寸法L2を50mm、厚み寸法L3を10mmとした。第2傾斜角度θ2は、60°とした。 A coating apparatus 20 (see FIGS. 1 to 5) according to the first embodiment was used. However, the opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 was not provided with the first inclined portion R1, but was provided with only the second inclined portion R2. Specifically, as the coating device 20, a desktop coating device (Minilab, manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd.) was used. The first block 21 and the second block 22 are made of SUS304 material. Each block 21, 22 has a length dimension L1 of 40 mm, a width dimension L2 of 50 mm, and a thickness dimension L3 of 10 mm. The second tilt angle θ2 was set to 60°.

各ブロック21,22の幅方向他端部(第2側面部26b、露出口29)から幅方向一方側に5mm離れた位置に、直径1.0mmの円形の塗液供給口31を、搬送方向に等間隔に3個ずつ並べた。 A circular coating liquid supply port 31 with a diameter of 1.0 mm is provided at a position 5 mm away in one width direction from the other end in the width direction of each of the blocks 21 and 22 (second side surface 26b, exposure port 29) in the transport direction. 3 pieces were arranged at regular intervals.

塗液供給ポンプ41として、モーノポンプ(3HMC010F、兵神装備製)を用いた。基材供給装置10の巻出側トルク及び巻取側トルクは、いずれも60N・mとした。 As the coating liquid supply pump 41, a Mohno pump (3HMC010F, manufactured by Hyoshin Equipment Co., Ltd.) was used. Both the unwinding side torque and the winding side torque of the substrate supply device 10 were set to 60 N·m.

塗膜Fの形成後、熱風乾燥炉(DKM-400、ヤマト科学製)を用いて、設定温度200℃、ファン回転数500rpmにて、30分間乾燥し、乾燥膜を得た。 After the coating film F was formed, it was dried for 30 minutes using a hot air drying oven (DKM-400, manufactured by Yamato Scientific) at a set temperature of 200° C. and a fan speed of 500 rpm to obtain a dry film.

第1ブロック21と第2ブロック22との隙間寸法Hは、SUS304製のシムを用いて、0.2mmに設定した。塗工速度(搬送速度)は、毎分0.3mに設定し、基材厚み方向が鉛直方向を向くように水平方向に搬送した。 A gap dimension H between the first block 21 and the second block 22 was set to 0.2 mm using a shim made of SUS304. The coating speed (conveyance speed) was set to 0.3 m per minute, and the substrate was conveyed horizontally so that the thickness direction of the substrate was oriented vertically.

(実施例2)
第1の実施形態に係る塗工装置20(図1~5参照)を用いた。但し、基材排出口25の開口縁部25aには、第2傾斜部R2を設けずに、第1傾斜部R1のみを設けた。第1傾斜角度θ1は、30°とした。その他の構成は、実施例1と同様である。
(Example 2)
A coating apparatus 20 (see FIGS. 1 to 5) according to the first embodiment was used. However, the opening edge portion 25a of the substrate discharge port 25 was provided with only the first inclined portion R1 without providing the second inclined portion R2. The first tilt angle θ1 was set to 30°. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

(比較例)
第1の実施形態に係る塗工装置20(図1~5参照)を用いた。但し、基材排出口25の開口縁部25aには、第1傾斜部R1及び第2傾斜部R2のいずれをも、設けなかった。その他の構成は、実施例と同様である。
(Comparative example)
A coating apparatus 20 (see FIGS. 1 to 5) according to the first embodiment was used. However, neither the first inclined portion R1 nor the second inclined portion R2 was provided on the opening edge portion 25a of the base material discharge port 25. FIG. Other configurations are the same as those of the embodiment.

<測定条件>
塗膜Fの膜厚を、マイクロメータ(ミツトヨ製)を用いて測定した。膜厚は、塗膜F形成後における基材2の厚み寸法Tから、塗膜F形成前における基材2の厚み寸法tを差し引いた値とした(図5参照)。膜厚平均値は、膜厚を塗工方向(搬送方向)に5mm間隔で5点測定して、その測定値より算出した。膜厚バラツキは、5点の測定値より標準偏差3σを計算し、これを膜厚平均値で割った値(パーセント表示)とした。
<Measurement conditions>
The film thickness of the coating film F was measured using a micrometer (manufactured by Mitutoyo). The film thickness was obtained by subtracting the thickness t of the base material 2 before forming the coating film F from the thickness T of the base material 2 after forming the coating film F (see FIG. 5). The film thickness average value was calculated from the measured values obtained by measuring the film thickness at 5 points in the coating direction (conveyance direction) at intervals of 5 mm. The film thickness variation was obtained by calculating the standard deviation 3σ from the measured values at five points and dividing it by the film thickness average value (displayed as a percentage).

<測定結果>
(実施例1)
平均膜厚は18.9μm、膜厚バラツキは25%、表面粗さは4.6μmであった。
<Measurement result>
(Example 1)
The average film thickness was 18.9 μm, the film thickness variation was 25%, and the surface roughness was 4.6 μm.

(実施例2)
平均膜厚は26.4μm、膜厚バラツキは33%、表面粗さは8.1μmであった。
(Example 2)
The average film thickness was 26.4 μm, the film thickness variation was 33%, and the surface roughness was 8.1 μm.

(比較例)
平均膜厚は50.4μm、膜厚バラツキは35%、表面粗さは10.3μmであった。
(Comparative example)
The average film thickness was 50.4 μm, the film thickness variation was 35%, and the surface roughness was 10.3 μm.

本開示は、塗工装置及び塗工方法に適用できるので、極めて有用であり、産業上の利用可能性が高い。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present disclosure is applicable to a coating apparatus and a coating method, and thus is extremely useful and has high industrial applicability.

X 搬送方向
Y 幅方向
Z 厚み方向
P 特定部位
Q 非特定部位
C 塗液
F 塗膜
G 搬送方向に垂直な方向
R1 第1傾斜部
R2 第2傾斜部
θ1 第1傾斜角度
θ2 第2傾斜角度
J 流れ方向
N1 凹部
N2 凸部
1 塗工システム
2 基材
3 スリット(開口部)
3a 基端部
3b 先端部
20 塗工装置
21 第1ブロック(一対のブロック)
22 第2ブロック(一対のブロック)
23 液溜り部(隙間)
24 基材導入口
25 基材排出口
25a 開口縁部
26 側面部
26a 第1側面部
26b 第2側面部
27 サイドブロック
29 露出口
31 塗液供給口
32 塗液排出口(塗液排出部)
41 塗液供給ポンプ
51 塗液回収ポンプ
52 塗液排出管
52a 開口部(塗液排出部)
60 流量調整バルブ
70 制御部(塗液調整機構)
X Conveyance direction Y Width direction Z Thickness direction P Specified portion Q Unspecified portion C Coating liquid F Coating film G Direction perpendicular to the conveying direction R1 First inclined portion R2 Second inclined portion θ1 First inclined angle θ2 Second inclined angle J Flow direction N1 Concave N2 Convex 1 Coating system 2 Substrate 3 Slit (opening)
3a Base end 3b Tip end 20 Coating device 21 First block (a pair of blocks)
22 second block (a pair of blocks)
23 liquid reservoir (gap)
24 base material introduction port 25 base material discharge port 25a opening edge portion 26 side surface portion 26a first side surface portion 26b second side surface portion 27 side block 29 exposure port 31 coating liquid supply port 32 coating liquid discharge port (coating liquid discharge portion)
41 coating liquid supply pump 51 coating liquid recovery pump 52 coating liquid discharge pipe 52a opening (coating liquid discharge section)
60 flow control valve 70 control unit (coating liquid control mechanism)

Claims (16)

搬送されるシート状の基材の両面に対して塗液を塗布する塗工装置であって、
前記基材の厚み方向に互いに対向する一対のブロックと、
前記一対のブロック同士の隙間に前記塗液が溜まるように形成されるとともに、前記基材が通る液溜り部と、を備え、
前記液溜り部は、
前記基材の搬送方向における上流側に開口し、前記基材が導入される基材導入口と、
前記搬送方向における下流側に開口し、前記基材が排出される基材排出口と、
前記搬送方向に交差する幅方向の両側にそれぞれ位置する側面部と、を含み、
前記基材排出口の開口縁部は、前記幅方向及び前記厚み方向の少なくとも一方に見て、前記搬送方向に垂直な方向に対して傾斜する傾斜部を、含む、塗工装置。
A coating device that applies a coating liquid to both sides of a conveyed sheet-like substrate,
a pair of blocks facing each other in the thickness direction of the base material;
a liquid reservoir section formed so that the coating liquid is accumulated in the gap between the pair of blocks, and through which the base material passes;
The liquid reservoir is
a base material introduction port that opens upstream in the conveying direction of the base material and into which the base material is introduced;
a base material discharge port that opens downstream in the conveying direction and discharges the base material;
side portions located on both sides in the width direction intersecting the conveying direction,
The coating device, wherein the opening edge of the substrate discharge port includes an inclined portion inclined with respect to a direction perpendicular to the conveying direction when viewed in at least one of the width direction and the thickness direction.
請求項1に記載の塗工装置において、
前記開口縁部は、前記幅方向に見て、前記搬送方向に垂直な方向に対して傾斜する前記傾斜部を、含む、塗工装置。
In the coating apparatus according to claim 1,
The coating device, wherein the opening edge includes the inclined portion inclined with respect to a direction perpendicular to the conveying direction when viewed in the width direction.
請求項2に記載の塗工装置において、
前記傾斜部は、前記幅方向に見て、前記搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、前記厚み方向の前記液溜り部とは反対側に、延びている、塗工装置。
In the coating device according to claim 2,
The coating device, wherein the inclined portion extends from the upstream side to the downstream side in the conveying direction in the direction opposite to the liquid pool portion in the thickness direction when viewed in the width direction.
請求項1から3のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記開口縁部は、前記厚み方向に見て、前記搬送方向に垂直な方向に対して傾斜する前記傾斜部を、含む、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The coating device, wherein the opening edge includes the inclined portion inclined with respect to a direction perpendicular to the conveying direction when viewed in the thickness direction.
請求項1から4のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記幅方向における少なくとも片側の前記側面部には、前記基材導入口から前記基材排出口に亘って開口する露出口が設けられており、
前記露出口からは、前記基材の前記幅方向における一部が前記液溜り部の外部に突出可能である、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 4,
At least one side surface portion in the width direction is provided with an exposure port that opens from the base material introduction port to the base material discharge port,
A coating apparatus, wherein a portion of the base material in the width direction can protrude outside the liquid reservoir from the exposure opening.
請求項5に記載の塗工装置において、
前記傾斜部は、前記厚み方向に見て、前記幅方向の前記露出口側に臨むとともに、前記搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って、前記幅方向の前記露出口とは反対側に延びている、塗工装置。
In the coating apparatus according to claim 5,
The inclined portion faces the exposure opening side in the width direction when viewed in the thickness direction, and extends to the side opposite to the exposure opening in the width direction as it extends from the upstream side to the downstream side in the conveying direction. coating equipment.
請求項5に記載の塗工装置において、
前記傾斜部は、前記厚み方向に見て、前記幅方向の前記露出口とは反対側に臨むとともに、前記搬送方向の上流側から下流側に延びるに従って前記露出口側に延びている、塗工装置。
In the coating apparatus according to claim 5,
The inclined portion faces the side opposite to the exposure opening in the width direction when viewed in the thickness direction, and extends toward the exposure opening as it extends from the upstream side to the downstream side in the conveying direction. Device.
請求項1から7のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記傾斜部は、前記幅方向及び前記厚み方向の少なくとも一方に見て、前記搬送方向の上流側から下流側に至るに従って、前記搬送方向に垂直な方向から前記搬送方向に変化するように、曲線状に形成されている、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 7,
When viewed in at least one of the width direction and the thickness direction, the inclined portion is curved so as to change from a direction perpendicular to the conveying direction to the conveying direction from an upstream side to a downstream side in the conveying direction. A coating device formed in a shape.
請求項1から7のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記傾斜部は、前記幅方向及び前記厚み方向の少なくとも一方に見て、前記搬送方向の上流側から下流側に至るに従って、前記搬送方向から前記搬送方向に垂直な方向に変化するように、曲線状に形成されている、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 7,
When viewed in at least one of the width direction and the thickness direction, the inclined portion is curved so as to change from the conveying direction to a direction perpendicular to the conveying direction from the upstream side to the downstream side in the conveying direction. A coating device formed in a shape.
請求項1から9のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記傾斜部は、前記搬送方向の上流側に凹む凹部又は前記搬送方向の下流側に突出する凸部を、構成している、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 9,
The coating apparatus, wherein the inclined portion constitutes a concave portion recessed upstream in the transport direction or a convex portion protruding downstream in the transport direction.
請求項1から10のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記液溜り部の断面積は、前記搬送方向における前記基材導入口側から前記基材排出口側に向かうに従って小さくなる、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 10,
The coating apparatus, wherein the cross-sectional area of the liquid reservoir decreases from the base material introduction port side toward the base material discharge port side in the conveying direction.
請求項1から11のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記搬送方向において前記傾斜部に重なる位置には、前記液溜り部から前記塗液を排出する塗液排出部が配置されている、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 11,
A coating apparatus, wherein a coating liquid discharge section for discharging the coating liquid from the liquid reservoir is arranged at a position overlapping the inclined section in the conveying direction.
請求項1から12のいずれか1つに記載の塗工装置において、
前記一対のブロック及び前記側面部のうちの少なくともいずれかには、前記液溜り部に臨むとともに前記液溜り部に前記塗液を供給する塗液供給口が設けられている、塗工装置。
In the coating apparatus according to any one of claims 1 to 12,
A coating apparatus, wherein at least one of the pair of blocks and the side surface portion is provided with a coating liquid supply port that faces the liquid pool and supplies the coating liquid to the liquid pool.
請求項13に記載の塗工装置において、
前記塗液供給口を介して前記液溜り部に供給される前記塗液の供給量及び/又は供給圧力を調整する塗液調整機構を備え、
前記塗液調整機構は、前記塗液供給口が前記基材に設けられた開口部に臨むときに、前記塗液供給口が前記開口部に臨まないときに比較して、前記塗液供給口からの前記塗液の前記供給量及び/又は前記供給圧力を小さくする、塗工装置。
In the coating device according to claim 13,
A coating liquid adjusting mechanism for adjusting a supply amount and/or a supply pressure of the coating liquid supplied to the liquid reservoir through the coating liquid supply port,
In the coating liquid adjustment mechanism, when the coating liquid supply port faces the opening provided in the base material, the coating liquid supply port is higher than when the coating liquid supply port does not face the opening. A coating device that reduces the supply amount and/or the supply pressure of the coating liquid from.
請求項1から14のいずれか1つに記載の塗工装置を用いて、開口部が設けられた前記基材を前記液溜り部に通す、塗工方法。 A coating method comprising: using the coating apparatus according to any one of claims 1 to 14, and passing the substrate provided with an opening through the liquid reservoir. 請求項15に記載の塗工方法において、
請求項13又は14に記載の塗工装置を用いて、
前記塗液供給口が前記開口部に臨むときに、前記塗液供給口が前記開口部に臨まないときに比較して、前記塗液供給口からの前記塗液の供給量及び/又は供給圧力を小さくする、塗工方法。
In the coating method according to claim 15,
Using the coating device according to claim 13 or 14,
When the coating liquid supply port faces the opening, the supply amount and/or supply pressure of the coating liquid from the coating liquid supply port are compared to when the coating liquid supply port does not face the opening A coating method that reduces the
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