JP2022520769A - 4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド結晶(c)を含む結晶組成物(cc) - Google Patents

4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド結晶(c)を含む結晶組成物(cc) Download PDF

Info

Publication number
JP2022520769A
JP2022520769A JP2021546722A JP2021546722A JP2022520769A JP 2022520769 A JP2022520769 A JP 2022520769A JP 2021546722 A JP2021546722 A JP 2021546722A JP 2021546722 A JP2021546722 A JP 2021546722A JP 2022520769 A JP2022520769 A JP 2022520769A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
length
range
crystal composition
dichlorodiphenyl sulfoxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2021546722A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020161100A5 (ja
Inventor
ティール,インドレ
シェッツ,クリスティアン
ブライ,シュテファン
カオ,チュン
メッツガー,ルーカス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JP2022520769A publication Critical patent/JP2022520769A/ja
Publication of JPWO2020161100A5 publication Critical patent/JPWO2020161100A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/14Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C315/00Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
    • C07C315/06Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B2200/00Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
    • C07B2200/13Crystalline forms, e.g. polymorphs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/16Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring the ring being unsaturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

本発明は、少なくとも95質量%の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、0~2質量%の不純物、及び0~3質量%の有機溶媒(os)からなる結晶(C)に関する。その上、本発明は、結晶(C)を含む結晶組成物(CC)並びに結晶組成物(CC)及び結晶(C)の製造方法に関する。

Description

本発明は、少なくとも95質量%の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、0~2質量%の不純物、及び0~3質量%の有機溶媒(os)からなる結晶(C)に関する。更に、本発明は、結晶(C)を含む結晶組成物(CC)並びに結晶組成物(CC)及び結晶(C)の製造方法に関する。
4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドは、1-クロロ-4-(4-クロロフェニル)スルフィニルベンゼン又はビス(4-クロロフェニル)スルホキシドとも呼ばれる。4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドは、白色又は淡黄色の固体であり、271.16g/molの分子量、化学式C12-H-Cl-OSを有し、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドのCAS登録番号は3085-42-5であり、化学構造式は以下の通り
Figure 2022520769000001
である。4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドは、例えば、abcr GmbH Switzerland、Alfa Aesar又はTCI Americaから市販されている。
4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを製造する場合、幾つかの方法が既知である。一般的な一方法は、触媒、例えば、塩化アルミニウム(III)又は塩化鉄(II)の存在下で、出発原料として塩化チオニル及びクロロベンゼンを使用するフリーデル・クラフツ反応である。Sun,X.ら、「Iron(III) chloride (FeCl)-catalyzed electrophilic aromatic substitution of chlorobenzene with thionyl chloride(SOCl) and the accompanying auto-redox in sulfur to give diaryl sulfides(ArS):Comparison to catalysis by aluminum chloride(AlCl)」、phosphorus,sulfur,and silicon、2017、192巻、3号、376~380頁、及びSun,X.ら、「Investigations on the Lewis-acids-catalysed electrophilic aromatic substitution reactions of thionyl chloride and selenyl chloride,the substituent effects,and the reaction mechanisms」、Journal of Chemical Research 2013、736~744頁は、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドの一般的な製造方法を開示している。これらの文献において、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含有する反応混合物は、氷水中に注ぎ入れられる。後続して、ジエチルエーテルを添加し、全ての内容物を分液漏斗に加え、有機生成物をジエチルエーテルで抽出する。次いで、全てのエーテル溶液を合わせ、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ、濾過する。その後、ジエチルエーテルを除去して4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを得る。
US2,618,582は、ジアリールジスルホキシドの製造方法を開示している。US2,618,582の実施例IIにおいて、4,4’-ジクロロジフェニルジスルホキシドとも呼ばれるジ-p-(クロロフェニル)ジスルホキシドの製造が開示されている。この化合物は、136℃の融点及び以下の化学構造:
Figure 2022520769000002
を有する。
RU2159764 C1は、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドの製造方法を開示している。生成物は、クロロホルムから再結晶化される。RU2158257 C1はまた、生成物が酢酸エチルから再結晶化される、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドの製造方法も開示している。
市販の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドは、粒子粉体形態で供給されている。上記の文献に記載される方法においても、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドは、粒子粉体形態で得られる。
しかしながら、市販の粉粒体4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド及び上記の文献に記載される方法で得られる粉粒体4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドは、幾つかの用途では、不十分な流動性を示す。その上、場合によっては、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド中に含まれる副生成物の含量又はAPHA色数が多すぎる。
US2,618,582 RU2159764 C1 RU2158257 C1
Sun,X.ら、「Iron(III) chloride (FeCl3)-catalyzed electrophilic aromatic substitution of chlorobenzene with thionyl chloride(SOCl2) and the accompanying auto-redox in sulfur to give diaryl sulfides(Ar2S):Comparison to catalysis by aluminum chloride(AlCl3)」、phosphorus,sulfur,and silicon、2017、192巻、3号、376~380頁 Sun,X.ら、「Investigations on the Lewis-acids-catalysed electrophilic aromatic substitution reactions of thionyl chloride and selenyl chloride,the substituent effects,and the reaction mechanisms」、Journal of Chemical Research 2013、736~744頁
したがって、本発明の根底にある目的は、上記の従来技術の欠点がない又は欠点を大幅に削減された程度でしか有さない、粒子状形態の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを提供することである。
この目的は、結晶(C)を含む結晶組成物(CC)であって、結晶(C)が、結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)の総質量に対して、
(a)少なくとも95質量%の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、
(b)0~2質量%の不純物、及び
(c)0~3質量%の有機溶媒(os)
からなり、
結晶組成物(CC)が、
100~400μmの範囲のd10,-値、
300~800μmの範囲のd50,-値、
700~1500μmの範囲のd90,-値、
を有し、
d10,-値がd50,-値より小さく、d50,-値がd90,-値より小さい、
結晶組成物(CC)によって解決された。
驚くべきことに、結晶組成物(CC)は、最先端技術に記載される粒子4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドと比べてより良好な流動性を示すことが発見された。その上、結晶組成物中に含まれる結晶(C)は、少ない含量の副生成物、少ない含量の残留溶媒、及び少ないAPHA色数を有することも発見された。
対称的な6辺基面bsu及び対称的な6辺上面tsu及び6つの側面ssu1~ssu6を有する角柱の展開図である。 6辺上面tsuを有する非対称角柱の上面tsuの上図である。 非対称的な六角柱の第1の側面ssuを示す図である。 本発明による結晶Cの外面の形状の一実施形態を示す図である。 本発明による結晶Cの外面の形状の別の実施形態を示す図である。 各辺に印を付け、引用符号がふられた、本発明による結晶Cの外面の形状を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 結晶C(500μm)を示す結晶組成物CCを光学顕微鏡によって撮影した写真である。 結晶C(200μm)を示す結晶組成物CCを光学顕微鏡によって撮影した写真である。 abcr GmbHから得られる、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(500μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 abcr GmbHから得られる、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(200μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 Alfa Aesarから得られる、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(500μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 TCI GmbHから得られる、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(500μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 TCI GmbHから得られる、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(1mm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 ジエチルエーテルから再結晶化した、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(500μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 ジエチルエーテルから再結晶化した、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(200μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 minの測定を例示する図である。 Fe maxの測定を例示する図である。 クロロホルムから再結晶化した、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(200μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 クロロホルムから再結晶化した、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(500μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。 酢酸エチルから再結晶化した、特に粒子粉体の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(500μm)を光学顕微鏡によって撮影した写真である。
結晶組成物(CC)
結晶組成物(CC)は、結晶(C)を含む。好ましい実施形態において、それぞれの場合において、結晶組成物(CC)の総質量に対して、結晶組成物(CC)は、少なくとも95質量%の結晶(C)を含み、より好ましくは、結晶組成物(CC)は、少なくとも98質量%の結晶(C)を含み、更により好ましくは、結晶組成物(CC)は、少なくとも99質量%の結晶(C)を含み、特に好ましくは、結晶組成物(CC)は、少なくとも99.5質量%の結晶(C)を含む。更により好ましい実施形態において、結晶組成物(CC)は、結晶(C)からなる。
したがって、本発明の別の目的は、結晶組成物(CC)の総質量に対して、少なくとも95質量%の結晶(C)を含む、結晶組成物(CC)である。
本発明の結晶組成物(CC)は、一般的に:
100~400μmの範囲のd10,-値、
300~800μmの範囲のd50,-値、
700~1500μmの範囲のd90,-値
を有する。
好ましくは、本発明の結晶組成物(CC)は:
200~400μmの範囲のd10,-値、
400~750μmの範囲のd50,-値、
800~1200μmの範囲のd90,-値、
を有する。
それぞれの場合において、d10,-値はd50,-値より小さく、d50,-値はd90,-値より小さいという条件で。
本発明との関係において、「d10,-値」、「d50,-値」、及び「d90,-値」は、粒子の体積に対する粒径を示す。
本発明との関係において、「d10,-値」は、粒子、好ましくは結晶(C)の総体積に対して10体積%の粒子、好ましくは結晶(C)がd10,-値以下であり、粒子、好ましくは結晶(C)の総体積に対して90体積%の粒子、好ましくは結晶(C)がd10,-値より大きい粒径を意味すると理解される。類推から、「d50,-値」は、粒子、好ましくは結晶(C)の総体積に対して50体積%の粒子、好ましくは結晶(C)がd50,-値以下であり、粒子、好ましくは結晶(C)の総体積に対して50体積%の粒子、好ましくは結晶(C)がd50,-値より大きい粒径を意味すると理解される。それに応じて、「d90,-値」は、粒子、好ましくは結晶(C)の総体積に対して90体積%の粒子、好ましくは結晶(C)がd90,-値以下であり、粒子、好ましくは結晶(C)の総体積に対して10体積%の粒子、好ましくは結晶(C)がd90,-値より大きい粒径を意味すると理解される。
結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)の粒径、d10,-値、d50,-値及びd90,-値、並びに平均アスペクト比(b/l)、平均球形度(SPTH)、平均X min直径及び平均最大フェレット径(XFe max)は、以下のウェブリンク:http://www.horiba.com/fileadmin/uploads/Scientific/Documents/PSA/Manuals/CAMSIZER_Characteristics_Nov2009.pdfから得られるマニュアル「CAMSIZER(登録商標)Caracteristics、Basics of definition DIN 66141、Retsch Technology、2009年11月5日付け」に記載の測定法を用いたCamsizer(登録商標)XT(Retsch Technology社製)で決定する。
粒径(以下、「粒径(particle size)」及び「粒子径(particle diameter)」という単語は同意語として使用され、同じ意味を有する)は、1974年2月付けの定義DIN66141に基づいて決定される。したがって、結晶組成物(CC)を、室温(20℃)及び標準圧力(1.01325バール)で振動フィーダーによって供給し、少なくとも80000個の粒子、好ましくは結晶(C)が測定されるCamsizer(登録商標)XTの測定レンズに通す。
d10,-値。d50,-値及びd90,-値は、X面積法によって決定される。測定法X面積では、以下の式:
Figure 2022520769000003
を用いて粒子投影面積により粒子径を算出し、ここで、X面積の直径を有する球の体積に関する面積相当円の直径が決定される。
結晶組成物(CC)のかさ密度は、一般的に、600~950kg/mの範囲、好ましくは700~850kg/mの範囲、より好ましくは720~820kg/mの範囲である。結晶組成物(CC)のかさ密度は、EN ISO 60:2000-01;DIN53468に従って決定される。
結晶組成物(CC)のタップ密度(1250回持ち上げた後に測定される)は、一般的に、700~1050kg/mの範囲、好ましくは800~950kg/mの範囲、より好ましくは820~920kg/mの範囲である。結晶組成物(CC)のタップ密度は、DIN ISO787 11部(1250回持ち上げた後)によって決定する。
結晶組成物(CC)のハウスナー比は、一般的に、1.05~1.27の範囲、好ましくは1.08~1.25の範囲、より好ましくは1.1~1.2の範囲である。
ハウスナー比は、タップ密度とかさ密度との比である。ハウスナー比は、粒子組成物の流動性のパラメーターであり、流動性は以下の表に従って分類される:
Figure 2022520769000004
したがって、本発明の別の目的は、ハウスナー比が1.05~1.27の範囲である結晶組成物(CC)である。
結晶組成物(CC)は、好ましくは、3kPaの初期剪断応力で、7~50の範囲、好ましくは8~40の範囲、より好ましくは8.5~20の範囲、特に好ましくは9~15の範囲のJenike及びASTM-D 6773による流動性(ff)を有する。
Jenikeによれば、流動性は、以下の表に従って分類される:
Figure 2022520769000005
本発明による結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)は、一般的に、0.2~1の範囲、好ましくは0.3~0.8の範囲、より好ましくは0.4~0.7の範囲、特に好ましくは0.5~0.65の範囲の平均アスペクト比を有する。
結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)の平均アスペクト比は、1974年2月付けの定義DIN66141に基づく上記の参考マニュアルに記載の方法b/lを用いるCamsizer(登録商標)XTで決定される。アスペクト比は、以下の式:
Figure 2022520769000006
を用いて算出する。
minは、粒子投影(結晶(C)投影)の測定された一連の最大コートのうち最も短いコートの体積平均粒子径である。
図8は、X minがどのように測定されるかの例を示す。X minは、結晶組成物(CC)中に含まれる全粒子(結晶(C))にわたって最も短いコートの体積平均である。
最大フェレット径(XFe max)は、結晶組成物(CC)中に含まれる全粒子(結晶(C))にわたる体積平均粒子径であり、粒子の測定された一連のフェレット径のうちの最長のフェレット径である。最大フェレット径XFe maxの決定は、図8中の例により示す。
本発明による結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)は、一般的に、0.75~0.85の範囲、好ましくは0.76~0.82の範囲、より好ましくは0.77~0.81の範囲の平均球形度(SPHT)を有する。球形度は、ISO9276-6:2012-1に従って測定される。
したがって、本発明の別の目的は、結晶(C)の平均球形度が、0.75~0.85の範囲である、結晶組成物(CC)である。
結晶組成物(CC)は、一般的に、10~120の範囲、好ましくは15~100の範囲、より好ましくは20~80の範囲のAPHA色数(ASTM D1209)を有する。APHA色数は、Hach Lange LICO 500機器で測定し、2.5gの4,4’-DCDPSO(4,4’-DCDPSO=4,4’ジクロロジフェニルスルホキシド)を20mlのNMP中に溶解し、純NMPに対して測定した(NMP=N-メチル-2-ピロリドン)。
結晶(C)
本発明の別の目的は、それぞれの場合において、結晶(C)の総質量に対して、
(a)少なくとも95質量%の4,4’ジクロロジフェニルスルホキシド、
(b)0~2質量%の不純物、及び
(c)0~3質量%の有機溶媒(os)
からなる結晶(C)であって、
結晶(C)の外面が、
i)6辺基面(bsu)及び
ii)6辺上面(tsu)及び
iii)6辺基面(bsu)と6辺上面(tsu)の対応する面をつなぐ6つの側面(ssu1~ssu6)
を含む、結晶(C)である。
結晶(C)は、結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)と異なり得る。好ましい実施形態において、結晶(C)は、結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)とは異ならない。したがって、好ましい実施形態において、結晶組成物(CC)を鑑みて、上記の特徴及び優先傾向は、それに合わせて結晶(C)に該当する。したがって別の好ましい実施形態では、結晶(C)を鑑みて、下記の特徴及び優先傾向は、それに合わせて結晶組成物(CC)に該当する。
したがって、本発明の別の目的は、結晶(C)を含む結晶組成物(CC)であって、結晶(C)が、結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)の総質量に対して、
(a)少なくとも95質量%の4,4’ジクロロジフェニルスルホキシド、
(b)0~2質量%の不純物、及び
(c)0~3質量%の有機溶媒(os)
からなり
結晶組成物(CC)が、
100~400μmの範囲のd10,-値、
300~800μmの範囲のd50,-値、
700~1500μmの範囲のd90,-値
を有し、
d10,-値がd50,-値より小さく、d50,-値がd90,-値より小さく、結晶(C)の外面が、
i)6辺基面(bsu)及び
ii)6辺上面(tsu)及び
iii)6辺基面(bsu)と6辺上面(tsu)の対応する面をつなぐ6つの側面(ssu1~ssu6)
を含む、結晶組成物(CC)である。
好ましい実施形態において、結晶(C)は、それぞれの場合において、結晶(C)の総質量に対して、少なくとも96質量%、より好ましくは少なくとも97質量%、最も好ましくは少なくとも98質量%の4,4’ジクロロジフェニルスルホキシドを含む。
好ましい実施形態において、結晶(C)は、それぞれの場合において、結晶(C)の総質量に対して、0~1.5質量%、より好ましくは0~1質量%の不純物を含む。
好ましい実施形態において、結晶(C)は、それぞれの場合において、結晶(C)の総質量に対して、0~2.5質量%、より好ましくは0~2質量%、最も好ましくは0~1質量%、特に好ましくは0~0.7質量%の有機溶媒(os)を含む。
本発明の別の目的は、不純物(b)が、それぞれの場合において、結晶(C)中に含まれる不純物(b)の総質量に対して、少なくとも90質量%、好ましくは少なくとも95質量%、より好ましくは少なくとも98質量%、特に好ましくは少なくとも99質量%の、2,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、3,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、2,2’-ジクロロジフェニルスルホキシド、4,4’-ジクロロジフェニルスルフィド、及び1種又は複数のアルミニウム化合物からなる群から選択される1種又は複数の化合物を含む、結晶(C)である。
別の特に好ましい実施形態において、結晶(C)中に含まれる不純物は、2,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、3,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、2,2’-ジクロロジフェニルスルホキシド、4,4’-ジクロロジフェニルスルフィド、及び1種又は複数のアルミニウム化合物からなる群から選択される1種又は複数の化合物からなる。
結晶(C)中の不純物として任意に含まれるアルミニウム化合物は、AlCl、Al(OH)Cl、Al(OH)Cl、Al(OH)及びAlO(OH)からなる群から選択される1種又は複数の化合物であってもよい。
結晶(C)中のアルミニウム含量は、好ましくは、それぞれの場合において、結晶(C)の総質量に対して、2~100質量ppmの範囲、より好ましくは5~80質量ppmの範囲、最も好ましくは7~60質量ppmの範囲である。アルミニウム含量は、実施例の項の下記の通りに決定する。
本発明の別の好ましい目的は、有機溶媒(os)が、結晶(C)中に含まれる有機溶媒(os)の総質量に対して、少なくとも98質量%のモノクロロベンゼンを含む、結晶(C)である。
本発明の別の好ましい目的は、結晶(C)の単位格子が、単斜晶系であり、空間群C 2/m、セル長a=16.05ű0.05Å、b=9.82ű0.05Å、c=7.21ű0.05Å、セル角度アルファ90°±0.1°、ベータ95.7°±0.1°、ガンマ90°±0.1°、セル容量1131.5ű1Åである、結晶組成物(CC)である。本発明において、Åはオングストロームを意味し、0.1nmに等しい。
結晶(C)の外面の形状は、6辺基面及び6辺上面を有する角柱に類似しており、角柱のジャケット面は6つの側面を含む。図1Aは、対称的な6辺基面(bsu)及び対称的な6辺上面(tsu)及び6つの側面(ssu1~ssu6)を有する角柱の展開図を示す。
好ましい実施形態において、6辺基面(bsu)、6辺上面(tsu)及び6つの側面(ssu1~ssu6)は、結晶(C)の外面の少なくとも90%を占める。したがって、本発明の別の目的は、6辺基面(bsu)、6辺上面(tsu)及び6つの側面(ssu1~ssu6)が、結晶(C)の外面の少なくとも90%を占める、結晶(C)である。
好ましい実施形態において、6辺基面(bsu)、6辺上面(tsu)及び6つの側面(ssu1~ssu6)は、結晶(C)の外面の少なくとも92%を占める。
本発明による結晶(C)は、更なる面、例えば不規則又は連晶を含有し得る。一般的には、本発明による結晶(C)の更なる面は、結晶(C)の外面の0~最大10%、好ましくは0~最大8%を占める。
本発明の別の好ましい目的は、6辺基面(bsu)の直径(db)及び6辺上面(tsu)の直径(dt)が、それぞれ独立に、50~1500μmの範囲、好ましくは100~1200μmの範囲である、結晶(C)である。
本発明の別の好ましい目的は、第1の側面(ssu1)の長さ(l1)、第2の側面(ssu2)の長さ(l2)、第3の側面(ssu3)の長さ(l3)、第4の側面(ssu4)の長さ(l4)、第5の側面(ssu5)の長さ(l5)及び第6の側面(ssu6)の長さ(l6)が、それぞれ独立に、100~3000μmの範囲、好ましくは200~2500μmの範囲である、結晶(C)である。
6辺上面(tsu)及び6辺基面(bsu)は、対称であっても非対称であってもよい。6辺上面(tsu)及び6辺基面(bsu)は対称である場合、6辺上面の6辺(tsi1~tsi6)及び基面(bsu)の6辺(bsi1~bsi6)は、同じ長さを有する。この場合、上面(tsu)の第1の角(ct1)と第4の角(ct4)との間の距離(dt14)及び第3の角(ct3)と第6の角(ct6)との間の距離(dt36)及び第2の角(ct2)と第5の角(ct5)との間の距離(dt25)は全て同じ長さを有する。基面(bsu)が対称である場合、距離(db14)、(db25)及び(db36)も同じ長さを有する。したがって、対称的な上面(tsu)では、直径(dt)は、距離(dt14)、(dt25)及び(dt36)に等しい。対称的な基面(bsu)では、直径(db)は、距離(db14)、(db25)及び(db36)に等しい。
結晶(C)が非対称的な基面(bsu)及び/又は非対称的な上面(tsu)を有する場合、好ましい実施形態における6辺基面(bsu)の直径(db)は、距離(db14)、(db25)及び(db36)の平均である。距離(db14)は、結晶(C)の6辺基面(bsu)の第1の角(cb1)と第4の角(cb4)との間の最短距離である。距離(db25)は、第2の角(cb2)と第5の角(cb5)との間の最短距離であり、距離(db36)は、第3の角(cb3)と第6の角(cb6)との間の最短距離であり、好ましい実施形態における6辺上面(tsu)の直径(dt)は、距離(dt14)、(dt25)及び(dt6)の平均である。距離(dt14)は、結晶(C)の6辺上面(tsu)の第1の角(ct1)と第4の角(ct4)との間の最短距離である。図1B中の例により例示されているように、距離(dt25)は、第2の角(ct2)と第5の角(ct5)との間の最短距離であり、距離(dt36)は、第3の角(ct3)と第6の角(ct6)との間の最短距離である。
側面(ssu1~ssu6)は、互いに独立して、本質的に正方形、長方形、菱形、凧形、平行四辺形、等脚台形又は不等辺四辺形の形態を有し得る。側面(ssu1~ssu6)が非対称形態を有する場合、側面(ssu1~ssu6)の長さ(l1~l6)は、好ましくは以下の通りに決定される。図1Cで例示するように、第1の側面(ssu1)の長さ(l1)は、上面(tsu)の第1の角(ct1)と基面(btu)の第1の角(bt1)との間の最短距離(l11)及び上面(tsu)の第2の角(ct2)と基面(bsu)の第2の角(bt2)の第2の角(bt2)との間の最短距離(l22)の平均である。これに応じて、この場合、第2の側面(ssu2)の長さ(l2)は、上面(tsu)の第2の角(ct2)と基面(btu)の第2の角(bt2)の第2の角(bt2)との間の最短距離(l22)及び上面(tsu)の第3の角(ct3)と基面(bsu)の第3の角(bt3)との間の最短距離(l33)の平均である。
これに応じて、長さ(l3~l6)が決定される。
本発明による用語「本質的に正方形、長方形、菱形、凧形、平行四辺形、等脚台形又は不等辺四辺形の形態を有する」は、以下の通りに定義することができる:「本質的に正方形、長方形、菱形、凧形、平行四辺形、等脚台形又は不等辺四辺形の形態を有する」は、結晶(C)の側面(ss1~ss6)が、結晶(C)の側面(ss1~ss6)が適合する正方形、長方形、菱形、凧形、平行四辺形、等脚台形又は不等辺四辺形の仮説上の最良適合の内面の少なくとも80%、好ましくは少なくとも85%、より好ましくは少なくとも90%、特に好ましくは50%を占めることを定義する。
結晶(C)の寸法は、好ましくは、光学顕微鏡検査法を用いて測定される。
本発明による結晶組成物(CC)は、
I)有機溶媒(os)中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む第1の液体混合物を冷却して、結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド及び有機溶媒(os)を含む懸濁液を得る工程と、
II)工程I)で得られた懸濁液を濾過して、有機溶媒(os)中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む濾液を得る工程であり、濾液が、第1の液体混合物に比べて低濃度の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、及び結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含むフィルター残留物を有する、工程と、
III)工程II)で得られた濾液を濃縮して第2の液体混合物を得る工程であり、第2の液体混合物が、濾液に比べて高濃度の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを有する、工程と、
IV)工程III)で得られた第2の液体混合物の少なくとも一部を工程I)に再循環させる工程と、
V)工程II)で得られたフィルター残留物を乾燥させて、結晶組成物(CC)を得る工程と、
を含む方法によって製造することができる。
好ましい実施形態において、工程II)で得られたフィルター残留物を、有機溶媒(os)、好ましくはモノクロロベンゼンで洗浄した後、工程V)に従って乾燥させる。洗浄濾液はまた、好ましくは、濃縮工程III)に再循環させる。
本発明による結晶(C)は、
VI)工程V)で得られた結晶組成物(CC)から結晶(C)を分離する工程
を含む方法によって製造することができる。
したがって、本発明の別の目的は、
I)有機溶媒(os)中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む第1の液体混合物を冷却して、結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド及び有機溶媒(os)を含む懸濁液を得る工程と、
II)工程I)で得られた懸濁液を濾過して、有機溶媒(os)中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む濾液を得る工程であり、濾液が、第1の液体混合物に比べて低濃度の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、及び結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含むフィルター残留物を有する、工程と、
III)工程II)で得られた濾液を濃縮して第2の液体混合物を得る工程であり、第2の液体混合物が、濾液に比べて高濃度の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを有する、工程と、
IV)工程III)で得られた第2の液体混合物の少なくとも一部を工程I)に再循環させる工程と、
V)工程II)で得られたフィルター残留物を乾燥させて、結晶組成物(CC)を得る工程と、
を含む方法によって得られる、結晶組成物(CC)である。
本発明の更に別の目的は、以下の工程を含む方法によって得られる結晶(C)である:
第1の液体混合物中に使用される有機溶媒(os)は、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(DCDSPO)が、特に工業規模の製造に適した温度で十分に溶解し、便利に結晶化DCDPSOを分離できる任意の溶媒であってもよい。そのような有機溶媒(os)は、例えば、クロロベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メタノール又は2種以上の前記溶媒の混合物である。有機溶媒(os)は、好ましくはクロロベンゼン、特にモノクロロベンゼンである。
任意に、第1の液体混合物中のDCDPSOの溶解度を低減し、結晶化を改善するために、少なくとも1種のドラウニングアウト剤(drowning-out agent)、例えば少なくとも1種のプロトン性溶媒、例えば水、アルコール、及び/若しくは酸、特にカルボン酸、又は少なくとも1種の高非極性溶媒、例えば直鎖状及び/若しくは環状アルカンを追加で添加することが可能である。後処理のしやすさに関して、水、メタノール、エタノール、酢酸及び/又はギ酸、特に水及び/又はメタノールが好ましいドラウニングアウト剤である。
VI)工程V)で得られた結晶組成物(CC)から結晶(C)を分離する工程。
結晶組成物(CC)は、モノマー、ポリマー及び/又は医薬品の製造のために使用することができる。結晶組成物(CC)をモノマーの製造のための出発生成物又は中間体として使用する場合、好ましくは、4,4’-ジクロロジフェニルスルホンの製造に使用される。したがって、4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを得るために、4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを、一般的に酸化剤と反応させる。酸化剤としては、いずれの酸化剤を使用してもよいが、有機ペルオキシ酸が好ましい。
結晶組成物(CC)をポリマーの製造のための出発生成物又は中間体として使用する場合、好ましくは、ポリアリーレンエーテルスルホンポリマーの製造に使用されるが、ポリスルホン(PSU)、ポリエーテルスルホン(PESU)及び/又はポリビフェニルスルホン(PPSU)が特に好ましい。
結晶組成物(CC)を上記の好ましいポリアリーレンエーテルスルホンポリマーの製造に使用する場合、典型的には、上記の通りに、酸化剤と反応させて4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを得る。上記のポリアリーレンエーテルスルホンポリマーを得るために、4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを、一般的に後続して、芳香族ジヒドロキシモノマーと反応させる。
ポリスルホン(PSU)の製造のために、4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを一般的に、ビスフェノールA(4,4’-(プロパン-2,2-ジイル)ジフェノール)と反応させる。ポリエーテルスルホン(PESU)を得るために、4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを一般的に、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンと反応させる。ポリビフェニルスルホン(PPSU)を得るために、4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを一般的に、4,4’-ジヒドロキシビフェニルと反応させる。
したがって、本発明の別の目的は、モノマー、ポリマー及び医薬品からなる群から選択される少なくとも1種の生成物を製造するための中間体として結晶組成物(CC)を使用する方法である。
本発明を、限定されることなく、以下の実施例によってより詳細に記載する。
本発明による結晶組成物(CC)/結晶(C)の製造
4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド(DCDPSO)を製造するために、5.5molの塩化アルミニウム及び40molのモノクロロベンゼン(MCB)を、第1の反応器としての攪拌槽型反応器に供給した。後続して、160分以内に、5molの塩化チオニルを第1の反応器に添加した。第1の反応器での反応を10℃の温度で実施した。反応中に生成された塩化水素を第1の反応器から回収した。塩化チオニルの添加を終了した後、第1の反応器中の反応混合物を60℃に加熱した。
第1の反応器中での反応を完了させた後、結果として得られた反応混合物を、11質量%の濃度を有する塩酸水溶液を3400g含有する第2の反応器としての攪拌槽型反応器に供給した。第2の反応器を攪拌しながら90℃の温度に加熱した。30分後、攪拌を停止し、第2の反応器に含まれる混合物は水性相と有機相に分離した。水性相を回収した。
有機相を、90℃で攪拌しながら、3000gの水で洗浄した。洗浄後、攪拌を停止し、混合物は水性相と有機相に分離した。水性相を除去した。有機相を蒸留にかけた。
飽和に達するまで、モノクロロベンゼンを前記有機相から蒸留した。蒸留を、88~90℃の温度、200mbar(abs)の圧力下で実施した。飽和状態を、濁度プローブによって監視した。
後続して、上記の蒸留(本発明の冷却工程I)に等しい)において得られたモノクロロベンゼン及び4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含有する飽和有機相を用いて、温度が20℃に達するまで、蒸発冷却結晶化を実施した。したがって、減圧によって有機相を還流し、同時に濃縮液体により冷却した。蒸発冷却プロセスの終了時の圧力は、通常、約20mbar(abs)である。蒸発冷却結晶化の後、結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド及びモノクロロベンゼンを含む懸濁液が得られた。
本発明の工程II)に従い、工程I)で得られた懸濁液を濾過して、モノクロロベンゼン中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む濾液及び結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含むフィルター残留物を得た。結晶組成物(CC)(本発明の工程V)に等しい)を得るために、フィルター残留物をモノクロロベンゼンで洗浄し、後続して100℃及び100mbar(abs)で乾燥させた。
工程III)に従い、洗浄濾液及び工程II)で得られた濾液を蒸留にかけた。蒸留において、合わせた濾液及び洗浄濾液の量が25質量%まで減少するまで、モノクロロベンゼンを除去した。蒸留を、90℃のサンプ温度及び200mbar(abs)で作業した。蒸留したモノクロロベンゼンを出発原料として次のバッチで再利用した。得られた底部生成物(本発明の工程III)による第2の液体混合物に等しい)の80質量%を、次のバッチの結晶化工程(本発明による冷却工程I)に等しい)に再循環した。
結晶組成物(CC)は、91.3%の収率に相当する1バッチ当たり1232gの定常状態収率で得られた。
商用製造業者から得られる4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド:
abcr-DCDPSO:abcr GmbHから得られる4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド
Alfa-DCDPSO:Alfa-Aesarから得られる4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド
TCI-DCDPSO:TCI GmbHから得られる4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド
Recryst-DCDPSO:ジエチルエーテルから再結晶化される4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド
Recryst-DCDPSO;CHCl:クロロホルムから再結晶化される4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド
Recryst-DCDPSO;EA:酢酸エチルから再結晶化される4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド
分析方法
d10,-値、d50,-値及びd90,-値は、測定法X面積によるCamsizer(登録商標)XTを使用して上記の通りに決定される。
GC分析を実施して、任意の有機不純物、溶媒及び4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドの純度を決定した。試料をジメチルホルムアミド(DMF)中で希釈し、内標準トリデカンを添加して、較正曲線に基づいて成分を定量化した。以下の温度ランプを用い、すなわち:50℃で2分間保持し、250℃に達するまで毎分15℃加熱し、250℃で15分間保持し、Restek(登録商標)製のRT×5のアミンカラム(0.25μm)を使用してGC分析を実施した。
APHA数を、(上記のように)Hach Lange LICO 500機器上で測定し、2.5gの4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを20mLのN-メチル-2-ピロリドン(NMP)中に溶解し、純NMPに対して測定した。
4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドのジメチルホルムアミド飽和溶液を生成して均一な溶液を生じさせることによってアルミニウム含量の決定を行った。後続して、前記飽和溶液の試料を取り、その質量を決定した(100~200mg+/-0.1mg)。その後、以下の分解プロセスを行った。濃硫酸(96%w/w)8mLを試料に添加して、320℃に加熱した。後続して、7mLの混酸(HSO 96%w/w;HClO 70%w/w;HNO 65%w/w(体積比2:1:1))を添加し、次いで試料を160℃に加熱した。その後、過剰の酸を蒸発させた。後続して、12mLの塩酸(HCl 36%w/w)を添加し、混合物を加熱して還流し、溶液を得た。逆重み付け(back weighting)及び密度による補正によって前記溶液の正確な容量を決定した。その後、誘導結合プラズマ発光分光法により溶液のアルミニウム含量を測定した。(機器IPC-OES Agilent 5100;波長 Al394.401nm;内標準SC361.383nm)
かさ密度及びタップ密度は、上記の通りに決定した。
流動性(ff)は、Dr.-Ing.Dietmar Schulze「The automatic Ring Shear Tester RST-01.pc」及びASTM-D 6773に記載のJenikeによるRing Shear Tester RST-XS上で、3kPaの初期剪断応力にて決定した。
Jenikeによれば、流動性は以下の表に従って分類される:
Figure 2022520769000007
融点は、2.5K/minの加熱速度(30~410℃)を用いたMettler Toledo DSC3上でのDSC(示差走査熱量測定法)により決定した。
結果を以下の表に示す。
Figure 2022520769000008
C 結晶
bsu 結晶(C)の6辺基面
bsi1 6辺基面bsuの第1の辺
bsi2 6辺基面bsuの第2の辺
bsi3 6辺基面bsuの第3の辺
bsi4 6辺基面bsuの第4の辺
bsi5 6辺基面bsuの第5の辺
bsi6 6辺基面bsuの第6の辺
cb1 6辺基面bsuの第1の角
cb2 6辺基面bsuの第2の角
cb3 6辺基面bsuの第3の角
cb4 6辺基面bsuの第4の角
cb5 6辺基面bsuの第5の角
cb6 6辺基面bsuの第6の角
db 6辺基面bsuの直径
db14 第1の角cb1と第4の角cb4との間の最短距離
db25 第2の角cb2と第5の角cb5との間の最短距離
db36 第3の角cb3と第6の角cb6との間の最短距離
tsu 結晶Cの6辺上面
tsi1 6辺上面tsuの第1の辺
tsi2 6辺上面tsuの第2の辺
tsi3 6辺上面tsuの第3の辺
tsi4 6辺上面tsuの第4の辺
tsi5 6辺上面tsuの第5の辺
tsi6 6辺上面tsuの第6の辺
ct1 6辺上面tsuの第1の角
ct2 6辺上面tsuの第2の角
ct3 6辺上面tsuの第3の角
ct4 6辺上面tsuの第4の角
ct5 6辺上面tsuの第5の角
ct6 6辺上面tsuの第6の角
dt 6辺上面tsuの直径
dt14 第1の角ct1と第4の角ct4との間の最短距離
dt25 第2の角ct2と第5の角ct5との間の最短距離
dt36 第3の角ct3と第6の角ct6との間の最短距離
ssu1 結晶(C)の第1の側面
ssu2 結晶(C)の第2の側面
ssu3 結晶(C)の第3の側面
ssu4 結晶(C)の第4の側面
ssu5 結晶(C)の第5の側面
ssu6 結晶(C)の第6の側面
l1 第1の側面(ssu1)の長さ
l2 第2の側面(ssu2)の長さ
l3 第3の側面(ssu3)の長さ
l4 第4の側面(ssu4)の長さ
l5 第5の側面(ssu5)の長さ
l6 第6の側面(ssu6)の長さ
l11 第1の角ct1と第1の角bt1との間の最短距離
l22 第2の角ct2と第2の角bt2との間の最短距離
l33 第3の角ct3と第3の角bt3との間の最短距離
l44 第4の角ct4と第4の角bt4との間の最短距離
l55 第5の角ct5と第5の角bt5との間の最短距離
l66 第6の角ct6と第6の角bt6との間の最短距離

Claims (16)

  1. 結晶(C)を含む結晶組成物(CC)であって、結晶(C)が、結晶組成物(CC)中に含まれる結晶(C)の総質量に対して、
    (a)少なくとも95質量%の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、
    (b)0~2質量%の不純物、及び
    (c)0~3質量%の有機溶媒(os)
    からなり、
    結晶組成物(CC)が、
    100~400μmの範囲のd10,-値、
    300~800μmの範囲のd50,-値、
    700~1500μmの範囲のd90,-値、
    を有し、
    d10,-値がd50,-値より小さく、d50,-値がd90,-値より小さい、結晶組成物(CC)。
  2. 結晶組成物(CC)の総質量に対して、少なくとも95質量%の結晶(C)を含む、請求項1に記載の結晶組成物(CC)。
  3. 600~950kg/mの範囲のかさ密度を示す、請求項1又は2に記載の結晶組成物(CC)。
  4. 結晶(C)の平均アスペクト比が、0.2~1の範囲である、請求項1から3のいずれか一項に記載の結晶組成物(CC)。
  5. 結晶(C)の平均球形度が、0.75~0.85の範囲である、請求項1から4のいずれか一項に記載の結晶組成物(CC)。
  6. ハウスナー比が1.05~1.27の範囲である、請求項1から5のいずれか一項に記載の結晶組成物(CC)。
  7. 結晶(C)の単位格子が、単斜晶系であり、空間群C 2/m、セル長a=16.05ű0.05Å、b=9.82ű0.05Å、c=7.21ű0.05Å、セル角度アルファ90°±0.1°、ベータ95.7°±0.1°、ガンマ90°±0.1°、セル容量1131.5ű1Åである、請求項1から6のいずれか一項に記載の結晶組成物(CC)。
  8. それぞれの場合において、結晶(C)の総質量に対して、
    (a)少なくとも95質量%の4,4’ジクロロジフェニルスルホキシド、
    (b)0~2質量%の不純物、及び
    (c)0~3質量%の有機溶媒(os)
    からなる結晶(C)であって、
    結晶(C)の外面が、
    i)6辺基面(bsu)及び
    ii)6辺上面(tsu)及び
    iii)6辺基面(bsu)と6辺上面(tsu)の対応する面をつなぐ6つの側面(ssu1~ssu6)
    を含む、結晶(C)。
  9. 6辺基面(bsu)、6辺上面(tsu)及び6つの側面(ssu1~ssu6)が、結晶(C)の外面の少なくとも90%を占める、請求項8に記載の結晶(C)。
  10. 6辺基面(bsu)の直径(db)及び6辺上面(tsu)の直径(dt)が、それぞれ独立に、50~1500μmの範囲である、請求項8又は9に記載の結晶(C)。
  11. 第1の側面(ssu1)の長さ(l1)、第2の側面(ssu2)の長さ(l2)、第3の側面(ssu3)の長さ(l3)、第4の側面(ssu4)の長さ(l4)、第5の側面(ssu5)の長さ(l5)及び第6の側面(ssu6)の長さ(l6)が、それぞれ独立に、100~3000μmの範囲である、請求項8から10のいずれか一項に記載の結晶(C)。
  12. 直径(db)及び直径(dt)の平均と長さ(l1)、長さ(l2)、長さ(l3)、長さ(l4)、長さ(l5)及び長さ(l6)の平均との比が、0.2~1の範囲である、請求項8から11のいずれか一項に記載の結晶(C)。
  13. 不純物(b)が、結晶(C)中に含まれる不純物(b)の総質量に対して、少なくとも90質量%の、2,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、3,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、2,2’-ジクロロジフェニルスルホキシド、4,4’-ジクロロジフェニルスルフィド、及び1種又は複数のアルミニウム化合物からなる群から選択される1種又は複数の化合物を含む、請求項8から12のいずれか一項に記載の結晶(C)。
  14. 請求項1から7のいずれか一項に記載の結晶組成物(CC)であって、
    I)有機溶媒(os)中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む第1の液体混合物を冷却して、結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド及び有機溶媒(os)を含む懸濁液を得る工程と、
    II)工程I)で得られた懸濁液を濾過して、有機溶媒(os)中に溶解された4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含む濾液を得る工程であり、濾液が、第1の液体混合物に比べて低濃度の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド、及び結晶化4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを含むフィルター残留物を有する、工程と、
    III)工程II)で得られた濾液を濃縮して第2の液体混合物を得る工程であり、第2の液体混合物が、濾液に比べて高濃度の4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドを有する、工程と、
    IV)工程III)で得られた第2の液体混合物の少なくとも一部を工程I)に再循環させる工程と、
    V)工程II)で得られたフィルター残留物を乾燥させて、結晶組成物(CC)を得る工程と、
    を含む方法によって得られる、結晶組成物(CC)。
  15. 請求項8から13のいずれか一項に記載の結晶(C)であって、
    VI)請求項14に記載の工程V)で得られた結晶組成物(CC)から結晶(C)を分離する工程
    を含む方法によって得られる、結晶(C)。
  16. モノマー、ポリマー及び医薬品からなる群から選択される少なくとも1種の生成物を製造するための中間体として結晶組成物(CC)を使用する方法。
JP2021546722A 2019-02-08 2020-02-04 4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド結晶(c)を含む結晶組成物(cc) Withdrawn JP2022520769A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962802983P 2019-02-08 2019-02-08
EP19156145 2019-02-08
US62/802,983 2019-02-08
EP19156145.5 2019-02-08
PCT/EP2020/052675 WO2020161100A1 (en) 2019-02-08 2020-02-04 Crystal composition (cc) comprising 4,4'-dichlorodiphenylsulfoxide crystals (c)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022520769A true JP2022520769A (ja) 2022-04-01
JPWO2020161100A5 JPWO2020161100A5 (ja) 2023-02-13

Family

ID=69375371

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021546722A Withdrawn JP2022520769A (ja) 2019-02-08 2020-02-04 4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド結晶(c)を含む結晶組成物(cc)

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20220127221A1 (ja)
EP (1) EP3774727B1 (ja)
JP (1) JP2022520769A (ja)
KR (1) KR20210124255A (ja)
CN (1) CN113454062A (ja)
WO (1) WO2020161100A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113454062A (zh) * 2019-02-08 2021-09-28 巴斯夫欧洲公司 包含4,4’-二氯二苯亚砜晶体(c)的晶体组合物(cc)

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2618582A (en) 1948-11-01 1952-11-18 Union Oil Co Pest control
SU765262A1 (ru) * 1977-12-30 1980-09-23 Всесоюзный Научно-Исследовательский И Проектный Институт Мономеров Способ получени 4,4 -дихлордифенилсульфона
US6197924B1 (en) * 1999-11-29 2001-03-06 General Electric Company Method for isolating dihydroxybiphenyl polyethersulfones
RU2159764C1 (ru) 1999-12-10 2000-11-27 Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова РАН Способ получения 4,4'-дихлордифенилсульфоксида
RU2158257C1 (ru) 1999-12-10 2000-10-27 Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова РАН Способ получения 4,4'-дихлордифенилсульфоксида
US20150111794A1 (en) * 2013-10-21 2015-04-23 Ticona Gmbh Two Component Polyoxymethylene Based Systems
CN104557626A (zh) * 2014-12-12 2015-04-29 山东凯盛新材料有限公司 亚砜氧化法制备4,4′-二氯二苯砜的工艺
CN104402780B (zh) * 2014-12-12 2016-04-27 山东凯盛新材料有限公司 4,4’-二氯二苯砜的合成工艺
KR102624322B1 (ko) 2017-08-17 2024-01-15 바스프 에스이 티오카르보네이트의 제조 방법
WO2019034468A1 (en) 2017-08-17 2019-02-21 Basf Se PROCESS FOR PREPARING A MONOTHIOCARBONATE COMPOUND
CN111032736A (zh) 2017-08-17 2020-04-17 巴斯夫欧洲公司 制备具有氨基甲酸酯基团的聚合物的方法
WO2019034473A1 (en) 2017-08-17 2019-02-21 Basf Se PROCESS FOR PRODUCING A POLYMER HAVING URETHAN GROUPS
US20210171811A1 (en) 2018-07-04 2021-06-10 Basf Se Adhesive method using two-component adhesives based on compounds having cyclothiocarbonate units
EP3844207A1 (en) 2018-08-28 2021-07-07 Basf Se Polymers of a compound comprising a monothiocarbonate group and an ethylenically unsaturated group
KR20210125493A (ko) * 2019-02-08 2021-10-18 바스프 에스이 4,4'-디클로로디페닐 설폭사이드의 제조 방법
CN113454062A (zh) * 2019-02-08 2021-09-28 巴斯夫欧洲公司 包含4,4’-二氯二苯亚砜晶体(c)的晶体组合物(cc)
US20220135522A1 (en) * 2019-02-08 2022-05-05 Basf Se A process for obtaining 4,4'-dichlorodiphenyl sulfoxide
CN114341105B (zh) * 2019-08-27 2024-08-06 巴斯夫欧洲公司 制备4,4’-二氯二苯砜的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20220127221A1 (en) 2022-04-28
WO2020161100A1 (en) 2020-08-13
EP3774727B1 (en) 2023-09-13
CN113454062A (zh) 2021-09-28
EP3774727A1 (en) 2021-02-17
US20200255374A1 (en) 2020-08-13
KR20210124255A (ko) 2021-10-14
US10975024B2 (en) 2021-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0929596B1 (de) Verfahren zur herstellung von schwefelhaltigen polymeren
JP5163094B2 (ja) 2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の連続製造方法
CN101219975B (zh) 甲基磺酸的一种制备方法
US4841022A (en) Method for removing impurities from polyphenylene sulfide resin
JP2022520769A (ja) 4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシド結晶(c)を含む結晶組成物(cc)
JP6628884B2 (ja) Ahu−377とバルサルタン三ナトリウム塩の共晶水和物の結晶形iiの製造方法
WO2018113495A1 (zh) 一种含甲氧基二苯砜醚基的聚醚砜树脂及其合成方法和应用
JP7274257B2 (ja) 9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-3-フェニルフェニル]フルオレンの多形体及びその製造方法
CN102171182B (zh) 生产和提纯三氟甲烷亚磺酸的方法
CN102786491A (zh) 2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮的制备方法
JP2012207008A (ja) 6,6−(9−フルオレニリデン)−ジ(2−ナフトール)の結晶多形体及びその製造方法
CN116589359A (zh) 一种低温制备3,4-二氯硝基苯的方法
EP0939783A2 (de) Verfahren zur herstellung von schwefelhaltigen polymeren
TW202014415A (zh) 賽度替尼(cerdulatinib)之合成
RU2424187C1 (ru) Способ получения высокочистого фторида бария
CN107793361A (zh) 一种咪唑磺酸离子液体组合物及其制备方法和应用
JP5428941B2 (ja) 着色の低減されたN−tert−ブチルアクリルアミドの製造方法
CN114302871A (zh) 包含4,4’-二氯二苯砜晶体(c)的(c)晶体组合物(cc)
CN110294694A (zh) 一种颜料红177的中间体das改进的制备方法
JP7242375B2 (ja) 9,9-ビス[6-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-ナフチル]フルオレンの結晶多形及びその製造方法
TWI511948B (zh) 用於製備α-甲基苯乙烯二聚物之α-羥羰基衍生物的結晶混合物之製程
JP5412033B2 (ja) 6,6’−(エチレンジオキシ)ビス−2−ナフトエ酸の精製方法
CN115838360A (zh) 一种塞来昔布的制备方法
Johnson et al. RESEARCHES ON PYRIMIDINES. LXXVIII. THE REDUCTION OF 2-MERCAPTO-6-CHLOROPYRIMIDINES.
Noyes et al. XIII. MOLECULAR REARRANGEMENTS IN THE CAMPHOR SERIES. THE DECOMPOSITION PRODUCTS OF THE METHYL ESTER OF ISOAMINOCAMPHONANIC ACID. A NEW REACTION INVOLVING THE FORMATION OF THE METHYL ETHER OF A HYDROXY ACID.

Legal Events

Date Code Title Description
A529 Written submission of copy of amendment under article 34 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A529

Effective date: 20211005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230202

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230202

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20230511