JP2022520221A - 水性単分散デンプン-金ナノ粒子及びその製造方法 - Google Patents
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本発明は、一般的に、狭い範囲の加水分解デンプン及び狭いサイズ分布の金ナノ粒子を有するデンプン安定化金ナノ粒子水性分散液に関する。さらに詳細には、本発明は、デンプン安定化金ナノ粒子及びそれらの水中分散液の合成及び調製のための新規方法に関し、この濃縮分散液はインクジェット印刷又は関連印刷技術によって乾燥膜を生成し、それは高導電性であり、それは低温で焼結してその導電性を高める。本発明によれば、特定範囲の分子量の加水分解デンプンが、金に対するデンプンの低い質量比及び単分散サイズ分布の金ナノ粒子を有する安定したデンプン-金ナノ粒子分散液をもたらす。
プリンテッド・エレクトロニクス(printed electronics)は、種々の電子デバイスの製造における最近の進歩の1つであり、インクジェット印刷では、該物質は基板上の特定エリアに単に堆積され、それによって材料費を節約する[Kang, J. S.; Kim, H. S.; Ryu, J.; Thomas Hahn, H.; Jang, S.; Joung, J. W. J., Mater. Sci. Mater. Electron. 2010, 21 (11), 1213-1220]。インクジェット印刷を利用して、銀及び金等の金属電極から作られた導電性パターンを印刷してきた[Cui, W.; Lu, W.; Zhang, Y.; Lin, G.; Wei, T.; Jiang, L., Colloids Surfaces A Physicochem. Eng. Asp. 2010, 358 (1-3), 35-41; Jensen, G. C.; Krause, C. E.; Sotzing, G.; Rusling, J. F., Phys. Chem. Chem. Phys. 2011, 13 (11), 4888-4894; Volkman, S. K.; Yin, S.; Subramanian, V. Mater. Res. Soc. Proc. 2004, 814, 17.8]。インクジェット印刷技術の主構成要素は、ノズルを通して単一の孤立液滴中に噴射されることになるインク製剤である。噴射可能(jettable)インクは、その流動特性、特に表面張力、密度及び粘度を変えることによって調製することができる。インクの噴射性能(jettability)に関する一般基準は、オーネゾルゲ数(Ohnesorge number)の逆数である、Z数と呼ばれる無次元パラメーターによって決定される[Ohnesorge, W. V. J. Appl. Math. Mech. 1936, 16 (6), 355-358]。このパラメーターは、下記式に示すように、流体の慣性力及び表面張力に対する流体の粘性力に関するものであり、
Z=(σρd)1/2/η (式1)
式中、σは、インクの表面張力であり、ρは密度であり、ηは粘度であり、さらにdはノズル径である。しかしながら、いくつかのZ数範囲(例えば、1<Z<10又は4≦Z≦14)18が噴射性能ウィンドウに関する異なる著者によって報告されている。この理由で、実際に種々の2パラメータープロットを用いてインクに関する噴射性能レジーム(regime)を定義している研究がある[Kim, E.; Baek, J. Model. Phys. Fluids 2012, 24 (8)]。例えば、Subramanianらによる研究では、噴射可能インク製剤は、キャピラリー及びウェーバー(Ca-We)数空間によって囲まれた領域内で実験的に定義され、インク製剤の表面張力によって正規化された慣性力及び粘性力の効果を強調し;これらの領域は、サテライト(satellite)のない液滴を生成する噴射可能インク製剤にとって普遍的であるように思われる[Nallan, H. C.; Sadie, J. A.; Kitsomboonloha, R.; Volkman, S. K.; Subramanian, V. Langmuir 2014, 30, 13470-13477]。
本発明は、一般的に、狭い範囲の加水分解デンプン及び狭いサイズ分布の金ナノ粒子を有するデンプン安定化金ナノ粒子水性分散液に関する。さらに詳細には、本発明は、デンプン安定化金ナノ粒子及びそれらの水中分散液の合成及び調製のための新規方法に関し、この濃縮分散液はインクジェット印刷又は関連印刷技術によって乾燥膜を生成し、それは高導電性であり、それは低温で焼結してその導電性を高める。本発明によれば、特定範囲の分子量の加水分解デンプンが、金に対するデンプンの低い質量比及び単分散サイズ分布の金ナノ粒子を有する安定したデンプン-金ナノ粒子分散液をもたらす。
本発明の主目的は、サイズを制御するマイクロ波アシスト加熱を経て得られた最適に加水分解したデンプン及び前記最適に加水分解したデンプンの還元能力を用いる水性AuNPインク製剤を提供することである。
マイクロ波アシスト加熱を経て得られた最適に加水分解したデンプンを、AuNPナノ粒子のマイクロ波合成において還元剤としても安定化剤としても使用する水性AuNPインク製剤を提供することも本発明の目的である。
本発明のさらに別の目的は、マイクロ波アシスト加水分解及び反応によって行なわれるデンプンの加水分解条件を変えて、マイクロ波アシスト加熱がより均一な加熱を反応混合物に与えることによって、粒子サイズ、安定性、及び収率に基づいて最適化されたAuNPの合成方法を提供することである。
さらに、本発明の別の目的は、低い焼結温度(約200℃)でさえ低いシート抵抗(<1.0Ω/スクウェア)を有する印刷されたAu膜をもたらす狭い単分散サイズ分布のAuNPを生じさせるためにマイクロ波アシスト加熱を利用する至適AuNP合成反応のための方法を提供することである。
これら及び他の目的は、添付図面と併せて解釈される下記詳細な説明を読めば明かになるであろう。
本発明は、一般的に、狭い範囲の加水分解デンプン及び狭いサイズ分布の金ナノ粒子を有するデンプン安定化金ナノ粒子水性分散液に関する。さらに詳細には、本発明は、デンプン安定化金ナノ粒子及びそれらの水中分散液の合成及び調製のための新規方法に関し、この濃縮分散液はインクジェット印刷又は関連印刷技術によって乾燥膜を生成し、それは高導電性であり、それは低温で焼結してその導電性を高める。本発明によれば、特定範囲の分子量の加水分解デンプンが、金に対するデンプンの低い質量比及び単分散サイズ分布の金ナノ粒子を有する安定したデンプン-金ナノ粒子分散液をもたらす。
Ekgasitらによる取り組み[Pienpinijtham, P.; Thammacharoen, C.; Ekgasit, S. Macromol. Res. 2012, 20 (12), 1281-1288; Arshi, N.]は、Au3+のAu0への還元のために加水分解デンプンを使用し、彼らは、弱アルカリ性条件下でのデンプンの加水分解が、アルデヒド又はα-ヒドロキシケトンのどちらかを含有する中間体を生成し、それらはAu3+を還元することができ、引き続きそれらのカルボン酸型に酸化され得ると提唱した。本発明は、マイクロ波アシスト加熱を介する該プロセスを改変及び最適化して、最終的な加水分解デンプンの分子量サイズ範囲を制御し、これは、結果として生じるAuNPのサイズ及び分布に影響することが分かる。マイクロ波反応器を用いてデンプンの加水分解温度を制御し、結果として生じた溶液を動的光散乱(DLS)を用いてそのZ平均粒径(PS)について、及び同機器を用いて静的光散乱(SLS)モードで重量平均分子量(MW)について特徴づけた。Z平均粒径は、調和強度-加重算術平均粒径(harmonic intensity-weighted arithmetic average particle diameter)とも呼ばれ、一方で重量平均MWは、デンプン溶液のその濃度に対する散乱強度のDebyeプロットから導かれる。
前述の方法から得られたマイクロ波加水分解デンプンサンプルを用いて、実施例に記載の方法;典型的に等体積の加水分解デンプン(4%w/v)と、0.1MのHAuCl4溶液から調製し、NaOHによってpHを7に調整したAuNP前駆体溶液とを混合してからマイクロ波反応器内で再び5分間加熱する方法を利用してAuNPを合成する。ここで、最後の反応混合物中の前駆体Au3+の濃度は25.0mMに固定してよく、これは、他の報告された合成方法が典型的に1.0~12.5mMであるのに比べてかなり高い濃度である。
実施例の結果として生じたAuNP溶液をUV-Vis分光測定法(図2B)及びDLS(図2C、2D)によって特徴づけた。AuNPの表面プラズモン共鳴(SPR)ピークは、そのサイズ及び濃度に関連している。AuNPが大きいほど、最大吸光度の波長(λmax)を高い値に変化させ、一方でピーク幅は、AuNPサンプルのサイズ分布に対応する。さらに、吸光度値が高いほど高濃度のサンプルであることを意味する。
DLSを用いたZ平均粒径測定でも、UV-Visスペクトルで観察された粒径の傾向が確認され、70℃から90℃への加熱温度上昇によりAuNP-デンプンナノ粒子の粒径が約175nmから約50nmに減少した(図2C)。また、Haissらが報告した[Haiss, W.; Thanh, N. T. K.; Aveyard, J.; Fernig, D. G., Anal. Chem. 2007, 79 (11), 4215-4221]式(Eq. 2)を用いてUV-VisスペクトルからAuNP粒子の数密度を推定した。AuNPサイズについて観察された傾向により予想されたように、上昇した加水分解温度でAuNPのより高い数密度が得られることが算出された。Au3+の初期濃度は全てのサンプルで等しいので、より大きいAuNPサイズを有するサンプルよりAuNPサイズが小さいサンプルほど高いAuNP濃度が予想されるのは当然である。
上記方法から得られた合成AuNPインクは、ドロップ・オン・デマンド(DoD)インクジェットプリンターを用いて印刷することができる。前述したように、インクの噴射性能は、その流体特性、例えば粘度、表面張力、及び密度等を計測することによって予想することができる。
上記方法及び下記実施例から得られたインクについて、粘度はおよそ1.20cPであると測定され、表面張力は69.7mN/mであり、密度は1.0246g/mLであり;式1を用いると、このインクのZ数は54.6である。これは、インクジェット印刷に関するほとんどの研究によって設定される範囲を超えている。しかしながら、Subramanianらが考察及び実証したように、Z数を用いる噴射性能基準に関しては矛盾がある[Nallan, H. C.; Sadie, J. A.; Kitsomboonloha, R.; Volkman, S. K.; Subramanian, V. Langmuir 2014, 30, 13470-13477.]。いずれの場合でも、結果として生じたインクは、図4Aに示すように、サテライト液滴のない単一液滴にうまく噴射された。印刷中は60μm径のインクジェットノズルにバイポーラ電圧波形を加え、基板(ほとんどの焼結特徴づけのために洗浄したスライドガラスを用いた)を50℃で加熱した。孤立した単一線を印刷する際には、合成されたままのAuNPインクにコーヒーリング効果が観察されることがあるが、液滴間隔及び印刷速度だけを変えることによってそれを抑制できなければ、最小量の界面活性剤(約0.3%w/wのTriton X-100)を添加することによってそれを抑制することができる。界面活性剤の添加は、結果として生じるインクのZ数を約37.2に変えた。インクの表面張力が著しく低下し、それでもインクは単一液滴を噴射したからである。サンプルのグリッドパターンをポリエチレンナフタレート(PEN)基板上に印刷し、印刷線のズームイン画像を図4Bに示す。固体正方形パターンの印刷のためには、線の密接間隙はコーヒーリング効果によって残される空洞を補うことになるので、合成されたままのインクを界面活性剤を添加せずに使用した。正方形パターンを用いてシート抵抗値を測定した。印刷された金膜の厚さは、原子間力顕微鏡像から線プロファイルを抽出することによって近似した。一般的に単層印刷では約100nmを示す。
上記方法、並びに実施例からのインクを用いて得られたインクジェット印刷膜を乾燥及び加熱して焼結温度に達したときにシート抵抗を測定することによってそれらの電気特性について特徴づけた。金結晶子のXRDピークの広幅化に明示されているように(図6A)、導電性の傾向(図6B)は粒子の形態変化と一致する。200℃未満の温度では、全ての印刷膜サンプルについてシート抵抗の線形減少傾向が観察されたが、200℃超の温度では、シート抵抗値は相対的に一定のまま(1層では約0.12Ω/スクウェア、2層では約0.08Ω/スクウェア、3層では約0.04Ω/スクウェア)だった。上に3層のインクが印刷された膜は測定温度値にわたって最低のシート抵抗を有し、次に2層印刷、そして1層印刷が最高のシート抵抗を有することに留意されたい。この傾向は、より多くのナノ粒子が膜上に堆積されるにつれて電子伝導ネットワークの形成の機会を増やすと予想される。従って、伝導体としてのその最良の性能を達成するためには、印刷されたAu膜を少なくとも200℃で加熱すべきである。それにもかかわらず、それを200℃未満の温度で加熱してもそれを相対的に低いシート抵抗(<1.0Ω/スクウェア)の伝導性にし、これは可撓性プラスチック基板に使用可能である。この値は、蒸着Auのシート抵抗値(約0.7Ω/スクウェア)、及びAuNPに関する他の関連研究からのシート抵抗値(水性インクについては1.3~3.3Ω/スクウェア、市販の有機ベースのインクについては約0.12Ω/スクウェア)に匹敵する。
金上のデンプン(<2%)は焼き取られ、表面増強赤外分光法(SEIRA)によって検出できないことも観察された。FT-IR用サンプルは、KBr粉末上に少量のAuNPを滴下してから乾燥させ、図7Aに示した温度で加熱し、ペレット化することによって調製した。120℃で加熱したインクサンプルから、純粋加水分解デンプンのIRスペクトルを参照して、デンプンに関するIRピーク(cm-1)(550:ピラノース環骨格モード;875:CH2変形;1080及び1390:C-O-H変角;1260:CH2OH;2890及び2980:CH2変形)が観察された。また、注目すべき点は、120℃サンプルからのピークが、純粋デンプンサンプルよりシャープなピークを与えたことであり、我々は、これは主にAuNP表面上のデンプンの表面増強IR吸収(SEIRA)が原因であると考える。200℃超では、TGAによって決定されるデンプンの分解プロファイルから予想されるように、これらのデンプンピークは消失した(図3)。水に関連するピークは、KBr粉末の不完全な乾燥のためまだ観察された。要するに、IRスペクトルは、インク中のデンプンが200℃超の温度で分解することを示した。これは、絶縁体であるデンプンの除去によってナノ粒子膜の導電性を高めるはずである。従って、上述した印刷膜の電気的特徴づけで観察されたように、少なくとも200℃で膜を加熱すると膜のシート抵抗を小さくした。
典型的に、デンプン(例えば、Sigma-Aldrichからのジャガイモデンプン)の4%(w/v)溶液は、ホットプレート又は5秒(5-s)バーストを伴うキッチン用マイクロ波オーブンを用いて穏やかに加熱及び撹拌しながらデンプンを蒸留水に溶かすことによって調製した。これを室温まで冷ました後に加水分解した。加水分解混合物について:等体積の4%デンプン溶液を0.1MのNaOH溶液と混合する。実験用マイクロ波反応器(例えば、Milestone flexiWAVE)を用いて温度プログラムを入力し、加熱すべき溶液の体積に対して加熱が確実に最適化されるようにする。典型的に、60mLの反応体積では、マイクロ波反応器パラメーターは以下のとおりである:30%の撹拌速度、目標温度(90℃)まで2分のランプ時間、500Wのランプ力及び200Wの保持時間力で60分の保持時間。このプログラムは反応混合物温度の微調整をもたらし、これが加水分解デンプンの至適サイズを生じさせるのに役立つはずである。これを室温まで冷ました後でAuNP合成に使用する。
Au3+前駆体溶液は「10%のAu前駆体」であり、金塩(AuHCl4)から調製するか又は純金属から出発してよい。純金属から出発する場合、10gの金ペレット(>98%純度)を、1:3のHNO3(r.g.):HCl(r.g.)混合物で構成される60mLの王水溶液で溶かす。これはドラフト内で行なう。ビーカー内のこの混合物をホットプレート上で約80℃で撹拌しながら加熱して溶解を助ける。このステップは褐色の毒性NOxガスを発生させるので、ドラフトが必要である。固体金が完全に溶解したとき、残渣がほとんど乾燥する(完全には乾燥しない)まで液体を蒸発させる。この残渣を次に100mLの脱イオン(DI)水に溶かして、「10%のAu前駆体」を生成する。
10%のストック溶液のアリコートからpHが7.0の2%のAu3+溶液を調製する。この調製では、50%のNaOH溶液を用いてアリコートを中和した後に脱イオン蒸留水で最終希釈して2%のAu3+最終濃度にした。
次に、等体積の2%のAu3+溶液及び0.1MのNaOHを混合する。これを用いて、マイクロ波容器内で等体積の加水分解デンプン溶液(できる限り新鮮な加水分解サンプル)と合わせて混合する。60mLの反応混合物では、それぞれ30mLを混合する。この混合物を次に、温度プロファイルを制御するための最適化マイクロ波加熱プログラムを用いて均一に加熱する。Milestone flexiWAVEマイクロ波反応器を用いる60mLの反応混合物について、パラメーターは以下のとおりである:30%の撹拌速度、500Wのランプ力で目標温度60℃に達するまで1分のランプ時間、及び100Wで15分の保持時間。これはAuNP溶液を生成するはずであり、次にこの溶液を室温まで冷ました後、きれいな容器に移す。
最後に、この洗浄されたAuNPから、マイクロ波合成反応ステップからの最初の体積の約20分の1である濃縮分散液として金インクを調製する。このAuNPインクを冷蔵庫(約4℃)に保管する。それは1カ月超にわたって安定した状態を保つ。
調製されたAuNPインクを先に0.45μmのメンブランを通して濾過した後、インクジェットプリンターカートリッジ又はインク容器に充填した。ここで、MicroFab Technologies, Inc.からのJetlab(登録商標)4を用いてインク製剤の噴射性能及び印刷適性を実証する。カスタマイズされたバイポーラ波形(図8)をインクジェットノズルに適用して、500Hzの噴射周波数までAuNPインクを噴射して単一液滴にした。基板ステージを50℃に加熱してインクを乾燥させた。印刷後、それをホットプレート上で種々の温度にて焼結させて、印刷膜の導電性を向上させることができる。
印刷膜上のコーヒー環効果を最小限にするため、Triton X-100をインク製剤に添加して約0.3%(w/w)にする。これは、印刷の忠実度が増強した印刷金線をもたらす(図8)。
Claims (23)
- 金に対するデンプンの質量比が2.0wt%未満である単分散デンプン-金ナノ粒子水溶液において、ゼータ電位によって測定される前記金ナノ粒子の安定性が-32~-35mVであることを特徴とする、前記単分散デンプン-金ナノ粒子水溶液。
- 動的光散乱によって測定される前記金ナノ粒子のサイズ及びサイズ分布が、40~100nmのZ平均である、請求項1に記載の単分散デンプン-金ナノ粒子水溶液。
- 前記金ナノ粒子の単分散サイズ分布が12%のRSDである、請求項1に記載の単分散デンプン-金ナノ粒子水溶液。
- 所定の分子量範囲の加水分解デンプを用いて安定した単分散デンプン-金ナノ粒子水溶液を製造する方法であって、下記:
a. 1000~1500kDaの範囲のMWを生じさせるために制御された時間及び温度で塩基を用いるデンプン水溶液の加水分解、
b. ステップ(a)の加水分解デンプンをアルカリ性Au3+水溶液と混合すること、及び
c. (b)の混合物を50~70℃に10~20分間マイクロ波加熱すること
を含む、前記方法。 - 4%のデンプン水溶液を、等体積の0.1MのNaOHを使用し、かつマイクロ波反応器内で撹拌しながら室温から85~95℃の温度まで2分のランプ時間で加熱し、この温度を15~45分保持して加水分解する、請求項4に記載の方法。
- 使用する前記塩基が、NaOH以外のアルカリ性溶液である、請求項4又は5に記載の方法。
- ステップ(b)が、ステップ(a)の過程から生成された4%の加水分解デンプン及び2%(w/v)のアルカリ性Au3+溶液の等体積混合物の混合を含む、請求項4又は5に記載の方法。
- 前記アルカリ性Au3+溶液が、等体積の0.1MのNaOHと混合された2%(w/w)Au3+である、請求項4又は5に記載の方法。
- ゼータ電位によって測定される前記金ナノ粒子の安定性が、-32~-35mVである、請求項4又は5に記載の方法。
- 動的光散乱によって測定される前記金ナノ粒子のサイズ及びサイズ分布が、40~100nmのZ平均である、請求項4又は5に記載の方法。
- 金に対するデンプンの質量比が2.0wt%未満である単分散デンプン-金ナノ粒子水溶液を含む噴射可能インクにおいて、ゼータ電位によって測定される前記金ナノ粒子の安定性が-32~-35mVであることを特徴とする、前記噴射可能インク。
- 動的光散乱によって測定される前記金ナノ粒子のサイズ及びサイズ分布が、40~100nmのZ平均である、請求項11に記載の噴射可能インク。
- 前記金ナノ粒子の単分散サイズ分布が、12%のRSDである、請求項11に記載の噴射可能インク。
- 噴射可能インクの製造方法であって、下記:
a. 下記:
a.1 1000~1500kDaの範囲のMWを生じさせるために制御された時間及び温度で塩基を用いるデンプン水溶液の加水分解、
a.2 ステップ(a)の加水分解デンプンをアルカリ性Au3+水溶液と混合すること、及び
a.3 (b)の混合物を50~70℃に10~20分間マイクロ波加熱すること
を含む方法によって生成された単分散デンプン-金ナノ粒子の水中での超音波処理及び遠心分離によって脱イオン蒸留水で繰り返し洗浄すること、及び
b. 洗浄された前記金ナノ粒子を1.0~1.25cPの所望粘度まで水で最後に希釈すること
を含む、前記方法。 - 4%のデンプン水溶液を、等体積の0.1MのNaOHを使用し、かつマイクロ波反応器内で撹拌しながら室温から85~95℃の温度まで2分のランプ時間で加熱し、この温度を15~45分保持して加水分解する、請求項14に記載の方法。
- 使用する前記塩基が、NaOH以外のアルカリ性溶液である、請求項14又は15に記載の方法。
- ステップ(a.2)が、ステップ(a.1)の過程から生成された4%の加水分解デンプン及び2%(w/v)のアルカリ性Au3+溶液の等体積混合物の混合を含む、請求項14又は15に記載の方法。
- 前記アルカリ性Au3+溶液が、等体積の0.1MのNaOHと混合された2%(w/w)Au3+である、請求項14又は15に記載の方法。
- ゼータ電位によって測定される前記金ナノ粒子の安定性が、-32~-35mVである、請求項14又は15に記載の方法。
- 動的光散乱によって測定される前記金ナノ粒子のサイズ及びサイズ分布が、40~100nmのZ平均である、請求項14又は15に記載の方法。
- 請求項11又は14に記載の方法によって製造される噴射可能インクの、それによって前記噴射可能インクが通常の印刷手段を利用して基板に印刷される導電性膜を生成する際の使用。
- 前記通常の印刷手段がインクジェット印刷である、請求項21に記載の噴射可能インクの使用。
- 請求項21に記載の噴射可能インクの使用によって生成される導電性膜であって、<1Ω/スクウェアのシート抵抗を有する、前記導電性膜。
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