JP2022151490A - Resin film, laminate, laminate production method, electric circuit, healthcare sensor, wearable sensor and production method for resin film processed goods - Google Patents

Resin film, laminate, laminate production method, electric circuit, healthcare sensor, wearable sensor and production method for resin film processed goods Download PDF

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佑矢 鈴木
Yuya Suzuki
規文 三羽
Norifumi Miwa
純平 大橋
Jumpei Ohashi
信康 甲斐
Nobuyasu Kai
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Abstract

To provide: the resin film and laminate having both printing plate separability and adhesiveness with a printed layer while having high flexibility and restorability; laminate production method; electric circuit; healthcare sensor; wearable sensor; and production method for resin film processed goods.SOLUTION: The resin film satisfying all of the following conditions 1 to 3 is provided. Condition 1: the storage elastic modulus of the resin film at 25°C under the condition of frequency 1 Hz is 0.5 MPa or more and 50 MPa or less. Condition 2: the loss tangent of the film at 25°C is 0.5 or less. Condition 3: the flat part percentage in at least one surface of the film by a laser microscope is 70% or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、高い柔軟性と復元性を持ちつつ、印刷工程時における印刷版離れ性と、印刷層との密着性を両立した樹脂フィルム、積層体、積層体の製造方法、電気回路体、ヘルスケアセンサー、ウエアラブルセンサー、および樹脂フィルム加工品の製造方法に関する。 The present invention provides a resin film, a laminate, a method for producing a laminate, an electric circuit body, and a health product, which has high flexibility and resilience, and has both printing plate releasability during the printing process and adhesion to the printing layer. The present invention relates to care sensors, wearable sensors, and methods for manufacturing resin film processed products.

近年、IoT社会の発達に伴い、ウエアラブルセンサーの開発が盛んに行われている。ウエアラブルセンサーとは、腕や、脚、頭部など、体の一部に装着することで、体全体のダイナミックな動きや、体内の微小な圧力、電気信号などを常時モニタリングするものである。産業用や医療用を初めとする様々な分野で開発が進められており、膨大なデータ収集とそれらを用いたアラームやアドバイスにより、私たちの生活を根底から変えることが期待されている。 In recent years, with the development of the IoT society, the development of wearable sensors has been actively carried out. Wearable sensors are attached to a part of the body, such as the arm, leg, or head, to constantly monitor the dynamic movement of the entire body, microscopic pressure in the body, electrical signals, etc. It is being developed in a variety of fields, including industrial and medical applications, and is expected to fundamentally change our lives through the collection of vast amounts of data and the use of such data as alarms and advice.

これらのデバイスの基材として、これまで様々な樹脂フィルムが検討されてきた。しかし、従来の材料は、例えばポリイミドのような剛直な化学結合や強い結晶性を有するフィルムであり、自由に曲げることはできるが、伸縮させることはできないものであった。そのため、基材として、引き延ばしが容易で、かつ、瞬時に復元ができる材料が求められている。 Various resin films have been studied as substrates for these devices. However, conventional materials are films with rigid chemical bonds and strong crystallinity, such as polyimide, which can be freely bent but cannot be stretched. Therefore, as a base material, a material that can be easily stretched and instantly restored is desired.

このような高い柔軟性と復元性を有した樹脂フィルムの代表例として、特許文献1に記載の「カーボネート結合を有するポリエーテルポリオール(a)とイソシアネート化合物(b)を反応させて製造されるポリウレタンであって、ポリエーテルポリオール(a)の水酸基価が55以下であるポリウレタン」が提案されている。また、特許文献2に記載の「装着性と形状追従性に加えて、伸縮時の電気抵抗変化が小さい導電性フィルム」や、特許文献3に記載の「優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れるとともに、表面のベタつきもない伸縮性膜」が提案されている。 A representative example of such a resin film having high flexibility and resilience is a polyurethane produced by reacting a polyether polyol (a) having a carbonate bond with an isocyanate compound (b) described in Patent Document 1. and the polyether polyol (a) has a hydroxyl value of 55 or less”. In addition, in Patent Document 2, "In addition to wearability and shape followability, a conductive film with a small change in electrical resistance during stretching" and Patent Document 3, "It has excellent stretchability and strength, In addition, a stretchable film that has excellent water repellency on the film surface and does not have a sticky surface has been proposed.

特開2015-189886号公報JP 2015-189886 A 特開2017-199654号公報JP 2017-199654 A 特開2020-105485号公報JP 2020-105485 A

センサーとして使用するためには、基材に伸縮性を有した配線や電極を実装することが求められ、実装方法としては、オフセット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷等で行われることが考えられている。引き延ばしが容易で、かつ、瞬時に復元ができる材料を用いたセンサーの実現が近づく中、配線や電極をはじめとした、印刷層と樹脂フィルムの密着性を確保しつつ、この印刷工程時において、印刷版と樹脂フィルムとが貼り付くといった印刷不良を起こさずに、生産性を高めることが最近求められてきている。 In order to use it as a sensor, it is required to mount stretchable wiring and electrodes on the base material, and offset printing, gravure printing, screen printing, etc. are considered as mounting methods. . As the realization of sensors using materials that can be easily stretched and instantly restored is approaching, while ensuring the adhesion between the printed layer and the resin film, including wiring and electrodes, during the printing process, Recently, there has been a demand for improving productivity without causing printing defects such as sticking between a printing plate and a resin film.

前述のウエアラブルセンサーに使用される樹脂フィルムでは、弱い力で大きく伸ばすことが可能な「柔軟性」、ほぼ完全に復元することを0℃以下の温度で、かつ毎秒1回を超える早い周期で行うことができる「復元性」が求められる。柔軟性が高い材料は基本的にタック性が高い特徴をもつが、印刷加工をする際にタック性が高いと印刷版に貼り付く印刷不良が生じやすくなる課題があることがわかった。「柔軟性」と「印刷版離れ性」を両立させる方法として、樹脂フィルム表面を低極性にし、印刷版/樹脂フィルム間の界面相互作用を低下させる方法があるが、この場合、配線や電極等のような印刷層と樹脂フィルムの界面相互作用も低下させてしまい、密着性が低下しやすくなる。つまり、樹脂フィルムの特性として、「柔軟性」、「復元性」、「印刷版離れ性」、「印刷層密着性」の4項目全てを高水準で満たす必要がある。 The resin film used in the aforementioned wearable sensor has "flexibility" that allows it to be greatly stretched with a weak force, and it is almost completely restored at a temperature of 0 ° C or less and at a rapid cycle of more than 1 time per second. "Restorability" is required. Materials with high flexibility are basically characterized by high tackiness, but we found that there is a problem that printing defects such as sticking to the printing plate tend to occur if the tackiness is high during printing. As a method to achieve both "flexibility" and "printing plate releasability", there is a method of reducing the interfacial interaction between the printing plate and the resin film by making the surface of the resin film less polar. The interfacial interaction between the printed layer and the resin film is also reduced, and the adhesion is likely to be reduced. In other words, it is necessary for the resin film to satisfy all four items of "flexibility", "restoration", "printing plate release", and "printing layer adhesion" at a high level.

以上のような要望に対し、本発明者らが前述の観点について確認したところ、特許文献1に提案されている材料は、「柔軟性」は優れ、「印刷層密着性」も良好であったが、「復元性」や「印刷版離れ性」が不十分であった。 In response to the above demands, the present inventors confirmed the above-mentioned viewpoints, and found that the material proposed in Patent Document 1 has excellent "flexibility" and good "printing layer adhesion". However, "restorability" and "printing plate release" were insufficient.

特許文献2に提案されている材料について、「印刷版離れ性」、「印刷層密着性」は優れているが、「柔軟性」や「復元性」は不十分であった。 The material proposed in Patent Document 2 is excellent in "printing plate releasability" and "printing layer adhesion", but insufficient in "flexibility" and "restoration".

また、特許文献3に提案されている材料について、「柔軟性」や「復元性」、「印刷版離れ性」は優れているが、「印刷層密着性」は不十分であった。また、特許文献1に記載の材料に対して、特許文献3に記載のような凹凸形状をつけた場合、特許文献1と比べて、「印刷版離れ性」の向上は見られるものの、不十分であり、また、特許文献3のものと比べて、「印刷層密着性」の向上は見られるものの、不十分であった。 Further, the material proposed in Patent Document 3 is excellent in "flexibility", "restoration", and "printing plate separation", but is insufficient in "printing layer adhesion". In addition, when the uneven shape described in Patent Document 3 is added to the material described in Patent Document 1, improvement in "printing plate releasability" can be seen compared to Patent Document 1, but it is insufficient. In addition, although an improvement in "printing layer adhesion" was observed compared to that of Patent Document 3, it was insufficient.

以上の点から、本発明の課題は、高い柔軟性と復元性を持ちつつ、印刷工程時における印刷版離れ性と、印刷層との密着性を両立した樹脂フィルムや積層体、積層体の製造方法、電気回路体、ヘルスケアセンサー、ウエアラブルセンサー、および樹脂フィルム加工品の製造方法を提供することにある。 From the above points, the problem of the present invention is to produce a resin film, a laminate, and a laminate that have both high flexibility and resilience, and are compatible with printing plate release during the printing process and adhesion with the printing layer. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electric circuit body, a healthcare sensor, a wearable sensor, and a resin film processed product.

上記課題を解決するために本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明の樹脂フィルム、積層体、積層体の製造方法、電気回路体、ヘルスケアセンサー、ウエアラブルセンサー、および樹脂フィルム加工品の製造方法の好ましい一態様は以下の通りである。
(1)以下の条件1から3のすべてを満たす、樹脂フィルム。
In order to solve the above problems, the present inventors completed the following invention as a result of earnest research. That is, a preferred embodiment of the resin film, the laminate, the method for producing the laminate, the electric circuit body, the healthcare sensor, the wearable sensor, and the method for producing the resin film processed product of the present invention is as follows.
(1) A resin film that satisfies all of the following conditions 1 to 3.

条件1:樹脂フィルムの温度25℃周波数1Hz条件における貯蔵弾性率が0.5MPa以上50MPa以下。 Condition 1: The storage elastic modulus of the resin film at a temperature of 25° C. and a frequency of 1 Hz is 0.5 MPa or more and 50 MPa or less.

条件2:樹脂フィルムの25℃における損失正接が0.5以下。 Condition 2: The loss tangent of the resin film at 25°C is 0.5 or less.

条件3:レーザー顕微鏡による、樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における平坦部比率が70%以下。
(2)以下の条件4を満たす、(1)に記載の樹脂フィルム。
Condition 3: The ratio of flat portions on at least one surface of the resin film is 70% or less as measured by a laser microscope.
(2) The resin film according to (1), which satisfies condition 4 below.

条件4:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における二乗平均平方根粗さRqが400nm以上。
(3)以下の条件5を満たす、(1)または(2)に記載の樹脂フィルム。
Condition 4: The root-mean-square roughness Rq of at least one surface of the resin film is 400 nm or more.
(3) The resin film according to (1) or (2), which satisfies condition 5 below.

条件5:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、動的接触角拡張収縮法で得られる、樹脂フィルムの水に対する接触角ヒステリシスが5°以上。 Condition 5: At least one surface of the resin film has a contact angle hysteresis of 5° or more with respect to water, which is obtained by the dynamic contact angle expansion/shrinkage method.

ここで、接触角ヒステリシスとは、前進接触角と、後退接触角の差の絶対値を指す。
(4)以下の条件6を満たす、(1)から(3)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Here, the contact angle hysteresis refers to the absolute value of the difference between the advancing contact angle and the receding contact angle.
(4) The resin film according to any one of (1) to (3), which satisfies condition 6 below.

条件6:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における算術平均粗さRaが430nm以上。
(5)以下の条件7を満たす、(1)から(4)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Condition 6: At least one surface of the resin film has an arithmetic mean roughness Ra of 430 nm or more.
(5) The resin film according to any one of (1) to (4), which satisfies condition 7 below.

条件7:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における最大高さRzが8μm以上。
(6)以下の条件8を満たす、(1)から(5)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Condition 7: The maximum height Rz on at least one surface of the resin film is 8 µm or more.
(6) The resin film according to any one of (1) to (5), which satisfies condition 8 below.

条件8:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、表面自由エネルギーが30mN/m以上。
(7)以下の条件9を満たす、(1)から(6)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Condition 8: At least one surface of the resin film has a surface free energy of 30 mN/m or more.
(7) The resin film according to any one of (1) to (6), which satisfies condition 9 below.

条件9:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、樹脂フィルム1mm角あたりの表面積が1.3mm以上。
(8)以下の条件10を満たす、(1)から(7)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Condition 9: At least one surface of the resin film has a surface area of 1.3 mm 2 or more per 1 mm square of the resin film.
(8) The resin film according to any one of (1) to (7), which satisfies condition 10 below.

条件10:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、動的接触角拡張収縮法で得られる、樹脂フィルムのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に対する接触角ヒステリシスが5°以上。 Condition 10: At least one surface of the resin film has a contact angle hysteresis of 5° or more with respect to propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) obtained by the dynamic contact angle expansion/shrinkage method.

ここで、接触角ヒステリシスとは、前進接触角と、後退接触角の差の絶対値を指す。
(9)以下の条件11を満たす、(1)から(8)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Here, the contact angle hysteresis refers to the absolute value of the difference between the advancing contact angle and the receding contact angle.
(9) The resin film according to any one of (1) to (8), which satisfies condition 11 below.

条件11:樹脂フィルムのヘイズが30%以上70%以下
(10)化学式1の構造およびウレタン結合を含む、(1)から(9)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Condition 11: The resin film has a haze of 30% or more and 70% or less.

Figure 2022151490000002
Figure 2022151490000002

なお、化学式1のRは、水素またはメチル基を指す。
(11)化学式2のセグメントを含み、さらに化学式3のセグメントまたは化学式4のセグメントのいずれかを含む、(1)から(10)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
R 1 in Formula 1 represents hydrogen or a methyl group.
(11) The resin film according to any one of (1) to (10), which contains the segment of Chemical Formula 2 and further contains either the segment of Chemical Formula 3 or the segment of Chemical Formula 4.

Figure 2022151490000003
Figure 2022151490000003

Figure 2022151490000004
Figure 2022151490000004

Figure 2022151490000005
Figure 2022151490000005

pは1以上の整数である。 p is an integer of 1 or more.

rは1以上の整数である。 r is an integer of 1 or more.

sは1以上の整数である。
(12)化学式5のセグメント、化学式6のセグメント、化学式7のセグメント、化学式8のセグメント、およびそれらの水添体のセグメントからなる群より選ばれる少なくとも1つのセグメントを含む、(1)から(11)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
s is an integer of 1 or more.
(12) containing at least one segment selected from the group consisting of the segment of chemical formula 5, the segment of chemical formula 6, the segment of chemical formula 7, the segment of chemical formula 8, and the hydrogenated segments thereof, (1) to (11) ) The resin film according to any one of ).

Figure 2022151490000006
Figure 2022151490000006

Figure 2022151490000007
Figure 2022151490000007

Figure 2022151490000008
Figure 2022151490000008

Figure 2022151490000009
Figure 2022151490000009

(13)単層である、(1)から(12)のいずれかに記載の樹脂フィルム。
(14)(1)から(13)のいずれかに記載の樹脂フィルムの少なくとも一方に、基材を含む積層体。
(15)工程1、2、3、および4をこの順に行う、(14)に記載の積層体の製造方法。
工程1:条件12を満たす基材Aの上に、化学式9のセグメントを含む樹脂前駆体と溶媒を含む塗料組成物を塗布し、塗布層を形成する工程。
条件12:レーザー顕微鏡による、基材A表面の少なくとも一方の表面における平坦部比率が70%以下。
(13) The resin film according to any one of (1) to (12), which is a single layer.
(14) A laminate comprising a substrate on at least one of the resin films according to any one of (1) to (13).
(15) The method for producing a laminate according to (14), wherein steps 1, 2, 3 and 4 are performed in this order.
Step 1: A step of applying a coating composition containing a resin precursor containing a segment of chemical formula 9 and a solvent onto a substrate A that satisfies condition 12 to form a coating layer.
Condition 12: The flat portion ratio on at least one surface of the substrate A surface measured by a laser microscope is 70% or less.

Figure 2022151490000010
Figure 2022151490000010

工程2:前記塗布層から溶媒を除去する工程。
工程3:活性エネルギー線を照射して、前記樹脂前駆体を架橋させる工程。
工程4:前記塗布層の基材A反対面に基材Bを貼り付けた後に、基材Aを剥離する工程。
(16)(1)から(13)のいずれかに記載の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成された導体回路を含む、電気回路体。
(17)(1)から(13)のいずれかに記載の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成された導体回路を含む、ヘルスケアセンサー。
(18)(1)から(13)のいずれかに記載の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成された導体回路を含む、ウエアラブルセンサー。
(19)(1)から(13)のいずれかに記載の樹脂フィルムをスクリーン印刷で加工する工程を備える、樹脂フィルム加工品の製造方法。
Step 2: A step of removing the solvent from the coating layer.
Step 3: A step of irradiating an active energy ray to crosslink the resin precursor.
Step 4: A step of peeling off the base material A after attaching the base material B to the surface opposite to the base material A of the coating layer.
(16) An electric circuit body comprising the resin film according to any one of (1) to (13) and a conductor circuit formed on the resin film.
(17) A healthcare sensor comprising the resin film according to any one of (1) to (13) and a conductor circuit formed on the resin film.
(18) A wearable sensor comprising the resin film according to any one of (1) to (13) and a conductor circuit formed on the resin film.
(19) A method for producing a resin film processed product, comprising a step of processing the resin film according to any one of (1) to (13) by screen printing.

高い柔軟性と復元性を持ちつつ、印刷工程時における印刷版離れ性と、印刷層との密着性を両立した樹脂フィルムや積層体、積層体の製造方法、電気回路体、ヘルスケアセンサー、ウエアラブルセンサー、および樹脂フィルム加工品の製造方法を提供することができる。 Resin films and laminates that have both high flexibility and resilience, release from the printing plate during the printing process, and adhesion to the printing layer, methods for manufacturing laminates, electrical circuits, healthcare sensors, and wearables. A method for manufacturing a sensor and a resin film processed product can be provided.

本発明における積層体の一例を示す断面図である。It is a sectional view showing an example of a layered product in the present invention. 本発明における積層体の一例を示す断面図である。It is a sectional view showing an example of a layered product in the present invention. 本発明における積層体の一例を示す断面図である。It is a sectional view showing an example of a layered product in the present invention. 本発明における積層体の一例を示す断面図である。It is a sectional view showing an example of a layered product in the present invention. 本発明におけるスクリーン版の一例を示す平面図である。1 is a plan view showing an example of a screen plate in the present invention; FIG. 本発明におけるスクリーン版の一例を示す平面図である。1 is a plan view showing an example of a screen plate in the present invention; FIG. 本発明における電気回路体の一例を示す平面図である。1 is a plan view showing an example of an electric circuit body in the present invention; FIG. 本発明における電気回路体の一例を示す平面図である。1 is a plan view showing an example of an electric circuit body in the present invention; FIG.

本発明者らは、従来技術にて本発明の課題を解決することが難しい理由について、以下のように考えている。 The inventors consider the reason why it is difficult to solve the problems of the present invention with the prior art as follows.

まず、樹脂フィルムが印刷版と貼り付くメカニズムについて考察する。本用途で求められるような、柔軟性が高い樹脂フィルムは、印刷版の凹凸形状に追随しやすく、樹脂フィルム/印刷版間で界面相互作用かかり、「タック性」が生じる。特に、平坦な樹脂フィルムは、表面全体が印刷版の凹凸形状に追随し、タック性の程度が大きいと考えられる。したがって、柔軟性が高く、かつ平坦な樹脂フィルムは、印刷工程時における印刷版との貼り付きが生じやすくなる。 First, the mechanism by which the resin film sticks to the printing plate will be considered. A highly flexible resin film, which is required for this application, easily follows the uneven shape of the printing plate, and interfacial interaction occurs between the resin film and the printing plate, resulting in "tackiness". In particular, a flat resin film is considered to have a large degree of tackiness because the entire surface follows the uneven shape of the printing plate. Therefore, a highly flexible and flat resin film tends to stick to the printing plate during the printing process.

印刷版との貼り付きを抑制させる方法として、シリコーン系や、オレフィン系の素材を用いるといった、樹脂フィルムの表面自由エネルギーを低下させる方法がある。この場合、印刷層との界面相互作用が低下してしまい、「印刷層密着性」がトレードオフとなりうる。また、樹脂フィルムの弾性率を上げることで、タック性を低下させる方法があるが、この場合、樹脂フィルムの架橋密度が上がることととなり、「柔軟性」がトレードオフとなりうる。したがって、これらの対策では、「柔軟性」、「復元性」、「印刷版離れ性」「印刷層密着性」を全て満たすことが難しいことが考えられる。 As a method of suppressing sticking to the printing plate, there is a method of lowering the surface free energy of the resin film, such as using a silicone-based or olefin-based material. In this case, interfacial interaction with the printed layer is reduced, and "adhesion to the printed layer" may become a trade-off. There is also a method of lowering the tackiness by increasing the elastic modulus of the resin film, but in this case, the crosslink density of the resin film is increased, which may result in a trade-off in "flexibility". Therefore, with these countermeasures, it is considered difficult to satisfy all of "flexibility", "restorability", "printing plate separation" and "printing layer adhesion".

以上の観点から、特許文献に記載の材料で、「柔軟性」、「復元性」、「印刷版離れ性」、「印刷層密着性」の4項目を満たすことができなかった理由を詳しく考察する。 From the above point of view, the reasons why the materials described in the patent document could not satisfy the four items of "flexibility", "restoration", "printing plate release", and "printing layer adhesion" were examined in detail. do.

特許文献1に記載の材料は、ポリウレタンを使用しており、ポリエーテルポリオール部分が柔軟性のあるソフトセグメントとして、ウレタン部分が凝集力の高いハードセグメントとして機能し、それらがミクロ相分離構造を形成している。柔軟性を付与するために、ハードセグメントであるウレタン部分の凝集力を低下させており、それに伴い、復元性が低下している。また、この材料は、柔軟性が高く、かつ、全面が平坦な形状を有するものである。したがって、この材料は、表面全体が印刷版の凹凸形状に追随してしまうため、印刷版離れ性が不十分であったと推定している。一方で、ソフトセグメント、ハードセグメントが共に、比較的極性の高いセグメントで形成されており、印刷層との密着性は良好であると推定している。 The material described in Patent Document 1 uses polyurethane, and the polyether polyol portion functions as a soft segment with flexibility, and the urethane portion functions as a hard segment with high cohesion, which form a microphase-separated structure. is doing. In order to impart flexibility, the cohesive force of the urethane portion, which is a hard segment, is lowered, and along with this, the restorability is lowered. In addition, this material has high flexibility and a flat shape on the entire surface. Therefore, it is presumed that the printing plate releasability of this material was insufficient because the entire surface follows the uneven shape of the printing plate. On the other hand, both the soft segment and the hard segment are formed of segments with relatively high polarity, and it is assumed that the adhesiveness to the printed layer is good.

特許文献2に記載の材料は、弾性率が高いエポキシ材料に、プラズマ処理で凹凸形状を付与した基材を転写させたものである。弾性率が高いことでタック性が低く印刷版離れ性は良好であるが、架橋密度が高いことで、柔軟性が不十分となったと推定している。 The material described in Patent Document 2 is an epoxy material having a high elastic modulus, onto which a base material having a concavo-convex shape formed by plasma treatment is transferred. It is presumed that the high elastic modulus results in low tackiness and good printing plate releasability, but the high crosslink density results in insufficient flexibility.

特許文献3に記載の材料は、シリコーン材料に、凹凸形状をパターニングした材料である。表面自由エネルギーが低く、かつ、表面に形状を付与したことで、樹脂フィルムが印刷版と接触する際に、一部非接触部分を有し、接触面積を低下させている。したがって、印刷版離れ性は良好であると考えられる。一方で、この材料は、表面自由エネルギーが低いことで、印刷層との界面相互作用が低下している。さらに、この材料は、平坦部分を含み、かつ、凹凸形状の高差方向で急激に変化したものであり、印刷時に印刷ペーストが樹脂フィルムの凹部分に入り込みにくく、凹部分・凸部分で印刷層の勾配ができると考えられる。したがって、印刷層密着性が不十分となったと推定している。 The material described in Patent Document 3 is a material obtained by patterning an uneven shape on a silicone material. Since the surface free energy is low and the shape is given to the surface, when the resin film comes into contact with the printing plate, it has a part of the non-contact portion, which reduces the contact area. Therefore, it is considered that the printing plate releasability is good. On the one hand, this material has a low surface free energy, which reduces the interfacial interaction with the printed layer. Furthermore, this material includes a flat portion and has a sharp change in the height difference direction of the uneven shape. It is thought that a gradient of Therefore, it is presumed that the print layer adhesion became insufficient.

また、特許文献1に記載のポリウレタンに対して、特許文献3に記載のような凹凸形状をつけた場合、印刷版との接触面積が低下することで、特許文献1と比べて、印刷版離れ性の向上がみられると考えられるが、凸部分はあるものの平坦であり、この部分が印刷版と貼り付くきっかけとなり、印刷版離れ性は不十分となると考えられる。また、樹脂組成の極性が上がることで、特許文献3と比べて、印刷層密着性の向上はみられるものの、この材料は、平坦部分を含み、かつ、凹凸形状の高差方向で急激に変化したものであり、印刷時に印刷ペーストが樹脂フィルムの凹部分に入り込みにくく、凹部分・凸部分で印刷層の勾配ができてしまい、印刷層との密着性は不十分となると推測する。 In addition, when the polyurethane described in Patent Document 1 is provided with an uneven shape as described in Patent Document 3, the contact area with the printing plate is reduced, so that the separation of the printing plate from the polyurethane described in Patent Document 1 is reduced. Although there is a convex portion, it is flat, and it is considered that this portion causes sticking to the printing plate, resulting in insufficient printing plate releasability. In addition, although the adhesion of the printed layer is improved compared to Patent Document 3 by increasing the polarity of the resin composition, this material includes a flat portion and changes sharply in the direction of the height difference of the uneven shape. It is presumed that the printing paste does not easily enter the recessed portions of the resin film during printing, and the printed layer has a slope in the recessed portions and the raised portions, resulting in insufficient adhesion to the printed layer.

これに対し、本発明者らは、前述の課題を解決する方法として、高い柔軟性・復元性を有した材料を用いた上で、表面の平坦部比率を低下させることで、印刷工程時における印刷版離れ性と、印刷層との密着性を両立した樹脂フィルムを得ることに成功し、本発明に至った。さらに、印刷版離れ性と印刷層との密着性を両立することで得られる意外な効果として、伸縮挙動を繰り返しても印刷層の抵抗値変化を抑制でき、電気信号を安定して検出できることがわかった。以下、本発明の詳細について記載する。 On the other hand, as a method for solving the above-mentioned problems, the present inventors used a material with high flexibility and resilience and reduced the flat portion ratio of the surface, so that during the printing process The present inventors have succeeded in obtaining a resin film that has both printing plate releasability and adhesion to the printing layer, leading to the present invention. Furthermore, as an unexpected effect obtained by achieving both printing plate separation and adhesion with the printing layer, it is possible to suppress the resistance value change of the printing layer even if the expansion and contraction behavior is repeated, and it is possible to stably detect electrical signals. all right. The details of the present invention are described below.

本発明の積層体の好ましい一態様は以下の条件1から3のすべてを満たす、樹脂フィルムである。 A preferred embodiment of the laminate of the present invention is a resin film that satisfies all of the following conditions 1 to 3.

条件1:樹脂フィルムの温度25℃周波数1Hz条件における貯蔵弾性率が0.5MPa以上50MPa以下。 Condition 1: The storage elastic modulus of the resin film at a temperature of 25° C. and a frequency of 1 Hz is 0.5 MPa or more and 50 MPa or less.

条件2:樹脂フィルムの25℃における損失正接が0.5以下。 Condition 2: The loss tangent of the resin film at 25°C is 0.5 or less.

条件3:レーザー顕微鏡による、樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における平坦部比率が70%以下。 Condition 3: The ratio of flat portions on at least one surface of the resin film is 70% or less as measured by a laser microscope.

上記態様とすることで、高い柔軟性と復元性を持ちつつ、印刷工程時における印刷版離れ性と、印刷層との密着性を両立することができる。さらに、伸縮時における印刷層の抵抗値変化を抑制することができる。 By adopting the above-described mode, it is possible to achieve both the releasability of the printing plate during the printing process and the adhesion to the printing layer while maintaining high flexibility and restorability. Furthermore, it is possible to suppress a change in the resistance value of the printed layer during expansion and contraction.

(条件1、2)
本発明の樹脂フィルムは、温度25℃周波数1Hz条件における貯蔵弾性率が0.5MPa以上50MPa以下であることが好ましい。貯蔵弾性率が0.5MPa以上であることにより、タック性が強すぎて取り扱いが困難となることを抑制でき、50MPa以下であることにより、樹脂フィルムを容易に変形可能なものとすることができる。同様の観点から、1.0MPa以上、25MPa以下であることがより好ましく、3.0MPa以上、10MPa以下であることがさらに好ましい。
(Conditions 1 and 2)
The resin film of the present invention preferably has a storage elastic modulus of 0.5 MPa or more and 50 MPa or less at a temperature of 25° C. and a frequency of 1 Hz. When the storage elastic modulus is 0.5 MPa or more, it is possible to prevent handling from becoming difficult due to excessive tackiness, and when it is 50 MPa or less, the resin film can be easily deformed. . From the same viewpoint, it is more preferably 1.0 MPa or more and 25 MPa or less, and further preferably 3.0 MPa or more and 10 MPa or less.

本発明の樹脂フィルムは、25℃における損失正接が0.5以下であることが好ましい。損失正接を0.5以下とすることにより、樹脂フィルムとして用いたときに、十分な復元性を得ることができる。同様の観点から樹脂フィルムの25℃における損失正接は0.2以下がより好ましく、0.05以下がさらに好ましい。 The resin film of the present invention preferably has a loss tangent of 0.5 or less at 25°C. By setting the loss tangent to 0.5 or less, sufficient restorability can be obtained when used as a resin film. From the same point of view, the loss tangent of the resin film at 25° C. is more preferably 0.2 or less, more preferably 0.05 or less.

貯蔵弾性率、および、損失正接は、DMA(動的粘弾性測定)法により測定された値を指し、その測定方法は後述する。 The storage modulus and loss tangent refer to values measured by a DMA (dynamic viscoelasticity measurement) method, which will be described later.

樹脂フィルムの貯蔵弾性率、損失正接を上記範囲とするためには、ポリマーが柔軟性のあるソフトセグメントと凝集力の高いハードセグメントを有し、それらがミクロ相分離構造を形成していることに加えて、このハードセグメントが、π-π相互作用や水素結合などの物理架橋の寄与度を必要最低限までに下げつつ、アクリル架橋のような小さく強固な化学架橋を低密度で形成させることが重要である。π-π相互作用や水素結合などの物理架橋をハードセグメントとして機能させるためには、ハードセグメントの体積を大きくする必要が有る。それに伴い、弾性率が高くなり、柔軟性が低下してしまう。したがって、小さく強固な化学架橋を低密度で形成させることが必要となる。具体的な方法としては、炭素数3以上のアルキル基、または、アルケニル基を有する高分子ポリオールであって、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンジオールより選ばれる1種以上の高分子ポリオールと、TDI(トリレンジイソシアネート)、MDI(4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート)、NDI(1,5-ナフタレンジイソシアネート)、TODI(トリジンジイソシアネート)、XDI(キシリレンジイソシアネート)、PPDI(パラフェニレンジイソシアネート)、TMXDI(テトラメチルキシリレンジイソシアネート)、HMDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)、IPDI(イソホロンジイソシアネート)、H6XDI(水添キシリレンジイソシアネート)、H12MDI(ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート)より選ばれる1種以上の2官能イソシアネートと、HEA(ヒドロキシエチルアクリレート)、4HBA(4-ヒドロキシブチルアクリレ-ト)より選ばれる1種以上のアクリル原料とを、モル比1:(1~2):(0.4~1.0)の仕込み比で反応させ、熱または活性エネルギー線で重合する方法を好ましくとることができる。ここで、仕込みモル比率について高分子ポリオールの仕込み量を1とした際、1,6-ヘキサンジオールや、トリエチレングリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオールなどの分子量500g/mol以下の低分子ポリオールの仕込み量は0.1以下であることが好ましい。また、仕込みモル比率について2官能イソシアネートの仕込み量を1とした際3官能以上のイソシアネートの仕込み量は0.1以下であることが好ましい。加えて、樹脂フィルム100質量%中に含まれる灰分の含有量は1質量%以下であることが好ましい。ここで、灰分とは窒素下500℃で1時間加熱した際の成分をいう。 In order to keep the storage modulus and loss tangent of the resin film within the above range, the polymer must have a soft segment with flexibility and a hard segment with high cohesive strength, and these segments must form a microphase-separated structure. In addition, this hard segment can reduce the contribution of physical crosslinks such as π-π interactions and hydrogen bonds to the minimum necessary while forming small and strong chemical crosslinks such as acrylic crosslinks at a low density. is important. In order for physical crosslinks such as π-π interactions and hydrogen bonds to function as hard segments, it is necessary to increase the volume of the hard segments. Along with this, the elastic modulus increases and the flexibility decreases. Therefore, it is necessary to form small, strong chemical crosslinks at a low density. As a specific method, one or more polymer polyols having an alkyl group or alkenyl group having 3 or more carbon atoms selected from polyester polyols, polyether polyols, polycarbonate polyols, and polyolefin diols are used. and, TDI (tolylene diisocyanate), MDI (4,4′-diphenylmethane diisocyanate), NDI (1,5-naphthalene diisocyanate), TODI (tolidine diisocyanate), XDI (xylylene diisocyanate), PPDI (paraphenylene diisocyanate), One or more bifunctional isocyanates selected from TMXDI (tetramethylxylylene diisocyanate), HMDI (hexamethylene diisocyanate), IPDI (isophorone diisocyanate), H6XDI (hydrogenated xylylene diisocyanate), H12MDI (dicyclohexylmethane diisocyanate), and HEA (hydroxyethyl acrylate) and 4HBA (4-hydroxybutyl acrylate), and one or more acrylic raw materials selected from 4HBA (4-hydroxybutyl acrylate), charged at a molar ratio of 1: (1 to 2): (0.4 to 1.0). A method of reacting at a ratio and polymerizing with heat or an active energy ray can be preferably adopted. Here, regarding the charge molar ratio, when the charge amount of the high molecular polyol is 1, a low molecular weight of 500 g/mol or less such as 1,6-hexanediol, triethylene glycol, or 3-methyl-1,5-pentanediol is used. The charged amount of the molecular polyol is preferably 0.1 or less. Further, with regard to the charging molar ratio, the charging amount of the tri- or higher functional isocyanate is preferably 0.1 or less when the charging amount of the bifunctional isocyanate is 1. In addition, the content of ash contained in 100% by mass of the resin film is preferably 1% by mass or less. Here, ash refers to the component when heated at 500° C. for 1 hour under nitrogen.

また、樹脂フィルムは望ましい貯蔵弾性率、損失正接とするため、前記高分子ポリオール由来のモノマー単位の含有量を1モルとしたとき、前記2官能イソシアネート由来のモノマー単位の含有量が1~2モル、前記アクリル原料由来のモノマー単位の含有量が0.4~1.0モル、前記低分子量ポリオール由来のモノマー単位の含有量が0.1モル以下、前記3官能以上のイソシアネート由来のモノマー単位の含有量が0.2モル以下であることが好ましい。各モノマー単位の定性・定量は、樹脂フィルムをアルカリ加水分解した後、核磁気共鳴分光法、GC-MS、サイズ排除クロマトグラフィ、飛行時間型質量分析を組み合わせることで行うことができる。 In addition, in order for the resin film to have a desirable storage modulus and loss tangent, the content of the monomer unit derived from the bifunctional isocyanate is 1 to 2 mol when the content of the monomer unit derived from the polymer polyol is 1 mol. , the content of the monomer unit derived from the acrylic raw material is 0.4 to 1.0 mol, the content of the monomer unit derived from the low-molecular-weight polyol is 0.1 mol or less, and the monomer unit derived from the trifunctional or higher isocyanate The content is preferably 0.2 mol or less. The qualitative/quantitative determination of each monomer unit can be performed by combining nuclear magnetic resonance spectroscopy, GC-MS, size exclusion chromatography, and time-of-flight mass spectrometry after alkaline hydrolysis of the resin film.

(条件3)
本発明の樹脂フィルムは、条件3を満たすことが好ましい。
(Condition 3)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 3.

条件3:レーザー顕微鏡による、樹脂フィルムの少なくとも一方の表面の平坦部比率が70%以下。 Condition 3: At least one surface of the resin film has a flat portion ratio of 70% or less as measured by a laser microscope.

ここで、樹脂フィルム表面の平坦部比率は、レーザー顕微鏡で樹脂フィルムを観察して得られた線粗さデータにおける、平面方向1μm毎の厚み高低差が100nm以下の頻度を示すパラメーターである。すなわち、この値を小さくすることで、樹脂フィルム表面の厚み高低差が絶えず変化し、表面全体がマットとなる。したがって、印刷工程時における印刷版との接触点を減らし、印刷版離れ性を高めることができる。部分的に突起があったとしても、そのピッチが広く、平坦部比率で70%を超過するような場合、部分的に発生した平坦部の多さの影響が強まり、印刷版離れ性が悪くなることがあるため、平坦部比率が70%以下であることが印刷版離れ性の観点で重要となる。また、突起が小さく、平坦部比率で70%を超過するような場合、印刷版の柔軟性などで結局印刷版と樹脂フィルムとが全面的に接触してしまい、印刷版離れ性が悪くなることがあるため、やはり平坦部比率が70%以下であることが印刷版離れ性の観点で重要となる。さらには、平坦部比率を70%以下とすることで表面全体がマットになり、樹脂フィルムと印刷層の界面全体にアンカー効果を発揮し、印刷層との密着性を高めることができる。仮に、樹脂フィルムの一部がマットになった場合、一部でのみアンカー効果が発揮し、界面で樹脂フィルム/印刷層の密着性が不均一になることが考えられる。この場合、樹脂フィルム/印刷層の密着性が弱い平滑な部分が、剥がれのきっかけとなり、樹脂フィルム全体で見ると、印刷層との密着性が弱くなってしまう。したがって、表面の平坦部比率を低下させることは、印刷版離れ性、印刷層との密着性をどちらも向上させる方法である。特に、条件1、2を満たすような材料で、柔軟性と復元性をどちらも有しつつ、印刷版離れ性と印刷層密着性を付与するためには、上記に示す、平坦部比率が70%以下であることが重要である。同様の観点から、樹脂フィルム表面の平坦部比率は50%以下であることがより好ましく、40%以下であることがさらに好ましい。 Here, the flat portion ratio of the resin film surface is a parameter that indicates the frequency of the thickness height difference of 100 nm or less per 1 μm in the plane direction in the line roughness data obtained by observing the resin film with a laser microscope. That is, by decreasing this value, the height difference in the thickness of the resin film surface constantly changes, and the entire surface becomes matte. Therefore, the number of contact points with the printing plate during the printing process can be reduced, and the releasability of the printing plate can be improved. Even if there are partial projections, if the pitch is wide and the ratio of flat portions exceeds 70%, the influence of the large number of flat portions that are partially generated will be stronger, and the printing plate separation will be worse. Therefore, it is important that the flat portion ratio is 70% or less from the viewpoint of printing plate releasability. In addition, when the protrusions are small and the flat portion ratio exceeds 70%, the printing plate and the resin film end up in contact with the entire surface due to the flexibility of the printing plate, and the printing plate separation becomes poor. Therefore, it is important that the flat portion ratio is 70% or less from the viewpoint of printing plate release. Furthermore, by setting the flat portion ratio to 70% or less, the entire surface becomes matte, and the entire interface between the resin film and the printed layer exhibits an anchor effect, thereby enhancing adhesion to the printed layer. If a part of the resin film becomes matte, it is conceivable that the anchoring effect will be exerted only in a part of the film and the adhesion between the resin film and the printed layer will become non-uniform at the interface. In this case, the smooth portion where the adhesiveness between the resin film and the printed layer is weak triggers peeling, and the adhesiveness with the printed layer is weakened when the resin film as a whole is viewed. Therefore, reducing the flat portion ratio of the surface is a method for improving both the releasability of the printing plate and the adhesion to the printing layer. In particular, a material that satisfies conditions 1 and 2 and has both flexibility and restorability, and in order to provide printing plate release and printing layer adhesion, the flat area ratio shown above is 70. % or less. From the same point of view, the flat portion ratio of the resin film surface is more preferably 50% or less, further preferably 40% or less.

また、平坦部比率は5%以上であることが好ましく、10%以上であることがより好ましい。上記態様とすることで、樹脂フィルムを伸縮した際に、表面の凹部が破断のきっかけとなることを抑制することができ、樹脂フィルム本来の伸縮性を維持することができる。 Also, the flat portion ratio is preferably 5% or more, more preferably 10% or more. By adopting the above aspect, when the resin film is stretched, it is possible to prevent the depressions on the surface from becoming a trigger for breakage, and the original stretchability of the resin film can be maintained.

樹脂フィルム表面の平坦部比率は、次に記載する方法で算出する。具体的にはレーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm分の線粗さデータを取得する。得られた線粗さデータのXYキャリブレーション値(1ピクセル毎のXY方向の距離)から、1μm当たりのピクセル数を計算する。実断面プロファイル(1ピクセル毎のZ方向の高さ)において、1μm当たりのZ方向の高低差(a)となるように、実断面プロファイルの差分を取得する。これらの操作を3回行い、取得した線粗さデータ3回分からヒストグラムを取り、100nm以下の頻度を算出する。なお、取得した線粗さデータ3回分の向きは、任意の一方向から120°ずつずらしたものを用いる。 The flat portion ratio of the resin film surface is calculated by the method described below. Specifically, using a laser microscope (VK9700 manufactured by Keyence), observation is performed with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm, and analysis software (VK viewer) is used at any point on the observation surface. Acquire line roughness data for 100 μm. The number of pixels per 1 μm is calculated from the XY calibration values (the distance in the XY direction for each pixel) of the obtained line roughness data. In the real cross-sectional profile (the height in the Z direction for each pixel), the difference in the real cross-sectional profile is obtained so that the height difference (a) in the Z direction per 1 μm is obtained. These operations are performed three times, a histogram is taken from the line roughness data acquired three times, and the frequency of 100 nm or less is calculated. In addition, the directions of the acquired line roughness data for three times are shifted by 120° from any one direction.

条件3を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、粒子を練り込んだ基材や、サンドブラスト処理を施した基材や、粒子を含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 A specific method for satisfying the condition 3 is to use a base material in which particles are kneaded, a sandblasted base material, or a base material laminated with a coating layer containing particles for the base material in producing the resin film. and the details of these methods will be described later.

本用途で求められる樹脂フィルムは、柔軟性と復元性を持ちつつ、印刷工程時における印刷版離れ性と、印刷層との密着性とを両立した樹脂フィルムである。条件1と2はそれぞれ柔軟性と復元性に関する条件であり、これらを満たすことで、柔軟性と復元性を高い水準で有することができる。一方で、前述のように柔軟性が高い樹脂フィルムはタック性が高く、印刷工程時における印刷版との貼り付き性が高くなる傾向がある。印刷版との貼り付きを抑制させる方法として、1.表面自由エネルギーの低下、2.弾性率アップによるタック性低下、3.表面のマット化、の3方法が考えられる。1.の方法は、樹脂フィルム表面の界面相互作用が低下し、印刷層との密着性がトレードオフとなる。2.の方法は、樹脂フィルム内の架橋密度が上がることで、柔軟性がトレードオフとなる。一方、3.の方法は、樹脂フィルム表面の界面相互作用や、樹脂フィルム内の架橋密度を変化させることがないので、柔軟性、復元性、印刷層との密着性を高い水準で維持しつつ、印刷版との貼り付き性を抑制するための好ましい方法である。一方で、ただ表面にマット形状をつけるだけでは不十分であり、特許文献3に記載のような樹脂フィルム表面にパターン形状をつけ、表面粗さや表面高さを上昇させる方法では、印刷版離れ性として不十分であった。この原因を追及したところ、これらの樹脂フィルムは、表面粗さが高い一方で、凹凸形状のピッチが大きく、凹部もしくは凸部に平坦部が存在していた。この平坦部が印刷版と強く密着しており、印刷版離れ性が不足しているのではないかと考察した。 The resin film required for this application is a resin film that has flexibility and resilience, and at the same time has good adhesion to the printing layer and good releasability from the printing plate during the printing process. Conditions 1 and 2 are conditions relating to flexibility and resilience, respectively, and by satisfying these conditions, a high level of flexibility and resilience can be achieved. On the other hand, as described above, a highly flexible resin film has high tackiness, and tends to have high adhesion to the printing plate during the printing process. As a method for suppressing sticking to the printing plate, 1. Decrease in surface free energy;2. 2. Decrease in tackiness due to increase in elastic modulus; Matting of the surface can be considered. 1. In the method of (1), the interfacial interaction on the surface of the resin film is lowered, and the adhesion with the printed layer becomes a trade-off. 2. In the method of (1), flexibility becomes a trade-off because the crosslink density in the resin film increases. On the other hand, 3. Since the method does not change the interfacial interaction on the resin film surface or the crosslink density in the resin film, it maintains a high level of flexibility, resilience, and adhesion with the printing layer, while maintaining a high level of adhesion with the printing plate. It is a preferable method for suppressing the sticking property of. On the other hand, it is not enough to just give the surface a matte shape, and in the method of increasing the surface roughness and surface height by giving a pattern shape to the resin film surface as described in Patent Document 3, it is difficult to remove the printing plate. was insufficient. When the cause of this was investigated, it was found that these resin films had high surface roughness, but the pitch of the irregularities was large, and flat portions were present in the concave portions or convex portions. It was considered that this flat portion was in strong contact with the printing plate, and that the printing plate releasability was insufficient.

そこで本発明では、表面の平坦部比率に着目し、この値を70%以下とすることにより、従来では成し遂げられなかった、柔軟性、復元性、印刷版離れ性、印刷層密着性を全て有することが可能となった。
さらに、本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、印刷版離れ性と印刷層密着性は、伸縮時における印刷層の抵抗値変化に影響を与えていることがわかった。印刷版離れ性が高いことで、印刷層の配線のかすれや厚みムラが生じにくく、樹脂フィルムを伸縮させた際に配線が一様に伸縮でき、配線の断線を抑制できると考えている。また、印刷層密着性が高いことで、樹脂フィルムを伸縮させた際に、樹脂フィルムと印刷層が剥離せずに一様に伸縮することができ、配線の断線を抑制できると考えている。したがって、本発明のような表面の平坦部比率を70%以下とすることにより、柔軟性、復元性、印刷版離れ性、印刷層密着性を全て有することが可能となり、さらには、伸縮時における印刷層の抵抗値変化を抑制できることがわかった。
(条件4)
本発明の樹脂フィルムは、条件4を満たすことが好ましい。
Therefore, in the present invention, by focusing on the flat portion ratio of the surface and setting this value to 70% or less, it has all the flexibility, restorability, printing plate release, and printing layer adhesion that could not be achieved in the past. became possible.
Furthermore, as a result of extensive studies by the present inventors, it was found that the printing plate releasability and printing layer adhesion affect the resistance value change of the printing layer during expansion and contraction. It is believed that the high printing plate releasability makes it difficult for the wiring of the printed layer to be blurred or uneven in thickness, and the wiring can be expanded and contracted uniformly when the resin film is stretched, suppressing disconnection of the wiring. In addition, due to the high adhesiveness of the printed layer, when the resin film is stretched and stretched, the resin film and the printed layer can be stretched uniformly without peeling, and it is thought that disconnection of wiring can be suppressed. Therefore, by setting the flat portion ratio of the surface to 70% or less as in the present invention, it is possible to have all of flexibility, restorability, printing plate release, and printing layer adhesion, and furthermore, during expansion and contraction It was found that the resistance value change of the printed layer can be suppressed.
(Condition 4)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 4.

条件4:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における二乗平均平方根粗さRqが400nm以上。 Condition 4: The root-mean-square roughness Rq of at least one surface of the resin film is 400 nm or more.

二乗平均平方根粗さRqは、算術平均粗さの標準偏差に当たり、この値が大きいことは、表面の凹凸サイズが不均一であることを示す。したがって、この値を大きくすることで、印刷工程時における印刷版との接触点を減らし、印刷版離れ性をより高めることができる。また、樹脂フィルムと印刷層の界面を増加させ、アンカー効果によって、印刷層との密着性を高めることができる。同様の観点から、樹脂フィルムのRqは600nm以上であることがより好ましく、800nm以上であることがさらに好ましい。 The root-mean-square roughness Rq corresponds to the standard deviation of the arithmetic mean roughness, and a large value indicates non-uniformity in the surface unevenness size. Therefore, by increasing this value, the number of contact points with the printing plate during the printing process can be reduced, and the printing plate release property can be further enhanced. In addition, the interface between the resin film and the printed layer can be increased, and the adhesion with the printed layer can be enhanced by the anchor effect. From the same point of view, the Rq of the resin film is more preferably 600 nm or more, more preferably 800 nm or more.

樹脂フィルムのRqは、次に記載する方法で算出する。具体的には、平坦部比率の測定に準じ、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm×100μmぶんの面粗さデータを取得する。これらの操作を3回行い、各データのRqの値を平均したものを樹脂フィルムのRqとする。 The Rq of the resin film is calculated by the method described below. Specifically, according to the measurement of the flat portion ratio, using a laser microscope (Keyence VK9700), observation was performed with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm, and analysis software (VK viewer) Surface roughness data for 100 μm×100 μm is obtained at any point on the observation surface. These operations are performed three times, and the Rq of the resin film is obtained by averaging the Rq values of each data.

条件4を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、粒子を練り込んだ基材や、サンドブラスト処理を施した基材や、粒子を含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 A specific method for satisfying the condition 4 is to use a base material in which particles are kneaded, a sandblasted base material, or a base material laminated with a coating layer containing particles for the base material in producing the resin film. and the details of these methods will be described later.

(条件5)
本発明の樹脂フィルムは、条件5を満たすことが好ましい。
(Condition 5)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 5.

条件5:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、動的接触角拡張収縮法で得られる、樹脂フィルムの水に対する接触角ヒステリシスが5°以上。 Condition 5: At least one surface of the resin film has a contact angle hysteresis of 5° or more with respect to water, which is obtained by the dynamic contact angle expansion/shrinkage method.

ここで、接触角ヒステリシスとは、動的接触角における拡張収縮法によって得られる、前進接触角(θa)と後退接触角(θr)の差の絶対値を指す。固体表面がマット形状で、かつ、液滴が固体表面の凹部に入り込んだ、いわゆる「Wenzelモード」の場合、マット形状の表面粗さを液滴が感知し、液滴を拡張収縮した際に表面の粗さが液滴の進行方向に対して抵抗となる。したがって、マット形状の表面粗さが大きい程、接触角ヒステリシスは大きくなる。一方で、固体表面に平坦部があって凹部が深い場合、液滴が固体表面の凹部に入り込まず、凹部に空気層を有した、いわゆる「Cassieモード」となる。この「Cassieモード」は、特に表面張力が高い水を使用する場合に起こり易いことが知られる。この場合、液滴が表面の凹凸部分に感知できず、接触角ヒステリシスは、「Wenzelモード」と比べて小さくなる。したがって、この接触角ヒステリシスを大きくすることで、固体表面に液滴が「Wenzelモード」で着滴し、印刷版との接触点を減らし、印刷版離れ性を高めることができる。同様の観点から、樹脂フィルムの水に対する接触角ヒステリシスが8°以上であることがより好ましい。 Here, the contact angle hysteresis refers to the absolute value of the difference between the advancing contact angle (θa) and the receding contact angle (θr) obtained by the expansion contraction method in the dynamic contact angle. In the case of the so-called “Wenzel mode”, in which the solid surface is mat-shaped and the droplet enters the recesses of the solid surface, the droplet senses the surface roughness of the mat-shaped surface, and when the droplet expands and contracts, the surface The roughness of the droplets acts as a resistance against the traveling direction of the droplets. Therefore, the greater the surface roughness of the mat shape, the greater the contact angle hysteresis. On the other hand, when the solid surface has a flat portion and the concave portion is deep, the liquid droplet does not enter the concave portion of the solid surface, and the concave portion has an air layer, which is a so-called “Cassie mode”. It is known that this "Cassie mode" is likely to occur especially when water with high surface tension is used. In this case, the droplet cannot be sensed on the uneven part of the surface, and the contact angle hysteresis is smaller than in the “Wenzel mode”. Therefore, by increasing the contact angle hysteresis, the droplets land on the solid surface in the "Wenzel mode", the number of contact points with the printing plate can be reduced, and the releasability of the printing plate can be improved. From the same point of view, it is more preferable that the contact angle hysteresis of the resin film to water is 8° or more.

条件5を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、サンドブラスト処理を施した基材や、粒子を含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 As a specific method for satisfying condition 5, it is preferable to use a sandblasted substrate or a substrate laminated with a coating layer containing particles as the substrate for producing the resin film. , the details of these methods will be described later.

(動的接触角の測定方法)
動的接触角の測定は、試料を事前に25℃の環境下で、12時間放置後に実施する。協和界面科学株式会社製のDrop Master DM-501を使用し、液滴の作成は、ニードルを這い上がらない範囲で、できるだけ小さい液滴を作成できる条件を選択する。動的接触角は樹脂フィルム表面に着滴してから、シリンジ針先端を指したままの状態で液吐出速度8.5μL/sで連続的に注入と吸引を繰り返し、同液滴の縮小過程の形状を100ミリ秒毎に連続的に撮影しその過程のそれぞれの接触角を求める。液滴の拡張・収縮過程の接触角は最初、拡張・収縮につれて変化し、次いで一定になる挙動を示す。拡張時の接触角を前進接触角、収縮時の接触角を後退接触角とする。ここで、接触角が一定になったとは、液滴が拡張・収縮していく方向に接触角を並べ、その順に連続した5点を選択したとき、連続した5点の標準偏差が最初に1°以下になった場合とする。
(Method for measuring dynamic contact angle)
The measurement of the dynamic contact angle is carried out after leaving the sample in an environment of 25° C. for 12 hours. Drop Master DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. is used, and droplets are created under conditions that allow the creation of droplets that are as small as possible without creeping up the needle. The dynamic contact angle was measured by repeatedly injecting and sucking the liquid at a liquid ejection speed of 8.5 μL/s while the tip of the syringe needle was pointing after the droplet landed on the resin film surface. The shape is photographed continuously every 100 milliseconds and the respective contact angles are determined during the process. The contact angle of the droplet during the expansion/contraction process first changes as the droplet expands/contracts, and then exhibits a constant behavior. The contact angle during expansion is defined as the advancing contact angle, and the contact angle during contraction is defined as the receding contact angle. Here, when the contact angle is constant, the contact angle is arranged in the direction in which the droplet expands and contracts, and five consecutive points are selected in that order. ° or less.

(条件6)
本発明の樹脂フィルムは、条件6を満たすことが好ましい。
(Condition 6)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 6.

条件6:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における算術平均粗さRaが430nm以上。 Condition 6: At least one surface of the resin film has an arithmetic mean roughness Ra of 430 nm or more.

算術平均粗さRaを大きくすることで、印刷工程時における印刷版との接触点を減らし、印刷版離れ性を高めることができる。また、樹脂フィルムと印刷層の界面を増加させ、アンカー効果によって、印刷層との密着性を増加させることができる。同様の観点から、樹脂フィルムのRaは550nm以上であることがより好ましく、600nm以上であることがさらに好ましい。 By increasing the arithmetic mean roughness Ra, the number of contact points with the printing plate during the printing process can be reduced, and the releasability of the printing plate can be enhanced. Moreover, the interface between the resin film and the printed layer can be increased, and the anchor effect can increase the adhesion with the printed layer. From the same point of view, Ra of the resin film is more preferably 550 nm or more, more preferably 600 nm or more.

樹脂フィルムのRaは、次に記載する方法で算出する。具体的には上述のRqと同様に、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm×100μmぶんの面粗さデータを取得する。これらの操作を3回行い、各データのRaの値を平均したものを樹脂フィルムのRaとする。 The Ra of the resin film is calculated by the method described below. Specifically, similarly to the above Rq, using a laser microscope (Keyence VK9700), observation was performed with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm, and analysis software (VK viewer) Surface roughness data for 100 μm×100 μm is acquired at an arbitrary point on the observed surface. These operations are performed three times, and the Ra of each data is averaged to obtain the Ra of the resin film.

条件6を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、サンドブラスト処理を施した基材や、粒子を含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 As a specific method for satisfying condition 6, it is preferable to use a sandblasted substrate or a substrate laminated with a coating layer containing particles as the substrate for producing the resin film. , the details of these methods will be described later.

(条件7)
本発明の樹脂フィルムは、条件7を満たすことが好ましい。
(Condition 7)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 7.

条件7:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における最大高さRzが8μm以上。 Condition 7: The maximum height Rz on at least one surface of the resin film is 8 µm or more.

最大高さRzが大きいことは、表面の粗さの絶対値が大きいことを意味し、それにより印刷工程時における印刷版との接触点を減らし、印刷版離れ性を高めることができる。また、樹脂フィルムと印刷層の界面を増加させ、アンカー効果によって、印刷層との密着性を高めることができる。同様の観点から、樹脂フィルムのRzは9μm以上であることが好ましく、10μm以上であることがより好ましい。 A large maximum height Rz means that the absolute value of the surface roughness is large, thereby reducing the contact points with the printing plate during the printing process and improving the printing plate release property. In addition, the interface between the resin film and the printed layer can be increased, and the adhesion with the printed layer can be enhanced by the anchor effect. From the same point of view, Rz of the resin film is preferably 9 μm or more, more preferably 10 μm or more.

樹脂フィルムのRzは、次に記載する方法で算出する。具体的には上述のRq、Raと同様に、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm×100μmぶんの面粗さデータを取得する。これらの操作を3回行い、各データのRzの値を平均したものを樹脂フィルムのRzとする。 The Rz of the resin film is calculated by the method described below. Specifically, similarly to the above Rq and Ra, a laser microscope (VK9700 manufactured by Keyence) is used to observe with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm, and analysis software (VK viewer) Surface roughness data for 100 μm×100 μm is obtained at any point on the observation surface. These operations are performed three times, and the Rz of each data is averaged to obtain the Rz of the resin film.

条件7を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、サンドブラスト処理をRaが620nm以上となるように施した基材や、5μm以上の粒子を20質量部以上含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 A specific method for satisfying condition 7 is to use a substrate that has been subjected to sandblasting so that Ra is 620 nm or more, or a coating that contains 20 parts by mass or more of particles of 5 μm or more for the substrate when producing the resin film. It is preferable to use a base material having laminated layers, and the details of these methods will be described later.

(条件8)
本発明の樹脂フィルムは、条件8を満たすことが好ましい。
(Condition 8)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 8.

条件8:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、表面自由エネルギーが30mN/m以上。 Condition 8: At least one surface of the resin film has a surface free energy of 30 mN/m or more.

ここで、樹脂フィルムの表面自由エネルギーは、樹脂フィルムの表面に対して、水、エチレングリコール、ジヨードメタンによる25℃での静的接触角を求め、各液体での静的接触角と、以下の非特許文献1に記載の、各液体の表面自由エネルギーの分散項、極性項、水素結合項を、以下の非特許文献2に記載の「畑、北崎の拡張ホークスの式」に導入し、連立方程式を解くことにより求めた値を指す。測定方法の詳細は後述する。
非特許文献1:J.Panzer :J.Colloid Interface Sci.,44,142 (1973).。
非特許文献2:北崎寧昭、畑 敏雄:日本接着協会紙,8,(3) 131(1972).。
Here, the surface free energy of the resin film is obtained by determining the static contact angle of water, ethylene glycol, and diiodomethane with respect to the surface of the resin film at 25° C., the static contact angle of each liquid, and the following non- The dispersion term, polar term, and hydrogen bond term of the surface free energy of each liquid described in Patent Document 1 are introduced into the “Hata and Kitazaki extended Hawks equation” described in Non-Patent Document 2 below, and the simultaneous equations refers to the value obtained by solving Details of the measurement method will be described later.
Non-Patent Document 1: J.P. Panzer: J.P. Colloid Interface Sci. , 44, 142 (1973). .
Non-Patent Document 2: Yasuaki Kitazaki, Toshio Hata: Japan Adhesive Association Paper, 8, (3) 131 (1972). .

樹脂フィルムの表面自由エネルギーが30mN/m以上であることにより、樹脂フィルムと印刷層の密着性をより十分なものにすることができ、樹脂フィルム上に回路パターンを形成し、繰り返し伸縮をおこなったときに、抵抗率が上昇することや、センサーから得られる信号のS/N比が低下することを軽減できる。さらには回路パターンの破断による導通不良が発生することを抑制できる。同様の観点から、樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における表面自由エネルギーが35mN/m以上であることがより好ましい。 When the surface free energy of the resin film is 30 mN/m or more, the adhesion between the resin film and the printed layer can be made more sufficient, and a circuit pattern is formed on the resin film, and the resin film is repeatedly stretched. Occasionally, an increase in resistivity and a decrease in the signal-to-noise ratio of the signal obtained from the sensor can be mitigated. Furthermore, it is possible to suppress the occurrence of poor continuity due to breakage of the circuit pattern. From the same point of view, it is more preferable that the surface free energy of at least one surface of the resin film is 35 mN/m or more.

表面自由エネルギーは、後述する樹脂フィルムを含む材料や、表面処理方法を適宜選択することで上記範囲とすることができる。 The surface free energy can be set within the above range by appropriately selecting a material including a resin film described later and a surface treatment method.

(静的接触角の測定方法)
静的接触角の測定は、試料を事前に25℃の環境下で、12時間放置後に実施する。協和界面科学株式会社製のDrop Master DM-501を使用し、液滴の作成は、ニードルを這い上がらない範囲で、できるだけ小さい液滴を作成できる条件を選択する。静的接触角は樹脂フィルム表面に着滴してから5秒後に撮影した画像を使用し、θ/2法を用いて、静的接触角を算出する。
(Method for measuring static contact angle)
The static contact angle is measured after leaving the sample in an environment of 25° C. for 12 hours. Drop Master DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. is used, and droplets are created under conditions that allow the creation of droplets that are as small as possible without creeping up the needle. The static contact angle is calculated using the θ/2 method using an image taken 5 seconds after the droplet is applied on the resin film surface.

(条件9)
本発明の樹脂フィルムは、条件9を満たすことが好ましい。
(Condition 9)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 9.

条件9:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、樹脂フィルム1mm角あたりの表面積が1.3mm以上。 Condition 9: At least one surface of the resin film has a surface area of 1.3 mm 2 or more per 1 mm square of the resin film.

ここで、1mm角あたりの表面積は、レーザー顕微鏡で樹脂フィルムを観察して得られた線粗さデータを基に算出した値である。すなわち、この値を大きくすることで、樹脂フィルムと印刷層の界面を増加させ、アンカー効果によって、印刷層との密着性を増加させることができる。同様の観点から、1mm角あたりの表面積は1.5mmであることがより好ましく、2.0mm以上であることがさらに好ましい。 Here, the surface area per 1 mm square is a value calculated based on line roughness data obtained by observing the resin film with a laser microscope. That is, by increasing this value, it is possible to increase the interface between the resin film and the printed layer, and to increase the adhesion to the printed layer due to the anchor effect. From the same point of view, the surface area per 1 mm square is more preferably 1.5 mm 2 , more preferably 2.0 mm 2 or more.

樹脂フィルム1mm角あたりの表面積は、次に記載する方法で算出する。具体的には上述の表面の平坦部比率と同様に、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm分の線粗さデータを取得する。得られた線粗さデータのXYキャリブレーション値(1ピクセル毎のXY方向の距離)から、1μm当たりのピクセル数を計算する。実断面プロファイル(1ピクセル毎のZ方向の高さ)において、1μm当たりのZ方向の高低差(a)となるように、実断面プロファイルの差分を取得する。続いて、1μm毎の表面長さ(L=(1+a)1/2)を算出し、実断面プロファイルデータで総和を取った上で、1mm毎の表面長さ(L)となるように規格化する。この値を2乗することで、1mm角あたりの表面積(S=(L)とする。 The surface area per 1 mm square resin film is calculated by the method described below. Specifically, similarly to the flat portion ratio of the surface described above, observation was performed using a laser microscope (Keyence VK9700) with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm. viewer) to obtain line roughness data for 100 μm at any point on the observation surface. The number of pixels per 1 μm is calculated from the XY calibration values (the distance in the XY direction for each pixel) of the obtained line roughness data. In the real cross-sectional profile (the height in the Z direction for each pixel), the difference in the real cross-sectional profile is obtained so that the height difference (a) in the Z direction per 1 μm is obtained. Subsequently, the surface length (L 1 = (1+a) 1/2 ) is calculated for each 1 μm, and after summing the actual cross-sectional profile data, the surface length (L 2 ) is calculated for each 1 mm. Standardize. By squaring this value, the surface area per 1 mm square (S=(L 2 ) 2 ) is obtained.

条件9を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、サンドブラスト処理を施した基材や、粒子を含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 As a specific method for satisfying condition 9, it is preferable to use a sandblasted substrate or a substrate laminated with a coating layer containing particles as the substrate for producing the resin film. , the details of these methods will be described later.

(条件10)
本発明の樹脂フィルムは、条件10を満たすことが好ましい。
(Condition 10)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 10.

条件10:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、動的接触角拡張収縮法で得られる、樹脂フィルムのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に対する接触角ヒステリシスが5°以上。 Condition 10: At least one surface of the resin film has a contact angle hysteresis of 5° or more with respect to propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) obtained by the dynamic contact angle expansion/shrinkage method.

ここで、接触角ヒステリシスとは、条件5と同様に、動的接触角における拡張収縮法によって得られる、前進接触角(θa)と後退接触角(θr)の差の絶対値を指す。また、PGMEAは、印刷時に使用される印刷ペーストに含まれる汎用的な溶剤である。即ち、この値を大きくすることで、固体表面に液滴が「Wenzelモード」で着滴し、印刷版との接触点を減らし、印刷版離れ性を高めることができる。さらには、印刷時に印刷ペーストが樹脂フィルム表面の凹凸に入り込み、溶媒除去後の印刷層が樹脂フィルムとの密着性を高めることができる。同様の観点から、樹脂フィルムのPGMEAに対する接触角ヒステリシスは8°以上であることがより好ましい。 Here, the contact angle hysteresis refers to the absolute value of the difference between the advancing contact angle (θa) and the receding contact angle (θr) obtained by the expansion contraction method in the dynamic contact angle, as in Condition 5. Also, PGMEA is a general-purpose solvent contained in printing paste used during printing. That is, by increasing this value, droplets land on the solid surface in the "Wenzel mode", the number of contact points with the printing plate can be reduced, and the printing plate release property can be improved. Furthermore, the printing paste penetrates into the unevenness of the surface of the resin film during printing, and the printed layer after removing the solvent can enhance the adhesion to the resin film. From the same point of view, the contact angle hysteresis of the resin film to PGMEA is more preferably 8° or more.

条件10を満たすための具体的方法は、樹脂フィルムを製造する際の基材について、サンドブラスト処理をRaが620nm以上となるように施した基材や、5μm以上の粒子を20質量部以上含むコーティング層を積層した基材を用いることを好ましく挙げることができ、これらの方法についての詳細は後述する。 A specific method for satisfying condition 10 is to use a substrate that has been sandblasted so that Ra is 620 nm or more, or a coating that contains 20 parts by mass or more of particles of 5 μm or more for the substrate when producing the resin film. It is preferable to use a base material having laminated layers, and the details of these methods will be described later.

(条件11)
本発明の樹脂フィルムは、条件11を満たすことが好ましい。
(Condition 11)
The resin film of the present invention preferably satisfies Condition 11.

条件11:樹脂フィルムのヘイズが30%以上70%以下。 Condition 11: The haze of the resin film is 30% or more and 70% or less.

ここで、樹脂フィルムのヘイズとは、樹脂フィルムの曇り度を示し、光の拡散の程度を表すパラメーターである。表面の凹凸サイズを大きくするとヘイズを大きくすることができる。一方で、この値が大きすぎるとフィルムが不透明となり、フィルムの下に置かれたものの形状や、色、印等がぼやけてしまうため、モジュール化する際の位置調整が難しくなる。同様の観点で、樹脂フィルムのヘイズは40%以上60%以下がより好ましい。 Here, the haze of the resin film is a parameter that indicates the cloudiness of the resin film and indicates the degree of diffusion of light. The haze can be increased by increasing the size of the unevenness on the surface. On the other hand, if this value is too large, the film becomes opaque, and the shapes, colors, marks, etc. of objects placed under the film become blurred, making it difficult to adjust the position when modularizing. From the same point of view, the haze of the resin film is more preferably 40% or more and 60% or less.

樹脂フィルムのヘイズは、NDH-5000(Nippon Denshoku社)に樹脂フィルムの表面粗さが高い面を上向きにして測定を3回行い、その平均値をヘイズとする。 The haze of the resin film is measured three times with NDH-5000 (Nippon Denshoku) with the surface of the resin film having high surface roughness facing upward, and the haze is taken as the average value.

特に、粒子を含む層を樹脂フィルムに積層した場合、粒子と樹脂フィルム間での組成の違いにより、屈折率が変わり、ヘイズが高くなる傾向がある。したがって、条件11を満たす方法としては、粒子を含む層の積層ではなく、樹脂フィルムを製造する際の基材の転写を好ましく挙げることができる。 In particular, when a layer containing particles is laminated on a resin film, the difference in composition between the particles and the resin film tends to change the refractive index and increase the haze. Therefore, as a method that satisfies the condition 11, it is preferable to transfer a base material when producing a resin film instead of laminating a layer containing particles.

(素材・構造・結合)
本発明の樹脂フィルムは、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、スチレン系樹脂、より選ばれる1種以上を含むことが、適度な伸縮性を得られる観点で好ましい。
(Material, structure, bonding)
The resin film of the present invention contains one or more selected from acrylic resins, methacrylic resins, silicone resins, urethane resins, acrylic urethane resins, epoxy resins, and styrene resins. It is preferable from the viewpoint of obtaining the properties.

なかでも、本発明の樹脂フィルムは、化学式1の構造およびウレタン結合を含むことが好ましい。 Among others, the resin film of the present invention preferably contains the structure of chemical formula 1 and urethane bonds.

Figure 2022151490000011
Figure 2022151490000011

なお、化学式1のRは、水素またはメチル基を指す。 R 1 in Formula 1 represents hydrogen or a methyl group.

樹脂フィルムが、上記の構造や結合を含むことは、様々な分析方法により調べることが可能であるが、少なくともFT-ATR-IR(フーリエ変換全反射赤外分光光度法)または熱分解GC-MS(ガスクロマトグラフ質量分析法)による分析方法で上記の構造や結合を含む場合、もしくは樹脂フィルムを形成する原料から上記の構造や結合を含むことを把握できる場合は、樹脂フィルムが、上記の構造や結合を含むこととする。 Whether the resin film contains the above structures and bonds can be examined by various analytical methods, but at least FT-ATR-IR (Fourier transform total reflection infrared spectrophotometry) or pyrolysis GC-MS (Gas chromatograph mass spectrometry) analysis method, or if it can be understood that the resin film contains the above structure or bond from the raw material forming the resin film, the resin film has the above structure or bond. shall include binding.

樹脂フィルムが、上記の構造を有することで、強固な化学架橋構造を形成し、強い復元性を付与することができる。また、ウレタン結合を含むことで、水素結合による弱い物理架橋を形成することで、柔軟性を保ちつつ、復元性を付与できる。 By having the above structure, the resin film can form a strong chemically crosslinked structure and impart strong restorability. In addition, by including a urethane bond, it is possible to impart resilience while maintaining flexibility by forming weak physical crosslinks by hydrogen bonding.

前記化学式1の構造は、化学式10の構造を含むことがより好ましい。 More preferably, the structure of Chemical Formula 1 includes the structure of Chemical Formula 10.

Figure 2022151490000012
Figure 2022151490000012

なお、化学式10のRは、水素またはメチル基を指す。 R 1 in Chemical Formula 10 represents hydrogen or a methyl group.

化学式10のRは、以下のいずれかを指す。
・置換または無置換のアルキレン基、
・置換または無置換のアリーレン基、
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有するアルキレン基、
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有するアリーレン基、
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有する無置換のアルキレン基、
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有する無置換のアリーレン基。
R 2 in Chemical Formula 10 refers to any of the following.
- a substituted or unsubstituted alkylene group,
- a substituted or unsubstituted arylene group,
- an alkylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside;
- an arylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside;
- an unsubstituted alkylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside;
- An unsubstituted arylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.

前記ウレタン結合によるセグメントは、化学式11に示す構造を含むことが好ましい。 The urethane-bonded segment preferably includes a structure represented by Chemical Formula 11.

Figure 2022151490000013
Figure 2022151490000013

なお、化学式11のRは、以下のいずれかを指す。
・置換または無置換のアルキレン基、
・置換または無置換のアリーレン基。
In addition, R 3 in Chemical Formula 11 refers to any of the following.
- a substituted or unsubstituted alkylene group,
- A substituted or unsubstituted arylene group.

加えて、本発明の樹脂フィルム100質量%中、アクリルウレタン系樹脂を30質量%以上含むことが柔軟性と復元性を高水準で得る観点で好ましい。 In addition, it is preferable that the resin film of the present invention contains 30% by mass or more of an acrylic urethane resin in 100% by mass from the viewpoint of obtaining a high level of flexibility and resilience.

本発明の樹脂フィルムは、化学式2のセグメントを含み、さらに化学式3のセグメントまたは化学式4のセグメントのいずれかを含むことが好ましい。 The resin film of the present invention preferably contains the segment of Chemical Formula 2 and further contains either the segment of Chemical Formula 3 or the segment of Chemical Formula 4.

Figure 2022151490000014
Figure 2022151490000014

Figure 2022151490000015
Figure 2022151490000015

Figure 2022151490000016
Figure 2022151490000016

pは1以上の整数である。 p is an integer of 1 or more.

rは1以上の整数である。 r is an integer of 1 or more.

sは1以上の整数である。 s is an integer of 1 or more.

ここで、化学式2のセグメントは、前述のウレタン結合として好ましいものである。化学式3のセグメントと化学式4のセグメントは、ポリオール残基として好ましいものである。化学式2のセグメントと化学式3のセグメントの組み合わせ、または、化学式2のセグメントと化学式4のセグメントの組み合わせとすることで、各セグメント間の相互作用を好ましい範囲にすることができ、水素結合などの物理架橋の形成を抑制しつつ、アクリル架橋の強固な化学架橋を低密度で形成することができる。 Here, the segment of chemical formula 2 is preferable as the aforementioned urethane bond. The segment of Chemical Formula 3 and the segment of Chemical Formula 4 are preferred as polyol residues. By combining the segment of chemical formula 2 and the segment of chemical formula 3, or the combination of the segment of chemical formula 2 and the segment of chemical formula 4, the interaction between each segment can be within a preferable range, and physical effects such as hydrogen bonding Strong chemical crosslinks of acrylic crosslinks can be formed at a low density while suppressing the formation of crosslinks.

また、本発明の樹脂フィルムは、化学式5のセグメント、化学式6のセグメント、化学式7のセグメント、化学式8のセグメント、およびそれらの水添体のセグメントからなる群より選ばれる少なくとも1つのセグメントを含むことが好ましい。化学式5~8について、記載を省略した置換基は任意の置換基を採用できるが、水素原子であることが好ましい。 Further, the resin film of the present invention contains at least one segment selected from the group consisting of the segment represented by Chemical Formula 5, the segment represented by Chemical Formula 6, the segment represented by Chemical Formula 7, the segment represented by Chemical Formula 8, and hydrogenated segments thereof. is preferred. In the chemical formulas 5 to 8, optional substituents can be adopted for omitted substituents, but hydrogen atoms are preferable.

Figure 2022151490000017
Figure 2022151490000017

Figure 2022151490000018
Figure 2022151490000018

Figure 2022151490000019
Figure 2022151490000019

Figure 2022151490000020
Figure 2022151490000020

ここで、化学式5のセグメント、化学式6のセグメント、化学式7のセグメント、化学式8のセグメント、およびそれらの水添体のセグメントは、ポリオール残基として好ましいものである。特に、化学式5の水添体のセグメントまたは化学式6の水添体のセグメントが特に好ましい。化学式5のセグメント、化学式6のセグメント、化学式7のセグメント、化学式8のセグメント、およびそれらの水添体のセグメントを用いることで、水素結合などの物理架橋の形成をさらに抑制しつつ、アクリル架橋の強固な化学架橋を低密度で形成することができる。また、樹脂フィルムに印刷ペーストを塗工する際の耐溶剤性を良好にすることができる。 Here, the segment represented by Chemical Formula 5, the segment represented by Chemical Formula 6, the segment represented by Chemical Formula 7, the segment represented by Chemical Formula 8, and hydrogenated segments thereof are preferred as polyol residues. In particular, the hydrogenated segment of Chemical Formula 5 or the hydrogenated segment of Chemical Formula 6 is particularly preferred. By using the segment of chemical formula 5, the segment of chemical formula 6, the segment of chemical formula 7, the segment of chemical formula 8, and the hydrogenated segment thereof, the formation of physical crosslinks such as hydrogen bonds is further suppressed, and acrylic crosslinks are formed. Strong chemical crosslinks can be formed at low densities. Moreover, solvent resistance can be improved when the printing paste is applied to the resin film.

(層構成)
本発明の樹脂フィルムは、単層から構成されることが好ましい。ここで、単層から構成される、とは、走査型電子顕微鏡(SEM)法で断面観察した際に不連続な境界面が観測されないものをいう。具体的な観察方法は、UV硬化性樹脂で包埋した樹脂フィルムを、厚み方向に対する断面が得られるよう、ミクロトームを用いて、包埋した樹脂ごと樹脂フィルムを切削して得た断面に対して、オートファインコータを用いて30mA×20秒×2回の条件で白金を蒸着して得た試験片を、走査電子顕微鏡(SEM)を用い、倍率5000倍、加速電圧3kVの条件において観察する方法である。さらに詳細な観察方法は、実施例の測定方法にて詳述するものである。
(Layer structure)
The resin film of the present invention preferably consists of a single layer. Here, "consisting of a single layer" means that no discontinuous interface is observed when the cross section is observed by a scanning electron microscope (SEM) method. A specific observation method is to use a microtome to obtain a cross section in the thickness direction of a resin film embedded in a UV curable resin, and a cross section obtained by cutting the resin film together with the embedded resin. A method of observing a test piece obtained by vapor-depositing platinum under the conditions of 30 mA × 20 seconds × 2 times using an auto fine coater, using a scanning electron microscope (SEM) at a magnification of 5000 and an acceleration voltage of 3 kV. is. A more detailed observation method will be described in detail in the measurement method in Examples.

(積層体構成)
本発明の積層体は、樹脂フィルムの少なくとも一方に、基材を含む積層体であることが好ましい。その一例を図1に示す。ここで、基材とは、樹脂フィルム形成用塗料組成物をその表面に展開することが可能な物品である。本発明の積層体において基材を設けるとよい理由は、樹脂フィルムの製造時や加工時において、搬送性や加工性を確保するためである。
(Laminate structure)
The laminate of the present invention is preferably a laminate containing a substrate on at least one of the resin films. An example is shown in FIG. Here, the substrate is an article on the surface of which the coating composition for forming a resin film can be spread. The reason why it is preferable to provide a substrate in the laminate of the present invention is to ensure transportability and workability during production and processing of the resin film.

また、本発明の樹脂フィルムの製造方法は、工程1、2、3、および4をこの順に行うことが好ましい。
工程1:条件12を満たす基材Aの上に、化学式9のセグメントを含む樹脂前駆体と溶媒を含む塗料組成物を塗布し、塗布層を形成する工程。
条件12:レーザー顕微鏡による、基材A表面の少なくとも一方の表面における平坦部比率が70%以下。
Moreover, in the method for producing a resin film of the present invention, it is preferable to perform steps 1, 2, 3, and 4 in this order.
Step 1: A step of applying a coating composition containing a resin precursor containing a segment of chemical formula 9 and a solvent onto a substrate A that satisfies condition 12 to form a coating layer.
Condition 12: The flat portion ratio on at least one surface of the substrate A surface measured by a laser microscope is 70% or less.

Figure 2022151490000021
Figure 2022151490000021

は、水素またはメチル基を指す。
は、以下のいずれかであることが好ましい。
・置換または無置換のアルキレン基。
・置換または無置換のアリーレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有するアルキレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有するアリーレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有する無置換のアルキレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有する無置換のアリーレン基。
は、以下のいずれかであることが好ましい。
・置換または無置換のアルキレン基。
・置換または無置換のアリーレン基。
工程2:前記塗布層から溶媒を除去する工程。
工程3:活性エネルギー線を照射して、前記樹脂前駆体を架橋させる工程。
工程4:前記塗布層の基材A反対面に基材Bを貼付けた後に、基材Aを剥離する工程。
R4 refers to hydrogen or a methyl group.
R 5 is preferably any of the following.
- A substituted or unsubstituted alkylene group.
- A substituted or unsubstituted arylene group.
- An alkylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
- An arylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
- An unsubstituted alkylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
- An unsubstituted arylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
R 6 is preferably any of the following.
- A substituted or unsubstituted alkylene group.
- A substituted or unsubstituted arylene group.
Step 2: A step of removing the solvent from the coating layer.
Step 3: A step of irradiating an active energy ray to crosslink the resin precursor.
Step 4: A step of peeling off the base material A after attaching the base material B to the surface opposite to the base material A of the coating layer.

積層体の構成の例を図2、図3、図4に示す。ここで、基材Aは、搬送性向上のための基材であり、離型層を含む多層積層体でも良い。離型層を含むことで、基材Aを樹脂フィルムから剥離することが容易となり、基材Aの形状を樹脂フィルムに転写しやすくなる。また、基材Aを樹脂フィルムから剥離する際に、後述する基材Bと樹脂フィルムの間で剥がれる、いわゆる泣き別れを抑制することができる。 Examples of laminate structures are shown in FIGS. Here, the substrate A is a substrate for improving transportability, and may be a multilayer laminate including a release layer. By including the release layer, it becomes easy to peel the base material A from the resin film, and it becomes easy to transfer the shape of the base material A to the resin film. In addition, when the base material A is peeled off from the resin film, it is possible to suppress so-called separation, in which the base material B and the resin film are separated.

また、基材Bは、基材A剥離後の搬送性向上や傷つき防止のための基材であり、離型層や粘着層を含む多層積層体でも良い。離型層を含むことで、基材Bを樹脂フィルムから剥離することが容易となり、樹脂フィルム単体で後加工することができる。また、粘着層を含むことで、基材Bが樹脂フィルムと強く密着し、基材Aを樹脂フィルムから剥離する際に、基材Bと樹脂フィルムの間で剥がれる、いわゆる泣き別れを抑制することができる。 Further, the substrate B is a substrate for improving transportability and preventing damage after peeling of the substrate A, and may be a multilayer laminate including a release layer and an adhesive layer. By including the release layer, the substrate B can be easily peeled off from the resin film, and the resin film alone can be post-processed. In addition, by including the adhesive layer, the base material B strongly adheres to the resin film, and when the base material A is peeled off from the resin film, it is possible to suppress so-called separation, that is, peeling between the base material B and the resin film. can.

[本発明の形態]
以下、本発明の実施の形態について具体的に述べる。
[Mode of the present invention]
Embodiments of the present invention will be specifically described below.

[樹脂フィルム]
本発明の樹脂フィルムは、その課題である、柔軟性、復元性、印刷版離れ性、印刷層密着性の他に、隠蔽性、光沢性、耐指紋性、成型性、意匠性、耐傷性、防汚性、耐溶剤性、反射防止、帯電防止、導電性、熱線反射、近赤外線吸収、電磁波遮蔽、投錨性、易接着性等の他の機能を有してもよく、さらに1つ以上の層を形成して積層体としてもよい。例えば粘着層、電子回路層、印刷層、光学調整層等や他の機能層を設けてもよい。
[Resin film]
The resin film of the present invention, in addition to flexibility, restorability, printing plate release property, and printing layer adhesion, which are the problems, has hiding property, glossiness, fingerprint resistance, moldability, design property, scratch resistance, It may have other functions such as antifouling properties, solvent resistance, antireflection, antistatic, conductivity, heat ray reflection, near-infrared absorption, electromagnetic wave shielding, anchoring, and easy adhesion. Layers may be formed to form a laminate. For example, an adhesive layer, an electronic circuit layer, a printed layer, an optical adjustment layer, and other functional layers may be provided.

前記樹脂フィルムの厚みは特に限定はなく、その用途によって適宜選択される。樹脂フィルムの厚みの下限は、樹脂フィルム自身の弾性率、破断伸度、基材と樹脂フィルム間の剥離力や剥離角度などの影響を受けるため、一概には定まらないが、後述する積層体の製造方法を用いて、一般的な柔軟材料同等の物性を実現する場合には、数μm程度が下限である。 The thickness of the resin film is not particularly limited, and is appropriately selected according to its use. The lower limit of the thickness of the resin film is affected by the elastic modulus of the resin film itself, the elongation at break, the peeling force and peeling angle between the substrate and the resin film, etc., so it cannot be determined unconditionally. When using the manufacturing method to achieve physical properties equivalent to those of general flexible materials, the lower limit is about several μm.

[積層体]
本発明の積層体の好ましい態様は上述のとおりだが、前述の物性を示す樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、基材を有する積層体であることが好ましく、積層体が平面状態であっても、または成形された後の3次元形状のいずれであってもよい。
[Laminate]
Preferred embodiments of the laminate of the present invention are as described above, but the laminate preferably has a base material on at least one surface of the resin film exhibiting the physical properties described above. Or it may be any three-dimensional shape after being molded.

[基材]
本発明の積層体に用いられる基材は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれを用いてもよく、ホモ樹脂であってもよく、共重合または2種類以上のブレンドであってもよい。基材を構成する樹脂は、成形性が良好であれば好ましく、その点から熱可塑性樹脂がより好ましい。
[Base material]
The substrate used in the laminate of the present invention may be either a thermoplastic resin or a thermosetting resin, may be a homoresin, may be a copolymer, or may be a blend of two or more. The resin that constitutes the base material is preferable as long as it has good moldability, and from this point of view, thermoplastic resins are more preferable.

基材に好適に用いられる熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、脂環族ポリオレフィン樹脂、ナイロン6・ナイロン66などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、4フッ化エチレン樹脂・3フッ化エチレン樹脂・3フッ化塩化エチレン樹脂・4フッ化エチレン-6フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂などを用いることができる。 Examples of thermoplastic resins suitable for the base material include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as nylon 6 and nylon 66, aramid resins, and polyimide resins. , polyester resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polyacetal resin, polyphenylene sulfide resin, tetrafluoroethylene resin, trifluoroethylene resin, trifluoroethylene chloride resin, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, Fluororesins such as vinylidene fluoride resins, acrylic resins, methacrylic resins, polyacetal resins, polyglycolic acid resins, polylactic acid resins, and the like can be used.

基材に好適に用いられる熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができる。熱可塑性樹脂は、十分な延伸性と追従性を備える樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂は、強度・耐熱性・透明性の観点から、特に、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、もしくはメタクリル樹脂であることがより好ましい。 Examples of thermosetting resins suitable for the substrate include phenol resins, epoxy resins, urea resins, melamine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, polyimide resins, and silicone resins. The thermoplastic resin is preferably a resin having sufficient stretchability and followability. From the viewpoint of strength, heat resistance, and transparency, the thermoplastic resin is more preferably polyester resin, polycarbonate resin, acrylic resin, or methacrylic resin.

基材に好適に用いられるポリエステル樹脂とは、エステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子の総称であって、酸成分およびそのエステルとジオール成分の重縮合によって得られる。具体例としてはポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどを挙げることができる。またこれらに酸成分やジオール成分として他のジカルボン酸およびそのエステルやジオール成分を共重合したものであってもよい。これらの中で透明性、寸法安定性、耐熱性などの点でポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレートが特に好ましい。 The polyester resin suitably used for the base material is a general term for polymers having an ester bond as a main linking chain, and is obtained by polycondensation of an acid component, its ester, and a diol component. Specific examples include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, and polybutylene terephthalate. In addition, other dicarboxylic acids and their esters or diol components may be copolymerized with these as acid components or diol components. Among these, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are particularly preferred in terms of transparency, dimensional stability and heat resistance.

基材は、表面全体がマット形状であり、平坦部比率が40%以下であることが好ましい。マット形状の付与方法は、基材作成時の粒子添加、基材作成後のサンドブラスト処理、粒子層のコーティングなどが挙げられ、特に、サンドブラスト処理、粒子層のコーティングが好ましい。 The substrate preferably has a matte surface over the entire surface and a flat portion ratio of 40% or less. Examples of the method for imparting a matte shape include addition of particles during preparation of the base material, sandblasting treatment after preparation of the base material, coating of the particle layer, and the like, and sandblasting and coating of the particle layer are particularly preferred.

また基材には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。 In addition, various additives such as antioxidants, antistatic agents, crystal nucleating agents, inorganic particles, organic particles, viscosity reducing agents, heat stabilizers, lubricants, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, refractive index A dopant or the like for adjustment may be added.

さらに基材は、単層構成、積層構成のいずれであってもよい。 Furthermore, the base material may have either a single layer structure or a laminated structure.

また、基材の表面には、本発明の樹脂フィルムとは別に易接着層、帯電防止層、アンダーコート層、紫外線吸収層、離型層などの機能性層をあらかじめ設けることも可能であり、本発明の積層体においては、基材と樹脂フィルム間の剥離力を低下させるため、離型層を有することが好ましい。離型層の詳細については後述する。 In addition to the resin film of the present invention, functional layers such as an easy-adhesion layer, an antistatic layer, an undercoat layer, an ultraviolet absorption layer, and a release layer may be provided in advance on the surface of the base material. The laminate of the present invention preferably has a release layer in order to reduce the peeling force between the substrate and the resin film. Details of the release layer will be described later.

基材の表面には、前記樹脂フィルムを形成する前に各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例としては、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が挙げられる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。 Various surface treatments may be applied to the surface of the substrate before forming the resin film. Examples of surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.

[離型層]
本発明の積層体において、樹脂フィルム単体で後加工する場合は、前述のように基材に離型層を有することが好ましい。離型層を有する基材は、離型フィルムとも呼ばれる。離型層は、密着性や帯電防止性、耐溶剤性等を付与する観点から複数の層から構成されていてもよく、基材の両面にあってもよい。
[Release layer]
In the laminate of the present invention, when the resin film alone is post-processed, it is preferable that the substrate has a release layer as described above. A substrate having a release layer is also called a release film. The release layer may be composed of a plurality of layers from the viewpoint of imparting adhesion, antistatic properties, solvent resistance, etc., and may be present on both sides of the substrate.

離型層の厚みは、離型層の面内均一性、外観品位、剥離力の面から10~500nmであることが好ましく、20~300nmであることがより好ましい。なお、「~」は以上、以下を示す。 The thickness of the release layer is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 300 nm, from the viewpoint of in-plane uniformity, appearance quality, and peel strength of the release layer. In addition, "~" indicates above and below.

[樹脂フィルムの製造方法]
本発明の樹脂フィルムの製造方法は、基材A上に、化学式2のセグメントを含む樹脂前駆体を含む塗料組成物を塗布して、塗布層を形成し(工程1)、次いで塗布層から溶媒を除去して乾燥し(工程2)、活性エネルギー線を照射して、樹脂前駆体を架橋させ(工程3)、最後に基材A反対面に基材Bを貼付けた後に、基材Aを剥離する(工程4)ことが好ましい。
[Method for producing resin film]
In the method for producing a resin film of the present invention, a coating composition containing a resin precursor containing a segment of chemical formula 2 is applied onto a substrate A to form a coating layer (step 1), and then a solvent is removed from the coating layer. is removed and dried (step 2), irradiated with active energy rays to crosslink the resin precursor (step 3), and finally after attaching the base material B to the opposite side of the base material A, the base material A is Peeling off (step 4) is preferred.

工程1の基材A上への塗料組成物の塗布方法は、基材A上に塗料組成物を塗布し、面内均一な塗布層を形成できれば、特に限定されない。フィルム上への塗布方法としては、ディップコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法(米国特許第2681294号明細書)などから適宜、選択できる。ここで塗布層とは、塗布工程により形成された「液体の層」を指す。 The method of applying the coating composition onto the substrate A in step 1 is not particularly limited as long as the coating composition can be applied onto the substrate A to form an in-plane uniform coating layer. The coating method on the film can be appropriately selected from a dip coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a die coating method (US Pat. No. 2,681,294), and the like. Here, the coating layer refers to a "liquid layer" formed by a coating process.

工程2の溶媒を除去する方法、つまり乾燥方法は、基材上に形成された塗布層から、溶媒を除去することができれば、特に限定されない。乾燥方法としては、伝熱乾燥(高熱物体への密着)、対流伝熱(熱風)、輻射伝熱(赤外線)、その他(マイクロ波、誘導加熱)によりなどが挙げられるが、この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向でも乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。 The method of removing the solvent in step 2, that is, the drying method, is not particularly limited as long as the solvent can be removed from the coating layer formed on the substrate. Examples of the drying method include heat transfer drying (adhesion to a high-temperature object), convective heat transfer (hot air), radiant heat transfer (infrared rays), and others (microwaves, induction heating). In the manufacturing method of (1), a method using convective heat transfer or radiant heat transfer is preferable because it is necessary to precisely uniform the drying speed even in the width direction.

工程3の架橋方法は、乾燥後、溶媒を除去した塗布層に対して活性エネルギー線を照射することにより、反応させ、塗膜を架橋させるものである。 In the cross-linking method of step 3, after drying, the coating layer from which the solvent has been removed is irradiated with an active energy ray to cause a reaction, thereby cross-linking the coating film.

活性エネルギー線による架橋は、汎用性の点から電子線(EB)および/または紫外線(UV)であることが好ましい。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が100~3,000(mW/cm)が好ましく、より好ましくは200~2,000(mW/cm)、さらに好ましくは300~1,500(mW/cm)、となる条件で紫外線照射を行うことがよく、紫外線の積算光量が、100~3,000(mJ/cm)が好ましく、より好ましくは200~2,000(mJ/cm)、さらに好ましくは300~1,500(mJ/cm)となる条件で紫外線照射を行うことがよい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計および被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。 For cross-linking with active energy rays, electron beams (EB) and/or ultraviolet rays (UV) are preferred from the viewpoint of versatility. Further, the types of ultraviolet lamps used for irradiating ultraviolet rays include, for example, a discharge lamp method, a flash method, a laser method, an electrodeless lamp method, and the like. When ultraviolet curing is performed using a discharge lamp type high-pressure mercury lamp, the ultraviolet illuminance is preferably 100 to 3,000 (mW/cm 2 ), more preferably 200 to 2,000 (mW/cm 2 ), still more preferably. is preferably 300 to 1,500 ( mW/cm 2 ). It is preferable to irradiate ultraviolet rays under the condition of 2,000 (mJ/cm 2 ), more preferably 300 to 1,500 (mJ/cm 2 ). Here, the ultraviolet illuminance is the irradiation intensity received per unit area, and varies depending on the lamp output, the emission spectrum efficiency, the diameter of the light-emitting bulb, the design of the reflecting mirror, and the distance from the light source to the irradiated object. However, the illuminance does not change with the transport speed. Further, the cumulative amount of ultraviolet light is the irradiation energy received per unit area, and is the total amount of photons that reach the surface. The integrated amount of light is inversely proportional to the irradiation speed passing under the light source, and proportional to the number of times of irradiation and the number of lamp lights.

工程4の基材Bは、基材Aと比べて剥離力が高ければ、特に限定されない。離型層や粘着層を含む多層積層体でも良い。離型層を含むことで、基材Bを樹脂フィルムから剥離することが容易となり、樹脂フィルム単体で後加工することができる。また、粘着層を含むことで、基材Bが樹脂フィルムと強く密着し、基材Aを樹脂フィルムから剥離する際に、基材Bと樹脂フィルムの間で剥がれる、いわゆる泣き別れを抑制することができる。 The base material B in step 4 is not particularly limited as long as it has a higher peel strength than the base material A. A multilayer laminate including a release layer and an adhesive layer may also be used. By including the release layer, the substrate B can be easily peeled off from the resin film, and the resin film alone can be post-processed. In addition, by including the adhesive layer, the base material B strongly adheres to the resin film, and when the base material A is peeled off from the resin film, it is possible to suppress so-called separation, that is, peeling between the base material B and the resin film. can.

[樹脂前駆体]
樹脂前駆体は、架橋させることができる部位を有する化合物であれば、特に限定されないが、
化学式9の構造を含む樹脂前駆体が好ましく、化学式12の構造を含む樹脂前駆体がより好ましい。
[Resin precursor]
The resin precursor is not particularly limited as long as it is a compound having a site that can be crosslinked.
A resin precursor containing the structure of Formula 9 is preferred, and a resin precursor containing the structure of Formula 12 is more preferred.

Figure 2022151490000022
Figure 2022151490000022

Figure 2022151490000023
Figure 2022151490000023

およびRは、水素またはメチル基を指す。
、R、およびR10は、以下のいずれかであることが好ましく、nは3以上の整数であることが好ましい。
・置換または無置換のアルキレン基。
・置換または無置換のアリーレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有するアルキレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有するアリーレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有する無置換のアルキレン基。
・内部にエーテル基、エステル基、またはアミド基を有する無置換のアリーレン基。
、Rは、以下のいずれかであることが好ましい。
・置換または無置換のアルキレン基。
・置換または無置換のアリーレン基。
R4 and R7 refer to hydrogen or methyl groups.
R 5 , R 8 and R 10 are preferably any of the following, and n is preferably an integer of 3 or more.
- A substituted or unsubstituted alkylene group.
- A substituted or unsubstituted arylene group.
- An alkylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
- An arylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
- An unsubstituted alkylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
- An unsubstituted arylene group having an ether group, an ester group, or an amide group inside.
R 6 and R 9 are preferably any of the following.
- A substituted or unsubstituted alkylene group.
- A substituted or unsubstituted arylene group.

化学式9および12の構造は、前述のように、図中のXで示される(メタ)アクリル基が末端にあり、この末端にある(メタ)アクリル基(X)が、架橋させることができる部位に相当する。さらに、(メタ)アクリル基(X)は、図中のYで示されるポリイソシアネート残基と隣接している。さらに化学式12のセグメントは、Yで示されるポリイソシアネート残基のもう一端と、化学式12中のZで示されるポリオール残基(Z)が隣接していることを意味している。 As described above, the structures of chemical formulas 9 and 12 have a (meth)acrylic group at the end indicated by X in the figure, and the (meth)acrylic group (X) at the end is a site that can be crosslinked corresponds to Furthermore, the (meth)acrylic group (X) is adjacent to the polyisocyanate residue indicated by Y in the figure. Furthermore, the segment of chemical formula 12 means that the other end of the polyisocyanate residue represented by Y and the polyol residue (Z) represented by Z in chemical formula 12 are adjacent.

化学式9および12のポリイソシアネート残基(Y)は、好ましくは、TDI(トリレンジイソシアネート)、MDI(4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート)、NDI(1,5-ナフタレンジイソシアネート)、TODI(トリジンジイソシアネート)、XDI(キシリレンジイソシアネート)、PPDI(パラフェニレンジイソシアネート)、TMXDI(テトラメチルキシリレンジイソシアネート)、HMDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)、IPDI(イソホロンジイソシアネート)、H6XDI(水添キシリレンジイソシアネート)、H12MDI(ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート)等のポリイソシアネートの残基である。 Polyisocyanate residues (Y) of chemical formulas 9 and 12 are preferably TDI (tolylene diisocyanate), MDI (4,4′-diphenylmethane diisocyanate), NDI (1,5-naphthalene diisocyanate), TODI (tolidine diisocyanate) , XDI (xylylene diisocyanate), PPDI (paraphenylene diisocyanate), TMXDI (tetramethylxylylene diisocyanate), HMDI (hexamethylene diisocyanate), IPDI (isophorone diisocyanate), H6XDI (hydrogenated xylylene diisocyanate), H12MDI (dicyclohexylmethane diisocyanate) and other polyisocyanate residues.

化学式12のポリオール残基は、好ましくは、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、もしくは、前述の化学式5から8のセグメントより選ばれる1つ以上のセグメントを含むポリオールであるである。 The polyol residue of Formula 12 is preferably a polyester polyol, a polyether polyol, a polycarbonate polyol, or a polyol containing one or more segments selected from the segments of Formulas 5 to 8 above.

[塗料組成物]
本発明の積層体の製造方法にて用いられる「塗料組成物」は、基材上に面内均一に塗布でき、本発明の特性を示す樹脂フィルムを形成することができれば特に限定されないが、前述の積層体の製造方法に適した塗料組成物であることが好ましい。具体的には、前述の樹脂前駆体と、後述する溶媒、その他の成分を加えて、塗料組成物とすることが好ましい。
[Paint composition]
The "coating composition" used in the method for producing the laminate of the present invention is not particularly limited as long as it can be applied uniformly on the substrate and can form a resin film exhibiting the characteristics of the present invention. It is preferable that the coating composition is suitable for the manufacturing method of the laminate. Specifically, it is preferable to add the resin precursor described above, a solvent described later, and other components to form a coating composition.

[溶媒]
本発明の積層体の製造方法に用いられる塗料組成物は溶媒を含んでもよく、塗布層を面内に均一に形成するためには、溶媒を含む方が好ましい。溶媒の種類数としては1種類以上20種類以下が好ましく、より好ましくは1種類以上10種類以下、さらに好ましくは1種類以上6種類以下、特に好ましくは1種類以上4種類以下である。ここで「溶媒」とは、前述の乾燥工程にてほぼ全量を蒸発させることが可能な、常温、常圧で液体である物質を指す。
[solvent]
The coating composition used in the method for producing a laminate of the present invention may contain a solvent, and preferably contains a solvent in order to uniformly form a coating layer in the plane. The number of types of solvents is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, still more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 4. As used herein, the term "solvent" refers to a substance that is liquid at normal temperature and normal pressure and that can be almost completely evaporated in the drying process described above.

ここで、溶媒の種類とは溶媒を構成する分子構造によって決まる。すなわち、同一の元素組成で、かつ官能基の種類と数が同一であっても結合関係が異なるもの(構造異性体)、前記構造異性体ではないが、3次元空間内ではどのような配座をとらせてもぴったりとは重ならないもの(立体異性体)は、種類の異なる溶媒として取り扱う。例えば、2-プロパノールと、n-プロパノールは異なる溶媒として取り扱う。 Here, the type of solvent is determined by the molecular structure that constitutes the solvent. That is, even if the elemental composition is the same and the type and number of functional groups are the same, the bonding relationship is different (structural isomers). Those that do not overlap exactly (stereoisomers) are treated as different kinds of solvents. For example, 2-propanol and n-propanol are treated as different solvents.

[塗料組成物中のその他の成分]
本発明の積層体の製造方法に用いられる塗料組成物は,酸化防止剤、重合開始剤、硬化剤や触媒を含むことが好ましい。重合開始剤および触媒は、樹脂フィルムの架橋を促進するために用いられる。重合開始剤としては、塗料組成物に含まれる成分をアニオン、カチオン、ラジカル重合反応等による重合、縮合または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。
[Other components in the coating composition]
The coating composition used in the method for producing a laminate of the present invention preferably contains an antioxidant, a polymerization initiator, a curing agent and a catalyst. Polymerization initiators and catalysts are used to promote cross-linking of the resin film. As the polymerization initiator, those capable of initiating or promoting the polymerization, condensation or crosslinking reaction of components contained in the coating composition by anionic, cationic or radical polymerization reactions are preferred.

酸化防止剤は、その作用機構から、ラジカル連鎖開始防止剤、ラジカル捕捉剤、過酸化物分解剤に大別され、高温条件下での劣化抑制に対してこれらのいずれでも本発明の効果は得られるが、ラジカル捕捉剤、または過酸化物分解剤がより好ましく、ヒンダードフェノール系、セミヒンダードフェノール系のラジカル捕捉剤、またはホスファイト系、チオエーテル系の過酸化物分解剤がより好ましい。 Antioxidants are broadly classified into radical chain initiation inhibitors, radical scavengers, and peroxide decomposers according to their mechanism of action, and the effects of the present invention can be obtained in any of these for suppression of deterioration under high temperature conditions. However, a radical scavenger or a peroxide decomposer is more preferable, and a hindered phenol-based or semi-hindered phenol-based radical scavenger, or a phosphite-based or thioether-based peroxide decomposer is more preferable.

重合開始剤、硬化剤および触媒は種々のものを使用できる。また、重合開始剤、硬化剤および触媒はそれぞれ単独で用いてもよく、複数の重合開始剤、硬化剤および触媒を同時に用いてもよい。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤を併用してもよい。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられる。また、ウレタン結合の形成反応を促進させる架橋触媒の例としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジエチルヘキソエートなどが挙げられる。 Various polymerization initiators, curing agents and catalysts can be used. The polymerization initiator, curing agent and catalyst may be used singly, or multiple polymerization initiators, curing agents and catalysts may be used simultaneously. Furthermore, an acidic catalyst or a thermal polymerization initiator may be used in combination. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid, and the like. Examples of thermal polymerization initiators include peroxides and azo compounds. Examples of photopolymerization initiators include alkylphenone-based compounds, sulfur-containing compounds, acylphosphine oxide-based compounds, and amine-based compounds. Examples of cross-linking catalysts that promote the formation reaction of urethane bonds include dibutyltin dilaurate and dibutyltin diethylhexoate.

光重合開始剤としては、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物、または、アシルフォスフィンオキサイド系化合物を使用することが好ましい。さらに、耐湿熱性の点から、ヒドロキシエトキシ基を導入したアルキルフェノン系化合物を使用することがより好ましい。アルキルフェノン形化合物の具体例としては、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-フェニル)-1-ブタン、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-(4-フェニル)-1-ブタン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-1-ブタン、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルフォリニル)フェニル]-1-ブタン、1-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-エトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、ビス(2-フェニル-2-オキソ酢酸)オキシビスエチレン、およびこれらの材料を高分子量化したものなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系化合物の具体例としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルージフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、およびこれらの材料を高分子量化したものが挙げられる。これらを単独で使用しても良く、2種以上を併用してもよい。 As the photopolymerization initiator, it is preferable to use an alkylphenone-based compound or an acylphosphine oxide-based compound from the viewpoint of curability. Furthermore, from the viewpoint of heat and humidity resistance, it is more preferable to use an alkylphenone-based compound into which a hydroxyethoxy group is introduced. Specific examples of alkylphenone-type compounds include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)- 2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-phenyl)-1-butane, 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]- 1-(4-phenyl)-1-butane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butane, 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl ) methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butane, 1-cyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-ethoxy )-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, bis(2-phenyl-2-oxoacetic acid)oxybisethylene, and high molecular weight products of these materials. . Specific examples of acylphosphine oxide-based compounds include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, and polymerizing these materials. The following are listed. These may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、樹脂フィルムを形成するために用いる塗料組成物にレベリング剤、滑剤、帯電防止剤等を加えてもよい。これにより、樹脂フィルムはレベリング剤、滑剤、帯電防止剤等を含有することができる。 In addition, a leveling agent, a lubricant, an antistatic agent, etc. may be added to the coating composition used for forming the resin film as long as the effects of the present invention are not impaired. This allows the resin film to contain leveling agents, lubricants, antistatic agents, and the like.

レベリング剤の例としては、アクリル共重合体またはシリコーン系、フッ素系のレベリング剤が挙げられる。帯電防止剤の例としてはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、セシウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩が挙げられる。 Examples of leveling agents include acrylic copolymers, silicone-based leveling agents, and fluorine-based leveling agents. Examples of antistatic agents include metal salts such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium and calcium salts.

[用途例]
本発明の樹脂フィルムは、光学特性、柔軟性、伸縮性、搬送性、外観品位に優れるといった利点を活かし、特に高い柔軟性や伸縮性が求められる用途に好適に用いることができる。
[Example of use]
INDUSTRIAL APPLICABILITY The resin film of the present invention can be suitably used for applications requiring particularly high flexibility and stretchability, taking advantage of its excellent optical properties, flexibility, stretchability, transportability, and appearance quality.

一例を挙げると、メガネ・サングラス、化粧箱、食品容器などのプラスチック成形品、水槽、展示用などのショーケース、スマートフォンの筐体、タッチパネル、カラーフィルター、フラットパネルディスプレイ、フレキシブルディスプレイ、フレキシブルデバイス、ウェアラブルデバイス、センサー、回路用材料、電気電子用途、キーボード、テレビ・エアコンのリモコンなどの家電製品、ミラー、窓ガラス、建築物、ダッシュボード、カーナビ・タッチパネル、ルームミラーやウインドウなどの車両部品、および種々の印刷物、医療用フィルム、衛生材料用フィルム、医療用フィルム、農業用フィルム、建材用フィルム等、それぞれの表面材料や内部材料や構成材料や製造工程用材料に好適に用いることができる。これら材料は本発明の樹脂フィルムを用いることで、その品位を優れたものとすることができる。また、本発明の樹脂フィルムは印刷版離れ性と、印刷層との密着性に優れることから、エレクトニクスデバイス回路基板用途に特に好ましく用いることができる。 Examples include glasses/sunglasses, cosmetic boxes, plastic molded products such as food containers, aquariums, showcases for exhibitions, etc., smartphone housings, touch panels, color filters, flat panel displays, flexible displays, flexible devices, and wearables. Devices, sensors, circuit materials, electrical and electronic applications, home appliances such as keyboards, TV/air conditioner remote controls, mirrors, window glass, buildings, dashboards, car navigation/touch panels, vehicle parts such as rearview mirrors and windows, etc. printed matter, medical film, sanitary material film, medical film, agricultural film, building material film, etc., can be suitably used for each surface material, internal material, constituent material, and manufacturing process material. The quality of these materials can be improved by using the resin film of the present invention. Moreover, since the resin film of the present invention is excellent in printing plate releasability and adhesion to the printing layer, it can be particularly preferably used for electronic device circuit board applications.

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Next, the present invention will be described based on Examples, but the present invention is not necessarily limited to these.

「樹脂前駆体の合成」
樹脂前駆体の合成において、使用する原材料は以下の通りである。
"Synthesis of Resin Precursor"
Raw materials used in the synthesis of the resin precursor are as follows.

「ジイソシアネート」
・IPDI:イソホロンジイソシアネート
・HMDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
・MDI:4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート
「ポリオール」
・PBAA: ポリブチレンアジペート 東ソー株式会社製 “ニッポラン”(登録商標)3027(重量平均分子量2500)
・PTMG:ポリテトラメチレングリコール 三菱ケミカル株式会社製 PTMG2000(重量平均分子量2000)
・PEAA:ポリエチレングリコールアジペート 東ソー株式会社製 “ニッポラン”(登録商標)4040(重量平均分子量2000)
・MPDAA:ポリ(3-メチルペンタンジオールアジペート) クラレ株式会社製 “クラレポリオール”(登録商標)P-2010(重量平均分子量 2000)
・PB:両末端水酸基導入ポリブタジエン 日本曹達株式会社製 G-3000(重量平均分子量 3000)
・HPB:両末端水酸基導入水添ポリブタジエン 日本曹達株式会社製 GI-3000(重量平均分子量 3100)
「ヒドロキシアクリレート」
・HEA:ヒドロキシエチルアクリレート
[樹脂前駆体1]
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、ジイソシアネートとしてIPDI、ポリオールとしてPBAA、およびトルエンを入れた。このとき、ジイソシアネートとポリオールのモル比が0.43:0.29となるようにし、固形分濃度が60質量%になるようにした。90℃で反応させ、未反応時における残存イソシアネート基を100質量%としたとき、反応により残存イソシアネート基が1.4質量%となった時点で温度を70℃に下げ、ヒドロキシアクリレートとしてHEAを加えた。このとき、未反応時におけるジイソシアネートとポリオールとヒドロキシアクリレートのモル比が0.43:0.29:0.29となるようにした。未反応時における残存イソシアネート基を100質量%としたとき、反応により残存イソシアネート基が0.3質量%となった時点で加熱を止めて反応を終了し、トルエンを追加して固形分濃度を60質量%に調整して、樹脂前駆体1のトルエン溶液を得た。
"Diisocyanate"
・IPDI: isophorone diisocyanate ・HMDI: hexamethylene diisocyanate ・MDI: 4,4′-diphenylmethane diisocyanate “Polyol”
・ PBAA: Polybutylene adipate manufactured by Tosoh Corporation “Nipporan” (registered trademark) 3027 (weight average molecular weight 2500)
· PTMG: Polytetramethylene glycol PTMG2000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (weight average molecular weight 2000)
・ PEAA: Polyethylene glycol adipate Tosoh Corporation “Nipporan” (registered trademark) 4040 (weight average molecular weight 2000)
・ MPDAA: Poly (3-methylpentanediol adipate) Kuraray Co., Ltd. “Kuraray Polyol” (registered trademark) P-2010 (weight average molecular weight 2000)
・ PB: polybutadiene with hydroxyl groups introduced at both ends Nippon Soda Co., Ltd. G-3000 (weight average molecular weight 3000)
・ HPB: hydrogenated polybutadiene with hydroxyl groups introduced at both ends Nippon Soda Co., Ltd. GI-3000 (weight average molecular weight 3100)
"hydroxy acrylate"
- HEA: hydroxyethyl acrylate [resin precursor 1]
IPDI as a diisocyanate, PBAA as a polyol, and toluene were placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a water-cooled condenser, and a nitrogen gas inlet. At this time, the molar ratio of diisocyanate and polyol was adjusted to 0.43:0.29, and the solid content concentration was adjusted to 60% by mass. When the reaction is carried out at 90° C. and the residual isocyanate group is 100% by mass when unreacted, the temperature is lowered to 70° C. when the residual isocyanate group becomes 1.4% by mass by the reaction, and HEA is added as a hydroxyacrylate. rice field. At this time, the molar ratio of the unreacted diisocyanate, polyol and hydroxyacrylate was adjusted to 0.43:0.29:0.29. Assuming that the residual isocyanate group in the unreacted state is 100% by mass, when the residual isocyanate group reaches 0.3% by mass by the reaction, the heating is stopped to terminate the reaction, and toluene is added to adjust the solid content concentration to 60%. A toluene solution of Resin Precursor 1 was obtained by adjusting the content to % by mass.

[樹脂前駆体2~12]
ジイソシアネート、ポリオールの組み合わせとモル比を表1に記載の組み合わせに変えた以外は前記樹脂前駆体1と同様にして、樹脂前駆体2~12のトルエン溶液を得た。
[Resin precursors 2 to 12]
Toluene solutions of Resin Precursors 2 to 12 were obtained in the same manner as in Resin Precursor 1 except that the combination and molar ratio of diisocyanate and polyol were changed to those shown in Table 1.

Figure 2022151490000024
Figure 2022151490000024

[光重合開始剤]
下記の材料を光重合開始剤として使用した。
光重合開始剤1 “IRGACURE”(登録商標)184(BASFジャパン株式会社製)
[レベリング剤]
下記の材料をレベリング剤1~3として使用した。
レベリング剤1 FT-650AC(株式会社ネオス製):フッ素系
レベリング剤2 “BYK”(登録商標)-394(ビックケミージャパン株式会社製):アクリル系
レベリング剤3 “BYK”(登録商標)-UV-3500(ビックケミージャパン株式会社製):シリコーン系
[塗料組成物1~13の調合]
樹脂前駆体、光重合開始剤、レベリング剤の各固形分が表2に記載の比率となるよう混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し、固形分濃度40質量%の樹脂フィルム形成用塗料組成物1~13を得た。
[Photoinitiator]
The following materials were used as photoinitiators.
Photopolymerization initiator 1 "IRGACURE" (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
[Leveling agent]
The following materials were used as leveling agents 1-3.
Leveling agent 1 FT-650AC (manufactured by Neos Co., Ltd.): fluorine-based leveling agent 2 “BYK” (registered trademark)-394 (manufactured by BYK Chemie Japan Co., Ltd.): acrylic leveling agent 3 “BYK” (registered trademark)-UV -3500 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.): Silicone [Preparation of coating compositions 1 to 13]
Resin precursor, photopolymerization initiator, and leveling agent were mixed so that each solid content was in the ratio shown in Table 2, diluted with methyl ethyl ketone, and resin film-forming coating composition 1 having a solid content concentration of 40% by mass. ~13 was obtained.

Figure 2022151490000025
Figure 2022151490000025

[塗料組成物14の調合]
側鎖にメタクリル基がついた、2官能メタクリル変性ポリイソプレン(株式会社クラレ社製“クラプレン”(登録商標)UC-102AM、重量平均分子量17,000)をトルエンで希釈し、固形分濃度60質量%の樹脂前駆体14のトルエン溶液を得た。
[Preparation of coating composition 14]
A bifunctional methacrylic-modified polyisoprene ("Kuraprene" (registered trademark) UC-102AM, weight average molecular weight 17,000, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having methacrylic groups attached to side chains was diluted with toluene to obtain a solid content concentration of 60 mass. % of resin precursor 14 in toluene was obtained.

[塗料組成物15の調合]
アルゴンガス置換した、冷却管および攪拌翼を有する300mLセパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)、カリウムシリコネート0.1gを入れ、昇温し、120℃で30分間攪拌した。その後、155℃まで昇温し、3時間攪拌を続けた。そして、3時間後、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)を添加し、さらに、155℃で4時間攪拌した。
[Preparation of coating composition 15]
74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane and 0.1 g of potassium siliconate were placed in a 300 mL separable flask equipped with a cooling tube and a stirring blade, which was replaced with argon gas, and the temperature was raised and stirred at 120° C. for 30 minutes. . After that, the temperature was raised to 155° C. and stirring was continued for 3 hours. After 3 hours, 0.1 g (0.6 mmol) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was added, and the mixture was further stirred at 155° C. for 4 hours.

さらに、4時間後、トルエン250mLで希釈した後、水で3回洗浄した。洗浄後の有機層をメタノール1.5Lで数回洗浄することで、再沈精製し、オリゴマーとポリマーを分離した。得られたポリマーを60℃で一晩減圧乾燥し、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA1を得た。 Furthermore, after 4 hours, it was diluted with 250 mL of toluene and then washed with water three times. The washed organic layer was washed several times with 1.5 L of methanol for reprecipitation purification to separate the oligomer and polymer. The obtained polymer was dried under reduced pressure at 60° C. overnight to obtain vinyl group-containing linear organopolysiloxane A1.

上記ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA1の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)に加えて2,4,6,8-テトラメチル2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン0.86g(2.5mmol)を用いたこと以外は、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA1の合成工程と同様にすることで、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA2を合成した。 In the step of synthesizing vinyl group-containing linear organopolysiloxane A1, 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane and 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinyl Vinyl group-containing linear organopolysiloxane A2 was synthesized in the same manner as the synthesis process for vinyl group-containing linear organopolysiloxane A1, except that 0.86 g (2.5 mmol) of cyclotetrasiloxane was used. did.

以下の材料をあらかじめ混練し、シリコーンゴムコンパウンド1を得た。
・ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA1 : 72質量部。
・ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA2 : 18質量部。
・ヘキサメチルジシラザン SIH6110.1 (Gelest社製) : 10質量部。
・ジビニルテトラメチルジシラザンSID4612.0 (Gelest社製) : 0.5質量部。
・脱イオン水 : 5.25質量部。
A silicone rubber compound 1 was obtained by kneading the following materials in advance.
- Vinyl group-containing linear organopolysiloxane A1: 72 parts by mass.
- Vinyl group-containing linear organopolysiloxane A2: 18 parts by mass.
- Hexamethyldisilazane SIH6110.1 (manufactured by Gelest): 10 parts by mass.
- Divinyltetramethyldisilazane SID4612.0 (manufactured by Gelest): 0.5 parts by mass.
- Deionized water: 5.25 parts by mass.

その後、シリコーンゴムコンパウンド1 100質量部にシリカ粒子“AEROSIL”(登録商標)300 (日本アエロジル株式会社製) 25質量部を加えて、カップリング反応のために窒素雰囲気下、60~90℃の条件下で1時間混練する第1ステップと、副生成物(アンモニア)の除去のために減圧雰囲気下、160~180℃の条件下で2時間混練する第2ステップとを経て、次いで、冷却し、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA1を8質量部と、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンA2を2質量部添加し、20分間混練し、シリコーンゴムコンパウンド2を得た。 Then, 25 parts by mass of silica particles "AEROSIL" (registered trademark) 300 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was added to 100 parts by mass of silicone rubber compound 1, and the temperature was set to 60 to 90°C under a nitrogen atmosphere for the coupling reaction. After a first step of kneading for 1 hour at a low temperature and a second step of kneading for 2 hours at 160 to 180 ° C. under a reduced pressure atmosphere to remove a by-product (ammonia), then cooling, 8 parts by mass of vinyl group-containing linear organopolysiloxane A1 and 2 parts by mass of vinyl group-containing linear organopolysiloxane A2 were added and kneaded for 20 minutes to obtain silicone rubber compound 2.

続いて、以下の材料とトルエンを用いて希釈し、固形分濃度30質量%の樹脂フィルム形成用塗料組成物15を得た。
・シリコーンゴムコンパウンド2 : 100質量部。
・オルガノハイドロジェンポリシロキサン 88466 (モメンティブ社製) : 0.35質量部。
・白金触媒SIP6831.2 (Gelest社製) : 0.05質量部。
・反応阻害剤(1-エチニル-1-シクロヘキサノール) : 0.1質量部。
Subsequently, the material was diluted with the following materials and toluene to obtain a resin film-forming coating composition 15 having a solid content concentration of 30% by mass.
- Silicone rubber compound 2: 100 parts by mass.
- Organohydrogenpolysiloxane 88466 (manufactured by Momentive): 0.35 parts by mass.
- Platinum catalyst SIP6831.2 (manufactured by Gelest): 0.05 parts by mass.
- Reaction inhibitor (1-ethynyl-1-cyclohexanol): 0.1 part by mass.

[粒子層用塗料組成物]
アクリルバインダー(DIC(株)製の「“アクリディック”(登録商標)A-187」)を固形分換算で47質量部、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業(株)の「“コロネート”(登録商標)HL」)を固形分換算で23質量部、ビーズ(富士シリシア化学(株)のシリカ粒子「“サイリシア”(登録商標)740」平均粒子径5μm)を固形分換算で30質量部、酢酸エチルに溶解または分散して調製した。
[Paint composition for particle layer]
47 parts by mass of an acrylic binder ("Acrydic" (registered trademark) A-187" manufactured by DIC Corporation) in terms of solid content, and an isocyanate-based cross-linking agent ("Coronate" (registered trademark) manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. 23 parts by mass of solid content conversion of beads (Fuji Silysia Chemical Co., Ltd. silica particles “Sylysia” (registered trademark) 740, average particle size 5 μm) of 30 mass parts of solid content conversion, acetic acid Prepared by dissolving or dispersing in ethyl.

[原反フィルム]
下記の材料を原反フィルム1~8として使用した。
原反フィルム1 二軸延伸PETフィルム 厚み50μm Ra80nm。
原反フィルム2 二軸延伸PETフィルム 厚み50μm Ra220nm。
原反フィルム3 二軸延伸PETフィルム 厚み50μm Ra420nm。
原反フィルム4 “ルミラー”(登録商標) T60 50μm(東レ株式会社製)に対し、Raが410nmとなるように、サンドブラスト処理を実施したもの。
原反フィルム5 “ルミラー”(登録商標) T60 50μm(東レ株式会社製)に対し、Raが550nmとなるように、サンドブラスト処理を実施したもの。
原反フィルム6 “ルミラー”(登録商標) T60 50μm(東レ株式会社製)に対し、Raが750nmとなるように、サンドブラスト処理を実施したもの。
原反フィルム7 “ルミラー”(登録商標) T60 50μm(東レ株式会社製)に対し、以下記載する塗料1を乾燥後厚みが5μmとなるよう塗布した後に、100℃で30秒乾燥させたもの。
原反フィルム8 “ルミラー”(登録商標) T60 50μm(東レ株式会社製)に対し、以下記載する塗料2を乾燥後厚みが5μmとなるよう塗布した後に、100℃で30秒乾燥させたもの。
[Original film]
The following materials were used as raw films 1 to 8.
Original film 1 Biaxially stretched PET film thickness 50 μm Ra 80 nm.
Raw film 2 Biaxially stretched PET film thickness 50 μm Ra 220 nm.
Raw film 3 Biaxially stretched PET film thickness 50 μm Ra 420 nm.
Original film 4 “Lumirror” (registered trademark) T60 50 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.) was sandblasted so that Ra was 410 nm.
Raw film 5 "Lumirror" (registered trademark) T60 50 µm (manufactured by Toray Industries, Inc.) was sandblasted so that Ra was 550 nm.
Raw film 6 “Lumirror” (registered trademark) T60 50 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.) was sandblasted so that Ra was 750 nm.
Original fabric film 7 “Lumirror” (registered trademark) T60 50 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.) was coated with paint 1 described below so that the thickness after drying was 5 μm, and then dried at 100° C. for 30 seconds.
Raw film 8 “Lumirror” (registered trademark) T60 50 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.) was coated with paint 2 described below so that the thickness after drying was 5 μm, and then dried at 100° C. for 30 seconds.

<塗料1>
アクリルバインダー(DIC(株)製の「“アクリディック”(登録商標)A-187」)を固形分換算で53質量部、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業(株)の「“コロネート”(登録商標)HL」)を固形分換算で27質量部、ビーズ(富士シリシア化学(株)のシリカ粒子「“サイリシア”(登録商標)740」平均粒子径5μm)を固形分換算で20質量部、酢酸エチルに溶解または分散して調製したもの。
<Paint 1>
53 parts by mass of an acrylic binder ("Acrydic" (registered trademark) A-187" manufactured by DIC Corporation) in terms of solid content, an isocyanate cross-linking agent ("Coronate" (registered trademark) manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. 27 parts by mass of solid content conversion of beads (Fuji Silysia Chemical Co., Ltd. silica particles ““Sylysia” (registered trademark) 740” average particle size 5 μm) of 20 mass parts of solid content conversion, acetic acid Prepared by dissolving or dispersing in ethyl.

<塗料2>
アクリルバインダー(DIC(株)製の「“アクリディック”(登録商標)A-187」)を固形分換算で40質量部、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業(株)の「“コロネート”(登録商標)HL」)を固形分換算で20質量部、ビーズ(富士シリシア化学(株)のシリカ粒子「“サイリシア”(登録商標)740」平均粒子径5μm)を固形分換算で40質量部、酢酸エチルに溶解または分散して調製したもの。
<Paint 2>
40 parts by mass of an acrylic binder ("Acrydic" (registered trademark) A-187" manufactured by DIC Corporation) in terms of solid content, an isocyanate cross-linking agent ("Coronate" (registered trademark) manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. 20 parts by mass of solid content conversion of beads (Fuji Silysia Chemical Co., Ltd. silica particles “Sylysia” (registered trademark) 740, average particle size 5 μm) of 40 mass parts of solid content conversion, acetic acid Prepared by dissolving or dispersing in ethyl.

[離型層用塗料組成物]
下記材料を混合し、メチルエチルケトン/イソプロピルアルコール混合溶媒(質量混合比50/50)を用いて希釈し、固形分濃度5質量%の離型層用塗料組成物を得た。
・側鎖型カルビノール変性反応型シリコーンオイル
(X-22-4015信越化学工業(株) 固形分濃度:100質量%):5質量部
・両末端型ポリエーテル変性反応型シリコーンオイル
(X-22-4952信越化学工業(株) 固形分濃度:100質量%):5質量部
・アクリル変性アルキド樹脂溶液
(ハリフタール KV-905 ハリマ化成株式会社 固形分濃度 53質量%):100質量部
・イソブチルアルコール変性メラミン樹脂溶液
(“メラン”(登録商標)2650L 日立化成株式会社 固形分濃度 60質量%):20質量部
・パラトルエンスルホン酸:5質量部。
[積層体、樹脂フィルムの製造方法]
[離型層付き基材の形成]
小径グラビアコーターを有する塗布装置を用い、原反フィルムに、離型層用塗料組成物を乾燥後の離型層厚みが、約200nmになるように、グラビアロールの線数、グラビアロールの周速、離型層用塗料組成物固形分濃度を調整して塗布し、次いで熱風温度140℃にて30秒保持することで、乾燥と架橋を行い、離型層付き基材1~8を得た。なお、使用した原反フィルム種は、表3の通りである。
[Release layer coating composition]
The following materials were mixed and diluted with a mixed solvent of methyl ethyl ketone/isopropyl alcohol (mixing ratio by mass: 50/50) to obtain a release layer coating composition having a solid concentration of 5% by mass.
・Side chain type carbinol-modified reactive silicone oil (X-22-4015 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Solid content concentration: 100% by mass): 5 parts by mass ・Both end-type polyether-modified reactive silicone oil (X-22 -4952 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Solid content concentration: 100% by mass): 5 parts by mass Acryl-modified alkyd resin solution (Haliftal KV-905 Harima Chemicals Co., Ltd. Solid content concentration 53% by mass): 100 parts by mass Isobutyl alcohol modification Melamine resin solution (“Melan” (registered trademark) 2650L, Hitachi Chemical Co., Ltd., solid content concentration 60% by mass): 20 parts by mass Para-toluenesulfonic acid: 5 parts by mass.
[Method for producing laminate and resin film]
[Formation of substrate with release layer]
Using a coating device having a small diameter gravure coater, the number of lines of the gravure roll and the peripheral speed of the gravure roll are adjusted so that the thickness of the release layer after drying the release layer coating composition on the raw film is about 200 nm. , The coating composition for the release layer was applied by adjusting the solid content concentration, and then held at a hot air temperature of 140 ° C. for 30 seconds to perform drying and cross-linking, to obtain substrates 1 to 8 with a release layer. . The raw film types used are as shown in Table 3.

Figure 2022151490000026
Figure 2022151490000026

[積層体の形成方法]
<実施例1~9、11~32、比較例1~8>
以下の方法により積層体および樹脂フィルムを作成した。
[Method of Forming Laminate]
<Examples 1 to 9, 11 to 32, Comparative Examples 1 to 8>
A laminate and a resin film were produced by the following method.

(工程1)
基材Aとして、前述の離型層付き基材を使用し、スロットダイコーターによる連続塗布装置を用い、前述の樹脂フィルム形成用塗料組成物を、離型層付き基材の離型層上に、架橋後の樹脂フィルムの厚みが50μmになるように、吐出流量を調整して塗布し、塗布層を形成した。
(Step 1)
As the substrate A, the above-mentioned substrate with a release layer is used, and the above-mentioned coating composition for forming a resin film is applied on the release layer of the substrate with a release layer using a continuous coating device using a slot die coater. A coating layer was formed by adjusting the discharge flow rate and coating so that the thickness of the resin film after cross-linking was 50 μm.

(工程2)
工程1にて形成した塗布層を、下記の条件で乾燥させて、溶媒を除去した。
(Step 2)
The coating layer formed in step 1 was dried under the following conditions to remove the solvent.

送風温度:50℃
風速;塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向:;塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間:2分間。
Air temperature: 50°C
Wind speed; Coated surface side: 5 m/sec, Anti-coated surface side: 5 m/sec Wind direction: Coated surface side: parallel to the substrate surface, anti-coated surface side: vertical to the substrate surface Residence time: 2 minutes.

(工程3)
工程2にて、溶媒を除去して得られた塗布層(未架橋の樹脂フィルム)に、下記の条件で活性エネルギー線を照射して架橋させ、基材A、離型層および樹脂フィルムからなる積層体を得た。
(Step 3)
In step 2, the coating layer (uncrosslinked resin film) obtained by removing the solvent is irradiated with active energy rays under the following conditions to be crosslinked, and the base material A, the release layer and the resin film are formed. A laminate was obtained.

照射光源:高圧水銀灯
照射出力:400W/cm
積算光量:120mJ/cm
酸素濃度:0.1体積%。
Irradiation light source: high pressure mercury lamp Irradiation output: 400 W/cm 2
Accumulated amount of light: 120 mJ/cm 2
Oxygen concentration: 0.1% by volume.

(工程4)
工程3にて得られた塗布層の基材A反対面に、基材Bとして原反フィルム1をロールtoロールで貼合させた。次いで、基材Aを剥離させて、基材B、樹脂フィルムからなる積層体を得た。
(Step 4)
On the surface of the coating layer obtained in step 3 opposite to the substrate A, the raw film 1 as the substrate B was laminated by roll-to-roll. Subsequently, the base material A was peeled off to obtain a laminate composed of the base material B and the resin film.

<実施例10>
以下の方法により積層体および樹脂フィルムを作成した。
<Example 10>
A laminate and a resin film were produced by the following method.

(工程1)
基材Aとして、前述の離型層付き基材1を使用し、スロットダイコーターによる連続塗布装置を用い、塗料組成物2を、離型層付き基材の離型層上に、架橋後の樹脂フィルムの厚みが50μmになるように、吐出流量を調整して塗布し、塗布層を形成した。
(Step 1)
As the substrate A, the above-described substrate 1 with a release layer is used, and a continuous coating device with a slot die coater is used to apply the coating composition 2 onto the release layer of the substrate with a release layer, after crosslinking. A coating layer was formed by adjusting the discharge flow rate and coating so that the resin film had a thickness of 50 μm.

(工程2)
工程1にて形成した塗布層を、下記の条件で乾燥させて、溶媒を除去した。
(Step 2)
The coating layer formed in step 1 was dried under the following conditions to remove the solvent.

送風温度:50℃
風速;塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向;塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間:2分間。
Air temperature: 50°C
Wind speed; coated surface side: 5 m/sec, non-coated surface side: 5 m/sec Wind direction; coated surface side: parallel to the surface of the substrate, non-coated surface side: vertical to the surface of the substrate Dwell time: 2 minutes.

(工程3)
工程2にて、溶媒を除去して得られた塗布層(未架橋の樹脂フィルム)に、下記の条件で活性エネルギー線を照射して架橋させ、基材A、離型層および樹脂フィルムからなる積層体を得た。
(Step 3)
In step 2, the coating layer (uncrosslinked resin film) obtained by removing the solvent is irradiated with active energy rays under the following conditions to be crosslinked, and the base material A, the release layer and the resin film are formed. A laminate was obtained.

照射光源:高圧水銀灯
照射出力:400W/cm
積算光量:120mJ/cm
酸素濃度:0.1体積%。
Irradiation light source: high pressure mercury lamp Irradiation output: 400 W/cm 2
Accumulated amount of light: 120 mJ/cm 2
Oxygen concentration: 0.1% by volume.

(工程4)
積層体の樹脂層側の面に、スロットダイコーターによる連続塗布装置を用い、前述の粒子層用塗料組成物を、乾燥後の膜厚が2μmとなるように、吐出流量を調整して塗布し、粒子層を形成した。
(Step 4)
Using a continuous coating device using a slot die coater, the coating composition for particle layer described above was applied to the surface of the laminate on the resin layer side by adjusting the discharge flow rate so that the film thickness after drying was 2 μm. , formed a particle layer.

(工程5)
工程1にて形成した塗布層を、下記の条件で乾燥させて、溶媒を除去し、基材A、樹脂フィルム、粒子層からなる積層体を得た。
(Step 5)
The coating layer formed in step 1 was dried under the following conditions to remove the solvent and obtain a laminate comprising the substrate A, the resin film, and the particle layer.

送風温度:100℃
風速;塗布面側:5m/秒、反塗布面側:5m/秒
風向;塗布面側:基材の面に対して平行、反塗布面側:基材の面に対して垂直
滞留時間:30秒間。
Air temperature: 100°C
Wind speed; coated surface side: 5 m/sec, anti-coated surface side: 5 m/sec Wind direction; coated surface side: parallel to the substrate surface, anti-coated surface side: vertical to the substrate surface Dwell time: 30 seconds.

以上の方法により実施例1~32、比較例1~8の積層体および樹脂フィルムを作成した。各実施例、比較例に対応する樹脂フィルム形成用塗料組成物、離型層付き基材、粒子層は、表4に記載した。 Laminates and resin films of Examples 1 to 32 and Comparative Examples 1 to 8 were prepared by the above method. The resin film-forming coating compositions, release layer-attached substrates, and particle layers corresponding to each example and comparative example are shown in Table 4.

Figure 2022151490000027
Figure 2022151490000027

[樹脂フィルムの評価]
樹脂フィルムについて、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表に示す。
[Evaluation of Resin Film]
The resin films were subjected to the following performance evaluations, and the obtained results are shown in the table.

積層体から基材を剥離して樹脂フィルムの測定サンプルを得た。特に断らない場合を除き、測定は各実施例・比較例において1つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。 A measurement sample of the resin film was obtained by peeling the substrate from the laminate. Unless otherwise specified, the measurement was performed three times for each sample in each example and comparative example at different locations, and the average value was used.

[樹脂フィルムの貯蔵弾性率、損失正接の測定]
測定サンプルを10mm幅の矩形に切り出し試験片とした。
[Measurement of storage modulus and loss tangent of resin film]
A measurement sample was cut into a rectangle with a width of 10 mm and used as a test piece.

JIS K7244-4(1999)の引張振動-非共振法に基づき(これを動的粘弾性法とする)、セイコーインスツルメンツ株式会社製の動的粘弾性測定装置DMS6100を用いて樹脂フィルムの温度25℃周波数1Hz条件における貯蔵弾性率、損失正接を求めた。
測定モード:引張
チャック間距離:20mm
試験片の幅:10mm
周波数:1Hz
歪振幅:10μm
最小張力:20mN
力振幅初期値:40mN
測定温度:-100℃から200℃まで
昇温速度:5℃/分。
Based on the tensile vibration-nonresonance method of JIS K7244-4 (1999) (this is referred to as a dynamic viscoelasticity method), the temperature of the resin film is 25 ° C. using a dynamic viscoelasticity measuring device DMS6100 manufactured by Seiko Instruments Inc. The storage elastic modulus and loss tangent at a frequency of 1 Hz were determined.
Measurement mode: Distance between tensile chucks: 20mm
Width of test piece: 10 mm
Frequency: 1Hz
Strain amplitude: 10 μm
Minimum tension: 20mN
Force amplitude initial value: 40mN
Measurement temperature: from -100°C to 200°C Heating rate: 5°C/min.

[静的接触角の測定]
静的接触角の測定は、試料を事前に25℃の環境下で、12時間放置後に実施した。協和界面科学株式会社製のDrop Master DM-501を使用し、液滴の作成は、ニードルを這い上がらない範囲で、できるだけ小さい液滴を作成できる条件を選択した。静的接触角は樹脂フィルム表面に着滴してから5秒後に撮影した画像を使用し、θ/2法を用いて、静的接触角を算出した。
[Static contact angle measurement]
The static contact angle was measured after the sample was left in an environment of 25°C for 12 hours in advance. Drop Master DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used, and droplets were prepared under conditions that would allow droplets to be as small as possible without crawling up the needle. The static contact angle was calculated using the θ/2 method using an image taken 5 seconds after the droplet was applied on the resin film surface.

[樹脂フィルム表面および基材の平坦部比率の算出]
樹脂フィルム表面および基材の平坦部比率は、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm分の線粗さデータを取得した。得られた線粗さデータのXYキャリブレーション値(1ピクセル毎のXY方向の距離)から、1μm当たりのピクセル数を計算した。実断面プロファイル(1ピクセル毎のZ方向の高さ)において、1μm当たりのZ方向の高低差(a)となるように、実断面プロファイルの差分を取得した。これらの操作を3回行い、得られたデータ3回分からヒストグラムを取り、100nm以下の頻度を算出した。
[Calculation of flat part ratio of resin film surface and base material]
The flat portion ratio of the resin film surface and the base material is observed using a laser microscope (Keyence VK9700) with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm. , line roughness data for 100 μm was acquired at an arbitrary point on the observed surface. The number of pixels per 1 μm was calculated from the XY calibration values (the distance in the XY direction for each pixel) of the obtained line roughness data. In the real cross-sectional profile (the height in the Z direction for each pixel), the difference in the real cross-sectional profile was obtained so that the height difference (a) in the Z direction per 1 μm. These operations were performed three times, and a histogram was taken from the data obtained three times, and the frequency of 100 nm or less was calculated.

[樹脂フィルムの1mm角あたりの表面積の算出]
樹脂フィルムの1mm角あたりの表面積は、具体的には上述の表面の平坦部比率と同様に、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm分の線粗さデータを取得した。得られた線粗さデータのXYキャリブレーション値(1ピクセル毎のXY方向の距離)から、1μm当たりのピクセル数を計算した。実断面プロファイル(1ピクセル毎のZ方向の高さ)において、1μm当たりのZ方向の高低差(a)となるように、実断面プロファイルの差分を取得した。続いて、1μm毎の表面長さ(L=(1+a)1/2)を算出し、実断面プロファイルデータで総和を取った上で、1mm毎の表面長さ(L)となるように規格化した。この値を2乗することで、1mm角あたりの表面積(S=(L)とした。
[Calculation of surface area per 1 mm square of resin film]
Specifically, the surface area per 1 mm square of the resin film was measured using a laser microscope (VK9700 manufactured by Keyence Corporation) with a 50-fold objective lens, a light amount of 100%, and a Z measurement pitch of 0.5, similarly to the above-mentioned surface flat portion ratio. Observation was performed at 02 μm, and line roughness data for 100 μm was acquired at an arbitrary point on the observed surface on analysis software (VK viewer). The number of pixels per 1 μm was calculated from the XY calibration values (the distance in the XY direction for each pixel) of the obtained line roughness data. In the real cross-sectional profile (the height in the Z direction for each pixel), the difference in the real cross-sectional profile was obtained so that the height difference (a) in the Z direction per 1 μm. Subsequently, the surface length (L 1 = (1+a) 1/2 ) is calculated for each 1 μm, and after summing the actual cross-sectional profile data, the surface length (L 2 ) is calculated for each 1 mm. standardized. By squaring this value, the surface area per 1 mm square (S=(L 2 ) 2 ) was obtained.

[樹脂フィルムのRa、Rq、Rzの算出]
樹脂フィルムのRa、Rq、およびRzは、具体的にはレーザー顕微鏡(キーエンス製VK9700)を用い、50倍の対物レンズ、光量100%、Z測定ピッチ0.02μmで観察を行い、解析ソフト(VK viewer)上で観察表面の任意の箇所で100μm×100μmぶんの面粗さデータを取得した。これらの操作を3回行い、各データのRa、Rq、Rzの値を平均したものを樹脂フィルムのRa、Rq、Rzとした。
[Calculation of Ra, Rq, and Rz of Resin Film]
Specifically, Ra, Rq, and Rz of the resin film are observed using a laser microscope (Keyence VK9700) with a 50x objective lens, a light intensity of 100%, and a Z measurement pitch of 0.02 μm. A surface roughness data of 100 μm×100 μm was acquired at an arbitrary point on the observation surface on the viewer). These operations were performed three times, and the Ra, Rq, and Rz of the resin film were obtained by averaging the values of Ra, Rq, and Rz for each data.

[動的接触角の測定方法]
動的接触角の測定は、試料を事前に25℃の環境下で、12時間放置後に実施した。測定溶剤として富士フイルム和光純薬株式会社製蒸留水、および富士フイルム和光純薬株式会社製和光一級グレードのPGMEAを用い、それぞれの測定溶剤について、協和界面科学株式会社製のDrop Master DM-501を使用し、液滴の作成は、ニードルを這い上がらない範囲で、できるだけ小さい液滴を作成できる条件を選択した。動的接触角は樹脂フィルム表面に着滴してから、シリンジ針先端を指したままの状態で液吐出速度8.5μL/sで連続的に注入と吸引を繰り返し、同液滴の縮小過程の形状を100ミリ秒毎に連続的に撮影しその過程のそれぞれの接触角を求めた。液滴の拡張・収縮過程の接触角は最初、拡張・収縮につれて変化し、次いで一定になる挙動を示す。拡張時の接触角を前進接触角、収縮時の接触角を後退接触角とした。ここで、接触角が一定になったとは、液滴が拡張・収縮していく方向に接触角を並べ、その順に連続した5点を選択したとき、連続した5点の標準偏差が最初に1°以下になった場合とした。前進接触角と後退接触角の差の絶対値を接触角ヒステリシスとした。
[Method for measuring dynamic contact angle]
The measurement of the dynamic contact angle was carried out after leaving the sample in advance in an environment of 25°C for 12 hours. Distilled water manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Co., Ltd. and Wako first grade PGMEA manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Co., Ltd. were used as measurement solvents, and Drop Master DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used for each measurement solvent. The droplets were prepared under the conditions under which the droplets could be made as small as possible without creeping up the needle. The dynamic contact angle was measured by repeatedly injecting and sucking the liquid at a liquid ejection speed of 8.5 μL/s while the tip of the syringe needle was pointing after the droplet landed on the resin film surface. The shape was continuously photographed every 100 milliseconds and the contact angle was determined for each process. The contact angle of the droplet during the expansion/contraction process first changes as the droplet expands/contracts, and then exhibits a constant behavior. The contact angle during expansion was defined as the advancing contact angle, and the contact angle during contraction was defined as the receding contact angle. Here, when the contact angle is constant, the contact angle is arranged in the direction in which the droplet expands and contracts, and five consecutive points are selected in that order. ° or less. The contact angle hysteresis was defined as the absolute value of the difference between the advancing contact angle and the receding contact angle.

[樹脂フィルムの厚みと層数の観察]
樹脂フィルムの厚みと層数の観察は、日本電子株式会社製のSEM JSM-6700Fを用いたフィルムの断面SEM観察により行った。断面SEM観察用の試験片の作製手順は下記の通りで行った。
1.樹脂フィルムをUV硬化性樹脂で包埋した。
2.樹脂フィルムの厚み方向に対する断面が得られるよう日本ミクロトーム株式会社製のロータリーミクロトームRMSを用いて、包埋した樹脂ごと樹脂フィルムを切削した。
3.日本電子株式会社製のオートファインコータJFC-1600を用いて、切削したサンプルの断面に対して、白金を約10μm蒸着(条件:30mA×20秒×2回)し、試験片とした。
[Observation of resin film thickness and number of layers]
Observation of the thickness and the number of layers of the resin film was performed by cross-sectional SEM observation of the film using SEM JSM-6700F manufactured by JEOL Ltd. The procedure for preparing a test piece for cross-sectional SEM observation was as follows.
1. The resin film was embedded with a UV curable resin.
2. The resin film was cut together with the embedded resin using a rotary microtome RMS manufactured by Nippon Microtome Co., Ltd. so that a cross section in the thickness direction of the resin film could be obtained.
3. Using an auto fine coater JFC-1600 manufactured by JEOL Ltd., platinum was vapor-deposited to a thickness of about 10 μm (conditions: 30 mA×20 seconds×twice) on the cross section of the cut sample to obtain a test piece.

断面SEM観察の条件は下記の通りで行った。
・測定モード:LEIモード
・倍率:5000倍
・加速電圧:3kV
・WD(試料距離):8.0mm。
The conditions for cross-sectional SEM observation were as follows.
・Measurement mode: LEI mode ・Magnification: 5000 times ・Acceleration voltage: 3 kV
- WD (sample distance): 8.0 mm.

樹脂フィルムの厚みは、得られた断面SEM画像における、前述の包埋樹脂間の垂直方向距離から計算し、その算術平均値を採用した。また、樹脂フィルムの層数は、断面SEM画像における包埋樹脂間の垂直方向の不連続な境界面の数から算出した。 The thickness of the resin film was calculated from the above vertical distance between the embedding resins in the obtained cross-sectional SEM image, and the arithmetic mean value was adopted. The number of layers of the resin film was calculated from the number of discontinuous interfaces in the vertical direction between the embedding resins in the cross-sectional SEM image.

[樹脂フィルムのヘイズの測定方法]
樹脂フィルムのヘイズは、NDH-5000(Nippon Denshoku社)に樹脂フィルムの表面粗さが粗い面を上向きにして測定を3回行い、その平均値をヘイズとした。
[Method for measuring haze of resin film]
The haze of the resin film was measured three times with NDH-5000 (Nippon Denshoku) with the rough surface of the resin film facing upward, and the haze was taken as the average value.

[樹脂フィルムの柔軟性の評価]
樹脂フィルムを10mm幅×150mm長の矩形に切り出し試験片とした。なお、それぞれ150mm長の方向を樹脂フィルムの長手方向に合わせた。引張試験機(オリエンテック製“テンシロン”(登録商標)UCT-100)を用いて、初期引張チャック間距離50mmとし、引張速度300mm/minに設定し、測定温度23℃で引張試験を行った。
[Evaluation of flexibility of resin film]
A rectangular test piece having a width of 10 mm and a length of 150 mm was cut out of the resin film. The direction of each 150 mm length was aligned with the longitudinal direction of the resin film. Using a tensile tester (“Tensilon” (registered trademark) UCT-100 manufactured by Orientec), a tensile test was performed at a measurement temperature of 23° C. with an initial tension chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 300 mm/min.

チャック間距離が、a(mm)のときのサンプルにかかる荷重b(N)を読み取り、以下の式から、ひずみ量x(%)と応力y(N/mm)を算出した。ただし、試験前のサンプル厚みをk(mm)とする。
ひずみ量:x=((a-50)/50)×100
応力:y=b/(k×10)。
The load b (N) applied to the sample when the chuck-to-chuck distance was a (mm) was read, and the amount of strain x (%) and the stress y (N/mm 2 ) were calculated from the following equations. However, let the sample thickness before the test be k (mm).
Strain amount: x = ((a-50) / 50) x 100
Stress: y=b/(k×10).

なお、長手方向が分からない場合は任意の方向にサンプリングし、その後60度、120度回転させてサンプリングし、合計3サンプルの測定結果の平均値をもって評価した。 When the longitudinal direction was unknown, samples were taken in an arbitrary direction, then rotated by 60 degrees and 120 degrees, and the average value of the measurement results of a total of three samples was used for evaluation.

[樹脂フィルムの復元性の評価]
樹脂フィルムを10mm幅×150mm長の矩形に切り出し試験片とした。なお、それぞれ150mm長の方向を樹脂フィルムの長手方向に合わせた。引張試験機(オリエンテック製“テンシロン”(登録商標)UCT-100)を用いて、測定温度23℃において、復元性の優劣を見るため、変形速度の異なる2条件で評価を行った。
[Evaluation of resilience of resin film]
A rectangular test piece having a width of 10 mm and a length of 150 mm was cut out of the resin film. The direction of each 150 mm length was aligned with the longitudinal direction of the resin film. Using a tensile tester (“Tensilon” (registered trademark) UCT-100 manufactured by Orientec) at a measurement temperature of 23° C., evaluation was performed under two conditions with different deformation rates in order to determine the superiority or inferiority of the resilience.

条件A:初期チャック間距離50mm、引張速度50mm/min 歪み量100%までサンプルを伸長後、サンプルへの引っ張り荷重解放し、測定前に初期試長として印をつけていた距離を測定してLmmとして、以下の式から弾性復元率z(%)を算出した。 Condition A: Initial distance between chucks 50 mm, tensile speed 50 mm/min After stretching the sample to a strain amount of 100%, the tensile load on the sample is released, and the distance marked as the initial test length before measurement is measured to L mm. As such, the elastic recovery rate z 1 (%) was calculated from the following formula.

弾性復元率z=(1-(L-50)/100)×100 (%)。 Elastic recovery rate z 1 = (1-(L-50)/100) x 100 (%).

条件B:初期チャック間距離50mm、引張速度300mm/min 歪み量100%までサンプルを伸長後、サンプルへの引っ張り荷重を解放し、測定前に初期試長として印をつけていた距離を測定してLmmとして、以下の式から、弾性復元率z%を算出した。 Condition B: Initial distance between chucks 50 mm, tensile speed 300 mm/min After stretching the sample to 100% strain, release the tensile load on the sample and measure the distance marked as the initial test length before measurement. As Lmm, the elastic recovery rate z 2 % was calculated from the following formula.

弾性復元率z=(1-(L-50)/100)×100 (%)。 Elastic recovery rate z 2 =(1−(L−50)/100)×100 (%).

[樹脂フィルムのスクリーン印刷]
小型スクリーン印刷機(LS-150ニューロング精密工業株式会社製)に図5、または、図6に示すパターンを有するスクリーン版(100×100 SUS325-28-C NU-55 乳剤厚5μm 中沼アートスクリーン株式会社製)を装着し、スクリーン版上に印刷ペースト(LS-453-6Bアサヒ化学研究所株式会社製)を乗せた。次いで、印刷機ステージ上に樹脂フィルムを固定し、印刷運転を開始した。その後に、80℃で30分間乾燥させて、樹脂フィルム上に図7、または、図8に示すパターンの印刷層を形成させた。
[Screen printing of resin film]
Screen plate (100 × 100 SUS325-28-C NU-55 emulsion thickness 5 μm Nakanuma Art Screen Co., Ltd.) having a pattern shown in FIG. A printing paste (LS-453-6B manufactured by Asahi Kagaku Kenkyusho Co., Ltd.) was placed on the screen plate. Then, the resin film was fixed on the stage of the printing machine, and the printing operation was started. After that, it was dried at 80° C. for 30 minutes to form a printed layer having a pattern shown in FIG. 7 or 8 on the resin film.

[樹脂フィルムの印刷版離れ性の評価]
図5に示すスクリーン版で印刷した際のスクリーン版との貼り付きの有無を目視で確認し、以下の3段階で評価した。
○:印刷版/樹脂フィルム間で貼りつかず、印刷後に樹脂フィルムが印刷機ステージ上に乗っている。
△:印刷版/樹脂フィルム間で弱く貼りつくが、印刷運転中に印刷版/樹脂フィルム間で剥がれ、印刷後に樹脂フィルムが印刷機ステージ上に乗っている。
×:印刷版/樹脂フィルム間で強く貼りつき、印刷後に樹脂フィルムが印刷機ステージ上に乗っていない。
[Evaluation of printing plate releasability of resin film]
After printing with the screen plate shown in FIG. 5, the presence or absence of sticking to the screen plate was visually confirmed, and evaluated according to the following three grades.
◯: No sticking between the printing plate and the resin film, and the resin film is placed on the stage of the printing machine after printing.
Δ: The printing plate/resin film is weakly adhered, but the printing plate/resin film is peeled off during printing operation, and the resin film is placed on the printing press stage after printing.
x: Strong adhesion between the printing plate and the resin film, and the resin film did not rest on the stage of the printing machine after printing.

[樹脂フィルムの印刷層密着性の評価]
スクリーン印刷により、樹脂フィルム上に図7に示すようなベタパターンの印刷層を形成させた。JIS K5600-5-6(1999)に記載の付着性(クロスカット法)に従い、印刷層と樹脂フィルムとの付着性評価を行った。
[抵抗値変化率の測定]
抵抗値変化率の測定は、配線パターンの印刷層を形成させた樹脂フィルムを引張試験機で伸張させながら、デジタルマルチメーターで抵抗値を計測する方法で行った。
スクリーン印刷により、樹脂フィルム上に図8に示すような電極部間に幅1mm、長さ50mmの直線部を有した配線パターンの印刷層を形成させた。この配線パターンを中心として、20mm幅×150mm長に切り出し試験片とした。なお、それぞれ150mm長の方向を樹脂フィルムの長手方向に合わせた。この試験片の電極部に30mm角の銅板を接触させ、テープで固定した。この試験片+銅板を、引張試験機(オリエンテック製“テンシロン”(登録商標)UCT-100)に接続した。チャック間距離は50mmとして、チャック間と直線部が一致するように調整した。銅板にクリップを介してデジタルマルチメーター(キーサイト・テクノロジー製“デジタルマルチメーター”34465A)に接続した。デジタルマルチメーターで抵抗値を記録しながら、引張速度100mm/minで、歪み量20%までサンプルを伸長、10秒保持、0%まで復元、10秒保持のサイクルを20回繰り返した。この時の1回目のサイクルにおける抵抗値の最大値P(Ω)および20回目のサイクルにおける抵抗値の最大値Q(Ω)から、抵抗値変化率Q/Pを求めた。
[Evaluation of Print Layer Adhesion of Resin Film]
A solid pattern printed layer as shown in FIG. 7 was formed on the resin film by screen printing. The adhesion between the printed layer and the resin film was evaluated according to the adhesion (cross-cut method) described in JIS K5600-5-6 (1999).
[Measurement of resistance change rate]
The rate of change in resistance value was measured by measuring the resistance value with a digital multimeter while stretching the resin film on which the printed layer of the wiring pattern was formed with a tensile tester.
By screen printing, a printed layer of a wiring pattern having a linear portion of 1 mm width and 50 mm length between electrode portions was formed on the resin film as shown in FIG. A 20 mm wide×150 mm long test piece was cut from the center of the wiring pattern. The direction of each 150 mm length was aligned with the longitudinal direction of the resin film. A 30 mm square copper plate was brought into contact with the electrode portion of this test piece and fixed with a tape. This test piece and the copper plate were connected to a tensile tester (“Tensilon” (registered trademark) UCT-100 manufactured by Orientec). The chuck-to-chuck distance was set to 50 mm, and adjustments were made so that the chuck-to-chuck and linear portions were aligned. The copper plate was connected to a digital multimeter ("Digital Multimeter" 34465A manufactured by Keysight Technologies) via a clip. While recording the resistance value with a digital multimeter, the sample was stretched to a strain of 20% at a tensile speed of 100 mm/min, held for 10 seconds, restored to 0%, and held for 10 seconds, which was repeated 20 times. From the maximum resistance value P (Ω) in the 1st cycle and the maximum resistance value Q (Ω) in the 20th cycle at this time, the resistance value change rate Q/P was obtained.

なお、長手方向が分からない場合は任意の方向にサンプルを作製し、その後60度、120度回転させた場合のサンプルを作製し、合計3サンプルの測定結果の平均値をもって評価した。 When the longitudinal direction was unknown, samples were prepared in an arbitrary direction, and then samples were prepared by rotating them by 60 degrees and 120 degrees, and the average value of the measurement results of a total of 3 samples was used for evaluation.

表5に前述の条件1から条件11の評価結果、表6に樹脂フィルムの化学式1~8の構造およびウレタン結合の含有/非含有、および、樹脂フィルムの層構成を、表7に樹脂フィルムの柔軟性、復元性、印刷版離れ性、印刷層密着性、抵抗値変化率の結果をまとめた。 Table 5 shows the evaluation results of conditions 1 to 11 described above, Table 6 shows the structures of chemical formulas 1 to 8 of the resin film, the presence/absence of urethane bonds, and the layer structure of the resin film, and Table 7 shows the resin film. The results of flexibility, restorability, releasability of printing plate, adhesion of printing layer, and rate of change in resistance value were summarized.

Figure 2022151490000028
Figure 2022151490000028

Figure 2022151490000029
Figure 2022151490000029

Figure 2022151490000030
Figure 2022151490000030

表6において、化学式1の構造の欄の「含む」の意味は、各々の実施例等が化学式1の構造を含むことを意味し、「含まない」の意味は、各々の実施例等が化学式1の構造を含まないことを意味する。化学式2~8、および、ウレタン結合についても、同様である。 In Table 6, the meaning of "containing" in the column of the structure of chemical formula 1 means that each example etc. includes the structure of chemical formula 1, and the meaning of "not containing" is that each example etc. contains the structure of chemical formula 1 structure is not included. The same applies to chemical formulas 2 to 8 and urethane bonds.

1、4、7、11、21、24:積層体
2、5、8、12、22、25:樹脂フィルム
6、9:基材A
3、10、13:基材B
14、17:スクリーン版
15、18:乳剤
16:メッシュ(ベタパターン)
19:メッシュ(配線パターン電極部)
20:メッシュ(配線パターン直線部)
23:印刷層(ベタパターン)
26:印刷層(配線パターン電極部)
27:印刷層(配線パターン直線部)
1, 4, 7, 11, 21, 24: Laminates 2, 5, 8, 12, 22, 25: Resin films 6, 9: Base material A
3, 10, 13: Base material B
14, 17: Screen plate 15, 18: Emulsion 16: Mesh (solid pattern)
19: Mesh (wiring pattern electrode part)
20: Mesh (wiring pattern linear part)
23: Print layer (solid pattern)
26: Print layer (wiring pattern electrode portion)
27: Print layer (wiring pattern linear part)

本発明の樹脂フィルムは、光学特性、柔軟性、伸縮性、搬送性、外観品位に優れるといった利点を活かし、特に高い柔軟性や伸縮性が求められる用途に好適に用いることができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The resin film of the present invention can be suitably used for applications requiring particularly high flexibility and stretchability, taking advantage of its excellent optical properties, flexibility, stretchability, transportability, and appearance quality.

一例を挙げると、メガネ・サングラス、化粧箱、食品容器などのプラスチック成形品、水槽、展示用などのショーケース、スマートフォンの筐体、タッチパネル、カラーフィルター、フラットパネルディスプレイ、フレキシブルディスプレイ、フレキシブルデバイス、ウェアラブルデバイス、センサー、回路用材料、電気電子用途、キーボード、テレビ・エアコンのリモコンなどの家電製品、ミラー、窓ガラス、建築物、ダッシュボード、カーナビ・タッチパネル、ルームミラーやウインドウなどの車両部品、および種々の印刷物、医療用フィルム、衛生材料用フィルム、医療用フィルム、農業用フィルム、建材用フィルム等、それぞれの表面材料や内部材料や構成材料や製造工程用材料に好適に用いることができる。 Examples include glasses/sunglasses, cosmetic boxes, plastic molded products such as food containers, aquariums, showcases for exhibitions, etc., smartphone housings, touch panels, color filters, flat panel displays, flexible displays, flexible devices, and wearables. Devices, sensors, circuit materials, electrical and electronic applications, home appliances such as keyboards, TV/air conditioner remote controls, mirrors, window glass, buildings, dashboards, car navigation/touch panels, vehicle parts such as rearview mirrors and windows, etc. printed matter, medical film, sanitary material film, medical film, agricultural film, building material film, etc., can be suitably used for each surface material, internal material, constituent material, and manufacturing process material.

Claims (19)

以下の条件1から3のすべてを満たす、樹脂フィルム。
条件1:樹脂フィルムの温度25℃周波数1Hz条件における貯蔵弾性率が0.5MPa以上50MPa以下。
条件2:樹脂フィルムの25℃における損失正接が0.5以下。
条件3:レーザー顕微鏡による、樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における平坦部比率が70%以下。
A resin film that satisfies all of the following conditions 1 to 3.
Condition 1: The storage elastic modulus of the resin film at a temperature of 25° C. and a frequency of 1 Hz is 0.5 MPa or more and 50 MPa or less.
Condition 2: The loss tangent of the resin film at 25°C is 0.5 or less.
Condition 3: The ratio of flat portions on at least one surface of the resin film is 70% or less as measured by a laser microscope.
以下の条件4を満たす、請求項1に記載の樹脂フィルム。
条件4:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における二乗平均平方根粗さRqが400nm以上。
The resin film according to claim 1, which satisfies condition 4 below.
Condition 4: The root-mean-square roughness Rq of at least one surface of the resin film is 400 nm or more.
以下の条件5を満たす、請求項1または2に記載の樹脂フィルム。
条件5:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、動的接触角拡張収縮法で得られる、樹脂フィルムの水に対する接触角ヒステリシスが5°以上。
ここで、接触角ヒステリシスとは、前進接触角と、後退接触角の差の絶対値を指す。
The resin film according to claim 1 or 2, which satisfies condition 5 below.
Condition 5: At least one surface of the resin film has a contact angle hysteresis of 5° or more with respect to water, which is obtained by the dynamic contact angle expansion/shrinkage method.
Here, the contact angle hysteresis refers to the absolute value of the difference between the advancing contact angle and the receding contact angle.
以下の条件6を満たす、請求項1から3のいずれかに記載の樹脂フィルム。
条件6:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における算術平均粗さRaが430nm以上。
The resin film according to any one of claims 1 to 3, which satisfies condition 6 below.
Condition 6: At least one surface of the resin film has an arithmetic mean roughness Ra of 430 nm or more.
以下の条件7を満たす、請求項1から4のいずれかに記載の樹脂フィルム。
条件7:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面における最大高さRzが8μm以上。
The resin film according to any one of claims 1 to 4, which satisfies condition 7 below.
Condition 7: The maximum height Rz on at least one surface of the resin film is 8 µm or more.
以下の条件8を満たす、請求項1から5のいずれかに記載の樹脂フィルム。
条件8:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、表面自由エネルギーが30mN/m以上。
The resin film according to any one of claims 1 to 5, which satisfies condition 8 below.
Condition 8: At least one surface of the resin film has a surface free energy of 30 mN/m or more.
以下の条件9を満たす、請求項1から6のいずれかに記載の樹脂フィルム。
条件9:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、樹脂フィルム1mm角あたりの表面積が1.3mm以上。
The resin film according to any one of claims 1 to 6, which satisfies condition 9 below.
Condition 9: At least one surface of the resin film has a surface area of 1.3 mm 2 or more per 1 mm square of the resin film.
以下の条件10を満たす、請求項1から7のいずれかに記載の樹脂フィルム。
条件10:樹脂フィルムの少なくとも一方の表面において、動的接触角拡張収縮法で得られる、樹脂フィルムのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に対する接触角ヒステリシスが5°以上。
ここで、接触角ヒステリシスとは、前進接触角と、後退接触角の差の絶対値を指す。
The resin film according to any one of claims 1 to 7, which satisfies condition 10 below.
Condition 10: At least one surface of the resin film has a contact angle hysteresis of 5° or more with respect to propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) obtained by the dynamic contact angle expansion/shrinkage method.
Here, the contact angle hysteresis refers to the absolute value of the difference between the advancing contact angle and the receding contact angle.
以下の条件11を満たす、請求項1から8のいずれかに記載の樹脂フィルム。
条件11:樹脂フィルムのヘイズが30%以上70%以下
The resin film according to any one of claims 1 to 8, which satisfies condition 11 below.
Condition 11: haze of resin film is 30% or more and 70% or less
化学式1の構造およびウレタン結合を含む、請求項1から9のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Figure 2022151490000031
なお、化学式1のRは、水素またはメチル基を指す。
10. The resin film according to any one of claims 1 to 9, comprising the structure of Chemical Formula 1 and urethane bonds.
Figure 2022151490000031
R 1 in Formula 1 represents hydrogen or a methyl group.
化学式2のセグメントを含み、さらに化学式3のセグメントまたは化学式4のセグメントのいずれかを含む、請求項1から10のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Figure 2022151490000032
Figure 2022151490000033
Figure 2022151490000034
pは1以上の整数である。
rは1以上の整数である。
sは1以上の整数である。
11. The resin film according to any one of claims 1 to 10, comprising a segment represented by Chemical Formula 2 and further comprising either a segment represented by Chemical Formula 3 or a segment represented by Chemical Formula 4.
Figure 2022151490000032
Figure 2022151490000033
Figure 2022151490000034
p is an integer of 1 or more.
r is an integer of 1 or more.
s is an integer of 1 or more.
化学式5のセグメント、化学式6のセグメント、化学式7のセグメント、化学式8のセグメント、およびそれらの水添体のセグメントからなる群より選ばれる少なくとも1つのセグメントを含む、請求項1から11のいずれかに記載の樹脂フィルム。
Figure 2022151490000035
Figure 2022151490000036
Figure 2022151490000037
Figure 2022151490000038
Any one of claims 1 to 11, comprising at least one segment selected from the group consisting of the segment of chemical formula 5, the segment of chemical formula 6, the segment of chemical formula 7, the segment of chemical formula 8, and the hydrogenated segments thereof The described resin film.
Figure 2022151490000035
Figure 2022151490000036
Figure 2022151490000037
Figure 2022151490000038
単層である、請求項1から12のいずれかに記載の樹脂フィルム。 The resin film according to any one of claims 1 to 12, which is a single layer. 請求項1~13のいずれかに記載の樹脂フィルムの少なくとも一方に、基材を含む積層体。 A laminate comprising a substrate on at least one of the resin films according to any one of claims 1 to 13. 工程1、2、3、および4をこの順に行う、請求項14に記載の積層体の製造方法。
工程1:条件12を満たす基材Aの上に、化学式9のセグメントを含む樹脂前駆体と溶媒を含む塗料組成物を塗布し、塗布層を形成する工程。
条件12:レーザー顕微鏡による、基材A表面の少なくとも一方の表面における平坦部比率が70%以下。
Figure 2022151490000039
工程2:前記塗布層から溶媒を除去する工程。
工程3:活性エネルギー線を照射して、前記樹脂前駆体を架橋させる工程。
工程4:前記塗布層の基材A反対面に基材Bを貼り付けた後に、基材Aを剥離する工程。
15. The method for producing a laminate according to claim 14, wherein steps 1, 2, 3 and 4 are performed in this order.
Step 1: A step of applying a coating composition containing a resin precursor containing a segment of chemical formula 9 and a solvent onto a substrate A that satisfies condition 12 to form a coating layer.
Condition 12: The flat portion ratio on at least one surface of the substrate A surface measured by a laser microscope is 70% or less.
Figure 2022151490000039
Step 2: A step of removing the solvent from the coating layer.
Step 3: A step of irradiating an active energy ray to crosslink the resin precursor.
Step 4: A step of peeling off the base material A after attaching the base material B to the surface opposite to the base material A of the coating layer.
請求項1から13のいずれかに記載の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成された導体回路を含む、電気回路体。 An electric circuit body comprising the resin film according to any one of claims 1 to 13 and a conductor circuit formed on the resin film. 請求項1から13のいずれかに記載の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成された導体回路を含む、ヘルスケアセンサー。 A healthcare sensor comprising the resin film according to any one of claims 1 to 13 and a conductor circuit formed on the resin film. 請求項1から13のいずれかに記載の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成された導体回路を含む、ウエアラブルセンサー。 A wearable sensor comprising the resin film according to any one of claims 1 to 13 and a conductor circuit formed on the resin film. 請求項1から13のいずれかに記載の樹脂フィルムをスクリーン印刷で加工する工程を備える、樹脂フィルム加工品の製造方法。 A method for producing a resin film processed product, comprising a step of processing the resin film according to any one of claims 1 to 13 by screen printing.
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