JP2022118612A - 非晶質ワイヤ付きコイルの異常効果を利用した磁気センサ、及びこれを用いた非破壊検査装置 - Google Patents
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Description
図において、MI磁気センサ1は、アモルファスワイヤ2の周りにコイル3を巻き付けた構造をしており、コイル3の一端は接地されている。交流電流源5は、コンデンサC1を介してコイル3の他端に接続されているもので、検出用周波数帯域の信号(例えば100kHz~10MHz)を出力している。直流電流源7は、インダクタL1を介してコイル3の他端に接続されている。
信号発生器11は、コイル3に供給する100kHz~10MHzの正弦波電流を発生する電気回路である。正弦波電流は、例えば約5mAである。直流電流源12は、直流電流源7として、コイル3に供給する直流バイアス電流を供給するものである。直流バイアス電流は、例えば約50mAである。
前置増幅器13は、共振回路8で得られた検出信号の前置増幅器をすると共に、共振回路8と復調器14の間で検出信号が歪まないようにしている。復調器14は、検出信号に含まれる外部磁気の測定信号成分を抽出する。増幅器15は、復調器14で復調された外部磁気の測定信号成分を増幅する。
本発明は、このような課題を解決するもので、復調器を使用することなく、回路構成が簡単な磁気センサを提供することを目的する。
別の本発明での解決課題は、上記の磁気センサを用いた非破壊検査装置を提供することである。
この効果を利用して、磁気センサを構築することができると共に、上記の磁気センサを用いた非破壊検査装置を提供できる。
信号発生器(5)から供給される交流電流又はパルス電流によって検出コイル(3)に発生する交流電圧又はパルス電圧の振幅は、前記外部磁場によって前記検出コイルに発生するオフセット直流電圧の3倍よりも大きな値を示すように定められると共に、
ローパスフィルタ回路(18)のカットオフ周波数は前記駆動用周波数帯域を遮断するように定められていることを特徴とするものである。
[2]本発明の磁気インピーダンスセンサにおいて、好ましくは、信号発生器(5)は前記第1のコンデンサ(C1)と前記抵抗(R)を介して前記検出コイルの接地されていない側の端子に接続されているとよい。
[4]本発明の非破壊検査装置において、好ましくは、前記演算処理装置は、前記被測定対象物の電気抵抗率(ρ)と透磁率(μ)及び前記渦電流発生信号の角周波数(ω)から定まる表皮深さ{δ=√(2ρ/ωμ)}を用いて、欠陥深さを算出する構成とするとよい。
[5]本発明の非破壊検査装置において、好ましくは、さらに、前記感磁ワイヤの測定端を前記被測定対象物に対峙させた姿勢で、前記被測定対象物の測定面に対して定められた平面内の二軸方向の任意の位置に位置決めさせるX-Yステージを備え、
前記演算処理装置は、前記X-Yステージに対する測定位置指令情報と、前記測定位置指令情報に対応する位置での前記感磁ワイヤの測定端の測定情報とから、前記被測定対象物の欠陥が位置する深さと前記欠陥の形状を求める構成とするとよい。
本発明の非破壊検査装置によれば、磁界分解能が良好な磁気インピーダンスセンサを用いているので、渦電流周波数に応じた表皮深さでの非磁性且つ導電性の被測定対象物に存在する欠陥、その位置する深さと形状を求めることができる。
図1は本発明の一実施例を示す、磁気センサ回路の機能ブロック図である。なお図1において、前出の図15の構成要素と同一のものには同一符号を付して、説明を省略する。
MI磁気センサ1のコイル3はFeCoSiB非晶質線2に巻装されるもので、例えば直径0.1mmの銅線を用い、巻数は40ターンである。FeCoSiB非晶質線2は、例えば長さが約8mmで、直径が0.1mmであるが、これに限定されない。
信号発生器5は、検出コイル3の接地されていない側の端子に第1のコンデンサ4aと抵抗4bを介して接続され、駆動用周波数帯域の交流電流又はパルス電流を供給するもので、高周波の交流電流(正弦波、矩形波ともに動作可能)を発生するとよい。第1のコンデンサ4aは、信号発生器5からの直流電流を遮断するために、例えば1μFとし、抵抗器4bは、例えば50Ωとした。
外部磁場印加手段19は、コイル3の巻回された感磁ワイヤ2の軸方向に直流の外部磁場を印加するもので、外部磁場の強さは、例えば0~2Gaussである。コイル3に直流磁界を印加する場合、ローパスフィルタ8の直流出力電圧からコイル3の等価直流電圧を算出できる。
外部磁場印加手段19により印加される外部磁場によって発生する直流電圧は、例えば-1.8ガウスの直流磁界に対して約-280mVであり、他方でコイルが作り出す交流電圧の振幅は1V以上である。そこで、信号発生器5から供給される交流電流又はパルス電流によって検出コイル3に発生する交流電圧又はパルス電圧の振幅は、外部磁場印加手段19により印加される外部磁場によって検出コイル3に発生するオフセット直流電圧の3倍よりも大きな値を示している。即ち、外部磁場によって発生する直流電圧は、コイルが作り出す交流電圧の1/3よりも小さいので、信号発生器5の交流電流の波形に歪みがなく、正弦波電流のピーク間振幅に応じて変化する電圧/電界伝達係数が得られるため、好ましい。
図2(A)では、交流電流の1/2周期で発生する磁場が印加された直流磁場Bと同じ方向を持つ場合、FeCoSiB非晶質ワイヤにはより小さなスピン電流が誘起される。
図2(B)では、印加された直流磁界Bとは逆方向に交流電流の半周期の電流で生成される磁界の方が、より大きなスピン電流が誘起される。交流電流の1周期に純スピン電流が誘起される。
コイルに高周波電流が流れると、FeCoSiB非晶質線のスピン方向が急激に変化するため、非晶質線の表面にスピン電流が誘起され、そのスピン電流の方向がコイル内の交流電流の方向と逆になる。図2に示すように、交流電流の前半1/2周期では、交流電流によって生じる磁界の方向は、印加された直流磁界の方向と同じである。磁化が容易になるので、スピン電流は小さくなる。他方、後半の1/2周期では、印加された直流磁界の方向が逆になるので、磁化がしにくくなり、スピン電流が大きくなる。このように、交流電流の1周期で正味のスピン電流が発生する。この正味のスピン電流は、コイル内に直流スピン電位をポンピングし、コイルを横切る異常な直流電圧を発生させる。
図3は、外部直流磁界とコイルの直流電圧との関係を示す図である。外部磁場の強さが-1.8Gaussでコイル3の直流電圧は約-280mVであり、外部磁場の強さが+1.8Gaussでコイル3の直流電圧は約-20mVであり、外部磁場の強さが0Gaussでコイル3の直流電圧は-175mVであった。両者の関係は、厳密には直線的ではないが、外部直流磁界の印加に伴って、コイル3の直流電圧は増加していることがわかる。外部直流磁界V/Bの印加に伴う直流電圧の伝達係数は、0~+1.8ガウス側で約約86mV/ガウスであり、-1.8~0ガウス側は約58mV/ガウスであった。測定結果から、印加直流磁界がゼロガウスのときに出力直流電圧がゼロにならないが、これはFeCoSiB非晶質ワイヤの残留磁化に起因するものと考えられる。
ここで、外部磁場の正の方向は、コイル3を通る交流電流の流れの正の部分により生成した磁場の方向と同じと定義されている(図2参照)。
図4に正弦波電流の周波数に応じて変化する電圧/磁場伝達係数V/Bを示す。交流電流のピーク間振幅は78mAのままとした。2つのピークが観測された。1つは約1MHzで、もう1つは約6.8MHzであり、約6.8MHzで約90mV/ガウスの最大V/Bが得られた。
図5は、正弦波電流のピーク間振幅に応じて変化する電圧/電界伝達係数V/Bを示している。交流電流の周波数は6.8MHzとした。V/Bは電流振幅が20mAを超えると急激に増加し、78mA付近で約90mV/gaussのピーク値を得た後、80mAを超えると交流電流の振幅とともに減少した。
図7は、MI磁気センサを備えた非破壊検査装置の一類型としての、多周波数の渦電流試験非破壊評価システムのブロック図を示す。MI磁気センサ20は、試料24に誘導された渦電流によって生成された磁界を測定するために使用される。励磁コイル22は、MI磁気センサ20の主要部をなす、零磁歪となる軟磁性合金のアモルファスからなる感磁ワイヤに巻装される。
試料24は、例えば非磁性且つ導電性の金属物質が好ましく、例えばチタン合金が用いられる。
多周波数の信号発生器25は、渦電流用信号供給回路25として作用するもので、例えば100Hzから100kHzまでの多周波信号を生成するために使用され、当該多周波信号は多周波励起磁場を生成するために励磁コイル22に送信される。
コンピュータ40は、FFT(高速フーリエ変換)変換プログラムを搭載して周波数分析を行うと共に、X-Yステージ制御装置45に対して、試料24に対向するMI磁気センサ20の測定位置命令信号を送る。FFT変換プログラムは、迅速に測定を行うために、ロックインアンプの代わりに、コンピュータ40で多周波数信号の振幅信号を得るために使用される。
X-Yステージ50は、X-Yステージ制御装置45からの測定位置命令信号に従い、試料24のX-Y平面内の位置を動かす。
MIセンサ測定値読込ステップでは、試料24に誘導された渦電流によって生成された磁界をMI磁気センサ20で測定し、駆動回路30とAD変換器35を介してMIセンサ測定値として読込む(S520)。
厚み方向測定値演算ステップでは、MIセンサ測定値の周波数解析結果から、試料の厚み方向の測定値を演算する(S525)。入力されたMI磁気センサ20の磁界測定信号に対して、FFT周波数解析を行うことで、試料24の欠陥の深さ情報が得られる。
測定値プロフィール測定ステップでは、MI磁気センサ20の測定位置命令により、試料24のX-Y面内平面の磁場検出信号測定を繰り返すことで、測定値プロフィールを測定する(S530)。
このようにして、本発明の非破壊検査装置では、MI磁気センサ20の磁界測定信号を用いて、試料10の三次元的な欠陥分布プロフィールを詳細に測定し、その空間分布を調べることで、試料10を評価することができる。
非常に基本的な構成601では、コンピューティング装置600は通常、1つまたは複数のプロセッサ610とシステムメモリ620とを含む。メモリバス630は、プロセッサ610とシステムメモリ620との間の通信に使用され得る。
プログラムデータ632は、発生信号データ633、MIセンサ測定データ634、センサ位置データ635、コンピューティング装置600によって計算された測定値プロフィール636、欠陥分布プロフィール637を含み得る。
出力デバイス660では、画像処理ユニット661および音声処理ユニット662が、1つまたは複数のAVポート663を介して表示装置692またはスピーカなどの様々な外部装置と通信するように構成され得る。
例示的な周辺インターフェース670は、入力装置(例えば、キーボード、マウス、ペン、音声入力装置、タッチ入力装置など)のような外部装置と通信するように構成され得るシリアルインターフェース制御部671またはパラレルインターフェース制御部672を含む。周辺インターフェース670は、I/Oポート673を介してMIセンサ駆動回路692、多重周波数信号発生器694、及びX-Yステージ制御部696と通信するように構成され得る。
例示的な通信装置680は、ネットワーク制御部681を含み、ネットワーク制御部681は、1つまたは複数の通信ポート682を介したネットワーク通信リンクを介して、1つまたは複数の他のコンピューティング装置690との通信を容易にするように構成されてもよい。
プログラム命令格納部704に格納されたプログラム命令は、例えば、AD変換器35を介して入力した、MI磁気センサ20の測定した試料24に関する磁界測定信号に対して、FFT(高速フーリエ変換)変換プログラムにより周波数分析を行うMIセンサ測定値解析部710、X-Yステージ制御装置45に対して、試料24に対向するMI磁気センサ20の測定位置命令を送るMIセンサ測定位置解析部720を含む。また、MIセンサ測定値解析部で解析したMI磁気センサ20の磁界測定信号と、MIセンサ測定位置解析部の測定位置命令から、試料における磁界測定信号の三次元的な分布状態を求める測定
値プロフィール解析部725、測定値プロフィール解析部の試料における磁界測定信号の三次元的な分布状態から、試料における欠陥の三次元的な分布を演算する欠陥分布プロフィール解析部730を含む。
コンピュータ65は、X-Yステージ制御装置の機能を含んでおり、X-Yステージ50に対してX-Y測定位置命令信号を送ることで、試料24に対向するMI磁気センサ20の位置決めをしている。
X-Yステージ50は、コンピュータ65からの測定位置命令信号に従い、試料24のX-Y平面内の位置を動かす。
測定制御ステップでは、ロックインアンプ60に対して、励磁コイル22に多周波信号の出力をするように命令する(S515)。多周波励起磁場を生成するために送信される発生信号データは、コンピュータ40に記憶される。
MIセンサ測定値読込ステップでは、試料24に誘導された渦電流によって生成された磁界をMI磁気センサ20で測定し、駆動回路55とロックインアンプ60を介してMIセンサ測定値として読込む(S522)。
δ=1/(πfσμ)1/2 (1)
ここで、δは侵入深さ、fは周波数、σは試料の導電率、そしてμは試料の透磁率である。非破壊検査装置として多周波数の渦電流試験システムを使用すると、欠陥の深さやプロファイルなど、欠陥に関するより多くの情報を取得できる。
また、本発明の非破壊検査装置の実施例として、X-Yステージを示しているが、磁気センサの位置決め装置や走査制御装置としては、マニプレーターのような三次元の位置決めが可能なものであってもよい。
本発明の非破壊検査装置によれば、渦電流周波数に応じた表皮深さでの非磁性且つ導電性の被測定対象物に存在する欠陥、その位置する深さと形状を求めることができる。
2:アモルファスワイヤ(FeCoSiB非晶質線)
3:コイル
4a:コンデンサC1
4b:抵抗器
5:信号発生器
16:コンデンサC2
17:増幅器
18:ローパスフィルタ
19:外部磁場印加手段
20:MI磁気センサ(磁気インピーダンスセンサ)
22:励磁コイル
24:サンプル(試料)
25:多周波数の信号発生器(渦電流用信号供給回路)
30、55:駆動回路(渦電流抽出回路)
40、65:PC(コンピュータ)
45:X-Yステージ制御装置
50:X-Yステージ
Claims (5)
- 零磁歪となる軟磁性合金の非晶質からなる感磁ワイヤと、
前記感磁ワイヤの周囲に絶縁物を介して巻回された検出コイルと、
前記検出コイルの巻回された感磁ワイヤの軸方向に外部磁場を印加する手段と、
前記検出コイルに第1のコンデンサと抵抗を介して接続され、駆動用周波数帯域の交流電流又はパルス電流を供給する信号発生器と、
前記検出コイルの接地されていない側の端子と第2のコンデンサを介して接続されたローパスフィルタ回路と、
を備え、
前記信号発生器から供給される交流電流又はパルス電流によって前記検出コイルに発生する交流電圧又はパルス電圧の振幅は、前記外部磁場によって前記検出コイルに発生するオフセット直流電圧の3倍よりも大きな値を示すように定められると共に、
前記ローパスフィルタ回路のカットオフ周波数は前記駆動用周波数帯域を遮断するように定められていることを特徴とする磁気インピーダンスセンサ。 - 前記信号発生器は、前記第1のコンデンサ(C1)と前記抵抗(R)を介して前記検出コイルの接地されていない側の端子に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気インピーダンスセンサ。
- 請求項1又は2に記載の磁気インピーダンスセンサと、
前記感磁ワイヤの周囲に絶縁物を介して巻回された励磁コイルと、
前記励磁コイルに欠陥検出用の渦電流発生信号(ω)を供給する渦電流用信号供給回路と、
前記共振回路で出力された前記渦電流発生信号に相当する周波数成分を抽出する渦電流抽出回路と、
前記渦電流抽出回路で抽出した前記渦電流周波数成分に相当する欠陥深さに応じた被測定対象物の欠陥位置を算出する演算処理装置と、
を備え、前記磁気インピーダンスセンサの測定端となる前記感磁ワイヤを前記被測定対象物に対峙させると共に、前記被測定対象物は非磁性且つ導電性の物質であることを特徴とする非破壊検査装置。 - 前記演算処理装置は、前記被測定対象物の電気抵抗率(ρ)と透磁率(μ)及び前記渦電流発生信号の角周波数(ω)から定まる表皮深さ{δ=√(2ρ/ωμ)}を用いて、欠陥深さを算出することを特徴とする請求項3に記載の非破壊検査装置。
- さらに、前記感磁ワイヤの測定端を前記被測定対象物に対峙させた姿勢で、前記被測定対象物の測定面に対して定められた平面内の二軸方向の任意の位置に位置決めさせるX-Yステージを備え、
前記演算処理装置は、前記X-Yステージに対する測定位置指令情報と、前記測定位置指令情報に対応する位置での前記感磁ワイヤの測定端の測定情報とから、前記被測定対象物の欠陥が位置する深さと前記欠陥の形状を求めることを特徴とする請求項3又は4に記載の非破壊検査装置。
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